TWI400254B - 聚合物及化粧料 - Google Patents

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Akira Noda
Hiroaki Yokoyama
Takuji Nozawa
Akio Suzuki
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Shiseido Co Ltd
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Description

聚合物及化粧料
本發明係有關聚合物及化粧料者，特別是頭髮及皮膚洗淨料。
[相關申請案]
本發明主張2005年06月23日提出申請之日本專利申請案182977號之優先權，其併入於本文。
一般而言，化粧品重視使用時及使用後之感覺。例如頭髮及皮膚洗淨料，除了本來功能之洗淨力外，亦重視洗淨時所產生的泡沫質地，或者洗淨後的頭髮及皮膚的感覺。有關於泡沫質地特別傾向於喜好氣泡細的乳油狀(creamy)。另外，關於頭髮及皮膚之感覺，調配有洗淨力高之界面活性劑的洗淨料，對於頭髮或皮膚造成超過必要程度的脫脂情況，期望賦予濕潤較佳感覺。
因此，經由於洗淨料基劑中調配各種高分子，廣泛進行改良其泡沫質地及使用感覺。例如，專利文獻1揭示調配陽離子性聚合物之洗淨料，專利文獻2及3揭示調配陽離子性聚合物，以及由陰離子性單體、陽離子性單體與非離子性單體作為構成單體之兩性聚合物之洗淨料。
[專利文獻1]日本專利特開昭62－4799號公報[專利文獻2]日本專利特開2001－64678號公報[專利文獻3]日本專利特開2003－73257號公報
然而，上述洗淨料中，任一者皆無法對使用後的肌膚或頭髮賦予充分的濕潤感。
本發明之目的係提供對使用後的頭髮及皮膚可賦予濕潤感的新穎聚合物。
有鑑於上述情況，本發明者等進行致力研究的結果發現，使用由特定的兩性單體與陽離子性單體聚合所成之聚合物，可獲得濕潤感顯著改善的化粧料。再者，發現使用於頭髮及皮膚洗淨料時，起泡性良好，而完成本發明。
亦即，本發明之第一主題為一種聚合物，其係以下述通式(I)所示之兩性單體，以及下述通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體，
(式中，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 各自獨立地為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)，R4 為碳數1至3之伸烷基，A為氧原子或NR8 (R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基))所示之基，B示碳數1至4之伸烷基)，
(式中，R5 及R6 各自獨立地為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基，Y－ 為1價之無機或有機的陰離子)。
上述聚合物中之陽離子性單體與兩性單體之莫耳比較佳為1：9至9：1。
上述聚合物之平均分子量較佳為1萬以上、100萬以下。
本發明之第二主題為一種化粧料，其係含有由通式(I)所示之兩性單體，以及通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體所成之聚合物。
上述化粧料，較好是另外含有陰離子性界面活性劑。
上述化粧料，較佳為頭髮及皮膚洗淨料。
本發明之聚合物，經由以特定的兩性單體以及陽離子性單體做為必要構成單體，對使用後的頭髮及皮膚可賦予濕潤感。
以下詳細說明本發明之實施形態。
聚合物(polymer)
本發明之聚合物係包含下述通式(I)所示之兩性單體以及下述通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體之聚合物。
(式中，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 各自獨立地為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)，R4 為碳數1至3之伸烷基，A為氧原子或NR8 (R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基))所示之基，B示碳數1至4之伸烷基)，
(式中，R5 及R6 各自獨立地為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基，Y－ 為1價之無機或有機的陰離子)。
上述通式(I)所示之兩性單體為N－取代胺基烷基丙烯醯胺甜菜鹼(betaine)或N－取代胺基烷基甲基丙烯醯胺甜菜鹼、N－取代胺基烷基丙烯酸酯甜菜鹼或N－取代胺基烷基甲基丙烯酸酯胺甜菜鹼。
又，通式(I)中，氮的取代基之R2 及R3 為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)。
碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
碳數3至6之環烷基，例如，可列舉如環丙基、環丁基、環戊基、環己基等。R2 及R3 可為相同或不同。
通式(I)中，R4 為碳數1至3之伸烷基。碳數為4之伸烷基時，由於疏水性質變高，濕潤感降低。碳數1至3之伸烷基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。可列舉如亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、2－羥基伸乙基、2－羥基伸丙基、二氟亞甲基、二氟伸乙基等。
通式(I)中，A為氧原子或NR8 所示之基。氮的取代基之R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)。此處碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
碳數3至6之環烷基，例如，可列舉如環丙基、環丁基、環戊基、環己基等。R2 及R3 可為相同或不同。
再者，通式(I)中B示碳數1至4之伸烷基。具體而言可列舉如亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、伸丁基等。
本發明所使用之兩性單體，例如，N,N－二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼、N,N－二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼等，較佳為N,N－二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼。
上述通式(II)所示之陽離子性單體為二烯丙基銨鹽。通式(II)中，四級銨之氮的取代基R5 及R6 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基。
碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可一部分被為羥基或氟原子取代者。碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
通式(II)中，Y－ 為1價之無機或有機的陰離子，只要是可形成四級銨鹽者，任一者皆可使用，例如，1價之無機陰離子，可列舉如氯化物離子、氟化物離子、碘化物離子等；1價之有機陰離子，可列舉如硫酸根離子、醋酸根離子、苯磺酸根離子、磷酸根離子等。又，R5 及R6 可為相同或不同。
本發明所使用之陽離子性單體，例如可列舉氯化二甲基二烯丙基銨、氯化二乙基二烯丙基銨、氯化二丙基二烯丙基銨、硫酸二甲基二烯丙基銨等。其中，較佳為使用氯化二甲基二烯丙基銨。
本發明之聚合物，使用上述兩性單體以及陽離子性單體，可根據習知的聚合方法進行聚合而加以調製。
聚合方法，例如可使用均一溶液聚合法、不均一溶液聚合法、乳化聚合法、逆向聚合法、塊狀聚合法、懸濁聚合法、沉澱聚合法等。例如，均一溶液聚合法時，上述各單體以適合之比例溶解於溶媒，於氮環境下，添加自由基聚合起始劑、加熱攪拌而可製得本發明之聚合物。
本發明之聚合物中，經由調整作為原料之上述各單體之莫耳比，可容易地製得所欲莫耳比之聚合物。
聚合時所使用之溶媒，只要各單體可溶解或懸濁之溶媒之任一溶媒皆可使用，例如，水；甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇等醇系溶媒；己烷、庚烷、異辛烷、癸烷、流動石蠟等烴系溶媒；甲醚、乙醚、四氫呋喃等醚系溶媒；丙酮、甲基乙基酮等酮系溶媒；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶媒；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等氯化物系溶媒等，此外，尚可列舉如二甲基甲醯胺、二乙基甲醯胺、二甲亞砜、二愕烷等。該等溶媒可單獨使用，亦可2種以上混合使用。又，較好是選擇沸點較所使用之聚合起始劑之起始溫度更高之溶媒。
聚合起始劑，只要具有起始自由基聚合能力者即可，並無特別限制。例如，苯甲醯基過氧化物等過氧化物、偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2’－偶氮雙(異丁酸)二甲酯等偶氮系化合物，此外，尚可列舉如過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸系聚合起始劑。聚合溫度為各聚合起始劑之聚合起始溫度以上者。例如，過氧化物系聚合起始劑中，通常為70℃左右即可。又，除了該等聚合起始劑之外，可經由光化學反應或放射線照射而進行聚合。
聚合時間並無特別限制，必要時可根據聚合物的分子量而適宜調整，通常為2至24小時。反應時間過短時，會有殘餘未反應單體，分子量較小等之問題。
本發明聚合物中，構成單體之莫耳比並無特別限制，較佳為陽離子性單體及兩性單體之莫耳比為1：9至9：1。再者，較佳為1：9至5：5，特佳莫耳比為4：6左右。於上述範圍以外時，作為共聚物的性質變小，由於具有各自的同質聚合物(homopolymer)性質，調配化粧料時，無法充分發揮濕潤感。
本發明聚合物之重量平均分子量，較佳為1萬以上、100萬以下。未達1萬之聚合物的性質表現困難，調配化粧料時無法獲得充分的濕潤感。又，超過100萬時，濕潤感會有降低的傾向。
本發明聚合物中，各單體的加成順序並無特別指定順序，可以嵌段(block)狀加成亦可為無規(random)狀加成，通常各單體為無規狀加成獲得聚合物。
本發明聚合物代表例之一的氯化二甲基二烯丙基銨/N,N－二甲基銨基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼之共聚物如下述通式(III)所示。
上述通式(III)中，m、n表示個別構成單體全量中，陽離子性單體(氯化二甲基二烯丙基銨)，以及兩性單體(N,N－二甲基銨基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼)之莫耳比例，m為0.01至0.99，n為0.99至0.01。較好是m為0.1至0.9，n為0.9至0.1，更好是m為0.15至0.5，n為0.5至0.85。
又，本發明聚合物除了上述必要構成單體外，亦可添加非離子性單體聚合成多聚物。共聚合之非離子性單體可列舉如丙烯醯胺單體等。
化粧料
本發明化粧料之特徵係含有由下述通式(I)所示之兩性單體以及下述通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體之聚合物。
(式中，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 各自獨立地為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)，R4 為碳數1至3之伸烷基，A為氧原子或NR8 (R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基))所示之基，B示碳數1至4之伸烷基)。
上述通式(I)所示之兩性單體為N－取代胺基烷基(甲基)丙烯醯胺甜菜鹼(betaine)或N－取代胺基烷基(甲基)丙烯酸酯胺甜菜鹼。
又，通式(I)中，氮的取代基之R2 及R3 為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)。
碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
碳數3至6之環烷基，例如，可列舉如環丙基、環丁基、環戊基、環己基等。R2 及R3 可為相同或不同。
通式(I)中，R4 為碳數1至3之伸烷基。碳數為4之伸烷基時，由於疏水性質變高，濕潤感降低。碳數1至3之伸烷基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。可列舉如亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、2－羥基伸乙基、2－羥基伸丙基、二氟亞甲基、二氟伸乙基等。
通式(I)中，A為氧原子或NR8 所示之基。氮的取代基之R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或－(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)。此處碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
碳數3至6之環烷基，例如，可列舉環丙基、環丁基、環戊基、環己基等。R2 及R3 可為相同或不同。
再者，通式(I)中B示示碳數1至4之伸烷基。具體而言可列舉如亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸異丙基、伸丁基等。
本發明所使用之兩性單體，例如，N,N－二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼、N,N－二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼等，較佳為N,N－二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺乙酸甜菜鹼。
陽離子性單體可列舉如N,N－二烷基二烯丙基銨鹽、甲基丙烯酸二烷基胺基乙酯、甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨鹽、甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽、丙烯腈基氧基乙基三甲基銨鹽、二甲基銨機丙基甲基丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨鹽等。
又，陽離子性單體為下述通式(II)所示之陽離子性單體之二烯丙基銨鹽，於各種pH中，香味的變化少而特佳。
(式中，R5 及R6 各自獨立地為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基，Y－ 為1價之無機或有機的陰離子)。
通式(II)中，四級銨的氮取代基之R5 及R6 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基。碳數1至4之烷基或烷氧基可為直鏈狀或分岐狀之任一者，亦可為一部分被羥基或氟原子取代者。
碳數1至4之烷基可列舉如甲基、乙基、丙基、丁基、2－羥基乙基、2－羥基丙基、三氟甲基、三氟乙基等。碳數1至4之烷氧基可列舉如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第三丁氧基等。
通式(II)中，Y－ 為1價之無機或有機的陰離子，只要是可形成四級銨鹽者，任一者皆可使用，例如，1價之無機陰離子，可列舉例如氯化物離子、氟化物離子、碘化物離子等；1價之有機陰離子，可列舉例如硫酸根離子、醋酸根離子、苯磺酸根離子、磷酸根離子等。又，R5 及R6 可為相同或不同。
通式(II)所示之陽離子性單體，例如可列舉氯化二甲基二烯丙基銨、氯化二乙基二烯丙基銨、氯化二丙基二烯丙基銨、硫酸二甲基二烯丙基銨等。其中，較佳為使用氯化二甲基二烯丙基銨。
又，本發明之化粧料中，上述聚合物之調配量雖可適宜調整，相對於化粧料全量計，宜為0.01至10質量%，較佳為0.1至3質量%。聚合物的調配量比0.01質量%少時，肌膚濕潤感的改善效果不充分，另外，多於10質量%時，會產生發黏的狀況。
本發明化粧料中，與該聚合物組合而調配陰離子性界面活性劑時，在使用後對頭髮及皮膚賦予濕潤感方面更佳。又，作為頭髮及皮膚之洗淨料時，起泡性方面亦佳。此咸信為陰離子性界面活性劑與聚合物之陽離子部份的相互作用結果。
陰離子性界面活性劑並無特別限定，其中較佳為脂肪酸肥皂、長鏈醯基醚羧酸鹽、聚氧伸乙基烷基醚硫酸鹽、長鏈醯基胺基酸鹽、長鏈醯基低級烷基型牛磺酸鹽，可由其中選出1種或2種以上，特以使用脂肪酸肥皂為佳。
脂肪酸肥皂，例如可列舉月桂酸鈉、肉豆蔻酸鈉、棕櫚酸鈉、硬脂酸鈉、月桂酸鉀、肉豆蔻酸鉀、棕櫚酸鉀、硬脂酸鉀等；長鏈醯基醚羧酸鹽，例如可列舉POE－月桂基醚羧酸鹽等；聚氧伸乙基烷基醚硫酸鹽，例如可列舉聚氧伸乙基月桂基醚硫酸鹽等；長鏈醯基胺基酸鹽，例如可列舉N－月桂醯基麩胺酸一鈉、N－硬脂醯基麩胺酸二鈉、N－肉豆蔻醯基－L－麩胺酸一鈉等；長鏈醯基低級烷基型牛磺酸鹽，例如可列舉N－月桂醯基甲基牛磺酸鈉、N－硬隻析基甲基牛磺酸鈉等。
陰離子性界面活性劑之調配量並無特別限定，相對於化粧料全量計，宜為1.0至60質量%，較佳為5.0至40質量%。陰離子性界面活性劑的調配量比1.0質量%少時添加效果不充分，另外，調配多於60質量%時，無法獲得與調配量相當的效果。
本發明之化粧料中，除上述成分外，一般於化粧料或醫藥品中使用之成分，於不損及本發明效果的範圍內亦可加以調配。可調配之成分，例如可列舉如保濕劑、粉末成分、液體油脂、固體油脂、松香類、烴油、高級脂肪酸、高級醇、合成酯油、矽氧油、陽離子性界面活性劑、兩性界面活性劑、非離子性界面活性劑、天然水溶性高分子、半合成水溶性高分子、合成水溶性高分子、增黏劑、紫外線吸收劑、金屬離子封阻劑、低級醇、多元醇、單糖、寡糖、多醣、胺基酸、有機胺、高分子乳劑、pH調整劑、抗氧化劑、抗氧化助劑、防腐劑、消炎劑、美白劑、各種萃取物、賦活劑、血流促進劑、抗脂漏劑、抗癌症劑等。
又，本發明之化粧料的劑型可為任意者，乳霜系、乳液系、溶液系、可溶化系、粉末分散系、水/油二層系、水/油/粉末三層系之任一劑型皆可。
以下列舉實施例詳細說明本發明，但本發明不僅限定於該等所列舉者。調配量不以特定揭示者為限，相對於調配系統，其成分以質量%表示。
各聚合物的單體組成，以構成單體全量中各單體的莫耳比表示。又，各聚合物的調配量以全部純量所換算者表示。
[實施例1]
首先，說明本發明聚合物的合成方法。
(合成例1)
使用氯化二甲基二烯丙基銨64.6g(400mmol)、N,N,－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼128.5g(600mmol)，製得目的物之氯化二甲基二烯丙基銨/N,N,－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼共聚物。
(合成例2)
使用氯化二乙基二烯丙基銨75.9g(400mmol)、N,N,－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼128.5g(600mmol)，製得目的物之氯化二乙基二烯丙基銨/N,N,－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼共聚物。
其次說明使用於本發明之評價基準。
(泡沫質地)
針對各洗臉材料之泡沫質地，由10位專門評審，根據以下的評價基準實施實際使用試驗，計算平均值。
5點：乳油狀(creamy)。4點：稍為乳油狀。3點：普通。2點：幾乎不為乳油狀。1點：不為乳油狀。
(2)濕潤感
使用各洗臉材料洗淨後肌膚的濕潤感，由10位專門評審，根據以下的評價基準實施實際使用試驗，計算平均值。
5點：具濕潤感。4點：稍具濕潤感。3點：普通。2點：幾乎不具濕潤感。1點：不具濕潤感。
調配各種洗臉材料，實施上述項目之實際使用試驗。洗臉材料的調配組成以及評價結果合併示於下表1。
※1：ME Polymer H40WT M (東邦化學工業公司製造)※2：ME Polymer 09WT M (東邦化學工業公司製造)※3：ME Polymer T－343T M (東邦化學工業公司製造)
未調配聚合物之試驗例1－6之洗臉材料，洗淨時之泡沫質地差，無法獲得洗淨後的肌膚濕潤感。
另外，僅以陽離子性單體(氯化二乙基二烯丙基銨)作為構成單體所調配之陽離子性聚合物之試驗例1－2，以及以陽離子性單體(氯化二乙基二烯丙基銨)與非離子性單體(丙烯醯胺)作為構成單體所調配之陽離子性聚合物之試驗例1－3，具泡沫質地、濕潤感雖有些許改善，但尚未獲得充分效果。再者，試驗例1－2中容易產生沉澱物。
再者，陰離子性單體(丙烯酸)、陽離子性單體(氯化二甲基二烯丙基銨)以及非離子性單體(丙烯醯胺)作為兩性聚合物之構成單體而調配之試驗例1－4，或併用上述陽離子性聚合物及兩性聚合物之試驗例1－5之洗臉材料，其泡沫質地雖有改善，但使用後之濕潤感不充分。
相對於此，使用兩性單體(N,N－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼)及陽離子性單體(氯化二甲基二烯丙基銨)作為本發明聚合物之構成單體而調配之試驗例1－1之洗臉材料，顯示不僅洗淨時的泡沫質地極為優異，洗淨後肌膚的濕潤感顯著改善。
由上述可知，使用含有兩性單體以及陽離子性單體所構成單體之聚合物，其泡沫質地以及濕潤感有特別顯著的改善。
上述效果，係首次發現除了陽離子性單體外，經由添加1分子中含有陰離子性基和陽離子性基之兩性單體作為構成單體可發揮效果，若替代兩性單體而改使用陰離子性單體以及陽離子性單體，則無法獲得該效果。
本發明之聚合物中，為研究兩性單體以及陽離子性單體之較佳莫耳比，以單體比例不同之各聚合物調配洗臉材料而進行評價。各聚合物為氯化二甲基二烯丙基銨與N,N－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼之共聚物(重量平均分子量40萬)，係根據合成例1的方法加以調製。
本發明之聚合物中，藉由調整作為原料之上述各單體莫耳比，可容易地獲得所欲單體莫耳比的聚合物。
洗臉材料之調配組成與評價結果合併示於下述表2。
根據上述表2，無共聚物所調配之聚合物試驗例2－6及試驗例2－7無法獲得泡沫質地及濕潤感充分的效果。再者，調配氯化二甲基二烯丙基銨與N,N－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼的莫耳比為1：9至9：1的聚合物時，泡沫質地及濕潤感優異，特別是莫耳比1：9至5：5(試驗例2－1至2－5)，尤其是莫耳比4：6左右更為良好(試驗例2－2)。
由上述可知，本發明聚合物中，兩性單體與陽離子性單體的莫耳比確認較佳為1：9至9：1，再者為1：9至5：5，特別是4：6左右更佳。
[實施例3]
其次，為研究聚合物的適合重量平均分子量，調製配有不同重量平均分子量之各種聚合物之洗臉材料，並進行評價。又，氯化二甲基二烯丙基銨與N,N－二甲基胺基丙基丙烯醯胺乙酸甜菜鹼的共聚物(莫耳比＝4：6)係根據合成例1的方法加以調製。
再者，重量平均分子量係以凝膠滲透層析法(以下簡稱為GPC)測定，GPC的測定條件如下文所示。
GPC的測定條件 管柱：OHpak SB－804HQ OHpak SB－803HQ OHpak SB－802HQ(任一者皆為昭和電工公司製造)管柱溫度：40℃檢測器：RI溶媒：0.25M醋酸＋0.05M食鹽(pH＝3.5)流速：0.7 ml/分樣品濃度：0.5%注入量：50 μ l標準品：普路蘭(pulullan)(Shodex standard p－82、昭和電工公司製造)
各試驗例之洗臉材料之調配組成與評價結果合併示於表3。
由上述表3可知，聚合物的重量平均分子量為1萬至100萬時，確認於泡沫質地及濕潤感的方面為良好。
以下列舉本發明之其他實施例，但本發明不以該等為限。
[實施例4]
洗臉材料
(製法)
於(12)中，添加(2)至(10)，於75℃加溫、溶解。溶解後，以(1)中和，之後添加(1)充分攪拌後，添加(13)，冷卻而獲得本樣品。
上述洗臉材料於洗淨時的泡沫質地，以及洗淨後的肌膚濕潤感皆極為優異。
[實施例5]
身體洗淨料
(製法)
於(12)中，添加(2)至(9)，於75℃加溫、溶解。溶解後，以(10)中和，之後添加(1)及(11)充分攪拌後，添加(13)，冷卻而獲得本樣品。
上述身體洗淨料於洗淨時的泡沫質地以及洗淨後的肌膚濕潤感皆極為優異。
[實施例6]
洗髮材料
(製法)
於(9)中，添加(2)至(8)，於75℃加溫攪拌。攪拌後，添加(1)充分攪拌後，添加(10)，冷卻而獲得本樣品。
上述洗髮材料於洗淨時的泡沫質地以及洗淨後的肌膚濕潤感皆極為優異。
[實施例7]
頭髮用調整劑(conditioner)
(製法)
於(14)中，添加(2)至(13)，於70℃加溫，充分攪拌。該溶液中，一邊攪拌，一邊加入預先於75℃溶解的(1)。最後，添加(15)，冷卻而獲得本樣品。
上述頭髮用調整劑使用後頭髮之濕潤感極為優異。
[實施例8]
頭髮用塑形(styling)劑 原液/噴射劑＝90/10
(製法)
於(8)中，混合(1)至(7)，充分攪拌後，獲得本樣品。
上述頭髮用塑形劑於使用後頭髮之濕潤感極為優異。
[實施例9]
化粧水
(製法)
於(18)中，添加(1)至(17)、(19)，充分攪拌，獲得本樣品。
上述化粧水於使用後肌膚濕潤感極為優異。

Claims (5)

  1. 一種聚合物，其係具有下述通式(I)所示之兩性單體以及下述通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體，該陽離子性單體與該兩性單體之莫耳比係1：9至9：1； (式中，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 各自獨立，為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或-(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 表示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)，R4 為碳數1至3之伸烷基，A為氧原子或NR8 (R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或-(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 表示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基))所示之基，B表示碳數1至4之伸烷基)， (式中，R5 及R6 各自獨立，為氫原子或碳數1至4之烷 基或烷氧基，Y- 為1價之無機或有機的陰離子)。
  2. 如申請專利範圍第1項之聚合物，其重量平均分子量係1萬以上、100萬以下。
  3. 一種化粧料，其係含有具有下述通式(I)所示之兩性單體以及下述通式(II)所示之陽離子性單體作為必要構成單體之聚合物，該陽離子性單體與該兩性單體之莫耳比係1：9至9：1； (式中，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 各自獨立，為碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基、苯基或-(CH2 CH2 O)n R7 基(n為1至50之整數，R7 表示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基)，R4 為碳數1至3之伸烷基，A為氧原子或NR8 (R8 為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基、苯基或-(CH2 CH2 O)n R9 基(n為1至50之整數，R9 表示氫原子、碳數1至4之烷基或烷氧基、碳數3至6之環烷基或苯基))所示之基，B表示碳數1至4之伸烷基)， (式中，R5 及R6 各自獨立，為氫原子或碳數1至4之烷基或烷氧基，Y- 為1價之無機或有機的陰離子)。
  4. 如申請專利範圍第3項之化粧料，其中，復含有陰離子性界面活性劑。
  5. 如申請專利範圍第3或4項之化粧料，其係頭髮及皮膚洗淨料。
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