TWI398494B - 油墨組成物及使用該油墨組成物製造液晶顯示裝置之方法 - Google Patents
油墨組成物及使用該油墨組成物製造液晶顯示裝置之方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI398494B TWI398494B TW98137764A TW98137764A TWI398494B TW I398494 B TWI398494 B TW I398494B TW 98137764 A TW98137764 A TW 98137764A TW 98137764 A TW98137764 A TW 98137764A TW I398494 B TWI398494 B TW I398494B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- weight
- ink composition
- pattern
- substrate
- additive
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
- C09D11/033—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the solvent
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本發明涉及一種油墨組成物,尤其涉及用於壓印微影和滾壓印刷之具有耐熱性的油墨組成物,能夠形成精確的微細圖案,以及一種使用該油墨組成物製造液晶顯示(LCD)裝置的方法。
當前,隨著資訊顯示變成越來越受具有吸引力,而可擕式資訊媒體使用上的需求增加,用以替代現有顯示裝置之陰極射線管(cathode ray tube,CRT)的更輕、更薄平面顯示器(flat panel display,FPD)的研究和商用已經廣泛地施行。尤其,在各種FPD中,液晶顯示(liquid crystal display,LCD)裝置藉由使用液晶的光學異向特性以顯示影像。LCD裝置具有優異的解析度、色彩顯現特性、影像品質等等,並因此廣泛地應用於筆記型電腦、桌上型顯示器等等。
LCD裝置包括彩色濾光片基板、陣列基板、以及插入在該彩色濾光片基板和該陣列基板之間的液晶層。
主動式矩陣方法係在LCD裝置中通用的驅動方法,被配置為藉由利用非晶矽薄膜電晶體(a-Si TFT)為開關裝置而驅動像素單元的液晶。
下文中,將參考第1圖詳細描述習用技術中LCD裝置的結構。
第1圖為顯示現有技術LCD裝置的分解透視示意圖。
如第1圖所示,LCD裝置包括彩色濾光片基板5、陣列基板10、以及插入在彩色濾光片基板5和陣列基板10之間的液晶層30。
彩色濾光片基板5被配置為具有彩色濾光片C、黑色矩陣6以及透明共用電極8,彩色濾光片C具有複數個子彩色濾光片7以顯現紅色(R)、綠色(G)和藍色(B),黑色矩陣6用以分隔相鄰間的子彩色濾光片7,並阻擋透過液晶層30中所傳輸的光線,透明共用電極8用以施加電壓至液晶層30。
又,陣列基板100被配置為具有複數條閘極線16和資料線17、薄膜電晶體T以及像素區域18。閘極線16和資料線17在水平和垂直方向上排列
以定義出複數個像素區域P,薄膜電晶體T作為開關裝置,並形成在閘極線16和資料線17之間的交叉處,而像素區域18形成在各個像素區域P上。
具有上述結構的彩色濾光片基板5和陣列基板10藉由形成在影像顯示區域外部週邊的密封劑(圖中未示)彼此面對黏接,從而構成LCD面板。彩色濾光片基板5和陣列基板10之間的粘接可以藉由形成在彩色濾光片基板5或陣列基板10上的連接鍵(圖中未示)而實施。
LCD裝置的製造包括需要複數次的光微影製程以製造出具有TFT的陣列基板。
又,為了形成應用於資訊儲存、精密感測器、光子晶體和光學元件、微電子機械系統、顯示裝置以及半導體的微細圖案,進行使用光線以形成微細圖案的光微影製程。
光微影製程代表一系列的製程,藉由這些製程將印製在遮罩上的圖案轉印到沈積薄膜的基板,從而形成所需的圖案。光微影製程通過複數個複雜的製程而實施,包括光阻塗佈、校準和曝光、顯影等。
首先,在欲形成有預設圖案的薄膜上塗佈作為光阻器的光阻後,將形成圖案的光罩與薄膜校準然後曝光。在此,光罩分為預設透明區域和阻擋區域。通過透明區域所傳輸的光線可以化學性地改變光阻。
光阻內的化學變化可以依照光阻類型。對於正光阻,曝光的區域變成可溶於顯影溶液中。相反地,對於負光阻,曝光的區域不溶於顯影溶液中。在此利用正光阻給出示例性的描述。
在曝光製程之後,光阻的曝光區域藉由顯影溶液去除,從而在薄膜上形成預設光阻圖案。
在此之後,將薄膜蝕刻而一致於光阻圖案,然後去除剩餘光阻圖案,藉以形成預設的薄膜圖案。
在光微影製程中,電路或圖案的線寬係根據曝光製程內使用的光波長而決定。參考當前技術標準,由於光線干擾,很難在基板上通過光微影製程而形成小於70nm的微細圖案。
另外,隨著圖案變得超微細,由於需要昂貴的曝光設備、具有高解析度的遮罩等而導致原始投資成本增加,造成製程成本明顯增加。此外,由於複雜的製程,包括曝光、曝光後的烘乾、顯影、顯影後的烘乾、蝕刻、
清洗等等,必須在每一次形成圖案的時候執行,這就花費很長的時間執行這個製程,並且光微影製程將重複無數次,因此降低了產能。
為了解決這些問題,已經引入了壓印微影和滾壓印刷。壓印微影是最初由來自美國Princeton大學Stephen Chou等所發明的方法,以雕刻奈米等級的圖案。根據這個方法,所需形式被預先地製作在無機材料或具有相對高強度的聚合物的表面上,然後當預先製作的形式附加在其他材料上時,形成微細圖案。詳細地,將具有所需預先形成微細圖案於其上的無機材料或聚合體模具附接在塗佈在金屬膜上的固化成分上,或是熱固化或光固化的有機層上,藉以形成圖案。與現有的光微影比較,這個方法具有的優點為簡單製程並有效率的形成微細圖案。
滾壓印刷方法已經揭露,例如,在韓國專利申請第2006-0005482號(先前公開申請第10-2007-76292號),題目為“滾壓印刷設備以及使用該設備製造顯示裝置的方法”。根據這個滾壓印刷方法,當通過現有微影形成圖案的時候,替代所使用的高解析度遮罩,使用矽聚合物及電鑄板直接地轉印圖案在基板上,以在基板上直接形成所需微細圖案,從而形成微細圖案。
然而,在微細圖案形成之後的低溫烘乾製程中,在蝕刻製程被保護的金屬基板的消失問題,可能由於油墨組成物和形成所需圖案的基板之間的黏接力的減少而產生。另外,在高溫烘乾製程中,在形成所需圖案的基板和油墨組成物之間的黏接力增加,但是藉由油墨組成物形成的圖案線寬和線間距變差而發生變形,這將導致明顯缺陷,例如,缺陷圖案,導致微細圖案的連續轉印受限,並且很難提高微細圖案的精確度。
因此,為了解決現有技術的問題,本發明的一目的是提供一種藉由利用壓印微影和滾壓印刷而製造LCD裝置的方法,以替代光微影法。
本發明的另一目的是提供一種用於壓印微影和滾壓印刷的油墨組成物,能夠提高圖案精確度以及藉由利用即使在高溫下仍然耐用的聚合樹脂和添加劑而維持圖案的線寬和線間距,以及使用該油墨組成物製造LCD裝置的方法。
本發明前述和其他目的,特點,方面和優點將從下面結合圖式對本發
明的描述中明確。
為了獲得根據本發明目的的這些和其他優點,如在此具體和廣泛描述地,提供一種油墨組成物,由一占重量5-45%的聚合樹脂、一占重量5-45%添加以維持熱穩定性的添加劑、以及一占重量50-90%的有機溶劑所構成,其中,該油墨組成物即使在90-250℃的高溫仍舊耐用。
在本發明的一方面,提供一種製造LCD裝置之方法,包括:準備具有複數個陣列基板或複數個彩色濾光片基板的母基板;對陣列基板執行陣列製程,並且對彩色濾光片基板執行彩色濾光片製程;在母基板的表面上形成校準層;執行母基板的研磨;將已完全研磨的一對母基板黏接;以及將已黏接的母基板切割為複數個單元液晶顯示面板,其中,當執行該陣列製程和該彩色濾光片製程時,執行壓印微影和滾壓印刷製程以形成微細圖案,該壓印微影和滾壓印刷製程使用一由一占重量5-45%的聚合樹脂、一占重量5-45%以維持熱穩定性的添加劑、以及一占重量50-90%有機溶劑所構成的油墨組成物,該油墨組成物即使在90-250℃的高溫仍然耐用。
如上所述,根據本發明在油墨組成物中和製造LCD裝置的方法中,使用即使在高溫中仍然耐用的聚合樹脂和添加劑,從而固定地保持圖案線寬和線間距,允許微細圖案的連續轉印,而圖案的精確度、產率和製程效率得以改善。
現在將參考所附圖式在最佳實施例中詳細描述油墨組成物和使用該油墨組成物製造LCD裝置的方法。
根據本發明較佳實施例,油墨組成物可以由占重量5-45%的聚合樹脂、占重量5-45%的添加劑、以及占重量50-90%的有機溶劑所構成。特別地,添加能夠維持熱穩定性的添加劑,使得該油墨組成物可以具有更好的熱耐用性和圖案形成能力。又,聚合物和添加劑的添加允許圖案轉印率的增加,從而改善產率和製程效率。
在此,根據本發明最佳實施例,聚合樹脂可以包括酚醛樹脂、壓克力樹脂以及其他用於典型油墨組成物者。
在此,酚醛樹脂可能為反應芳香醇混合的聚合物,如間甲酚、對甲酚、
2,3,5-三甲基苯酚、2,3-二甲苯、3,5-二甲苯以及其他具有甲醛或對三聚甲醛者。又,壓克力樹脂可以是藉由聚合不飽合的羧酸(carboxylic acid)、芳香單體、壓克力單體而獲得。
聚合樹脂可以較佳地具有2000-100000的分子量,尤其較佳為2000-45000。
最佳地,對於總重量為100%的成分,可以包含占重量5-45%的聚合樹脂,尤其較佳地,占重量7-12.5%的聚合樹脂。在該範圍內,聚合樹脂可以作為圖案支撐物,並增加圖案轉印率,因此提高產率並提高製程效率。
又,根據本發明最佳實施例,添加劑可以用作控制油墨組成物的熱穩定性。添加劑的實例可以包括季戊四醇、沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯、沒食子酸十二酯,沒食子酸辛酯、米吐爾、氫氯化酪胺、1-(3-羥基苯基)六氫吡、4-溴基-2-(5-異惡唑基)苯酚、4-(咪唑-1-基)苯酚、芹菜素、2-(4,5-二氫-1氫-咪唑-2-基)苯酚、3-(4,5-二氫-1氫-咪唑-2-基)苯酚、4-(4,5-二氫-1氫-咪唑-2-基)苯酚、4-硝基-2-(1氫-吡唑-3-基)苯酚、2-(2-羥基苯基)-1氫-苯並咪唑、4-(4-甲基-4,5-二氫-1氫-咪唑-2-基)苯酚、1-氨基-2-氫氯化萘酚、2,4-二氨基二氫氯化苯酚、2-乙醯氨基苯酚、2-氨基-3-硝基苯酚、2-氨基-4-氯基-5-硝基苯酚、2-氨基-5-硝基苯酚、3-氨基-2-萘酚,3-氫氯化甲氧基酪胺、4,7-二甲氧基-1,10-鄰二氮菲、4-氨基-1-氫氯化萘酚、4-氨基-3-氫氯化氯苯酚、4-氫氯化氨基苯酚、4-三苯甲基苯酚、8-氨基-2-萘酚、雞豆黃素異黃酮、四氯醌、五溴苯酚、二水合槲皮素、黃櫨素、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)苯、三(3,5-二第三丁基-4-羥基苯甲基)異氰尿酸、十八烷基-3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸乙酯、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚、1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷、三乙二醇-雙(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸乙酯、2,2-亞甲基-雙(4-甲基-6-(1-甲基環己基)苯酚)、以及磷酸三(2,4-二第三丁基苯基)等。
在此,較佳地,本發明的油墨組成物中可以包含占重量5-45%的添加劑,尤其較佳地,可以在油墨組成物中包含7-12.5%的添加劑。在該範圍內,允許固定地穩定保持圖案的線寬和線間距,從而改善所欲形成在基板上之圖案的精確度,從而提高了產率和製程效率。
根據本發明最佳實施例,有機溶劑可以為易溶溶劑,如果必要,除了聚合樹脂和添加劑之外,可以使用該溶劑。
例如,有機溶劑可以為由以下溶劑中選擇之單一溶劑或兩種或兩種以上溶劑的混合物,溶劑的例子包括丙烯腈、乙腈、甘油、二甲基亞碸、硝基甲烷、二甲基甲醯胺、苯酚、N-甲基吡咯烷酮、吡啶全氟三丁胺、全氟十氫萘、2-丁酮、亞甲基碳酸酯、醇類、醚類、酯類、乙二醇烴基乙醋酸酯類、乙二醇烴基醚丙酸乙酯類、乙二醇單烴基醚類、二甘醇烴基醚類、丙二醇烴基醚醋酸酯類、丙二醇烴基醚丙酸乙酯類、丙二醇單烴基醚類、二丙二醇烴基醚類、丁二醇單甲基醚類,以及二丁二醇烴基醚類;醇類包括甲醇、乙醇、乙二醇、三乙二醇、四伸乙甘醇、丙二醇、丙烯乙二醇、二乙二醇、丁二醇、苯甲醇、己醇、丙烯醇等,醚類包括丙烯碳酸酯、四氫呋喃、甲氧基苯、1,4-二氧六環、1-甲氧基-2-丙醇、二丁醚、二苯醚等,酯類包括乙酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙酸乙酯、乙酯、丁酯、甲基-2-羥基異丁酸酯、2-甲氧基-1-甲基乙基酯、二氧甲基乙醇醋酸酯、二乙氧基乙醇醋酸酯等,乙二醇烴基醚乙酸酯類包括乙二醇甲乙醋酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯等,乙二醇烴基醚丙酸乙酯類包括乙二醇甲基醚丙酸乙酯、乙二醇乙基醚丙酸乙酯等,乙二醇單烴基醚類包括乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等,二甘醇烴基醚類包括二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲乙醚等,丙二醇烴基醚醋酸酯類包括丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸等,丙二醇烴基醚丙酸乙酯類包括丙二醇甲醚丙酸乙酯、丙二醇乙醚丙酸乙酯、丙二醇丙醚丙酸乙酯等,丙二醇單烴基醚類包括丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等,二丙二醇烴基醚類包括二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等,丁二醇單甲基醚類包括丁二醇單甲基醚、丁二醇乙醚等,二丁二醇烴基醚類包括二丁二醇二甲基醚、二丁二醇二乙基醚等。特別是,為了對矽聚合物給予一增強的塗層性能,有利的是使用兩種以上有機溶劑的混合物而不是單一溶劑對圖案轉印。
在油墨組成物中較佳地包含占重量50-90%的有機溶劑,尤其最佳地,油墨組成物中可以包含占重量70-80%的有機溶劑。在該範圍內,有機溶劑可以提供生產效率以及溶解性。
本發明中用於壓印微影和滾壓印刷的油墨組成物,由上述成分構成,可以進一步包括表面活性劑、膠黏感光劑或可視化合物。
在此,表面活性劑可以防止發生在矽聚合物上之油墨材料的污點或孔洞標記,並確保良好的塗佈性能。
表面活性劑的實例可以包括矽基的表面活性劑或氟基的表面活性劑,如全氟烷預聚物,表面活性劑的含量可以占重量0.01-3%,較佳地,對於總重量100%油墨組成物,占有重量0.1-1.5%。
又,膠黏感光劑可以用於改善與下層膠黏的性質,膠黏劑的例子可以包括典型的黑色素交聯劑。
黑色素交聯劑的實例可以包括尿素和甲醛的縮合產物、三聚氰胺和甲醛的縮合產物、從醇類獲得的甲基尿素烴基醚類或甲基三聚氰胺烴基醚類。例如,尿素和甲醛縮合產物的例子包含單甲基尿素、二羥甲基尿素及其他等等。三聚氰胺和甲醛縮合產物的例子可以包括六羥甲基三聚氰胺。此外,三聚氰胺和甲醛縮合產物的一部分還可以用作黑色素交聯劑。甲基尿素烴基醚類可以藉由尿素和甲醛的縮合產物、部份或全部之甲基群和醇類之間的反應而獲得。甲基尿素烴基醚類的例子可能包括單甲基尿素醚、二甲基尿素醚等。甲基三聚氰胺烴基醚類可以由三聚氰胺和甲醛的縮合產物、部份或全部之甲基群和醇類之間的反應而獲得。甲基三聚氰胺烴基醚類的例子可能包括六羥甲基三聚氰胺六羥甲基甲基醚、六羥甲基三聚氰胺六丁基醚等。也可以使用在結構中將三聚氰胺氨基的氫原子以羥甲基群和甲氧甲基群替代的化合物,以及在結構中將三聚氰胺氨基的氫原子以丁氧甲基群和甲氧甲基群替代的化合物。特別是,最好使用甲基三聚氰胺烴基醚類。
如果使用膠黏感光劑時,膠黏感光劑的含量,較佳可以對於重量100%的組成物占重量0.01-5%,尤其較佳地,占重量0.5-2.5%。在該範圍內,根據本發明較佳實施例中的油墨組成物可以具有與下基板更好的黏接力,並在蝕刻製程中,用於隨後保護位於圖案的下部分的金屬層。
可視化合物可以確保使用染料、色素或感光化合物之油墨組成物的可視性。又,可視化合物可以在藉由聚合樹脂中溶解而提高圖案的轉印能力,並額外地便於確保與所欲形成圖案的基板的粘接力。
作為可視化合物,二疊氮化物基化合物,即由酯化的三羥基二苯基酮與2-重氮-1-萘酚-5-磺酸所製備之2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯、由酯化的四羥基二苯基酮和2-重氮-1-萘酚-5-磺酸所製備之2,3,4,4-四羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯及其他,可單獨使用或混合使用。
如果使用可視化合物,可視化合物的含量可能較佳為佔重量0.001-3.0%,尤其較佳,根據本發明最佳實施例,對於總重量100%的油墨組成物占重量0.001-2.0%。
根據本發明最佳實施例,具有所述組成的油墨組成物可以應用於使壓印微影和滾壓印刷的圖像形成中,從而允許微細圖案精確地形成在基板上。
特別地,根據本發明的最佳實施例,油墨組成物可以包括即使在90-250℃的高溫仍然耐用之聚合樹脂和添加劑,從而確保微細圖案更好的優異轉印率,並且允許精確的形成微細圖案。這種改進的特性將與比較實例比較,在下文中詳細描述(下文,指代“比較例”)
表1如下所示,其用以顯示從第一和第二實施例和第一和第二比較例之油墨組成物的比較結果,油墨組成物以不同添加劑製造,其中單位為重量百分比。
如表1所示,對於第一和第二實施例以及第一和第二比較實例中的各個油墨組成物,酚醛樹脂、乙醇、矽群和六羥甲基三聚氰胺六甲基醚分別作為聚合樹脂、有機溶劑、表面活性劑以及膠黏感光劑,對於其中的每一個沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯、2,4二甲基苯酚以及松香被作為添加劑。
在此,對於第一和第二實施例以及第一和第二比較實例的每個總重量為100%的油墨組成物可以由占重量10.0%的聚合樹脂、占重量10.0%的添加劑、占重量80.0%的有機溶劑、占重量1.0%的表面活性劑以及占重量3.0%
的膠黏感光劑所組成。
利用第一和第二實施例和第一和第二比較例子所製造的油墨組成物,可以藉由下面的方法預估各種性質。
首先,第一和第二實施例以及第一和第二比較實例的每個油墨組成物上被塗佈在沒有圖案的矽聚合物,並自然地乾燥10秒。當矽聚合物在電鑄板上滾動的時候,微細圖案在目標基板上轉印。然後測量如此獲得的圖案的轉印率。
表2如下所示,其用以顯示表1中從第一和第二實施例和第一和第二比較例之各個油墨組成物的圖案轉印率的比較結果,其中,圖案轉印率根據圖案是否已經形成在具有1×1mm大小的100個單元內,表示於0-100%的範圍。
如表2所示,第一和第二實施例分別顯示出98%和97%的圖案轉印率,而第一和第二比較實例分別顯示85%和79%的圖案轉印率。
也就是,這展現了使用高耐熱性之添加劑的第一和第二實施例的每個油墨組成物,顯示出大於97%的圖案轉印率。
同時,為了測量形成微細圖案的精確性,將第一和第二實施例和第一和第二比較實例中的每個油墨組成物塗佈在沒有圖案的矽聚合物上,並自然乾燥一預定時間。當矽聚合在電鑄板上滾動時,微細圖案轉印到目標基板上。在將微細圖案轉印的基板在200℃的高溫下熱處理3分鐘之後,圖案形成的精確性利用光學顯微鏡檢測。檢測結果可以在第2圖至第5圖中查看。
第2圖和第3圖為顯示使用本發明第一實施例和第二實施例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片;第4圖和第5圖為顯示使用第一比較實例和第二比較實例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片。
如第2圖和第3圖所示,根據本發明第一和第二實施例所使用油墨組成物均勻地形成圖案。因此,在熱處理前後圖案線寬都不會改變,從而展
示了圖案形成之優異的精確度。
相反地,如第4圖和第5圖所示,當使用第一和第二比較實例所製造的油墨組成物,在熱處理前後在圖案線寬觀察到明顯的變化,而因此展示了圖案形成精確度不良。
本發明實施例中的油墨組成物具有所述特性,可以被使用於壓印微影和滾壓印刷,從而允許微細圖案的形成,該微細圖案應用於資訊儲存、精密感測器、光子晶體和光學元件、微電機械系統、顯示裝置以及半導體,這些內容將通過製造LCD裝置的示例方法詳細描述。
第6圖為一流程圖,依次顯示使用本發明的油墨組成物製造LCD裝置的方法,顯示了一種藉由液晶滴落方法形成液晶層的情況而製造LCD裝置的方法。然而,本發明並不侷限於這個方法,也可以應用於藉由液晶注入方法形成液晶層的情況而製造LCD裝置的方法中。
LCD裝置的製造過程可以分為在下陣列基板上形成開關裝置的開關裝置陣列製程、在上彩色濾光片基板上形成彩色濾光片的彩色濾光片製程,以及組立製程。
通過陣列製程,複數個閘極線和資料線被排列在下基板上以定義像素區域,而作為開關裝置的薄膜電晶體(TFT)與閘極線和資料線連接分別形成在像素區域(S101)。又,通過陣列製程,形成與TFT連接用於驅動液晶層回應經由TFT施加之信號的像素電極。
又,彩色濾光片層配置為具有有紅、綠以及藍子濾光片以顯現色彩,而通過彩色濾光片製程形成共用電極在上基板上(S103)。
在此,各種微細圖案通過陣列製程和彩色濾光片製程形成。當圖案形成時,使用本發明實施例中之油墨組成物的壓印微影和滾壓印刷可以被使用,這將在下文中參考圖式詳細描述。
同時,下基板和上基板每一個都配置為大型母板。換句話說,複數個面板區域形成在大型母板上,而作為開關裝置的TFT和彩色濾光片層被形成在每個面板區域內。
第7A圖至第7D圖,依次顯示使用本發明的油墨組成物形成油墨圖案之製程的剖面圖,其中,滾壓印刷製程作為示例描述。然而,本發明並不侷限於滾壓印刷製程,而可以應用於通過壓印微影形成油墨圖案。
如第7A圖所示,印刷板101具有印刷凹槽102,印刷凹槽102上製備了與準備目標油墨圖案相同的圖案。包含溶劑的油墨103從油墨送料器104提供在印刷板101上。
儘管沒有在圖式中顯示詳細,滾壓印刷裝置被用以印刷各種油墨圖案在目標基板上,並且包括印刷板101、油墨送料器104,用以在印刷板101上提供油墨103、以及配置有轉印板的轉印滾子,用於將填充於印刷板101的油墨103轉印至目標圖案上。
在此,印刷板101提供有複數個印刷凹槽102,用於在其上表面上形成目標圖案,並且每個印刷凹槽102基本上具有與目標油墨圖案一樣的形狀。
然後油墨送料器104藉由利用合適的方法、例如旋轉塗佈、滾壓塗佈以及狹縫塗佈等、在印刷板101上塗佈具有0.5-10μm厚度的油墨103。
在此,本發明實施例中包含油墨103的油墨組成物可以由占重量5-45%的聚合樹脂、占重量5-45%的添加劑以及占重量50-90%的有機溶劑構成。尤其,藉由添加占重量5-45%維持熱穩定性的添加劑,使得油墨組成物可以具有傑出的耐熱性和圖案形成能力。所添加的添加劑還可以增加圖案轉印率,從而改善產率和製程效率。
其次,如第7B圖所示,塗佈在印刷板101上的油墨103藉由使用刀片130填充在每個印刷凹槽102內。也就是,如果刀片130設置於提供有油墨103的印刷板101上,並在與印刷板101的上表面以接觸的狀態在一個方向移動,被提供在印刷板101的上表面上的油墨103在行進的方向擠壓,從而填充印刷凹槽102。又,在印刷板101的上表面上除了印刷凹槽102的油墨103藉由刀片130而去除。在此,可以進一步設置一去除刀片(圖中未示)以完全去除在印刷板101的上表面所殘餘的油墨103。
如第7C圖所示,具有轉印板155的轉印滾子150在填充油墨103之印刷板101的上表面上滾動。因此,填充至印刷凹槽102的油墨103被轉印至轉印滾子150的轉印板155上。
轉印滾子150可以形成為,例如,圓柱形,並且其外表面覆蓋有轉印板155。轉印板155可以由與油墨103具有良好黏結特性的材料形成,例如,具有良好親水性的矽。又,轉印板155可以具有彈性,從而便於將油墨從印刷板101轉印並再轉印至目標基板上。
如第7D圖所示,轉印滾子150接著在一個方向內滾動以便將在轉印板155上轉印的油墨103再轉印至目標基板110上,從而形成預定油墨圖案120。
在此,轉印滾子150和下框架(圖中未示)之間的間距可以調整,使得當轉印滾子150滾動時,覆蓋轉印滾子150的轉印板155可以接觸目標基板110的上表面。在此,轉印滾子150的轉印板155並沒有必定與目標基板110的上表面接觸。然而,必須保持至少與油墨從印刷板101轉印至轉印板155上的距離一樣短的距離,而可以接觸目標基板110的上表面。
之後,儘管沒有在圖式中顯示出來,還可以使用紫外線執行光固化製程、在90-200℃執行熱處理的熱固性製程,或者光固化和熱固化製程結合的製程。在此,執行熱處理以蒸發溶劑而不會裂解油墨組成物中包含的固體成分。典型地,較佳係通過熱處理最小化溶劑的濃度,並執行熱處理直到少於10μm厚度的油墨層留在基板上。
這個製程可以提高油墨層和基板之間的黏接特性和化學阻抗性。完全處理過的基板接著利用蝕刻溶液或氣體化的電漿處理,從而處理基板暴露的部分。在此,基板之沒有暴露的部分經油墨層保護。在基板處理之後,藉由適當的剝離劑去除油墨層,從而在基板上形成微細圖案。
之後,校準層印製在上基板和下基板的每一個上。校準層彼此對齊,從而對於在上下基板之間插入之液晶層的液晶分子提供錨定力或表面錨定力特性(也就是,預傾角和校準方向)。
在利用滴落方法的情況時,藉由使用密封劑在彩色濾光片基板上形成預設密封圖案,並同時在陣列基板上形成液晶層(S105和S106)(參見第6圖)。
在滴落方法中,滴落液晶並將液晶通過分配器分配在具有複數個陣列基板的第一大母基板或具有複數個彩色濾光片基板的第二大母基板兩者之一的圖案顯示區域上,並且液晶藉由黏接第一和第二母基板的壓力均勻地分佈在整個影像顯示區域,從而形成液晶層。
因此,當通過滴落方法在LCD面板上形成液晶層時,必須形成覆蓋每個像素區域邊緣之封閉圖案形式的密封圖案,使得液晶無法漏出影像顯示區域。
當利用滴落方法時,與利用真空注入方法比較,液晶可以在短時間內滴落,而且即使LCD面板變得更大,液晶層還可以非常快速地形成。
還有,當利用滴落方法時,液晶隨需要滴在基板上,可以防止由於高價液晶的丟棄導致LCD面板製造成本的增加,最後增強了產品的競爭力。
之後,回來參考第6圖,在其上滴落液晶並塗佈密封劑的上基板和下基板彼此對齊的情況下,施加壓力,從而藉由密封劑黏接上基板和下基板,並同時使得滴落的液晶分佈在整個面板上(S107)。通過這個製程,複數個具有液晶的LCD面板形成在大母基板上(下基板和上基板)。然後玻璃基板經處理並切割為複數個LCD面板。接著對每個LCD面板進行檢測,從而完成LCD裝置的製造過程(S108和S109)。
前述實施例和優點僅僅為示例性並不限制本發明。本發明可以簡單地應用於其他裝置。這個說明意在為說明性,並不限制申請權利的範圍。對於本領域的技術人員而言,可以進行改進,修改和變形。在此描述的實施例的特點,結構,方法和其他特性可以以各種方式結合以獲得附加及/或可選擇地實施例。
實施例已經顯示和描述出來,對於本領域的技術人員而言,凡有在相同之發明精神下所作有關本發明之任何修飾或變更,皆仍應包括在本發明意圖保護之範疇。另外,在不脫離辦發明實質範圍的情況下可以對本發明作出適於特定情形或材料的改進。因此,本發明並不侷限於作為最佳實施例闡述本發明的特定實施例,可以包括所有落在本發明意圖保護之範疇內的實施例。
5‧‧‧彩色濾光片基板
6‧‧‧黑色矩陣
7‧‧‧子彩色濾光片
8‧‧‧透明共用電極
10‧‧‧陣列基板
16‧‧‧閘極線
17‧‧‧資料線
30‧‧‧液晶層
101‧‧‧印刷板
102‧‧‧印刷凹槽
103‧‧‧油墨
104‧‧‧油墨送料器
110‧‧‧目標基板
130‧‧‧刀片
150‧‧‧轉印滾子
155‧‧‧轉印板
P‧‧‧像素區域
T‧‧‧薄膜電晶體
S101、S102‧‧‧步驟
S103、S104‧‧‧步驟
S105、S106‧‧‧步驟
S107、S108、S109‧‧‧步驟
所附圖式其中提供關於本發明實施例的進一步理解並且結合與構成本說明書的一部份,說明本發明的實施例並且描述一同提供對於本發明實施例之原則的解釋。
圖式中:第1圖為顯示現有技術中LCD裝置的分解透視示意圖;第2圖為顯示使用本發明第一實施例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片;
第3圖為顯示使用本發明第二實施例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片;第4圖為顯示使用第一比較實例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片;第5圖為顯示使用第二比較實例製造的油墨組成物所形成微細圖案之熱處理表面的光學顯微照片;第6圖為一流程圖,依次顯示使用本發明之油墨組成物製造LCD裝置的方法;以及第7A圖至第7D圖,依次顯示使用本發明之油墨組成物形成油墨圖案之製程的剖面圖。
S101、S102‧‧‧步驟
S103、S104‧‧‧步驟
S105、S106‧‧‧步驟
S107、S108、S109‧‧‧步驟
Claims (9)
- 一種油墨組成物,由下列所構成:一占重量5-45%的聚合樹脂,其中該聚合樹脂係從由酚醛樹脂、壓克力樹脂以及其混合物所構成之群組中所選擇出的一個或多個;一占重量5-45%的添加劑,被添加以維持熱穩定性,其中該添加劑係從由沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯所組成之群組中所選擇出的一個或多個;以及一占重量50-90%的有機溶劑,其中,該油墨組成物即使在90-250℃的高溫下也耐用。
- 如申請專利範圍第1項所述之油墨組成物,其中該油墨組成物被用以使用一壓印微影或一滾壓印刷來形成圖案。
- 如申請專利範圍第1項所述之油墨組成物,其中該酚醛樹脂為將芳香醇及甲醛或對三聚甲醛反應混合的聚合物,而該壓克力樹脂係藉由將不飽合的羧酸、芳香單體、壓克力單體聚合而獲得。
- 如申請專利範圍第1項所述之油墨組成物,進一步包含對於重量100%之該油墨組成物占重量0.01-3%的一表面活性劑,該表面活性劑包括矽基的表面活性劑或如全氟烷預聚物之氟基的表面活性劑。
- 如申請專利範圍第4項所述之油墨組成物,進一步包含對於重量100%之該油墨組成物占重量0.01-5%的一膠黏感光劑,該膠黏感光劑包括一黑色素交聯劑,該黑色素交聯劑包括尿素和甲醛的縮合產物、三聚氰胺和甲醛的縮合產物、從醇類獲得的甲基尿素烴基醚類或甲基三聚氰胺烴基醚類。
- 如申請專利範圍第5項所述之油墨組成物,進一步包含對於重量100%之該油墨組成物占重量0.001-3.0%的一可視化合物,該可視化合物為二疊氮化物基化合物,該二疊氮化物基化合物為由酯化三羥基二苯基酮與 2-重氮-1-萘酚-5-磺酸所製備之2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯,以及由酯化四羥基二苯基酮和2-重氮-1-萘酚-5-磺酸所製備之2,3,4,4-四羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯,其中2,3,4-三羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯與2,3,4,4-四羥基二苯基酮-1,2-萘酚醌二疊氮化物-5-磺酸酯可單獨使用或混合一起使用。
- 如申請專利範圍第6項所述之油墨組成物,其中該油墨組成物包括對於重量100%之該油墨組成物占重量10.0%的該聚合樹脂、占重量10.0%的該添加劑、占重量80%的該有機溶劑,占重量1.0%的該表面活性劑以及占重量3.0%的該膠黏感光劑。
- 一種製造液晶顯示裝置之方法,包括:準備具有複數個陣列基板的一母基板以及具有複數個彩色濾光片基板的另一母基板;對於該陣列基板執行一陣列製程,並且對於該彩色濾光片基板執行一彩色濾光片製程;在各該母基板的表面上形成一校準層;對該等母基板執行研磨;將已完全研磨的該對母基板黏接;以及將該已粘接的母基板切割為複數個單元液晶顯示面板,其中當執行該陣列製程和該彩色濾光片製程時,執行一壓印微影和一滾壓印刷製程以形成微細圖案,該壓印微影或該滾壓印刷係使用一由一占重量5-45%的聚合樹脂、一占重量5-45%以維持熱穩定性的添加劑、以及一占重量50-90%的有機溶劑所構成之油墨組成物,該油墨組成物即使在90-250℃的高溫仍然耐用,其中該聚合樹脂係從由酚醛樹脂、壓克力樹脂以及其混合物所構成之群組中所選擇出的一個或多個;以及該添加劑係從由沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯所組成之群組中所選擇出的一個或多個。
- 依據申請專利範圍第8項所述之製造液晶顯示裝置之方法,其中該油墨組成物包括對於重量100%之該油墨組成物占重量10.0%的該聚合樹脂、占重量10.0%的該添加劑、占重量80%的該有機溶劑,占重量1.0%的該表面活性劑以及占重量3.0%的該膠黏感光劑。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080110624A KR101375849B1 (ko) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201026791A TW201026791A (en) | 2010-07-16 |
TWI398494B true TWI398494B (zh) | 2013-06-11 |
Family
ID=42165569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW98137764A TWI398494B (zh) | 2008-11-07 | 2009-11-06 | 油墨組成物及使用該油墨組成物製造液晶顯示裝置之方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7935552B2 (zh) |
JP (1) | JP5437026B2 (zh) |
KR (1) | KR101375849B1 (zh) |
CN (1) | CN101735690B (zh) |
TW (1) | TWI398494B (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9169409B2 (en) | 2008-11-07 | 2015-10-27 | Lg Display Co., Ltd. | Ink composition for imprint lithography and roll printing |
KR101375849B1 (ko) * | 2008-11-07 | 2014-03-18 | 주식회사 동진쎄미켐 | 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
KR20120014501A (ko) * | 2010-08-09 | 2012-02-17 | 삼성전자주식회사 | 패턴 형성 방법 및 액정 표시 장치의 제조방법 |
JP5760412B2 (ja) * | 2010-12-08 | 2015-08-12 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP5756563B2 (ja) * | 2011-04-05 | 2015-07-29 | エルジー・ケム・リミテッド | 印刷組成物及びこれを利用した印刷方法 |
KR102026446B1 (ko) * | 2012-07-20 | 2019-09-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 유기 도전성 조성물 |
JP6237084B2 (ja) * | 2013-10-07 | 2017-11-29 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜及びその形成方法、並びに塩基発生剤 |
KR20150083690A (ko) * | 2014-01-10 | 2015-07-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치의 제조 방법 |
WO2017175661A1 (ja) * | 2016-04-04 | 2017-10-12 | 株式会社ダイセル | スクリーン印刷用インク |
CN110045864B (zh) * | 2019-03-06 | 2021-11-05 | 苏州蓝沛光电科技有限公司 | 种子层的制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070032220A (ko) * | 2005-09-16 | 2007-03-21 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 인쇄용 잉크 및 그 잉크를 사용한 도막의 제조 방법 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4166872A (en) * | 1972-08-31 | 1979-09-04 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Migration-resistant forming size compositions for fibrous glass |
GB1462781A (en) * | 1973-01-16 | 1977-01-26 | Albright & Wilson | Resin composition |
US4060262A (en) * | 1976-03-24 | 1977-11-29 | The Standard Register Company | Record material |
JP2617221B2 (ja) * | 1989-04-06 | 1997-06-04 | 三菱製紙株式会社 | 感熱記録用インク |
IT1269850B (it) * | 1994-05-27 | 1997-04-15 | Enichem Sintesi | Nuovo poli(pentaeritril difosfonato) e suo utilizzo in composizioni polimeriche termoplastiche autoestinguenti |
US5863319A (en) | 1996-12-10 | 1999-01-26 | Markem Corporation | Thermally stable hot melt ink |
JPH11246812A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-14 | Pentel Kk | ボールペン用油性インキ |
US6113679A (en) * | 1998-10-06 | 2000-09-05 | 3M Innovative Properties Company | Piezo inkjet inks and methods for making and using same |
JP2001072901A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-21 | Seiko Epson Corp | 偽造印刷物の判別方法およびこれに用いるインクセット |
JP2001123084A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | 可消色性色素組成物及びその製造方法 |
JP2001164168A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-19 | Tohoku Ricoh Co Ltd | オフセット印刷用インキ及び印刷装置 |
US6517619B1 (en) * | 2000-08-24 | 2003-02-11 | Bic Corporation | Fluorescent inks for writing instruments using fluorescent dyes and white pigments |
KR100846085B1 (ko) * | 2001-10-31 | 2008-07-14 | 주식회사 동진쎄미켐 | 액정표시장치 회로용 포토레지스트 조성물 |
JP3788330B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-06-21 | ぺんてる株式会社 | 塗布具用インキ |
JP3927041B2 (ja) * | 2002-02-01 | 2007-06-06 | パイロットインキ株式会社 | 筆記用消しゴム消去性水性インキ組成物及びそれを内蔵した筆記具 |
JP2005019393A (ja) * | 2003-06-05 | 2005-01-20 | Sharp Corp | 異方性導電物、表示装置、表示装置の製造方法および導電部材 |
JP2005239924A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 変色可能な印刷インキ |
CN1613924A (zh) * | 2004-09-14 | 2005-05-11 | 东华大学 | 含有颜料和染料的数码喷绘油墨及其制备方法 |
JP2006282680A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Toshiba Corp | 画像形成材料 |
KR100960473B1 (ko) * | 2005-06-20 | 2010-05-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정패널의 이송시스템 및 이송방법 |
US20070178237A1 (en) * | 2005-08-02 | 2007-08-02 | Shin Dong M | Method for patterning coatings |
TWI345804B (en) * | 2005-08-17 | 2011-07-21 | Lg Chemical Ltd | Patterning method using coatings containing ionic components |
KR20070062106A (ko) * | 2005-12-12 | 2007-06-15 | 삼성전자주식회사 | 인쇄판, 이의 제조 방법과 이를 포함하는 롤 프린트 장치및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
KR100939611B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-02-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막의 러빙시스템 및 러빙방법, 이를 이용한액정표시소자 제조방법 |
KR100955372B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-04-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널의 절단방법 및 이를 이용한 액정표시패널의제조방법 |
CN1807524A (zh) * | 2006-01-27 | 2006-07-26 | 陆中川 | 一种热固油墨 |
KR20070082110A (ko) * | 2006-02-15 | 2007-08-21 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR20080002517A (ko) * | 2006-06-30 | 2008-01-04 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 패턴된 배향막 및 이를 구비한 액정표시소자, 액정표시소자제조방법 |
JP2008084984A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp | 光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
KR20080057951A (ko) * | 2006-12-21 | 2008-06-25 | 동우 화인켐 주식회사 | 컬러필터 인쇄용 잉크 조성물 |
US8492459B2 (en) * | 2007-12-13 | 2013-07-23 | Lg Display Co., Ltd. | Ink composition and method of forming a pattern using the same |
KR101473877B1 (ko) * | 2007-12-13 | 2014-12-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 잉크 조성물 |
KR101375849B1 (ko) * | 2008-11-07 | 2014-03-18 | 주식회사 동진쎄미켐 | 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 |
-
2008
- 2008-11-07 KR KR20080110624A patent/KR101375849B1/ko active IP Right Grant
-
2009
- 2009-11-06 TW TW98137764A patent/TWI398494B/zh active
- 2009-11-06 JP JP2009255224A patent/JP5437026B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-06 US US12/613,961 patent/US7935552B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-06 CN CN200910220811.1A patent/CN101735690B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-20 US US13/090,895 patent/US20110224335A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070032220A (ko) * | 2005-09-16 | 2007-03-21 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 인쇄용 잉크 및 그 잉크를 사용한 도막의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201026791A (en) | 2010-07-16 |
US7935552B2 (en) | 2011-05-03 |
JP2010111871A (ja) | 2010-05-20 |
KR101375849B1 (ko) | 2014-03-18 |
US20110224335A1 (en) | 2011-09-15 |
US20100120181A1 (en) | 2010-05-13 |
JP5437026B2 (ja) | 2014-03-12 |
KR20100051451A (ko) | 2010-05-17 |
CN101735690B (zh) | 2014-05-14 |
CN101735690A (zh) | 2010-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI398494B (zh) | 油墨組成物及使用該油墨組成物製造液晶顯示裝置之方法 | |
TWI575320B (zh) | A positive-type photosensitive resin composition, a partition wall, and an optical element | |
EP1965257B1 (en) | Photoresist composition, method of forming organic film pattern using the same and display device fabricated thereby | |
CN100565310C (zh) | 制备显示器用阵列板的方法 | |
TW200811205A (en) | Curing resin composition and forming method of curing coating film | |
KR101338676B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 기재 | |
KR20120106086A (ko) | 화학증폭형 포지티브 감광형 유기절연막 조성물 및 이를 이용한 유기절연막의 형성방법 | |
TWI567142B (zh) | 墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法 | |
TWI402619B (zh) | A coloring photosensitive resin composition, a black matrix, a color filter, and a liquid crystal display | |
TW468092B (en) | Radiation-sensitive resin composition for use in spacer, producing method of spacer, spacer and liquid crystal display element | |
TW201120152A (en) | Ink composition. | |
TW201027246A (en) | Photoresist composition | |
KR20090062510A (ko) | 잉크 조성물 | |
JP2010039345A (ja) | 液晶表示装置用樹脂組成物および液晶表示装置用基板の製造方法 | |
US9169409B2 (en) | Ink composition for imprint lithography and roll printing | |
KR102433199B1 (ko) | 포지티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR101062673B1 (ko) | 액정표시소자의 유기절연막 형성용 포지티브형포토레지스트 조성물 | |
JP2007272138A (ja) | レジストパターン形成方法及び感光性樹脂組成物 | |
JP3789926B2 (ja) | ポジ型ホトレジスト組成物 | |
KR101537408B1 (ko) | 잉크 조성물 | |
TW202412021A (zh) | 導電膜的製造方法、分散液、感放射線性樹脂組成物、發光元件 | |
JP2007272002A (ja) | レジストパターン形成方法及び感光性樹脂組成物 | |
JP2006098673A (ja) | 配向制御用突起を有する基板及びそれを用いた液晶表示装置 |