TWI567142B - 墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法 - Google Patents

墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI567142B
TWI567142B TW097148675A TW97148675A TWI567142B TW I567142 B TWI567142 B TW I567142B TW 097148675 A TW097148675 A TW 097148675A TW 97148675 A TW97148675 A TW 97148675A TW I567142 B TWI567142 B TW I567142B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
ether
rosin
butyl
ink composition
methyl
Prior art date
Application number
TW097148675A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200925223A (en
Inventor
金珍郁
李起範
金炳厚
申承協
宋晙溶
李命洙
Original Assignee
樂金顯示科技股份有限公司
東進世美肯股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020070129813A external-priority patent/KR101473877B1/ko
Priority claimed from KR1020080032791A external-priority patent/KR101537408B1/ko
Application filed by 樂金顯示科技股份有限公司, 東進世美肯股份有限公司 filed Critical 樂金顯示科技股份有限公司
Publication of TW200925223A publication Critical patent/TW200925223A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI567142B publication Critical patent/TWI567142B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法
本發明係有關於一種墨水組成及一種使用此墨水組成形成圖案之方法。
一般而言，應用於資料儲存、小尺寸感測器、光學結晶及光學裝置、微電機裝置、顯示裝置、顯示器、以及半導體之形成精細圖案的製程係為攝影平版印刷法(photolithographic method)，其係藉由光線的使用而形成精細圖案。
在習知的攝影平版印刷法中，線路線寬或圖案線寬係取決於使用於曝光程序的光線波長而定。就目前的技術水準而言，由於光線的干擾，使攝影平版印刷法難以在基材上形成70奈米(nm)或更小的精細圖案。再者，當圖案變得超精細時，則必需使用昂貴的設備，例如曝光設備。此將導致起始投資成本的增加以及高解析度遮罩的價格急劇的上升，因此令效能降低。使用昂貴設備所具有的問題為其最終將足以成為另一個成本增加的因素。
此外，必需考量製程時間，因為每當於圖案形成時，需完成曝光、曝光後烘烤、顯像、顯像後烘烤、蝕刻、及清洗等步驟。並且，必需重複數次的光學處理，因此使生產力下降。
目前用於解決這些問題的方法，已發展出壓印平版印刷法(lithographic method)及輪轉印刷技術(roll-printing technique)。壓印平版印刷法是由美國普林斯頓大學的史蒂芬周等人所發明，係為一種形成精細圖案的方法。藉由在具有相對強度的有機材料或高分子的表面上製造所需的形狀，並接著壓印此材料至其他的材料中，以形成圖案化。
更特別地，壓印平版印刷法為一種藉由預備已形成有所需圖案的無機或高分子模具來形成圖案的技術，塗佈有可固化組成物(curable composition)之金屬膜或有機膜面向於此模具，以及熱固化或光固化(photocuring)此模具與可固化組成物。這種壓印平版印刷法依據程序簡化和精細圖案的形成之優點優於攝影平版印刷法相關領域之技藝。
就輪轉印刷技術而言，韓國專利申請第2006-0005482號(早期公開專利第10-2007-76292號)特別揭露一種輪轉印刷設備及一種使用此設備製造顯示裝置的方法。照慣例地，在此所提到的輪轉印刷法係應用於場發射顯示器(field mission displays，FEDs)、有機電激發光裝置(organic electroluminescent devices)、以及電漿顯示面板(plasma display panels，PDPs)，並具有簡單的製程，同時所揭露之圖案的精確度獲得保證，甚至在重複印刷之後。
在輪轉印刷技術中，藉由使用橡皮布(blanket)及鉛板(clich)將圖案直接轉印至所欲形成精細圖案的基材上，以取代攝影平版術之相關技藝中使用於形成圖案的高解析度遮罩。這種輪轉印刷技術藉由利用橡皮布做為圖章來校準，以改善模具的變形量，並且藉由使用熱固性程序來促進生產力和工作效能。此外，這種技術被引喻為大大地減化複雜的程序，此複雜的程序係透過不用的步驟所完成，例如攝影平版術的曝光、顯影等等，以及減少起因於程序複雜性所附帶的程序之支出。
然而，藉由使用壓印技術相關之技藝和輪轉印刷技術以形成精細圖案所使用之墨水組成，若其具有高流動性及蒸發速率，此墨水組成滲入於橡皮布中，因此使橡皮布產生污染。此導致程序的等待時間增加，並降低所使用的橡皮布之可使用次數。
此外，為了移除因橡皮布之污染所產生於墨水組成之雜質，當藉由實體接觸完成清洗操作時，其表面容易因磨擦而損壞。並且，當壓印或輪轉印刷程序在橡皮布之墨水組成尚未被移除時完成，此墨水組成的精細圖案被錯誤的形成於基材上用來成形之一側，或過度的品質缺陷。因此，精細圖案的連續轉印受到限制，並且難以增加精細圖案的精確度。
本發明之目的在於提供一種墨水組成，包含有5至45重量份(parts by weight)之高分子樹脂、5至45重量份之膠黏劑(tackifier)、以及50至90重量份之有機溶劑。
本發明之另一目的在於提供一種墨水組成，此墨水組成係使用於壓印平版印刷程序及輪轉印刷程序，藉由使墨水組成接觸於已形成有圖案之橡皮布，用以轉印圖案於基材上，其中此墨水組成包含一高分子樹脂、一膠黏劑、以及一有機溶劑，橡皮布相對墨水組成於24小時後具有至多百分之(%)5膨潤率(swelling ratio)。
以下將以詳細說明及所附圖式來揭露本發明之實施例。
以下依據本發明之具體實施例將參照於所附加之圖式進行描述。
一實施例
依據本發明之墨水組成包含：5至45重量份之高分子樹脂、5至45重量份之膠黏劑、以及50至90重量份之有機溶劑。此墨水組成如同圖案支撐(pattern support)的作用具有優良圖案形成性能，其係藉由添加膠黏劑以增加黏滯性並有助於維持厚度，並且藉由圖案的轉印率增加，可改善程序的產量和效能。
在本發明的墨水組成中，高分子樹脂係為使用於墨水組成之酚醛樹脂(novolac resin)、丙烯酸樹脂(acrylic resin)或其相似物。酚醛樹脂係藉由芳香醇(aromatic alcohol)與甲醛(formaldehyde)或三聚甲醛(paraformaldehyde)反應合成之高分子，芳香醇包含間甲苯酚(meta cresol)、對甲苯酚(para cresol)、2,3,5-三甲苯酚(2,3,5-trimethyl phenol)、2,3-二甲苯(2,3-xylene)、及3,5-二甲苯(3,5-xylene)。丙烯酸樹脂係藉由一不飽和羧酸(carboxyl acid)、一芳香族單體(aromatic monomer)、一丙烯系單體(acrylic monomer)、及其相似物之聚合反應所獲得。
高分子樹脂所具有之分子量為2,000至40,000，例如為2,000至15,000之分子量。
高分子樹脂相對於墨水組成總100重量份，具有5至45重量份，例如為7至12.5重量份。在上述的重量份範圍中，可提供一 圖案支撐的作用，並藉由圖案的轉印率增加而達到產量和程序效能的改善。
此外，本發明之墨水組成中，膠黏劑增加墨水組成的黏滯性，有助於維持厚度，並增加壓印印刷和輪轉印刷的變形度。同時，可提供一圖案支撐的作用，並藉由圖案的轉印率增加而達到產量和程序效能的改善。
膠黏劑之具體實施例為丁基羥基甲氧苯(butylated hydroxyanisole)、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚(2,6-di-tert-butyl-4-hydroxymethylphenol)、二丁基羥基甲苯(butylated hydroxytoluene)、五倍子酸丙酯(propyl gallate)、五倍子酸月桂酯(lauryl gallate)、五倍子酸辛酯(octyl gallate)、2,4,5-三羥苯丁酮(2,4,5-trihydroxybutyrophenone)、三級丁基氫醌(tert-butylhydroquinone)、酚類，如3-氨基苯酚(3-aminophenol)、4-氨基苯酚(4-aminophenol)、4-甲氧苯酚(4-methoxyphenol)、2,3,5-三甲苯酚(2,3,5-trimethylphenol)、2,4-二甲苯酚(2,4-dimethylphenol)、聚4-乙烯苯酚(poly(4-vinylphenol))、4-溴苯酚(4-bromophenol)及其相似物、醚類，如乙烯基乙醚(ethylvinylether)、聚乙烯基甲醚(poly(methylvinylether))、聚乙烯異丁基醚(poly(isobutylvinylether))及其相似物、聚對氫氧基苯乙烯(poly-(p-hydroxy)styrene)、1,1-雙(4-羥苯)癸烷(1,1-bis(4-hydroxyphenyl)decane)、4,4-[1-[4-[1-(1,4-羥苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(4,4-[1-[4-[1-(1,4-hydroxyphenyl)-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bi sphenol)、4,4-[(2-羥苯基)亞甲基]雙[2,6-二甲苯酚](4,4-[2-hydroxyphenyl]methylene]bis[2,6-dimethylphenol])、具有平均分子量為100至1,500之丙烯酸胺脂(urethane acrylate)、以及胺基甲酸酯寡聚物(urethane oligomer)，其可單獨地使用或以至少二種上述膠黏劑之混合物來使用。
在本發明之墨水組成中，膠黏劑所具的範圍為5至45重量份，例如為7至12.5重量份。
在上述的範圍中，墨水組成的厚度以及壓印印刷與輪轉印刷的變形量增加，且提供一圖案支撐的作用，並藉由圖案的轉印率增加而達到產量和程序效能的改善。
此外，本發明之墨水組成中，有機溶劑具有可輕易地溶解高分子樹脂、膠黏劑和添加劑的能力，添加劑例如為可見的化合物(visible compound)，其係視需要而附加地使用。
具體而言，有機溶劑為醇類(alcohols)，如甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、乙二醇(ethylene glycol)、三乙二醇(triethylene glycol)、四乙二醇(tetraethylene glycol)、丙二醇(propylene glycol)、二乙二醇(diethylene glycol)、丁二醇(butanediol)、苯甲醇(benzyl alcohol)、正己醇(hexyl alcohol)及其相似物、醚類(ethers)，如碳酸丙烯(propylene carbonate)、四氫呋喃(tetrahydrofuran)、甲氧苯(methoxybenzene)、1,4-二氧陸圜(1,4-dioxane)、單甲氧基丙二醇(1-methoxy-2-propanol)、二丁基醚(dibutylether)、二苯酚醚(diphenolether)及其相似物、酯類(esters)，如乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丙酯(propyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)、丙酸乙酯(ethyl propionate)、乙酯(ethyl ester)、丁酯(butyl ester)、二羥基異丁酸甲酯(methyl-2-hydroxyisobutyrate)、甲氧基乙酸丙酯(2-methoxy-1-methylethylester)、2-甲氧基乙酸乙酯(2-methoxyethanolacetate)、乙二醇乙醚醋酸酯(2-ethoxyetahnoacetate)及其相似物、乙二醇烷基醚乙酸酯類(ethylene glycol alkyl ether acetates)，如乙二醇甲醚乙酸酯(ethylene glycol methyl ether acetate)、乙二醇乙醚乙酸酯(ethylene glycol ethyl ether acetate)、及其相似物：乙二醇烷基乙醚丙酸酯類(ethylene glycol alkyl ether propionates)，如乙二醇乙醚丙酸酯(ethylene glycol ethyl ether propionate)及其相似物、乙二醇單烷基醚類(ethylene glycol monoalkyl ethers)，如乙二醇甲醚(ethylene glycol methyl ether)、乙二醇乙醚(ethylene glycol ethyl ether)及其相似物、二乙二醇烷基醚類(diethylene glycol alkyl ethers)，如二乙二醇單甲基醚(diehtylene glycol monomethyl ether)、二乙二醇單乙基醚(diethylene glycol monoethyl ether)及其相似物、丙二醇烷基醚乙酸酯類(propylene glycol alkyl ether acetates)，如丙二醇甲醚乙酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)、丙二醇乙醚乙酸酯(propylene glycol ethyl ether acetate)、丙二醇丙醚乙酸酯(propylene glycol propyl ether acetate)及其相似物、丙二醇烷基醚丙酸酯類(propylene glycol alkyl ether propionates)，如丙二醇甲醚丙酸酯(propylene glycol methyl ether propionate)、丙二醇乙醚丙酸酯(propylene glycol ethyl ether propionate)、丙二醇丙醚丙酸酯(propylene glycol propyl ether propionate)及其相似物、丙二醇單烷基醚類(propylene glycol monoalkyl ethers)，如丙二醇甲醚(propylene glycol methyl ether)、丙二醇乙醚(propylene glycol ethyl ether)、丙二醇丙醚(propylene glycol propyl ether)、丙二醇丁醚(propylene glycol butyl ether)及其相似物、二丙二醇烷基醚類(dipropylene glycol alkyl ethers)，如二丙二醇二甲基醚(dipropylene glycol dimethyl ether)、二丙二醇二乙基醚(dipropylene glycol diethyl ether)及其相似物、丁二醇單烷基醚類(butylenes glycol monoalkyl ethers)，如丁二醇單甲基醚(butylene glycol monomethyl ether)、丁二醇單乙基醚(butylene glycol monoethyl ether)及其相似物、以及二丁二醇烷基醚類(dibutylene glycol alkyl ethers)，如二丁二醇二甲基醚(dibutylene glycol dimethyl ether)、二丁二醇二乙基醚(dibutylene glycol diethyl ether)及其相似物，其可單獨地使用或以至少二種上述有機溶劑之混合物來使用。特別地，至少二種有機溶劑之混合物比單獨一種有機溶劑更有益於圖案轉印，此混合物係做為促進橡皮布上塗佈效能之有機溶劑。
在墨水組成中，有機溶劑具有50至90重量份，例如為70至80重量份。在上述之範圍中，可同時達成可溶性與程序的效能。
依據本發明用於壓印印刷法和輪轉印刷技術之墨水組成，包含上述之成分外更進一步包含一界面活性劑或添加劑。
界面活性劑之作用係防止墨水於橡皮布上形成污染或穿孔印記，並獲得精細塗佈性質。
界面活性劑包含矽基(silicon-based)界面活性劑或硼基(boron-based)界面活性劑，如過氟化烷基寡聚物(perfluoroalkyl oligomer)，並且相對於墨水組成之100總重量份，界面活性劑的含量為0.01至3重量份，例如為0.1至1.5重量份。
添加劑包含黏著敏化劑(adhesive sensitizer)或可見的化合物。
黏著敏化劑係用以提高最下層的黏著性。如同於黏著敏化劑，可以一般之三聚氰腋基交聯試劑(melamine-based crosslinking agent)來使用。三聚氰胺基交聯試劑包含尿素和甲醛的濃縮產物、三聚氰胺和甲醛的濃縮產物、以及羥甲基尿素烷基醚(methylol urea alkyl ether)或由醇獲得之羥甲基三聚氰胺烷基醚(methylol melamine alkyl ether)等。
具體而言，如同於尿素和甲醛的濃縮產物，可使用單羥甲基尿素(monomethylol urea)、二羥甲基尿素(dimethylol urea)及其相似物。如同於三聚氰胺和甲醛的濃縮產物，可使用六羥甲三聚氰胺(hexamethylol melamine)。此外，三聚氰胺和甲醛部分的濃縮產物同樣可被使用。再者，羥甲基尿素烷基醚係藉由尿素和甲醛之濃縮產物的部份或全部之羥甲基基團(methylol group)與醇反應後獲得，並且在具體實施例中包含單甲基尿素甲醚(monomethyl urea methyl ether)、二甲基尿素甲醚(dimethyl urea methyl ether)及其相似物。羥甲基烷基醚係藉由美而皿和甲醛的濃縮產物之部分或全部的羥甲基基團與醇反應後獲得，並且在具體實施例中包含六羥甲三聚氰胺六甲基醚(hexamethylolmelamine hexamethyl ether)、六羥甲三聚氰胺六丁基醚(hexamethylolmelamine hexabutyl ether)及其相似物。此外，可使用具有羥甲基基團(hydroxymethyl group)及甲氧甲基基團(methoxymethyl group)取代三聚氰胺之氨基團(amino group)的氫原子之結構的化合物、以及具有丁氧甲基基團(butoxymethyl group)及甲氧甲基基團取代三聚氰胺之氨基團的氫原子之結構的化合物、及其相似物。特別地，使用羥甲基三聚氰胺烷基醚。
若黏著敏化劑被做為添加劑，其相對於墨水組成之100總重量份，其具有0.01至5重量份，例如為0.5至2.5重量份。在上述之範圍中，本發明之墨水組成對於最下方的基材具有良好的黏著性，並用以在隨後的蝕刻程序中保護圖案下方的金屬層。
可見的化合物藉由使用染料、顏料、或感光的化合物來取得墨水組成的能見度，藉由溶解高分子樹脂達到良好的圖案轉印效能，以及在所需的基材上輕易的獲得黏著力。
如同於可見的化合物，大利松(diazide)化合物，如藉由以2-重氮-1-萘酚-5-磺酸(2-diazo-1-naphthol-5-sulfonic)酯化(esterify)三羥基二甲苯酮(trihydroxybenzophenone)所製備之2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸(2,3,4-trihydroxybenzophenone-1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonate)、以2-重氮-1-萘酚-5-磺酸酯化四羥基二甲苯酮(tetrahydroxybenzophenone)所製備之2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮-1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸(2,3,4,4’-tetrahydroxybenzophenone 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonate)及其相似物，可單獨地使用或以其混合物來使用。
若可見的化合物係做為添加劑使用，於本發明中相對墨水組成之100總重量份中，其含有0.1至3重量份，例如為0.5至2.0重量份。
本發明之墨水組成含有上述的成分，可以習知典型的壓印印刷程序(例如韓國早期公開專利第10-2005-0019557號)以及輪轉印刷程序(例如韓國早期公開專利第10-2007-0076292)應用於圖案的成形，因此形成圖案於基材上。
在一具體實施施例中，墨水組成藉由適當方法塗布的厚度為0.5至10微米(μm)，此方法如旋轉塗佈(spin coating)、滾筒塗層(roller coating)、以及狹縫塗佈(slit coating)。然後，在壓印印刷程序中，於墨水組成接觸於已具有所需形狀圖案之橡皮布圖章後，圖案被轉印至基材上，例如為矽基材、陶瓷基材、金屬層、高分子層。另一方面，在輪轉印刷程序中，墨水組成藉由使用已具有所需形狀圖案之鉛板而接觸於橡皮布後，圖案被轉印至基材上，例如為矽基材、陶瓷基材、金屬層、高分子層。
接著，使用紫外線完成光固化程序，或以熱處理於90至200℃(攝氏溫度)完成熱固化程序，或同時地完在光固化程序及熱固化程序。熱處理程序的完成係為了在不熱分解墨水組成之固態成分下使溶劑蒸發。一般而言，透過熱處理程序最小化溶劑的濃度，並且在墨水膜遺留於基材上之厚度為至多10微米時完成熱處理程序。上述之程序增加墨水膜與基材之間的黏著性與耐化學性。在上述程序中之基材，其曝露區域已先完成腐蝕溶液或氣體膜的處理。此時，基材未曝露區域受到墨水膜的保護。以此方法處理後之基材，藉由適當的剝離劑移除墨水膜而於基材上形成精細線路圖案。
實施例一與實施例二，以及相對實施例一與相對實施例二之墨水組成係依據下列表一所示之成分與組成同時混合製備，並於完成後在室溫下超過24小時。表一中之單位為重量份。
在表一中，實施例一、二之高分子樹脂為酚醛樹脂，有機溶劑為甲醇，界面活性劑為矽界面活性劑，以及添加劑為六羥甲三聚氰胺六甲基醚。
另一方面，高分子樹脂為丙烯酸樹脂，有機溶劑為1,4-二氧陸圜，界面活性劑為硼界面活性劑，以及添加劑為單甲基尿素甲醚，並同樣的，高分子樹脂為酚醛樹脂和丙烯酸樹脂的混合物，有機溶劑為2-甲氧基乙酸乙酯，界面活性劑為硼界面活性劑，以及添加劑為六羥甲三聚氰胺六丁基醚。
實施例一與實施例二，以及相對實施例一與相對實施例二之墨水組成的物理性質由下列之方法測定。
A.精細圖案轉印率
實施例一與實施例二，以及相對實施例一與相對實施例二之墨水組成以不具圖案的方式塗佈於橡皮布上。在自然乾燥20秒後，透過鉛板轉印精細圖案於基材上以形成為橡皮布，圖案的轉印率如下表二所示。其依據在100個具有1×1mm(毫米)尺寸的細胞中之圖案形成，明確的劃分轉印率為0至100%。
如表二所示，可發現本發明之墨水組成於實施例一及實施例二中使用膠黏劑，顯示出良好的圖案轉印率，為95%或更高。
B.圖案形成之精確度
實施例一與實施例二，以及相對實施例一與相對實施例二之墨水組成以不具圖案的方式塗佈於橡皮布上。在一預定時間自然乾燥後，透過鉛板使精細圖案轉印至基材上以形成為橡皮布。接著，將精細圖案轉印完成之基材於高溫下熱處理一預定時間，並接著浸入於40℃之鋁蝕刻溶液一預定時間後乾燥之。然後，以掃描電子顯微鏡分析其表面的精細圖案，分析結果分別如「第1圖」至「第4圖」所示。同時，精細圖案部分與下方基材之間的黏著力之測量如表三所示。精細圖案部分與底層基材之間的黏著力，依據層級被劃分為0至100%。
如「第1圖」至「第4圖」所示，依據本發明之實施例一之墨水組成(如「第1圖」所示)與實施例二之墨水組成(如「第2圖」所示)，在形成相同圖案時顯示出良好的圖案形成之精確度。另一方面，在相對實施例一、二中則發現其圖案形成並未精確地顯現。
如表三所示，依據本發明實施例一(如「第1圖」所示)和實施例二(如「第2圖」所示)之墨水組成，相較於相對實施例一、二，顯示出相當良好的黏著力。
另一實施例
本發明同時關於一種形成圖案的方法，係以壓印印刷程序和 輪轉印刷技術，藉由將墨水組成接觸於已具有圖案之橡皮布而轉印圖案於一基材上，其中墨水組成包含一高分子樹脂、一膠黏劑、以及一有機溶劑，橡皮布相對墨水組成於24小時後具有至多5%之膨潤率。橡皮布於24小時後之膨潤率相對於墨水組成為至多5%。墨水組成包含5至45重量份之高分子樹脂、5至45重量份之膠黏劑、以及50至90重量份之有機溶劑。
橡皮布相對墨水組成於24小時後之膨潤率，係指橡皮布之起始重量與橡皮布浸入於墨水組成24小時後，於墨水組成中取出並以甲醇清洗、稱重後所測得的重量之間的差值比率{膨潤率(%)=[(橡皮布於清洗後的重量(克，g)-橡皮布的起始重量(克))/橡皮布的起始重量(克)]×100}。本發明之橡皮布於24小時後之膨潤率相對於墨水組成為至多5%，例如為4%。
在本發明的墨水組成中，高分子樹脂係為使用於墨水組成之酚醛樹脂、丙烯酸樹脂或其相似物。酚醛樹脂係藉由芳香醇與甲醛或三聚甲醛反應合成之高分子，芳香醇包含間甲苯酚、對甲苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,3-二甲苯、及3,5-二甲苯。丙烯酸樹脂係藉由一不飽和羧酸、一芳香族單體、一丙烯系單體、及其相似物之聚合反應所獲得。
高分子樹脂所具有之分子量為2,000至100,000，例如為2,000至45,000之分子量。
高分子樹脂相對於墨水組成總100重量份，具有5至45重量份，例如為7至12.5重量份。在上述的重量份範圍中，可提供一圖案支撐的作用，並藉由圖案的轉印率增加而達到產量和程序效能的改善。
此外，本發明之墨水組成中，膠黏劑增加墨水組成的黏滯性，有助於維持厚度，並增加壓印印刷和輪轉印刷的變形度。同時，可提供一圖案支撐的作用，並藉由圖案的轉印率增加而達到產量和程序效能的改善。
膠黏劑之具體實施例為丁基羥基甲氧苯、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚、二丁基羥基甲苯、五倍子酸丙酯、五倍子酸月桂酯、五倍子酸辛酯、2,4,5-三羥苯丁酮、三級丁基氫醌、酚類，如3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、4-甲氧苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、聚4-乙烯苯酚、4-溴苯酚及其相似物、醚類，如乙烯基乙醚、聚乙烯基甲醚、聚乙烯異丁基醚及其相似物、聚對氫氧基苯乙烯、1,1-雙(4-羥苯)癸烷、4,4-[1-[4-[1-(1,4-羥苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、4,4-[(2-羥苯基)亞甲基]雙[2,6-二甲苯酚]、四(亞甲基(3,5-雙三級丁基-4-羥基氫化肉桂酸))甲烷(tetrakis(methylene(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate))methane)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)苯(1,3,5-trimethyl-2,4,6--tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene)、三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)異三聚氰酸(tris-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanuate)、十八烷基3-(3’,5’-雙第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯(octadecyl 3-(3',5'-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate)、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚(2,5-bis(1,1-dimethylpropyl)-1,4-benzenediol)、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷(1,1,3-tris(2 methyl)-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl butane)、三乙二醇-雙-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯(triethyleneglycol-bis-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionate)、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-(1-甲基環己基)酚)(2,2-methylenebis(4-methyl-6-(1-methylcyclohexyl)phenol))、三(2,4-雙三級丁基苯基)磷酸(tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphate)，其可單獨地使用或以至少二種上述膠黏劑之混合物來使用。此外，習知的松香基樹脂(rosin-based rosins)，包含未經修飾(unmodified)的松香如松脂膠(gum rosins)、木松香(wood rosins)、以及妥爾油松香(tall oil rosins)、經修飾的松香如聚合松脂(polymerized rosins)、歧化松脂(disproportionated rosins)、安定松香(stabilized rosins)、完全氫化松香(completely hydrogenated rosins)、部分氫化松香(partially hydrogenated rosins)、以及其他化學修飾的松香，例如不同的松香衍生物及其相似物，皆可被選擇使用。松香衍生物，如以不飽和脂肪酸修飾之松香基樹脂、以不飽和脂肪酸修飾之松香酯基(rosin ester-based)樹脂、松香醇基(rosin alcohol-based)樹脂、松香基樹脂之金屬鹽類可供使用。
除此之外，具有平均分子量為1,000至5,000之胺基甲酸酯寡聚物可單獨地使用或以至少其二種類型之混合物來使用。
在本發明之墨水組成中，所含有的膠黏劑所範圍為5至45重量份，例如為7至12.5重量份。在上述之範圍中，墨水組成之厚度以及壓印印刷及輪轉印刷的變形量可被調整，並提供一圖案支撐的作用，同時藉由圖案轉印率的增加而達到改善產量和程序效能的目的。
此外，在本發明之墨水組成中，有機溶劑係能輕易的溶解高分子樹脂、膠黏劑、以及添加劑，例如視需求額外添加的可見的化合物。橡皮布在24小時後相對於有機溶劑的膨潤率為至多5%。
有機溶劑係為乙腈(acetonitrile)、二甲基亞楓(dimethyl sulfoxide)、硝甲烷(nitromethane)、二甲基甲醯胺(dimethylformamide)、酚、N-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)、吡啶全氟三丁基胺(pyridine perfluorotributylamine)、全氟萘烷(perfluorodecalin)、2-丁酮(2-butanone)、醇類，如甲醇、乙醇、乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、丙二醇、二乙二醇、丁二醇、苯甲醇、正己醇及其相似物、醚類，如碳酸丙烯、四氫呋喃、甲氧苯、1,4-二氧陸圜、單甲氧基丙二醇、二丁基醚、二苯酚醚及其相似物、乙二醇單烷基醚類，如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚及其相似物、二乙二醇烷基醚類，如二乙二醇單甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚及其相似物、丙二醇單烷基醚類，如丙二醇甲醚、丙二醇丁醚及其相似物、二丙二醇烷基醚類，如二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚及其相似物、丁二醇單烷基醚類，如丁二醇單甲基醚、丁二醇單乙基醚及其相似物、以及二丁二醇烷基醚類，如二丁二醇二甲基醚、二丁二醇二乙基醚及其相似物，其可單獨地使用或以至少二種上述有機溶劑之混合物來使用。特別地，至少二種有機溶劑之混合物比單獨一種有機溶劑更有益於圖案轉印，此混合物係做為促進橡皮布上塗佈效能之有機溶劑。
在墨水組成中，有機溶劑具有50至90重量份，例如為70至80重量份。在上述之範圍中，可同時達成可溶性與程序的效能。
依據本發明用於壓印印刷法和輪轉印刷技術之墨水組成，包含上述之成分外更進一步包含如前述之界面活性劑或添加劑。
橡皮布係以聚二甲基矽膠(poly dimethyl siloxzne，PDMS)形成。
實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四之墨水組成係依據下列表四所示之成分與組成同時混合製備，並於完成後在室溫下超過24小時。表四中之單位為克。
在表四中所使用之高分子樹脂為具有平均分子量7,000之酚醛樹脂，膠黏劑為丁基羥基甲氧苯，界面活性劑為矽界面活性劑，添加劑為六羥甲三聚氰胺六甲基醚，並且有機溶劑之混合比率為重量比。
於表四中之實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四的墨水組成之物理性質由下列方法測定。
A.橡皮布與墨水組成之膨潤率
將橡皮布切割成50×50之尺寸大小，完全浸入於實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四之墨水組成中24小時後，以甲醇清洗。然後，根據初始重量與最終重量的比率來測定膨潤率，並顯示於下表五中。
膨潤率(%)=[(橡皮布於清洗後的重量(克，g)-橡皮布的起始重量(克))/橡皮布的起始重量(克)]×100。
如表五所示，依據本發明實施例三、四之墨水組成，其顯示極小量的滲透過橡皮布，而相對實施例三、四則顯示出嚴重的膨潤現象，其膨潤率至少為1.4%。
B.精細圖案轉印率
實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四之墨水組成以不具圖案的方式塗佈於橡皮布上。在自然乾燥20秒後，透過鉛板轉印精細圖案於基材上以形成為橡皮布，圖案的轉印率如下表六所示。其依據在100個具有1×1mm尺寸的細胞中之圖案形成，明確的劃分轉印率為0至100百分比(%)。
如表六所示，依據本發明實施例三、四之墨水組成顯示至少96%的良好圖案轉印率。
C.圖案形成精確度
實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四之墨水組成以不具圖案的方式塗佈於橡皮布上。在一預定時間自然乾燥後，透過鉛板使精細圖案轉印至基材上以形成為橡皮布。接著，將精細圖案轉印完成之基材於高溫下熱處理一預定時間，並接著浸入於40℃之鋁蝕刻溶液一預定時間後，取出並乾燥。然後，以掃描電子顯微鏡分析其表面的精細圖案，其分析結果分別如「第5圖」至「第8圖」所示。
如「第5圖」至「第8圖」所示，依據本發明之實施例三之墨水組成(如「第5圖」所示)與實施例四之墨水組成(如「第6圖」所示)，在形成相同圖案時顯示出良好的圖案形成之精確度。另一方面，在相對實施例三、四中則發現其圖案形成並未精確地顯現。
D.墨水組成之等待時間
實施例三與實施例四，以及相對實施例三與相對實施例四之墨水組成以不具圖案的方式塗佈於橡皮布上。在一預定時間自然乾燥後，透過鉛板使精細圖案轉印至基材上以形成為橡皮布。接著，將精細圖案轉印完成之基材於高溫下熱處理一預定時間，並接著浸入於40℃之鋁蝕刻溶液一預定時間後，取出並乾燥。接著，根據圖案形成之轉印率來測量等待時間，其結果顯示於下表七。表七中之單位為%。
如表七所示，依據本發明之實施例三、四之墨水組成的等待時間小於90秒，其顯示出良好的圖案轉印率。另一方面，依據本發明之相對實施例三、四之墨水組成，當等待時間超過30秒時，其圖案的轉印率分別為30%和11%，並且於40秒後不具有轉印率。因此，本發明之墨水組成大大的改善了等待時間。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
第1圖和第2圖為依據本發明之一實施例的精細圖案表面之示意圖；
第3圖和第4圖為依據本發明之一相對實施例的精細圖案表面之示意圖；
第5圖和第6圖為依據本發明之另一實施例的精細圖案表面之示意圖；以及
第7圖和第8圖為依據本發明之另一相對實施例的精細圖案表面之示意圖。

Claims (16)

  1. 一種墨水組成，包含有：5至45重量份之高分子樹脂；5至45重量份之膠黏劑；以及50至90重量份之有機溶劑，該墨水組成更包含：相對該墨水組成之總100重量份之0.01至5重量份之黏著敏化劑，該黏著敏化劑為三聚氰胺基交聯試劑；其中，該高分子樹脂係選自由酚醛樹脂、丙烯酸樹脂、及其混合物所組成之族群之至少其中之一；其中，該膠黏劑係選自由丁基羥基甲氧苯、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚、二丁基羥基甲苯、五倍子酸丙酯、五倍子酸月桂酯、五倍子酸辛酯、2,4,5-三羥苯丁酮、三級丁基氫醌、4-甲氧苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、聚4-乙烯苯酚、4-溴苯酚、乙烯基乙醚、聚乙烯基甲醚、聚乙烯異丁基醚、聚對氫氧基苯乙烯、1,1-雙(4-羥苯)癸烷、四(亞甲基(3,5-雙三級丁基-4-羥基氫化肉桂酸))甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)苯、三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)異三聚氰酸、十八烷基3-(3’,5’-雙第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、三乙二醇-雙-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯、2,2-亞甲基 雙(4-甲基-6-(1-甲基環己基)酚)、三(2,4-雙三級丁基苯基)磷酸、具有平均分子量為1,000至5,000之胺基甲酸酯寡聚物、松脂膠、木松香、妥爾油松香、聚合松脂、歧化松脂、安定松香、完全氫化松香、部分氫化松香、以不飽和脂肪酸修飾之松香基樹脂、以不飽和脂肪酸修飾之松香酯基樹脂、松香醇基樹脂、松香基樹脂之金屬鹽類、及其混合物所組成之族群之至少其中之一。
  2. 如請求項1所述之墨水組成，其中該三聚氰胺基交聯試劑包含尿素和甲醛的濃縮產物、三聚氰胺和甲醛的濃縮產物、以及羥甲基尿素烷基醚或由醇獲得之羥甲基三聚氰胺烷基醚。
  3. 如請求項1所述之墨水組成，其中該三聚氰胺基交聯試劑為六羥甲三聚氰胺六甲基醚或六羥甲三聚氰胺六丁基醚。
  4. 如請求項1所述之墨水組成，其中該膠黏劑係選自由丁基羥基甲氧苯、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚、二丁基羥基甲苯、五倍子酸丙酯、五倍子酸月桂酯、五倍子酸辛酯、2,4,5-三羥苯丁酮、三級丁基氫醌、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、4-甲氧苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、聚4-乙烯苯酚、4-溴苯酚、乙烯基乙醚、聚乙烯基甲醚、聚乙烯異丁基醚、聚對氫氧基苯乙烯、1,1-雙(4-羥苯)癸烷、4,4-[1-[4-[1-(1,4-羥苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、4,4-[(2-羥苯基)亞甲基]雙[2,6-二甲苯酚]、四(亞甲基(3,5-雙三級丁基-4-羥基氫化肉桂酸))甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)苯、三-(3,5-雙 三級丁基-4-羥芐基)異三聚氰酸、十八烷基3-(3’,5’-雙第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、三乙二醇-雙-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-(1-甲基環己基)酚)、三(2,4-雙三級丁基苯基)磷酸、具有平均分子量為100至1,500之丙烯酸胺脂、具有平均分子量為1,000至5,000之胺基甲酸酯寡聚物、松脂膠、木松香、妥爾油松香、聚合松脂、歧化松脂、安定松香、完全氫化松香、部分氫化松香、以不飽和脂肪酸修飾之松香基樹脂、以及以不飽和脂肪酸修飾之松香酯基樹脂、松香醇基樹脂、松香基樹脂之金屬鹽類所組成之族群之至少其中之一。
  5. 如請求項1所述之墨水組成，其中該有機溶劑係選自由乙腈、二甲基亞楓、硝甲烷、二甲基甲醯胺、酚、N-甲基吡咯烷酮、吡啶全氟三丁基胺、全氟萘烷、2-丁酮、甲醇、乙醇、乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、丙二醇、二乙二醇、丁二醇、苯甲醇、正己醇、碳酸丙烯、四氫呋喃、甲氧苯、1,4-二氧陸圜、單甲氧基丙二醇、二丁基醚、二苯酚醚、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙酸乙酯、乙酯、丁酯、二羥基異丁酸甲酯、甲氧基乙酸丙酯、2-甲氧基乙酸乙酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇 甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、丁二醇單甲基醚、丁二醇單乙基醚、二丁二醇二甲基醚、以及二丁二醇二乙基醚所組成之族群之至少其中之一。
  6. 如請求項1所述之墨水組成，更包含相對該墨水組成之總100重量份之0.01至3重量份之矽基界面活性劑或過氟化烷基寡聚物界面活性劑其中之一。
  7. 一種使用請求項1至6任一項所述之墨水組成形成圖案之方法。
  8. 如請求項7所述之使用請求項1至6任一項所述之墨水組成形成圖案之方法，其中該圖案係藉由壓印平版印刷法或輪轉印刷技術其中之一所形成。
  9. 如請求項7所述之使用請求項1至6任一項所述之墨水組成形成圖案之方法，其中該墨水組成之塗佈厚度為0.5至10微米。
  10. 一種形成圖案之方法，係用於轉印一圖案於一基材上之壓印平版印刷程序或輪轉印刷程序其中之一，其係藉由使墨水組成接觸於已形成有圖案之一橡皮布，而轉印該圖案於該基材上；其中該墨水組成，包含有：5至45重量份之高分子樹脂；5至45重量份之膠黏劑；以及50至90重量份之有機溶劑，該墨水組成更包含：相對該墨水組成之總100重量份之0.01 至5重量份之黏著敏化劑，該黏著敏化劑為三聚氰胺基交聯試劑，該橡皮布相對該墨水組成於24小時後具有至多百分之5膨潤率；其中，該高分子樹脂係選自由酚醛樹脂、丙烯酸樹脂、及其混合物所組成之族群之至少其中之一；其中，該膠黏劑係選自由丁基羥基甲氧苯、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚、二丁基羥基甲苯、五倍子酸丙酯、五倍子酸月桂酯、五倍子酸辛酯、2,4,5-三羥苯丁酮、三級丁基氫醌、4-甲氧苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、聚4-乙烯苯酚、4-溴苯酚、乙烯基乙醚、聚乙烯基甲醚、聚乙烯異丁基醚、聚對氫氧基苯乙烯、1,1-雙(4-羥苯)癸烷、四(亞甲基(3,5-雙三級丁基-4-羥基氫化肉桂酸))甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)苯、三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)異三聚氰酸、十八烷基3-(3’,5’-雙第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、三乙二醇-雙-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-(1-甲基環己基)酚)、三(2,4-雙三級丁基苯基)磷酸、具有平均分子量為1,000至5,000之胺基甲酸酯寡聚物、松脂膠、木松香、妥爾油松香、聚合松脂、歧化松脂、安定松香、完全氫化松香、部分氫化松香、以不飽和脂肪酸修飾之松香基樹脂、以不飽和脂肪酸修飾之松香酯基樹脂、松香醇基樹脂、 松香基樹脂之金屬鹽類、及其混合物所組成之族群之至少其中之一。
  11. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該三聚氰胺基交聯試劑包含尿素和甲醛的濃縮產物、三聚氰胺和甲醛的濃縮產物、以及羥甲基尿素烷基醚或由醇獲得之羥甲基三聚氰胺烷基醚。
  12. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該三聚氰胺基交聯試劑為六羥甲三聚氰胺六甲基醚或六羥甲三聚氰胺六丁基醚。
  13. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該膠黏劑係選自由丁基羥基甲氧苯、2,6-雙三級丁基-4-羥甲基酚、二丁基羥基甲苯、五倍子酸丙酯、五倍子酸月桂酯、五倍子酸辛酯、2,4,5-三羥苯丁酮、三級丁基氫醌、3-氨基苯酚、4-氨基苯酚、4-甲氧苯酚、2,3,5-三甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、聚4-乙烯苯酚、4-溴苯酚、乙烯基乙醚、聚乙烯基甲醚、聚乙烯異丁基醚、聚對氫氧基苯乙烯、1,1-雙(4-羥苯)癸烷、4,4-[1-[4-[1-(1,4-羥苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、4,4-[(2-羥苯基)亞甲基]雙[2,6-二甲苯酚]、四(亞甲基(3,5-雙三級丁基-4-羥基氫化肉桂酸))甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)苯、三-(3,5-雙三級丁基-4-羥芐基)異三聚氰酸、十八烷基3-(3’,5’-雙第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯、2,5-雙(1,1-二甲基丙基)-1,4-苯二酚、1,1,3-三(2-甲基)-4-羥基-5-三級丁基苯基丁烷、三乙二醇-雙-(3-三級丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸酯、2,2-亞甲基雙(4-甲基 -6-(1-甲基環己基)酚)、三(2,4-雙三級丁基苯基)磷酸、具有平均分子量為100至1,500之丙烯酸胺脂、具有平均分子量為1,000至5,000之胺基甲酸酯寡聚物、松脂膠、木松香、妥爾油松香、聚合松脂、歧化松脂、安定松香、完全氫化松香、部分氫化松香、以不飽和脂肪酸修飾之松香基樹脂、以及以不飽和脂肪酸修飾之松香酯基樹脂、松香醇基樹脂、松香基樹脂之金屬鹽類所組成之族群之至少其中之一。
  14. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該有機溶劑係選自由乙腈、甲醇、乙醇、碳酸丙烯、甘油、二甲基亞楓、硝甲烷、二甲基甲醯胺、酚、N-甲基吡咯烷酮、吡啶全氟三丁基胺、全氟萘烷、2-丁酮、甲醇、乙醇、乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、丙二醇、二乙二醇、丁二醇、苯甲醇、正己醇、碳酸丙烯、四氫呋喃、甲氧苯、1,4-二氧陸圜、單甲氧基丙二醇、二丁基醚、二苯酚醚、乙酸丙酯、丙酸乙酯、乙酯、丁酯、二羥基異丁酸甲酯、甲氧基乙酸丙酯、2-甲氧基乙酸乙酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、丁二醇單甲基醚、丁二醇單乙基醚、二丁二醇二甲基醚、以及二丁二醇二乙基醚 所組成之族群之至少其中之一。
  15. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該墨水組成更包含相對該墨水組成之總100重量份之0.01至3重量份之矽基界面活性劑或過氟化烷基寡聚物界面活性劑其中之一。
  16. 如請求項10所述之形成圖案之方法，其中該墨水組成之塗佈厚度為0.5至10微米。
TW097148675A 2007-12-13 2008-12-12 墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法 TWI567142B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070129813A KR101473877B1 (ko) 2007-12-13 2007-12-13 잉크 조성물
KR1020080032791A KR101537408B1 (ko) 2008-04-08 2008-04-08 잉크 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200925223A TW200925223A (en) 2009-06-16
TWI567142B true TWI567142B (zh) 2017-01-21

Family

ID=40845099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097148675A TWI567142B (zh) 2007-12-13 2008-12-12 墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8492459B2 (zh)
JP (1) JP4975008B2 (zh)
TW (1) TWI567142B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9169409B2 (en) * 2008-11-07 2015-10-27 Lg Display Co., Ltd. Ink composition for imprint lithography and roll printing
KR101375849B1 (ko) * 2008-11-07 2014-03-18 주식회사 동진쎄미켐 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
KR101799528B1 (ko) * 2010-05-25 2017-11-20 엘지디스플레이 주식회사 오프 셋 인쇄용 블랙매트릭스용 잉크 및 이용한 컬러필터 기판의 제조 방법
JP5679445B2 (ja) * 2011-06-14 2015-03-04 信越化学工業株式会社 凹凸パターン形成方法
CA2849767C (en) * 2011-09-23 2019-10-29 Sun Chemical Corporation Additives to litho inks to eliminate ink feedback
JP5932500B2 (ja) * 2012-06-05 2016-06-08 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003038525A1 (en) * 2001-10-31 2003-05-08 Dongjin Semichem Co., Ltd. Positive photoresist composition for liquid crystal device
US6881529B2 (en) * 2001-05-14 2005-04-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist transfer material and method for processing surface of substrate using the transfer material
US20070048662A1 (en) * 2005-08-23 2007-03-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Photoresist composition and method of manufacturing a thin-film transistor substrate using the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03155554A (ja) * 1989-11-14 1991-07-03 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 放射線感応性樹脂組成物
US6730149B2 (en) * 2001-01-22 2004-05-04 Ricoh Company Limited Ink composition and inkjet recording method and apparatus using the ink composition
JP3710717B2 (ja) * 2001-03-06 2005-10-26 東京応化工業株式会社 厚膜用ポジ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法
AUPR853401A0 (en) 2001-10-29 2001-11-29 Arnold, Phillip John Harmonic synchroniser system
JP2003307850A (ja) 2002-04-15 2003-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6881529B2 (en) * 2001-05-14 2005-04-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist transfer material and method for processing surface of substrate using the transfer material
WO2003038525A1 (en) * 2001-10-31 2003-05-08 Dongjin Semichem Co., Ltd. Positive photoresist composition for liquid crystal device
US20070048662A1 (en) * 2005-08-23 2007-03-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Photoresist composition and method of manufacturing a thin-film transistor substrate using the same

Also Published As

Publication number Publication date
US20090176936A1 (en) 2009-07-09
TW200925223A (en) 2009-06-16
JP2009144155A (ja) 2009-07-02
JP4975008B2 (ja) 2012-07-11
US8492459B2 (en) 2013-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101111803B (zh) 正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物
CN100565310C (zh) 制备显示器用阵列板的方法
TWI567142B (zh) 墨水組成及使用此墨水組成形成圖案之方法
KR101375849B1 (ko) 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
CN101073035B (zh) 正型干膜光致抗蚀剂
CN101073036B (zh) 正型干膜光致抗蚀剂
JPWO2018230488A1 (ja) キット、積層体、積層体の製造方法、硬化物パターンの製造方法および回路基板の製造方法
KR101473877B1 (ko) 잉크 조성물
JP3945556B2 (ja) 液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた基材
CN100416311C (zh) 喷墨方式滤色器用隔板
TW201120152A (en) Ink composition.
TW200307013A (en) Novolak resin mixtures and photosensitive compositions comprising the same
JP4209297B2 (ja) 吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
TWI325097B (en) Resist composition and organic solvent for removing resist
CN101424877A (zh) 包含酚醛清漆树脂共混物的光刻胶
CN104076607A (zh) 正型抗蚀剂组合物
JP4053402B2 (ja) Ｌｃｄ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法
TW200912530A (en) Positive resist composition for producing a liquid crystal element and resist pattern formation method
TW200928586A (en) Positive type radiation sensitive resin compound
KR101537408B1 (ko) 잉크 조성물
TW591333B (en) Positive photoresist composition and forming method for resist pattern for manufacturing liquid crystal display
KR100793406B1 (ko) 포지티브형 드라이 필름 포토레지스트 및 그 제조방법
KR101707372B1 (ko) 리버스 오프셋 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법
KR101305664B1 (ko) 필름형 광분해성 전사재료
KR20140058778A (ko) 리버스 오프셋 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법