TW202412021A - 導電膜的製造方法、分散液、感放射線性樹脂組成物、發光元件 - Google Patents

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一戶大吾
勝井宏充
安田博幸
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日商Ｊｓｒ股份有限公司
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本發明提供一種導電膜的製造方法，所述導電膜具有高導電性，並且可使具有導電性的碳材料遍及導電膜形成區域整體而均勻地固著。另外，提供一種製造方法，其能夠有效率地去除導電膜中所殘留的分散劑與感放射線性樹脂組成物的處於未進行曝光的部分中的聚合物。本發明包括：步驟（A），在基材的主表面上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第一聚合物、與碳材料的分散液並進行乾燥，形成第一膜；步驟（B），在第一膜上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第二聚合物、與酸產生劑的感放射線性樹脂組成物，形成第二膜；步驟（C），對第二膜進行曝光；以及步驟（D），在步驟（C）之後，藉由顯影去除第一聚合物及第二聚合物。

Description

導電膜的製造方法、分散液、感放射線性樹脂組成物、發光元件
本發明是有關於一種導電膜的製造方法。另外，本發明是有關於一種該導電膜的製造方法中使用的分散液、感放射線性樹脂組成物、及使用該導電膜的製造方法製造的發光元件。
近年來，正在開發一種藉由奈米碳材料的導電膜而形成有電極或配線的半導體器件。以往，半導體器件的電極或配線大多由銅或鋁等金屬形成。然而，與金屬或金屬氧化膜相比，奈米碳材料、特別是碳奈米管（carbon nanotube，CNT）（以下有時簡稱為「CNT」）可構成得非常薄且顯示出高導電性，因此作為半導體器件的材料而受到高度關注。另外，由奈米碳材料形成的導電膜可形成對可見光顯示出高透射性的膜，因此出現被積極地用於半導體光學元件中的動向。
基於上述背景，特別是針對由CNT形成的導電膜，就材料或製造方法作出了各種提案，例如，在下述專利文獻1中，作為提高了CNT的分散性的組成物而揭示了一種含有溶媒及CNT的組成物。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-214837號公報
[發明所欲解決之課題] 然而，藉由所述組成物製作的導電膜有如下課題：在乾燥步驟等中容易產生凝聚，從而均質性容易受損。關於CNT透明導電膜，由於纖維狀的CNT如不織布般重疊而形成有電流流動的電路，從而表現出導電性。因此，與金屬膜或金屬氧化膜不同，難以以特性穩定的方式構成，難以表現出穩定的電性特性。
特別是在推進微細化的大規模積體電路（large-scale integrated circuit，LSI）等半導體器件中，配線寬度非常狹小，因此，若形成由CNT的導電膜形成的配線，則有形成局部為高電阻的配線的情況、或容易發生斷線的課題。
另外，在用於發光元件或觸控面板等中的情況下，為了提高對可見光的透射性，要求盡可能薄地形成導電膜，並且要求高導電性以及均質的導電膜的形成。在此種情況下，與如上所述的LSI等半導體器件同樣地，亦產生容易發生導電膜的斷線的課題。更具體而言，例如在作為構成觸控面板的配線以50 μm寬度以下構成配線的情況下，或在製作顯示面板的畫素電極時製作了自50 μm寬度以下的接觸孔引出的引出線的情況下，特別容易發生斷線。進而，於在此種導電膜上塗佈感放射線性樹脂組成物並形成絕緣層的圖案等時，有時CNT導電膜的一部分剝落。而且，潛伏有為了防止CNT導電膜的剝落而追加新的製程等問題等。
本發明鑒於所述課題，其目的在於提供一種導電膜的製造方法，所述導電膜具有高導電性，並且可使具有導電性的碳材料遍及導電膜形成區域整體而均勻地固著。另外，其目的在於提供一種製造方法，其能夠有效率地去除導電膜中所殘留的分散劑與感放射線性樹脂組成物的處於未進行曝光的部分中的聚合物。 [解決課題之手段]
本發明的導電膜的製造方法包括： 步驟（A），在基材的主表面上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第一聚合物、與碳材料的分散液並進行乾燥，形成第一膜； 步驟（B），在所述第一膜上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第二聚合物、與光酸產生劑的感放射線性樹脂組成物，形成第二膜； 步驟（C），對所述第二膜的一部分進行曝光；以及 步驟（D），在實施所述步驟（C）之後，去除在所述步驟（C）中經曝光的部分的所述第一聚合物及所述第二聚合物。
另外，所述製造方法亦可包括： 步驟（E），在實施所述步驟（D）之後，對所述基材進行加熱處理。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（A）塗佈具有聚醯胺酸結構的所述第一聚合物，所述步驟（B）塗佈具有聚醯胺酸結構的所述第二聚合物。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（A）塗佈含有具有聚醯胺酸結構的所述第一聚合物、與有機溶劑的所述分散液。
此處所述的「聚醯胺酸結構」是具有包含羧基的部分結構、且藉由加熱而該部分結構脫水閉環並形成醯亞胺結構的結構。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（B）塗佈含有所述第二聚合物的所述感放射線性樹脂組成物，所述第二聚合物將具有下述通式（1）所表示的結構單元的聚醯胺酸作為主成分。 [化1] （式（1）中，R 1是構成四羧酸的四價有機基，R 2是構成二胺的二價有機基，n表示正整數）
再者，在本說明書中，所謂「主成分」，是指材料中所含的物質中的含有率最高的物質。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（A）塗佈含有選自碳奈米管、石墨烯、富勒烯中的至少一種碳材料的所述分散液。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（B）塗佈含有醌二疊氮化合物作為所述光酸產生劑的所述感放射線性樹脂組成物。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（B）塗佈含有著色劑的所述感放射線性樹脂組成物。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（A）塗佈相對於所述碳材料的含量而以1,000質量%至100,000質量%的範圍包含所述第一聚合物的所述分散液。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（A）藉由旋塗（spin coat）法、狹縫塗佈（slit coat）法、棒塗（bar coat）法、噴霧塗佈（spray coat）法、噴墨（ink-jet）法中的任一塗佈方法，塗佈所述分散液。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（B）藉由旋塗法、狹縫塗佈法、棒塗法、噴霧塗佈法、噴墨法中的任一塗佈方法，塗佈所述感放射線性樹脂組成物。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（C）進行介隔半色調遮罩（half tone mask）的曝光。
在所述製造方法中，亦可為如下方法： 所述步驟（D）將鹼性水溶液、有機溶媒或該些的混合液中的任一種作為顯影液，來去除所述第一聚合物及所述第二聚合物。
在所述製造方法中，亦可為包括步驟（E）、步驟（F）以及步驟（G）的方法： 所述步驟（E）在實施所述步驟（D）之後，藉由蝕刻將露出的所述碳材料去除； 所述步驟（F）在實施所述步驟（E）之後，進一步對所述第二膜的一部分進行曝光； 所述步驟（G）去除在所述步驟（F）中經曝光的部分的所述第一聚合物及所述第二聚合物。
本發明的分散液是 在所述製造方法中使用的分散液。
本發明的感放射線性樹脂組成物是 在所述製造方法中使用的感放射線性樹脂組成物。
本發明的發光元件是 包括藉由所述製造方法而製造的導電膜的發光元件。 [發明的效果]
藉由本發明，可實現一種導電膜的製造方法，所述導電膜具有高導電性，並且可使具有導電性的碳材料遍及導電膜形成區域整體而均勻地固著。另外，藉由本發明，可實現一種製造方法，其能夠有效率地去除導電膜中所殘留的分散劑與感放射線性樹脂組成物的處於未進行曝光的部分中的聚合物。
以下，首先說明作為一實施形態的顯示面板1的結構，其後詳細說明顯示面板1所包括的導電膜的製造方法的一實施形態。而且，藉由與導電膜的製造方法相關的一實施例進行了確認分散液或感放射線性樹脂組成物的分散性或塗佈性的驗證評價實驗，因此，最後詳細說明所述驗證評價實驗。
[顯示面板] 對顯示面板1的一實施形態的整體結構進行說明。圖1是表示顯示面板1的一實施形態的整體結構的概略圖。顯示面板1具有基材2，且在基材2的一表面設置有元件區域2a以及周邊區域2b。
基材2由具有透光性的材料形成，具體而言，例如可列舉：玻璃基板、石英基板、或有機樹脂基板等。作為有機樹脂基板的材料，例如可列舉聚醯亞胺等。有機樹脂基板可使板厚成為數微米至數十微米，從而能夠實現具有撓性的片式顯示器（sheet display）。
元件區域2a是形成有用於顯示圖像的元件的區域。元件區域2a中設置有下層電極，在該下層電極上設置有絕緣層。在該絕緣層上設置有機樹脂層，在該有機樹脂層上設置導電膜。
有機樹脂層的材料是包含具有烴基的聚合物的有機材料。導電膜的材料是CNT。作為CNT的種類，可採用單壁碳奈米管、或兩層以上的多壁碳奈米管，較佳為單壁碳奈米管。
以碳奈米管為材料的導電膜的透射率會根據膜厚而變動，但會成為對可見光顯示出透射性的透明導電膜。
構成有機樹脂層的材料是包含具有烴基的聚合物的有機樹脂材料。作為構成有機樹脂層的材料的例子，可列舉聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂等，但並無特別限定。再者，就碳奈米管的密接性的觀點而言，構成有機樹脂層的材料較佳為包含芳族烴的材料，更佳為包含多環芳族烴的材料。
用於形成本實施形態的導電膜的塗佈膜即第一膜可藉由塗佈包含碳奈米管、與作為分散劑的第一聚合物的分散液而形成。第一聚合物並無特別限定，就提高碳奈米管的分散性的方面而言，較佳為使用將具有式（1）所表示的結構單元的聚醯胺酸作為主成分的聚合物。慎重起見，再次記載式（1）。
[化2] （式（1）中，R 1是構成四羧酸的四價有機基，R 2是構成二胺的二價有機基，n表示正整數）
作為R 1所表示的構成四羧酸的四價有機基的具體例，可列舉：均苯四甲酸、2,3,6,7-萘四羧酸、1,2,5,6-萘四羧酸、1,4,5,8-萘四羧酸、2,3,6,7-蒽四羧酸、1,2,5,6-蒽四羧酸、3,3',4,4'-聯苯基四羧酸、2,3,3',4-聯苯基四羧酸、雙(3,4-二羧基苯基)醚、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸、雙(3,4-二羧基苯基)碸、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷、1,1,1,3,3,3-六氟-2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷、雙(3,4-二羧基苯基)二甲基矽烷、雙(3,4-二羧基苯基)二苯基矽烷、2,3,4,5-吡啶四羧酸、2,6-雙(3,4-二羧基苯基)吡啶等芳香族四羧酸的二酐；1,2,3,4-環丁烷四羧酸、1,2,3,4-環戊烷四羧酸、1,2,4,5-環己烷四羧酸、2,3,5-三羧基環戊基乙酸、3,4-二羧基-1,2,3,4-四氫-1-萘琥珀酸等具有脂環結構的四羧酸的二酐；1,2,3,4-丁烷四羧酸等脂肪族四羧酸的二酐等。該些酸二酐可使用單一的化合物，亦可併用多種化合物。
作為R 2所表示的構成二胺的二價有機基的具體例，可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,5-二胺基甲苯、2,6-二胺基甲苯、4,4'-二胺基聯苯、3,3'-二甲基-4,4'-二胺基聯苯、3,3'-二甲氧基-4,4'-二胺基聯苯、二胺基二苯基甲烷、二胺基二苯基醚、2,2'-二胺基二苯基丙烷、雙(3,5-二乙基-4-胺基苯基)甲烷、二胺基二苯基碸、二胺基二苯甲酮、二胺基萘、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,4-雙(4-胺基苯基)苯、9,10-雙(4-胺基苯基)蒽、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)二苯基碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷等芳香族二胺；雙(4-胺基環己基)甲烷、雙(4-胺基-3-甲基環己基)甲烷、3,5-二胺基苯甲酸膽甾烷基酯等脂環式二胺；以及1,2-二胺基乙烷、1,3-二胺基丙烷、1,4-二胺基丁烷、1,6-二胺基己烷等脂肪族二胺；1,3-雙(3-胺基丙基)-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷等矽二胺等。該些二胺可使用單一的化合物，亦可併用多種化合物。
進而，所述式（1）的R 1較佳為環丁烷環。環丁烷環藉由光照射或加熱而環結構發生分解，產生聚醯胺酸的結構變化，藉此變得容易去除作為第一聚合物的聚醯胺酸，就該方面而言較佳。另外，所述分散液例如可含有有機溶劑作為分散介質。
用於塗佈於第一膜上並形成絕緣層圖案的感放射線性樹脂組成物包含第一膜形成用的塗佈液中所含的具有所述式（1）所表示的結構部位的聚醯胺酸（第二聚合物）。聚醯胺酸在鹼性水溶液中顯示出溶解性，因此例如可利用鹼性水溶液來去除。即，可將鹼性水溶液用作顯影液。
再者，作為顯影液，較佳為鹼性水溶液、有機溶媒、或該些的混合液中的任一種，但只要是可去除第一聚合物的材料，則亦可採用該些以外的溶液。作為聚合物與顯影液的組合的另一例，可採用具有羧基的聚合物與四甲基氫氧化銨（tetramethylammonium hydroxide，TMAH）水溶液般的組合。
感放射線性樹脂組成物是塗佈於第一膜上而形成第二膜的材料，藉由對該第二膜的一部分進行曝光顯影，從而在導電膜上形成圖案。能夠藉由一次顯影同時去除該顯影時第一膜中所殘留的第一聚合物與感放射線樹脂組成物的處於曝光部中的第一聚合物及第二聚合物。
未曝光部的聚合物藉由加熱，聚醯胺酸結構的一部分脫水化而成為聚醯亞胺結構。聚醯亞胺由於絕緣性高與對有機溶劑等的耐性優異而被用於絕緣層的形成。在有機電致發光（electroluminescence，EL）等的顯示面板的情況下，此種聚醯亞胺能夠用於劃分發光區域時等所形成的堤部層。
感放射線性樹脂組成物包含式（1）所表示的聚醯胺酸，只要具有聚醯胺酸結構即可，一部分取代基亦可不同。進而，亦可含有聚醯胺酸以外的鹼可溶性樹脂。作為此種鹼可溶性樹脂，可列舉藉由使用包含羧基作為鹼可溶性基的不飽和化合物作為單體並進行自由基聚合而得的聚合物。作為其他鹼可溶性樹脂，可使用：聚矽氧烷、含有卡多（cardo）骨架的樹脂、苯酚酚醛清漆樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂、聯苯樹脂、雙酚A型樹脂、雙酚F型樹脂、具有二環戊烷基骨架的樹脂、具有三酚甲烷骨架的樹脂、雙酚F型環氧樹脂、多官能環氧樹脂、撓性環氧樹脂、溴化環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、苯氧基樹脂、聯苯型環氧樹脂、矽氧烷樹脂、多羥基苯乙烯樹脂、苯乙烯-羥基苯乙烯共聚樹脂、雙酚A系、雙酚F系、雙酚AD系、含溴的雙酚A系、苯酚酚醛清漆系、甲酚酚醛清漆系、多酚系、直鏈脂肪族系、丁二烯系、胺基甲酸酯系等縮水甘油醚型環氧樹脂；六氫鄰苯二甲酸縮水甘油酯、二聚酸縮水甘油酯、芳香族系、環狀脂肪族系、脂肪族系縮水甘油酯型環氧樹脂等。
感放射線性樹脂組成物含有光酸產生劑，作為正型的感放射線性材料發揮功能。作為光酸產生劑，特佳為醌二疊氮化合物。醌二疊氮化合物藉由照射放射線而產生羧酸。藉由含有醌二疊氮化合物，可將藉由顯影步驟去除經曝光的部分的正型的感放射線特性賦予給該正型感放射線性樹脂組成物。
作為醌二疊氮化合物，較佳為可列舉具有酚性羥基的化合物與萘醌二疊氮磺醯鹵的縮合物。作為具有酚性羥基的化合物，例如可列舉以下所示的化合物。
[化3]
[化4]
該些中，作為具有酚性羥基的化合物，較佳為4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷。 作為所述萘醌二疊氮磺醯鹵，例如可列舉1,2-萘醌二疊氮-4-磺醯氯、1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯。由1,2-萘醌二疊氮-4-磺醯氯獲得的酯化合物（醌二疊氮化合物）由於在i射線（波長365 nm）區域具有吸收，因此適合於i射線曝光。另一方面，由1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯獲得的酯化合物（醌二疊氮化合物）由於在廣範圍的波長區域中存在吸收，因此適合於廣範圍的波長下的曝光。
作為醌二疊氮化合物，較佳為4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物。
醌二疊氮化合物可單獨使用或者將兩種以上組合使用。作為該感放射線性樹脂組成物中的醌二疊氮化合物的含量，相對於聚醯胺酸100質量份，較佳為1質量份～100質量份，更佳為5質量份～50質量份。藉由將醌二疊氮化合物的含量設為所述特定範圍，放射線的照射部分與未照射部分相對於成為顯影液的鹼性水溶液的溶解度之差變大，結果，圖案化性能變良好。另外，所獲得的絕緣膜的耐溶媒性亦變良好。
在形成有機EL的堤部的情況下，感光性樹脂組成物可包含用於對所述堤部賦予反射性或遮光性的著色劑。具體而言，著色劑包含選自由白色顏料、黑色有機著色劑、黑色無機著色劑及黑色以外的著色劑所組成的群組中的至少一種著色劑。著色劑是兩種以上的無機著色劑或有機著色劑的混合物。
在對有機EL的堤部賦予反射性的情況下，可使用白色顏料。作為白色顏料，例如可自氧化鋁、氧化鎂、氧化銻、氧化鈦、氧化鋯、氫氧化鋁、氫氧化鎂、硫酸鋇、碳酸鎂、碳酸鋇、碳酸鈣、硫酸鉛、磷酸鉛、磷酸鋅、二氧化矽、氧化鋅、氧化錫、硫化鍶、鈦酸鍶、鎢酸鋇、偏矽酸鉛、滑石、高嶺土、黏土、氯氧化鉍、中空二氧化矽粒子、有機中空粒子、核殼（core-shell）粒子等中選擇。
白色顏料較佳為包含選自由氧化鋁、氧化鎂、氧化銻、氧化鈦、氧化鋯、氫氧化鋁、氫氧化鎂、硫酸鋇、碳酸鎂及碳酸鋇所組成的群組中的至少一種無機物，特佳為包含氧化鈦。所述無機物因具有高折射率而可提高所形成的硬化膜的反射特性。其中，氧化鈦尤其具有高折射率，進而就於溶劑中的分散特性的觀點而言亦較佳。
白色顏料的平均粒徑的下限較佳為50 nm，較佳為100 nm，更佳為200 nm。另一方面，其上限較佳為700 nm，更佳為500 nm，進而佳為400 nm。藉由白色顏料的平均粒徑為所述範圍，可發揮良好的分散性及光散射性等，結果，可提高光反射性及遮光性。
在對有機EL的堤部賦予遮光性的情況下，可使用選自由黑色有機著色劑、黑色無機著色劑及黑色以外的著色劑所組成的群組中的至少一種著色劑。具體而言，可使用本技術領域中公知的任一種黑色無機著色劑、任一種黑色有機著色劑以及任一種黑色以外的著色劑。例如，可使用在染料索引（ColorIndex）（染色-色彩技術者協會會刊）中分類為顏料的任一種化合物以及本技術領域中公知的染料。黑色有機著色劑的特定例是選自由苯胺黑、內醯胺黑及苝黑所組成的群組中的至少一種。
該些中，就光學密度、介電常數、透射度等方面而言，較佳為使用下述式所表示的內醯胺黑（例如，巴斯夫（BASF）公司製造的易璐佳弗黑（Irgaphor Black）S 0100 CF）。 [化5]
另外，作為苝黑，就光學密度、介電常數、透射度等方面而言，較佳為使用下述式所表示的苝黑（巴斯夫（BASF）公司製造，路摩根黑（Lumogen Black）FK42809）。 [化6]
作為黑色無機著色劑的特定例，可列舉：碳黑、鈦黑、金屬氧化物、例如Cu-Fe-Mn系氧化物、合成鐵黑等。就圖案特性及耐化學品性的觀點而言，較佳為使用其中的碳黑。
作為黑色以外的著色劑的特定例，可列舉：C.I.顏料紫13、14、19、23、25、27、29、32、33、36、37及38以及C.I.顏料藍15（15：3、15：4、15：6等）、16、21、28、60、64及76。具體而言，黑色以外的著色劑可包含選自由藍色著色劑及絳紫色著色劑所組成的群組中的至少一種著色劑。就降低反射率的觀點而言，其中較佳的是C.I.顏料藍15：6及60或C.I.顏料紫23。
相對於感光性樹脂組成物的總量，含有1質量%～50質量%、較佳為5質量%～20質量%的著色劑。若包含1質量%～50質量%的所述著色劑，則光學密度優異，在包含5質量%～20質量%的情況下，就光學密度的方面而言，可更優異。再者，所謂感光性樹脂組成物中的固體成分，是指將溶劑去除後的成分的合計。
該感放射線性樹脂組成物亦可含有光酸產生劑（醌二疊氮化合物以外）、抗氧化劑、多官能丙烯酸酯、界面活性劑、密接助劑、無機氧化物粒子、具有環狀醚基的化合物、溶媒等其他任意成分。其他任意成分可分別單獨使用亦可併用兩種以上。
[製造方法] 參照圖2～圖6對導電膜的製造方法進行說明。圖2～圖6是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。再者，本實施形態的導電膜的製造方法是在形成於基板上的有機樹脂層上製作導電膜。
如圖2所示，在形成有絕緣層10的狀態的基材2上塗佈包含具有烴基的聚合物的有機樹脂材料，藉此形成有機樹脂層20。
首先，如圖2所示，在形成有有機樹脂層20的基板上塗佈含有聚醯胺酸30a、CNT 30c、以及作為分散介質的有機溶劑的分散液，形成塗佈膜30的圖案（步驟S1）。
然後，對塗佈膜30進行乾燥而有機溶劑揮發，藉此，如圖3所示，聚醯胺酸30a與CNT 30c固著於有機樹脂層20上而形成第一膜40（步驟S2）。步驟S1及步驟S2相當於步驟（A）。
再者，在步驟S1中，使用澆鑄（cast）、網版印刷（screen printing）、噴墨等印刷技術，在有機樹脂層20上形成由包含CNT的分散液的塗佈膜形成的圖案。
於在有機樹脂層20上形成第一膜40之後，如圖4所示，在形成有第一膜40的狀態的有機樹脂層20上塗佈感放射線性樹脂組成物，形成第二膜50（步驟S3）。該步驟S3相當於步驟（B）。
在形成第二膜50之後，如圖5所示，介隔光罩60對第二膜50的曝光部A1進行曝光（步驟S4）。該步驟S4相當於步驟（C）。
形成第二膜50的感放射線性樹脂組成物由於包含醌二疊氮化合物，因此作為正型的感放射線性樹脂材料發揮功能。曝光部A1藉由使醌二疊氮化合物變化為茚羧酸結構而溶解於鹼性水溶液中。
在進行曝光時，通常是介隔具有規定的圖案的光罩來進行曝光。作為曝光中所使用的放射線L1，較佳為波長處於190 nm～450 nm的範圍的放射線，更佳為包含365 nm的紫外線的放射線。作為曝光量，較佳為500 J/m 2～6,000 J/m 2，更佳為1,500 J/m 2～1,800 J/m 2。該曝光量是指利用照度計（OAI光學夥伴（OAI Optical Associates）公司的「OAI型號（model）356」）對放射線的波長365 nm下的強度進行測定所得的值。光罩60可使用半色調遮罩。藉由使用半色調遮罩，能夠控制所得的圖案的形狀。具體而言，能夠控制圖案側壁的傾斜（亦稱為錐形形狀）。
在步驟S4之後，如圖6所示，在曝光後使用作為顯影液的鹼性水溶液進行顯影，藉此去除曝光部A1的感放射線性樹脂組成物層的第二聚合物即聚醯胺酸30a（步驟S5）。該步驟S5相當於步驟（D）。
經過以上的步驟S1～步驟S5的步驟，在有機樹脂層20上形成在一部分形成導電膜70、在其他部分殘存第二膜50的區域。再者，如圖6所示，導電膜70是分散CNT 30c而形成的結構，對可見光顯示出透射性、即為透明。
分散液的第一聚合物與感放射線性樹脂組成物中所含的第二聚合物是具有聚醯胺酸結構的聚合物，具有聚醯胺酸結構的聚合物由於在分子中具有羧基，因此對於鹼性水溶液顯影液顯示出高溶解性。
藉由利用鹼性水溶液顯影液進行顯影，能夠同時去除曝光部A1的第一膜40的聚醯胺酸30a、與第二膜50的聚醯胺酸30a。而且，藉由在顯影後進行加熱乾燥，能夠形成去除了聚醯胺酸的導電膜70與自聚醯胺酸變化為聚醯亞胺結構而成的圖案。
作為鹼性水溶液，例如可較佳地使用氫氧化鉀（KOH）水溶液、氫氧化鈉（NaOH）水溶液、碳酸鈉水溶液、四甲基氫氧化銨（TMAH）水溶液等。
在步驟S5之後，亦可藉由進一步進行顯影，同時去除曝光部A1的第一膜40的聚醯胺酸30a、與第二膜50的聚醯胺酸30a，並對露出的碳材料進行蝕刻。藉由該蝕刻步驟，由碳材料形成的膜經圖案化（步驟S6）。該步驟S6相當於步驟（E）。
另外，亦可在步驟S5之後進行如下步驟：對於形成殘存的第二膜50的感放射線性樹脂組成物，與步驟S4同樣地，介隔光罩，對第二膜50的曝光部A2進行追加曝光（步驟S7），進而與步驟S5同樣地，進行利用顯影液進行的顯影而製作新的導電膜70的露出部的步驟（步驟S8）。該步驟S7、步驟S8分別相當於步驟（F）、步驟（G）。
藉由進行此種步驟，可使用感放射線性樹脂組成物使導電膜70精密地圖案化，同時，能夠形成去除了聚醯胺酸的導電膜70與自聚醯胺酸變化為聚醯亞胺結構而成的圖案。藉由該效果，例如可在觸控面板或太陽能電池用基板上形成更精細的配線，因此可有助於比以往更複雜的配線設計、或高積體化。
作為分散液的塗佈方法，例如可採用噴霧塗佈法、輥塗法、旋轉塗佈法（旋塗法）、狹縫模塗佈法（狹縫塗佈法）、棒塗佈法（棒塗法）、溶液浸漬法、噴墨法等適宜的方法。導電膜可藉由規定的方法以一定的厚度形成。
另外，感放射線性樹脂組成物的塗佈方法亦同樣地，例如可採用噴霧塗佈法、輥塗法、旋轉塗佈法（旋塗法）、狹縫模塗佈法（狹縫塗佈法）、棒塗佈法（棒塗法）、溶液浸漬法、噴墨法等適宜的方法。導電膜可藉由規定的方法以一定的厚度形成。
進而，塗佈於有機樹脂層20上的分散液較佳為第一聚合物相對於CNT 30a的含量為1,000質量%至100,000質量%的範圍內。藉由第一聚合物相對於CNT 30c的含量處於該範圍內，可防止乾燥步驟中的溶媒不均一，另外，可抑制隨著乾燥而CNT 30c在有機樹脂層20上凝聚且局部存在化的情況。
再者，為了提高導電膜70的均一性，較佳為實施藉由烘烤步驟去除溶媒的步驟、或用於去除第一聚合物的溶液浸漬步驟。於所述塗佈方法中，就塗膜的膜厚均一性及省液性的觀點而言，較佳為狹縫模塗佈法或噴墨法。另外，就僅藉由塗佈便可進行電極的圖案化的觀點而言，更佳為噴墨法。
藉由採用所述導電膜的形成方法，形成於有機樹脂層上的導電膜顯示出獨特的電性特性，並且對有機樹脂層的密接性優異，耐化學品性及平坦性亦變良好。
另外，第一膜40中所含的CNT 30c於在有機樹脂層20上形成導電膜70的情況下，對有機樹脂層20顯示出高密接性，因此可獲得不易在乾燥步驟中隨著溶媒的凝聚而局部存在化的效果。進而，即便在用於去除第一聚合物的溶液浸漬步驟中，亦不會發生CNT的剝離、凝聚等，抑制CNT的局部存在化，即便在形成圖案的寬度非常細的配線的情況下，亦可獲得不易產生局部為高電阻的部分或斷線的效果。
為了獲得所述效果，作為導電膜的製造方法，亦可包括：在基材2上形成絕緣層10，形成絕緣層10後，形成有機樹脂層20，在該有機樹脂層20上，形成CNT 30a所構成的導電膜70。
另外，分散液中包含的CNT 30a較佳為包含單壁奈米管或多壁奈米管中的至少一者。藉由此種導電膜的製造方法，可形成有機樹脂層20與導電膜70的密接性更良好的半導體器件。另外，製造良率變得更良好。另外，作為與碳奈米管不同的碳材料，例如可採用導電性優異的石墨烯、或富勒烯，但只要是顯示出導電性的材料，亦可採用該些材料以外的材料。
另外，所述導電膜的製造方法不僅可在顯示面板1的製造中應用，而且可在所有電子器件的製造中應用，若鑒於可形成透明的導電膜，則適合於顯示面板、觸控面板、光學器件等的製造。
再者，有機樹脂層亦可藉由以下所示的步驟來形成。藉由以下所示的步驟而形成的有機樹脂層顯示出獨特的電性特性，並且與CNT的密接性優異，耐化學品性及平坦性亦良好。另外，藉由該形成方法，由於在140℃以下進行加熱，因此可抑制基板或配備於基板的元件的熱劣化。以下，對各步驟進行詳細敘述。
[步驟（1）] 在本步驟中，使用該感放射線性樹脂組成物，在絕緣層上形成塗膜。具體而言，藉由將該感放射線性樹脂組成物塗佈於絕緣層表面，形成感放射線性樹脂組成物的塗膜。再者，為了去除塗膜中包含的溶媒，在此處的步驟中，較佳為進行預烘烤處理。
作為感放射性組成物的塗佈方法，例如可採用噴霧法、輥塗法、旋轉塗佈法（旋塗法）、狹縫模塗佈法、棒塗佈法、噴墨法等適宜的方法。該些中，作為塗佈方法，較佳為噴墨法。作為預烘烤的條件，根據各成分的種類、使用比例等亦不同，例如可設為在60℃～130℃下進行30秒～10分鐘左右。所形成的塗膜的膜厚以預烘烤後的值計較佳為0.1 μm～5 μm，更佳為0.1 μm～1 μm，進而佳為0.2 μm～0.4 μm。
[步驟（2）] 在本步驟中，對塗膜的一部分照射（曝光）放射線。具體而言，介隔具有規定的圖案的光罩，對在步驟（1）中形成的塗膜照射放射線。根據所使用的光罩的圖案，能夠形成接觸孔形成、線與空間形成等的圖案。
作為此時使用的放射線，例如可列舉：紫外線、遠紫外線、X射線、帶電粒子束等。另外，所使用的光罩可為半色調遮罩或灰色調遮罩（gray tone mask）等多色調光罩（multi tone mask）。
作為紫外線，例如可列舉：g射線（波長436 nm）、i射線（波長365 nm）、KrF準分子雷射光（波長248 nm）等。作為X射線，例如可列舉同步加速輻射（synchrotron radiation）等。作為帶電粒子束，例如可列舉電子束等。該些放射線中，較佳為紫外線，更佳為波長200 nm以上且380 nm以下的紫外線。作為放射線的曝光量，較佳為1,000 J/m 2～20,000 J/m 2。
另外，視情況，亦可在曝光之後實施曝光後烘烤（post exposure bake，PEB）。
[步驟（3）] 在本步驟中，對進行了放射線照射的塗膜進行顯影。具體而言，利用顯影液對在步驟（2）中進行了放射線照射的塗膜進行顯影，以去除放射線的照射部分。作為顯影液，例如可使用將氫氧化鉀、碳酸鈉、三乙醇胺、四甲基氫氧化銨（TMAH）、四乙基氫氧化銨等溶解於水中而獲得的鹼性水溶液；乙醇、異丙醇、丙酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等有機溶劑。
作為顯影方法，例如可採用覆液法、浸漬法、抖動浸漬法、噴淋法等適宜的方法。作為顯影時間，根據該感放射線性樹脂組成物的組成而不同，但例如可設為30秒～120秒。
[步驟（4）] 在本步驟中，可對所述步驟（3）之後的塗膜進行加熱。該塗膜藉由加熱板（hot plate）、烘箱（oven）等加熱裝置受到加熱處理（後烘烤）而硬化。
本步驟中的加熱溫度的上限為140℃，加熱溫度可為130℃，亦可為125℃，亦可為115℃。藉由該形成方法，即便藉由如此般溫度比較低的加熱，亦可使塗膜形成良好的形狀。
[驗證評價實驗] 最後，由於針對塗佈於基板上的分散液中包含的CNT的分散性，進行了驗證評價實驗以確認藉由所述製造方法可獲得何種程度的效果，因此以下進行說明。
[合成例1：聚醯胺酸的合成] 在反應容器中加入作為聚合溶劑的丙二醇單乙醚乙酸酯（propylene glycol monomethyl ether acetate，PGMEA）80 g，之後以相對於聚合溶劑的合計80 g而固體成分濃度成為20重量%的方式，向聚合溶劑中加入二胺化合物及作為四羧酸衍生物的四羧酸二酐。此時，在該例中，作為二胺化合物，使用2,2'-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷（2,2'-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane，BAHF），使其溶解後，以四羧酸二酐的組成為TCA：TMHQ=95：5（莫耳比）的方式投入2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐（2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride，TCA）與1,3-二氫-1,3-二氧代-5-異苯並呋喃羧酸-1,4-伸苯基酯（1,3-dihydro-1,3-dioxo-5-isobenzofuran carboxylic acid-1,4-phenylene ester，TMHQ）作為四羧酸二酐。然後，相對於二胺化合物的總量100莫耳份，加入90莫耳份的四羧酸二酐。其後，使該混合物於60℃下反應3小時。藉此，獲得約100 g的聚醯胺酸溶液。以下，將該含有聚醯胺酸的溶液稱為「PAA」。
[合成例2：丙烯酸系聚合物的合成] 在包括冷卻管及攪拌機的燒瓶中，裝入偶氮雙異丁腈8質量份及二乙二醇甲基乙醚220質量份。繼而，裝入甲基丙烯酸15質量份、甲基丙烯酸苄基酯40質量份、α-甲基-對羥基苯乙烯10質量份、苯乙烯10質量份、及甲基丙烯酸正丁酯25質量份，進行氮氣置換後，緩慢攪拌，並使溶液的溫度上升至90℃，將該溫度保持5小時來進行聚合，藉此獲得含有丙烯酸系聚合物的溶液。以下，將該含有丙烯酸系聚合物的溶液稱為「PAc」。
[比較合成例1：不具有羧基的苯乙烯系聚合物的合成] 在包括冷卻管及攪拌機的燒瓶中，裝入偶氮雙異丁腈8質量份及二乙二醇甲基乙醚220質量份。繼而，裝入苯乙烯50質量份、甲基丙烯酸苄基酯50質量份，進行氮氣置換後，緩慢攪拌，並使溶液的溫度上升至90℃，將該溫度保持5小時來進行聚合，藉此獲得含有不具有羧基的苯乙烯系聚合物的溶液。以下，將該含有不具有羧基的苯乙烯系聚合物的溶液稱為「PSt」。
[含有CNT的分散液的調整] 在放入有單壁碳奈米管（SWNT）10質量份、及作為第一聚合物的在合成例1中獲得的聚合物（PAA）1,000質量份的容器中，加入作為溶媒的N-甲基-2-吡咯啶酮（N-methyl-2-pyrrolidone，NMP）100,000質量份。繼而，進行60分鐘的超音波分散，以製備分散液（S-1）。
接下來，在放入有單壁碳奈米管（SWNT）10質量份、及作為第一聚合物的在合成例2中獲得的聚合物（PAc）1,000質量份的容器中，加入作為溶媒的NMP 100,000質量份。繼而，進行60分鐘的超音波分散，以製備分散液（S-2）。
接下來，在放入有單壁碳奈米管（SWNT）10質量份、及作為第一聚合物的在比較合成例1中獲得的聚合物（PSt）1,000質量份的容器中，加入作為溶媒的NMP 100,000質量份。繼而，進行60分鐘的超音波分散，以製備分散液（ss-1）。
[感放射線性樹脂組成物（P-1）的調整] 相對於與合成例1中獲得的聚合物（PAA）100質量份（固體成分）相當的量，混合作為光酸產生劑的醌二疊氮化合物（4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物）30質量份、及密接助劑（1:3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷）3質量份，以固體成分濃度成為30質量%的方式溶解於溶媒（丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA））中後，利用孔徑0.2 μm的膜濾器進行過濾，製備感放射線性樹脂組成物（P-1）。
[感放射線性樹脂組成物（P-2）的調整] 相對於與合成例2中獲得的聚合物（PAc）100質量份（固體成分）相當的量，混合作為光酸產生劑的醌二疊氮化合物（4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物）30質量份、及密接助劑（1:3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷）3質量份，以固體成分濃度成為30質量%的方式溶解於溶媒（丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA））中後，利用孔徑0.2 μm的膜濾器進行過濾，製備感放射線性樹脂組成物（P-2）。
[感放射線性樹脂組成物（P-3）的調整] 相對於與合成例1中獲得的聚合物（PAA）100質量份（固體成分）相當的量，混合作為光酸產生劑的醌二疊氮化合物（4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物）30質量份、作為著色劑的內醯胺黑（巴斯夫（BASF）公司製造的易璐佳弗黑（Irgaphor Black）S 0100 CF）10質量份及密接助劑（1:3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷）3質量份，以固體成分濃度成為30質量%的方式加入溶媒（丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA））後，製備感放射線性樹脂組成物（P-3）。
[感放射線性樹脂組成物（pp-1）的調整] 相對於與比較合成例1中獲得的聚合物（PSt）100質量份（固體成分）相當的量，混合作為光酸產生劑的醌二疊氮化合物（4,4'-[1-[4-[1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺醯氯的縮合物）30質量份、及密接助劑（1:3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷）3質量份，以固體成分濃度成為30質量%的方式溶解於溶媒（丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA））中後，利用孔徑0.2 μm的膜濾器進行過濾，製備感放射線性樹脂組成物（pp-1）。
[含有CNT的分散液的評價] （1）CNT分散性的評價 將所述分散液（S-1）、分散液（S-2）、分散液（ss-1）在25℃的環境下靜置於平坦的場所。關於評價，若在1週之後保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「最優良（A）」，若至3天之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「優良（B）」，若至1天之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「良好（C）」，若至3小時之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「可（D）」，在3小時以內觀察到CNT的沈降或凝聚的情況下，設為「不良（E）」。將結果示於表1中。
（2）CNT分散穩定性（耐久性）的評價 與所述（1）同樣地製備分散液。將所獲得的分散液在40℃的環境下靜置於平坦的場所，觀察隨著時間經過的分散狀態。關於評價，若在1週之後保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「最優良（A）」，若至3天之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「優良（B）」，若至1天之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「良好（C）」，若至3小時之後為止保持初期的分散狀態而CNT未發生沈降，則設為「可（D）」，在3小時之後觀察到沈降或凝聚的情況下，設為「不良（E）」。將結果示於表1中。
（3）分散液的塗佈性的評價 藉由旋塗將所述獲得的分散液（S-1）、分散液（S-2）、分散液（ss-1）塗佈於形成有有機樹脂層的玻璃基板上，並在80℃的加熱板上乾燥10分鐘，藉此形成基板中央的膜厚為0.1 μm的塗膜。在倍率50倍的顯微鏡下觀察了該塗膜，以查看有無塗膜的膜厚不均及針孔（pinhole）。關於評價，將既未觀察到膜厚不均亦未觀察到針孔的情況設為塗佈性「最優良（A）」，將略微觀察到膜厚不均及針孔中的至少一者的情況設為塗佈性「良好（B）」。將清晰地觀察到膜厚不均及針孔中的至少一者的情況設為塗佈性「不良（C）」。將其結果示於表1中。
[感放射線性樹脂組成物的評價] 將形成有塗佈膜的基板分別設為（S-1）基板、（S-2）基板、（ss-1）基板。
（4）感放射線性樹脂組成物的塗佈性的評價 藉由旋塗法，對（S-1）基板、（S-2）基板、（ss-1）基板塗佈感放射線性樹脂組成物（P-1）、感放射線性樹脂組成物（P-2）、感放射線性樹脂組成物（P-3）、感放射線性樹脂組成物（pp-1），在90℃的加熱板上乾燥2分鐘，由此形成膜厚為4 μm的塗膜。在倍率50倍的顯微鏡下觀察了該塗膜，以查看有無塗膜的膜厚不均及針孔。關於評價，將既未觀察到膜厚不均亦未觀察到針孔的情況設為塗佈性「最優良（A）」，將略微觀察到膜厚不均及針孔中的至少一者的情況設為塗佈性「良好（B）」。將清晰地觀察到膜厚不均及針孔中的至少一者的情況設為塗佈性「不良（C）」。將其結果示於表2中。
（5）圖案形狀的評價 使用曝光機（佳能（Canon）公司的「MPA-600FA」（ghi射線混合）），介隔具有10 μm的線與空間圖案的光罩以500 mJ/cm 2的曝光量對所述分別形成有感放射線性樹脂組成物塗佈膜的基板進行曝光，其後，利用2.38質量%的四甲基氫氧化銨水溶液在23℃下利用覆液法顯影80秒。繼而，利用超純水進行1分鐘流水清洗，其後進行乾燥，藉此形成10 μm的線與空間圖案。
其後，利用掃描電子顯微鏡（scanning electron microscope，SEM）評價所獲得的圖案形狀。若所獲得的圖案的剖面為正錐形形狀，則評價為A，將錐角比正錐形小而為相對於基板接近垂直的形狀的情況評價為B，將空間部分有溶解殘留的殘渣、要求顯影不充分的情況評價為C。在應用於有機EL的堤部材料時，圖案的剖面為正錐形形狀的發光材料的成膜變順利，薄膜層的一部分不會變薄或中斷，就可防止發光區域內的亮度不均等不良情況的方面而言較佳。將其結果示於表2中。
（6）CNT去除性的評價 對於所述獲得的圖案形成後基板，若感放射線性樹脂組成物塗佈膜藉由顯影而被去除，則線與空間圖案的空間部分可確認到基底的CNT導電層。
圖7及圖8均為利用原子力掃描顯微鏡（原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope，AFM））拍攝基板的空間部分的表面而得的照片，圖7是可觀察到CNT的凹凸的基板表面的照片的一例，圖8是利用AFM而未觀察到CNT的凹凸的、即CNT被樹脂、第一聚合物覆蓋的基板表面的照片的一例。將表面的第一聚合物被去除而如圖7所示般可看見CNT（碳奈米管）的露出者設為「良（A）」，將如圖8所示般CNT的一部分露出者設為「可（B）」，將表面被樹脂覆蓋而看不見CNT的露出、或者因膜形成不良而無法判別者設為「不良（C）」。
（7）判定基準 在與分散液有關的評價、及針對基材的感放射線性樹脂組成物的各自的評價中，將結果為即便為一個亦顯示出「不良」的樣品判定為NG。
彙總以上結果而如下述表1及表2所示。
[表1]
分散液 分散劑 CNT分散性 CNT分散穩定性 分散液的塗佈性 判定
S-1 PAA A A A OK
S-1 PAA A A A OK
S-2 PAc B C B OK
S-2 PAc B C B OK
ss-1 PSt C D C NG
[表2]
基材 感放射線性 樹脂組成物 感放射線性 樹脂組成物 的塗佈性 圖案形狀 CNT去除性 判定
S-1基材 P-1 A A A OK
S-1基材 P-2 B A A OK
S-2基材 P-2 B B B OK
S-2基材 P-1 B B B OK
S-1基材 P-3 A B A OK
ss-1基材 pp-1 B C C NG
1:顯示面板 2:基材 2a:元件區域 2b:周邊區域 10:絕緣層 20:有機樹脂層 30:塗佈膜 30a:聚醯胺酸 30c:CNT 40:第一膜 50:第二膜 60:光罩 70:導電層 80:圖案 A1:曝光部 L1:放射線
圖1是表示顯示面板的一實施形態的整體結構的概略圖。 圖2是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。 圖3是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。 圖4是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。 圖5是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。 圖6是示意性地表示形成導電膜的步驟的圖式。 圖7是利用AFM拍攝基板的表面而得的照片。 圖8是利用AFM拍攝基板的表面而得的照片。
2:基材
10:絕緣層
20:有機樹脂層
30a:聚醯胺酸
30c:CNT
50:第二膜
60:光罩
A1:曝光部
L1:放射線

Claims (15)

  1. 一種導電膜的製造方法，包括：步驟（A），在基材的主表面上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第一聚合物、與碳材料的分散液並進行乾燥，形成第一膜； 步驟（B），在所述第一膜上塗佈含有具有羧基、羥基、酚性羥基中的任一種官能基的第二聚合物、與光酸產生劑的感放射線性樹脂組成物，形成第二膜； 步驟（C），對所述第二膜的一部分進行曝光；以及 步驟（D），在實施所述步驟（C）之後，去除在所述步驟（C）中經曝光的部分的所述第一聚合物及所述第二聚合物。
  2. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（A）塗佈具有聚醯胺酸結構的所述第一聚合物，所述步驟（B）塗佈具有聚醯胺酸結構的所述第二聚合物。
  3. 如請求項2所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（A）塗佈含有具有聚醯胺酸結構的所述第一聚合物、與有機溶劑的所述分散液。
  4. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（B）塗佈含有所述第二聚合物的所述感放射線性樹脂組成物，所述第二聚合物將具有下述通式（1）所表示的結構單元的聚醯胺酸作為主成分， 式（1）中，R 1是構成四羧酸的四價有機基，R 2是構成二胺的二價有機基，n表示正整數。
  5. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（A）塗佈含有選自碳奈米管、石墨烯、富勒烯中的至少一種碳材料的所述分散液。
  6. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（B）塗佈含有醌二疊氮化合物作為所述光酸產生劑的所述感放射線性樹脂組成物。
  7. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（B）塗佈含有著色劑的所述感放射線性樹脂組成物。
  8. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（A）塗佈相對於所述碳材料的含量而以1,000質量%至100,000質量%的範圍包含所述第一聚合物的所述分散液。
  9. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（A）藉由旋塗法、狹縫塗佈法、棒塗法、噴霧塗佈法、噴墨法中的任一塗佈方法，塗佈所述分散液。
  10. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（B）藉由旋塗法、狹縫塗佈法、棒塗法、噴霧塗佈法、噴墨法中的任一塗佈方法，塗佈所述感放射線性樹脂組成物。
  11. 如請求項1所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（C）進行介隔半色調遮罩的曝光。
  12. 如請求項2所述的導電膜的製造方法，其中，所述步驟（D）將鹼性水溶液、有機溶媒或該些的混合液中的任一種作為顯影液，來去除所述第一聚合物及所述第二聚合物。
  13. 一種分散液，在如請求項1至12中任一項所述的導電膜的製造方法中使用。
  14. 一種感放射線性樹脂組成物，在如請求項1至12中任一項所述的導電膜的製造方法中使用。
  15. 一種發光元件，包括藉由如請求項1至12中任一項所述的導電膜的製造方法而製造的導電膜。
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