TWI389168B - 基板洗淨裝置 - Google Patents

Description

基板洗淨裝置

本發明係有關使用在液晶製造過程的抗蝕劑剝離製程中之基板洗淨處理、或成膜前後之基板洗淨處理、蝕刻製程中之基板洗淨處理、顯像製程中之基板洗淨處理等的基板洗淨裝置，特別是有關使用在稱為平流式的基板搬運方式之處理線的基板洗淨裝置。

在液晶面板之製造上，於屬素材之大面積的玻璃基板表面，藉由反覆實施成膜、塗敷抗蝕劑、顯像、蝕刻、抗蝕劑剝離之各處理而在基板表面形成積體電路。各處理方式的代表之一係稱為平流的基板搬運方式，其係將基板以水平姿勢或橫傾傾斜姿勢一邊搬運於水平方向，一邊在其表面反覆進行各種處理。

例如，在平流式之抗蝕劑剝離處理，係對以水平姿勢搬運於水平方向的基板表面供給剝離液，接著藉洗淨水沖洗其表面。在沖洗製程，基板始終以橫傾的傾斜姿勢搬運於水平方向。作為剝離液係有如胺系，以採用一與水混合時即呈現強鹼性的有機剝離液居多。對經如此的剝離液所處理過的基板之表面直接予以水洗時會生成強鹼液，基板表面之金屬配線會因為此浸蝕作用而受到損傷。因此，在藉由剝離液的處理與水洗處理之間，亦有對基板表面以稱為置換液的不含二甲亞碸(DMSO)等之胺的有機溶劑進行置換洗淨的情形。

在藥液處理區域之出口部，為了阻止剝離液或置換 液等的藥液侵入下一個水洗區域，而進行以於基板之表面未乾燥之程度去除殘存在其表面的處理液。關於此去除裝置，係大多使用採用將空氣以幕狀噴出的開縫噴嘴之氣刀式去除裝置(參照日本國專利文獻1)。

〔專利文獻1〕特開2003-92284號公報。

然而，以藉氣刀去除藥液而言，為了不使基板之表面乾燥亦有不能加大空氣壓力而在基板上殘留相當量之藥液，此藥液連同基板一起被帶進水洗區域的問題。在水洗區域，雖為去除殘留於基板上的藥液而藉淋浴方式供給大量之洗淨水於基板之表面，但洗淨使用後的排水因藥液而被嚴重污染，所以大量地產生淨化處理困難的產業廢棄物，昂貴的處理成本成為大的問題。

為了解決此問題，水洗區域用2以上的腔室來構成，在前段之腔室對基板進行粗洗淨、在後段的腔室進行精密洗淨。如此一來，在前段之腔室雖會產生高污染度的排水，但在後段之腔室產生的排水之污染度變低，後者之排水能夠藉由細菌等進行較簡單地淨化，所以結果能夠抑制處理困難的高污染度之排水的產生量。

然而，依據如此的對策，用2以上的腔室構成水洗區域的關係，生產線變長，裝置會大型化。雖然說使用2以上的腔室，但在前段的腔室會產生多量的高污染度之排水，其處理成本不便宜。又，在後段的腔室使用的洗淨水之量亦多。

於是，本申請人，係先開發了一種洗淨裝置並申請了專利[PCT/JP2004/17350(日本國特願2003-393368)]， 該洗淨裝置係將以幕狀供給洗淨水於基板表面之所謂的水刀式之液膜式洗淨手段配置在水洗區域之入口部，再於其下游側連續地配置將洗淨水呈薄膜狀噴出以置換殘留在基板上的洗淨液之利用液刀的切液手段(切液液噴嘴)的2段構成。依此，在水洗區域之入口部藉水刀於基板上形成漿狀物，基板上之殘留處理液就藉少量之洗淨水進行高效率地水置換，減輕於後續的淋浴處理之負擔。而且，處理區域非常短就夠用。因此，能謀求縮短生產線長度、節省洗淨水使用量等。

如此，藉水刀進行水置換處理之情形，因為幕狀的大流量噴霧，故瞬時地稀釋藥液使反應停止的置換能力優越。可是，不能獲得如淋浴處理般的衝擊作用、攪拌作用。因此在要求強力洗淨能力的用途，不能充分地滿足其要求，水使用量之節省效果亦說不上足夠。

本發明之目的在於提供與水刀同樣小型，且具有置換性能高，兼具有水刀無法相較的強力洗淨能力之高效率的基板洗淨裝置。

為了達成上述目的本發明之基板洗淨裝置，係具備有：基板搬運機構，將基板以水平姿勢或橫傾的傾斜姿勢搬運於水平方向；第1噴嘴列，在與基板搬運方向成直角的板寬方向以規定間隔排列，各自將洗淨液吐出呈三角形之膜狀，且以直線狀吹附於基板表面的平面型噴霧 嘴，並且各噴嘴於基板表面的直線狀噴霧圖案對該板寬方向以規定角度朝同方向傾斜般地排列，及第2噴嘴列，於第1噴嘴列之下游側以規定間隔排列在該板寬方向，各自將洗淨液吐出呈三角形之膜狀並且直線狀地吹附於基板表面的平面型噴霧嘴，從各噴霧嘴之液膜以規定之重疊方式連續於該板寬方向，形成遍及板寬方向全域的幕狀液膜。

關於本發明之基板洗淨裝置，係複數個平面型噴霧嘴排列在板寬方向所構成之第1噴嘴列及第2噴嘴列在基板搬運方向配置為2段。於上游側之第1噴嘴列，係各噴嘴之直線狀噴霧圖案對板寬方向以30度以上的大角度朝同方向傾斜，於下游側之第2噴嘴，係各噴嘴之直線狀噴霧圖案對板寬方向以15度以下的小角度方向傾斜，俾使源自各噴霧嘴之液膜以規定之重疊方式在該板寬方向連續地形成遍及板寬方向之全域的幕狀液膜。

然後，由於源自第2噴嘴列之幕狀液膜作為堰堤發揮機能，來自第1噴嘴列中的複數個平面型噴霧嘴之洗淨液積存在此堰堤的上游側形成漿狀物。在此，漿狀物係因自第1噴嘴列複數個平面型噴霧嘴之獨立地吐出洗淨液而被賦與大的衝擊力進而產生激烈的攪拌。而且，藉由複數個噴霧嘴傾斜於同方向，亦促進液體朝向基板側方的排出。

亦即，關於本發明之基板洗淨裝置，藉由來自漿狀物上的衝擊，在其漿狀物得到顯著的攪拌作用，因為液體順暢排出，故液體置換性亦優越。

關於本發明之基板洗淨裝置，在第1噴嘴列的複數個平面型噴霧嘴在圓周方向的傾斜角度是很重要的。傾斜的主要目的，係對第2噴嘴列發生液流，藉以使第1噴嘴列與第2噴嘴列之間產生漿狀物適度地將液體排出於基板側方者。在此，關於傾斜角度，係設定各直線狀噴霧圖案對板寬方向設成以30度以上的大角度傾斜，較佳為設成以45度±15度之角度傾斜。當此傾斜角度小時則對液體朝基板側方排出的作用變過大，所以在第1噴嘴列與第2噴嘴列之間未充分地形成漿狀物，從漿狀物而來的液體無法藉第1噴嘴充分實行攪拌。相反地過大時，會減低液體向基板側方排出的作用。又，由於以對板寬方向不稀疏般地配置噴嘴，故噴嘴支數增多，經濟性惡化，同時因流量增加而難以藉由第2噴嘴進行堰塞。

關於第2噴嘴列的複數個平面型噴霧嘴在圓周方向之傾斜角度，為了避免在鄰接噴霧嘴間的噴射液之干涉，各直線狀噴霧圖案與板寬方向宜設成以15度以下之些微的角度朝同方向傾斜。未有傾斜時會產生噴射液之干涉，不能形成穩定的液膜。傾斜角度過大時會降低堰塞作用。特別理想的傾斜角度為5度以下。

較佳為，第1噴嘴列及第2噴嘴列任一者中，在鄰接的噴嘴間，以直線狀噴霧圖案於板寬方向重疊，確保無浪費流量般地設定噴霧嘴之排列節距，更詳言之，較佳為，以比起第1噴嘴列，在第2噴嘴列這側重疊會變大的方式設定噴嘴之排列節距。由此觀點，第1噴嘴列中，排列節距宜設為在基板表面的直線狀噴霧圖案之板寬方向 的成分長度之1倍以下，在第2噴嘴列宜設為同一成分長度之0.5倍以下。鄰接的噴嘴過於接近則流量變成比必要還多、經濟性降低。過於離開時，有部分之液體的衝擊變弱，在第1噴嘴列的攪拌效果變弱、或在第2噴嘴列堰塞效果變弱。

關於第1噴嘴列與第2噴嘴列於基板搬運方向的疏離距離，從液體排出這點考量，有必要使各噴射液不產生干涉，而從形成漿狀物、縮短裝置長度等之觀點，以使該疏離距離在此範圍內儘量設小較為理想。又有關從噴霧嘴迄至基板之距離以30~60mm為宜。噴霧嘴過於接近基板，則液體之衝擊力變大，但會增加噴嘴支數、液體的使用量增大。相反地，噴霧嘴過於疏離基板時，衝擊力變弱、攪拌效果等變弱。

關於其他重要的設計要件，有第1噴嘴列與第2噴嘴列之間的流量均衡，理想是此流量大致同等。若第1噴嘴列的流量比第2噴嘴列的流量大過多時，第2噴嘴之堰堤被破壞，變得難以形成漿狀物。相反地，若第1噴嘴列的流量比第2噴嘴列的流量小太多時，於第2噴嘴列吐出液產生浪費，經濟性惡化。由此觀點，於兩噴嘴列的噴嘴數係通常設為同數量。

在第1噴嘴列及第2噴嘴列的液體吐出時序，從限定在基板通過下方時進行可減低液體使用量這點考量較佳。

在第2噴嘴列之更下游側，最好設置將洗淨液噴出呈薄膜狀之將置換殘留在基板上的洗淨液之液刀的切液手 段。藉此沒有液體朝下游側帶出的情形，在該洗淨裝置所使用的洗淨液可效地排出，同時液體置換效果更加提升。

通過該洗淨裝置的基板不必一定要為水平姿勢，以規定角度(例如7度以下)橫傾的傾斜姿勢亦可以。透過基板橫傾而提高液體之排出效率。

本發明之基板洗淨裝置，係由各直線狀噴霧圖案對板寬方向以30度以上的大角度傾斜的複數個平面型噴霧嘴所構成的第1噴嘴列，與由各直線狀噴霧圖案對板寬方向以15度以下的小角度傾斜的複數個平面型噴霧嘴所形成，且源自各噴嘴的液膜以規定之重疊方式連續於板寬方向，形成遍及板寬方向之全域的幕狀液膜的第2噴嘴列，該等噴嘴列在基板搬運方向排列成2段所構成，基於該構成而於短的生產線長度呈現高的水置換性能，而且藉由強力的衝擊力及攪拌作用顯現高的洗淨能力。藉此能夠大幅度節眚洗淨液之使用量、能夠減低廢液處理成本。再者，若限定源自噴霧嘴之液體在基板通過中吐出，能夠更加節省洗淨液之使用量。

〔實施發明的最佳之形態〕

以下根據圖式說明本發明之實施形態。第1圖係就具備本發明之基板洗淨裝置之抗蝕劑剝離設備之一例，表示其概略構成的側視圖、第2圖係使用在同一抗蝕劑剝離設備的基板洗淨裝置的側視圖、第3圖係同一基板洗淨裝 置之正視圖、第4圖係同一基板洗淨裝置之平視圖。

本實施形態中，本發明之基板洗淨裝置係設置在抗蝕劑剝離設備之洗淨路線(沖洗線)的入口部。抗蝕劑剝離設備，係使用於用以製造液晶顯示裝置用玻璃基板之抗蝕劑剝離處理。此抗蝕劑剝離設備，係成為以水平姿勢搬運於水平方向的玻璃基板10依序通過藥液處理區域20、水洗區域30的構成。各區域係由複數個腔室所構成。

基板搬運機構，係藉由配列在基板搬運方向的多數個搬運輥子40，從下方一邊支持玻璃基板10一邊作搬運。搬運輥子40，係藉由在旋轉軸41之軸向以規定間隔安裝的凸緣狀支持部42，對板寬方向之複數個部位進行點支撐而搬運玻璃基板10，且能移動於搬運方向地予以支撐。

藥液處理區域20係具備有供給剝離液於基板10之表面的複數個淋浴單元21。在藥液處理區域20之出口部，位於淋浴單元21之下游側位置設置有包夾玻璃基板10之搬運路線的上下1對之切液手段22、22。切液手段22、22係形成氣刀的開縫噴嘴，透過使此氣刀在玻璃基板10之表面及背面朝上游側傾斜衝撞，以未使玻璃基板10之表面及背面乾燥的程度，去除附著殘存在玻璃基板10之表面及背面的剝離液。

水洗區域30為，本發明之基板處理裝置31裝備在入口部，其下游側具備有將大量之洗淨水廣範圍地散布於玻璃基板10表面的複數個淋浴單元32。在水洗區域30之 出口部，設置有包夾基板10搬運路線的上下1對之切液手段33、33。

本發明之基板處理裝置31，其於本實施形態中係對應粗洗淨區域，具備有：在玻璃基板10之搬運路線上方隔以規定之間隙配置於基板搬運方向的2個噴嘴列50、60；及於其下游側包夾基板搬運線的上下一對之液刀的切液手段70、70。

位於上游側的第1噴嘴列50係具備有在與玻璃基板10之搬運方向成直角的板寬方向延伸的管集箱管51、與在管集箱管51以規定間隔朝面下安裝的噴霧嘴52、52‥。噴霧嘴52、52‥，係為將洗淨液吐出呈三角形狀之薄膜的山型平噴嘴，在玻璃基板10表面的直線狀噴霧圖案53對板寬方向以規定角度θ1(在此係30~60度)傾斜般地沿圓周方向的傾斜配置。在板寬方向的噴霧嘴52、52‥之排列節距P1係設定成：於鄰接的噴霧嘴52、52間直線狀噴霧圖案53在板寬方向重疊，且可均勻地賦予衝擊的怖設。具體言之，噴霧嘴52、52‥之排列節距P1，係直線狀噴霧圖案53之板寬方向的長度D1之1.0~0.8倍。

位於下游側的第2噴嘴列60係具備有在與玻璃基板10之搬運方向成直角的板寬方向延伸之管集箱管61，及以規定間隔朝面下方向安裝於管集箱管61的噴霧嘴62、62‥。噴霧嘴62、62‥，係為將洗淨液吐出呈三角形狀薄膜的山型平噴嘴，為了防止於玻璃基板10之表面的直線狀噴霧圖案63在鄰接的噴嘴間的干涉，直線狀噴霧圖案63對板寬方向以稍微之角度θ2(在此為5度以下)傾斜 般地，於圓周方向傾斜配置。又，在板寬方向的噴霧嘴62、62‥之排列節距P2，係與噴霧嘴52、52‥之排列節距P1相同，在鄰接的噴霧嘴62、62之間直線狀噴霧圖案63在板寬方向重疊般地，設為直線狀噴霧圖案63之板寬方向的長度D2之約0.5倍。依此等，第2噴嘴列60係形成於板寬方向連續且朝基板表面流下的幕狀洗淨液膜。

於第1噴嘴列50的噴霧嘴52、52‥與於第2噴嘴列60的噴霧嘴62、62‥係相同數目、且以相同節距彼此對應，藉此使流量一致。即使是同數量、同節距、但因各自傾斜角度不同，所以鄰接噴嘴間之重疊量形成為，所謂用在衝擊上的前者之重疊量小，而用在堰塞上之後者的重疊量大的理想形態。

第1噴嘴列50與第2噴嘴列60的間隔L2，在此與玻璃基板10之長度L1(例如1800mm)無關而為60~100mm，即使是包含下游側之液刀的切液手段70、70在內的洗淨裝置全體之長度L3，亦抑制在300mm以下。

於第1噴嘴列50的管集箱管51及於第2噴嘴列60的管集箱管61，係連接在配置於其一端側的共通之母管80，藉由該母管80供給洗淨液。

液刀的切液手段70、70係設置在基板搬運路線之上方及下方，全都是由複數個噴霧嘴所形成。複數個噴霧嘴，係為將洗淨水吐出呈三角形狀薄膜的山型平噴嘴，為了形成於板寬方向連續的液刀，係排列在與基板搬運方向成直角的方向。然後，藉由使此液刀於玻璃基板10之表面及背面朝上游側(相反的方向)傾斜衝撞，切液手 段70、70係將附著殘留在玻璃基板10之表面及背面的洗淨液與新的洗淨液置換。

然後，第1噴嘴列50、第2噴嘴列60及切液手段70、70係限定在基板通過時進行吐出液體。

淋浴單元32係對應於精密洗淨區域，為與以往使用者同樣構造，將大量的洗淨液廣範圍地散布在玻璃基板10之表面。設在淋浴單元32下游側之液刀的切液手段33、33，係與該切液手段70、70同樣，由設置在基板搬運路線之上方及下方的複數個平面型噴霧嘴所形成，透過使所形成之液刀於玻璃基板10之表面及背面朝上游側傾斜地衝撞，將附著殘留在玻璃基板10之表面及背面的洗淨液一邊置換為新的洗淨水一邊去除。

其次，說明本發明之基板處理裝置31及具備有此基板處理裝置的抗蝕劑剝離設備之機能。

在玻璃基板10通過藥液處理區域20的期間，從淋浴單元21供給大量剝離液於玻璃基板10之表面。藉此，溶解去除附著在玻璃基板10表面的抗蝕劑。接著，從淋浴單元21供給剝離液於玻璃基板10之表面。然後，在出口部，附著殘留於玻璃基板10的表面及背面的剝離液，被氣刀方式之切液手段22、22去除。

自藥液處理區域20出來的玻璃基板10係緊接著進入水洗區域30。在水洗區域30，首先利用構成粗洗淨區域的本發明之基板洗淨裝置31，以屬洗淨液的純水沖洗玻璃基板10之表面。

具體而言，首先在通過第1噴嘴列50之下面時，利用 從多數個平面型噴霧嘴52、52‥噴出的洗淨液，洗淨玻璃基板10之表面。此時，於下游側，利用從第2噴嘴列60之多數個平面型噴霧嘴62、62‥噴出的洗淨液，形成於板寬方向連續的幕狀液膜。因此，從平面型噴霧嘴52、52‥噴射在玻璃基板10表面上的洗淨液被堵住，且因為在玻璃基板10之表面上屯積洗淨液而形成漿狀物。而且從平面型噴霧嘴52、52‥噴出的洗淨液，係對玻璃基板10之板寬方向以30~60度之角度傾斜。因此等之緣故，呈現從平面型噴霧嘴52、52‥噴出的洗淨液對基板上之漿狀物以強力的衝擊力衝撞且強力攪拌的作用。同時，其洗淨液從玻璃基板10之表面上朝側方順暢地排出。

因此等之緣故，於本發明之基板洗淨裝置31，係玻璃基板10之表面藉少量之洗淨液高效率地進行水置換，且亦藉洗淨液進行機械的洗淨。而且，由於基板洗淨裝置31的液體吐出係被限定在基板通過時，所以由此點亦可達成減少洗淨液。

於本發明之基板洗淨裝置31，係更利用液刀方式之切液手段70、70去除附著殘存於玻璃基板10之表面及背面的洗淨水。

利用切液手段70、70形成的液刀，係於所搬運的玻璃基板10之表面以如氣刀般地朝相反的方向傾斜地衝撞。藉此，附著在玻璃基板10之表面及背面的洗淨液係被和氣刀同樣原理被有效率地去除，但與液刀之強度無關地，因於玻璃基板10之表面及背面，僅微量的洗淨水均勻地分佈殘留，故未有如氣刀般使玻璃基板10之表面及 背面乾燥之虞。

此外，切液手段70、70在此係組合平面型噴霧嘴所構成，與以開縫噴嘴形成液刀的情況相較下，能以少的流量獲得大的衝擊力。因此，去除附著在玻璃基板10表面及背面的洗淨液效果特別的高。

接受本發明之基板洗淨裝置31的粗洗淨處理的玻璃基板10，緊接著進入精密洗淨區域。在精密洗淨區域，透過玻璃基板10通過從淋浴單元32噴出的洗淨液淋浴中，對玻璃基板10之表面進行精密洗淨。在出口部，附著殘存於玻璃基板10的表面及背面的洗淨水係被液刀方式之切液手段33、33所去除。液刀方式之切液手段33、33之優越性乃如上所述者。

如此，以本抗蝕劑剝離設備而言，於洗淨區域30之粗洗淨區域中，附著殘存於玻璃基板10表面及背面的大部分剝離液係和洗淨液置換，但其結果會因剝離液而產生高濃度污染的排水。可是在粗洗淨區域，係依本發明之基板洗淨裝置31進行高效率的洗淨，故與以淋浴進行粗洗淨的情況相較下可大幅減少洗淨水之使用量。因此，細菌處理困難的污染度高的排水之產生量亦大幅地變少。又，可儘量減輕玻璃基板10因剝離液的鹼性所導致的損傷。

在接於粗洗淨區域之後的精密洗淨區域，因附著殘存在玻璃基板10表面及背面的大部分剝離液業已置換，所以排水之污染度低，產生量亦變少。在此產生的低污染度之排水可藉由細菌等之生物處理簡單地淨化。附帶 一提，關於在粗洗淨區域產生的高污染度的排水處理法，一般係在回收後，由民間的處理業者等進行廢液處理。

關於在第1噴嘴列50及第2噴嘴列60的洗淨液之吐出條件，係以平均每基板寬度100mm吐出3~10L/min較佳。洗淨液之吐出量少時洗淨效果就不足。過多時會增大不必要之水的成本，同時配置在下游側的液刀式之切液手段70、70之負擔變大。

又，關於液刀式之切液手段70、33的洗淨水之吐出量，以平均每基板寬度100mm吐出2~5L/min較佳。少於此量時切液性惡化。多於此量時則進行切液後之殘液變多，液體成本增大。切液手段70、33的液刀對基板表面的傾斜角度係以30~50度較佳。此傾斜角度過小時霧氣會在吐出方向大量飛散，再度附著而造成均勻性降低的問題。過大時切液性惡化、吐出液之逆流亦成為問題。依此等的條件設定，關於切液後之基板表面上的殘液量，可確保理想的膜厚0.1~0.3mm。

上述實施形態，係為將本發明之基板洗淨裝置適用於抗蝕劑剝離設備之粗洗淨的例子，但除此之外，亦能適用於蝕刻設備的洗淨部、成膜前後之基板洗淨設備等之在藥液處理後需要水洗處理的濕式處理或以去除粒子為目的之洗淨處理。又，在剝離區域20僅使用剝離液，但亦有使用剝離液及置換液之情形，此時在水洗區域30將置換液作水置換。

本發明之基板洗淨裝置，亦能代替藉上述水力的置 換裝置之使用，當有必要瞬時地進行均勻性高的液置換時，亦能夠與水刀的置換裝置組合來使用。

1‧‧‧玻璃基板

20‧‧‧剝離區域

21、32‧‧‧淋浴單元

22、33、70‧‧‧切液手段

30‧‧‧水洗區域

31‧‧‧基板洗淨裝置

40‧‧‧搬運輥子

50、60‧‧‧噴嘴列

51、61‧‧‧管集箱管

52、62‧‧‧平面型噴霧嘴

80‧‧‧母管

第1圖係具備有本發明基板洗淨裝置的抗蝕劑剝離設備之一例，表示其概略構成之側視圖。

第2圖係使用在同一抗蝕劑剝離設備的基板洗淨裝置之側視圖。

第3圖係同一基板洗淨裝置之正視圖。

第4圖係同一基板洗淨裝置之平視圖。

10‧‧‧玻璃基板

20‧‧‧藥液處理區域

21、32‧‧‧淋浴單元

22、33、70‧‧‧切液手段

30‧‧‧水洗區域

31‧‧‧基板處理裝置

40‧‧‧搬運輥子

50、60‧‧‧噴嘴列

51、61‧‧‧管集箱管

L1‧‧‧玻璃基板10之長度

L2‧‧‧第1噴嘴列50與第2噴嘴列60的間隔

L3‧‧‧洗淨裝置全體之長度

Claims (3)

1. 一種基板洗淨裝置，其特徵為具備有：基板搬運機構，將基板以水平姿勢或橫向傾斜的傾斜姿勢於水平方向進行搬運；第1噴嘴列，由平面型噴霧嘴構成，以規定間隔排列在與基板搬運方向呈直角的板寬方向，各個噴霧嘴係以將洗淨液呈三角形之膜狀吐出並以直線狀噴吹於基板表面，且基板表面中的各直線狀噴霧圖案相對於該板寬方向以規定角度朝同方向傾斜的方式在圓周方向變位；及第2噴嘴列，由平面型噴霧嘴構成，於第1噴嘴列之下游側以規定間隔排列於該板寬方向，各個噴霧嘴係以將洗淨液呈三角形之膜狀吐出並以直線狀噴吹於基板表面，且基板表面中的各直線狀噴霧圖案相對於板寬方向以規定角度朝同方向傾斜的方式在圓周方向變位，下游側的第2噴嘴列，係基板表面中的各直線狀噴霧圖案相對於板寬方向之傾斜角度θ2設成15度以下的小角度之液膜形成用噴嘴列，俾使源自各噴霧嘴之液膜以規定之重疊而連續地於該板寬方向形成遍及板寬方向之全域的幕狀液膜，上游側的第1噴嘴列，係基板表面中的各直線狀噴霧圖案相對於板寬方向之傾斜角度θ1設成30度以上的 大角度之槳狀物形成用噴嘴列，俾透過產生朝向下游側的第2噴嘴列之液流，將藉由第2噴嘴列所形成之液膜作為堰堤而在與該液膜之間形成伴隨攪拌而成的漿狀物，且進行朝基板側方排出液體。
2. 如申請專利範圍第1項之基板洗淨裝置，其中該第1噴嘴列中排在板寬方向的複數個平面型噴霧嘴，係以各直線狀噴霧圖案相對於板寬方向呈45度±15度之角度傾斜的方式傾斜配置於圓周方向。
3. 如申請專利範圍第1或2項之基板洗淨裝置，其中該第2噴嘴列中排在板寬方向的複數平面型噴霧嘴，係以在鄰接的噴霧嘴之間避免干涉噴射液，且各噴嘴在基板表面中的直線狀噴霧圖案相對於板寬方向呈15度以下之角度且朝同方向傾斜的方式傾斜配置於圓周方向。