TWI386282B - 平面顯示器用的面板ｒ角加工研磨機 - Google Patents

Description

平面顯示器用的面板R角加工研磨機

本發明是有關一種平面顯示器用的面板R角加工研磨機，更詳細的解說能夠比舊式的R角加工方法節省更多的循環工時(tact time)，而且能夠提高平面顯示器用的面板R角加工研磨機的生產效率。而且可以改善萬一複數作業平台及複數的研磨加工用的砂輪之中的任何一組發生故障時，全部設備即無法動工的R角加工研磨機的問題，得以提高生產效率。

最近，半導體產業中的電子顯示器產業急遽地發展起來，平面顯示器(FDP)的製造也開始廣受矚目。

從前，在平面顯示器(FDP)尚未流行前，電視或電腦等的顯示器(Display)主要都使用陰極射線管(CRT-Cathode Ray Tube)，而現在發展出又輕又薄的影像顯示裝置，主要包括有液晶顯示裝置(LCD-Liquid Crystal Display)，電漿顯示器面板(PDP，Plasma Display Panel)，有機EL(OLED，Organic Light Emitting Diodes)等。

以下將說明LCD，PDP及OLED等的平面顯示器(FDP)的面板。

通常面板都是長方形的玻璃材質做成的。因此，必須要對面板的四個邊角及長邊和短邊的邊緣，進行邊角加工，將面板短邊邊緣及長邊邊緣實施邊材的角落加工，也就是說對面板的四角及邊材採取磨圓方式的研磨R角加工，以便將玻璃本身的尖銳角落除去，因此便於進行後面的製程間的搬送及操作，又可預防發生刮傷等有關人身安全的意外等，因此需要使用R角加工研磨機進行R角的加工。

在以往使用的R角加工研磨機之中，有的是使用單一的研磨R角加工用的砂輪(wheel)對面板的四個邊角，短邊邊緣及長邊邊緣的任一處進行加工。但是像那樣使用單一的研磨R角加工用的砂輪來對四個邊角，短邊邊緣及長邊邊緣之任一處加工時，因為不可能實施連續作業，故會造成浪費許多工時的問題。

基於上述問題，於是我們思考改善上述缺點，因此發表了新發明的磨圓R角的加工研磨機，能夠分別地對面板的四個邊角，短邊邊緣及長邊邊緣實施加工作業。

圖1所示係舊型R角加工研磨機的概略構成圖示。

而如圖1中所顯示，舊型的R角加工研磨機在對面板進行R角研磨加工時，其配置方式是配置在面板兩側的面板承載機組10和面板卸載機組30之間，夾住R角研磨加工機組20的配置形式。

面板載放在R角加工機組20之上，沿著連結面板承載機組10和面板卸載機組30所形成的一個虛擬的作業線形，而第一作業平台21及第二作業平台22呈直線排列配置，而為了讓第一作業平台21及第二作業平台22要對載放的面板實施對位，故須配置第一組對位用攝影機25a，及第二組對位用攝影機25b，還有對第一組R角加工用的砂輪26a，及對第二組R角加工用的砂輪26b。

第一對位用攝影機25a和進行第一組R角加工用的砂輪26a，會沿著面板的搬送進行方向對面板的前面兩側的四個角落，以及對短邊邊緣進行對位及加工。後面兩側的機組負責對四角加工，而第二對位用攝影機25b和第二組R角加工用的砂輪26b，則負責對面板長邊邊緣的對位及加工。

依上述之結構，當面板從放在面板承載機組10，再移送到要實施R角加工的第一作業平台21的上面時，首先根據第一對位用攝影機25a所拍攝的影像，將面板放置在第一作業平台21的定位位置對好角度。之後，第一作業平台21可能會向著進行第一組R角加工用的砂輪26a移動，或者反之也可以採取移動第一組R角加工用的砂輪26a，向第一作業平台21移動加工的動作，然後分別依序對著面板的進行方向，面板的前面兩側的四角，短邊邊緣，還有後面兩側的邊緣按順序加工。

其後，再另外由面板搬送機器人(pick-up robot)(圖未顯示)會將第一作業平台21上的面板舉起旋轉九十度之後，再移送到第二作業平台22之上。接著，再度將對已經被送到第二作業平台22上的面板，實施對位作業到指定位置後，使用第二組研磨R角加工用的砂輪26b，對著面板的長邊邊緣進行加工，到最後完成R角加工的面板，則由面板卸載機組30送出。

如上述，舊型的R角加工研磨機在第二作業平台22上，對著面板長邊邊緣進行加工時，為了讓面板在第一作業平台21上面對著面板的前面兩側的邊緣，以及短邊邊緣，還有後面兩側的邊緣進行加工的動作，會比只使用一組R角加工用的砂輪(無圖示)的R角加工研磨機(無圖示)更能夠縮減工時。換言之，在R角加工機組20上將第一作業平台21及第二作業平台22排列成一直線，即可讓R角加工作業變成生產線生產的加工方式，因而能夠縮短加工工時。

但問題是類似這種舊型R角加工研磨機在進行加工時，在將面板從第一作業平台21搬移到第二作業平台22上的時候，因為一定要使用搬送機器人(pick-up robot)，把面板抬放到第二作業平台22之上，接著必須要再度進行一次對位校準的作業，因而須包含用搬送機器人移放面板的搬送時間，及在第二作業平台22上二度對面板實施對位校準作業也需要花費時間，故從縮減工時的角度上來說，是相當缺乏效率的。

另外還有一個缺點係這種舊型的R角加工研磨機上面的第一作業平台21及第二作業平台22，還有負責進行第一組R角加工用的砂輪26a，及第二組R角加工用的砂輪26b彼此之間都是呈直線排列配置的構造，故只要是其中任何一個發生故障，則全部的設備都會停頓無法進行作業，而形成降低生產效率之主因。

本發明的目的是希望能夠更進一步縮減及改善以往進行面板的R角加工作業時所需要的循環工時(tact time)，以提高生產效率，而且萬一複數的作業平台及複數的研磨加工機組之一發生故障時，全部的機組就完全無法進行加工作業的平面顯示器用之舊型R角加工研磨機所有的上述問題。

上述發明的目的係藉由實施本發明後，在面板承載機組(loading unit)和面板卸載機組(unloading unit)之間，配置包括可對面板進行R角加工的R角研磨加工機組，以及可卸載上述面板的面板卸載機組。研磨加工機組還有包含連結及配置在可載置及固定面板的面板承載機組，和面板卸載機組的一條虛擬的作業線形上，並與之呈直角相交，同時可相互分離配置的複數作業平台，以及載置於上述複數作業平台上，可實施面板的對位作業之至少一組的對位攝影機，還有具備有可對載置於上述複數的作業平台的面板進行加工的砂輪之研磨加工機組。

若能運用本發明，則研磨R角加工作業時所需要的循環工時(tact time)將會比採用以往的研磨方式縮減不少工時，故能提高生產效率。而且可以改善類似萬一複數的作業平台及複數的研磨加工機組用的砂輪之中的任何一個發生故障時，則整體設備就完全無法動工的舊型R角加工研磨機組的問題點，故能夠改善問題並提高生產效率。

【實施本發明的最佳型態】

為了讓閱讀本發明的人，充分地了解本發明和發明的動作上的優點，及藉由實施本發明而能達成縮減工時的目的，故必須要以附圖的方式，舉例說明本發明的內容，故請務必參照附圖及文字記載的內容閱讀。

以下，發明人將藉由附圖以詳細說明，本發明所希望做到的實施加工之型態。各圖面中都附加相同的參考符號，所有的編碼代表相同的機構或裝置。

圖2是為說明本發明之實施形態之一的平面顯示器用的R角加工研磨機組的概略性結構圖面。

在尚未進入圖面說明之前，以下所說明的面板是屬於TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)的面板，但是本發明的專利範圍，並不止限定於TFT-LCD的面板而已，也可適用於電漿顯示器面板(PDP，Plasma Display Panel)，有機EL(OLED，Organic Light Emitting Diodes)等的平面顯示器(FLAT PANEL Display，FDP)。但以下的文章為了方便說明，故只採用TFT-LCD面板為實施例作一說明。

如圖2所示，利用本發明中的一實施例製作的平面顯示器用的R角加工研磨機組包括，可承載研磨加工機組的加工面板之面板承載機組110，以及對面板進行研磨加工的研磨加工機組120，和完成研磨加工之後卸載面板的面板卸載機組130。

由於面板承載機組110的主要工作係搬送所有之面板，一般都是利用產線式(conveyor type)的方式進行搬送面板的工作。但因為本發明專利範圍，並不限定一定要採取上述的加工形態，也可以採取滾軸式(roller type)或是作業平台式的(stage type)的生產線型態。非但如此，也可以採用能讓面板朝上(up)浮起的空氣噴射飄浮模組，把面板支撐在規定的高度上進行加工。

在面板承載機組110上面的面板在被搬送到研磨加工機組120旁邊，或是在從研磨加工機組120被搬送到面板卸載機組130上時，最好能夠安裝可偵測面板的搬送狀態之感測器等(此部分在此不作詳述)。

在本發明的加工型態中，在面板卸載機組130的上面設置有用來測量R角研磨量之測量裝置630。該測量R角研磨量之測量裝置630負責對完成研磨加工的面板，測量其R角的研磨量。若是測量裝置630所量測出來的面板R角研磨量，是不符合標準的狀態時，或是研磨到不應研磨的地方時，或是R角研磨量不正確時，則要據以決定這片加工過的面板是否要丟棄，或是再度由面板承載機組110送回研磨加工機組再度進行加工。在本發明的加工形態當中，測量R角研磨量的測量裝置630會被配置在面板卸載機組130之上，但也可以安裝在研磨加工機組120的上面。關於測量R角研磨量的測量裝置630，其詳細內容請容後再作一詳述。

而另一方面，研磨加工機組120就是實際上負責對由面板承載機組110所載放過來的面板的四個角落，及對長邊及短邊進行研磨加工的機組。

即使在舊式的加工技術方面，也是一樣會設置專門用來進行研磨加工的研磨加工機組120，但問題是如上述圖1中所說明，在舊型的研磨加工機組120當中，當面板被從第一作業平台121搬送到第二作業平台122之上時，搬送機器人(pick-up robot)，把面板抬放到第二作業平台122之上，再對面板實施對位作業，故需要多花費使用搬送機器人的時間，以及再度在第二作業平台122上，對面板進行對位作業所要時間，對於縮短工時的要求，是極為無效率的一種作法。

非但如此，如在圖1中所說明的舊型R角加工研磨機組當中，由於此機組的第一作業平台121及第二作業平台122，還有，第1研磨加工機組用的砂輪126a及第2研磨加工機組用的砂輪126b，彼此之間是屬於相互間呈直排配置的構造，故當任何一組發生故障時，就會造成全部的機組設備無法起動的問題。

但是，在本發明的加工型態當中，如下面所述，配備有研磨加工機組120的第一及第二作業平台300a、300b會被配置在連結面板承載機組110和面板卸載機組130的一條虛擬的作業線形上，並與之呈直角相交，彼此相互分隔配置的構造，意即，它是和舊式機組不同的並列型配置的構造，而且又再配置有與之相對應的研磨機123，因而可以解決以往的舊機種的不良問題。

由於在本發明的加工型態當中的研磨加工機組120被設置在連結面板承載機組110和面板卸載機組130之間的一條虛擬的作業線形之上呈直角相交，相互分隔配置，還配備有可以載置及固定支持面板的第一及第二作業平台300a、300b，以及研磨機123。

第一及第二作業平台300a、300b和以往的加工技術之不同點在於它被配置在連結面板承載機組110和面板卸載機組130的一條虛擬的作業線形上，呈橫向的直角相交形式，並且相互分隔的配置。在本發明的加工型態當中，研磨加工機組120會配備有兩組第一及第二作業平台300a、300b，但有時也可以安裝三組以上的作業平台。但即使是配備有三組以上的作業平台，只要這些作業平台是被配置在連結面板承載機組110和面板卸載機組130的一條虛擬的作業線形上，呈橫向的直角相交形式，並且相互分隔的配置，也就是說，這些配備是呈並列配置的構造的話，即已足夠運用。

此處並未準備詳細圖示，但是為了分別對第一及第二作業平台300a、300b上面的面板進行對位，故應設定作業平台應可以在研磨加工機組120上面的指定位置上，可順著X軸，Y軸及θ軸進行轉動的動作。

當第一及第二作業平台300a、300b在對著X軸及Y軸進行轉動動作時，是由線性馬達(linear motor)等執行動作的控制，第一及第二作業平台300a、300b對θ軸的轉動動作則是由旋轉馬達(rotating motor)執行轉動的控制，但是本發明並不限一定要使用上述兩種馬達，即使是採用其他的構造，能夠對第一及第二作業平台300a，300b執行對著X軸，Y軸及θ軸轉動的動作即可。

而另一方面，研磨機123會順著設在連結於第一及第二作業平台300a、300b的一條假想的作業線形上，並橫跨在第一及第二作業平台300a，300b之上設置的共用起重支架(gantry)機構124的某一側，沿著共用起重支架機構124一邊移動，一邊利用對位攝影機125分別對著載置於第一及第二作業平台300a、300b上的面板進行對位，另一組對位攝影機則會沿著共用起重支架機構124的另一側移動，以便分別拍攝載置於第一及第二作業平台300a、300b上的面板，並實際根據對位結果，使用研磨加工機組用的共用砂輪126進行研磨加工的作業。

如圖示，共用起重支架機構124是被設置在一條與連接第一及第二作業平台300a、300b的假想作業線形的平行方向。在這個共用起重支架機構124上面分別架上對位攝影機125和研磨加工機組用的共用砂輪126。為方便提供參考，圖面上只是概略性地顯示對位攝影機125和研磨加工機組用的共用砂輪126的圖示。

為了讓對位攝影機125分別對著被載置於第一及第二作業平台300a、300b的面板進行對位作業，也就是說，必須要讓第一及第二作業平台300a、300b繞著X軸，Y軸及θ軸進行旋轉動作，而且對著在面板的兩側當中有形成一邊兩個的對位記號(align mark)進行攝影，以便對面板進行對位作業。

在本發明的加工形態當中，每一個作業平台的上面分別會有2個對位記號。在圖面中顯示的對位記號是以十字架(＋)狀做圖示。因此，對位攝影機125必須要對著一邊兩個的對位記號進行攝影。但是，本發明的專利範圍並非只限於此，對位攝影機125可以沿著共用起重支架機構124移動，以便對第一及第二作業平台300a、300b進行對位攝影，這時候只須要設置兩組共用對位攝影機即可。當使用兩組共用對位攝影機時，在對著載置於第一作業平台300a上的面板拍攝對位記號時，會配置一組共用對位攝影機對準第一作業平台300a的上面，而在對著載置於第二作業平台300b上的面板拍攝對位記號時，就會移動共用對位攝影機到第二作業平台300b上面的位置。

研磨加工機組用的共用砂輪126會被安裝在共用起重支架(gantry)機構124之上，而且是在與對位攝影機125對向的位置上。這是因為研磨加工機組用的共用砂輪126必須要在共用起重支架機構124的上面移動，而且要避免干擾到對位攝影機125，才做這樣的配置。

如上所述，由於研磨加工機組用的共用砂輪126必須要對著面板的四個角落，長邊及短邊進行研磨加工，故原則上可以在每一個作業平台上各自配置兩組研磨砂輪。但是，在本發明的加工形態當中，研磨加工機組用的砂輪是設定為必須要沿著共用起重支架機構124可移動的研磨加工機組用的共用砂輪，故配置兩組研磨加工機組用的共用砂輪126。因此，在對著載置於第一作業平台300a上的面板進行研磨加工作業時，會在如圖2中的實線所示的位置上配置研磨加工機組用的共用砂輪126，而當在對著載置於第二作業平台300b上的面板進行研磨加工作業時，則會將研磨加工機組用的共用砂輪126移動到如圖2中的圖示的虛線位置。

還有，如前述，因為在本發明的加工形態當中的研磨加工機組用的共用砂輪126必須要對著面板的四個角落，長邊及短邊進行研磨加工作業，故應使用複式砂輪，而非單純的單一砂輪。

另一方面，以下在針對R角加工研磨機組的作用進行說明之前，對於在上述內容中無法說明清楚的構造再做一次簡略的說明，也就是說，第一及第二作業平台300a、300b，第一及第二移載機構400a、400b，作業平台清洗機組530，及R角研磨量的測量裝置630，將一邊參考圖3至圖16一邊進行詳細的說明。

圖3是作業平台的擴大斜視圖，圖4則是顯示對在圖3的作業平台上面動作的斜視圖，圖5之(a)則是，對在轉盤的表面形成的第1真空孔洞的構成圖，圖5之(b)則是，對在可變作業平台的表面形成的第2真空孔洞的構成圖，圖6是作業平台的概略性的側視圖，圖7則是，移載機構的擴大斜視圖，圖8則是顯示對在圖7的移載機構進行的部份動作之圖示的斜視圖，圖9則是顯示設置在作業平台的上方的作業平台清洗機組之安裝狀態的斜視圖，圖10則是顯示在圖9中圖示的單位清洗裝置的斜視圖，圖11則是顯示，如圖10的A-A線所構成的橫剖面圖，圖12則是顯示，配置在面板卸載機組後方的R角研磨量測量裝置的構成之斜視圖，圖13則是顯示，在圖12中所示的擴大“B”部份的擴大斜視圖，圖14則是顯示，說明在圖13中所示的異物清除機構的斜視圖，圖15則是顯示，在圖14中的分解斜視圖，圖16則是顯示，在圖14的C-C線所構成的橫剖面圖。

首先，針對作業平台300a、300b進行說明，在本發明的加工形態當中，作業平台300a、300b會如圖2中示的，沿著Y軸配置兩組第一及第二作業平台300a、300b。由於第一及第二作業平台300a、300b會分別同時和研磨機221的其餘構造同時以並列方式進行研磨加工作業，故可大幅縮減作業工時，提高生產性。

但是，由於本發明的專利範圍並非僅只限於此，故也可以只設置一組作業平台，或是設置3組以上的作業平台。這就是如前面所陳述的理由，但若是配置3個以上的作業平台時，只要這三組作業平台是沿著Y軸，做並列配置的構造時，就已經足夠運用了。

第一及第二作業平台300a、300b也是一樣，只是其配置的位置相異，構造及動作全部都是相同的。因此為了便於圖示及進行說明，我們在此將會對第一及第二作業平台300a、300b的細部機構構成給予相同的参考符號。

若是針對第一及第二作業平台300a、300b進行簡單說明的話，即是在本發明的加工型態當中，第一及第二作業平台300a、300b是可以對各式各樣的尺寸的面板進行混合加工的構造型態。

意即，在舊型的R角加工研磨機組中所開示的作業平台(無圖示)，是使用真空方式吸附載置於上面的面板之單純的組件狀的構造，由於其上面的面積是屬於固定大小的尺寸，故只能吸附及支持單一種尺寸的面板。因此，類似這樣的舊型作業平台的R角加工研磨機組，就不適合運用於各種尺寸的面板的混用加工的型態，若先前進行研磨加工的面板和接下來要進行加工的面板尺寸不同的時候，在進行下一個研磨加工之前，就必須要先更換作業平台(無圖示)，而由於要加上更換作業平台的時間，會造成工時増加，並使生產性降低的缺點。但是，在本發明的加工型態當中第一及第二作業平台300a、300b則可以依據必要狀況，直接調整作業平台上面的全部面積，故是具備適用於各式各樣的尺寸的面板之構造。

因此，在本發明的加工型態當中，適用R角加工研磨機組加工作業的第一及第二作業平台300a、300b的上面，分別具備有可吸附面板並將之旋轉的轉盤310，和在轉盤310的外圍中一起吸附固定及支持面板，並且可以對應所有各式各樣的尺寸的面板，而且對轉盤310可做可做接近及分離動作的複數可變作業平台320。

而如圖3及圖4中所示，在第一及第二作業平台300a、300b的中央會配置一個轉盤310，而可變作業平台320則是在轉盤310的外圍中，以彼此相互對稱的方式共計配置四組。這四組的可變作業平台320則是以兩兩成對的方式對轉盤310進行接近及分離的動作。

為了讓四組可變作業平台320以兩兩成對的方式對轉盤310進行接近及分離的動作，故在作業平台上要再加裝驅動裝置330。

請參考圖4，作業平台驅動裝置330，對分別連結在兩個一組的可變作業平台320的一對的連結組件331a、331b之上，為了要讓這一對連結組件331a、331b可分別旋轉及結合做正向及逆向旋轉，則又應該要包括可控制這一對連結組件331a、331b進行相互接近及分離動作的滾珠軸承332，滾珠軸承332必須要結合可做正向及逆向旋轉的驅動馬達333。

一對連結組件331a，331b分別具備有四角的組件構造，在它的上面，則又再配置可支持各一組的可變作業平台320之組件支持機構334。該組件支持機構334負責支持一對連結組件331a、331b中每一個連結兩個的可變作業平台320。在本發明的加工形態當中，為了方便圖示及進行說明，對組件支持機構334全部使用相同的參考符號。

滾珠軸承332則是連結到一對連結組件331a、331b，在其外面形成連桿狀，而在連結一對連結組件331a，331b的滾珠軸承332的指定範圍中的連桿則是呈相互朝著相反方向進行加工的形式。

如上所述，在滾珠軸承332的外面形成的連桿是呈相互朝相反方向進行加工的形式，它又被分別鎖付在一對連結組件331a、331b的上面，例如，當滾珠軸承332朝正向轉動時，一對連結組件331a、331b會如圖3一般地相互分離，而同時可變作業平台320就會被打開，因此可以吸附大型的面板，相反地若是滾珠軸承332朝著逆向旋轉時，一對連結組件331a、331b就會如圖4一般地相互接近，而同時可變作業平台320就會被縮小，而可以吸附小型的面板。

驅動馬達333就是用來為滾珠軸承332進行正向及逆向旋轉的動力發生機構。在本發明的加工形態當中，單一個的驅動馬達333就可以控制滾珠軸承332的正向及逆向旋轉動作。像這樣，即是只利用單一驅動馬達333即可驅動可變作業平台320，故可簡化機組的結構，其安裝及維修也都很簡便，而且還有降低成本的優點。

轉盤310的上面大致上是呈圓形，而四組可變作業平台320則是呈現一部份可以切開的大致上是長方形的形狀。但是，由於本發明的專利範圍並非僅只限於此，故可以適度地變更轉盤310及可變作業平台320的形狀。

例如，至少轉盤310的上面也可以製作成包括橢圓形的多角形。還有，可變作業平台320也不一定非要設置四個，也可以把可變作業平台320配置在轉盤310的外圍中，以彼此相互對稱的方式分別設置兩個。即使在這樣的狀態下，也是同樣可以具體實現作業平台驅動裝置330的構成，以及必須進行的加工動作。

如前述，當研磨加工機組要加工的面板尺寸較大時，則可以如圖3一般地將轉盤310和四個可變作業平台320之間的距離拉開，即可加大整體的吸附面積；而當要進行研磨加工作業的面板尺寸較小時，則如圖4所示，必須要調整轉盤310對4個可變作業平台320的距離使之接近。此時，如圖4所示，當四個可變作業平台320接近轉盤310的時候，為了防止這四個可變作業平台320的側面和轉盤310相互衝撞，則必須要在可變作業平台320的側面形成一個切開機構321。在本發明的加工形態當中，切開機構321會在轉盤310的外面，呈現出一個拱形(arc)的狀態，但也不一定非要按照此一形式設計不可。

在轉盤310和可變作業平台320之間的表面上，會具有如圖5中所示的，分別形成可吸附及支持面板的複數的第一及第二真空孔洞315、325。第一及第二真空孔洞315、325的安裝方式是用可以分別貫通轉盤310和可變作業平台320的厚度的形態設置的。

故如上述，事實上即使只利用第一及第二真空孔洞315、325，即足以充分地吸附及支持面板。但是，在本發明的加工型態當中，轉盤310和可變作業平台320之間的表面中，還包括有一個深陷入轉盤310和可變作業平台320的表面下方的固定深度下呈凹陷狀態的固定形狀的線槽，即是形成第一及第二真空吸附線槽315a、325a，再度倍增對著面板真空吸附面積。也就是說，當第一及第二真空孔洞315、325發生真空吸引力時，真空吸引力是透過第一及第二真空吸附線槽315a、325a而擴大其作用範圍，因此可以更加擴大對面板的真空吸附面積。在本發明的加工形態當中，第一及第二真空吸附線槽315a、325a是配置在第一及第二真空孔洞315、325以一對一的方式配置，但是當然也不是一定要採取相同的配置方式不可。

在本發明的加工形態當中，形成在轉盤310之上的第一真空吸附線槽315a，即是如圖5之(a)中所示的，呈現出類似披薩(pizza)的形狀，而在可變作業平台320裡所形成的第二真空吸附線槽325a，則是如圖5之(b)所示的，可以形成倒鈎式的‘□’形狀，但是由於本發明的專利範圍並不限定其形式。故意思就是如圖5之(a)及圖5之(b)中所示的，轉盤310和可變作業平台320之間的表面上，具備有未打洞的部份，以及有打洞的部份，在比較之下呈現出陷沒的狀態之意。

如前所述，由於配置有四組可變作業平台320，若是在四個可變作業平台320中形成的真空壓力不平均的話，則無法穩定地支持面板，或是會呈現出朝向單側扭曲的狀態。因此，實質上對四個可變作業平台320提供真空壓力時，至少要每兩個成對平均地對可變作業平台320提供真空壓力。還有，因為面板必須要在中央對齊，意即，以中央為標準做對稱方式配置，故應以對稱方式控制真空的ON/OFF控制才會有效。

在參考圖5之(b)的時候，在可變作業平台320的表面上形成的第2真空孔洞325的上面，又分別地連結有可控制真空的ON/OFF之複數的真空配管326a、326b、326c，複數的真空配管326a、326b、326c又會和複數的中間配管327a、327b、327c連結起來。

此時，真空配管326a、326b、326c，中間配管327a、327b、327c應該是呈分別連成一線，並隔著一對彼此相鄰的可變作業平台320，而呈現相互對稱的分岐管線。意即，例如，例如參考符號327a的中間配管會形成一組的管線，而從參考符號327a的中間配管拉出分岐的兩組管線真空配管326a，則會分別隔著一對彼此相鄰的一對可變作業平台320，而朝向第二組真空孔洞325。藉由這種方式所作的配管組合，由於至少分別是每兩個配成一對，而對可變作業平台320提供的真空壓力，會以中央為標準形成對稱而平均的真空壓力，因此可以提高對面板的吸附效率。

而另一方面，第一及第二組真空孔洞315、325，尤其是雖然透過第二組真空孔洞325而形成均勻的真空壓力，但如果可變作業平台320的平坦度不夠正確時，則會讓面板之間產生間隙，而降低面板的吸附效率，同時也造成真空的損失。

因此，在本發明的加工型態中，再加設一個平坦度調節機構340，可以利用簡單的方法來調節連結組件331a、331b對可變作業平台320的平坦度。

平坦度調節機構340是如圖6中所示的，加工成兩端的連桿呈彼此相反方向的狀態，且其兩端部位被鎖附在連結可變作業平台320之連結組件331a、331b的複數的調節螺帽341上，又再結合在連結組件331a、331b上，而其另一端則在可變作業平台320上，備有以接觸方式支撐的複數接觸支撐螺帽342。

由於具備上述的構造，故若是在必須要調整可變作業平台320的平坦度時，首先需要旋鬆複數的接觸支撐螺帽342，利用接觸支撐螺帽342的一端隔開可變作業平台320到規定的平坦度調節的位置之後，再視在該位置中有必要時，鎖緊或是旋鬆調節螺帽341。調節螺帽341的兩端部分會形成相反方向的連桿，而由於此相反方向的連桿分別連結到可變作業平台320的連結組件331a、331b上，因此只需要鎖緊或是旋鬆調節螺帽341，即可利用連結可變作業平台320的連結組件331a、331b來調整可變作業平台320的高度上昇或是下降。故可以利用此種簡便的操作，即可輕易地調整可變作業平台320的平坦度，一旦可變作業平台320的平坦度被調好的話，則可再度鎖緊接觸支撐螺帽342，以讓接觸支撐螺帽342的其中一端部位以接觸方式支撐可變作業平台320，即可以預防可變作業平台320發生不穩定及任意傾斜之現象。

另一方面，若是參考圖2的內容時，在面板承載機組110和研磨加工機組120之間，還有，在研磨加工機組120和面板卸載機組130之間，還包括有設置有移載機構400a、400b，能夠在面板承載機組110的上面移動，把要加工前的面板送到第一及第二作業平台300a、300b之上，接著能夠再把在第一及第二作業平台300a、300b上加工完成的面板搬送到面板卸載機組130之上的功用。

在本發明的加工形態當中，設置在面板承載機組110和研磨加工機組120之間的，以及在研磨加工機組120和面板卸載機組130之間之移載機構400a、400b的構造及動作全部都必須相同。而為了方便做圖示及說明之故，在移載機構400a、400b上的細部構造都給予相同的参考符號。

參考圖7及圖8所示，第一及第二移載機構400a、400b會被配置在與原本在面板的兩側面，支持面板的複數的基本支持機構410，和複數的基本支持機構410不同的位置上，而且在搬送面板途中或是停止途中，還備有安全支持機構430固定住面板以防止面板從基本支持機構410上面脫落。

基本支持機構410和安全支持機構430都會被結合在頭部機構440之上。因此，若是將後面會提及的X軸驅動裝置461，Y軸驅動裝置462及Z軸驅動裝置463等產生作用，而把頭部機構440移動至所要指定的位置時，基本支持機構410和安全支持機構430也會同時被移動到指定位置上。

在本發明的加工形態當中，會在頭部機構440的兩側面(短邊)分別各安裝兩組共計四個複數的基本支持機構410，而在朝向研磨加工機組120或是面板卸載機組130的頭部機構440的前面(長邊)會配置一個安全支持機構430。

但是，由於本發明的專利範圍，並未限定一定要採用上述形式，故可以在頭部機構440的兩側面分別設置一個基本支持機構410，或是在頭部機構440的兩側面分別設置3個，或是設置超過以上個數的基本支持機構410。還有，若是要設置安全支持機構430時，可以在頭部機構440的前面(長邊)安裝兩個以上，也可以在頭部機構440的前面(長邊)和後面(長邊)全部都配置安全支持機構430。安全支持機構430的個數越多時，則越具有可防止大型面板下垂的效果，故可以採取有效而適度的構造安裝。

若是針對四個基本支持機構410說明的話，在本發明的加工實施形態中，會在頭部機構440的短邊範圍分別配置兩組共計四個基本支持機構410。此時，分別配置的兩個基本支持機構410將會分別連結到一對連結機構411a、411b之上。

一對連結機構411a、411b之中應包括，結合及收容在頭部機構440的側面形成並可以引導上述這一對連結機構移動的一對導引裝置412a、412b。在本發明的加工型態當中，導引裝置412a、412b是配置成一對，有時導引裝置412a、412b也可以設置成不同於圖面的分離的形式，而可以採用一體成型的構造。

在第一及第二移載機構400a、400b的上方，會藉由一對導引裝置412a、412b在規定的控制信號下，導引一對連結機構411a、411b彼此互相接近及分離，故另外還要包括可控制驅動這一對連結機構412a、412b的驅動裝置413。此處並未預備驅動裝置413的詳細圖示，該驅動裝置413是藉由馬達的帶動做正向及逆向的旋轉，而此馬達又由具備可朝不同方向運動的連桿之滾珠軸承連結到一對連結機構411a、411b，進而控制其運動方式。

因此，若是對驅動裝置413的馬達供給電源時，而當滾珠軸承朝著正向旋轉的話，則就會像圖8中的虛線圖所示，分別配置的兩個基本支持機構410可在一對連結機構411a、411b的連動下相互接近，相反地若是滾珠軸承朝逆向旋轉時，兩兩配置的基本支持機構410則會在一對連結機構411a、411b的拉動下相互分離。由於四組基本支持機構410會彼此互相接近及分離，故具有隨時適用於各式各樣尺寸的面板之優點。

若再針對單一個安全支持機構430的構造作一說明，為配置安全支持機構430需要備有固定桿431，和轉動支持機構433。

固定桿431係設置固定在頭部機構440之上方，即是所謂的套筒式(bracket)結構，固定桿431則是具備有垂直桿431a，在垂直桿431a的一端又具備有水平桿431b和垂直桿431a形成十字相交的狀態彼此相互固定住。

轉動支持機構433是在水平桿431b一端由安全支持機構430所固定支持，轉動支持機構433可以在水平桿431b的支持及固定下，轉動安全支持機構430。轉動支持機構433的轉動動作即是如前所述，由控制信號發出指令，在基本支持機構410動作時發生連動現象而產生動作。意即，如圖8中的虛線圖所示，當基本支持機構410開始動作，而實質上在支撐面板的兩個側面，及支持其下面的一部份時，在轉動支持機構433的轉動動作配合下，安全支持機構430能夠支持及固定面板的前面及其下方的部份支點，因而可以防止面板在搬送或是停止途中掉落的現象。

如上述，實際上基本支持機構410和安全支持機構430是為了單純地支持面板，或是能夠穩定地支持面板而設，故全部都要在指定的位置上，以接觸到面板側面的狀態，能夠支持到面板下方的部份支點，所以要製作‘∟’狀。但是，在本發明的專利範圍中並不限定非要採用此種形狀不可。

而且，由於基本支持機構410和安全支持機構430全都是在和面板接觸的狀態下支持面板，故有可能在接觸到面板的過程中發生刮傷面板(scratch)的狀況。

因此，在本發明的加工形態當中，為了防止發生刮傷面板的情形，所有的基本支持機構410和安全支持機構430皆應採用MD-PA的材質製作。但是，並非一定要採用MD-PA材質，只要是不易損傷面板的材質，同時還要具備有一定的剛性者，即可用不同的材質製作基本支持機構410和安全支持機構430。

另一方面，就如前所述及，為了要能夠支持各式各樣尺寸的面板，其中特別是基本支持機構410必須要設定為能夠彼此互相接近及分離的構造，另外移載機構400a、400b本身也必須要設定為能夠順著X軸、Y軸及Z軸移動，因而能夠搬送及載放面板到面板承載機組110上面，以及載放到第一及第二作業平台300a、300b之上，接著又可以將載放在第一及第二作業平台300a、300b上的面板搬送到面板卸載機組130之上。

因此，在本發明的加工型態當中，移載機構400a、400b會沿著一條連結面板承載機組110和面板卸載機組130和的虛擬的X軸移動，故需要包含能夠驅動及結合基本支持機構410和安全支持機構430所連結的頭部機構440的X軸驅動裝置461，和與X軸呈直角相交，可驅動頭部機構440沿著Y軸移動的Y軸驅動裝置462，還有可以驅動頭部機構440沿著Z軸朝上下方向移動的Z軸驅動裝置463。

X軸驅動裝置461、Y軸驅動裝置462及Z軸驅動裝置463可以採用容易實施線形移動控制的線性馬達，但也可以視實際情況，採用汽缸結合馬達、滾珠軸承的組合式構造等來進行控制。

另外如前所述，在完成面板研磨加工後，再度將面板搬送至卸載機組130之後，作業平台300a、300b會開始準備，朝向面板承載機組110的方向移動，以便再度重複新的作業循環。不過，此時載置過加工過的面板之作業平台300a、300b的上面，會殘留有上一回研磨加工時所產生的異物，故必須要先清洗過載置過面板的作業平台300a、300b的表面之後，才能夠再度載放下一片要加工的面板。若是未經清洗，即載放新的面板於作業平台300a、300b之上時，残存在作業平台300a、300b上面的異物會汚染到尚未加工的面板。

因此，在本發明的加工型態當中，R角加工研磨機組當必須要包括，配置在研磨加工機組120和面板卸載機組130之間，用來清洗作業平台300a、300b的表面之作業平台清洗機組530(請參考圖2)，還有用來控制噴射清洗流體到作業平台300a、300b的表面上的作業平台清洗機組530的動作之控制機構(無圖示)，由於具備上述的清洗機組，才能夠防止殘存在作業平台300a、300b上的異物汚染後面要進行研磨加工的面板。

此處的清洗機組控制裝置，要控制的是當在將完成研磨加工的面板搬送至面板卸載機組130，接著未載置面板的作業平台300a、300b朝向要搬放新的面板加工的面板承載機組110的方向移動時，要讓作業平台清洗機組530作動，以除去作業平台300a、300b的表面可能残存的異物，還有，當作業平台300a、300b通過平台清洗機組530的噴射之後，即能夠停止作業平台清洗機組530的動作等控制的功能。

在本發明的加工型態當中，作業平台清洗機組530即是如圖2及圖9中所示的，分別具備兩組單位清洗裝置531a，531b，並且應被配置在横向面對第一及第二作業平台300a、300b的移動線形上的移動方向之位置，還應包括有可連結兩組單位清洗裝置531a、531b的設備支架545。

但由於上述兩組單位清洗裝置531a、531b事實上是屬於相同的構造，故以下將只針對配置在第一作業平台300a上方的一對單位清洗裝置531a進行說明。

一對單位清洗裝置531a，會如圖9及圖11中的詳圖所示，是沿著第一作業平台300a的上方之移動線形配置並移動的，同時設計用來朝向第一作業平台300a的上面方向噴射清洗流體。此時，一對單位清洗裝置531a會以呈扁平方向的角度，對著殘留在第一作業平台300a上面的異物噴灑，以便讓異物朝向作業平台的外側脫落，因此是以相互對稱的角度作傾斜地安裝。

換言之，清洗流體的噴射方向是朝向第一作業平台300a上方的平面方向傾斜的角度配置，因而能夠藉由清洗流體的壓力將殘留在第一作業平台300a上面的異物，沖離作業平台的外側。所謂第一作業平台300a的上方，就是指包括前述的轉盤310及複數的可變作業平台320的上面。

因此，為了要讓單位清洗裝置531a可以最大限度有效地除去残留在作業平台570a上之異物，而必須要調整清洗流體朝作業平台噴射的方向，故單位清洗裝置531a固定在設備支架545之上時，亦要設定為可朝向多個方向轉動的形式。

若是再針對上述單位清洗裝置531a的具體構造作一說明，在本發明的加工型態當中，單位清洗裝置531a當中應該要包括，配備有可朝向第一作業平台300a噴射清洗流體的噴嘴之噴射機構裝置532，和設備支架545以便支持及固定噴射機構裝置532朝向各個方向轉動，還有與此設備支架連結的連結轉動組件540。

該噴射機構裝置532又包括，能連結轉動機構533對連結轉動組件540進行連結轉動，實際上會與轉動機構533呈並聯旋轉，以讓清洗流體從位於上方的部位朝向內側方向移動，而且清洗流體還會在噴射機構裝置534呈凹陷狀的移動空間534s中流動，還有應包含組裝在噴射機構裝置534的上面，用以遮蔽噴射機構裝置534的內部和外部的遮蔽裝置535。

於此，若是結合噴射機構裝置534和遮蔽裝置535時，其尖端部位會配置一個與移動空間534s形成連通狀態的狹縫式噴嘴534h，清洗流體會透過噴嘴534h斜斜地朝向第一作業平台300a上面噴射，以便徹底地清除留在第一作業平台300a上之異物。

首先轉動機構533會如圖10及圖11中所示的，連結轉動組件540並對著「θ₁ 」的方向行進及轉動。因此，可以透過噴射機構裝置534的噴嘴534h調節所噴射的清洗流體的噴射方向。意即，必須要容易調節對著第一作業平台300a的噴射機構裝置534之傾斜角度，以便清洗流體的噴出壓力足夠將残留在第一作業平台300a上的異物朝向外側吹出。

至於遮蔽裝置535是為了保護配置於噴射機構裝置534內側組件，即是為了防止外部異物侵入需容納清洗流體移動的噴射機構裝置534的內側，故會把遮蔽裝置535連結在噴射機構裝置534的上方。而且，遮蔽裝置535非但要足以保護噴射機構裝置534內側的結構，還設計得很容易連結及分離，故其優點就是容易維修噴射機構裝置534的內側之構造。

此外，由於上述的噴射機構裝置532是連結在連結轉動組件540之上，故又包括鎖附於設備支架545之上的支架締結機構541，和連結轉動機構542以便利用轉動機構533為中心軸轉動的轉動機構533，還有配置於支架締結機構541及連結轉動機構542之間，能夠讓連結轉動機構542對著支架締結機構541進行相對性轉動的連結機構543。

由於具備有上述的連結轉動組件540的構造，故噴射機構裝置532不但可以朝向「θ₁ 」的方向轉動，也能夠讓連結轉動機構542對著支架締結機構541朝向「θ₂ 」的方向，進行相對性的轉動，因此噴射機構裝置532的整體機組可以對著連結轉動組件540朝向「θ₂ 」的方向進行相對性的轉動。因此，只要適度地調整單位清洗裝置531a對第一作業平台300a的傾斜角度，即能夠有效地除去残存於第一作業平台300a上的異物。

另一方面，在實施前述的第一作業平台300a之清洗作業時，並不需要暫時中斷製程，在實施清洗作業當中，製程仍然可以持續進行。意即，已經完成研磨加工的面板被搬送到面板卸載機組130之上，接著未載置面板的第一作業平台300a可以沿著作業移動線形朝向下一步作業移動，即再度朝向面板承載機組110的方向移動，此時，作業平台清洗機組530同時啟動動作，把殘留在第一作業平台300a上面的異物除去。因此，可以縮短面板研磨加工機組工程的循環工時，而達成提昇全部的加工作業生產效率。

同時，在本發明的加工形態當中，如上述，為與作業平台300a、300b的數量相對應，而配合作業平台數量結合安裝單位清洗裝置531a、531b，是連結在設備支架545之上，此設備支架是為了連結一對單位清洗裝置以便進行移動的形式，同時也可以採取交替的形式移動，以便對複數的作業平台實施清洗作業。

另外，參考圖2、圖12及圖16時，也可發現如前面所述，在本發明的加工型態當中，在R角加工研磨機組中的面板卸載機組130的上方，還會配置有測量研磨加工後的面板之R角研磨量的測量裝置630。這是因為在對面板進行R角的研磨加工時，必須要研磨規定的標準R角研磨，例如，由於必須要測量出面板的研磨量是否有超過規定的標準，故必須要利用R角研磨量的測量裝置630以便正確地測量出面板的R角研磨量，再將測量結果回饋給研磨加工機組的共用砂輪126，以補正面板的R角研磨量，這也是為了能夠正確地對後續的面板進行研磨加工，故應測量出正確的研磨量。

不過也如前述，在利用以往的技術實施R角加工研磨的時候，由於測量R角研磨量的測量裝置(無圖示)會被安裝在研磨R角加工機組20(參考圖1)之上，同時要測量其研磨量，因而會有増加整體的循環工時的問題。意即，在習用的加工技術中，因為需要利用配置在研磨R角加工機組20之上的R角研磨量的測量裝置，進行R角研磨量的測量之故，非但會因而造成増加研磨加工機組作業工時的問題，而且為了測量R角研磨量，必須要另外安排停止面板移動的時間，即造成以往的研磨機工時較浪費的問題。

因此，在本發明的加工型態當中，為了解決R角加工研磨機組的工時増加的問題，故在將已經完成研磨加工的面板搬送到外部的面板卸載機組130，並順著面板卸載的滾軸搬放面板時，將R角研磨量測量裝置630安裝在面板卸載機組130的上下方，以便同時測量面板的R角研磨量。以下將針對R角研磨量測量裝置630的結構作一詳細說明。

請參考圖2、圖12及圖16，在本發明的加工型態當中，R角研磨量測量裝置630會被分別安裝在面板卸載機組130的上方及下方，包括用來測量面板的短邊邊緣部份的R角研磨量測量裝置630，和配置在面板卸載機組130的縱長方向，並與之相交叉的横向位置之測量裝置631，以及可結合移動上述裝置的測量支架633，和裝載著測量裝置631沿著測量支架633的縱長方向移動，並可調節面板測量裝置631的位置之移動支架635，還有安裝在移動支架635之上，可控制測量裝置631的上下昇降動作，並且控制測量裝置631對面板卸載機組130進行接近及分離動作的昇降驅動裝置637。

在本發明的加工形態當中，為了測量面板一側短邊的邊緣部份的之R角研磨量，會在面板卸載機組130的上方及下方配置一對測量裝置631，而總共在面板的兩側短邊邊緣部份配置兩對測量R角研磨量的裝置。

由於測量裝置631可在昇降驅動裝置637的控制下，在移動支架635上進行上下昇降的動作，並可以沿著面板卸載機組640的滾軸(無圖示)，以接近或是分隔的形式對準被搬送的面板之兩側短邊邊緣部份做研磨量的測量。還有，連結測量裝置631移動的支架635則可以沿著測量支架633的縱長方向，以伸縮自如的方式朝向左右方向調整測量面板的尺寸大小的位置，因此，本機組中安裝測量裝置631可以彈性地運用於測量尺寸相異的複數面板之R角研磨量。

在此可以沿著測量裝置631的移動支架635的高度方向，安裝可控制昇降驅動裝置637的線性移動(liner motion)之線性馬達。還有，也可以另外安裝一組移動驅動裝置638，以便驅動移動支架635對測量支架633進行線性移動。

在本發明的加工型態當中，為了讓測量裝置631得以正確地測量面板的R角研磨量，故可使用能對準研磨加工中的面板兩側短邊邊緣部份，故採用可進行連續拍攝的線性掃瞄攝影機(line scan camera)。因此，本機組的優點在於能夠正確地測量面板的R角研磨量，以及其研磨狀態等。

不過，在本發明的加工形態當中，雖然可利用線性掃瞄攝影機安裝在測量裝置631之上，但也可以使用區塊範圍攝影機(area camera)等來測量面板面板的R角研磨量，以及其研磨狀態。雖然區塊範圍攝影機和線性掃瞄攝影機不同，它只能拍攝被加工研磨的面板之兩側短邊邊緣的一小部份，但是仍然是可以和線性掃瞄攝影機相同地，能夠正確地測量面板的R角研磨量，以及其研磨狀態等。

此外，在本發明的加工型態當中，在利用R角研磨量的測量裝置631測量過完成研磨加工的面板的R角研磨量後，平面顯示器用的R角加工研磨機組就會根據所測量到的值，回饋給研磨加工機組用的砂輪126，以補正R角研磨量，並據以再調整今後要加工的面板之R角研磨量，故應再包括可控制研磨加工機組用的砂輪126的控制機構(無圖示)。

換言之，測量裝置631會利用攝影的方式測量研磨加工機組對面板的R角研磨量，若是面板在加工研磨過後，測量發現有部份的地方不符合規定的標準，而需要再度進行加工時，控制機構就會根據測量得到的R角研磨量的情報，進行補正R角的研磨量，而再度調整研磨加工機組用的砂輪126的位置。若是更進一步詳細說明的話，假設面板被加工研磨的部份的超過規定的標準時，則控制機構會將研磨加工機組用的砂輪126的間隔調小，以縮小後面進行研磨加工的面板之研磨量；而假設面板的研磨加工的部份的未達到規定的標準時，控制機構即會將研磨加工機組用的砂輪126的間隔加大，以便補正R角研磨量，並加深對後來必須進行研磨加工的面板之R角研磨量，這就是利用測量裝置631進行R角研磨量測量的方法。

還有，在本發明的加工型態當中，R角研磨量的測量裝置630在實施對測量其面板R角研磨量之前，應該再加入設置可除去面板在進行研磨加工後所殘餘的部份異物之異物清除機構641。在利用異物清除機構641除去殘留在面板的兩側短邊邊緣部份上的異物之後，即可利用測量裝置631正確地測量R角研磨量。

在本發明的加工型態當中，異物清除機構640會如圖13及圖16中所示，設置在可由移動面板的單側開放式隧道641s當中，包括有連結移動支架635向著面板承載機組110的方向移動，並朝向內側方向噴射清除異物用的作業流體之移動空間642s(參考圖16)呈凹陷狀態之異物清除機構641，還有設在異物清除機構641之中，會向通過移動空間642s的面板的長邊或是短邊，噴射去除異物用作業流體的噴射機構裝置642。又包括有配置在噴射機構裝置642之中，可任意拆卸並遮蔽異物清除機構641的內部及外部的遮蔽裝置643。

在此，於移動空間642s中移動的清除異物用的作業流體會形成在連結噴射機構裝置642和遮蔽裝置643之間的部份，意即，清洗流體會透過連結在噴射機構裝置642和遮蔽裝置643之間的噴嘴642h噴射出來。為了有效地讓清除異物用的作業流體噴灑出來，所以噴射出口642h必須要以對面板傾斜的角度方式安裝，才能有效地清除殘留在面板上的異物，因此噴射出口642h應該要安裝在連接異物清除機構641之上端和下端的一條虛擬的直線上。

異物清除機構641應被固定在移動支架635之上，並在移動或摺疊移動支架635時，同時也能夠移動測量支架633。因而能夠配合面板的尺寸大小，來調節位於面板兩側的異物清除機構641的位置，也因為這樣的設計，面板可以通過位於異物清除機構641的隧道部份的641s中的測量裝置631，而接著進行研磨量的測量。

此外一對噴射機構裝置642會被配置在開放式隧道641s的異物清除機構641的另面呈彼此相對向的形式，而且是對著鄰遮蔽裝置643的一面傾斜設置。因此，不但可以朝著面板兩側短邊邊緣部份噴射清除異物的氣體，以除去加工研磨時所產生的面板兩側短邊邊緣部份的異物，同時還可用測量裝置631正確地測量面板的R角研磨量。

遮蔽裝置643的功用是為了用來保護設在異物清除機構641內側的流體移動管(無圖示)，故此遮蔽裝置643是採用活動式拆卸方式安裝在異物清除機構641的某一面。這種設計不但可讓遮蔽裝置643足以保護設在異物清除機構641的內側中的裝置，因為容易安裝及拆卸，因此也很容易對異物清除機構641的內側組件進行維修工作。

再進一步對擁有此種構造的R角加工研磨機組的作用詳加作一說明，請看如下的解釋內容。

當需要進行研磨加工的面板被從面板承載機組110移放到第1移載機構400a，接著再載置到第一作業平台300a之上時，首先位於第一作業平台300a上面的對位攝影機125會拍攝面板的對位記號。拍攝到的影像情報就會被傳送到圖示上所未出現的控制機構，而由控制機構操縱第一作業平台300a對著X軸、Y軸及θ軸的旋轉動作，就是利用這種方式進行第一作業平台300a上面的面板對位作業。

當對著第一作業平台300a上的面板完成對位作業之後，作業平台就實際進入研磨加工的作業。而為了要進行研磨加工作業，研磨加工機組用的共用砂輪126會順著共用起重支架機構124的引導下，沿著圖2的實線位置移動。在進行研磨加工時，第一作業平台300a會向著研磨加工機組用的共用砂輪126移動，或者也可能是相反地由研磨加工機組用的共用砂輪126朝向第一作業平台300a移動，而依序對面板的進行方向的前面兩側邊緣，兩側短邊邊緣，還有後面兩側的邊緣等分別按順序進行研磨加工的作業。

當研磨加工機組完成了對面板進行方向之前面兩側邊緣，兩側短邊邊緣，還有後面兩側的邊緣等的研磨加工工作之後，第一作業平台300a會繞著θ軸旋轉。因此，這時第一作業平台300a會呈現横向配置的狀態。此時因為本發明的研磨加工機組不需要像以往的舊機種一般地需另行使用搬送機器人(pick-up robot)抬放面板，而只須由第一作業平台300a本身繞著θ軸旋轉之故，因而無需像舊型加工機器一般地，還要二度對面板進行對位作業，因此可以大幅縮短加工的循環工時。

當第一作業平台300a繞著θ軸旋轉時，即可接著對面板兩側的長邊邊緣進行研磨加工的作業。此時也是一樣，也可以由第一作業平台300a朝向研磨加工機組用的共用砂輪126移動，或者也可能是相反地由研磨加工機組用的共用砂輪126朝向第一作業平台300a移動，而對面板的兩側長邊邊緣進行研磨加工作業。

完成研磨加工作業的面板會被第2移載機構400b移放到面板卸載機組130之上，同時在面板卸載機組130的上面，進行R角研磨量的測量。但若是發生測量出的研磨量不正確的狀況時，或是R角研磨量不足的狀況時，本發明的加工機組即會將此一資訊回饋出去，以決定該片面板是否要報廢，或是必須再度送回面板承載機組110側，以便進行二度的研磨加工作業。

另一方面，如上所述，當前面的面板在第一作業平台300a之上進行對面板的四個角落，長邊及短邊邊緣的研磨加工作業的過程當中，與之同步並行地，本機組已經準備好將新的一片搬送到可進行面板研磨加工作業的第二作業平台300b之上，以備進行相同的研磨加工作業。換言之，在本發明的加工形態當中，第一及第二作業平台300a，300b是採取相互並列的構造配置，故整體的研磨加工作業是完全不中斷，也無待機時間的狀態下連續地在第一及第二作業平台300a，300b之上進行加工作業，故研磨加工機組和研磨機123之間是相互同步進行的作業。例如，當面板在第一作業平台300a之上，朝著面板的進行方向對著面板的前面兩側邊緣，兩側短邊邊緣，以及後面兩側邊緣等分別依序進行研磨加工的作業之後，當第一作業平台300a在繞著θ軸旋轉的時候，下一片等待進行研磨加工作業的面板，已經被載置在第二作業平台300b之上，並正由第二作業平台300b上面的對位攝影機125完成對位工作，而且也要開始對著面板進行研磨加工作業等，所以在研磨加工機組上作業的第一及第二作業平台300a、300b的上面，還有研磨機123能夠以相互並列的方式，同步地進行加工。還有一項與之同步並行的是，當作業平台300a、300b朝向面板承載機組110側移動，以便裝載下一片新的面板時，作業平台清洗機組530會先清洗此兩組作業平台的表面，以預防異物污染後面的新加工面板，更進一步地防止發生不良現象。而且，如同上述的說明，無論是對大尺寸或小尺寸的面板，無論面板的尺寸大小全都適用於本發明的R角加工研磨機組，故對支持及載置面板的第一及第二作業平台300a、300b上面的全體面積，只要依照圖3及圖4所示的方法實施調整之後，即很容易使用，因此本加工機組的適用範圍更廣。

如上所述，若是利用本發明的加工實施形態，對面板進行研磨加工時，能夠比向來的舊型機種縮減許多循環工時，而能提高生產效率。還有，無論第一及第二作業平台300a、300b中的任一組作業平台發生故障時，仍然無須中斷設備的加工作業，可繼續進行加工。

圖3所顯示的，就是利用本發明的其他加工實施形態，對平面顯示器進行加工的R角加工研磨機組之概略構成圖。

在本發明的加工型態當中，也如前述，可以同時適用於加工形態完全相異的構造之研磨機123a。意即，如圖3中所示的，在本發明的加工型態當中，研磨機123a也是一樣具備了複數的對位攝影機125a，和複數的研磨加工機組用的砂輪126b，和複數的對位攝影機125a，以及支持攝影機的固定支架127，還有複數的研磨加工機組用的砂輪126b，和支持及固定砂輪用的起重支架機構128。

在前述的加工實施形態當中，特別是用於研磨加工的砂輪，其構造也可以適用於第一及第二作業平台300a，300b當中的所有研磨加工機組的共用砂輪126，在本發明的加工型態當中，對位攝影機125a及研磨加工機組用的砂輪126b，在第一及第二作業平台300a，300b當中每一組作業平台皆配置兩組分別獨立的加工用砂輪。

若是在同步共用的狀態下時，對位攝影機125a及研磨加工機組用的砂輪126b總共會分別安裝四組，而此時由於無須要使用前述的加工形態中的共用起重支架(gantry)機構124，故會如圖示一般的，只要連結四組對位攝影機125a並且固定在攝影機固定支架127之上，而且，四組研磨加工機組用的砂輪126b組合在支持砂輪用的起重支架(gantry)機構128之下，即足以應用。

請參看圖3，兩組研磨加工機組用的砂輪126b是分別被配置在支持砂輪用的起重支架(gantry)機構128的兩側，但也是可以被配置在這些支持砂輪用的起重支架(gantry)機構128的單側形成一列單行的配置。

在本發明的加工型態當中，即使是採用上述的結構，當在進行對面板研磨加工的時候，仍然是可以比習知的舊型機種，能夠充分地縮減循環工時，具有高度的提昇生產效果。

特別是在本發明的加工型態當中，當第一及第二作業平台300a、300b之中的任何一組，或是兩組對位攝影機125a，及研磨加工機組用的砂輪126b之中的任何一組發生故障時，仍然無須中斷設備的加工作業，可繼續進行加工，因而能夠大幅提高生產性。

如上所述，相信有意採用的業者皆可明白，本發明並不限定非要採取上述的加工實施形態，只要不偏離本發明的基本考量範圍，完全可以實施各式各樣的修正及改變。所有的修正實施例或者是變形實施例，皆列屬於本發明的專利申請範圍內。

10．．．面板承載機組

20．．．R角加工機組

30．．．面板卸載機組

21．．．第一作業平台

22．．．第二作業平台

25a．．．第一組對位用攝影機

25b．．．第二組對位用攝影機

26a、26b．．．砂輪

110．．．面板承載機組

120．．．研磨加工機組

130．．．面板卸載機組

121．．．第一作業平台

122．．．第二作業平台

125、125a．．．對位攝影機

126．．．共用砂輪

126a、126b．．．砂輪

123．．．研磨機

124．．．共用起重支架機構

127．．．固定支架

128．．．起重支架機構

221．．．研磨機

300a．．．第一作業平台

300b．．．第二作業平台

310．．．轉盤

315．．．第一真空孔洞

315a．．．第一真空吸附線槽

320．．．可變作業平台

330．．．驅動裝置

331a、331b．．．連結組件

332．．．滾珠軸承

333．．．驅動馬達

334．．．組件支持機構

321．．．切開機構

325．．．第二真空孔洞

325a．．．第二真空吸附線槽

326a．．．真空配管

326b．．．真空配管

326c．．．真空配管

327a、327b、327c．．．中間配管

340．．．平坦度調節機構

341．．．調節螺帽

342．．．接觸支撐螺帽

400a．．．第一移載機構

400b．．．第二移載機構

410．．．基本支持機構

411a、411b．．．連結機構

412a、412b．．．導引裝置

413．．．驅動裝置

430．．．安全支持機構

431．．．固定桿

433．．．轉動支持機構

431a．．．垂直桿

431b．．．水平桿

440．．．頭部機構

461．．．X軸驅動裝置

462．．．Y軸驅動裝置

463．．．Z軸驅動裝置

530．．．作業平台清洗機組

531a、531b．．．單位清洗裝置

532．．．噴射機構裝置

533．．．轉動機構

534．．．噴射機構裝置

534s．．．移動空間

534h．．．噴嘴

535．．．遮蔽裝置

540．．．轉動組件

541．．．支架締結機構

542．．．連結轉動機構

545．．．設備支架

570a．．．作業平台

630．．．R角研磨量測量裝置

631．．．測量裝置

633．．．測量支架

635．．．移動支架

637．．．昇降驅動裝置

638．．．移動驅動裝置

640．．．面板卸載機組

641s．．．單側開放式隧道

641．．．異物清除機構

642s．．．移動空間

642．．．噴設機構裝置

643．．．遮蔽裝置

642h．．．噴嘴

【圖1】舊型的R角加工研磨機組對面板的長邊及短邊分別地進行研磨加工的概略構成圖。

【圖2】為利用本發明之一種加工實施形態，即平面顯示器用的R角加工研磨機組之概略構成圖。

【圖3】此為作業平台的擴大斜視圖。

【圖4】為在對圖3的作業平台顯示加工動作的斜視圖。

【圖5】(a)是顯示，在轉盤的表面所形成的第1真空孔洞之構成圖，(b)則是顯示，形成於可變作業平台的表面上的第2真空孔洞之構成圖。

【圖6】係表示作業平台的概略的側面圖。

【圖7】係表示移載機構的擴大斜視圖。

【圖8】係表示顯示圖7的移載機構的部份加工動作的斜視圖。

【圖9】係顯示安裝在作業平台的上方之作業平台清洗機組的配置狀態的斜視圖。

【圖10】係顯示於圖9中的單位清洗裝置的斜視圖。

【圖11】係顯示於圖10的A-A線的橫剖面圖。

【圖12】係顯示配置在面板卸載機組的後方之R角研磨量的測量裝置構成之斜視圖。

【圖13】係顯示於圖12中的“B”部份的擴大斜視圖。

【圖14】係用來說明在圖13中所示的清除異物機構的斜視圖。

【圖15】係圖14中的分解斜視圖。

【圖16】係顯示於圖14的C-C線的橫剖面圖。

【圖17】係顯示利用本發明的其他加工實施形態，對平面顯示器進行R角加工的R角加工研磨機組之概略構成圖。

110．．．面板承載機組

120．．．研磨加工機組

130．．．面板卸載機組

630．．．R角研磨量測量裝置

300a．．．第一作業平台

300b．．．第二作業平台

123．．．研磨機

124．．．共用起重支架機構

125．．．對位攝影機

126．．．共用砂輪

400a．．．第一移載機構

400b．．．第二移載機構

530．．．作業平台清洗機組

545．．．設備支架

Claims (50)

1. 一種平面顯示器用的面板R角加工研磨機，包括有：承載面板的面板承載機組；對上述面板實施研磨R角加工的研磨加工機組；以及卸載上述面板的面板卸載機組；載置及固定上述面板，並與連結上述面板承載機組和面板卸載機組之間的一條虛擬作業線形呈直角相交，並且彼此相互分離配置的複數作業平台；以及載置於上述複數的作業平台，並具備有可進行面板的對位作業之至少一組對位攝影機，和載置於上述複數的作業平台，並對面板進行研磨加工作業的至少一組之研磨加工機組用的砂輪之研磨機；其中，該研磨加工機組用之砂輪係可以對上述面板的4個角落，長邊及短邊邊緣等都能進行加工者。
2. 如申請專利範圍第1項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數作業平台為包含順著連結上述面板承載機組和面板卸載機組之間的一條虛擬的作業線形，並與之呈横向配置的兩組第一作業平台及第二作業平台。
3. 如申請專利範圍第2項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數作業平台為執行面板的對位作業，而設定可讓該研磨加工機組在機組上的指定位置，可以順著X軸、Y軸及θ軸進行旋轉動作以便作業。
4. 如申請專利範圍第2項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該研磨機又包括： 配置於沿著連結於上述第一及第二作業平台的一條虛擬的作業線形，並橫跨上述第一及第二作業平台配置，用以固定及支持上述至少一組的對位攝影機之攝影機固定支架；上述至少一組的對位攝影機係設置在用來針對一個面板進行其兩側邊緣的攝影，而獨立地安裝及固定在上述第一及第二作業平台之一的每一組上方，應分別安配置兩支攝影機固定支架。
5. 如申請專利範圍第4項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中至少一組的研磨加工機組用的砂輪應安裝在第一及第二作業平台當中，每一個平台上分別獨立設置兩組；該研磨機係設置在連結於上述第一及第二作業平台的一條虛擬的作業線形上，並且橫跨在上述第一及第二作業平台的上面，進而再結合上述研磨加工機組用的砂輪，以及固定砂輪用的起重支架(gantry)機構。
6. 如申請專利範圍第2項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中至少一組的研磨加工機組用的砂輪為第一及第二作業平台都可共用的研磨加工機組之共用砂輪；以及至少一組之對位攝影機為上述第一及第二作業平台都可共用的對位攝影機。
7. 如申請專利範圍第6項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該研磨機又包括有：連結於上述第一及第二作業平台的一條虛擬的作業 線形之上，並且橫跨在第一及第二作業平台的上面配置的共用起重支架(gantry)機構；該研磨加工機組用的砂輪則是安裝在共用起重支架(gantry)機構部位的某一側，而共用對位攝影機則又是安裝在共用起重支架(gantry)機構部位的另一側。
8. 如申請專利範圍第2項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中至少一組的研磨加工機組用的砂輪為上述任一個第一及第二作業平台的研磨加工機組用的共用砂輪；而上述至少一組的對位攝影機則是配置面板的兩側邊緣進行對位攝影，而在上述第一及第二作業平台中每一個作業平台上分別安裝兩組獨立的對位攝影機。
9. 如申請專利範圍第8項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該研磨機又包括有：連結於沿著上述第一及第二作業平台的一條虛擬的作業線形，並且還要包括橫跨在第一及第二作業平台之上所配置的共用起重支架(gantry)機構部位；該對位攝影機則是配置在共用起重支架(gantry)機構部位的單側；而研磨加工機組用的砂輪係安裝在上述共用起重支架機構部位的另一側。
10. 如申請專利範圍第1項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數作業平台應該還包含有：可吸附面板並使之旋轉的至少一組轉盤，以及可對該轉盤進行接近及分隔的動作，並配置於轉盤的 外圍，並可配合面板的尺寸大小，並且與上述固定的轉盤呈相對的配置位置，且可以和上述轉盤一起吸附並固定面板的複數可變作業平台。
11. 如申請專利範圍第10項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中至少有一組的轉盤應設置在機台的中央，而複數可變作業平台則係在上述轉盤的外圍，以彼此相互對稱的方式共計配置四組。
12. 如申請專利範圍第11項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中當可變作業平台接近該轉盤時，為防止衝撞到轉盤，該可變作業平台之側面形成一個切開機構部位。
13. 如申請專利範圍第10項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該轉盤的表面應形成可利用真空吸附面板的複數的第一真空孔洞，且在該可變作業平台的表面上另包括有為了對面板作真空吸附，而由複數的真空配管對個別的真空孔洞執行ON/OFF控制之複數的第二真空孔洞。
14. 如申請專利範圍第13項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數真空配管又包括和複數的真空配管連結的中間配管；該真空配管乃分別隔著和上述每一條中間配管相鄰的一對的可變作業平台，以彼此相互對稱的方式做分岐配對。
15. 如申請專利範圍第13項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該加工機組又包括配置在上述第 一及第二真空孔洞的周圍，並且會從該轉盤及可變作業平台的表面朝向下方凹陷至固定深度，以形成固定形狀的線條狀態，增加對上述面板的表面之真空吸附面積的第一及第二真空吸附線槽。
16. 如申請專利範圍第15項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該第一及第二真空吸附線槽係於第一及第二真空孔洞當中每一個孔洞分別配置有一個線槽。
17. 如申請專利範圍第11項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該加工機組又包括驅動上述四組可變作業平台能夠對轉盤進行接近及分離動作的平台之驅動裝置部份。
18. 如申請專利範圍第17項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該作業平台之驅動裝置中包括有：以兩組成對，分別連結可變作業平台的一對連結組件；以及結合可控制分別上述的一對連結組件的旋轉，即當進行正向旋轉或逆向旋轉時，能夠控制上述一對連結組件彼此相互接近及分離動作的滾珠軸承；以及控制上述滾珠軸承的正向旋轉或逆向旋轉之單一驅動馬達。
19. 如申請專利範圍第18項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該加工機組又包含配置在上述可變作業平台和上述連結組件之間，可調節上述連結組件對可變作業平台的平坦度之平坦度調節機構。
20. 如申請專利範圍第19項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該平坦度調節機構又包括： 可讓兩端機構部位的連桿朝向彼此相反的方向加工的狀態，且兩端機構係被鎖附在可變作業平台和上述連結組件的複數調節螺絲帽之上，並結合於上述可變作業平台和上述連結組件之中的任何一組，而另一端的機構則和其一端接觸並固定住的複數固定螺帽。
21. 如申請專利範圍第10項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數作業平台應順著連結上述面板承載機組和面板卸載機組的一條虛擬的X軸，並在與之呈直角方向相交的位置上配置複數個作業平台。
22. 如申請專利範圍第1項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該加工機組又包括，在上述面板承載機組和上述研磨加工機組之間及在上述研磨加工機組和面板卸載機組之間分別設有沿著X軸、Y軸及Z軸移動，並可移載上述面板的面板移載機構；該面板移載機構係呈可彼此互相分離及互相接近移動的形式，並且另包括，可在面板的兩側固定住面板的複數基本支持機構，以及在搬送上述面板，或在中途停止時，可以防止面板從上述基本支持機構脫落，故在與上述基本支持機構彼此相互分離及接近的直角相交的方向上，設置可支持及固定面板的至少一組安全支持機構。
23. 如申請專利範圍第22項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該移載機構又包括：結合複數基本支持機構和至少一組安全支持機構的 頭部(head)機構；該複數基本支持機構係設置於上述頭部機構的兩側面，該至少一組的安全支持機構係設置於該研磨加工機組的頭部機構前方。
24. 如申請專利範圍第23項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數基本支持機構係分別設置在頭部機構的兩側面，每一個側面各設置兩個，合計共四個基本支持機構，至少一組的安全支持機構應設置一個。
25. 如申請專利範圍第24項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該移載機構係分別連接到二組基本支持機構的一對連結機構上；及在頭部機構之上設置有驅動裝置，該驅動裝置包括可引導上述一對連結機構移動之一對導引裝置，即同時會在該一對連結機構及該一對導引裝置引導下，驅動彼此互相接近及分離之連結機構。
26. 如申請專利範圍第24項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該移載機構又包括：連結在上述頭部機構的固定桿；以及可以在上述固定桿上轉動安全支持機構的轉動支持機構。
27. 如申請專利範圍第22項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該複數基本支持機構和上述至少一組的安全支持機構，係和面板之側面呈接觸狀態，形成‘∟’形狀在面板之下方。
28. 如申請專利範圍第22項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中為防止複數的基本支持機構和上述至少一組的安全支持機構刮傷面板，其係使用MD-PA材質製作。
29. 如申請專利範圍第22項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該移載機構係順著連結面板承載機組和面板卸載機組之間的一條假設的X軸，並且由一個可驅動複數的基本支持機構，和上述至少一組的安全支持機構的X軸驅動裝置，以及沿著和上述X軸交叉的Y軸，並可驅動上述複數的基本支持機構，和上述至少一組的安全支持機構的Y軸驅動裝置，還有可以將上述複數的基本支持機構，和至少一組的安全支持機構朝上下方向昇降，即沿著Z軸驅動。
30. 如申請專利範圍第1項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中為承載下一片待加工的面板，安裝在緊鄰研磨加工機組上，且朝向面板承載機組方向移動的作業平台表面，又可包含有一配置專為清洗作業平台用，噴射清洗流體用之作業平台清洗裝置。
31. 如申請專利範圍第30項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該作業平台清洗裝置又包括有和上述作業平台的移動方向呈直角交叉的横向位置之設備支架，以及位於作業平台上方，且可在上述的設備支架上作自由裝卸組合，可在上述作業平台的表面噴射清洗流體的至少一組之單位清洗裝置。
32. 如申請專利範圍第31項所述之平面顯示器用的面 板R角加工研磨機，其中該單位清洗裝置朝向作業平台的表面噴射之清洗流體，係為可從作業平台的內側朝向外側方向進行噴射，該單位清洗裝置係以朝向設備支架呈傾斜方式固定於支架上。
33. 如申請專利範圍第32項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該單位清洗裝置在每一個作業平台上分別安裝一對，且被固定在設備支架上；而分別安裝在該作業平台上之一對單位清洗裝置，係呈彼此相互對稱傾斜的角度固定在設備支架上。
34. 如申請專利範圍第31項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該單位清洗裝置又包括有安裝在作業平台表面上具有可噴射清洗流體的噴嘴之噴射機構裝置，該噴射機構裝置係連結在設備支架上且可轉動，及包括有一結合噴射機構裝置設備支架上之連結轉動裝置。
35. 如申請專利範圍第34項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該噴射機構裝置又包括有：可連結該連結轉動機構及對其進行連結轉動轉動機構，及結合轉動機構呈平行方向移動之轉動機構，並從其上方部位朝向內側方向移動該清洗流體之移動空間，此移動空間係呈凹陷狀態並結合在噴射機構裝置內。
36. 如申請專利範圍第35項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該噴射機構裝置又包括有結合於該噴射機構裝置上端部位，並可遮蔽噴射裝置之內部及外部機構之遮蔽裝置，在噴射機構之尖端部位，並設置有彼此相互分隔呈狹縫狀之噴嘴。
37. 如申請專利範圍第35項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該連結轉動機構又包括有：連結設備支架上之支架締結機構；該轉動機構又包括，以轉軸為中心結合並轉動該轉動機構之連結轉動機構，以及配置在與上述轉動機構縱向方向呈橫向直角相交且讓支架締結機構可對連結轉動機構呈現相對轉動之支架締結機構；以及連結該連結轉動機構之間之連結機構。
38. 如申請專利範圍第30項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該作業平台清洗裝置，係安裝在研磨加工機組和面板卸載機組之間。
39. 如申請專利範圍第30項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中研磨機組又包括一控制機構：當完成面板研磨加工，面板會被移送到面板卸載機組之上，當作業平台朝向面板承載機組的方向移動時，應包含一個可控制清洗機組朝向作業平台噴射清洗流體用以控制上述作業平台清洗機組的動作。
40. 如申請專利範圍第1項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該研磨機又包括有一測量裝置，該測量裝置係設置在上述面板卸載機組之上，當研磨加工機組完成對面板的加工後，可用來測量R角研磨量。
41. 如申請專利範圍第40項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該R角研磨量之測量裝置又包括，分別安裝於上述面板卸載機組的上方及下方，以便對著由面板卸載機組搬送過來的面板之長邊或是短邊，測量其R 角研磨量的至少一對測量裝置。
42. 如申請專利範圍第41項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該至少一對測量裝置又包含，可對著由面板卸載機組搬送過來之面板之一對長邊或短邊以進行連續拍攝之兩對攝影機。
43. 如申請專利範圍第42項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該攝影機係為線性掃瞄攝影機(LINE SCAN CAMERA)，或區塊掃瞄攝影機(AREA SCAN CAMERA)。
44. 如申請專利範圍第41項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該測量R角研磨量之測量裝置係沿著面板的搬送方向並與之呈橫向的直角相交形式設置呈彼此相互分隔，又可包括有一配置在對面板搬送方向及且在該測量裝置之上方位置；及一對可除去面板上可能残留異物之清除異物裝置。
45. 如申請專利範圍第44項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該清除異物裝置係安裝在呈單側開放式之隧道中，當面板卸載機組在裝載及搬送面板時，面板的長邊或是短邊可以通過單側開放式隧道，配合形成凹陷狀可從內側向面板噴灑流動的清洗作業流體以清除異物之移動空間；又可包括一安裝在該清除異物裝置上，用以噴灑異物清除流體用之噴射機構，當面板長邊或是短邊通過上述的移動空間時，清除作業流體即會噴灑在面板上。
46. 如申請專利範圍第45項所述之平面顯示器用的面 板R角加工研磨機，其中為保護安裝在上述清除異物裝置的內側之移動流體管線，又可包括有一在該異物清除機構的單面裝卸之活動式遮蔽裝置；該噴射機構和該遮蔽裝置應相互分隔連結，形成連通至上述的移動空間和外部的噴射出口。
47. 如申請專利範圍第46項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該噴射出口係以斜角方式安裝在異物清除機構之上端及下端，以對準一條假想直線呈傾斜之方式安裝。
48. 如申請專利範圍第44項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該R角研磨量之測量裝置應分別安裝在連結面板承載機組，和面板卸載機組之間的一條虛擬的X軸和Y軸的交叉點，並固定在測量支架的機構外殼上，並且結合上述可沿著Y軸移動的測量支架之框架。
49. 如申請專利範圍第48項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該R角研磨量之測量裝置應固定在上述的移動機構的支架上，並且又包括有一可對著面板卸載機組執行接近及分離動作之昇降驅動裝置。
50. 如申請專利範圍第48項所述之平面顯示器用的面板R角加工研磨機，其中該清除異物裝置應連結於活動支架上，其清潔作業流體係為用來清除異物用。