KR101365074B1

KR101365074B1 - 글라스용 면취 가공 시스템

Info

Publication number: KR101365074B1
Application number: KR1020110124826A
Authority: KR
Inventors: 배도목; 윤영순
Original assignee: 주식회사 에스에프에이
Priority date: 2011-11-28
Filing date: 2011-11-28
Publication date: 2014-02-20
Also published as: KR20130058850A

Abstract

글라스용 면취 가공 시스템이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템은, 기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛; 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 기판이 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함한다. 본 발명에 의하면, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있다.

Description

글라스용 면취 가공 시스템{Glass Edge Grinding System}

본 발명은, 글라스용 면취 가공 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착 지지하며 이송함으로써 이송 중 기판에 대한 면취 가공을 안정적으로 수행할 수 있는 면취 가공 유닛에 관한 것이다.

일반적으로 액정표시장치(LCD, liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등을 포함하는 평면디스플레이용 기판은 유리(glass) 재질로 이루어진다. 또한 반도체의 성질을 이용하여 빛 에너지를 전기 에너지로 변환시키는 태양전지(solar cells) 중에서 박막 태양전지(thin-film solar cells)용 기판 역시 유리(glass) 재질로 이루어진다.

이와 같이 평면디스플레이용 또는 태양전지용 기판은 유리 재질로 이루어지기 때문에 기판의 에지 가공(Edge Cut), 즉 기판의 코너 및 변에 대한 면취 가공을 해야만 유리 자체의 날카로움이 제거되어 공정간 이송 및 조작이 수월해지게 되고 안전사고를 미연에 예방할 수 있다. 이러한 면취 가공을 위해 면취기가 사용된다.

그런데, 이러한 종래의 면취기에 있어서는, 글라스가 장착되는 별도의 글라스 장착 스테이지(stage)를 마련하여, 글라스(glass)의 모서리를 그라인딩하기 위해서 그라인더(grinder)를 정위치시키고, 글라스가 장착된 스테이지(stage)를 이동시키면서 면취 가공하였다.

이 경우 그라인딩이 끝나면 스테이지를 다시 글라스의 로딩 영역으로 원위치시키고 새로운 글라스를 스테이지에 장착한 다음 면취 가공을 수행하게 된다.이에 의하여 글라스의 면취 가공을 위한 택트 타임(tact time)이 길어지며, 면취 가공 비용이 증가하며 장비 이용의 효율성이 감소되는 문제점이 있다.

대한민국 등록특허 제10-0924267호 (2009.10.23)

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있는 글라스용 면취 가공 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛; 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 상기 기판이 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 상기 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템이 제공될 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 체인 컨베이어 벨트; 및 상기 체인 컨베이어 벨트와 연결되어 상기 체인 컨베이어 벨트에 의해 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및 상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 가이드 브라켓의 측면에 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상기 가이드 브라켓의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링을 더 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되며, 상기 지그 판넬의 하부에 마련되어 상기 체인 컨베이어 벨트 및 상기 지그 판넬을 지지하며 상기 지그 판넬의 하면에서 상기 에어홀과 연결되는 연결공이 형성되는 지지몸체; 및 상기 지지몸체의 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함할 수 있다.

상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 기판이 놓여지며 판면에 흡착공이 형성되어 상기 기판을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트; 및 일정한 간격을 두고 상기 흡착 컨베이어 벨트의 내측 하부에 마련되어 상기 흡착공을 통하여 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 상기 흡착 컨베이어 벨트에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함할 수 있다.

상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사이에 두고 한 쌍이 상호 이격 거리가 조절 가능하도록 마련될 수 있다.

상기 글라스용 면취 가공 시스템은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛 사이에 마련되어 상기 기판을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛을 더 포함할 수 있다.

상기 면취 가공 유닛은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠; 및 상기 면취 가공용 휠을 회전 구동시키는 회전 구동부를 포함할 수 있다.

상기 면취 가공 유닛은, 상기 면취 가공용 휠은 복수가 상하 방향으로 적층되는 구조를 가지며, 상기 면취 가공용 휠을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈을 더 포함할 수 있다.

상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 이송 방향의 양 측면에 복수로 마련되며 복수의 상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 측면 모서리를 순차적으로 황삭 가공하고 정삭 가공할 수 있다.

상기 글라스용 면취 가공 시스템은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 정렬하여 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 공급하는 정렬 장치를 더 포함할 수 있다.

상기 정렬 장치는, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛; 및 상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판을 정렬하는 센터링 유닛을 포함할 수 있다.

상기 정렬 컨베이어 유닛은, 판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 상기 기판을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어; 및 한 쌍의 상기 브러쉬벨트 컨베이어 사이에 배치되며 상기 기판의 하부에서 상기 기판을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어를 포함할 수 있다.

상기 정렬 컨베이어 유닛은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련될 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 영역에서는 상기 기판의 하면으로 공기를 분사하여 상기 기판을 공기 부상시키도록 작동되며, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 인접한 영역에서는 상기 기판을 흡착하여 지지하며 이송시킬 수 있다.

상기 센터링 유닛은, 상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 가압하는 가압롤러; 및 상기 가압롤러가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부를 포함할 수 있다.

상기 센터링 유닛은, 상기 롤러지지부를 상기 기판의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부를 더 포함할 수 있다.

상기 면취 가공 유닛과 인접하여 마련되어 상기 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공된 상기 기판의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛을 더 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 타이밍 벨트; 및 상기 타이밍 벨트와 연결되어 상기 타이밍 벨트에 의하여 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함할 수 있다.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되고, 상기 타이밍 벨트에는 판면을 관통하여 상기 에어홀과 연결되는 제1 연결공이 형성되며, 상기 타이밍 벨트의 내측면에서 상기 타이밍 벨트와 접촉하며 상기 타이밍 벨트를 구동시키며 판면을 관통하여 상기 제1 연결공과 연결되는 제2 연결공이 형성되는 벨트 구동부; 상기 벨트 구동부의 하부에 마련되어 상기 벨트 구동부를 지지하며 상기 벨트 구동부의 하면에서 상기 제2 연결공과 연결되는 제3 연결공이 형성되는 지지몸체; 및 상기 지지몸체의 제3 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예들은, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있는 글라스용 면취 가공 시스템을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 평면 구성도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이다.
도 3은 도 1의 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛의 변형 실시예를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 단면도이다.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도이다.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 평면 구성도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이며, 도 3은 도 1의 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛의 변형 실시예를 나타낸 단면도이다.

도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 기판이라 함은, TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) 기판, 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등의 평면디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 기판 및 태양전지용 PV 글라스(Photovoltaic glass) 중 어느 하나일 수 있다.

이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템(1)은, 기판(10)을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 인접하게 마련되어 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 측부에 마련되어 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의해 이동되는 동안 기판(10)에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛(300)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200) 사이에 마련되어 기판(10)을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛(400)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 전방에 마련되어 기판(10)을 정렬하여 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 공급하는 정렬 장치(500)와, 면취 가공 유닛(300)과 인접하여 마련되어 면취 가공 유닛(300)에 의하여 면취 가공된 기판(10)의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛(600)을 포함한다.

흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은 기판(10)을 흡착 지지하며 이송시킨다. 이에 의해서, 별도의 기판(10) 장착 스테이지 없이 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 의하여 이송되는 동안 면취 가공 유닛(300)에 의하여 기판(10)의 측면을 면취 가공할 수 있다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은, 기판(10)이 놓여지며 판면에 흡착공(111)이 형성되어 기판(10)을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트(110)와, 일정한 간격을 두고 흡착 컨베이어 벨트(110)의 내측 하부에 마련되어 흡착공(111)을 통하여 공기를 흡입함으로써 기판(10)을 흡착 컨베이어 벨트(110)에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함한다.

흡착 컨베이어 벨트(110)는 판면에 일정 간격을 두고 흡착공(111)이 형성되어, 기판(10)이 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 놓여지면 흡착공(111)에 의하여 흡착 지지되어 이송된다. 흡착 컨베이어 벨트(110)의 내측 하부에는 일정한 간격을 두고 흡착공(111)을 통하여 공기를 흡입하는 진공 흡착 모듈이 마련되는데, 진공 흡착 모듈에 의하여 흡착 컨베이어 벨트(110)의 흡입공과 기판(10) 사이의 공간이 진공 상태가 됨으로써 기판(10)이 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 흡착 지지되며 이송될 수 있다.

흡착 컨베이어 벨트(110)는 흡착 컨베이어 벨트(110)의 양단부의 내측면에 마련되어 흡착 컨베이어 벨트(110)와 접촉되며 회전하는 회전롤러(미도시)에 의하여 회전되며, 흡착 컨베이어 벨트(110)의 폐루프 내부에는 컨베이어 몸체(120)(미도시)가 마련되어 흡착 컨베이어 벨트(110) 및 진공 흡착 모듈은 컨베이어 몸체(120)에 의하여 지지된다.

회전롤러는 컨베이어 몸체(120)와 연결되어 컨베이어 몸체(120)에 의하여 지지되며, 회전축에 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 이동 가능하도록 결합된다. 컨베이어 몸체(120)는 컨베이어 몸체(120)를 지지하는 컨베이어 간격 조절 유닛(미도시)에 의하여 지지되며, 컨베이어 간격 조절 유닛은 컨베이어 몸체(120)를 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 이동시킨다.

흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 사이에는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)이 마련되고, 한 쌍의 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 사이의 간격은 컨베이어 간격 조절 유닛에 의하여 기판(10)의 크기에 따라 조절 가능하다.

연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 면취 가공 시 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 의하여 흡착 지지되는 기판(10)을 더욱 견고하게 흡착 지지하며 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 함께 기판(10)을 이송시킴으로써 기판(10)의 면취 가공을 안정적으로 수행되게 하며, 기판(10)의 이송 시 기판(10)이 면취 가공 위치에서 이송되도록 기판(10)을 안정적으로 지지한다.

도 2를 참조하면, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 체인 컨베이어 벨트(210)와, 체인 컨베이어 벨트(210)와 연결되어 체인 컨베이어 벨트(210)에 의해 이동되며 상면으로부터 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀(221)이 형성되어 상면에 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬(220)과, 지그 판넬(220)의 하부에 마련되어 체인 컨베이어 벨트(210) 및 지그 판넬(220)을 지지하며 지그 판넬(220)의 하면에서 에어홀(221)과 연결되는 연결공(261)이 형성되는 지지 몸체(260)와, 지지 몸체(260)의 연결공(261)과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈(270)을 포함한다.

체인 컨베이어 벨트(210)는 한 쌍으로 마련되며, 양단부의 내측면에 마련되는 체인 스프로켓(미도시, chain sprocket)과 체인 스프로켓에 연결되는 구동모터(미도시)에 의하여 구동된다. 체인 컨베이어 벨트(210)는 체인으로 이루어져 있으므로 정확한 구동이 가능하고 구동 마력이 높은 장점이 있다.

지그 판넬(220)은 사각 판넬 형상으로 마련되며 판면에 기판(10)을 흡착하거나 공기 분사할 수 있는 에어홀(221)이 마련된다. 에어홀(221)은 지그 판넬(220)의 상면으로부터 하면까지 연결되도록 형성된다. 지그 판넬(220)은 상면에 기판(10)을 접촉하여 지지하며, 공압 조절 모듈(270)이 에어홀(221)로부터 공기를 흡입하거나 분사함으로써 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시킨다.

지지 몸체(260)는 지그 판넬(220)의 하부에 마련되어 지그 판넬(220)을 지지하며, 지그 판넬(220)과 접촉되는 부분에는 지그 판넬(220)의 에어홀(221)과 연결되는 연결공(261)이 형성된다. 연결공(261)은 지지 몸체(260)의 내측을 관통하여 공압 조절 모듈(270)과 연결된다. 또한, 지지 몸체(260)에는 한 쌍의 체인 컨베이어 벨트(210)를 지지하는 체인 지지부(262)가 마련되어 체인 컨베이어 벨트(210)가 체인 지지부(262)에 의하여 지지되면서 이동된다.

한편, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 지그 판넬(220)의 측면에 연결되어 지그 판넬(220)의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓(230)과, 가이드 브라켓(230)의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 가이드 브라켓(230)의 이동시 가이드 브라켓(230)을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링(240)과, 가이드 브라켓(230)의 측면에 마련되어 가이드 브라켓(230)의 이동시 가이드 브라켓(230)을 가이드 브라켓(230)의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링(250)을 더 포함한다.

가이드 브라켓(230), 상하 베어링(240) 및 측면지지 베어링(250)은 지그 판넬(220)이 기판(10)을 지지하며 이동시킬 때 기판(10)의 측면이 면취 가공 유닛(300)에 의하여 면취 가공되는 정위치를 따라 이동될 수 있도록 지그 판넬(220)을 상하 방향 및 측면 방향에서 지지함으로써 가이드한다.

이에 의해서, 지그 판넬(220)은 상하 방향 및 측면 방향으로의 힘이 작용하더라도 기판(10)이 정위치에서 이동되도록 안정적으로 지지하며 이동시킬 수 있다.

본 실시예에서는 측면지지 베어링(250)을 사용하여 가이드 브라켓(230)의 측면을 지지하였으나, 이와 달리 도 3에서와 같이, 지그 판넬(220)의 하면 중앙에 돌출되어 마련되는 돌출연결부(222)를 마련하고, 돌출연결부(222)의 양 측면에 한 쌍의 핀 베어링(280)을 마련하여 돌출연결부(222)를 양 측면에서 지지함으로써 지그 판넬(220)을 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 지지할 수도 있다.

도 2를 참조하면, 면취 가공 유닛(300)은, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 측면에 마련되어 기판(10)의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠(310)과, 면취 가공용 휠(310)을 회전 구동시키는 회전 구동부(320)와, 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈(330)을 포함한다.

면취 가공용 휠(310)은 회전 구동부(320)에 의하여 고속으로 회전하며 기판(10)의 측면에서 기판(10)과 접촉하여 기판(10)의 측면 모서리를 면취 가공한다. 면취 가공 유닛(300)의 면취 가공용 휠(310)은 복수가 상하 방향으로 적층되도록 마련되며 상하 이동 모듈(330)에 의하여 상하 방향으로 이동될 수 있다.

면취 가공용 휠(310)이 일정 시간 가동되며 면취 가공 공정을 수행하면 마모 또는 훼손이 발생할 수 있는데, 상하 이동 모듈(330)은 마모 또는 훼손이 발생된 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시켜서 새로운 면취 가공용 휠(310)이 기판(10)의 면취 가공을 수행하게 한다. 이에 의하여, 면취 가공용 휠(310) 전체의 교체 주기를 지연시킬 수 있으며 생산성을 향상시킬 수 있다.

면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 이송 방향을 따라 기판(10)의 양 측면에 복수로 마련되며 기판(10)을 먼저 면취 가공하는 순서대로 황삭 가공에서 정삭 가공을 수행하도록 그에 따른 면취 가공용 휠(310)을 구비한다.

또한, 면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 이송 방향과 교차되는 방향으로 이동 가능하게 마련되어 기판(10)의 크기에 따라 이동됨으로써 기판(10)의 측면을 면취 가공할 수 있는 정확한 위치에서 기판(10)의 측면 면취 가공을 수행할 수 있다.

도 1을 참조하면, 처짐방지 컨베이어 유닛(400)은, 일반 벨트 컨베이어로 마련되며 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200) 사이에 마련되어 기판(10)을 지지하며 이동시킨다. 이에 의하여 기판(10)이 대형인 경우에 기판(10)의 처짐을 방지할 수 있다. 처짐방지 컨베이어 유닛(400)은 기판(10)의 크기에 따라 복수가 마련될 수도 있다.

도 1을 참조하면, 정렬 장치(500)는, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 전방에 마련되어 기판(10)을 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛(510)과, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)을 정렬하는 센터링 유닛(520)과, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)의 정렬 상태를 검사하는 얼라인 비전부(530)를 포함한다.

정렬 컨베이어 유닛(510)은 기판(10)을 면취 가공을 위해 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송시킬 때 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 손상 없이 정렬될 수 있도록, 기판(10)의 접촉면에서의 마찰을 감소시키며 지지한다.

정렬 컨베이어 유닛(510)은, 판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 기판(10)을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어(511)와, 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어(511) 사이에 배치되며 기판(10)의 하부에서 기판(10)을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어(512)를 포함한다.

브러쉬벨트 컨베이어(511)는 플렉시블 브러쉬가 촘촘하게 마련되는 브러쉬 벨트에 의하여 기판(10)을 지지함으로써 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 이동되더라도 기판(10)의 접촉면에서의 손상을 방지할 수 있다. 공기부상 컨베이어(512) 또한 기판(10)을 향하여 공기를 분사함으로써 기판(10)이 공기압에 의하여 지지되도록 하여 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 이동되더라도 마찰에 의한 기판(10)의 손상을 방지한다.

센터링 유닛(520)은 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 한 쌍이 마련되어 기판(10)의 양 측면에서 기판(10)을 가압하여 정렬시킨다.

센터링 유닛(520)은, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)의 측면을 가압하는 가압롤러(521)와, 가압롤러(521)가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부(522)와, 롤러지지부(522)를 기판(10)의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부(523)를 포함한다.

가압롤러(521)는 롤러지지부(522)에 회전 가능하게 결합되어 기판(10)의 측면을 가압함으로써 기판(10)을 정렬 이동시킨다. 유닛 이동부(523)는 기판(10)이 정렬 컨베이어 유닛(510)에 의하여 이동될 때에 가압롤러(521)를 기판(10)의 이동 방향으로 함께 이동시킴으로써 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이동되기 전까지 정밀하게 정렬되도록 한다.

얼라인 비전부(530)는 정렬 컨베이어 유닛(510)이 끝나는 지점의 측부에 마련되어 기판(10)이 정위치로 정렬되었는 지를 검사한다.

한편, 도 1을 참조하면, 정렬 컨베이어 유닛(510)은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 한 쌍의 정렬 컨베이어 유닛(510) 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련된다. 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 한 쌍의 정렬 컨베이어 유닛(510) 사이의 영역에서는 기판(10)의 하면으로 공기를 분사하여 기판(10)을 공기 부상시키도록 작동되며, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 인접한 영역에서는 기판(10)을 흡착하여 지지하며 이송시킨다.

즉, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 기판(10)이 정렬되는 정렬 장치(500)에서는 공압 조절 모듈(270)이 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 분사하도록 작동되며, 기판(10)이 면취 가공되는 영역에서는 공압 조절 모듈(270)이 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 흡입하도록 작동되어 기판(10)을 흡착 지지한다.

도 1을 참조하면, 검사 유닛(600)은, 카메라 모듈을 포함하며 기판(10)의 측면 모서리부를 촬영함으로써 기판(10)의 면취 가공 상태를 검사한다.

이러한 구성을 갖는 글라스용 면취 가공 시스템(1)의 작용에 대해 설명하면 다음과 같다.

먼저, 기판(10)이 정렬 장치(500)에 의하여 정렬되어 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 공급된다. 정렬 장치(500)에서는, 정렬 컨베이어 유닛(510)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의하여 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송되며, 기판(10)의 양 측면에서 센터링 유닛(520)에 의하여 기판(10)이 가압되며 정렬된다. 이때, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 분사함으로써 센터링 유닛(520)에 의하여 기판(10)이 정렬 이동될 때에 기판(10)에 마찰에 의한 손상이 발생되지 않도록 한다. 또한, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)과 정렬 컨베이어 유닛(510)은 동기 구동하며 기판(10)을 이송시킨다.

정렬 장치(500)에 의하여 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송된 기판(10)은, 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 놓여지고 흡착 컨베이어 벨트(110)의 흡착공(111)을 통하여 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 흡착 지지되어 이송된다. 이때, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 흡입함으로써 기판(10)이 지그판넬에 흡착 지지되어 이송되도록 작동한다.

기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의하여 흡착되어 이송됨으로써 이송되는 중에 기판(10)의 양 측면에 마련되는 면취 가공 유닛(300)에 의해서 기판(10)의 양 측면 모서리부를 면취 가공할 수 있다.

면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 측면 위치에 맞추어 면취 가공용 휠(310)을 위치시켜서 기판(10)의 측면 모서리부를 면취 가공하고, 면취 가공용 휠(310)이 마모되거나 손상된 경우에는 상하 이동 모듈(330)에 의하여 새로운 면취 가공용 휠(310)이 면취 가공을 수행하도록 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시킨다.

기판(10)은 양 측면에서 각각 복수의 면취 가공 유닛(300)을 거치며 황삭 및 정삭 가공되고, 면취 가공을 마친 기판(10)은 이송되면서 검사 유닛(600)에 의하여 면취 가공 상태가 검사된다. 검사 유닛(600)에 의하여 불량으로 판정된 기판(10)은 폐기 처분된다.

한편, 면취 가공을 마친 기판(10)은, 90도 회전하여 다시 정렬 장치(500)로 공급되어 면취 가공되지 않은 앞뒤 에지부를 면취 가공하거나, 또는 본 실시예의 글라스용 면취 가공 시스템(1)을 직렬로 2개 연결하고 그 사이에 기판(10)을 90도 회전시키는 회전 장치를 두어 기판(10)의 4면을 모두 면취 가공할 수 있다.

이와 같이, 본 발명의 글라스용 면취 가공 시스템(1)에 의하면, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)을 사용하여 기판(10)을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있다.

한편, 이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템을 설명하면 다음과 같다. 단, 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템에서 설명한 바와 동일한 것에 대해서는 그 설명을 생략하기로 한다.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 단면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도이다. 도 4 및 도 5에 있어서, 도 1 내지 도 3과 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타내며 상세한 설명은 생략하기로 한다.

이들 도면을 참조하여 살펴보면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템에서, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(700)은, 판면을 관통하여 제1 연결공(711)이 형성되는 타이밍 벨트(710)와, 하면에서 제1 연결공(711)과 연결되는 공기 통로인 에어홀(721)이 형성되고 타이밍 벨트(710)와 연결되어 타이밍 벨트(710)에 의하여 이동되며 상면에 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬(720)과, 타이밍 벨트(710)의 내측면에서 타이밍 벨트(710)와 접촉하며 타이밍 벨트(710)를 구동시키며 판면을 관통하여 제1 연결공(711)과 연결되는 제2 연결공(731)이 형성되는 벨트 구동부(730)와, 벨트 구동부(730)의 하부에 마련되어 벨트 구동부(730)를 지지하며 벨트 구동부(730)의 하면에서 제2 연결공(731)과 연결되는 제3 연결공(761)이 형성되는 지지몸체(760)와, 지지몸체(760)의 제3 연결공(761)과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈(미도시)을 포함한다.

지그 판넬(720)은 사각 판넬 형상으로 마련되며 판면에 기판(10)을 흡착하거나 공기 분사할 수 있는 에어홀(721)이 마련된다. 에어홀(721)은 지그 판넬(720)의 상면으로부터 하면까지 연결되도록 형성된다. 지그 판넬(720)은 상면에 기판(10)을 접촉하여 지지하며, 공압 조절 모듈이 에어홀(721)로부터 공기를 흡입하거나 분사함으로써 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시킨다.

타이밍 벨트(710)는 한 쌍으로 마련되어 지그 판넬(720)의 하부에서 지그 판넬(720)을 지지하며, 판면을 관통하여 지그 판넬(720)의 에어홀(721)과 연결되는 제1 연결공(711)이 형성된다. 타이밍 벨트(710)는 타이밍 벨트(710)의 내측면에 마련되는 벨트 구동부(730)와 벨트 구동부(730)에 연결되는 구동모터(미도시)에 의하여 구동된다. 벨트 구동부(730)에는 타이밍 벨트(710)의 제1 연결공(711)과 연결되는 제2 연결공(731)이 형성된다. 타이밍 벨트(710)는 내측면에 요철부가 마련되어 정확한 구동이 가능하고 구동 마력이 높은 장점이 있다.

지지몸체(760)는 벨트 구동부(730)의 하부에 마련되어 벨트 구동부(730)를 지지하며, 벨트 구동부(730)와 접촉되는 부분에는 벨트 구동부(730)의 제2 연결공(731)과 연결되는 제3 연결공(761)이 형성된다. 제3 연결공(761)은 지지몸체(760)의 내측을 관통하여 공압 조절 모듈(미도시)과 연결된다.

한편, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(700)은, 지그 판넬(720)의 측면에 연결되어 지그 판넬(720)의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓(740)과, 가이드 브라켓(740)의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 가이드 브라켓(740)의 이동시 가이드 브라켓(740)을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링(750)과, 지그 판넬(720)의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부(722)의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링(770)을 더 포함한다.

가이드 브라켓(740), 상하 베어링(750) 및 핀 베어링(770)은 지그 판넬(720)이 기판(10)을 지지하며 이동시킬 때 기판(10)의 측면이 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공되는 정위치를 따라 이동될 수 있도록 지그 판넬(720)을 상하 방향 및 측면 방향에서 지지함으로써 가이드한다. 이에 의해서, 지그 판넬(720)은 상하 방향 및 측면 방향으로의 힘이 작용하더라도 기판(10)이 정위치에서 이동되도록 안정적으로 지지하며 이동시킬 수 있다.

본 실시예에서는 핀 베어링(770)을 사용하여 지그 판넬(720)의 돌출연결부(722)의 양 측면을 지지하였으나, 이와 달리, 가이드 브라켓(740)의 측면에 측면지지 베어링(미도시)을 마련하여 가이드 브라켓(740)을 양 측면에서 지지함으로써 지그 판넬(720)을 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 지지할 수도 있다.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정 예 또는 변형 예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.

1 : 글라스용 면취 가공 시스템 10 : 기판
100 : 흡착벨트 컨베이어 유닛 110 : 흡착 컨베이어 벨트
111 : 흡착공 200 : 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛
210 : 체인 컨베이어 벨트 220 : 지그 판넬
221 : 에어홀 222 : 돌출연결부
230 : 가이드 브라켓 240 : 상하 베어링
250 : 측면지지 베어링 260 : 지지 몸체
261 : 연결공 262 : 체인 지지부
270 : 공압 조절 모듈 280 : 핀 베어링
300 : 면취 가공 유닛 310 : 면취 가공용 휠
320 : 회전 구동부 330 : 상하 이동 모듈
400 : 처짐방지 컨베이어 유닛 500 : 정렬 장치
510 : 정렬 컨베이어 유닛 511 : 브러쉬벨트 컨베이어
512 : 공기부상 컨베이어 520 : 센터링 유닛
521 : 가압롤러 522 : 롤러지지부
523 : 유닛 이동부 600 : 검사 유닛

Claims

기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛;
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 상기 기판이 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 상기 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함하며,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
체인 컨베이어 벨트; 및
상기 체인 컨베이어 벨트와 연결되어 상기 체인 컨베이어 벨트에 의해 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함하며,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및
상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
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제1항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 가이드 브라켓의 측면에 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상기 가이드 브라켓의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되며,
상기 지그 판넬의 하부에 마련되어 상기 체인 컨베이어 벨트 및 상기 지그 판넬을 지지하며 상기 지그 판넬의 하면에서 상기 에어홀과 연결되는 연결공이 형성되는 지지몸체; 및
상기 지지몸체의 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은,
상기 기판이 놓여지며 판면에 흡착공이 형성되어 상기 기판을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트; 및
일정한 간격을 두고 상기 흡착 컨베이어 벨트의 내측 하부에 마련되어 상기 흡착공을 통하여 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 상기 흡착 컨베이어 벨트에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사이에 두고 한 쌍이 상호 이격 거리가 조절 가능하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛 사이에 마련되어 상기 기판을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠; 및
상기 면취 가공용 휠을 회전 구동시키는 회전 구동부를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제10항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은,
상기 면취 가공용 휠은 복수가 상하 방향으로 적층되는 구조를 가지며,
상기 면취 가공용 휠을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 이송 방향의 양 측면에 복수로 마련되며 복수의 상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 측면 모서리를 순차적으로 황삭 가공하고 정삭 가공하는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 정렬하여 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 공급하는 정렬 장치를 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제13항에 있어서,
상기 정렬 장치는,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛; 및
상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판을 정렬하는 센터링 유닛을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제14항에 있어서,
상기 정렬 컨베이어 유닛은,
판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 상기 기판을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어; 및
한 쌍의 상기 브러쉬벨트 컨베이어 사이에 배치되며 상기 기판의 하부에서 상기 기판을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제14항에 있어서,
상기 정렬 컨베이어 유닛은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련되는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제16항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 영역에서는 상기 기판의 하면으로 공기를 분사하여 상기 기판을 공기 부상시키도록 작동되며,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 인접한 영역에서는 상기 기판을 흡착하여 지지하며 이송시키는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제14항에 있어서,
상기 센터링 유닛은,
상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 가압하는 가압롤러; 및
상기 가압롤러가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제18항에 있어서,
상기 센터링 유닛은,
상기 롤러지지부를 상기 기판의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부를 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛과 인접하여 마련되어 상기 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공된 상기 기판의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛;
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 상기 기판이 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 상기 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함하며,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
타이밍 벨트; 및
상기 타이밍 벨트와 연결되어 상기 타이밍 벨트에 의하여 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함하며,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및
상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
삭제
제21항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.
제21항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되고,
상기 타이밍 벨트에는 판면을 관통하여 상기 에어홀과 연결되는 제1 연결공이 형성되며,
상기 타이밍 벨트의 내측면에서 상기 타이밍 벨트와 접촉하며 상기 타이밍 벨트를 구동시키며 판면을 관통하여 상기 제1 연결공과 연결되는 제2 연결공이 형성되는 벨트 구동부;
상기 벨트 구동부의 하부에 마련되어 상기 벨트 구동부를 지지하며 상기 벨트 구동부의 하면에서 상기 제2 연결공과 연결되는 제3 연결공이 형성되는 지지몸체; 및
상기 지지몸체의 제3 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.