TWI377095B - Chemical liquid supply unit, and substrate treating apparatus and method using the same - Google Patents

Chemical liquid supply unit, and substrate treating apparatus and method using the same Download PDF

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Description

1377095 2992〇pif2 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年8月 13曰 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種基板處理裝置與方法，更且體而 ^是有關於-種將姐液供應職板上的化學液^供應 單元以及使用此單元的基板處理裝置與方法。 〜 【先前技術】 '
半導體元件藉由重複地在石夕晶圓上依序堆疊薄膜以形 成預定電路圖案製程而製造。爲了形成並^堆叠薄膜，^ 須重複地進行諸如沈積製程、微影製程以及蝕 個單元製程。 微影製程是在晶圓上形成圖案的製程。微影製程 塗布'曝光以及顯影製程。 在塗布製程中’具有對光敏感的材質的光阻液均句地 塗布在㈣的表面上。在曝錢程中，光藉由漸步機 (stepper)而穿猶製在罩幕上的電路_，以曝光包括光阻 液的晶圓。透過使用顯影劑的曝光製程，在晶圓表面的光 阻層的光接收部份或光不接收雜±選擇性地進行顯影製 程。 、 實施塗布、曝光以及顯影製程，以在晶圓上形成圖案。 使用形成在晶圓上的圖案為罩幕層，能夠侧晶圓的頂層 而形成相應於圖案的元件。 根據各種製程，供應到晶圓的光阻液的麵也不同。 因此:塗布元件憎置有大量的光阻液供應嘴嘴。而且， 塗布凡件中設置有轉移臂，轉移㈣於選擇性地固持以及 5 1377095
, 29920piG 爲第97142564號中文_書無_赃本 修正日期：⑼年8月13日 轉移待用於製程中的光阻液供應喷嘴。然而，由於此等典 型元件必須具有可拆卸的光阻液供應喷嘴結構，因此元^牛 的構造比較複雜，並且在此元件的拆卸以及移動期間— 部份的光阻液供應喷嘴會被改變。 【發明内容】 本發明提供一種能夠有效進行光阻液塗布製程的化學 液體供應單兀以及使用此單元的基板處理裝置以及方法。 本發明還提供能夠簡化塗布化學液體的單元及元件的 構造的化學液體供應單元以及使用此單元的基板處理裝置 與方法。 然而，本發明並不限於此，並且透過下文的詳細說明， 本領域熟知此項技藝者可輕易地理解本發明的並它優點以 及性能。 ..... 本發明的實施例提供一種化學液體供應單元，其包 括：多個排放化學液體的喷嘴；喷嘴臂，於此喷嘴臂/中安 裝有夕個喷紫並且構建有將化學液體供應到噴嘴的化學液 體管，溫度控制構件，將溫度控制液供應到噴嘴臂中，以 控制流經化學液體管的化學液體的溫度。 气些實施例中，溫度控制構件可包括：溫度控制液 排放管’與介於喷嘴臂的主體的内壁和化學液體管之間的 空間相通；溫度控制液供應線，將溫度控制液供應到介於 主體的内壁與化學液體管之間的空間；以及溫度控制液排 放線，連接到溫度控制液排放管。 在其它實施例中，溫度控制構件可包括··溫度控制液 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13日 爲第97丨42564號中文麵書無sg線修正本 供應了’ &圍喷嘴臂内的化學賴管；溫度控制液排放管， 包圍實嘴臂⑽溫度控制液供應管此溫度控制液排放管 與*度控制紐齡相n度㈣彳液供應線，連接到溫 度控，液供應管；溫度㈣液概線，連制溫度控制液 排放普。
+在其匕實施例中，多個噴嘴包括排放光阻液的光阻液 贺嘴’亚且化學液體管包括將光阻液供應到光阻液嘴嘴的 光阻液管。多個喷飼包括減用於進行預難程的有機 溶劑的有齡射嘴，並且化學㈣管還包括將有機溶劑 供應到有餘射嘴的錢溶辭。化學㈣供應單元可 ^包括··有機溶劑供應線，將有機溶劑源連接到有機溶劑 管；以及抽吸構件，設置在有機溶劑供應線中，此抽吸構 件提供負壓力至有機溶劑喷嘴。 在本發明的其它實施例中，基板處理裝置包括：基板 支撐構件，支撐基板；喷嘴臂’於噴対中絲有排放化 學液，的％时似建财將化學液體供_噴嘴的化 液體管；等待埠’安裝在喷嘴臂巾㈣個噴嘴於等待埠中 等待進行製程’此特料置在基板支撐構件的側部上， 其中此等待埠包括：殼體，具有打_頂部，殼體提供用 於容納多個喷嘴的"；以及有機溶劑供應構件，與容 ^殼體中的多個噴嘴—對應，有機溶劑供應構件^機 溶劑供應到選擇自相應喷嘴的噴嘴的前端。 在一些實施例+，殼體提供凹陷狀的噴嘴容納空間， 於此噴嘴容納空間中容納所有多個光阻液噴嘴，並且此有 7 29920pif2 修正曰期：101年8月13日 爲第97丨42564號中文說明書無劃線修正本 供應構件具有有機溶劑供應通道，此有機溶劑供應 直接地並且獨立地將有機溶劑供應到光阻液噴嘴的前 在其它實施例中，殼體提供凹陷狀的多個嘴嘴容納空 間’於此喷嘴容納空間中單獨地容納多個光阻液 且有機溶舰麟件具有有機賴供應通道此 供應通道將有機溶觸立地供應射嘴容納㈣中之每二 包括排放儲存在噴嘴容納空間中的有機溶劑的 、’。威體提供凹陷狀的多個喷嘴容納空間，於此 ΐ納f間中單獨地容納多個綠液以及有機溶劑喷 I，並且有舰麟件具有有機賴供顧道，此有 機溶劑供應通道將有機溶麵立地供應到容納有多個光阻 液喷嘴的喷嘴容納空間中之每一者。 在其它實施例中，基板處理裝置可包括設置在等待淳 :側上的儲存痒(waitingport)’儲存埠提供儲存安裳在喷 谊中的喷嘴的空間。喷嘴臂可以設置成多個，並且等待 t及儲存埠可以設置成多個，使得每一埠與每一喷嘴臂 對應。 在其它實施例中，儲存埠可包括：殼體，具有打開的 丁邛，此殼體提供用於容納喷嘴的凹 間；有機溶劑供應構件，將有機溶舰應到噴嘴=合空二 =施例中，其中等待淳以及儲存痒形成一對’， 別設置在基板支撐構件的兩側，使得等待 阜板切構件以⑽存料置成在-雜中彼此平 1377095 29920pif2 ' 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇1年8月13日 行，噴嘴臂單獨地設置在基板支撐構件的兩側，使得喷嘴 ’垂直於專待埠以及儲存埠的排列方向。 在另一些實施例中，基板處理襞置還可包括驅動構 . 件，此驅動構件移動喷嘴臂，以將噴嘴臂中的喷嘴定位到 基板支撐構4上的處理位置中，等待位置設置在等待埠 中，並且儲存位置設置在儲存埠中，其令驅動構件可包括·· f嘴臂支撐構件，支射嘴臂巾之每—者；麟器，在平 ® 行於荨待埠以及儲存槔的排列方向的方向上 構件直線地往復運動；以及導向構件，導引喷嘴臂支= 件的直線移動。 在本發明的另一些實施例中，基板處理方法包括：當 2光阻液喷嘴在第—位置與第二位置之間重複移動時供 二光阻液，其中第一位置為光阻液供應到基板的位置第 二位置為包括多個雜液喷嘴的嘴嘴臂的等待埠， ，洛劑供應到在等料巾❹個光阻时嘴巾之在製程
的細㈣·嘴，並且在錢溶縣供朗在製程 ^所使用的光阻液対之狀態τ，多做阻㈣嘴進行等 的容有機溶劑 下的狀態下實現·· 1多=1=待;:::= 9 1377095 2992〇pif2 爲第9m2564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：⑻年8月13日 在等待埠中之在製程中未使用的使用的光阻液喷嘴，並且 有機溶劑未喷灑到在製程中被使用的光阻液噴嘴。 在其它實施例中，噴嘴臂設置成多個，並且在製程 使用的喷嘴臂齡在雌种，其+儲料鋪在 劑的環境下。 / 在其它實施例中’喷嘴臂可包括將光阻液供應到光阻 液噴嘴的多個光阻液管，並且供應溫度控制液到噴嘴臂， ，中溫度控制液將流入光阻液管的光阻液的溫度保持在設 定溫度下，其中在光阻液管内的光阻液的溫度藉由與其^ 入相同通道的溫度控制液來控制。 ^机 在其它實施例中，溫度控制液透過介於噴嘴臂的主體 的内壁與光阻液官之間的空間來供應並且透過設置在噴嘴 臂内的溫度控制液排放管來排放。 、 在另-些實關巾’減用於賴餘的有機溶劑的 有機溶劑喷嘴更安裝在喷嘴臂中，將有機溶劑供應到有機 溶劑噴嘴的有機溶劑管更設置在喷嘴臂中，並且流入有機 溶劑管的有機溶劑可藉由與其流入相同通道的溫^控制液 而保持在設定溫度下。 【實施方式】 >參考圖1至圖8，在下文中詳細介紹本發明的較佳實 施例。然而，本發明可以實施成不同的形式並且不應該解 釋成僅限於本文所賴實_。而且，提供該等實施例， 使得本公開内容徹底及全面，並且向本領域熟知此項技藝 者完全傳達本發明的範圍。 w 10 1377095 修正曰期：101年8月13日 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 圖1是根據本發明之實施例的包括基板處理裝置的半 導體製造設備的平面圖，圖2是圖1的半導體製造設備的 側視圖，圖3是圖1的半導體製造設備的處理器的示意圖。 參考圖1至圖3，半導體製造設備1〇包括索引器 (indexer)20、處理器30以及介面50。索引器20、處理器 30、介面50平行地設置在第一方向12上。索引器2〇設置 成沿第一方向12與處理器3〇的前端相鄰。介面5〇設置成 沿第一方向12與處理器30的後端相鄰。索引器2〇以及介 面50設置成在長度方向上朝向垂直於第一方向12的第二 方向14延伸。處理器3〇具有在向上以及向下方向上堆疊 的多層結構。第一處理單元32a設置在下層中，並且第二 處理單元32b設置在上層中。索引器20以及介面50分別 將基板移入/移出處理器30。 第—處理單元32a包括第一轉移路徑34a、第一主機 器人36a以及處理模組40。第一轉移路徑34a在第一方向 12上縱向地設置自與索引器20相鄰的位置到與介面50相 鄰的位置。處理模組40在沿第一轉移路徑34a的長度方向 上設置在第一轉移路徑34a的兩側。第一主機器人36a設 置在第一轉移路徑34a中。第一主機器人36a在索引器 20、處理模組40以及介面50之間轉移基板。 第二處理單元32b包括第二轉移路徑34b、第二主機 器人36b以及處理模組40。第二轉移路徑34b在第一方向 12上縱向地設置自與索引器20相鄰的位置到與介面50相 鄰的位置。處理模組40在沿第二轉移路徑34b的長度方向 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13日 爲第97M纖號中文說 =L:? b的兩側。第二主機器人_設 置在巧料徑34"。第二主機器人 20、處繼:〇以及介面50之間轉移基板。 楚理單元32a可包括實施塗布製程的模組，並且 i j2b可包括實施顯影製程的模組。另-方 =H理單it 32a可包括實施顯影製程的模組，並且 弟一處，早tl 32b可包括實施塗布製程的模組。另外，第
處理，it 32a以及第二處理單元32b可包括實施塗布以 及顯影製程的所有模組。 塗布製程的模組的示例可包括實施黏附製程的模 組、貫施基板冷卻製程的模組、實施光阻液塗布製程的模 組以及實施軟烤Goftbake」製程的模組。實施顯影製程的模 組的不例可包括將曝光的基板加熱到預定溫度的模組、冷 部基板的模組、將顯影器供應到基板上以移除曝光區或非 曝光區的模組以及實施硬烤(hard bake)製程的模組。
索引器20設置在處理器3〇的前端。索引器2〇包括設 置有容納基板的盒體C的裝載埠(i〇ad p〇rt)22a、22b、22c 以及22d和索引機器人丨00a。裝載埠22a、22b、22c以及 22d在沿第二方向η的方向上平行地設置。索引機器人 100a設置在裝载埠22a、22b、22c以及22d與處理器30 之間。藉由諸如高架轉移器(overhead transfer)、高架運送 器(overhead conveyer)或自動導引車的轉移元件(未示出）， 將容納基板的盒體C設置在裝載埠22a、22b、22c以及22d 上。盒體C可包括諸如前端開口整合盒(β·οηί open unified 12 1377095 29920pif2 爲第97142564號中麵__正本 修正⑼年8月13日 ㈣機^人咖彻心、 22b 22c以及22d和處理器3〇之間轉移基板。 介面50設置在處理器3()的後端，使得介面％ 益2〇相對於處理器30而對稱。介面50包括介面機2 1G%在曝光處理器⑼以及處理器3〇 以及包括水平導向件⑽豐直導向件⑽ 以及勤人臂m。機器人臂13G可在第—方向12 ^動可轴轉動。水平導向件110導引機器人臂 辟第一方向14直線移動。豎直導向件120導引機器人 # 130沿第三方向16直線移動。機器人臂13〇具有可在 j向14上沿水平導向件u〇直線地移動並且環繞z軸 ibttf且其可在第三方向16上移動。介面機器人 l〇〇b具有與索引機器人驗相同的結構。 現介紹包括上述構造的半導體製造設備10的操作。容 =基板的盒體C藉由操作者或轉移⑽(未示出）而設置在 20的裝载琿22a上。索引機器人100a將基板從設 f在装載埠22a上的盒體c轉移到第一處理單元32a的第 一主機器人36a。當第一主機器人36a沿第-轉移路徑34a ，動以實施塗布製程時，第—主機器人36a將基板裝載在 ，理模組40中之每一者上。當在處理模組40中完成基板 =理時，自處理模組4〇卸載經處理的基板。藉由第一主機 器^ 36a ’將已卸載的基板轉移到介面機器人1〇〇b。介面 機器人100a將基板轉移到曝光處理器6〇。當在基板上完 13 1377095 29920pif2 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：⑼年8月13日 成曝光製程時，基板藉由介面機器人1〇〇b轉移到第二處理 單元32b。基板轉移到處理模組4〇，然後，在基板上實施 顯影製程。當完成顯影製程時，基板轉移到索引器2〇。也 圖4是-種處理模組4〇a的示例的平面圖，此處理模 組40a實施塗布製程。圖5是圖4的處理模组4〇&的側剖 面圖。 參考圖4以及圖5，處理模組4〇a中之每一者均包括 ，理室4GG、基板支概件41G、化學液體供應單元二、 等待埠480及480’以及儲存埠49〇和49〇，。處理室4⑻ 提供進行基板處理製程的空間。用於將基板從處理室彻 移入/移出的開口 402a形成在處理室4〇〇的側壁4〇2中。 基板支撐構件410設置在處理室4〇〇的中心部上。基 板支撐構件410具有設置有等待埠48〇以及儲存埠4卯的 一側以及設置有等待埠48〇，以及儲存埠49〇，的另一 側。等待埠480以及480,可以設置在平行於儲存埠49〇 以及490’的線中。 基板支撐構件410支撐基板並且是可以轉動的。化學 液體供應單元430將化學液體供應到設置在基板支標構件 410上的基板，以處理基板。等待埠48〇提供一個等待位 置，在此等待位置中第一噴嘴臂44〇以及第二噴嘴臂44〇， 的喷嘴442等待實施製程〇儲存埠49〇提供一個儲存位置， 當喷嘴未用於製程時，在此儲存位置中儲存第一喷嘴臂 440以及第二喷嘴臂440，的噴嘴442。 ' 在處理期間，基板支樓構件支樓基板^並且藉由 1377095 29920pif2 • 爲第97U2564號中文翻書無劃線修正本 修正曰期：101年8月13日 諸如電動機的轉動驅動構件來轉動。基板支撐構件包 括具有圓形上表面的支撐板414。支撐基板…的銷構件4 = ό又置在支禮板414的上表面上。 容器420設置在基板支撐構件41〇的周圍。容器 通常具有圓柱形狀，並且排氣孔424設置在其下壁422中。 排氣管426與排氣孔424相通。諸如泵的排氣構件428連 接到排氣管426。排氣構件428提供負壓力（negative 參 pressure)，以排出容器的内部氣體，其中此容器包括藉由 基板W的轉動而散布開的化學液體。 曰 化學液體供應單元430將化學液體供應到設置在基板 -支撐構件41G上的基板W的上表面上。化學液體供應單元 430包括設置在基板支撐構件41〇的兩侧的第一噴嘴臂4仙 以及第二喷嘴臂440’ 。第一噴嘴臂44〇以及第二噴嘴臂 44σ在垂直於等待埠480以及48〇,與儲存埠49〇、以及 490 (下文將介紹）的排列方向之方向上設置。由於驅動構 φ 件470之存在，第一噴嘴臂440以及第二噴嘴臂44〇，在 平行於等待埠480及480’與儲存埠490及490，的排列方 向的方向上直線移動。 驅動構件470包括臂支撐構件472a和47沘、導向構 件474以及驅動器476a和476b。第一噴嘴臂440具有耦 接到第一噴嘴臂支撐構件472a的一側。第喷嘴 具有咖^情娜件臂44支0樓 構件472a可具有垂直於第—噴嘴臂_的可動的桿狀。第 二臂支撐構件472b可具有垂直於第二喷嘴臂44〇，的可動 15 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13曰 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 的桿狀。導向構件474連接到第一臂支樓構件4仏以及第 一臂支撐構件472b的下端。導向構件設置在基板支撐 構件410的一側邊，使得導向構件474平行於等待埠 和480’以及儲存埠49〇和49〇，的排列方向。導向構件 474可具有導轨狀。導向構件474導引第一喷嘴臂支撐構 件472a以及第二噴嘴臂支撐構件472b的直線移動。第一 驅動器476a連接到第一喷嘴臂支撐構件们仏，以直線地 ，動第一噴嘴臂支撐構件472a。第二驅動器47价連接到 第一喷嘴臂支撐構件472b，以直線地移動第二喷嘴臂支撐 構件472b。諸如汽缸的豎直往復機構可用作第一驅動器 476a以及第二驅動器476b。而且，包括電動機以及傳動裝 置的組合的組件可用作第一驅動器476a以及第二驅動哭 476b。 口口 第一驅動器476a以及第二驅動器476b沿導向構件 4。74直線移動第一喷嘴臂支撐構件472a以及第二喷嘴臂支 撐構件472b。因此，第一喷嘴臂44〇以及第二喷嘴臂44〇， ，直線方向上移動。由於個別地設置第一驅動器476a以及 第二驅動器476b，因此第一喷嘴臂440以及第二喷嘴臂 440可在直線方向上個別移動。而且，由於驅動構件（未 不出）之存在，第一喷嘴臂支撐構件472a以及第二噴嘴臂 支撐構件472b可在垂直方向上直線移動。 根據上述構造，第一喷嘴臂440以及第二噴嘴臂44〇， 可在基板支撐構件410的處理位置、等待埠480以及480， 的等待位置或儲存埠490以及490，的儲存位置之間移動。 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13曰 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 圖6是圖4的第一喷嘴臂440的部份「A」的放大圖， 圖7是沿圖4的B-B’線的剖面示意圖，並且圖8是圖4 的部份「C」的放大圖。 第一噴嘴臂440可具有與第二噴嘴臂440,相同的構 造。現介紹第一喷嘴臂440’並且省略第二喷嘴臂44〇，的 詳細介紹。 參考圖6至圖8，第一喷嘴臂44〇包括沿侧向 • direction)爲桿狀的中空的主體441。主體441的一端搞接 到第一喷嘴臂支撐構件472a，而主體441的其它端賢直地 没置有將化學液體排放到基板上的多個噴嘴442。嘴嘴可 包括將化學液體排放到基板上的光阻液噴嘴442a以及 442b和將有機溶劑排放到基板上的有機溶劑噴嘴442c。有 機溶劑喷嘴442c可設置在主體441的其它端的中心部中， 並且光阻液喷嘴442a以及442b可各設置在有機溶劑喷嘴 442c的左側及右侧。儘管在圖6中提供了兩個光阻液噴嘴 _ 442a以及442b，但本發明並不限於此。例如，可提供兩個 或更多個光阻液喷嘴442a以及442b。而且，有機溶劑喷 嘴442c可不設置在第一喷嘴臂中並且可設置爲與光阻 液噴嘴442a以及442b分離的獨立結構。 、有機溶劑喷嘴442c用於進行預濕(pre_wet)製程，此預 ，製程在使用光阻液喷嘴442a以及442b進行光阻液塗布 製私之如實施。預濕製程是用於在基板上塗布諸如稀釋劑 的有機溶劑以在光阻液排放到基板上之前增加光阻液相對 於基板的可濕性的製程。當在實施塗布製程之前實施預濕 17 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月π日 爲第97142S64號中文說明書無劃線修正本 製程時，光阻液均勻地散布在基板上，以在基板上形成均 勻的光阻膜。 化學液體管444構建在主體441内。化學液體管444 $括光阻液管444a以及444b和有機溶劑管444c。光阻液 s 444a以及444b和有機溶劑管444c是沿主體441的長度 方向設置在主體441内。光阻液管444a具有連接到光阻液 噴嘴442a的一端以及連接到光阻液流入埠445a(將在下文 中介紹）的其它端。光阻液管444b具有連接到光阻液噴嘴 442b的一端以及連接到光阻液流入埠44%(將在下文中介 紹）的其它端。有機溶劑管444c具有連接到有機溶劑喷嘴 442c的一端以及連接到有機溶劑流入埠445c(將在下文中 介紹）的其它端。 參考圖8，光阻液流入琿445a及445b以及有機溶劑 流入埠445c設置在耦接到第一噴嘴臂支撐構件472&的主 體441的一端上。光阻液流入埠料％以及料允提供使光 阻液流入光阻液管444a以及444b的通道。有機溶劑流入 埠445c提供使有機溶劑流入有機溶劑管44如的通道。 構建在主體441中的光阻液管444a以及444b各具有 連接到光阻液流入埠445a以及445b的其它端。光阻液供 應線450a以及450b各具有連接到光阻液流入埠445a以及 445b的一端以及連接到光阻液供應源45U以及451b的其 它端。第一抽吸構件453a和453b、空氣操作閥455a和 455b、過濾器457a和457b以及泵459a和459b依序設置 在光阻液供應線450a和450b上。 29920pif2 修正日期：1〇1年8月13日 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 第一抽吸構件453a以及453b透過光阻液喷嘴442a 以及442b將光阻液排放到基板上並且向光阻液喷嘴442a 以及442b提供負壓力以在與排放方向相反的方向上移動 光阻液。回吸閥(suckback valve)可用於第一抽吸構件453a 以及453b。可使用具有可實施連續多級抽吸操作的電動機 驅動類型的回吸閥。而且，可使用具有空氣驅動類型的回 吸閥。由於空氣驅動類型的回吸閥是實施一次抽吸操作， 因此如圖9所示，空氣驅動類型的回吸閥453a-；l、453a-2、 453b-l以及453b-2必須設置在光阻液供應線450a以及 450b的兩個位置中，以實施在圖9中所示的多級抽吸操作。 空氣操作閥455a以及455b是用於打開以及閉合流經 有光阻液的光阻液供應線450a以及450b的閥門。過濾器 457a以及457b過渡流經光阻液供應線450a以及450b的 光阻液。包括彈性風箱栗或管障隔(tubephragm)栗的風箱果 可用於泵459a以及459b，其中此管障隔泵包括藉由液壓 液(hydraulic fluid)壓縮以排放光阻液的管障隔。 構建在主體441中的有機溶劑管444c具有連接到有機 溶劑流入埠445c的其它端。有機溶劑供應線45〇c具有連 接到有機溶劑流入埠445c的一端以及連接到有機溶劑供 應源451c的其它端。第二抽吸構件453c、空氣操作閥 455c、過濾器457c以及泵459c依序設置在有機溶劑供應 線450c上。第二抽吸構件453c透過有機溶劑噴嘴442c將 諸如稀釋劑的有機溶劑排放到基板上並且提供負壓力至有 機溶劑噴嘴442c以在與排放方向相反的方向上移動有機 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13日 爲第97H2564號中文說明書無劃線修正本 溶劑。回吸閥可用於第二抽吸構件442c。 透過光阻液喷嘴442a以及442b而排放到基板上的光 阻液以及透過有機溶劑喷嘴442c而排放到基板上的有機 溶劑必須保持在適當的處理溫度下。因此，將溫度控制構 件460設置在噴嘴臂440以及440，中。溫度控制構件460 將溫度控制液供應到噴嘴臂440以及440，的主體441 内，以控制流經光阻液管444a以及444b的光阻液的溫度 以及流經有機溶劑管444c的有機溶劑的溫度。藉由與光阻 液或有機溶劑流經相同通道的溫度控制液來控制流經光阻 液管444a以及444b的光阻液的溫度以及流經有機溶劑管 444c的有機溶劑的溫度。恒定溫度的水可用作溫度控制 液0 溫度控制構件460包括設置在喷嘴臂440以及440， 的主體441中的流入埠461以及流出埠462。將溫度控制 液排放管468b插入主體441中。溫度控制液排放管468b 與介於主體441和化學液體管444a、444b以及444c之間 的空間445相通。溫度控制液排放管468b連接到流出埠 462。介於主體441和化學液體管444a、444b以及444c 之間的空間445與流入埠461相通。 流入埠461提供使溫度控制液流入喷嘴臂44〇以及 440’的主體441的通道。流出埠462提供使流入噴嘴臂 440以及440’的主體441的溫度控制液被排放的通道。 溫度控制液供應線463具有連接到流入埠461的一端 以及連接到溫度控制液供應源464的其它端。加熱器465 20 1377095 29920pif2 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇丨年8月π曰 以及泵466可設置在溫度控制液供應線463中。加熱器465 將自溫度控制液源464供應的溫度控制液加熱到預先設定 的溫度。泵466抽吸溫度控制液，以將溫度控制液供應到 流入埠461。 參考圖7，透過流入埠461而供應到噴嘴臂440以及 440的主體441的溫度控制液流經介於光阻液管444a以 及444b與有機溶劑管444c之間的空間並且將熱量傳送到 鲁 /)IL經光阻液管444a以及444b的光阻液以及流經有機溶劑 管444c的有機溶劑。因此’流經光阻液管444a和44仆 的光阻液以及流經有機溶劑管444c的有機溶劑能夠保持 - 在預先設定的溫度下。 - 溫度控制液排放管467連接到流出埠462。供應到喷 嘴臂440以及440’的主體441的溫度控制液透過流出埠 462以及溫度控制液排放管467排放到外部。 參考圖10 ’環流管(circulation tube)468可設置在噴嘴 φ 臂440以及440的主體441内’以提供流經有溫度控制 液的通道。環流管468包括溫度控制液供應管468a以及溫 度控制液排放管468b。溫度控制液供應管468a具有連接 到流入埠461的一端以及連接到溫度控制液排放管468b 的一端的其它端。溫度控制液排放管468b具有連接到流出 皡462的其匕。溫度控制液供應管468a可具有包圍化學 液體管444a、444b以及444c的環形。溫度控制液排放管 468b可具有包圍溫度控制液供應管468a的環形。當溫度 控制液流經溫度控制液供應管468a以及溫度控制液排放 21 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：1〇1年8月曰 管468b時’透過流入埠461引入的溫度控制液將熱量傳送 到流經化學液體管444a、444b以及444c的光阻液以及有 機溶劑。 在根據本發明的化學液體供應單元以及包括此化學液 體供應單元的基板處理裝置中，光阻液喷嘴以及有機溶劑 噴嘴可一體地形成爲一喷嘴臂。而且，溫度控制液能夠供 應到此噴嘴臂，以控制光阻液以及有機溶劑的溫度，從而 簡化用於控制喷嘴中的溫度的設備。 另外，根據本發明的化學液體供應單元以及包括此化 學液體供應單元的基板處理裝置能夠控制用在預濕製程中 的光阻液的溫度以及有機溶劑的溫度。 再次參考圖4,當喷嘴臂440以及440，在等待埠480 以及480’的等待位置與基板支撐構件41〇的處理位置之 間移動時，包括上述構造的喷嘴臂440以及440，用於實 她製程。當在處理期間未使用嗔嘴臂440以及440，時， 喷嘴臂440以及440，儲存在儲存埠490以及490，的儲存 位置中。當在處理期間使用喷嘴臂44〇以及44〇，的第一 喷嘴臂440時，第二噴嘴臂44〇’位於儲存位置中，並且 女裝在第二噴嘴臂440’中的喷嘴442儲存在儲存埠490， 中。而且’當在處理期間使用第二喷嘴臂44〇，時，第— 喷嘴臂440位於儲存位置中，並且安裝在第一喷嘴臂44〇 中的嘴嘴442儲存在儲存痒490中。 圖11是圖4的等待埠48〇以及48〇，的示例的橫截面 圖0 22 1377095 29920pif2 修正日期：101年8月13曰 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 參考圖11，等待痒480以及.包括殼體 __)481以及有機溶劑供應構件484 *概。毅體具有 打的頂部並且提供於容納嘴嘴422a、422b以及422c 的空間。具有凹陷狀的多個嘴嘴容納空間482a、482b以及 482c設置在殼體481的内部空間中，使得多個喷嘴仙、 422b以及422c被個別地容納。級液喷嘴被容納在 喷嘴容納㈣482a甲，光阻液噴嘴概被容納在喷嘴容 納空間482b +，並且光阻液喷嘴Μ2。被容納在喷嘴容納 空間482c中。
有機溶劑供應構件484以及486包括有機溶劑供應通 道484a以及486a。有機溶劑供應通道48如以及48如設 置在殼體481的側壁中且各與用於容納光阻液噴嘴442a 以及442b的喷嘴谷納空間482a以及482b接觸。連接到有 機溶劑供應源484b以及486b的有機溶劑供應線48牝以及 486c各連接到有機溶劑供應通道484a以及48如。排放通 道483以及485設置在殼體481的底壁中且與喷嘴容納空 間482a以及482b接觸。排放線483a以及485a各連接到 排放通道483以及485。透過有機溶劑供應通道484a以及 486a供應到喷嘴容納空間482a以及482b中的有機溶劑分 別透過排放通道483以及485來排放。自光阻液喷嘴442a 以及442b排放的光阻液分別透過排放線483a以及485a 排放到外部。 有機溶劑供應通道484a以及486a將有機溶劑供應到 喷嘴容納空間482a以及482b，使得噴嘴容納空間482a以 23 1377095 29920pif2 修正日期：10丨年8月丨3日 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 及482b被填充到預定的液面高度。此時，有機溶劑可充分 地供應到喷嘴容納空間仙以及傷，直至光阻液=嘴 442a以及442b的前端浸入到有機溶劑中為止。使光阻液 喷嘴4仏以及442b㈣端與有機㈣接觸是為了避免备 光阻液曝露於线時，光阻液噴嘴條以及442 二 阻液會變硬。 尤 在處理期間使用❹且液喷嘴4仏的情况下，有機溶劑 供應通道484a不會將有機溶劑供應到喷嘴容納空間 482a並且有機;谷劑供應通道486b將有機溶劑供應到喷嘴 容納空間482b。以此防止未在處理期間使用的光阻液喷嘴 442b内的光阻液變硬。由於當光阻液喷嘴糾仏在處理位 置以及等待位置之間交替移動時，在處理期間所使用的光 阻液喷嘴442a會周期性地喷灑光阻液，因此不必擔心光阻 液會變硬。 圖12為圖4的等待淳480以及480’的另一示例的橫 截面圖。 參考圖12，不同於圖11的示例，設置在等待琿‘go 以及480’的殼體481内的喷嘴容納空間482可形成爲具 有凹陷狀的一個空間，使得喷嘴容納空間482能夠容納所 有多個喷嘴422a、422b以及422c。在這種情况下，有機 溶劑供應通道484a以及486a設置在殼體481的側壁中， 以將有機溶劑直接地並且個別地供應到光阻液喷嘴442a 以及442b的前端。一排放通道483設置在殼體481的底壁 中。 24 1377095 29920pif2 修正曰期：101年8月13曰 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 圖13疋圖4的儲存埠490以及490’的示例的橫截面 圖。 參考圖13，儲存埠490以及490’包括殼體491以及 有機溶劑供應構件494。殼體491具有打開的頂部並且提 供用於容納喷嘴422a、422b以及422c的噴嘴容納空間 493。喷嘴容納空間可形成爲凹陷狀的一個空間，於此空間 中可容納所有多個噴嘴422a、422b以及422c。殼體491 的底壁具有圓錐狀，其中喷嘴容納空間493的下部空間呈 向下凸起狀。 有機溶劑供應構件494包括有機溶劑供應通道494a。 有機溶劑供應通道494a設置在殼體491的側壁中且與用於 容納喷嘴422a、422b以及422c的喷嘴容納空間493接觸。 在殼體491的底壁為圓錐狀的情况下，有機溶劑供應通道 494a可設置在具有圓錐狀的底壁的斜壁中。較佳地，透過 有機溶劑供應通道494a排放的有機溶劑供應到噴嘴容納 空間493的下部，其中此噴嘴容納空間493位於儲存埠49〇 以及490’中所容納的喷嘴422a、422b以及422c之下。 出於以下原因作出如上設置，即有機溶劑不直接供應到噴 嘴422a、422b以及422c，但在有機溶劑供應到噴嘴容納 空間493的下部的狀態下，將噴嘴422a、422b以及及 置放在有機溶劑環境中。當噴嘴422a、422b以及422c置 放在有機溶劑環境中時，因爲光阻液沒有被暴露於空氣， 因此可防止在光阻液喷嘴442以及442b内的光阻液變'硬。 連接到有機溶劑供應源494b的有機溶劑供應線494c 25 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇1年8月13曰 連接到有機溶劑供應通道494a。排放通道496設置在殼體 491的底壁中且與喷嘴容納空間493接觸。排放線496a連 接到排放通道496。透過有機溶劑供應通道494a而供應到 喷嘴容納空間493的有機溶劑透過排放通道496排放。 下文將介紹使用包括上述構造的基板處理裝置的基板 處理方法。 圖14是顯示根攄本發明的基板處理裝置的操作狀態 的示例的圖式。 參考圖14，透過處理室400的開口 402a將基板W移 入處理室400。被移入的基板W置放在基板支撐·構件41〇 上。此後’包括第一噴嘴臂440的喷嘴臂支撐構件472a 藉由導向構件474導引。因此，直線地移動噴嘴臂支撐構 件472a，以將第一喷嘴臂440移動到基板W的上部空間 中。喷嘴臂支撐構件472a藉由驅動構件(未示出）豎直地移 動。結果’第一噴嘴臂440豎直地移動，以將安裝在第一 喷嘴臂440中的喷嘴442a、442b、442c設置在一位置上， 其中此位置與没置在基板支樓構件41〇上的基板w隔開一 預定距離’使得喷嘴442a、442b、442c與基板W保持一 預定距離。 有機溶劑喷嘴442c將用於實施預濕製程的有機溶劑 排放到基板W上。轉動驅動構件(見圖5的標號412)轉動 基板支撑構件410以轉動基板W。當有機溶劑供應到基板 W時，藉由基板W的轉動而散布開的有機溶劑透過容器 420的排氣管426排放。當將有機溶劑供應到基板w上的 26 1377095 29920pif2 修正曰期：101年8月13日 爲第97!42564號中文說明書無劃線修正本 時，藉由回吸閥（見圖8的標號夠的抽吸 ^古H 喷嘴她内的有機溶劑在與排放方向相 反的方向上返回(retreat)。 此後’使用安裝在第-嘴嘴臂44〇中的光阻液喷嘴 =二4Γ中Γ個光阻液嘴嘴442a ’將光阻液排放 /時L轉動基板w。當光阻液透過光阻液 樣的望L凡王排放日寸’將第一噴嘴臂440移動到等待槔 480 ^待位置中。參考圖15 ’光阻液噴嘴條和4仙 ^及有機_丨噴嘴條分雜納対嘴容納空間仙、 、以及餘中，其中噴嘴容納空間482a、282b、以 ^ :設置於等待埠中。光阻液未填充在喷嘴容納空 曰a以及482c中，但填充在噴嘴容納空間482b中。在 ^光阻液的光阻时嘴442a _光阻液藉由第一抽吸 圖8的參考數子453a)的抽吸操作在與排放方向相 社^向上退回。光阻液喷嘴442a以及有機溶劑喷嘴442c 保持在暴露於空氣的狀態下，其中，喷嘴條、働以及 偷(其各容納於噴嘴容納空間仙、娜以及條 中的光阻液喷嘴4仏用在排放光阻液的塗布製程中。未用 在光阻液塗布製財的光崎噴嘴働的前端浸入 =劑中。出於以下作出如上設置，即防止在光阻 442b内的光阻液(其在預定的時間不使用）因與空 接觸而變硬。 呀 ，在等待埠巾等待的第—喷嘴臂楊再次移 基板支撐構件410的處理位置中。使用第-喷嘴臂440的 27 1377㈣ 29920pif2 修正日期：101年8月13日 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 阻液噴嘴442a進行用於將光阻液塗布到基板上的塗布 程。當光阻液塗布製程完成時，第一噴嘴臂44〇再次移 =到等待埠，以在等待埠_中等待。此時，用於塗 布製程的光阻液噴嘴442a保持在暴露於空氣的狀態下，並 且在光阻液噴嘴442a⑽光阻液藉由第一抽吸構件453& 的抽吸操作而在與排放方向相反的方向上退回。而且，未 用於塗布餘的光阻时嘴彳似的前端浸人錢溶劑中。 在重複實施這些操作之後，不再使用第一喷嘴臂44〇 的光阻液噴嘴442a以及彻）中的光阻液喷嘴442a。使用 其它光阻液喷嘴442b實施塗布製程。參考圖16，為了使 用光阻液喷嘴442b實施塗布製程，必須排放在光阻液喷嘴 442b内的光阻液層p、空氣層规以及有機溶劑層〇。、自 光阻液噴嘴442b排放的光阻液、空氣以及有機溶劑透過排 放通道485排放到外部。有機溶劑填充在喷嘴容納空間 482a ^，並且使不再使用的光阻液噴嘴442a的前端浸入 有機溶，中。此時，在光阻液喷嘴442a内的光阻液層p 以及空氣層AIR藉由第一抽吸構件453a的抽吸操作在與 排放方向相反的方向上退回，並且有機溶織人光阻液^ 嘴442a的前端，以在空氣層AIR之下形成有機溶劑層〇。
光阻液喷嘴442a保持在形成光阻液層P、空氣層AIR 以及有機溶劑層〇的狀態中。光阻液噴嘴442b將光阻液 排放到基板上’且在光阻液噴嘴442b内的光阻液藉由第一 抽吸構件453a的抽吸操作在與排放方向相反的方向上退 回。重複地實施上述操作。當在處理期間不再使用光阻液 28 1377095 29920pif2 爲第97號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇1年8月13曰 噴嘴442b時，類似於光阻液噴嘴442a，藉由上述製程使 光阻液噴嘴442b保持在形成光阻液層p、空氣層AIR以 及有機溶劑層〇的狀態中。 >參考圖17，當在處理期間不再使用第一喷嘴臂440的 光阻液噴嘴442a以及442b時，第一噴嘴臂440移動到儲 - 存埠490的儲存位置中。參考圖18’安裝在第一噴嘴臂44〇 中的光阻液喷嘴442a、442b以及有機溶劑喷嘴442c容納 • 在设於儲存埠49〇中的噴嘴容納空間493中。有機溶劑透 過有機溶劑供應通道494a供應到噴嘴容納空間493的下 部，並且在喷嘴容納空間493内形成有機溶劑環境。此時， 光阻液噴嘴442a、442b以及有機溶劑喷嘴442c與供應到 喷嘴容納空間493中的有機溶劑隔開一預定距離。 如上所述，在根據本發明的化學液體供應單元以及包 括此化學液體供應單元的基板處理裝置中，光阻液喷嘴以 及有機溶劑喷嘴能夠一體地形成在一個喷嘴壁中，以在處 理期間根據噴嘴的選擇操作來减少處理時間。 在上述之示例中，儘管在喷嘴臂中配備了多個光阻液 喷嘴以及-個有機㈣喷嘴，並且流人光阻液倾以及有 冑溶劑喷嘴的液體藉由溫度控制液(其透過相同的通道來 供應)保持在—財溫度下，但是本發明並不限於此。例 : 可在喷=臂中配備-個光阻液喷嘴以及-個有機溶劑 喷嘴，並且流入光阻液喷嘴以及有機溶劑喷嘴的液體可藉 由供應與其流經相同通道的溫度控制液而保持在一預定溫 度下。 29 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年8月13日 根據本發明，儘管僅以能實施塗布以及顯影製程之局 部旋轉設備(例如曝光系統未連接到的設備)作爲包括基板 處理裝置的半導體製造設備1〇為例而介紹，但半導體製造 設備10並不限於此。例如，根據本發明的基板處理裝置可 應用於能夠連接到曝光系統的内嵌旋轉設備(inline spinner facility)，以依序實施塗布、曝光以及顯影製程。 根據本發明’光阻液能夠有效地供應到基板上。 而且，供應光阻液的化學液體排放喷嘴能夠一體形 成，以根據噴嘴的選擇操作來减少處理時間。 而且，能夠簡化用於控制化學液體排放噴嘴的溫度的 設備。 而且，能夠控制用於預濕製程的有機溶劑的溫度。 上述所揭露的内容被認爲是說明性的，而不是^制性 的，，且申請專利範圍試圖覆蓋所有此等落入本發明精神 以及範圍的修改、完善以及其它實施例。因此，本發明的 範圍藉由申請專利範圍及其同等物的最大允許解釋範圍確 定，並且不應該約束或限於前述詳細說明。 【圖式簡單說明】 圖1是根據本發明之實施例的包括基板處理裝置 導體製造設備的平面圖。 圖2是圖1的半導體製造設備的側視圖。 圖3是圖1的半導體製造設備的處理器的示意圖。 圖4疋基板處理敦置的示例的平面圖。 圖5是圖4的基板處理裝置的侧剖面圖。 30 1377095 29920pif2 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正# 修正日期：101年8月13曰 圖6疋圖4噴嘴臂的部份 圖7是沿圖4的B_B，線的剖面示㈣。大巴 圖8是圖4的部份rc」的放大圖。
圖9是圖8 t所示的構造的修改示例的圖式。 圖10是圖8的溫度控制構件的另—示例的透視圖。 圖11是圖4的等待埠的示例的橫截面圖。圖12是圖4的等待槔的另—示例的橫截面圖。圖13是圖4的儲存埠的示例的橫截面圖。圖Μ是根據本發_基板處理裝置的操作狀態的示 圖15以及圖16是根據本發明的 噴嘴的等待狀態的圖式。 實施例在等待埠處的 圖Π是根據本發明的基板處理裝置的操作狀離 —示例的圖式。 〜、、为
圖18為根據本發明之實 存狀態的圖式。 【主要元件符號說明】 10:半導體製造設備 施例在儲存埠柄噴嘴的儲 12 :第一方向 14 :第二方向 16 :第三方向 20 :索引器 22a、22b、22c、22d :裝載埠 3〇 :處理器 31 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 32a :第一處理單元 32b :第二處理單元 34a :第一轉移路徑 34b :第二轉移路徑 36a :第一主機器人 36b :第二主機器人 40、40a :處理模組 50 :介面 60 :曝光處理器 100a :索引機器人 100b :介面機器人 110 :水平導向件 120 :豎直導向件 130 :機器人臂 400 :處理室 402 :侧壁 402a :開口 410 :基板支撐構件 412 :轉動驅動構件 414 :支撐板 416 :銷構件 420 :容器 422 :下壁 422a、422b、422c :喷嘴 修正日期：101年8月13日
32 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年8月13日 424 排氣孔 426 排氣管 428 排氣構件 430 化學液體供應單元 440 第一喷嘴臂 440’ ：第二喷嘴臂 441 :主體 442 :喷嘴 442a、442b :光阻液喷嘴 442c :有機溶劑噴嘴 444a、444b :光阻液管、化學液體管 444c :有機溶劑管、化學液體管 445 :空間 445a、445b :光阻液流入埠 445c :有機溶劑流入埠 450a、450b :光阻液供應線 450c :有機溶劑供應線 451a、451b :光阻液供應源 451c :有機溶劑供應源 453a、453b :第一抽吸構件 453a-l、453a-2、453b-l、453b-2 :回吸閥 453c :第二抽吸構件 455a、455b、455c :空氣操作閥 457a、457b、457c :過濾器 33 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年8月13曰 459a、459b、459c :泵 460 :溫度控制構件 461 :流入埠 462 :流出淳 463 :溫度控制液供應線 464 :溫度控制液供應源 465 :加熱器 466 :泵 467 :溫度控制液排放管 468 :環流管 468a :溫度控制液供應管 468b :溫度控制液排放管 470 :驅動構件 472a、472b :臂支撐構件 474 :導向構件 476a :第一驅動器 476b :第二驅動器 480、480’ ：等待埠 481 :殼體 482 :喷嘴容納空間 482a、482b、482c :喷嘴容納空間 483、 485 :排放通道 483a、485a :排放線 484、 486 :有機溶劑供應構件 34 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇1年8月13日 484a、486a :有機溶劑供應通道 484b、486b :有機溶劑供應源 484c、486c :有機溶劑供應線 490、490’ ：儲存埠 491 :殼體 493 :喷嘴容納空間 494 :有機溶劑供應構件 494a :有機溶劑供應通道 494b :有機溶劑供應源 494c :有機溶劑供應線 496 :排放通道 496a :排放線 A :部份 AIR :空氣層 C :部份 〇 :有機溶劑層 P:光阻液層 W :基板 35

Claims (1)

1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：101年8月13曰 七、申請專利範圍： 1.一種化學液體供應單元，包括： 多個噴嘴，排放化學液體； 喷嘴臂’於所述喷嘴臂中安裝有所述多個喷嘴並且構 建有將所述化學液體供應到所述喷嘴的化學液體管；以及 溫度控制構件，將溫度控制液供應到所述噴嘴臂中， 以控制流經所述化學液體管的所述化學液體的溫度，其中 所述溫度控制構件包括： 溫度控制液排放管，與介於所述喷嘴臂的主體的内璧 以及所述化學液體管之間的空間相通； 溫度控制液供應線，將所述溫度控制液供應到介於所 述主體的所述内壁以及所述化學液體管之間的所述空間； 以及 1 溫度控制液排放線，連接到所述溫度控制液排放管。 一 2.根據申請專利範圍第1項所述之化學液體供應單 元，其中所述多個喷嘴包括排放光阻液的光阻液噴嘴Γ以 及 央阻學雜管包括光_管，所述紘液管將所述 光阻液供應到所述光阻液噴嘴。 =據申料2項所述之化學液體供應單 劑噴;嘴更包括有機溶劑喷嘴，所述有機溶 、、放用於實知預濕製程的有機溶劑’以及 所述化學液體管更包括有機溶劑管，所 將所述有機溶劑供應到所述有機溶劑喷嘴。 ‘ 36 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1Q1年8月13日 4. 根據申請專利範圍第3 元’其中·化學液體供應單元d千液體供應單 娜躲，將有機‘____ 抽吸餐，設置在所财機溶祕應料 構件向所述有機溶劑噴嘴提供負壓力。 斤述抽及
5. —種化學液體供應單元，包括： 多個噴嘴，排放化學液體； 噴嘴臂，於所述噴嘴臂中安裝有所述多 建有將所輕學液難制所射嘴的化學㈣管、；Z 溫度控制構件，將溫度控制液供應到所述喷嘴 以控制流經所述化學液鮮_述化學液體的溫度，_ 所述溫度控制構件包括： 八T 溫度控制液供應管，包圍所述喷嘴臂内的所述化 體管； 伙 溫度控制液排放管，包圍所述喷嘴臂内的所述溫度控 制液供應管，所述溫度控制液排放管與所述溫度控制 應管相通； 〃 溫度控制液供應線，連接到所述溫度控制液供應管； 以及 溫度控制液排放線，連接到所述溫度控制液排放管。 6.根據申請專利範圍第5項所述之化學液體供應單 元，其中所述多個喷嘴包括： u 光阻液喷嘴，排放光阻液；以及 37 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說日月書無劃線修正本 修正日期：101年8月I3日 有機溶劑噴嘴，排放用於實施預濕製程的有機溶劑。 7.—種基板處理裝置，包括： 基板支撐構件，支撐基板； 喷嘴臂’於所述噴嘴臂中安裝有排放化學液體的多個 喷嘴且建構有將所述化學液體供應到所述喷嘴的化學液體 管；以及 等待埠’安裝在所述噴嘴臂中的所述多個喷嘴於所述 等待槔中科實施製程，所述等料設置在所述基板支撐 構件的側部處， 其中所述等待埠包括： 忒體，具有打開的頂部，所述殼體提供用於容納所述 多個喷嘴的空間；以及 有機溶劑供應構件，與容納在所述殼體巾的所述多個 所述喷嘴對應，所财機溶劑供應構件將有機溶劑供 應到自相應喷嘴中所選擇的噴嘴的前端。 八 Μ艮射請專利翻第7項所述之基板處理裝置，更 包括溫度㈣構件’職溫度控制構件將溫度控制 到所述喷嘴臂巾雜繼經所述化學㈣管的所述化學= 體的溫度，其中所述溫度控制構件包括： 溫度控制液排放管，與介於所述噴嘴臂的主體 以及所述化學液體管之間的空間相通； 土 溫度控制液供應線，將所述溫度控制液供應到介 述主體的所述内壁與所述化學液體管之間的所述空間；以 38 丄川州 29920pif2 爲第州侧號中麵書無劃線修正本 修_』4 μ 13 0 溫度控制液排放線，連接到所述溫度控制液排放管。 9. 根封請專利制第7項所述之基板處理裝置\ 中所述多辨嘴包括職雜液的植_嘴，、 所述化學液H管包括將所述光崎供翻 賀嘴的光阻液管。 尤丨且液 10, 射請專利範圍第9項所述之基 中所述多财奴包财触嘴 ^嘴 排放用於進行預濕製程的有機溶劑，以及有機〜!噴紫 機溶括將所述有機溶劑供應到所财 其中項㈣之絲處理裝置， 管；$溶劑供應線，將有機溶劑源連接到所述有機溶劑 嫌件置在所述有機溶劑供應線中，所述抽吸 構件k供纽力至所述有機溶劑喷嘴。 12, 據申請專利範圍第7項所述之基 中所述多個嘴嘴包括： 处哀罝… 排放光阻液的光阻液嘴嘴；以及 有機溶劑噴嘴，排放 13. 根據申請專利範图笛〇進订m的有機办釗 中供凹陷狀的噴嘴容納空間，所述噴嘴容納空 間中谷納所有的所述多個光随液喷嘴，以及 所述有機4劑供麵件財有機溶劑供應通道 ，所述 39 ^/7095 2992〇pif2 爲第 97142564 號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：丨01年8月]3日 有機溶劑絲通道直接地並且獨立祕有機關供應到 述光阻液喷嘴的前端。 14.根據申請專利範圍第9項所述之基板處理裝置，其 中^述殼體提供⑽狀的多個喷嘴容納空間，所述多個嘴 嘴4納空間分別容納所述多個光阻液喷嘴，以及 所述有機溶劑供應構件具有有機溶劑供應通道，所述 =機溶劑供應通道獨立地將所财機溶舰制所述 噴嘴容納空間中之每一者。 U 15. 根據中請專利範圍第14項所述之基板處理裝置， 所述殼體包括排放線，所述排放線排放儲存在所述噴 嘴容納空間中的所述有機溶劑。 、 16. 根據中請專利範圍第12項所述之基板處理裝置， 二中所述殼體提❹個凹陷狀时嘴容納帥，所述多個 溶==別容納所述多個光阻液喷嘴以及所述有機 所述有機溶觸件具有有機溶雜應通道，所述 ^容劑供應it道將職有麟觸立地供朗容納有所 述夕個光阻液噴嘴的所述多個喷嘴容納空間中之每一者。 二:根據申請專觀圍第12項所述之基板處理裝置， = : = 存埠 其述之基板處理裝置， 29920pif2 爲第97H2564號中文說明書無劃線修正本 所述等待埠以及所述儲存埠是設置成多個，使得每— 埠與每一噴嘴臂對應。 19. 根據_請專利範圍第π項所述之基板處理裝置， 其中所述儲存埠包括： 殼體’具有打開的頂部，所述殼體提供用於容納所述 喷嘴的凹陷狀的噴嘴容納空間； 有機溶劑供應構件，將所述有機溶劑供應到所述喷嘴 容納空間。 ' 20. 根據申請專利範圍第18項所述之基板處理裝置， 其中所述荨存埠以及所述儲存埠形成一對，並且所述槔對 分別設置在所述基板支撐構件的兩侧，使得所述等待埠、 所述基板支撐構件以及所述儲存埠設置成在一條線中彼此 平行，以及 所述噴嘴臂單獨地設置在所述基板支撐構件的兩側， 使得所述噴嘴㈣直於所料待相及所賴存埠的所述 排列方向。 21.根據_請專利範圍第2〇項所述之基板處理裝置， 更包括驅動構件，
置中，等待位置設置在所述等待埠中 在所述儲存埠中， 其中驅動構件包括： ’並且儲存位置設置 喷嘴#支術冓件’支樓所述噴嘴臂巾之每一者； 1377095 29920pif2 修正曰期：101年8月13日 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 驅動器，在平行於所述等待埠以及所述儲存埠的所述 排列方向的方向上使所述噴嘴臂支撐構件直線地往復運 動；以及 導向構件，導5丨所述喷嘴臂支撐構件的所述直線移動。 22. —種基板處理方法，包括： 當多個光阻液喷嘴在第一位置與第二位置之間重 ，時供應光崎，其中所述第—位置為所述光阻液供應到 二述第二位置為使用包括多個光阻液喷嘴的 喷嘴#的4料，錢溶舰制在所料待料的 光阻液嗔嘴中之在製程中未被使用的光阻液嗔嘴，並且在 所述有機溶劑未供應到在所述製程中所使用的光阻液 的狀態下，所述多個光阻液喷嘴進行等待。 、 申請專利範圍第22項所述之基板處理方法， 1所述光阻液噴嘴的所述等待藉由向所述等待璋提供多 實現在未儲存所述有機溶劑的容納空間中 專待在所賴財使_職光崎 容納斯等待在所述製程中未 盆^斤專利細第22項所述之基板處理方法， 其令所从崎対麵料待 狀態下實現:所述有機溶劑細在所 述製程中未使用的所述光阻液喷嘴，並斤 喷制在所述製程中使用的所述光阻=有機溶劑未 42 1377095 29920pi£2 爲第97M2564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇丨年8白 + 8月13日 25. 根據_請專利範圍第22項所述之基板處理方法， 其中所述喷嘴臂是設置成多個，並且在所述製程中不 的喷嘴臂儲存在所述儲存埠中，其中所述儲存埠保 機溶劑的環境下。 ^ 26. 根據_請專利範圍第22項所述之基板處理方法， • 其中所述喷嘴臂包括將所述光阻液供應到所述光阻液喷嘴 的多個光阻液管，並且將溫度控制液供應到所述噴嘴臂， • 其中所述溫度控制液將流入所述光阻液管的所述光阻液的 溫度保持在設定溫度下，其中在所述光阻液管内的所述光 阻液的所述溫度藉由流入相同通道的所述溫度控制液來控 制。 27. 根據申請專利範圍第26項所述之基板處理方法， 其中所述溫度控制液透過介於所述噴嘴臂的主體的内壁以 及所述光阻液管之間的空間來供應，並且透過設置在所述 噴嘴臂内的温度控制液排放管來排放。 28_根據申請專利範圍第26項所述之基板處理方法， 其中所述喷嘴臂中更安裝有有機溶劑喷嘴與有機溶劑管， 所述有機溶劑喷嘴排放用於預濕製程的所述有機溶劑，所 述有機溶劑管將所述有機溶劑供應到所述有機溶劑喷嘴， 並且流入所述有機溶劑管的所述有機溶劑藉由與其流入相 同通道的所述溫度控制液而保持在所述設定溫度下。 43 1377095 29920pif2 , 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：1〇1年8月13曰 四、指定代表圖： (一） 本案之指定代表圖：圖（4)。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明： 40a :處理模組 400 :處理室 402 :側壁 402a :開口 • 410 :基板支撐構件 420 :容器 430 :化學液體供應單元 • 440:第一喷嘴臂 ? 440’ ：第二喷嘴臂 441 :主體 442 :喷嘴 470 :驅動構件 • 472a :臂支撐構件 ' 472b :第二喷嘴臂支撐構件 474 :導向構件 476a :第一驅動器 476b :第二驅動器 480、480’ ：等待埠 490、490’ ：儲存埠 C :部份 3 1377095 29920pif2 爲第97142564號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年8月13曰 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵 的化學式： 益。 ”》、
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