TWI363935B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TWI363935B
TWI363935B TW094102975A TW94102975A TWI363935B TW I363935 B TWI363935 B TW I363935B TW 094102975 A TW094102975 A TW 094102975A TW 94102975 A TW94102975 A TW 94102975A TW I363935 B TWI363935 B TW I363935B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
ether
photoresist
propylene glycol
acetate
alkyl
Prior art date
Application number
TW094102975A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW200535573A (en
Inventor
Hirokazu Matsuda
Akira Horiguchi
Hiroshi Otani
Hitoshi Takahashi
Original Assignee
Daicel Chem
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chem filed Critical Daicel Chem
Publication of TW200535573A publication Critical patent/TW200535573A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI363935B publication Critical patent/TWI363935B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
TW094102975A 2004-03-15 2005-02-01 Resist composition TW200535573A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004072206 2004-03-15
JP2004303890A JP4558443B2 (ja) 2004-03-15 2004-10-19 レジスト組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200535573A TW200535573A (en) 2005-11-01
TWI363935B true TWI363935B (ko) 2012-05-11

Family

ID=35041924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW094102975A TW200535573A (en) 2004-03-15 2005-02-01 Resist composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4558443B2 (ko)
KR (1) KR101120297B1 (ko)
CN (1) CN1670628B (ko)
TW (1) TW200535573A (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4752556B2 (ja) * 2005-09-22 2011-08-17 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP2008031248A (ja) * 2006-07-27 2008-02-14 Daicel Chem Ind Ltd 硬化性樹脂組成物及び硬化塗膜の形成方法
JP5090833B2 (ja) * 2007-09-11 2012-12-05 東京応化工業株式会社 ポジ型ホトレジスト組成物、及びそれを用いた感光性膜付基板
AR108932A1 (es) * 2016-07-15 2018-10-10 Dow Global Technologies Llc Concentrados emulsificables

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5565947A (en) * 1978-11-10 1980-05-17 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPH0356960A (ja) * 1989-07-26 1991-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JP2949813B2 (ja) * 1989-09-19 1999-09-20 東レ株式会社 化学線感応性重合体組成物
JP3544217B2 (ja) * 1993-09-16 2004-07-21 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性樹脂組成物
KR960015081A (ko) * 1993-07-15 1996-05-22 마쯔모또 에이이찌 화학증폭형 레지스트 조성물
JPH09244231A (ja) * 1996-03-08 1997-09-19 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フォトレジスト組成物
JPH10186637A (ja) * 1996-12-26 1998-07-14 Clariant Internatl Ltd ロールコート用放射線感応性組成物
JP3860340B2 (ja) * 1998-06-08 2006-12-20 新日鐵化学株式会社 光重合性樹脂組成物
KR100299688B1 (ko) * 1999-08-30 2001-09-13 한의섭 포지티브형 포토레지스트 조성물
JP3965976B2 (ja) * 2001-11-20 2007-08-29 日本ゼオン株式会社 感放射線性樹脂組成物、樹脂パターン形成方法、樹脂パターン及びその利用
JP3894477B2 (ja) * 2002-02-27 2007-03-22 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物
JP2005234045A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd 着色樹脂組成物
JP4365236B2 (ja) * 2004-02-20 2009-11-18 富士フイルム株式会社 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW200535573A (en) 2005-11-01
CN1670628B (zh) 2011-02-09
KR101120297B1 (ko) 2012-03-07
CN1670628A (zh) 2005-09-21
KR20060044344A (ko) 2006-05-16
JP2005301210A (ja) 2005-10-27
JP4558443B2 (ja) 2010-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101405696B1 (ko) 레지스트 조성물
JP3434340B2 (ja) 高感度ポジ型ホトレジスト組成物
TWI383271B (zh) 微影後之洗淨步驟用洗淨劑及沖洗液
JP2003149816A (ja) ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法
TWI363935B (ko)
JP4626978B2 (ja) リソグラフィー用洗浄剤及びリンス液
KR20050119181A (ko) 포토레지스트 조성물
TWI417651B (zh) 光阻組成物
JPH10186637A (ja) ロールコート用放射線感応性組成物
JPH0683051A (ja) 放射線に感光性の混合物のための増感剤としてのポリラクチド化合物
TWI417652B (zh) 光阻組成物
JP5112772B2 (ja) 液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JPH10186638A (ja) ロールコート用放射線感応性組成物
JP3125894B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JP3076523B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JP3844236B2 (ja) 感光性樹脂組成物塗布性向上剤を含有する感光性樹脂組成物
JPH1115151A (ja) コンタクトホール形成用ポジ型ホトレジスト組成物およびコンタクトホールの形成方法
JP2935223B2 (ja) レジストパターン形成用材料の製造方法及びタンタルのパターン形成方法
JP4903096B2 (ja) ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法
KR20060061907A (ko) 레지스트 조성물
JPH07281429A (ja) ポジ型レジスト溶液
JPH1048819A (ja) ポジ型ホトレジスト組成物
JPH03144454A (ja) ポジ型レジスト組成物
JPH0844054A (ja) ポジ型レジスト組成物
JP2014031483A (ja) スクリーン印刷用インク組成物およびパターン形成方法