TWI363393B - Recovery cup cleaning method and substrate treatment apparatus - Google Patents

Description

1363393 * 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種將回收杯（其係對經使用於基板處理 v後的藥液進行導引）洗淨的回收杯洗淨方法，及使用此種 ， 回收杯洗淨方法的基板處理裝置。處理對象的基板係包括 有例如：半導體晶圓、液晶顯示裝置用玻璃基板、電漿顯 示器用玻璃基板、FED(FieId Emission Display)用基板、 光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩用基板等。 •【先前技術】 在半導體裝置或液晶顯示裝置的製造步驟中，為對諸如 半導體晶圓、液晶顯示面板用玻璃基板等的基板表面，施 行藥液處理，便有使用將基板各一片地施行處理的單片式 基板處理裝置。此種基板處理裝置中，為達藥液消耗量的 '降低，便構成將經使用於基板處理後的藥液回收，並將該 經回收之藥液再利用於以後的處理中。 φ 構成可將藥液再利用的基板處理裝置，係例如具備有： 將基板依大致水平姿勢保持並旋轉的旋轉夾具、對由該旋 轉夾具所保持的基板表面供應藥液的第1喷嘴與第2喷 嘴、以及將從基板所濺散的處理液收取並回收的回收杯 •(例如 US2004/0050491A1)。 ^ 回收杯係例如上下複數層具有包圍旋轉夾具周圍的環 狀開口部。且，回收杯係構成可對旋轉夾具升降，隨該升 降，便可使各層的開口部選擇性地相對向於由旋轉夾具所 保持的基板端面。 96148388 6 1363393 此種構造的基板處理裝置中，可對基板表面施行從第1 喷嘴之樂液（第1藥液）處理，以及從第2喷嘴之藥液（第 2藥液）處理，且，可將處理所使用的各藥液分別回收。 即，利用旋轉夾具使基板進行旋轉的情況下，並從第j 喷嘴朝基板表面供應第1藥液，藉此便可對基板表面施行 第1藥液處理。對基板表面所供應的第丨藥液，受到由基 板旋轉所產生的離心力，而從基板周緣朝側邊濺散。因 此，此時若預先使回收杯之例如第丨開口部相對向於基板 端面，則從基板周緣所濺散的第】藥液便飛入該第丨開口 而兔飛入漆第1開口部的第1藥液，便經連通於第1 開口部的第1藥液用回收空間，導向於第i藥液用藥液回 收路徑。然後，經由該第丨藥液用藥液回收路徑回收於第 1藥液用回㈣中，並再度從第丨噴嘴對基板進行供應。 又’利用旋轉夾具使基板旋轉，並從第2喷嘴朝基板表 面供應第2藥液，藉此便可對基板表面施行第2藥液處 :。而且，此時若使回收杯的第2開口部相對向於基板端 ，則從基板周緣因離^力而缝的第2藥液便飛入第2 而經飛入該第2開口部中的第2藥液，便利用 、第2開口部的第2樂液用回收空間 液用藥液回收路經。然後，經第 ㈣弟2樂 收於第2樂液用回收槽中，並再戶 行供應。 料心帛2対對基板進 但疋 在從藥液回收路徑所印彳又的藥 其成為粒子，而有導致基板污染的問題 96148388 ㈣所f 面將不需要的阻劑膜去除之灰化處 Γ二的聚合物去除處理中，對經灰化處理後的基板 表面供應樂液，俾將基板表面上所附著的大量聚合物（阻 然後，大量的聚合物與藥液-起經由回收 入於藥液回收路徑，但在回收空間内流 二 =中，該聚合物附著於回收空間的内壁。該聚合物 2里：开過而結晶化。此情況’經結晶化的聚合物會有 ;異：形式混入於在回收空間内流通之藥液中的情形。 口 H基板處理㈣液在處理後，若仍依附著於回收杯 2收工間内壁的狀態放置時，則該藥液隨時間的經過而 此情況’經結晶化的藥液亦有以異物形式混入於在 回收二間内流通之藥液中的情形。 =而’最好將回收杯内壁使用洗淨液施行洗淨，而將該 ^所附著的附著物去除。但是’若將回收杯内壁使用 '液施仃洗命時’則洗淨液混入於藥液回收路徑中，而 :淨液會混入於在回收槽滯留的藥液中。若藥液中有混入 ^液時’則藥液便被稀釋而劣化’導致在基板處理時之 處理速率降低的問題。 【發明内容】 ^ i月之目的在於提供一種即使將回收空間内壁利用 洗淨液施行洗淨，仍可抑制洗淨液混人於藥液回收路徑中 的回收杯洗淨方法。 再者’本發明之另-目的在於提供—種可抑制粒子的產 生’並可對基板適當地施行藥液處理的基板處理裝置。 96148388 8 1363393 螬 - 本發明的回收杯洗淨方法係將回收杯洗淨的方法，該回 收杯係具有將引導基板處理所使用藥液的回收空間予以 區隔的内壁，並為了回收經導入該回收空間的藥液而導入 *於既定藥液回收路徑；該方法係包括有：洗淨液洗淨步 V驟、藥液洗淨步驟及廢棄步驟；而，該洗淨液洗淨步驟係 將上述回收空間的内壁使用洗淨液施行洗淨；該藥液洗淨 步驟係在該洗淨液洗淨步驟後’將上述回收空間的内壁， 使用與應經由上述回收空間而回收的上述藥液為同種類 之洗淨用藥液來洗淨；該廢棄步驟係將在上述洗淨液洗淨 步驟中被導入於上述回收空間的洗淨液、及在上述藥液洗 淨步驟中被導入於上述回收空間的洗淨用藥液，導入於和 上述藥液回收路徑不同的廢液路徑，並進行廢棄。 • 根據該方法，回收空間的内壁由洗淨液與洗淨用藥液洗 '淨，而該項洗淨中所使用的洗淨液與洗淨用藥液，從回收 空間導入於廢液路徑中並進行廢棄。因而，可抑制或防止 籲回收空間的内壁洗淨所使用之洗淨液混入於藥液回收路 徑中。所以，即使對回收空間的内壁利用洗淨液洗淨，洗 淨液仍幾乎不會混入於供應藥液中。因此，便可對基板適 當地施行使用藥液之處理。 • 再者，經使用洗淨液對回收空間内壁施行洗淨後，再使 "用與藥液同種類的洗淨用藥液，對回收空間的内壁洗淨。 因此，經洗淨液洗淨步驟後，在藥液回收空間的内壁上所 附著的洗淨液被洗淨用藥液沖洗掉。因此，便可更碟實地 抑制或防止在供應藥液中含有洗淨液之情形。 96148388 9 1363393 •最好上述回收空間被配置成包園用以將基板保持並旋 轉的基板旋轉單元周圍，且上述方法更包括有與上述洗淨 ，洗淨步驟及上述藥液洗淨步驟並行地使上述基板旋轉 •單元作動之基板旋轉單元作動步騾，上述洗淨液洗淨步驟 7包括有對上述基板旋轉單元供應洗淨液的洗淨液供應步 驟，上述藥液洗淨步驟包括有對上述基板旋轉單元供應洗 淨用藥液的藥液供應步驟。 •此情況：因為對作⑽態中的基板旋轉單元供應洗淨液 ，洗淨用_液’因而抵接基板旋轉單元並濺散於基板旋轉 單元周圍的洗淨液或洗淨用藥液，便被導入於回收空間 内。而且，藉由進入回收空間内H淨液或洗淨用藥液在 内壁上進行流動，便可將回收空間的内壁洗淨。藉此便可 以簡單方法，使洗淨液或洗淨用藥液進入於回收杯的回收 空間内。 上述基板旋轉單元作動步驟係使由上述基板旋轉單元 #所保持的虛設基板旋轉之步驟，上述洗淨液供應步驟亦可 匕括有對上述凝轉中的虛設基板供應洗淨液的步驟，上述 藥液供f步驟亦可包括有對上述旋轉中的虛設基板供應 •洗淨用樂ΐ的步驟。此情況’對虛設基板所供應的洗淨液 或洗淨用藥液，由於虛設基板的旋轉之離心力，朝虛設基 板周緣/爪動，並從該周緣錢散。例如虛設基板係形成與處 理對象基板為相同的形狀與尺寸，所以，從虛設基板周緣 所濺散的洗淨液與洗淨用藥液，便如同基板處理時從基板 周緣所錢散的藥液，被導入於回收空間内。因此，便可有 96148388 1363393 •效率地使用洗淨液與洗淨用.藥液，對回收空間的内壁施行 洗淨。 上述基板旋轉單元作動步驟最好包括有變更上述基板 . 旋轉單元之作動速度的作動速度變更步驟。此情況，若變 ^更基板旋轉單元的作動速度，從基板旋轉單元所濺散的洗 淨液或洗淨用藥液方向便變化，而回收杯中的洗淨液或洗 淨用藥液到達位置亦變化。因此，若使基板旋轉單元的作 動速度在既定範圍内變更，便可使洗淨液或洗淨用藥液遍 _佈於回收空間内的寬廣範圍。因此，便可更適切地對回收 空間的内壁施行洗淨》 最好更包括有與上述洗淨液洗淨步驟及上述藥液洗淨 步驟中至纟中-者並行實施，使上述基板旋轉單元與上 述回收杯，朝由上述基板旋轉單元旋轉的基板旋轉轴線之 -平行方向相對移動的移動步驟。在回收杯的洗淨時，當使 基板旋轉單元與回收杯朝基板旋轉軸線的平行方向相對 #移動後’則目收杯中的洗淨液或洗淨用藥液到達位置便變 化。因此，當使基板旋轉單元的作動速度在既定範圍内變 更^，便可使洗淨液或洗淨用藥液遍佈於回收空間内的寬 廣範圍因此’便可更適切地對回收空間的内壁洗淨。 本發明的基板處理裝置係具備有：藥液供應單元、回收 杯、藥液回收路徑、廢液路徑、切換單元、洗淨液供應單 元、洗淨用藥液供應單元及控制單元；而，該藥液供應單 兀係，基板供應藥液；該回收杯係具有將導引基板處理所 使用樂液的回收空間予以區隔之内壁；該藥液回收路徑係 96148388 1363393 •將導入於上述回收空間的藥液回收；該廢液路徑係將導入 於上述回收空間的液體廢棄；該切換單元係將導入於上述 回收空間的液體，選擇性的導入於上述藥液回收路徑與上 述廢液路徑中，該洗淨液供應單元係供應用以將上述回收 y空間的内壁洗淨的洗淨液；該洗淨用藥液供應單元係在利 用該洗淨液供應單元，對上述回收空間的内壁供應洗淨液 之後，便將與應經由上述回收空間而回收的上述藥液為同 •種類的洗淨用藥液，供應予上述回收空間的内壁；該控制 單元係將上述切換單元控制成當利用上㈣液供應單元 對基板供應藥液時，便將經導入於上述回收空間的藥液導 向於亡述藥液回收路徑中，另一方面，當利用上述洗淨液 供應單元對上述回收空間的内壁供應洗淨液時，以及當 利用上述洗淨用藥液供應單元，對上述回收空間的内壁供 應洗淨用藥液時，便將經導入於上述回收空間的液體導入 於上述廢液路徑。 # ^根據該構造，回收空間的内壁由洗淨液與洗淨用藥液洗 淨而該洗淨時所使用的洗淨液與洗淨用藥液，從回收空 間導入於廢液路徑並進行廢棄。因此可抑制或防止回收空 間内壁洗淨時所使用的洗淨液混入於藥液回收路徑中。所 以，即使將回收空間的内壁由洗淨液施行洗淨，洗淨液幾 乎不會此入於供應藥液中。因此，便可對基板適當地施行 使用藥液的處理。 最好更包括用以保持基板並加以旋轉的基板旋轉單 兀上述藥液供應單元最好包括有朝上述基板旋轉單元供 96148388 12 1363393 上 藥 用 應藥液的藥液㈣’上述洗淨液供應單元最好包括有朝 速基板旋轉單元供應洗淨㈣洗淨液噴嘴，上述洗淨用 液供應單元最好包括有朝上述基板旋轉單元供應洗淨 藥液的洗淨用藥液喷嘴。 ，此情況，朝旋轉狀態的基板旋轉單元，從洗淨液喷嘴供 應洗淨液。又，從洗淨㈣液噴嘴供應洗淨㈣液。朝基 板旋轉單元供應的洗淨液或洗淨用藥液，由於基板旋轉^ 兀旋轉之離心力，賤散於基板旋轉單元的周圍，並進入回 收空間内。然後，洗淨液或洗淨用藥液便在回收空間的内 壁流動，而將回收空間的内壁施行洗淨。 —上，藥液供應單元亦可兼用為上述洗淨用藥液供應單 元。藉此便可使構造簡單化。 上述基板旋轉單元與上述回收杯亦可被收容於處理室 -内；在上述處理室的外部亦可設置有用以保持虛設基板用 的虛設基板保持部，而該虛設基板係能由上述基板旋轉單 #元保持。此情況，因為在處理室的外部設有虛設基板保持 部，因而可使處理室内所收容的基板旋轉單元，輕易地保 持虛設基板。 本發明之前述或其他之目的、特徵及效果，參照所附圖 式，並經下述實施形態的說明便可清楚明瞭。 【實施方式】 圖1係本發明一實施形態（第1實施形態）的基板處理裝 置佈局之圖解俯視圖。該基板處理裝置係對基板一例的半 導體晶圓（以下簡稱「晶圓」）W每次一月施行處理的單片 96148388 13 1363393 •式裝置’其具備有：索引器部卜結合於該索引器部i其 中一側的基板處理部2、以及在索引器部丨另一側（基板 處理部2之相反侧）並排配置的複數（本實施形態中設為3 •個）的晶盒保持部3。在各晶盒保持部3中載置有將複數 v片晶圓W依多層疊層狀態收容並保持的晶盒C1(如將複數 片晶圓W在密閉狀態收納的F〇up(Fr〇nt〇peningUnified

Pod)、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)晶圓盒、 〇C(Open Cassette)等）。 在索引器部1中形成有朝晶盒保持部3排列方向延伸的 直線搬送路徑4。 α在直線搬送路徑4中配置有索引器機器人5。索引器機 器人5被设置成可沿直線搬送路徑4往復移動，且可與在 各f盒保持部3中所載置的晶盒C1成相對向。此外’索 •引，機器人5係具備有保持晶圓以用的手部（未圖示）。索 :丨：機器人5係在與晶盒ci成相對向狀態，使手部對該 籲阳皿ci存取，便可從晶盒C1取出未處理的晶圓#、或將 經處理過的晶圓w收容於晶盒C1中。更進一步，索引器 機器人5係在位於直線搬送路徑4中央處之狀態下，使; 部對基板處理部2存取，可對後述搬送機器人16交接未 處理晶圓w、或從搬送機器人16收取處理過的晶圓w。 板處理部2中，形成有從索引器部1的直線搬送路 =中央處，朝該直線搬送路徑4的正交方向延伸之搬送 室6在基板處理部2中設有：4個處理單元7、8、9、 10,以及與該處理單元7〜10相同數量的流體箱U、12、 96148388 1363393 13、14。具體而言，在搬送室6長邊方向的正交方向一側， 沿搬送室6並排配置有處理單元7、8。然後，在處理單 疋7靠處理單兀8側的相反侧配置有流體箱丨丨，在處理 單元8靠處理單兀7側的相反側配置有流體箱i 2。此外， 在包夹搬送室6並分別與處理單元7、8對向的位置處， 配置有處理單元9、10。在處理單元9靠處理單元1〇側 的相反侧配置有流體箱13，在處理單元1〇靠處理單元9 侧的相反側配置有流體箱14。 在搬送室6的中央處配置有搬送機器人16。該搬送 器人16係具有保持晶圓W的手部（未圖示）。搬送機器人 16係使手部對各處理單元7〜1G存取，俾可使晶圓w對各 處理皁几7〜10進行搬入與搬出。此外，搬送機器人16可 在與索引器機器人5之間進行晶圓评的讓渡。 再者，在相對於搬送機器人16，於與^丨器部i的相 反側配置有虛設晶圓保持台15，該虛設晶圓保持台…系 用以保持後述回收杯洗淨處理中所使料虛設晶圓㈣。 在虛設晶圓保持台15中載置有將複數片（例如“ 设晶圓DW在疊層狀態下收容並保持的晶盒c2。 搬送機器人16尚可進行從虛設晶圓保持台15上的晶各 ，中取出虛設晶圓DW，或將使用過的虛設晶圓^收容^ 在虛㈣圓保持台15上的晶盒C2中。更進一步 器人16可使手部對各處理單元7 -7 1Π ιυ存取’可對各處理單 兀7〜10搬入與搬出虛設晶圓⑽。各處理單元η 打相同内容的處理，亦可施行不同内容的處理。 96148388 15 1363393

圖2係處理單元7的内部構造例之圖解剖視圖。處理單 疋7係對晶圓w選擇性地供應第1藥液、第2藥液及純水 (去離子水），並對該晶圓W施行第1藥液處理、及第2藥 液處理的裝置。在處理單元7的處理室17内配置有將晶 圓W保持大致水平並旋轉的旋轉夹具2〇;收容該旋轉夹 具20的回收杯30 ;以及朝由旋轉夾具2〇所保持的晶圓w 表面，分別供應第1藥液、第2藥液及純水的第丨藥液喷 嘴50、第2藥液喷嘴51及純水喷嘴52。 旋轉夾具20係具備有：朝大致錯直延伸的旋轉軸η ; 在旋轉軸21上端大致水平安裝的旋轉基座22 ;以及在旋 轉基座22上面立設的複數夾持構件23。旋轉基座22的 上面形成平坦面。複數個夾持構件23係在以旋轉軸21的 旋轉軸線為中心之圓周上，大致等間隔配置。夾持構件 23係將晶圓w的端面由互異的複數位置夾持，而將該晶 圓W以大致水平姿勢保持β μ 00 於旋轉軸21結合有包含馬達等驅動源的夾具旋轉驅動 機構24。在利用複數個夾持構件以將晶圓讯保持的狀離 下，從夹具旋轉驅動機構24對旋轉軸21輸入旋轉 二广堯其中心軸線旋轉’藉此便可使該晶圓W 與疋轉基座22—起圍繞旋轉軸21的中心軸線旋轉。 ^藥液喷嘴5。與第2藥液喷嘴51係安 ^在旋/Π置Γ1機财53前端。第1機械臂Μ 54所支撑’從該機械臂支㈣的下端部 96148388 1363393 臂支樓轴54結合有第1機械臂驅動機構55。 系由該第1機械臂驅動機構55的驅動力， 既定角^ 4在既定肖度範_轉動，藉此便可在 无疋角度範圍内進行水平轉動。 自^ 2液喷嘴5〇將經由第1藥液供應路徑57供應來 目第1樂液供應源56的第1筚汸。户諠】# Μ的中途處介衫切㈣P 樂液供應路徑 …。第1樂液的供應/停止用之第1藥 第！藥液^藥液供應源％係具備有：儲存第1藥液的 輸送…二，：及從該第1藥液槽59中抽取出藥液並 輸送、七第1樂液供應路徑57的藥液泵6〇。 =者，對第2藥液喷嘴51經由第2藥液供應路徑⑽供 應來自第2藥液供應源61的第2藥液。在 路徑Μ的中途處介設有切換第2藥液的供應/停 樂液閥63。第2藥液供應源61係具備有：儲存第2藥 液★的第、2藥液槽6 4，以及從該第2藥液槽6 4中抽取出第 樂液並輸达給第2藥液供應路徑62的藥液泵65。 第1藥液與第2藥液係配合對晶圓w表面所施行之處理 内容而使用適當者。例如若為從晶圓W表面將不需要阻劑 剝離的阻劑剝離處理’便使用SPM(sulfuric ，d/hydrQgen perc)xide ：硫酸_過氧化氯水） 等阻劑剝離液，而若為從晶圓w表面將聚合物（阻劑殘渣） 去除的聚合物去除處理，便使用APM(a嶋nia吻dr〇gen 的咖⑷：氨水—過氧化氫水）等聚合物去除液， 右為從晶圓W表面將氧化膜、金屬薄膜等㈣去除的姓刻 96148388 17 ^363393 處理，，使用至少含有氫氟酸、硫酸、硝酸、鹽酸、磷酸、 醋酸、氨、過氧化氫水、檸檬酸、草酸、TMAH、王水中之 至少一者的蝕刻液。 純水噴嘴52係安裝於在旋轉夾具2〇上方所設置的第2 機械臂66前端。第2機械臂66由在旋轉夾具2〇側邊朝 大致錯直延伸的機械臂支擇抽67所支撐，益從該機械臂 ^撐軸的下端部朝大致水平延伸。於機械臂支撐軸67 結合有第2機械臂驅動機構68。第2機械臂66係利用該 第2機械臂驅動機構68的驅動力，使機械臂支撐軸π在 =定角度範圍内轉動，藉此便可在既定角度範圍内水平轉 對純水噴嘴52將經由純水供應路徑69供應纟自純水供 ，源的純水。在純水供應路徑69的中途處介設有切換純 水供應/停止用的純水閥。 、一 :收杯30係回收在晶圓w處理中使用過的第盥 第2樂液。回收杯3〇係具備有··有底圓筒容器狀 ” =及設置於該杯31的上方’並可對該杯31外降的防賤罩 在杯31的底部以晶圓W的旋轉軸線（旋轉軸 線)為中心形成有圓環狀的廢液溝36，該廢 ：軸 以將晶圓W處理中所使用的處理液（含有第2藥 糸用 作為廢液。此外，在杯31的底部依包圍廢 <、純水） 形成有用以分別將經在晶圓w處理中使用過飞 第2藥液回收之圓環狀第1回收溝34盘第 藥液與 /、弟2回收溝35。 96148388 18 1363393 具體而言，在廢液溝36的外側 在第2回收溝35的外側 ，有第2回收溝35,又 圍第1回收溝34的方式形成 =收溝34。又，依包 係用以將經使用於晶圓讲，冓扣，該排氣液溝33 純水）作為廢液，並_^4/^含有第1藥液的 於排氣液溝33連接有排氣扩二^衣境虱體排出。 之廢液處理設備、排氣設備^37’俾導引於未圖示 於第Ϊ回收溝34連接有第丨向/ 回收/廢液路徑38的前端分 廢液路徑38。在第1 ⑽與第1分支廢液路徑4〇刀 有帛1分支回收路徑 設有第B刀換間41，俾將在第在^回收/廢液路徑⑽介 通的液體，選擇性地引導口液路徑38中流 ▼ &乐1分支回收路輕q Q ， 分支廢液路徑40中。嗲筮日 或第1 m八士 切換閥41係例如由三通閥構 t回收路裡39的前端朝第1藥液槽心 用於日曰0W處理後的第！藥液便經由該第ι分支 ^ 39=回收於第！藥液槽59中並可再利用。= 分支廢液路徑4G朝未圖㈣廢液處理設備延伸。第1 於第2回收溝35連接有第2回收/廢液路徑仏。 回收/廢液路徑42的前端分支連接有第2分支、第： 43與第2分支廢液路徑44。在第2回收/廢液路 介設有第2切_ 45，俾將在第2回收/廢液路 = 流通的液體，選擇性地引導於第2分支回收路徑 2分支廢液路徑44中。該第2切換閥45係例如由三=第 構成。第2分支回收路徑43的前端朝第2藥液槽64:伸閱 96148388 1363393 用於b曰圓W處理後的第2藥液便經由該第2分支回收路徑 43回收卞第2藥液槽64中並可再利用。此外，第2分支 廢液路徑44朝未圖示的廢液處理設備延伸。 更進步，於廢液溝36連接有廢液路徑46，俾將晶圓 W處理所使用過的處理液引導於未圖示的廢液處理設備 中。 防濺罩32係由大小互異的4個傘狀構件7卜72、73、 ▲重2構成於防錢罩32結合有包含例如伺服馬達等的 ^罩升降驅動機構75，藉由對該護罩升降驅動機構75的 工制便可使防減i 32相對於杯31料（上下移動）。 致構件71〜74係具有相對於晶圓化的旋轉軸線成大 致旋轉對稱的形狀。 續件71係具備有：以晶圓W的旋轉軸線為中心軸 =涛狀圓筒部76、從該圓筒部76上端朝中心側斜上 靠晶圓W旋轉軸線的方向)延伸的傾斜部77、以及 上端部朝中心側斜下方延伸㈣ =8下1部76下端係位於第2回收溝35上，而廢液導引 邛78下知係位於廢液溝％上。 筒ί,6構件72係具備有:被設置成包圍傘狀構件7〗的圓 狀圓筒部：二？:繼 朝晶圓w沾 圓筒部79、80的上端連結，並 的方疋轉軸線開放且截面呈略口狀 · 以及從該遠έ士邱幻从· 狀幻運、·.〇81， 82。内飢由Υ、#端朝令心側斜上方延伸的傾斜部 〜側）的圓筒部79下端位於第2回收溝35 96148388 20 1363393 上。外側的圓筒部80下端位於第1回收溝34上方。 構件73係具備有：被設置成包圍傘狀構件72的圓 且以晶圓评的旋轉軸線為中心轴線之同 :圓筒部83、84;以及從外側的圓筒部84上端朝令心： 斜上方延伸的傾斜部85 ^内側的圓筒部83下端位於 ::溝34上方。外側的圓筒部84下端位於排氣液溝μ 上方 〇 傘狀構件74係具備有··被設置成包圍傘狀構件73的圓 2 84’且以晶圓¥的旋轉軸線為中心軸線之圓筒狀圓 同。"6、89 ;以及從内側的圓筒部86上端朝中心侧斜上 方延伸的傾斜部87。内側的圓筒部86下端位於 ，八上方。外侧的圓筒部89形成覆蓋杯31外周面其中一 部分。此外’形成有從傾斜部87下端部朝外邊伸出 緣狀構件88。 、、，狀構件7卜74的上端緣係在以晶圓^旋轉軸線為中 心軸線之圓筒面上，朝沿該晶圓w旋轉轴線的方向（船直 方向）相隔間隔設置。 在傘狀構件74的上端緣、與傘狀構件73的上端緣之 :’形成有圓環狀第"歼，口部92，俾使從晶圓w滅散的 处理液飛入，並將該處理液捕捉於排氣液溝33中。利用 傘狀構件74内面、傘狀構件73外面及排氣液溝33，區 隔出將晶® W處理所使用過的處理液等引導的第丨空間 再者，在伞狀構件73上端緣、與傘狀構件72上端緣之 96148388 ]形成有圓環狀第2開口部94，俾 第1藥液飛入，並將哕第” 使從B曰固w濺散的 利用傘狀構件73内二二構=第1回收溝34中。 〇4 , rs- ¢-. 狀構件72外面、及第1回收溝 空間=出將剛處理所使用過的第丨藥液引導的第2 間，开1成2狀構件72上端緣、與傘狀構件71上端緣之 第2華』 第3開口部96 ’俾使從晶圓w濺散的 第2樂液飛入，並將該第2藥液捕捉 :傘狀構件72内面、傘狀構件71外面、及=二 晶圓W處理所使用過的第2藥液進行引導的 有部:7上端緣、與廢液導引部78下端緣之間形成 使用過的處理液引導的第m區隔出將晶圓w處理所 圖圖該裝置的控制系統構成說明之方塊 Li處理裝置中’主控制部_係、分別連接於索引 。。’态人δ、搬送機器人16及複數處理單元7〜、主 二Η00係對索引器機器人5、以及搬送機 ， 圓之搬送動作進行控制。主控制部則係就搬送機又 晶圓DW之搬送動作進行控制。又，主控制部1 〇〇 =與處理單元之間，進行表示處理條件、 況等的各種資料收授。 再者，於處理單元7内設有區域控制部1〇1。於區域控 96148388 22 丄 Z。!3 101 it接有控制對象的夾具旋轉驅動機構24'第1 機械臂驅動，構55、帛2機械臂驅動機構68、第i藥液 Z 58'第2藥液閥63、純水閥70、護罩升降驅動機構75、 卓1切換閥41及第2切換閥45等。 。區域控制部1〇1對夹具旋轉驅動機構24、第1機械臂 11動機構55、第2機械臂驅動機構68及護罩升降驅動機 構75*的動作進行控制。區域控㈣⑼又對第】藥液闕

第2藥液閥63及純水閥70的關開，以及第！切換閥 41與第2切換閥45的切換控制。 圖4係在處理單元7中所執行處理例的說明 流程圖。此 外，圖5(a)至5(e)係晶圓w處理時之旋轉丸具2〇與回收 杯3 0的相對位置關係之圖解部分剖視圖。以下，參照圖 2圖3、圖4、圖5(a)至5(e)，針對處理單元7的晶圓 W處理進行說明。 在處理對象的晶U W搬人前，為不致妨礙搬人，防賤罩 32便下降至最下方的退縮位置（參照圖5⑷）。在該防賤 罩32的退縮位置處，傘狀構# 74上端位於旋轉夹具2〇 對晶圓W之保持位置下方。 。處理對象的未處理晶圓w由搬送機器人16搬入於處理 單元7内，並名表面(裝置形成面)朝上方的狀態下由旋轉 夾具20保持（步驟S1)。若晶圓w由旋轉央具2〇保持， 則控制夾具旋轉驅動機構24 ’開始旋轉夾具2〇對晶圓界 之旋轉（旋轉基座22旋轉），將晶圓w的旋轉速度提升至 例如150〇rpm。此外，對護罩升降驅動機構”進行控制’ 96148388 23 使防減罩32上升至當9叫 第2開口部對向位置處(;==)晶7蠕面相對向的 機械臂驅動機構55進行_， 機^一步，對第1 使第1藥液喷脅50與第2藥液 轉動，俾 邊的退縮位置移動至晶圓㈣上方位置處％轉夹具2〇侧 右晶圓W的旋轉速度達到15 58，而從第！藥液喷嘴 更開啟第1藥液閥 第1藥液。對晶圓w表“曰曰固表面的旋轉中心供應 轉的離心力而朝晶圓w 的J1藥液由於晶圓W旋 施行使用第〗藥液進行:、=藉此， 朝晶圓W周緣、“处里的第1樂液處理（步驟S2)。 散，並飛入°於與L曰：第1藥液係從晶圓W周緣朝側邊濺 然後，=於:第圓:rr對向的 構件”外面、或傘的第1藥液便在傘狀 溝料中，在輸送二構/= 面流動而收集於第丨回收 第1切換間41，將通沿第廢液路徑38,此時，利用 液引導於第1 & 回收/廢液路徑38的第1藥 第1分二ί:Γ徑39中，因此第⑽ 藥液槽59中。 回收於第1藥液供應源56的第1 當從對晶圓w開私楚，# 後，便關閉第i筚㈣u樂液供應起經過既定處理時間 第1藥液供庫。，又：Γ，而停止從第1藥液噴嘴50的 機械臂53轉動，第】制第1機械臂驅動機構55使第1 從晶圓w上方位置银：液喷嘴50與第2藥液喷嘴51便 置退縮至旋轉夾具20側邊的退縮位置. 96148388 24 ΐ 二進動一， 置處移動至曰w 韻轉夾具2〇側邊的退縮位 :移動至曰曰回W上方位置處。更進一 ，構75進行駆動，使防機罩32上升至由晶圓w = 處向於第4開口部98的第4開口部對向位置(參照圖5(c)) ^防濺罩32到達第4開口部對向位置後，便開啟純水

閥70，從純水喷嘴52朝旋轉狀態之晶圓W表面旋轉中心 供應Λ 7jc對晶圓w表面所供應的純水，由於晶圓W旋轉 的T〜力’而朝晶圓w周緣流動。藉此，便施行利用純水 對曰曰圓W表面上所附著的第i藥液沖洗之沖洗處理（步驟 S3) °朝晶圓^緣流動的純水，從晶圓w周緣朝側邊錢 政。從晶圓W周緣濺散的純水（含有從晶圓w上沖洗掉的 第1藥液）被捕捉於與晶圓W端面相對向的第4開口部⑽ 中，經傘狀構件71内面後便收集於廢液溝36中，再從該

廢液溝36經由廢液路徑46被導引於未圖示廢液處理設備 中。 當從純水開始供應起經過既定處理時間後，便關閉純水 閥70而停止對晶圓w的純水供應。然後，控制第2機械 臂驅動機構68使第2機械臂66轉動，純水喷嘴52便從 晶圓W上方位置退縮至旋轉夾具2〇侧邊的退縮位置處。 此外’控制第1機械臂驅動機構55使第1機械臂53轉動， 第1藥液嘴嘴50與第2藥液喷嘴51，便從旋轉夾具20 側邊的退縮位置移動至晶圓W上方位置處》更對護罩升降 96148388 25 1363393 2動機構75驅動，防濺罩32便下降至第3開口部96相 =於晶圓W端面的第3開口部對向位置（參照圖⑽）。 …虽防職罩32到達第3開σ部對向位置後便開啟 藥液閥63，而從第2藥液喷嘴 的旋轉中心供應第2藥二嘴二晶圓：表面 液，由於晶圓W旋轉的離心力，朝面=斤|應的第2藥 刀朝日日回w周緣流動。藉此， 理(:驟對月表曰面使用第2藥液施行處理的第2藥液處 月二息朝B曰圓W周緣流動的第1藥液，將從晶圓W 周緣朝侧邊賤散，並飛入於與晶圓W端面相對向的第= 第3開口部96中的第2藥液，： 伞，件72内面、或傘狀構件71外面流動並收集於第2 =Ϊ二，再輸送於第2回收/廢液路徑42中。此時， 藉由第2切換闕45在第2回收/廢 2藥液被導引於第2分支回收路徑43中，因而第通Π 液便經由第2分支回收路护，士 第2樂 源Η的第2藥液槽64Γ 被回收於第2藥液供應 第ί 停止從第2藥液喷嘴51的 弟/樂液供應，同時控制筮丨她 07 機械臂53轉動，第〗藥液嘖口構55使第1 便從晶圓u方位置退縮;Γ轉r嘴嘴51’ , 天/、20側邊的退縮位罾 轉動二:=r^ ^對濩罩升降驅動機構 96148388 26

丄JUJJ ?驅動’防賤罩32便將下降至第… 日日回W端面的第】鬥 7 ^ ^ 開啟純水間7Π " 位置(參照圖5(e))。然後， 的旋轅 ’從純水噴嘴52朝旋轉狀態之晶圓w表面 在曰圓wl供應純水（步驟S5)，藉此便進行利用純水對 社日日圓W表面上所阳·装结0 ^ _ 0, . R附著第2樂液施行沖洗的沖洗處理。在 理時從晶圓w周緣所濺散的純水(含有從晶圓 掉的第2藥液），被捕捉於與晶圓w端面相對向 1開口部92中，並收集於排氣液溝33中，再從該排 j溝33經由排氣液路徑37導引於未圖示之廢液處理設 備中。 ， 當從純水開始供應起經過既定沖洗時間後，便關閉純水 閥70 ’而止對晶圓w的純水供應。然後，控制第2機 械臂驅動機構68使第2機械臂66轉動，純水喷嘴52便 從晶圓W上方位置退縮至旋轉夾具2Q側邊的退縮位置。 更進步，對濩罩升降驅動機構75驅動，防濺罩32便從 第1開口部對向位置下降至退縮位置。然後，將晶圓w的 旋轉速度從1 500rpm提尚至3〇〇〇rpm，而施行將經沖洗處 理後附著於晶圓W表面上的純水，利用離心力甩去乾燥的 乾燥處理（步驟S6)。當該乾燥處理時，防濺罩32位於退 縮位置，從晶圓w周緣所濺散的純水附著於傘狀構件74 的外面。當乾燥處理（旋轉乾燥處理）施行既定乾燥時間 後，便停止晶圓W的旋轉，經處理完畢的晶圓w便由搬送 機器人16搬出（步驟S7)。 在1批次晶圓W利用第1藥液與第2藥液施行處理後（步 96148388 27 驟S8中’ yES)’便執行將 qo Q, _ T#W收杯30的第1〜第4空間9卜 9?，内壁進行洗淨的回收杯洗淨處理(步叫 如請製虛設晶㈣保持於旋轉夹具2杯〇 = ，叙虛$晶1] DW供應洗淨液的純水、或者供應洗 淨用樂液的㈣液或第2藥液來實施。虛設晶圓⑽係 =成與處理對㈣晶圓W相同之形狀與尺寸。所以，從虛 设晶圓Dw周緣所濺散的純水、帛1藥液及第2藥液，便 朝^在對晶圓W施行處理時從晶圓说周緣所濺散純水、第 1藥液及第2藥液相同之位置濺散。藉此，當防濺罩32 位於第1〜第4開口部對向位置時（參照圖5(b)至圖 5 (e)) ’從虛设晶圓j)f周緣所賤散的純水、第1藥液及第 2藥液，便飛入各開口部92、94、96、98中，並被導引 於各空間91、93、95、97中。 搬送機器人16係從虛設晶圓保持台15上的晶盒C2中 籲取出虛設晶圓DW。然後，搬送機器人16便將虛設晶圓Dw 搬入處理單元7内，並由旋轉夾具2〇保持（步驟π)。當 虛設晶圓DW由旋轉夾具20保持後，便控制夾具旋轉驅動 機構24 ’而開始旋轉夾具20對虛設晶圓DW之旋轉，虛 ’ 設晶圓DW的旋轉速度提高至例如500rpm。此外，進行第 • 1切換閥41與第2切換閥45的切換控制，藉此，在第1 回收/廢液路徑38中流通的液體被導引於第1分支廢液路 徑40中，同時在第2回收/廢液路徑42中流通的液體被 導引於第2分支廢液路徑44中（步驟T2)。更進一步，對 96148388 28 ^363393 護罩升降驅動機構75進行控制，使防錢罩32從退墙位置 上升至第】開口部92相對向於虛設晶圓⑽端 口部對向位置處（參照圖5(e))(步驟T3)。更進一步又= 第2機械臂驅動機構68進行控制而使第2機械臂66轉 動，純水喷冑52便從旋轉夾具2〇側邊的退縮位置，移動 至虛设晶圓DW的上方位置處。 當虛設晶圓DW的旋轉速度到達5〇〇rpM4，便開啟純水 閥70，而從純水喷嘴52朝虛設晶圓⑽表面的旋轉中心 供應純水（步驟T5)。 對虛設晶圓DW表面所供應的純水，由於虛設晶圓⑽旋 轉之離。力，朝虛6又晶圓周緣流動，並從虛設晶圓⑽ 周緣朝側邊賤散，再飛入於與虛設晶圓D 第Μ 口靖。由第！開口部92飛入的純：，= 構件74内面與傘狀構件73外面流動而收集於排氣液溝 33中，再從該排氣液溝33輸送入排氣液路徑37中。藉 鲁此牟狀構件74内面、傘狀構件73外面及排氣液溝33(即 第1空間91的内壁）便由純水洗淨。從排氣液路徑37所 輪送的純水被引導於未圖示之廢液處理設備中。 • 另一方面，虛設晶圓DW的旋轉速度在5〇〜l〇〇〇rpm範圍 .7變更（步驟T4)，虛設晶圓DW的旋轉定期的加快或減 慢。因此’從虛設晶圓DW周緣所濺散的純水方向便變化， 而、、屯水到達第1空間中的位置亦有所變化。因此，便可使 第1空間91内的寬廣範圍遍佈純水。虛設晶圓DW在上述 範圍内的旋轉速度變化’係持續進行至使用純水施行的洗 96H8388 29 淨處理結束為止（步驟ΤΙ5)。 當經過預定純水洗淨時間（例如5〜6〇秒鐘）（步驟Τ6 中，YES)後，便控制護罩升降驅動機構75，使防濺罩32 上升至第2開口部94相對向於虛設晶圓DW端面的第2開 口部對向位置處（參照圖5(b))(步驟π)。從旋轉狀態虛 &晶圓DW__邊賴的純水’飛入於與虛設晶圓⑽ 端面相對向的第2開口部94中。由第2開口部94飛入的 純水，在傘狀構件73内面、與傘狀構件72外面流動，並 收集於帛1回枚溝34中，再從該第！回收溝34輸送於第 1回收/廢液路徑38中。藉此，傘狀構件73内面、傘狀 構件72外面、及第！回收溝34(即第2空間93的内壁）， 便由純水洗淨。此外，在步驟12中利用第i切換閥41的 刀換於第1回收/廢液路控38中流通的液體，被導引於 孓1、分支廢液路徑40中’因而在第1回收/廢液路徑38 -抓通的、、4水’經由第！分支廢液路徑被導引於未圖 示之廢液處理設備中。 當經過預定純水洗淨時間（例如5秒鐘〜6〇秒鐘）（步驟 T8中YES)後，便控制護罩升降驅動機構，使防賤罩 32上升至第3開口部96相對向於虛設晶圓DW端面的第3 對向位置處（參照圖5(d))(步驟T9)。從旋轉狀態 二曰曰? DW周緣朝側邊濺散的純水，飛入於與虛設晶圓 Μ私面相對向的第3開口部％中。由第3開口部96中 飛的，、屯X在傘狀構件72内面、與伞狀構件]外面流 動’並收集於第2回收溝35中，再輸送於第2回收/廢液 96148388 30 1363393 路徑42中。藉此，傘狀構件72内面、傘狀構件7ι外面、 及第2回收溝35(即第3空間95的内壁），便由純水洗淨。 此外，在步驟T2中利用第2切換閥45的切換，在第2回 收/廢液路徑42中流通的液體便導引於第2分支廢液詩 44中’因而在第2回收/廢液路# 42中流通的純水便 經由第2分支廢祕彳i44㈣於未圖轉液處理 當經過預錢水洗淨時間後（例如5秒鐘，秒 驟T1 0中，YES)，#批也丨-¾ s _iL '夕 I 降驅動機構75,使防濺 镇A第開口部98相對向於虛設晶圓DW端面的 第/開口㈣向位置處（參照圖5(e))(步驟T11)。從 狀態虛設晶圓DW周緣朝側邊濺散的純水，飛入於机 晶圓DW端面相對向的第4開口部98中。由第4開口; 98中飛入的广在伞狀構件71内面流動而收料 溝36中，再從該廢液溝36輸送給廢液路徑46。藉此， 傘狀構件71内面與廢液溝36(即第4 由純水洗淨。經輸送入廢液路徑46中的純水被^ 圖示廢液處理設備中。 攸等W於未 當經過預定純水洗淨時間後（例如5秒鐘，秒鐘）（步 驟T12中，YES),便控制護罩升 ， 罩32從第4開口部對向位㈣機構75 ’使防濺 5(a))(步驟T13)。從旋轉狀離虚 < 至退縮位置(參照圖 4㈣Η命老 轉 免晶圓⑽周緣朝侧邊濺 二二水，在與虛設晶圓卯端面相對向的傘狀構 Π ’而從未圖示廢液路徑導弓丨於未圖示廢液處理* 在晶®W乾燥處理時，從晶DW所濺散純水; 96148388 31 1363393 到達的傘狀構件74外面便由純水洗淨。 若經過預定純水洗淨時間後（例如5秒鐘〜6〇秒鐘八牛 驟T14中，YES) ’便關閉純水闊7〇，而停止對虛^曰^ DW的純水供應(步驟T15)。然後，控制第2機械臂驅：機 構68，使第2機械臂66轉動，純水噴嘴52便從虛設晶 圓㈣上方位置退縮至旋轉夾具2()側邊的退縮位置=二 並行控制第1機械臂驅動機構55’使第1機械臂53轉動， 第1藥液噴嘴50與第2藥液喷嘴51便從旋轉失具別側 邊的退縮位置移動至虛設晶圓DW上方位置。 ， 1史防濺罩32從退縮 f ϋ 然後’驅動護罩升降驅動機構 位置上升至第2開口部對向位置（參照圖5(b))(步驟 又’虛設晶圓DW的旋轉速度從目前的5(M_rpm 巳，變更為20(M〇〇〇rpm範圍（步驟T17)。因而 ，晶圓DW周緣賴散的第i f液或第2藥液方向變化: =可：第1空間91内的寬廣範圍遍佈第！藥液或 ί更mDw在上述範議0〜聰咖）内的旋轉速度 T25)。 行至虛設晶® Μ停止旋轉為止（步驟 二第1藥液闊58,從第1藥液喷嘴5。朝虛設 外…的旋轉中心供應第1藥液(步驟Τ18)。對虛 ::、、/表面所供應的第1藥液’由於虛設晶圓⑽旋轉 緣朝：邊濺_緣流動，並從虛設晶圓卯周 2開” 94 t 與虛設晶圓卯端面相對向的第 4 94中。經飛入於第2開口部94中的第^藥液， 96148388 32 在傘狀構件73内面與傘狀 1回收溝34中，再從誃笛構件72外面流動，並收集於第 廢液路徑 外面及第1回從溝34(即第^構件73内面、傘狀構件72 藥液洗淨。此外，藉由ill空帛93"1内壁）’便由第1 在第】回收/廢液路徑甬中第1切換闕41的切換， 八：t處V A - 0干流通的液體，便被導引於第] :的第1%::。便：由因而在第1回收/廢液路徑38中流 示廢液處理設備Γ1分支廢液路徑4〇導引於未圖 當=預定第丨藥液洗淨時間後（例如 二=”，)，便關閉第丨藥液閥6 : 護軍升降驅動(步驟τ2〇)。然後，驅動 .置上升至第3開口部對::U便從第2開口部對向位

Mb 達第開口部對向位置處後，便開啟望 供應的第2 Τ22)°對虛設晶1® Μ表面所 設晶二二Τ1晶圓DW旋轉的離心力，朝虛 •再飛入於二 從虛設晶圓DW周緣朝側邊濺散， ，經飛入於第f晶圓⑽端面相對向的第3開口部96中。 面*傘狀】：開口部96中的第2藥液，在傘狀構件72内 再輸逆α Γ外面流動，並收集於第2回收溝扣中， 内面、、：:構2 Γ，廢液路徑42卜藉此，伞狀構件72 狀構件71外面及第2回收溝35(即第3空間％ 96148388 33 ^03393 的内壁）’便由第2藥液洗淨。此外，藉由在步驟T2中第 2切換：45的切換’在第2回收/廢液路徑4”流通的 第樂液，被導引於第2分支廢液路徑44中，因此在第 2回收/廢液路徑42中流通的液體，便經由第2分支 路徑44被導引於未圖示廢液處理設備中。 當經過預定第2藥液洗淨時間後（例如5秒鐘〜6〇 鐘）（步驟Τ23中，YES)，便關閉第2藥液闕63，停止對

虛設晶圓DW的第2藥液供應（步驟T24)。又，停止虛設 晶圓DW的旋轉（步驟Τ25)。 、然後，驅動護罩升降驅動機構75，使防濺罩32下降至 退縮位置(步騾Τ26)。且’對第}切換閥41與第2切換 閥45進行切換控制，藉此，在第1回收/廢-液路徑38中 流通的液體便被導引於帛1分支回收路徑39巾，同時在 第2回收/廢液路徑42中流通的液體被導引於第2分支回 收路徑43中（步驟T27)。 、然後，經使用完畢的虛設晶圓Dw由搬送機器人丨6搬出 於處理單το 7夕卜，並收容於虛設晶圓保持台i 5上的晶盒 C2中（步驟T28)。 如上述’根據該實施形態，第丨〜第4空間91、93、95、 97的内壁及傘狀構件74的外面，由純水、第丨藥液或第 2藥液洗淨。依此便可將在各空間μ、93、95、97的内 壁、傘狀構件74的外面所附著之附著物與其附著物的結 曰曰予以去除，藉此便可抑制粒子的發生。 再者，於第2空間93與第3空間95的内壁洗淨所使用 96148388 34 1363393 之純水，從第2空間93與第3空間朽八 支廢液路徑40及第2分支廢液路徑4/中而二:分 而，在第1分支回收路徑39鱼第 。因 無純水混入之虞。因此，即使對^^回收路徑43中便 ’彳定對弟2空間93與第q * 95的内壁使用純水進行洗淨，在從第！藥液喷嘴5〇二1 圓说所供應的+第1藥液，及從第2藥液嘴嘴51對晶^ 的第2藥液中，幾乎不會有回收杯洗淨用純二混 更進一步，經使用純水對第2空間93 内壁洗淨後’對第2空間93與第3空間95第的= 用第1藥液與第2藥液洗淨。因此’經純水洗淨後，在第 2空間^内壁與第3空間95内壁上所附著的純水分別 由第1，液與第2藥液沖洗。因此’便可更禮實地抑制或 防止從第1藥液喷嘴50對晶圓W所供應的第！藥液中， 乂及從第2藥液喷嘴51對晶圓w所供應的第2藥液中， 混入回收杯洗淨用純水的情形。 圖7係本發明另一實施形態（第2實施形態）的基板處理 裝置中，處理單元構造例之圖解剖視圖。該圖7中，就對 應於前述圖2所示各部位的部分，便賦予與圖2 的元料號，並省略說明。該基板處理裝置中不== Η 2貫％也態（第1貫施形態）之處在於：回收杯2 〇 〇係取 代杯31與防濺罩32，改為設置相互獨立且可升降的内構 成構件110、中構成構件111及外構成構件112。 内構成構件110係包圍旋轉夾具20周圍，並具有相對 96148388 35 1363393

於利用旋轉夾具20進行晶圓w之旋轉轴線呈大致旋轉對 稱的形狀。該内構成構件1丨〇係一體具備有：俯視圓環狀 底部122、從該底部122内周緣朝上方立起的圓筒狀内壁 部123、從底部122外周緣朝上方立起的圓筒狀外壁部 124、以及從内壁部123與外壁部124之間立起且上端部 朝中心側（靠近晶圓W旋轉軸線的方向）斜上方延伸的第工 導引部125。此外，内壁部123與第i導引部125之間， 係為用以將晶圓W處理所使用的處理液（含有第丨藥液與 第2藥液的純水）收集並廢棄用的廢液溝126。另，第玉 導引部125與外壁部124之間，為用來將晶圓w處理所使 用的處理液收集並回收的内側回收溝127。廢液溝126係 連接於用以導引於未圖示廢液處理設備中的廢液路徑 128。而，内側回收溝127係將第2藥液回收，且於該内 側回收溝127連接有前述第2回收/廢液路徑42。

中構成構件111係包圍旋轉夾具20周圍，並具有相對 於利用旋轉夾具20進行晶圓W之旋轉軸線呈大致旋轉對 稱的形狀。該中構成構件U1係、—體設置有：帛2導引^ W8、俯視圓環狀底部149、從該底部149内周緣朝上方 立起且連結於第2導引部148的圓筒狀内壁部15〇 從底部149外周緣朝上方立起的圓筒狀外壁部⑸。 第2導引部148係在内構成構件UQ靠第i導引部⑵ ^卜側，設有：與第1導引部⑵下端部形成同軸圓筒狀 ，=部购、.以及從該下端部⑽的上端赌 弧並朝中心側（靠近晶圓W旋轉轴線的方向）斜上 96148388 36 1363393 .的上端部工“卜下端部H8a係位於内側回收溝127上 上端部148b被設置成與内構成構件11〇的第i導引^ 上端部之125b朝上下方向重疊。 再者，第2導引部148的上端部148b係形成越靠 .越厚。内壁部15〇連結於該上端…傷的外周緣部 以，底部H9、内壁部150及外壁部151形成截面略〇狀， 利用該等底部149、内壁部150及外壁部15卜便 鲁用來將晶圓W處理所使用第i藥液收集並回收的外侧回收 = 152。於外侧回㈣152連接有前述第】回收廢液路徑 外構成構件112係在中構成構件lu靠第2導引部 的外側，具有包圍旋轉夹具20周圍，且相對於利用旋轉 夾具20進行晶圓W之旋轉軸線呈大致旋轉對稱的形狀。 該外構成構件112係具有：形成與第2導引部148下端部 148a呈同軸圓筒狀的下端部U2a、以及從下端部 •端描繪平滑圓弧並朝中心側（靠近晶圓W轉轴線的方向） 斜上方延伸的上端部112b。上端部1121)被設置成與中構 成構件111的第2導引部148上端部1481)朝上下方 疊。 ^再者，回收杯200係具備有··使内構成構件11〇升降的 ，内構成構件升降機構160、使中構成構件lu升降的中構 成構件升降機構161、以及使外構成構件112升降的外構 成構件升降機構162。 内構成構件升降機構160、中構成構件升降機構161及 96148388 37 1363393 外構成構件升降機構162，係作為控制對象連接於區域控 制部101 (參照圖3)。區域控制部1〇1係控制内構成構件 升降機構160、中構成構件升降機構161及外構成構件升 降機構162的動作。 圖8(a)至8(c)係利用另一實施形態的基板處理裝置施 行晶圓W的處理時，旋轉夾具20與回收杯200的相對位 置關係之部分圖解剖視圖。 當外構成構件112的上端部U2b配置於較由旋轉夾具 20所保持的晶圓W更靠上方處，内構成構件110的第i 導引部125上端部125b、及中構成構件lu的第2導引 部148上端部148b，配置於較晶圓w更靠下方處（參照圖 8(a)) ’則在第2導引部148的上端部工傷、與外構成構 件112的上端部U2b之間’形成與晶圓w端面相對向的 開口。當回收杯200的各構成構件11〇〜112被配置於該位 置時，便執行對前述對晶圓w使用第i藥液的處理。 從晶圓W周緣朝側邊濺散的第i藥液，飛入於 部⑷與外構成構件112之間。該經飛入、= 2導引部148外面與外構成構件112内面進行流== 於外：回收溝152中，再經由第丨时/廢 導 二 ='叫39中，且由第2藥液供應二導 收。換吕之，利用外構成構件112内面 外面、及外側回收雀】， 守引4 148 第1藥液導引的丄=出將晶Η處理使用後的 再者，當外構成構件112的上端部⑽、及中構成構 96148388 38 1363393 件上11的第2導引部148上端部雇，配置於較晶圓w 更罪上方’且内構成構件110的第i導引部125上端部 ⑽配置於較晶㈣更靠下方（參照圖8(b))，則在第i 導引部125的上端部125b、與第2導引部148的上端部 148b之間’形成與晶圓w端面相對向的開口。當回收杯 2〇〇的各構成構件11(M12被配置在該位置時便執行前 述對晶圓W使用第2藥液的處理。 從晶圓w周緣朝側邊濺散的第2藥液，飛入於第ι導引 部125與第2導引部148之間。而且，在第2導引部 的内面或第1導引部125的外面流動並收集於内側回收 溝m ’再從内側回收溝127經由帛2回收/廢液路徑 42:"引於第2分支回收路徑43中，而由第之藥液供應 "、、回收。換言之，利用中構成構件111的内面、内構 、冓牛11 0的外面、及内側回收溝i 27，區隔出將晶圓W 處理所使用後的第2藥液導引的第6 S間咏。 ^外構成構件112的上端部112b、第2導引部148的 上端邛148b、及第j導引部125的上端部〗2此，被配置 於^圓W更靠上方（參照圖8(c))，則在上端部】聊與 内壁部123之間，便形成與晶圓w端面相對向的開口。當 :構〜112與旋轉夾具2〇具有該等位置關係 ，，更執行對晶圓说的沖洗處理。 在該=洗處理t ’從晶圓w周緣朝側邊濺散的純水（含 有第1藥液或第2藥液），便飛入於内壁部盥 引部125之間。然後’在第】導引部125的内面進行流動 96148388 39 1363393 .並收集於廢液溝126中，再從廢液溝126經由廢液路徑 128被導引於未圖示廢液處理設備中。換言之利用第1 導引部125的内面、與廢液溝126，便區隔出對晶圓 .理使用後的處理液進行導引的第7空間193〇 •更進一步又，内構成構件110的第！導引部125之上端 部125b、巾構成構件lu的第2導引部148之上端部 1僅、及外構成構件112的上端部112b，在配置於較: 旋轉失具20所保持晶圓w更靠下方的回收杯2〇〇處於退 罾縮狀態（參照圖7)下，便執行前述的晶圓w搬入/搬出、 及前述的乾燥處理。 將回收杯200洗淨的杯洗淨處理中，如同前述圖"驟 T卜T4,虛設晶圓DW利用搬送機器人16搬入於處理單元 7内’並由旋轉夾具2G保持，且控制夾具旋轉驅動機構 • 24 ’開始旋轉夾具20對虛設晶圓Μ之旋轉虛設晶圓 Μ的旋轉速度提高至例如5〇〇rpm。此外，對第i切換闕 籲41與第2切換閥45進行切換控制，藉此在第j回收/廢 液路徑38中流通的液體便被導引於第i分支廢液路徑4〇 中’同時在第2回收/廢液路徑42中流通的液體被導引於 ，第2分支廢液路徑44中。利用純水施行回收杯2〇〇之洗 淨係依照第5空間19卜第6空間192、第7空間193及 外構成構件112外面的順序實施。控制外構成構件升降機 構162 ’使外構成構件112上升，而如圖8(a)所示，在外 構成構件112的上端部112b、與第2導引部148的上端 部〗48b之間，與虛設晶圓w端面相對向。 96148388 40 1^63393 若虛設晶圓DW的旋轉速度到達500rpm，便從純水喷嘴 52朝虛设晶圓DW表面的旋轉中心供應純水。對虛設晶圓 DW表面所供應的純水，由於虛設晶圓Μ旋轉之離心力， 而朝虛設晶圓DW周緣流動，並從虛設晶圓DW周緣朝側邊 濺散。從虛設晶圓DW周緣朝側邊濺散的純水，可飛入於 中構成構件111與外構成構件112之間。然後，該經飛入 的純水，在中構成構件外面、與外構成構件112内面 鲁上流動並收集於外側回收溝152中，再從該外侧回收溝 152輸送給第丨回收/廢液路徑38。藉此，外構成構件Η? 的内面中構成構件1 Π的外面、及外侧回收溝15 2 (即 第5空間191的内壁），便由純水洗淨。此外，藉由第工 切換閥41的切換’在第！回收/廢液路徑⑽中流通的液 體，便被導引於第1分支廢液路徑40，因此在第i回收/ 廢液路徑38中流通的純水，便經由帛j分支廢液路徑4〇 被導引於未圖示廢液處理設備中。 •若經過預定的純水洗淨時間（例如5秒鐘〜60秒鐘），便 控制中構成構件升降機構161 ,使中構成構件lu上升， 便如圖8(b)所示，在第2導引部148的上端部咖、與 第1導引部125的上端部125b之間，與虛設晶圓以端： 相對向。從旋轉狀態虛設晶圓Dw的周緣朝側邊濺散之 水，飛入於内構成構件11〇的第丨導引部125、與、 構件111的第2導引部148之間、經飛人於第 ⑵與第2導引部148之間的純水，在第2導引部14= 面或第1導引部125外面上流動，並收集於内側回收溝 96148388 1363393 ‘ 127中，再從該内側回收溝127輸送給第2回收/廢液路 徑42。藉此’第2導引部148的内面、第i導引部125 的外面、及内側回收溝127(即第6空間192的内壁），便 由純水洗淨。此外，藉由第2切換閥45的切換，在第2 回收/廢液路徑42中流通的液體，被導引於第2分支廢液 路禮44中，因此在第2回收/廢液路徑42中流通的純水， 經由第2分支廢液路徑44被導引於未圖示廢液處理設備 中。 °又 ® 當經過預定的純水洗淨時間後（例如5秒鐘〜6〇秒鐘）， 便控制内構成構件升降機構160，使内構成構件11〇上 升，便如圖8(c)所示’在第】導引部125的上端部12此、 與内壁部123的上端部之間，與虛設晶圓Dw端面相對向。 從旋轉狀態虛設晶圓DW的周緣朝侧邊濺散之純水，飛入 •於内壁部123與第i導引部125之間。經飛入於内壁部 123與第1導引部125之間的純水，在第！導引部m内 •面上流動並收集於廢液溝126中，再從廢液溝126輸送於 廢液路徑128 ^藉此，第！導引部125的内面、及廢液溝 126(即第7空間193的内壁），便由純水洗淨。經輸送入 廢液路徑128中的純水將被導引於未圖示廢液處理設備 中。 當經過預定的純水洗淨時間後（例如5秒鐘〜6〇秒鐘）， 便如步驟T15，停止對虛設晶圓Dw的純水供應。 然後，對内構成構件升降機構16〇與中構成構件升降機 構161控制，使内構成構件11〇與中構成構件11丨下降， 96148388 42 1363393 便如圖8(a)所示，在外構成構件112的上端部丨丨扎、斑 第2導引部148的上端部148b之間，與虛設晶圓dw端面 相對向。 在該狀態下，從第1藥液喷嘴50朝虛設晶圓DW的旋轉 中心供應第i藥液。對虛設晶圓DW表面所供應的第 由於虛設晶圓DW旋轉之離心力，朝虛設晶圓Dw周緣 流動’並從虛設晶圓DW周緣朝侧邊賤散。從虛設晶圓μ 周緣朝側邊濺散的第i藥液，飛入於中構成構件⑴盘外 =構件m之間。然、後，胃飛人的藥液，在中構成 =件iu外面與外構成構件112内面上流動，並收集於外 貝，回收溝152 t，再從該外側回收溝152冑送給第i回收 /廢液路徑38。藉此，外構成槿株〗 件⑴的外面、及外侧回收==内面、中構成構 ...^ M J 口收，冓152便由第1藥液洗淨。此 外’猎由第1切換閥41的切 ⑽中流通的液體，被導⑽第；八在 =回收/廢液路徑 L, ^ ^ 守刃於第1分支廢液路徑40中，因 古^ 1回收/廢液路徑38中流通的第！藥液經由第i分 支廢液路徑40被導引於未圖示廢液處理設備中。 當經過預定的第1藥液洪每卩主卩日μ, 鐘），便如❹ Λ 1後（例如5秒鐘〜60秒 卜 Ψ對虛設晶圓Μ的第1藥液供岸。 上::後;控制中構成構件升降機㈣1，使中構成構二 上升’圖8⑻所示，在第2導引部 導引部125的上端部_之間，與虛二 圓筒的端面相對向。 亚》又日3 -狀先、下從第2藥液噴嘴51朝虛設晶圓⑽的旋轉 96148388 43 1363393 中心供應第2藥液。從旋轉狀態虛設晶圓Dw的周緣朝側 邊濺散的第2藥液，飛入於内構成構件11〇的第丨導引部 125、與中構成構件U1的第2導引部ι48之間。經飛入 於第1導引部125與第2導引部148之間的第2藥液，在 第2導引部148的内面、或第i導引部125的外面上流動， 並收集於内侧回收溝127中，再從該内侧回收溝127輸送 給第2回收/廢液路徑42。藉此，第2導引部148的内面、 第1導引部125的外面、及内侧回收溝丄27便由第2藥液 洗淨。此外，藉由第2切換閥45的切換，在苐2回收/ 廢液路徑42中流通的液體，被導引於第2分支廢液路徑 44中，因此在第2回收/廢液路徑42中流通的第2藥液， 便經由第2分支廢液路徑44被導引於未圖示廢液處 備中。 < ▲當經過預定的第2藥液洗淨時間後（例如5秒鐘〜6〇秒 鐘），便如步驟T24’停止對虛設晶圓Dw的第2藥液供應。 然後’驅動中構成構件升降機構161與外構成構件升^ 機構162，使中構成構件⑴與外構成構件⑴下降 1導引部125的上端部125b、第2導引部148 148b、及外構成構件112的上端部im，便被配置於較 由旋轉失具20所保持晶圓w更靠下方處（參照圖 外，如步驟T27所示，對第j切換閥41與第2切 制，藉此’在第】回收/廢液路徑3" :被導引於第〗分支回收路徑3”，同時在第2回收體 廢液路徑42中流通的液體被導引於第2分支回收路後心 96148388 44 I363393 中。 然後，經使用完畢的虛設晶圓DW便由搬送機器人i6

出於處理單元7外，並收容於虛設晶圓保持台i5上的晶 盒C2中。M 如上述’根攄該第2實施形態，第5〜第7空間i9卜丨92、 193的内壁、及外構成構件112的外面，便由純水、第^ 藥液或第2藥液洗淨。藉此，便可將在各空間191、192、 193的内壁、與外構成構件112的外面上所附著的附著 物、與該附著物的結晶去除，因此便可抑制粒子的發生。 再者，第5空間191與第6空間192的内壁洗淨所X使用 之純水，從第5空間191與第6空間192分別被導引於第 刀支廢液路瓜40與第2分支廢液路徑44中而作為廢 因此’在第1分支回收路徑39與第2分支回收路徑 、3中便幾乎不會發生回收杯洗淨用純水混入的情形。所 二即使將第5空間191與第6空間192的内壁使用純水 ::仃洗淨’在從第i藥液噴嘴5〇朝晶圓界所供應的第1 ，液中、以及從第2藥液喷嘴51朝晶圓w所供應的第2 樂液中，幾乎不會發生回收杯洗淨用純水混人的情形。 更進步，經使用純水對第5空間！ 91與第6空間 的内壁洗淨後，第5办門1〇1 t ^ 別使用第！藥液H工二i1與第6空間192的内壁便分 . 、〃、第2樂液進行洗淨。因此，經純水洗淨· 俊’在第5空間1 q丨盘楚# Bn 八刖士结并 1 〇第6空間192的内壁上附著的純水， 抑制或防业洗掉。藉此，便可更確實地 弟樂液噴嘴50朝晶圓W所供應的第^ 96148388 45 1363393 藥液、以及從第2藥液喷嘴51朝晶圓 — 液中’發生回枚杯洗淨用純水混入情形。’、’、、、第2藥 以上係針對本發明的2個實_態進 亦可以其他形態實施β 兄月准本發明 前述第1實施形態（圖2之實施形態）中， 夾具20的旋轉速度，俾使在’支更旋轉 ^ 仰ύυ内的純水、筮1 Μ 2藥液所到達位置不同的構造進行說明但是亦； 内二罩32±下移動’而使在回收杯30 内I屯水、41樂液及第2藥液所到達位置不同。 再^前述2個實施形態中，在對晶圓w施行藥液處理 的藥杯30、200施行回收杯洗淨時，均使用共通 ，樂二喷嘴50、51進行第i藥液與第2藥液的供應，但 =在樂液處理時與回收杯洗淨時，亦可使用個別的藥液 噴嘴進行第1藥液與第2藥液的供應。 更進-步’前述2個實施形態中，針對使用純水對回收 杯30、200施行洗淨為例進行說明’惟，洗淨液亦可使用 除純水以外物。此情況，除純水喷嘴52之外，亦必需設 置用以供應洗淨液用的洗淨液喷嘴。 ★再，，前述2個實施形態中，就對晶圓w之第丨藥液與 弟藥液處理母元成1批次時便施行回收杯3 0、2 0 0之洗 淨處理的情況進行說明，惟並不僅倡限於此，亦可例如在 1批次開始前，便施行回收杯30、200的洗淨處理，亦可 在1批次開始前與開始後均施行回收杯30、2〇〇的洗淨處 理此外，並不僅侷限於1批次的前後，亦可例如每J日 96148388 46 1363393 知行1次、或依預定時間區段施行。 .曰曰=-步，前述2個實施形態中，針對將用以保持虛設 •日日圓DW用的虚设晶圓保持台15，配置於搬送室 ·· 2進行說明，惟，虛設晶圓保持台15的配置位置並不僅 * 限於此，亦可例如配置於任一處理單元7〜1〇的上方。 ^者，亦可並非對由旋轉夾具2〇保持的虛設晶圓 而疋對旋轉夾具2〇的平坦旋轉基座22供應純水、第】藥 φ液或第2藥液’並使從旋轉基座22周緣濺散的純水、第 1藥液或第2藥液進入各空間9卜93、95、97、191、192、 193中’藉此將各空間的内壁洗淨。 、又，刖述2個實施形態中，舉多層回收杯3〇、2〇〇為例 進行說明，惟本發明亦可適用於由單杯構成的回收杯。 針對本發明的實施形態進行詳細說明，惟該等只不過是 明白本發明技術内容而採用的具體例而已，本發明不可解 釋為僅限疋於該等具體例，本發明的精神與範圍係由所附 鲁的申請專利範圍限定。 β本申請案係對應於2006年12月19日對曰本特許廳所 提出的特願2006-341460號，該申請之全揭示經引用編入 於此。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明一實施形態的基板處理裝置佈局之圖解 俯視圖。 圖2為處理單元的内部構造例之圖解剖視圖。 圖3為圖1所示基板處理裝置的控制系統構造之說明方 96148388 47 1363393 塊圖。 圖4為在圖2處理單元中施行的處理例之說明流程圖。 圖5(a)至5(e)為基板（晶圓）處理時之旋轉夾具與回收 杯的動作情況之圖解刮視圖。 圖6為回收杯洗淨處理流程的流程圖。 圖7為另一實施形態的基板處理裝置中之處理單元構 造例的圖解剖視圖。 圖8(a)至8(c)為由另一實施形態的基板處理裝置施行 板（aa圓）處理時之旋轉夾具與回收杯的動作情況之圖 解剖視圖。 【主要元件符號說明】 丄 索引器部 2 基板處理部 3 晶盒保持部 4 直線搬送路徑 5 索引器機器人 6 搬送室 7〜10 處理單元 11-14 流體箱 15 虛設晶圓保持台 16 搬送機器人 17 處理室 20 旋轉夾具 21 旋轉軸 96148388 48 1363393 22 旋轉基座 23 夾持構件 24 夾具旋轉驅動機構 25b 上端部 30 回收杯 31 杯 32 防濺罩 33 排氣液溝 34 第1回收溝 35 第2回收溝 36 廢液溝 37 排氣液路徑 38 第1回收/廢液路徑 39 第1分支回收路徑 40 第1分支廢液路徑 41 第1切換閥 42 第2回收/廢液路徑 43. 第2分支回收路徑 44 第2分支廢液路徑 45 第2切換閥 46 廢液路徑 50 第1藥液喷嘴 51 第2藥液喷嘴 52 純水噴嘴 96148388 49 1363393 53 第1機械臂 54 機械臂支撐轴 55 第1機械臂驅動機構 56 第1藥液供應源 57 第1藥液供應路徑 58 第1藥液閥 59 第1藥液槽 60 藥液泵 61 第2藥液供應源 62 第2藥液供應路徑 63 第2藥液閥 64 第2藥液槽 65 藥液泵 66 第2機械臂 67 機械臂支撐軸 68 第2機械臂驅動機構 69 純水供應路徑 70 純水閥 71-74 傘狀構件 77 傾斜部 78 廢液導引部 79 圓筒部 80 圓筒部 81 連結部 96148388 50 傾斜部 圓筒部 圓筒部 傾斜部 圓筒部 傾斜部 凸緣狀構件 圓筒部 第1空間 第1開口部 第2空間 第2開口部 第3空間 第3開口部 第4空間 第4開口部 内構成構件 中構成構件 外構成構件 下端部 上端部 底部 内壁部 外壁部 51 1363393

125 第1導引部 125b 上端部 126 廢液溝 127 内側回收溝 128 廢液路徑 148 第2導引部 148a 下端部 148b 上端部 149 底部 150 内壁部 151 外壁部 152 外側回收溝 160 内構成構件升降機構 161 中構成構件升降機構 162 外構成構件升降機構 191 第5空間 192 第6空間 193 第7空間 200 回收杯 Cl ' C2 晶盒 DW 虛没晶圓 W 晶圓 96148388 52

Claims (1)

1363393 ' AUG 1 9 2011 - 十、申請專利範圍： 替換本 1. 一種回收杯洗淨方法，係將回收杯洗淨的方法，玆回 收杯係具有將引導基板處理所使用藥液的回收空間^以 區隔的内壁，並為了將經導入該回收空間的藥液進行回收 而導入於既定藥液回收路徑； 其包括有： 洗淨液洗淨步驟，將上述回收空間的内壁使用洗淨液施 行洗淨； & - 藥液洗淨步驟，在該洗淨液洗淨步驟後，將上述回收空 間的内壁，使用與應經由上述回收空間而回收的上述藥$ 為同種類之洗淨用藥液來洗淨；以及 廢棄步驟，將在上述洗淨液洗淨步驟中被導入於上述回 收空間的洗淨液、及在上述藥液洗淨步驟中被導入於上述 回收空間的洗淨用藥液，導入於和上述藥液回收路徑不同 的廢液路徑，並進行廢棄； 上述回收空間係被配置成包圍用以將基板保持並旋轉 的基板旋轉單元周圍， 上述方法更包括有：與上述洗淨液洗淨步驟及上述藥液 洗淨步驟並行地使上述基板旋轉單元作動之基板旋轉單 元作動步驟； 上述洗淨液洗淨步驟包括有：對上述基板旋轉單元供應 洗淨液的洗淨液供應步驟； 上述藥液洗淨步驟包括有：對上述基板旋轉單元供應洗 淨用藥液的藥液供應步驟。 96148388 53 1363393 2.如申請專利範圍第1 ^ 上述芙板旌M — 、 σ收杯洗淨方法，其中， 所保持的虛設基板旋轉之步驟， 4基板㈣早兀 上述洗淨液供應步驟包括有 供應洗淨液的步驟； 述敖轉令的虛設基板 上述藥液供應步驟包括有 應洗淨用藥液的步驟。對上·轉中的虛設基板供 專利範圍第1項之回收杯洗淨方法，其中， 單元元作動步驟包括有:變更上述基板旋轉 I疋之作動逮度的作動速度變更步驟。 .二=專利範圍第1至3項中任-項之回收杯洗淨方 = :與上述洗淨液洗淨步驟及上述藥 驟中至少其中一者並行實施，使上述基板旋轉單 收杯’朝由上述基板旋轉單元旋轉的基板旋轉 軸線之平行方向相對移動的移動步驟。 5· —種基板處理裝置，係具備有： 藥液供應單元，對基板供應藥液； 回收杯，具有將導引基板處理所使㈣液的回收空間予 以區隔之内壁； 藥液回收路徑，將導入於上述回收空間的藥液回收； 廢液路徑，將導入於上述回收空間的液體廢棄； 切換早7L，將導入於上述回收空間的液體選擇性的導 入於上述藥液回收路徑與上述廢液路徑； 洗淨液供應單元，供應用以將上述回收空間的内壁洗淨 96148388 54 的洗淨液； 3W用㈣供應單元’在利用該洗淨液供應單元 二口收空間的内壁供應洗淨液之後，將與應經由上述回 二間而回收的上述藥液為同種類的洗淨用藥液，供應予^ 述回收空間的内壁；以及 〜予上 基板旋轉單元，用以保持基板並使其旋轉； 藥==單元係包括有:朝上述基板旋轉單元供應 上述洗淨液供應單元係包括有：朝上述基板旋轉單元 應洗淨液的洗淨液喷嘴 _上述洗淨用藥液供應單元係包括有：朝上述基板旋轉單 元供應洗淨用藥液的洗淨用藥液喷嘴； 亚且包含控制單元’將上述切換單元控制成當上述藥液 喷嘴朝向上述基板旋轉單元供應藥液時，便將經導入於上 述回收空間的藥液導向於上述藥液回收路徑中，另一方 面’當上述洗淨液喷嘴朝向上述基板旋轉單元供應洗淨液 時，以<及當+上述洗淨用藥液喷嘴朝向上述基板旋轉單元供 應洗淨用藥液時，便將經導人於上述回收空間的液體導入 於上述廢液路徑。 6. 如申凊專利範圍第5項之基板處理裝置，其中，上述 藥液供應單元係兼用為上述洗淨用藥液供應單元。 7, 如申請專利範圍第5或6項之基板處理裝置，其中， 上述基板旋轉單元與上述回收杯係被收容於處理室内， 在上述處理室的外部係設置有用以保持虛設基板用的 96148388 55 1363393 虛設基板保持部，而該虛設基板係可由上述基板旋轉單元 保持。 96148388 56