KR102284934B1 - 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는, 기판에 대한 세정 공정이 진행되는 적어도 하나의 세정 챔버; 및 적어도 하나의 세정 챔버와 연결되어, 기판의 세정 시 발생되는 배기 물질을 종류대로 배기시키되 배기 물질의 종류에 따라 배기 물질을 배출시키는 복수 개의 배출구를 구비하는 물질 분리 유닛;을 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있다.

Description

배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치{Unit to separate exhausted material and apparatus to clean substrate having the same}
배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치가 개시된다. 보다 상세하게는, 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있는 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치가 개시된다.
반도체 소자 제조용 재료로서 광범위하게 사용되고 있는 웨이퍼는 단결정 실리콘 박판을 지칭한다. 이러한 웨이퍼(wafer)는, 단결정 실리콘 잉곳(ingot)을 웨이퍼 형태로 얇게 절단하는 슬라이싱 공정, 원하는 웨이퍼의 두께로 연마하면서 평탄도를 개선하는 래핑 공정(lapping), 웨이퍼 내부의 손상층 제거를 위한 식각 공정(etching), 표면 경면화 및 평탄도를 향상시키기 위한 폴리싱 공정(polishing), 웨이퍼 표면의 오염물질을 제거하기 위한 세정 공정(cleaning) 등의 단계를 거쳐 웨이퍼로 생산된다.
이러한 공정들을 거치는 동안 웨이퍼 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에, 반도체 제조시에는 웨이퍼 상에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 세정공정이 수행된다.
상기 세정공정을 위한 세정 방식은 크게 건식 세정 방식 및 습식(Wet) 세정 방식으로 구분될 수 있으며, 이 중에서 습식 세정 방식은 오염물들을 제거하기 위해서 일반적으로 산 또는 알칼리 등의 에칭액이나 순수(Deionized water)를 이용하게 된다. 웨이퍼의 습식 세정 방법은, 대표적으로 배치식 웨이퍼 세정 방법과 매엽식 웨이퍼 세정 방법으로 구분된다.
일반적으로, 매엽식 세정장치는 고속으로 회전시킨 웨이퍼 표면에 세정액을 분사함으로써, 웨이퍼의 회전에 의한 원심력과 세정액의 분사에 따른 압력을 이용하여 오염원을 제거하는 스핀 방식(spinning method)으로 세정이 진행된다.
여기서, 세정공정 동안 웨이퍼로 분사되어 웨이퍼 표면에서 비산하는 세정액은 챔버 측부의 회수컵으로 포집되어 회수되고, 세정공정 동안 발생하는 배기가스는 회수컵 내측에 구비된 배기부를 통해 챔버 외부로 배출된다.
그런데, 종래의 경우, 배기부가 2개의 배관을 갖는 구조를 가짐으로써, 세정액 중 예를 들면 산(ACID) 및 염기(ALKALY)는 같은 배관에서 배기되고, 솔벤트(SOLVENT)는 별도의 배관에서 배기되는 구조를 가짐으로써 기체의 혼합이 발생될 수 있다. 기체의 혼합을 방지하기 위해 별도의 공간에서 개별적인 파이프를 연결하여 배기시키는 구조를 취할 수도 있을 것이나 이 경우 구조가 복잡해지고 또한 공간을 많이 차지하는 등의 문제가 발생될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 목적은, 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있는 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 목적은, 각각의 세정 챔버에는 개별적인 배기 물질 분리부가 연결되고, 복수 개의 배기 물질 분리부에 대해 공통의 배기 물질 배출부가 적용됨으로써 배기 구조를 간소화시킬 수 있는 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는, 기판에 대한 세정 공정이 진행되는 적어도 하나의 세정 챔버; 및 상기 적어도 하나의 세정 챔버와 연결되어, 상기 기판의 세정 시 발생되는 배기 물질을 종류대로 배기시키되 상기 배기 물질의 종류에 따라 상기 배기 물질을 배출시키는 복수 개의 배출구를 구비하는 물질 분리 유닛;을 포함하며, 이러한 구성에 의해서, 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배기 물질 분리 유닛은, 상기 적어도 하나의 세정 챔버에 각각 연결되어 상기 적어도 하나의 세정 챔버로부터 상기 배기 물질이 유입되며, 상기 복수 개의 배출구가 각각 구비되는 적어도 하나의 배기 물질 분리부; 및 상기 적어도 하나의 배기 물질 분리부에 형성된 상기 복수 개의 배출구에 연통 가능하도록 상기 배기 물질 분리부에 연결되며, 상기 배기 물질을 종류대로 배출시키는 배기 물질 배출부를 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배기 물질 분리부는, 상기 세정 챔버에 연결되어 상기 배기 물질이 유입되는 유입 몸체를 포함하며, 상기 유입 몸체에는 상기 세정 챔버의 세정 공정 시 발생 가능한 상기 배기 물질의 종류에 해당하는 수만큼 상기 배출구가 구비되어 상기 배기 물질의 종류에 따라 개폐될 수 있다.
일측에 따르면, 상기 복수 개의 배출구는, 상기 배기 물질 중 산(ACID)를 배출하는 산 배출구; 상기 배기 물질 중 염기(ALKALY)를 배출하는 염기 배출구; 및 상기 배기 물질 중 솔벤트(SOLVENT)를 배출하는 솔벤트 배출구일 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배출구는 차단 상태 시 상기 유입 몸체의 벽과 일부 겹치도록 배치되며, 상기 배출구는 개방 상태 시 일방향으로 제자리 회동함으로써 상기 유입 몸체와 상기 배기 물질 배출부를 연통시킬 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배출구의 폭 및 너비는 상기 유입 몸체의 내측 폭 및 너비와 대응되어, 상기 배출구의 개방 시 상기 배출구는 상기 배기 물질 배출부 방향으로는 개방하고 상기 유입 몸체의 길이 방향으로는 차단할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배기 물질 배출부는, 상기 적어도 하나의 배기 물질 분리부에 각각 구비되는 상기 복수 개의 배출구의 수에 대응되는 복수 개의 배출관을 구비할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 적어도 하나의 세정 챔버는 복수 개의 세정 챔버이며, 상기 적어도 하나의 배기 물질 분리부는 상기 복수 개의 세정 챔버의 수에 대응되는 복수 개의 배기 물질 분리부이며, 상기 복수 개의 배기 물질 분리부는 상호 나란하게 배치되되 상기 복수 개의 배기 물질 분리부에 각각 구비되는 상기 복수 개의 배출구들의 위치가 상호 대응되도록 배치되며, 상기 배기 물질 배출부는 상기 복수 개의 배기 물질 분리부의 가로 방향으로 배치되되 상호 동일한 상기 배출구들이 연통 가능하도록 배치될 수 있다.
일측에 따르면, 상기 세정 챔버에서의 세정 공정 시 발생되는 상기 배기 물질의 종류를 감지하는 감지부; 및 상기 감지부의 감지 정보에 기초하여 상기 유입 몸체에 대한 상기 배출구의 개폐 및 개방 정도를 자동 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 배기 물질 분리 유닛은, 기판에 대한 공정이 진행되는 공정 챔버에 연결되어 상기 공정의 결과 발생되는 배기 물질을 배기시키는 배기 물질 분리 유닛으로서, 상기 공정 챔버에 연결되어 상기 배기 물질이 유입되며, 상기 배기 물질을 종류별로 배출시키기 위한 복수 개의 배출구가 구비되는 배기 물질 분리부; 및 상기 배기 물질 분리부에 형성된 상기 복수 개의 배출구에 연통 가능하도록 상기 배기 물질 분리부에 연결되며, 상기 배기 물질을 종류대로 배출시키는 배기 물질 배출부;를 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배기 물질 분리부는, 상기 공정 챔버에 연결되어 상기 배기 물질이 유입되며, 상기 유입 몸체에는 상기 공정 챔버의 공정 시 발생 가능한 상기 배기 물질의 종류에 해당하는 수만큼 상기 배출구가 구비되어 상기 배기 물질의 종류에 따라 개폐될 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배출구는 차단 상태 시 상기 유입 몸체의 벽과 일부 겹치도록 배치되며, 상기 배출구는 개방 상태 시 일방향으로 제자리 회동함으로써 상기 유입 몸체와 상기 배기 물질 배출부를 연통시킬 수 있다.
일측에 따르면, 상기 배기 물질 분리부는 복수 개 구비되며, 상기 배기 물질 분리부들은 상호 나란하게 배치되되 상기 배기 물질 분리부들에 각각 구비되는 상기 복수 개의 배출구들의 위치가 상호 대응되도록 배치되며, 상기 배기 물질 배출부는 상기 배기 물질 분리부들의 가로 방향으로 배치되되 상호 동일한 상기 배출구들이 연통 가능하도록 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 각각의 세정 챔버에는 개별적인 배기 물질 분리부가 연결되고, 복수 개의 배기 물질 분리부에 대해 공통의 배기 물질 배출부가 적용됨으로써 배기 구조를 간소화시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 물질 분리 유닛의 사시도이다.
도 3는 도 2의 배기 물질 분리 유닛의 부분 확대도이다.
도 4는 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 일 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 유입 몸체에 대해 배출구가 차단된 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 도 4에 도시된 유입 몸체에 대해 배출구가 개방된 상태를 도시한 도면이다.
도 7은 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 다른 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이다.
도 8은 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 또 다른 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
이에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는, 기판(W)이 수용되는 공간을 형성하며 기판(W)이 로딩되어 회전되는 스핀척(120)이 구비되는 세정 챔버(110)와, 세정액을 분사하는 노즐부(미도시)와, 개별 구동이 가능한 복수 개의 회수벽(131)을 구비함으로써 복수 개의 회수컵(131S)이 형성되는 회수부(130)와, 회수부(130)에 연결되어 세정액의 종류에 따라 구분하여 회수하는 세정액 배출부(150)와, 회수부(130)에 연결되어 산(ACID), 염기(ALKALY), 솔벤트(SOVENT)와 같은 배기 물질을 배기시키는 배기 물질 분리 유닛(200)을 포함할 수 있다.
여기서, 배기 물질 분리 유닛(200)은, 자세히 후술하겠지만, 간단한 구성에 의해서 배기 물질을 종류대로 분류할 수 있어 각 배기 물질 간의 혼합을 방지할 수 있다.
각각의 구성에 대해 설명하면, 먼저, 본 실시예의 세정 챔버(110)는, 기판(W)을 수용하여 세정 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 예를 들면, 세정 챔버(110)는 기판(W)의 둘레를 둘러싸는 보울(Bowl) 형태로 마련되며 기판(W)의 출입이 가능하도록 상방이 개방된 형상을 갖는다.
여기서, 세정 대상물인 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 기판(W)은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 유리와 같은 투명 기판일 수 있다. 또한, 기판(W)은 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 플레이트 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다. 기판(W)의 형상 및 크기에 따라 챔버(110) 및 스핀척(120)의 크기와 형상 역시 변경될 수 있다.
한편, 본 실시예의 노즐부(미도시)는, 도시하지는 않았지만, 기판(W)의 중앙 영역의 상부에서 기판(W)으로 세정액을 분사하는 부분으로서, 세정된 기판(W)의 세정면과 마주하도록 세정 챔버(110)의 출입구를 통해 세정 챔버(110) 내부로 인입된다.
또한, 세정 챔버(110) 내에는 기판(W)을 직접적으로 지지하는 스핀척(120)이 구비되는데, 이러한 스핀척(120)은 세정 챔버(110) 내에서 기판(W)을 지지한 상태로 회전할 수 있어 세정 공정을 수행할 수 있도록 한다. 자세히 후술하겠지만, 스핀척(120)은 세정 공정이 수행됨에 따라 기판(W)에 분사되는 세정액의 종류에 따라 회수컵(131S)들에 대한 상대적인 높이를 달리 하며, 따라서 여러 종류로 마련되는 세정액이 혼합되는 일 없이 원활하게 회수될 수 있도록 한다.
회수부(130)는, 회수벽(131)들이 각각 개별 구동할 수 있다. 예를 들면, 가장 상부의 회수컵(131S)에 세정액이 유입되는 경우, 가장 상부의 회수벽(131)을 제외한 나머지 2개의 회수벽(131)이 하방으로 이동함으로써 기판(W)의 높이와 가장 상부의 회수컵(131S)의 위치를 맞출 수 있으며, 따라서 기판(W)의 세정 시 발생되는 세정액 또는 배기 물질이 해당 회수컵(131S)으로 원활하게 이동될 수 있다.
회수부(130)는 회수컵(131S)과 연통된 회수 공간을 구비하며, 이 회수 공간과 세정액 배출부(150) 및 배기 물질 분리 유닛(200)이 연결되어, 세정액 배출부(150)를 통해 세정액을 종류대로 분류할 수 있음은 물론 배기 물질 분리 유닛(200)을 통해 배기 물질 역시 종류대로 분류할 수 있다.
한편, 전술한 것과 같이, 종래에는 산, 염기 및 솔벤트가 배기되는 경우, 산과 염기에 해당하는 배기 물질은 같은 배관에서 배기되고 솔벤트는 별도의 배관에서 배기되는 배관 구조를 가짐으로써 배기 시 배기 물질의 분류가 제대로 이루어지지 않는 한계가 있었다.
이에 본 실시예의 경우, 배기 물질의 혼합을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 구조를 간소화할 수 있는 배기 물질 분리 유닛(200)을 더 포함하는데, 이하에서는 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 물질 분리 유닛의 사시도이고, 도 3는 도 2의 배기 물질 분리 유닛의 부분 확대도이고, 도 4는 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 일 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이며, 도 5는 도 4에 도시된 유입 몸체에 대해 배출구가 차단된 상태를 도시한 도면이고, 도 6은 도 4에 도시된 유입 몸체에 대해 배출구가 개방된 상태를 도시한 도면이고, 도 7은 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 다른 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이며, 도 8은 도 3의 배기 물질 분리 유닛의 또 다른 작동을 설명하기 위해 단면 처리한 사시도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 실시예의 배기 물질 분리 유닛(200)은, 세정 챔버(11)의 회수부(130)와 연결되며 배기 물질이 개별로 배출될 수 있도록 개폐 가능한 복수 개의 배출구(215)를 구비한 배기 물질 분리부(210)와, 배기 물질 분리부(210)에 형성된 각각의 배출구(215)와 연통되어 배기 물질을 종류대로 배출시키는 배기 물질 배출부(230)를 포함할 수 있다.
도 2 및 도 3에 도시된 것처럼, 배기 물질 배출부(230)에 복수 개의 배기 물질 분리부(210)가 연결되는 구조를 가질 수 있다. 다시 말해, 배기 물질 분리부(210)는 각각 해당 세정 챔버(110)에 연결되는 구조를 가지며, 서로 평행하게 배치되는 복수 개의 배기 물질 분리부(210)에 가로 방향으로 배기 물질 배출부(230)가 연결될 수 있다.
본 실시예의 배기 물질 분리부(210)는, 전술한 것처럼 세정 챔버(110)의 회수부(130)와 연결되어 배기 물질이 유입되는 유입 몸체(211)와, 배기 물질의 종류에 해당하는 수만큼 유입 몸체(211)에 구비되어 배기 물질의 종류에 따라 개폐되는 복수 개의 배출구(215), 즉 본 실시예의 산 배출구(215a), 염기 배출구(215b), 솔벤트 배출구(215c)를 포함할 수 있다.
유입 몸체(211)로는 배기 물질의 종류에 상관 없이 배기 물질이 일단 유입되고, 유입되는 배기 물질의 종류에 따라 복수 개의 배출구(215) 중 해당 배출구(215)가 열리는 구조를 갖는 것이다.
먼저, 배출구(215)의 개폐 구조에 대해 도 4를 참조하여 설명하면, 가령 배기 물질 중 솔벤트가 유입 몸체(211)로 유입되는 경우, 가장 우측에 위치한 솔벤트 배출구(215c)가 개방된다. 산 배출구(215a), 염기 배출구(215b), 솔벤트 배출구(215c) 중 산 배출구(215a) 및 염기 배출구(215b)는 차단 상태를 유지하고, 솔벤트 배출구(215c)가 개방되는 것이다.
여기서 솔벤트 배출구(215c)의 개방 작동에 대해 설명하기로 한다. 도 5를 참조하면, 솔벤트 배출구(215c)는 유입 몸체(211)의 일벽(211a)과 수평 관계를 유지함으로써 차단 상태를 유지할 수 있다. 즉 유입 몸체(211)의 일벽(211a)과 이에 수평을 이루는 솔벤트 배출구(215c)의 일 부분이 겹치는 구조를 가짐으로써 유입 몸체(211)에 대해 솔벤트 배출구(215c)는 차단 상태를 가질 수 있는 것이다.
그런데, 가령, 도 4와 같이 솔벤트가 유입 몸체(211)로 유입되는 경우, 도 6에 도시된 것처럼, 솔벤트 배출구(215c)를 반시계 방향으로 회동시키면 솔벤트 배출구(215c)가 열리게 되고 솔벤트 배출구(215c)와 연통된 배기 물질 배출부(230)를 통해서 솔벤트가 배출될 수 있다.
이 때 개방된 솔벤트 배출구(215c)는 수직 방향으로 직립되는데, 직립 시 그 폭 및 너비가 유입 몸체(211)의 내측벽의 폭 및 너비에 대응됨으로써 솔벤트 배출구(215c)를 지나 솔벤트와 같은 배기 물질이 통과하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 솔벤트가 개방된 솔벤트 배출구(215c)의 영역으로만 흐를 수 있도록 하는 것이다.
도 3을 참조하여 부연하면, 배기 물질 배출부(230)는, 솔벤트 배출구(215c)와 연통되는 솔벤트 배출관(231c), 산 배출구(215a)와 연통되는 산 배출관(231a) 그리고 염기 배출구(215b)와 연통되는 염기 배출관(231b)을 구비하는데, 이들이 상호 평행한 방향으로 배치되는 구조를 갖는다.
도 2 및 도 3에 도시된 것처럼, 복수 개의 배기 물질 분리부(210)는 배기 물질 배출부(230)에 대해 가로 방향을 따라 복수 개 배치되는데, 복수 개의 배기 물질 분리부(210)에 각각 형성되는 배출구(215)들의 위치가 상호 대응됨으로써 배기 물질 배출부(230)는 배출관(231a, 231b, 231c)의 종류에 따라 해당 배기 물질만을 배출시킬 수 있다. 예를 들면, 복수 개의 배기 물질 분리부(210)의 솔벤트 배출구(215c)들은 배기 물질 배출부(230)의 솔벤트 배출관(231c)에 연통되는 구조를 가짐으로써 복수 개의 솔벤트 배출구(215c)를 통해 하나의 솔벤트 배출관(231c)으로 솔벤트를 배출시킬 수 있는 것이다.
한편, 도 7을 참조하면, 가령 배기 물질 중 염기가 유입 몸체(211)로 유입되는 경우, 중간에 위치한 염기 배출구(215b)가 개방된다. 산 배출구(215a), 염기 배출구(215b), 솔벤트 배출구(215c) 중 산 배출구(215a) 및 솔벤트 배출구(215c)는 차단 상태를 유지하고, 염기 배출구(215b)만 개방되는 것이다.
염기 배출구(215b)의 구조 및 작동 방법은 전술한 솔벤트 배출구(215c)와 실질적으로 동일하기 때문에 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.
한편, 도 8을 참조하면, 가령 배기 물질 중 산이 유입 몸체(211)로 유입되는 경우, 가장 좌측에 위치한 산 배출구(215a)가 개방된다. 산 배출구(215a), 염기 배출구(215b), 솔벤트 배출구(215c) 중 염기 배출구(215b) 및 솔벤트 배출구(215c)는 차단 상태를 유지하고, 산 배출구(215a)만 개방되는 것이다.
산 배출구(215a)의 구조 및 작동 방법은 전술한 솔벤트 배출구(215c)와 실질적으로 동일하기 때문에 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.
이하에서는 복수 개의 세정 챔버(110)에서 세정 공정이 이루어진 후 상호 다른 종류의 배기 물질을 배기하는 경우, 예를 들면, 하나의 세정 챔버(110)로부터는 산이 배기되고, 다른 하나의 세정 챔버(110)로는 염기가 배기되는 경우 배기 물질 분리 유닛(200)의 작동 구조에 대해 설명하기로 한다.
다시 도 3을 참조하면, 배기 물질 분리부(210) 중 아래에 위치된 배기 물질 분리부(210)는 배출구(215) 중 산 배출구(215a)가 개방되고 따라서 산 배출관(231a)을 통해 산이 배출될 수 있다. 한편, 위에 위치된 배기 물질 분리부(210)는 배출구(215) 중 염기 배출구(215b)가 개방되고 따라서 염기 배출관(231b)을 통해 염기가 배출될 수 있다.
이와 같이, 2개 또는 복수 개의 배기 물질 분리부(210)를 통해 동시에 배기 물질 배출부(230)로 각각의 해당 배기 물질을 배출할 수 있는데, 각각이 분리된 구조를 가짐으로써 각각의 배출관(231a, 231b, 231c)을 통해 해당 배기 물질만을 배출시킬 수 있다. 즉, 배기 물질이 혼합되는 것을 완전히 막을 수 있는 것이다.
한편, 본 실시예의 기판 세정 장치(100)는, 세정 챔버(110)에서의 세정 공정 시 발생되는 배기 물질의 종류를 감지하는 감지부(미도시)와, 감지부의 감지 정보에 기초하여 유입 몸체(211)에 대한 배출구(215)의 개폐 및 개방 정도를 자동 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함할 수 있다.
즉, 감지부는 세정 공정 후 발생되는 배기 물질의 종류를 감지하여 감지 정보를 제어부로 보내고, 제어부는 감지 정보에 기초하여 배기 물질 분리부(210)의 배출구(215)를 개방함으로써 배기 물질이 해당 배출구(215)를 통해 배기 물질 배출부(230)로 배출될 수 있도록 한다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 배기 물질 분리 유닛(200)이 배기 물질을 그 종류에 따라 배출시키는 배기 구조를 가짐으로써 배기 물질이 혼합되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.
또한, 각각의 세정 챔버(110)에는 개별적인 배기 물질 분리부(210)가 연결되고, 복수 개의 배기 물질 분리부(210)에 대해 공통의 배기 물질 배출부(230)가 적용됨으로써 배기 구조를 간소화시킬 수 있는 장점이 있다.
한편, 전술한 실시예에서는, 기판에 대한 세정 공정이 진행되는 기판 세정 장치에 배기 물질 분리 유닛이 적용되는 경우에 대해 상술하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 배기 물질을 발생시키는 다른 종류의 기판 처리 장치에 배기 물질 분리 유닛이 적용될 수 있음은 당연하다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 기판 세정 장치
200 : 배기 물질 분리 유닛
210 : 배기 물질 분리부
211 : 유입 몸체
215 : 배출구
230 : 배기 물질 배출부
231 : 배출관

Claims (13)

  1. 기판에 대한 세정 공정이 진행되는 적어도 하나의 세정 챔버; 및
    상기 세정 챔버와 연결되고, 상기 기판의 세정 시 발생하는 배기 물질을 종류에 따라 분류하여 배출하는 배기 물질 분리 유닛을 포함하고,
    상기 배기 물질 분리 유닛은,
    상기 세정 챔버와 연결되고, 상기 세정 챔버로부터 상기 배기 물질이 유입되는 유입 몸체와, 상기 유입 몸체에 구비되고 상기 배기 물질의 종류에 따라 개폐되는 복수의 배출구를 포함하는 배기 물질 분리부; 및
    상기 복수의 배출구 각각에 연통되도록, 상기 유입 몸체의 가로 방향을 따라 상기 복수의 배출구 각각의 위치에 대응되게 배치되고, 상기 배출구의 작동에 따라 상기 유입 몸체로 유입된 상기 배기 물질을 배출시키는 복수의 배기 물질 배출부를 포함하고,
    상기 배출구는 상기 유입 몸체 내에서 회전 작동됨으로써,
    차단 상태에서는 대응되는 상기 배기 물질 배출부를 폐쇄하도록 상기 유입 몸체의 벽과 일부 겹쳐지고, 개방 상태에서는 상기 유입 몸체의 길이 방향에 수직하게 직립됨으로써 대응되는 상기 배기 물질 배출부는 개방하고 상기 유입 몸체의 길이 방향으로의 배기 물질 이동은 차단하는, 기판 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유입 몸체에는 상기 세정 챔버의 세정 공정 시 발생 가능한 상기 배기 물질의 종류에 해당하는 수만큼 상기 배출구가 구비되어 상기 배기 물질의 종류에 따라 개폐되는 기판 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 복수 개의 배출구는,
    상기 배기 물질 중 산(ACID)를 배출하는 산 배출구;
    상기 배기 물질 중 염기(ALKALY)를 배출하는 염기 배출구; 및
    상기 배기 물질 중 솔벤트(SOLVENT)를 배출하는 솔벤트 배출구인 기판 세정 장치.
  5. 삭제
  6. 제3항에 있어서,
    상기 배출구의 폭 및 너비는 상기 유입 몸체의 내측 폭 및 너비와 대응되어, 상기 배출구의 개방 시 상기 배출구는 상기 배기 물질 배출부 방향으로는 개방하고 상기 유입 몸체의 길이 방향으로는 차단하는 기판 세정 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 배기 물질 배출부는,
    상기 적어도 하나의 배기 물질 분리부에 각각 구비되는 상기 복수 개의 배출구의 수에 대응되는 복수 개의 배출관을 구비하는 기판 세정 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 세정 챔버는 복수 개의 세정 챔버이며,
    상기 배기 물질 분리부는 상기 복수 개의 세정 챔버의 수에 대응되도록 복수 개로 구비되고,
    상기 복수 개의 배기 물질 분리부는 상호 나란하게 배치되되 상기 복수 개의 배기 물질 분리부에 각각 구비되는 상기 복수 개의 배출구들의 위치가 상호 대응되도록 배치되며,
    상기 배기 물질 배출부는 상기 복수 개의 배기 물질 분리부의 가로 방향으로 배치되되 상호 동일한 상기 배출구들이 연통 가능하도록 배치되는 기판 세정 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 세정 챔버에서의 세정 공정 시 발생되는 상기 배기 물질의 종류를 감지하는 감지부; 및
    상기 감지부의 감지 정보에 기초하여 상기 유입 몸체에 대한 상기 배출구의 개폐 및 개방 정도를 자동 제어하는 제어부를 더 포함하는 기판 세정 장치.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
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