TWI328142B - - Google Patents

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TWI328142B
TWI328142B TW095110566A TW95110566A TWI328142B TW I328142 B TWI328142 B TW I328142B TW 095110566 A TW095110566 A TW 095110566A TW 95110566 A TW95110566 A TW 95110566A TW I328142 B TWI328142 B TW I328142B
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TW
Taiwan
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photosensitive resin
weight
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film
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TW095110566A
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TW200705100A (en
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Kiwamu Tokuhisa
Kentaro Hayashi
Hironobu Kawasato
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Nippon Steel Chemical Co
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13281,42 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有新穎的含有含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂所成 物的感光性樹脂組成物,及使用其形成絕緣皮膜之電路基 板者。詳細而言’係有關適合於印刷配線板用光阻組成物 或形成其硬化膜之新穎的含有含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂的 感光性樹脂組成物,及使用其形成絕緣皮膜之電路基板者 【先前技術】 近年來’由於紫外線硬化型之感光性樹脂組成物的高 生產性、低公害性 '省能量性等各種原因,大量使用於塗 •料、黏著劑、光阻等廣範圍之領域。在印刷配線板加工領 域,焊劑光阻油墨等各種油墨方式之被覆材料,從已往之 網版印刷方式改變爲紫外線硬化型組成物。又,隨電子技 • 術之顯著進步而發展高密度化及輕量化,已往之剛性基板 亦以撓性基板替代。 通常使用油墨爲被覆材料時,硬化後之被覆材料的特 性,在剛性基板所使用之被覆材料中並不要求柔軟性;撓 性基板使用被覆材料時,爲顯現撓性基板之特性,要求被 覆材料之柔軟性更高者。 因此’特開7 — 2072 1 1號公報上有,含有環氧樹脂與 含不飽和基之單羧酸及羧酸酐的反應生成物之含不飽和基 的聚羧酸樹脂、與光聚合引發材料之硬化性感光材料的記 -6- (2) 1328142 \ 載。但是,如此之材料,不能確保充分的柔軟性或可動性 ,缺乏耐折性;又,加工後基板產生翹曲等不適之情況, 多方面要求其改善。因此,特開2004 - 294882號公報上有 ’以顯現低彈性之成份的矽氧烷聚醯胺爲主成份之組成物 的提案。如此之組成物,雖可減低加工後之基板翹曲,但 有高價、組成物之室溫儲存穩定性不良之問題。 專利文獻1 :特開平7-207211號公報 • 專利文獻2:特開2004 — 294882號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 本發明提供賦予硬化物可動性之感光性樹脂組成物, _ 同時以提供具有耐折性或彎曲性優越之柔軟性,於室溫下 - 之儲存穩定性優異、硬化或加工之際不必高溫處理之絕緣 皮膜爲目的。 [課題之解決手段] 本發明的工作同仁,爲解決上述課題,經深入探討不 斷硏究之結果發現,含有含具有特定之矽氧烷部位及不飽 和基之芳香族部位的聚醯胺酸樹脂所成之感光性樹脂組成 物,能解決上述課題’完成本發明。 即,本發明係一種感光性樹脂組成物,其特徵爲相對 於含有含: 下述式(1)所示之構成單位30〜9 5莫耳%、 (3) 1328142 式(2)所示之構成單位5〜7〇莫耳%、及 式(3)所示之構成單位0〜5〇莫耳%, 的矽氧烷之聚醯胺酸樹脂100重量份,配合卜2〇重量份之 光聚合引發劑作爲必要成份所成。 【化1】
(式中,Ar爲由芳香族四羧酸去除羧基之4 一價四錢酸 殘基;R!爲碳數1〜6之烷基或苯基;R2爲碳數2~6之伸院基 或伸苯基; <爲〇~1〇之數;R3爲2價之基或直鍵;R4爲 CH2 = CH- R6 —所示之基;R6爲直鍵、碳數1〜6之伸烷基或 伸苯基;R5爲由二胺化合物去除胺基之2價殘基;惟一般 式(1)及(2)中所含之二胺殘基者除外;又,m、η及〇爲各 構成單位之存在莫耳比,m爲0.3〜0.95、η爲0.05〜0.7及〇爲 -8- (4) 1328142 0〜0.5之範圍。還有,式(1)~ (3)中之Ar,可爲相同或相異 者)。 上述感光性樹脂組成物係’相對於含矽氧烷之聚醯胺 酸樹脂100重量份,配合卜20重量份之光聚合引發劑及 5〜60重量份之單官能或多官能的丙烯酸酯作爲必要成份所 成。 又,本發明,係將上述感光性樹脂組成物,溶解於溶 φ 劑所成之清漆狀感光性樹脂組成物。進而,本發明,係將 上述清漆狀感光性樹脂組成物,塗佈於基板薄膜上,經乾 燥所成之薄膜狀感光性樹脂組成物。又,本發明,係將上 述感光性樹脂組成物,塗佈於導體層經圖型化之電路基板 上形成皮膜後,進行曝光、顯像、硬化而得之形成負型絕 ' 緣皮膜的電路基板。 [發明之實施形態] • 詳細說明本發明如下。 本發明之含矽氧烷的聚醯胺酸樹脂,具有上述式(1) 及(2)所示之構成單位,以具有式(3)所示之構成單位爲佳 。式(1)、(2)及(3)中,^爲由芳香族四羧酸去除羧基之4 價四羧酸殘基’可分別爲相同或相異者,可爲兩種以上者 〇 式(〗)中’ Ri爲碳數1〜6之烷基或苯基;以碳數1〜2 之烷基爲佳;R2爲碳數2〜6之伸烷基或伸苯基;以碳數 2〜4之伸烷基佳;ί爲〇〜〗〇之數; < 之平均値以7〜10爲 -9- ' (5) 1328142 佳。樹脂中’式(1)所示之構成單位的存在量爲3〇〜9 5莫 耳%之範圍,較佳爲40〜90莫耳%,更佳爲50〜80莫耳% 〇 式(2)中,R3爲2價之基或直鍵,以選自直鍵,ch2、 C(CH3)2及S02之任一爲佳。尺4爲CH2 = CH~R6—所示之 基;R6爲直鍵、碳數1〜6之伸烷基或伸苯基;從反應性 之點而言’ R4以乙烯基爲佳。樹脂中,式(2)所示之構成 φ 單位的存在量爲5~70莫耳%之範圍,較佳爲5〜30莫耳% 〇 式(3)中’ 115爲2價之二胺殘基,並非式(1)及式(2)中 所含之二胺殘基。樹脂中,式(3)所示之構成單位的存在 量爲〇〜50莫耳之範圍,較佳爲5〜30莫耳%。 - 上述式(1)〜(3)所示之構成單位,係二胺與芳香族四羧 酸類反應而得之醯胺酸鍵結’其一部份可爲醯亞胺化。但 是,爲確保良好之鹼顯像性,其醯亞胺化率以未達30%爲 φ 佳。 式(1)~(3)中之Ar,爲由芳香族四羧酸去除四羧酸之4 價殘基;大多使用芳香族四羧酸二酐作爲芳香族四竣酸類 之故,藉由芳香族四羧酸二酐說明Ar之例。芳香族四羧 • 酸二酐,有如下之化合物。均苯四甲酸二酐、2,2',3, 3,_、2,3,3',4'—或 3,3,,4,4,一二苯甲酮四羧酸 一酐 '2,3’ 6’ 7—、1 > 2 ' 4 > 5 —、1’4’5’8—、1 ,2,6,7—或 1,2,5,6 -萘四羧酸二酐 '4 ’8 —二甲 其 _],2,3,5,6,7— 六氫萘一1,2,5,6-四羧酸二
-10- (6) 1328142 酐、2,6 —或 2,7—二氯萘—1,4,5,8_四羧酸二酐 、2’ 3,6’ 7 —(或 1,4’ 5,8—)四氯案一1’ 4,5’ 8 — (2,3,6,7—)四羧酸二酐、3,3,,4,4’—、2,2',3, 3·-或 2,3,3,,4'一聯苯四羧酸二酐、3,3",4,4"— 、2,3 ’ 3",4 ” —或2,2 ”,3,3 ” 一對—三聯苯四羧酸二 酐、2,2-雙(2,3—或3, 4一二羧基苯基)丙烷二酐 '雙 (2,3 —二羧基苯基)醚二酐、雙(2,3 —或3,4一二羧基 苯基)甲烷二酐、隹(2,3_或3,4—二羧基苯基)颯二酐 ' 1,1 一雙(2,3 —或3,4一二羧基苯基)乙烷二酐、2,3 ,8 > 9— 、3,4,9,10 — 、4,5,10,11—或 5,6,11 ,12—茈四羧酸二酐、1,2,7,8—、1,2,6,7—或 1 ,2’ 9,10 —菲四竣酸二酐、環戊院—1,2,3,4 —四殘 - 酸二酐、卩比曉一2,3,5’ 6 —四殘酸二酐、卩比略院—2,3 . ’ 4’ 5 —四殘酸二酐、唾吩_2,3’ 4,5~四殘酸二酐、 4 ’ V —氧代二苯二甲酸二酐。又,此等可一種或兩種以 φ 上混合使用。較佳爲均苯四甲酸酐、4,4,_氧代二苯甲 酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、聯苯四羧酸二肝、聯苯酸 四殘酸一酐等。此等之中’以一苯甲酮四殘酸二酐、聯苯 四羧酸二酐更佳。 式(3)中之Rs’爲由上述式(1)及(2)中所含之二胺化合 物除外的二胺化合物去除胺基之2價殘基;藉由以二胺化 合物說明Rs時,有下述之化合物 '對苯二胺、間苯二胺 、4, 4’一二胺基二苯基甲烷、4, 4·—二胺基苯基乙烷、4 ,4•一二胺基苯基酸、4, 4’-二(二胺基苯基)硫化物、4 -11 - (7) 1328142 ’ 4'—二(二胺基苯基)砸、1,5~二胺基萘、3,3_二甲 基一 4,4·—二胺基聯苯、5 —胺基—1一(41_胺基苯基)_ 1,3,3_三甲基茚滿、4,4'—二胺基苯甲醯苯胺、3,5 —二胺基_4·—三氟甲基苯甲酿苯胺、3,4,一二胺基二苯 基醚、2,7_二胺基芴、2,2 —雙(4 一胺基苯基)六氟丙 院、4,4'—亞甲基—雙(2 —氣苯胺)、2,2',5,5'—四氯 一4,4'—二胺基聯苯、2,2'—二氯一 4,4'—二胺基二甲 • 氧基聯苯、3,3'—二甲氧基一4,4’一二胺基聯苯、4,4· _二胺基_2’ 2·—雙(二氣甲基)聯苯、2,2_雙[4— (4_ 胺基苯氧基)苯基]丙烷、2’ 2 —雙[4一(4 一胺基苯氧基)苯 基]六氟丙院、1 ’ 4一雙(4 —胺基苯氧基)苯、4,4,一雙(4 -胺基苯氧基)聯苯、1,3'—雙(4一胺基苯氧基)苯、9,9 • —雙(4一胺基苯基)芴、4, 4’一(對—亞苯基異亞丙基)雙 - 苯胺、4’ 4'一(間一亞苯基異亞丙基)雙苯胺、2,2'_雙 [4 一(4 _胺基_2—三氟甲基)苯氧基]八氧聯苯、羥基胺基 • 聯苯等。 就本發明中所使用之含矽氧烷的聚醯胺酸樹脂製造方 法之一例說明如下。 首先’將芳香族酸二酐加入溶劑中予以溶解。將其攪 拌’同時在冰冷下於氮氣氣體環境中,徐徐加入含有兩種 以上矽氧烷二胺之二胺。其後藉由2〜8小時之攪拌進行反 應’即得含砂氧院之聚醯胺酸樹脂。以此方法所得之含矽 氧院的聚醒胺酸樹脂,爲聚合度相異之混合物。還有,將 二胺之添加方法改變等’可作爲無規聚合型或嵌段聚合型 -12- (8) 1328142 之聚醯胺酸樹脂。 進行上述反應之溶劑,可使用三乙二醇二甲醚、二乙 二醇二甲醚、二甲基乙醯胺、N_甲基吡咯烷酮等有機溶 劑或此等之混合溶劑。 酸二酐與二胺以大略等莫耳量加入爲佳。又,反應藉 由在室溫以下,較佳爲Ot附近進行,可不進行醯亞胺化 而聚合。藉由改變二胺與芳香族酸二酐之使用比例,可改 B 變聚合度。 如此而得之含矽氧烷的聚醯胺酸樹脂,與光聚合引發 劑混合即得感光性樹脂組成物。此含矽氧烷之聚醯胺酸樹 脂,可使用於要求硬化後亦具有可動性之柔軟性的用途, 適合爲感光性樹脂組成物中所使用的樹脂成份。又,側鏈 具有羧基之故,亦適合於以鹼水溶液顯像。 - 本發明之感光性樹脂組成物,以含矽氧烷之聚醯胺酸 樹脂與光聚合引發劑爲必要成份,因應需求可添加其他樹 • 脂、由丙烯酸酯等單體所成之樹脂成份(樹脂成份包含單 體)、增感劑、溶劑。藉由如此之組成物,不僅具有更優 越之作爲感光性樹脂組成物的特性,且擴大其用途。還有 ,加入溶劑成清漆狀之感光性樹脂組成物,雖稱爲清漆狀 之感光性樹脂組成物,在沒必要特別區分時,代表感光性 樹脂組成物。又,就各成份(溶劑除外)之配合量或配合比 例的說明中,係以不含溶劑之狀態加以說明。 調製感光性樹脂組成物之際,配合丙烯酸酯時,所使 用之單官能丙烯酸酯有,例如丙烯酸2 -乙基己基酯、丙 -13- (9) 1328142 烯酸2—羥基乙基酯、丙烯酸2—羥基丙基酯、2—羥基乙 基丙烯醯基磷酸酯、丙烯酸2—甲氧基乙氧基乙基酯、丙 燒酸2 -乙氧基乙氧基乙基酿、丙靖酸四氣糠基醋、丙燒 酸苯氧基乙基酯、丙烯酸異癸基酯、丙烯酸(十八)烷基酯 、丙烯酸(十二)烷基酯 '丙烯酸環氧丙基酯、丙烯酸烯丙 基酯、丙烯酸乙氧基酯、丙烯酸甲氧基酯' 丙烯酸N,N, -二甲基胺基乙基酯、丙烯酸苄基酯、2_羥基乙基丙烯 # 醯基磷酸酯'丙烯酸二環戊二烯基酯'丙烯酸二環戊二烯 乙氧基酯等。多官能丙烯酸酯有,丙烯酸二環戊烯基酯、 丙烯酸二環戊烯基氧乙基酯、1,3- 丁二醇二丙烯酸酯、 1 ’ 4一 丁二醇一丙烯酸酯、1,6— 丁二醇二丙烯酸酯、二 乙二醇一丙烯酸酯、季戊二醇二丙烯酸酯 '聚乙二醇200 - 二丙烯酸酯、聚乙二醇400二丙烯酸酯、聚乙二醇600二 - 丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯季戊二醇二丙烯酸酯、三乙 二醇二丙烯酸酯、雙(丙烯氧基乙氧基)雙酚A、雙(丙烯氧 9 基乙氧基)四溴雙酚A、三丙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基 丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三(2 —羥基乙基 )三聚異氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙 烯酸酯、二季戊四醇單羥基五丙烯酸酯等。本發明之感光 性樹脂組成物中,配合丙烯酸酯時,丙烯酸酯可使用一種 以上;相對於含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂1 00重量份,可添 加5〜60重量份,較佳爲10〜30重量份。 光聚合引發劑有,例如苯乙酮、2,2 —二甲氧基苯乙 酮 '對—二甲基胺基苯乙酮、米希勒酮 '二苯基乙二酮、 -14- 1328142 do) 、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基 醚、苯偶姻正丙醚、苯偶姻正丁基醚、苄基二甲基縮酮、 噻噸酮、2_氯噻噸酮、2 —甲基噻噸酮、2—羥基—2 —甲 基—1 一苯基—1—酮、1 一(4 —異丙基苯基)_2_羥基—2 一甲基丙烷_1_酮、甲基苯甲醯基甲酸酯' 1_羥基環己 基苯基酮等各種光聚合引發劑可使用。光聚合引發劑之較 佳使用量,相對於含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂100重量份, φ 爲1〜20重量份,更佳爲1〜10重量份。 又,亦適合配合增感劑,此情況,增感劑可使用二苯 甲酮等。增感劑,相對於含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂100重 量份,可添加0.01〜2重量份,較佳爲0.05〜0.5重量份。 本發明之感光性樹脂組成物,可藉由各種有機溶劑調 ' 整黏度等。所使用之較佳有機溶劑有,三乙二醇二甲醚、 - 二乙二醇二甲醚、二甲基乙醯胺、N—甲基吡略烷酮、丙 二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯或此等之混合溶劑。溶劑之 # 使用量,相對於感光性樹脂組成物之固形份1 00重量份, 以10〜2 00重量份之範圍爲佳。還有,含1〇重量%以上之 溶劑在常溫爲液狀的感光性樹脂組成物,稱爲清漆狀感光 性樹脂組成物。又,在製造聚醯胺酸樹脂之際,殘留使用 爲反應溶劑之有機溶劑時,以溶劑計算。 感光性樹脂組成物,可加入具有與環氧羧基反應之官 能基的成份,其添加量在不損及室溫儲存穩定性之範圍, 相對於感光性樹脂組成物100重量份,可添加未達10重 量份,較佳爲未達5重量份。 -15- (11) 1328142 又,感光性樹脂組成物中,因應需求在不損及焊劑光 阻之諸特性的範圍可添加酞菁綠、酞菁藍等眾所周知的顏 料。此情況顏料之較佳添加量,相對於感光性樹脂組成物 (固形份)爲1〜20重量%。進而,本發明之感光性樹脂組成 物中,因應需求可添加眾所周知的塡料,亦可應用爲感光 性塗料。 本發明之感光性樹脂組成物的固形份(包含單體,溶 φ 劑除外)之較佳組成如下。 含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂:50〜99wt%,較佳爲 6 0 〜9 0 w t %、 光聚合引發劑:1〜20wt%,較佳爲2〜20wt%、 增感劑:〇~2wt%,較佳爲0.05〜0.5wt%、 - 其他之樹脂,由丙烯酸酯等單體所成之樹脂成份: . 0~45wt%,較佳爲 10〜30wt%。 本發明之感光性樹脂組成物,在樹脂成份中以較佳之 • 上述比率配合上述各種添加物或溶劑,藉由均勻混合,可 顯現柔軟性及諸特性。又,可爲黏性液體、清漆狀、油墨 狀或將其塗佈於基材薄膜上經乾燥而得之薄膜狀等。 本發明之感光性樹脂組成物,可依通常之使用方法使 用;使用於配線基板(電路基板)時,可採用網版印刷機或 塗佈機直接塗佈於基板上至5~10 0yra之厚度,較佳爲 10〜4 Oyra之厚度。經塗佈之組成物,於50〜12 0°C予以適度 乾燥,其後採用形成所定之光罩圖型的光罩,進行選擇性 曝光,以鹼水溶液使未曝光部份顯像,可藉由於120〜200 -16- (12) 1328142 °C之溫度進行20〜120分鐘之熱處理而硬化。又,亦可採 用預先將感光性樹脂組成物形成薄膜狀,使其層壓於配線 基板之方法。由層壓所得之電路基板,可採用與上述同樣 之曝光、顯像、熱硬化的方法。 如此,由塗佈或層壓而得之配線基板/感光性樹脂層 所成的層合體,由於本發明之感光性樹脂組成物的柔軟性 優越之故,特別適合於撓性配線基板之加工使用。其他, φ 使用本發明之感光性樹脂組成物的配線基板,由於感光性 樹脂組成物之硬化物特性爲耐熱性、耐電鍍性、耐濕性等 的平衡良好之故,適合於要求此等特性之用途。 使本發明之感光性樹脂組成物形成薄膜狀感光性樹脂 組成物時,藉由將感光性樹脂組成物之溶液塗佈於預先經 ' 脫模處理的PET薄膜等基材上至5~100μιη之厚度,較佳 - 爲1〇〜50ym之厚度;於50〜210°C,較佳爲80〜14(TC進行 假乾燥,可形成薄膜狀感光性樹脂組成物。還有,使用薄 • 膜狀感光性樹脂組成物於配線基板時,一般採用層壓機在 配線基板上予以熱壓黏之方法,其情況之層壓溫度以 2 0~1 00 °C的範圍爲佳。本發明之矽氧烷改性聚醯胺酸樹脂 ,具有雙鍵與羧酸基類之故,以光或熱等進行聚合,形成 具有三維結構之硬化物,由於含矽氧烷單位可保持柔軟性 。藉此,與通常之感光性樹脂單獨或其混合物比較,可賦 予優越之耐熱性、耐濕性、耐電鍍性、可撓性。 本發明之薄膜狀感光性樹脂組成物,不僅微影特性優 越,硬化後具有適度的撓性,耐折性優異。其硬化薄膜之 -17- (13) 1328142 較佳彈性率範圍爲0.1〜lGPa,以0.2〜0.8GPa之範圍更佳 。薄膜之彈性率超過lGPa時,基板之翹曲嚴重,加工特 性降低;另一方面,未達O.IGPa時,耐熱性或強度有容 易下降之傾向。 [產業上利用性] 本發明之感光性樹脂組成物,儲存穩定性高,在使用 紫外線之電路加工後,能以稀鹼水溶液顯像,可在200°C 以下的低溫區域硬化之故,適合於撓性印刷配線板製造時 之焊劑光阻或電鍍光阻時。進而,其硬化物具有高柔軟性 、耐曲折性,彎曲性優越之故,適合使用爲要求此等柔軟 特性之撓性印刷配線板用光阻。 . 【實施方式】 就本發明之實施例具體說明如下。 # 首先,說明本發明所使用之含矽氧烷的聚醯胺酸樹脂 之合成例。 [合成例1 ] 在裝備氮氣注入管之反應器中,將二苯甲酮四殘酸二 酐(BTDA)102.2g溶解於二甲基乙酿胺460g,將反應器冰冷 。於其中加入式(2)之R3爲直鍵、對位爲胺基、間位爲乙 燃基之二胺的2,2’一一乙稀基—4,4'—二胺基聯苯i5〇g ;進而,在氮氣氣體環境下以1小時滴下式(1)中
-18- (14) 1328142 、R2爲(CH2)3、且 < 爲7〜8、數平均分子量約750之矽氧烷 二胺(東麗•陶康寧·西利控公司製,ΒΥ16— 853Χ)188.4§ 。滴下完成後,使反應器內之溫度恢復至室溫’藉由在氮 氣氣體環境下攪拌5小時,即得目標之含矽氧烷的聚醯胺 酸樹脂溶液。由GPC(聚苯乙烯標準品換算)之測定結果’ 所得含矽氧烷聚醯胺酸之數平均分子量:3.3x1 〇4、分子 量分佈:2.64。又,此含矽氧烷聚醯胺酸樹脂之二甲基乙 φ 醯胺溶液(樹脂濃度:40.4wt%)的25°C黏度,使用E型黏度 計測定之結果爲7 5 8 9 c P a * s。 [合成例2] 在裝備氮氣注入管之反應器中,將聯苯四羧酸二酐 • (BPDA) 93.3g溶解於二甲基乙醯胺450g,將反應器冰冷。於 . 其中加入上述2,2'-二乙烯基一4,4'-二胺基聯苯5.0g ; 進而,在氮氣氣體環境下以1小時滴下188.4g之BY — 16 — φ 853X。滴下完成後,使反應器內之溫度恢復至室溫,藉由 在氮氣氣體環境下攪拌5小時,即得含矽氧烷聚醯胺酸樹 脂溶液。 [合成例3] 在裝備氮氣注入管之反應器中,將BTDA 102.2g溶 解於二甲基乙醯胺4 5 0g ’將反應器冰冷。在氮氣氣體環境下 以1小時於其中滴下237.8g之BY — 16 — 853X。滴下完成後, 使反應器內之溫度恢復至室溫,藉由在氮氣氣體環境下攪拌 -19- (15) 1328142 5小時,即得含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液。 [合成例4]
在裝備氮氣注入管之反應器中,將BTDA 102.2g溶解於 二甲基乙醯胺460g,將反應器冰冷。於其中加入2,2^ —二 乙烯基一4,4’_二胺基聯苯15.0g、與二胺基二苯基醚 (DAPE)38.1g;進而,在氮氣氣體環境下以1小時滴下47.1g之 BY - 16 - 853X。滴下完成後,使反應器內之溫度恢復至室 溫’藉由在氮氣氣體環境下攪拌5小時,即得含矽氧烷聚酿 胺酸樹脂溶液。 [實施例1] ' 相對於合成例1所得之含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液(含 - 矽氧烷聚醯胺酸樹脂100重量份。以下均同),配合三羥甲 基丙烷三甲基丙烯酸酯(日本化藥公司製SR-350)30重量 • 份、光聚合引發劑(吉巴特殊化學品公司製CGI 124)5重量 份,將其塗佈於預先經脫模處理之PET薄膜上至乾燥後的 膜厚爲25pm;於110 °C乾燥10分鐘,形成薄膜狀感光性樹 脂組成物。薄膜狀感光性樹脂組成物之硬化後的彈性率爲 0.2GPa。還有,彈性率係使薄膜狀感光性樹月旨組成物曝光 、顯像 '硬化後,採用動態黏彈性測定裝置(D Μ A ),以基 本頻率1 1Hz測定時在室溫區域之E'(儲存彈性率)之値。 [實施例2] -20- (16) 1328142 除相對於合成例1所得之含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液 ,配合1分子中具有6個丙烯基之二季戊四醇六丙烯酸酯( 日本化學公司製DPHA)30重量份’替代三羥甲基丙烷三甲 基丙烯酸酯以外,與實施例1同樣進行’即得薄膜狀感光 性樹脂組成物。薄膜狀感光性樹脂組成物之硬化後的彈性 率爲 0.2GPa。
[實施例3] 相對於合成例2所得之含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液, 配合SR- 3 5 0(3 0重量份)、CGI 124(5重量份),將其塗佈 於預先經脫模處理之PET薄膜上,於ll〇°C乾燥10分鐘,形 成薄膜狀感光性樹脂組成物。薄膜狀感光性樹脂組成物之 硬化後的彈性率爲〇.3GPa。 [比較例1] # 除使用合成例3所得之含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液作 爲含矽氧烷聚醯胺酸樹脂以外,進行與實施例1同樣之配 合及薄膜化操作,形成薄膜狀感光性樹脂組成物。薄膜狀 感光性樹脂組成物組成物之硬化後的彈性率爲〇.〇8 GPa。 [比較例2 ] 除使用合成例4所得之含矽氧烷聚醯胺酸樹脂溶液作 爲含矽氧烷聚醯胺酸樹脂以外,進行與實施例1同樣之配 合及薄膜化操作,形成薄膜狀感光性樹脂組成物。薄膜狀
-21 - (17) 1328142 感光性樹脂組成物組成物之硬化後的彈性率爲1.2GPa。 就上述實施例及比較例所得之薄膜狀感光性樹脂組成 物,以下述之評估方法進行微影性能、顯像後之翹曲、耐 折性、室溫儲存穩定性之評估。配合比例與特性之評估結 果如表1所示。還有表中之部爲重量部。 微影性能,係以1%碳酸鈉水溶液評估直徑5〇〇pm之Via 能否解像。詳細而言,係將膜厚25ym之薄膜狀感光性樹脂 φ 組成物,以壓力IMPa、80°C之條件’藉由熱壓黏式滾筒 層壓機,層壓於撓性基板(新日鐵化學公司製耶斯帕內庫 斯:MCI 2 — 20 — 00 CEM)之銅箔面側。於其上使用評估用 光罩,藉由曝光機(哈依鐵庫公司製高壓水銀燈)進行約 4 0 0mJ之曝光。顯像係採用1%碳酸鈉水溶液,於30°C進行 * 150〜200秒鐘,以純水洗淨。表面無雜亂、直徑5 00um之 . Via可解像時爲〇,不能者爲X。 翹曲之評估係採用上述之撓性基板’藉由圓頂之高度 φ 予以評估。詳細而言,係以上述條件將膜厚2 5 u m之薄膜狀 感光性樹脂組成物層壓於上述撓性基板,經曝光、顯像’ 其後於160 t進行60分鐘硬化。將所得形成絕緣皮膜之撓 性基板剪切成40mm x40mm之形狀’測定頂之高度。圓頂 之高度未達5mm者爲〇,其以上者爲X。 耐折性試驗,係評估在1 80°之伸折試驗中至試片斷裂 止的次數。詳細而言,係以上述條件將膜厚25^之薄膜狀 感光性樹脂組成物層壓於厚度12^之銅箔(三井金屬礦山 公司製:3EC — III)之光澤面側,經曝光、顯像、硬化後 -22- (18) 1328142 ,藉由蝕刻完全去除銅箔。將所得薄膜硬化物剪切成寬 8 mm、長100mm,評估在180°之伸折試驗中至試片斷裂止的 次數。10次以上爲〇、未達10次者爲X。 儲存穩定性,係將薄膜狀感光性樹脂組成物,在23 t ,遮光下靜置2星期後,進行該微影之評估,微影性良好之 情況爲〇、不良之情況爲X。
[表1] 實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2 聚醯胺酸樹脂 合成例1 合成例1 合成例2 合成例3 合成例4 100重量份 100重量份 1〇〇重量份 100雷量份 100重量份 丙烯酸酯化合物 30重量份 30重量份 30重量份 30重量份 30重量份 (SR-350) (DPHA) (SR-350) (SR-350) (SR-350) 光引發劑(CGI124) 5重量份 5重量份 5重量份 5重量份 5重量份 微影性能 〇 〇 〇 X 〇 翹曲 〇 〇 〇 〇 X 耐折性 〇 〇 〇 〇 X 儲存穩定性 〇 〇 〇 X 〇 -23-

Claims (1)

  1. (1) 1328142 十、申請專利範圍 1. 一種感光性樹脂組成物,其特徵爲相對於含有矽 氧烷之含下述: 式(1)所不之構成單位30〜95莫耳:%、 式(2)所示之構成單位5〜70莫耳%、及 式(3)所示之構成單位0〜50莫写;%, 之聚酿胺酸樹脂100重量份,配合卜20重量份之光聚合引 發劑作爲必要成份所成。
    【化1】
    ⑶ HOOC _N W HV \C〇〇H Rs- II Ο 於此,Ar爲由芳香族四羧酸去除羧基之4價四殘酸殘 基;R,爲碳數之烷基或苯基;h爲碳數2〜6之伸院基或 伸苯基;< 爲〇〜10之數;R3爲2價之基或直鍵;R4爲 -24- (2) 1328142 CH2 = CH-R6—所示之基;R6爲直鍵、碳數1〜6之伸烷基或 伸苯基;R5爲由二胺化合物去除胺基之2價二胺殘基;惟 —般式(1)及(2)中所含之二胺殘基者除外;又’ m、n及0 爲各構成單位之存在莫耳比,m爲0.3 ~0.95、η爲0.05〜0.7 及0爲0〜0.5之範圍。 2. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物,其係 相對於含矽氧烷之聚醯胺酸樹脂100重量份,配合1~20重量 Β 份之光聚合引發劑、及5~60重量份之單官能或多官能丙烯 酸酯作爲必要成份所成。 3. —種清漆狀之感光性樹脂組成物,其特徵爲在申 請專利範圍第1或2項之感光性樹脂組成物中,加入溶劑所成 〇 < 4. 一種薄膜狀之感光性樹脂組成物,其特徵爲將申請 . 專利範圍第3項之清漆狀之感光性樹脂組成物,塗佈於基板 薄膜上經乾燥所成。 鲁 5.—種電路基板,其特徵爲將申請專利範圍第1至第3 項中任一項之感光性樹脂組成物,塗佈於導體層經圖型化之 電路基板上形成皮膜後,進行曝光、顯像、硬化而得之形成 負型絕緣皮膜之電路基板。 -25-
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