TWI327552B - Apparatus and method for transferring a glass substrate - Google Patents

Description

1327552 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ^本發明係關於一種用於傳送一基片之裴置及方法，且更特定言 之係關於一種用於藉由喷射氣體，使該玻璃基片被懸浮在空氣中來 傳送一玻璃基片之裝置及方法。 【先前技術】

一種顯示器件，亦被稱為資訊顯示器，係一用於視覺提供以各 種形式獲取、儲存、或傳輸之圖像（包括文字）之器件。由於顯示 器技術之新近發展，使得可能滿足用於該顯示器件之更大尺寸顯示 器面板之日益?長之需求，該顯示器件面板諸如液晶顯示器（LCD) 面板、電漿顯示器面板（PDP)、場致發射顯示器（FED)面板、以 及有機發光二極體（OLED)顯示器面板。從而，用於面板製造之玻 璃基片在長度與寬度上變得較大，而在厚度上變得較小。 -種用於傳送-玻璃基片之裝置姻來製造液晶顯示器面板與 有機發光二極體顯示器面板。圖丨為一圖解在一用於傳送一玻璃基 片之傳統裝置巾如何傳送-賴基;：;之視圖。在補統裝置中，$ 一電動機旋轉滾子1〇時，該玻璃基片被傳送，苴中該等滾子與其I =有像素陣列電路之該玻璃基片之下表面或該玻璃基片之^面 這使得一污染物將自該等滾子10傳送至該玻璃基片。 i子1G概供絲健支撐該麵基仏魏，因此與該 ^滚子接觸之該玻璃基狀區域達到最小。然而，如圖2所示 ^寸之該玻璃基片20之中部彎曲。利用該等滾子ι〇來支撐 =望令i片20之邊緣亦使得污染物將被傳送至該玻璃基片2〇。增加 ΐίΐί1G來支撐該玻璃基片2G之中部會增加自該等滾子傳送污 染物至該玻璃基片20之可能性。 【發明内容】 在發明之—目的係藉㈣射氣體，使該玻璃基片被懸浮 在二轧中來傳送一玻璃基片。 5 月广方面，本文提供一用於傳送一 ϋί ΐΣ片懸浮單元，用於藉由使得—氣體供給單元經由Ϊ 成於:情平板上之噴射孔噴射氣體來懸浮—基片於空氣中，以及 一里其局部地阻擋自該基㈣料元噴射之氣體。 牙=伽平板之翁孔可以辑形式湖。料細 一假想垂線成一特定角度傾斜。 、 "、 =障平板局部地阻擋該等噴概。該轉平板可在該喷射 板之上表面上活動。 、 猶璃基片被裝載入一外殼用於傳送。用於該玻璃基片之一出 口與-入口被分別提供至該外殼之兩側面。該玻璃基片可被傳送入 並收納於於該出口下方提供之一空間内。 一排出孔可被提供至該外殼。 水=導件與垂直導件可另外提供至該外殼内之一上部位置以防 止在傳送，程中該玻璃基片越過將遵循之一路徑。諸如塑膠或橡膠 之一緩衝器或滾子可被提供至該等導件之區域，其中該玻璃基片與 該區域接觸以防止於該玻璃基片上產生刮傷。 /、 一ί佈平板可另外提供至該外殼内之一下部位置。分佈孔以規 則間隔穿透該分佈平板。藉由該氣體供給單元供給之氣體經由該等 分佈孔均勻分佈。 根據本發明之另一方面，本文提供一種用於傳送一玻璃基片之 方法，其包含：藉由朝該玻璃基片之下表面喷射氣體來懸浮該玻璃 ，片於空氣中，藉由阻擋朝該玻璃基片之前方區域之下表面噴射之 氣體來使該玻璃基片之前方區域傾斜，以及向前移動阻擋該氣體之 位置。 結合附圖，從本發明之以下詳細描述，本發明之前述及其它目 的、特徵、方面及優點將更加顯而易見。 【實施方式】 現在詳細參考本發明之較佳具體實施例’其一實例於附圖中圖 解説明。 1327552 施例現在描述根據本發_於傳送—玻璃基片之—裝置之一具體實 ^3為-圖解根據本發明用於傳送一玻璃基片之 ^自^玻璃基片被傳送之方向來觀察。圖 ^

圖。圖5為根據本發明用於傳送-玻璃基片線二 贺射平板與一阻障平板之平面圖。 < K 包含所不據本發明用於傳送—玻璃基片之該裝置 =基片懸料兀’其中該基片懸浮單元包含—底部具 之外忒100、一氣體供給單元300、_ : ^ 地局部阻擋氣體之阻障平板23G。伽千板22G以及一可活動 該分佈平板210被©定至料殼⑽内之—下部位置 平反220於該外殼励峨固定至比該分佈平板21〇之更= 與該喷射平板相對於彼此等間隔地隔1 平板230被提供至該嘴射平板220之上表面 上可=儒平板之下表面下方、於該玻璃基片被傳送之方向 斗外殼100之下部。管112被連接至該漏 pf ϋ 在該玻璃基片被傳送之方向上相對於 彼此隔開。一排出孔120被提供至該外殼100 經由-管道3U)被連接至該氣體供給單元·。 112 =分佈孔212與喷射孔222分別穿透 =?=卜殼，之一空間藉由該分佈平請與該嘴射Ϊ 開。如Si戶;成一:該等育射孔222可相對於彼此等間隔地隔 開如圖5所=，該專贺射孔222垂直地穿透該喷射平板22〇。 站值不’該阻障平板23G在該噴射平板上方在該玻璃基片 ^ 向上可移動。與該分佈平板210與該噴射平板220不同， ^阻!^平板23〇林孔。鮮寬度相味，她軒十二。更不長门。 “阻&平板230係足夠寬的以便至少阻擋穿透該嘴射平板22〇之一 列或夕列噴射孔222。孔可穿透該阻障平板便局部地阻播該等 7

1射孔222。這樣減小了、但不會阻擋通過該等喷射孔222之氣體 =該阻障平板230料對該玻縣片之前方區域顧較小或無支 、=1力，到如此一程度以致該玻璃基片向前傾斜。該玻璃基片之傳 送要求該玻璃基片之前方區域向前傾斜。 該阻障平板23G藉由—市售線性電動機、—紐與小齒輪操縱 機構、或一滾珠螺旋驅動。

該氣體供給單元300經由該等管Π2與管道310將壓縮氣體供 斗11G與該分佈平板21Q之間—空間。該氣體包括諸如氮 氣，、氬氣之惰性氣體以及空氣。較佳地可使用空氣。該等管112以 :列之形式排列於該漏斗之底部中央，該列在垂直於該玻璃基片被 傳达之方向上。此結構妨礙經由該等管112導入之氣體在該外殼1〇〇 内均勻地分佈’尤其妨礙在垂直於該玻璃基片被傳送之方向上均句 地分佈。 該不均勻氣體分佈問題可藉由提供該分佈平板21〇來解決。 體在通過穿透該分佈平板21〇之分佈孔212之後，均勻地分佈於該 分佈平板210與該噴射平板22〇之間之空間内。該分佈孔212之尺 寸可比該喷射孔222之尺寸小’且該分佈孔212之數量可比該喷射 孔222之數量多。一列該等分佈孔212可面對鄰近列中該等分佈孔

212之間距離之中央排列。當該等分佈孔212離該等管較遠時，可增 加該等分佈孔之數量以確保氣體在該分佈平板21G與該 ^ 220之間之空間内均勻分佈。 、⑺卞攸 如圖3所示，該漏斗11〇具有一連接至該等管112之錐形底部。 此結構使魏m漏斗11G之—傾斜喊破動，目此在垂直於 該玻璃基片被傳送之方向上將規則氣體壓力施加至該分佈平板 之邊緣。 該外殼100圍繞該玻璃基片20周圍，以有助於施加一由該 射孔噴射之氣體產生之提升力至該玻璃基片2〇。一入口 142與一出 口 14^分別形成於該外殼之前側與該外殼之後側。一裝載單^與— 卸載單兀（未顯示）分別提供於該入口 142與該出口 144外面:該 1327552 玻璃基片分別經由該入口 142與該出口 144裝載入或卸載出該外殼 100。該玻璃基片可被傳送入並收納於該出口下方提供之一停留空間 如圖3所示，水平導件13〇h與垂直導件13如被固定地提供於 該外殼100内。該等水平導件130h被固定地提供以相對於彼此^開 一比待傳送之玻璃基片20之寬度大之距離。該等垂直導件13〇v被 固定地提供至tb該等水平導件膽更高之-位置，以相對於彼此隔 開比待傳送之該玻璃基片20之寬度更小之一距離。該等水平導件 隱之内側面與該等垂直導件13Gv之底部防止該玻璃基片在傳送 過程令越過將遵循之一路徑。一諸如塑膠或橡膠之緩衝器、或滾子 可提供至該等水平導件l30h之内側面與該等垂直導件13〇v之底 j，其中該玻璃基片與該緩衝器或滾子接觸以防止於該玻璃基片上 產生=傷。當該玻璃基片與導件接觸時，該滾子可旋轉。 至該1 卜⑥1〇0上部之該排出孔120排出藉由該氣體供給單 =V入之氣體’以調節該外殼100内之壓力。該排出孔12〇可 年連接至厂具有一泵與閥（未顯示）之排出裝置。 解該嘴射平板之另—具體實施例之視®。喷射孔孤， 二一預疋角度穿透喷射平板220,。這使得氣體以一傾 A片;為能」從而向前移動該玻璃基片，同時懸浮該玻璃 土夂:ί 。瞻障平板被提供為在該噴射平板220,上方可移動。 之裝^之^作。至圖7D，現在描述根據本發明用於傳送一玻璃基片 空間與該分佈平板210之間 分佈平板2触該ΐ射210之分佈孔212。此後，氣體在該 穿透該喷射平222之間ί間内流動。然後’氣體經由 由一機姑土 Ss _灸噴射孔222贺射。在此點，該玻璃基片20藉 中。爷穿葡奘署廿不）自該裝載單元（未顯示）被裝載入該外殼10〇 I其ϊίί 限於機械手’而包括與該機械手完成相同功能 9 1327,552 w ' 後，置於該玻璃基片2G前面之—適當位置。此 自穿透該喷射平板220 ===== 20，因此^癌装y t ·點纟於—向別移動力未施加至該玻璃基片 因此3亥玻璃基片20保持懸浮於空氣中。 d圖7B T，該阻障平板230在該玻璃基片20之前方 &域^移動’以阻播-列或多列穿透該噴射平板22〇之喷射孔

此今其I由^壓縮氣體未能施加至該玻璃基片之前方區域，因 巾㈣域向祕斜。崎，雜料板23G在藉由 上向前轉，耻向前傳賴_基片汾。 =壓縮氣體於空氣中懸浮該玻璃基片不會產生該玻璃基片與 二if平板之間之摩振力。因此，該玻璃基片20之前方區域之向前 玻璃基片之重量之結舍使得該玻璃基片2〇將以該傾斜角度 M 玻Ϊ基片向前移動與落下之趨勢使得該玻璃基 片20將—動。當該玻璃基片2()向前移動至—特定程度時，該 轉平板230亦向前移動並阻擋一列或多列該等喷射孔恐，以便再 次傾斜該玻璃基>{ 2G之前方區域。在此點，f經被阻擋之一列或多 列該等噴射孔重新開始噴射壓縮空氣以懸浮該玻璃基片2()之1餘區 進行。當該玻璃基片2〇之前方區域再次向前傾斜時， 使件該玻璃基片20以該傾斜角度再次向前移動。 玻璃基片2G連續向前傳送成為可能。 ㈣ 如圖7D所示’當該玻璃基片之前方區域到達該外殼ι〇〇上之出 口 144時，該阻障平板230在該停留空間15〇内移動。當該阻障平 板230在該停留空間150 _動時，其不能進一步阻擔任何喷 222。這使得到達該出口 144之玻璃基片將被懸浮於空氣中，而不傾 斜該玻璃基片之前方區域。該玻璃基片2〇將以恆定速度在一直線上 連續處於一運動狀態，並因此通過該出口 144，直至其達到停止。這 有助於提供於該出口 144外面之卸載單元自用於傳&一玻璃基片^ 1327552 裝置卸載該玻璃基片20。 當氣體壓力在該外殼100内波動時，在傳送過程中懸浮於_ 中的該玻璃基片2〇可越過傳送過程中將遵循之路徑 今广^ 20可自其預定特定路徑偏離至右邊、左邊、或'2邊今ί 其目的地，而不會使得自其預定路徑偏離。 ，、疋路仏至 3 - ΐίίΐ該玻璃基片2G於空氣中後，藉由該氣體供給單元供认 排出二 :;===士 ::= 關閉母該荨喷射孔或每一列該等噴射孔。 或 - 多個漏斗110可單獨地提供於該分佈平板210下面。每 二漏斗110可分別相應於該等噴射孔222之每一列提供 : 列八等222之氣體之流動可以該等嘴射孔' 222之每二 22(Γ穿透伽11 ’來親軸該噴射平板 排列。關ϋίΐί!孔222。在此實例中’該等嗔射器可以矩陣形式 以备-該Ϊ射平板220 ’該氣體之流動可以每一喷射器、或 之線切If11來控制。代替該等嘴射孔222，經由其通過氣體 線刀（切槽）可形成於該喷射平板22〇上。 ’、 之妒ϊϊίΓ月’由於該朗基片秘由與諸如—滾子之任何單元 送’因此可能防止該玻璃基片被顆粒污染。另外ί 賴料於錢巾，因此在傳送過财該玻璃基 體現_情況下’本發明可以幾種形式 非另外奴，上述具體實施例並不限於前2 神盘蔚n ❿應廣泛解釋為於附加申請專利細巾確定之精 因此落入申請專利範圍之邊界與範圍、或此』 ”乾圍之和貝物内之所有改變與修正將藉由附加申請專利範圍所包 11 含 【圖式簡單說明】 之括以ί供對本發明之進—步理解且被併入並構成此說明書 於絲該等附圖圖解本發明之具體實施例，並與該説明一起用 於解釋本發明之原理。 在該等圖式中： 一 ，1為一圖解在一用於傳送一玻璃基片之傳統裝置中如何傳送 一坡螭基片之視圖；

圖2為一圖解在另一用於傳送一玻璃基片之傳統裝置中滾子被 提供用來健支撐該玻璃基狀邊緣之截面圖； 圖3為一圖解根據本發明用於傳送一玻璃基片之裝置之正視 圖，其自該玻璃基片被傳送之方向來觀察； 圖4為一沿圖3之線1¥_1¥截取之截面圖； 圖5為一根據本發明用於傳送一玻璃基片之裝置之一喷射平板 與一阻障平板之平面圖； 圖6為一圖解該噴射平板之另一具體實施例之視圖；以及 圖7Α至7D為圖解在根據本發明用於傳送一玻璃基片之裝置中 如何傳送該玻璃基片之視圖。

【主要元件符號說明】 10 滾子 20 玻璃基片 100 外殼 110 漏斗 112 管 120 排出孔 130h 水平導件 130v 垂直導件 142 入口 144 出α 12 1327552 150 停留空間 210 分佈平板 212 分佈孔 220 喷射平板 220’ 喷射平板 222 喷射孔 222’ 喷射孔 230 阻障平板 300 氣體供給單元 310 管道

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Claims (1)

1. Γ327552 "........... ι-nr w '»"1*1-^.—^ 修正 # )辦日f⑵三替換頁丨 十、申請專利範圍： 1. 一種用於傳送一玻璃基片之裝置，其包括： 一基片懸浮單元，其藉由朝該玻璃基片之一下表面噴射氣體， 使該玻璃基片懸浮於空氣中；以及 、> 一阻障單元，其局部地阻擋藉由該基片懸浮單元喷射之氣體， 又於該玻璃基片前方區域的下方，以阻擋該基片懸浮單元噴射至 ^玻璃基片前方區域下表面的氣體，使該麵基片朝前方傾斜並向 則方移動，且該阻障單元隨該玻璃基片的移動 玻璃基片持續傾斜向前移動。 1人 2.如申請專利範圍第i項所述之用於傳送一玻 其中該基片懸浮單元包括： 一供給氣體之氣體供給單元；以及 出來 一具有複數個噴射孔之情平板’經由該等翁减體被喷射 〇 甘rb I 月專利範圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝置， 八中稷數個噴射孔以矩陣形式排列。 盆由申請專利範圍第2項所述之用於傳送—玻璃基片之裝置， /、中複數個賀射孔以一傾斜角度穿透該喷射平板。 盆由申口月專利範圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝置， 盆申請專利範圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝置’ /、中丄由_賀射氣體之複數個切槽穿透該噴射平板。 直中圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝置， 地阻該倾平板上可活動之阻障平板，其局部 盆、隹專利範圍* 7項所述之用於傳送一玻璃基片之褒置， /、 v L括一該玻璃在其中被傳送之外殼。 盆中9用範圍第8項所述之用於傳送—玻璃基片之裝置， /、中用於該趣基片之-人口與—出口分別被提供至該外殼之兩側 14 -η & Q ，丨 2010/03/24 補充、修正 ，=-用^該阻障平板之停留空間被提供於該出口下面。 晋l/月專利範圍第8項所述之用於傳送一玻璃基片之穿 置，其中斜殼具有-具有—排纽之上部。 IK裝 置，：中:申圍第8項所述之用於傳送-玻璃基片之裝 步提供至該外殼基定路徑水平偏離之水平導件被進一 置，f中圍第8項所述之用於傳送-玻璃基片之裝 步提供至該外殼 定路徑垂直偏離之垂直導件I 穿晋1利範圍第u或12項所述之用於傳送一玻璃基片之 ^底部Γ衝益被提供至該等水平導件之内側面與該等垂直導件 梦署14·甘H清專利1巳圍第11或12項所述之用於傳送一玻璃基片之 ’、滚子被提供至該等水平導件之内侧面與該等垂直導件之 愚邵。 罢1^士如申5月專利範圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝 ▲+正Γ —通過其穿透複數個分佈孔之分佈平板進一步提供至該噴 ’平板下方’明自地分佈藉由該氣舰給單元供給之氣體。、 如申明專利I巳圍第2項所述之用於傳送一玻璃基片之裝 ^二中該分佈孔之尺寸比該喷射孔之尺寸*，且該分佈孔之數 比該贺射孔之數量多。 里 一種用於傳送一玻璃基片之方法，其包括： 藉由朝該玻璃基片之下表面噴射氣體來懸浮該玻璃基片於空氣 中， 姑阻擔朝該玻璃基片之前方區域之一下表面喷射之氣體，使 該玻璃基片朝前方區域傾斜並向前移動；以及 向削移動阻擔氣體之位置’以持續阻擋喷射至該玻璃基片前方 ^域之下表面的氣體’使該玻璃基片不斷朝前方區域傾斜而向前移 動0 15