JP3183619U

JP3183619U - 傾斜式回路基板搬送装置

Info

Publication number: JP3183619U
Application number: JP2013001300U
Authority: JP
Inventors: 添達鍾; 寧呉; 永俊張; 延鴻楊; 怡然朱; 澤民羅; 東樺謝
Original assignee: 揚博科技股▲ふん▼有限公司
Priority date: 2013-03-11
Filing date: 2013-03-11
Publication date: 2013-05-30
Anticipated expiration: 2023-03-11

Abstract

【課題】空気圧によって被処理回路基板を浮上させると共に回路基板を傾斜させて搬送することにより、搬送過程で接触を回避する傾斜式回路基板搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送路に沿って配置され、空気供給孔が設けられたベース、該ベース両側で被処理回路基板６を搬送するローラ部材２、傾斜して搬送される被処理回路基板を傾斜の低い側で支持するアイドルローラ２２を具え、ベースの空気供給孔から噴出する空気圧により被処理回路基板を支持して加工領域に搬送する。
加工領域においてはその前後に配置された位置規制ローラセットにより上下から挟持して支持する。
【選択図】図３

Description

本考案は、回路基板にエッチング、洗浄などを行う加工装置に関し、特に、エッチング、洗浄などの作業を行うために回路基板を搬送するのに用いられる傾斜式回路基板搬送装置に関する。

一般に、従来のエッチング、洗浄などの加工を行うために回路基板を搬送するのに用いられる水平式の搬送装置上には、加工される回路基板が直接水平に載置される。また、搬送装置の横方向に間隔をあけて配列設置されたローラ軸が回転することにより、回路基板は、水平の経路上において前方に搬送され、水平の経路上を通過する際、エッチング、洗浄などの加工作業が行われる。

上述の従来の水平式の搬送装置が回路基板を搬送する際、複数のローラ軸に設置された複数のローラが回転することにより、回路基板が前方に搬送される。しかし、回路基板は、所定の重量を有する上、各ローラ軸間には、間隙を有するため、搬送過程中、回路基板の表面を完全に水平状態に保つことができない。即ち、回路基板が搬送される際、回路基板の前縁が重力の影響により、各ローラ間の間隙で下方に若干垂れ下がる。また、この際、後方のローラが回路基板を前方に押し続けるため、回路基板の辺縁がローラに当たって折り目ができたり、回路基板の辺縁が２つのローラ間に引き込まれ、所定の搬送経路を離脱したりし、回路基板の加工作業をスムーズに行うことができなくなったり、回路基板が損壊したりする虞がある。

本考案の考案者は、上述の従来技術の欠点に鑑み、研究を重ね、理論を運用し、上述の問題を合理的且つ有効に改善することができる傾斜式回路基板搬送装置を案出した。

特開２００３−８６５６６号公報

本考案の目的は、空気圧によって回路基板を浮上させて、回路基板を傾斜させて搬送することにより、回路基板を加工する過程において、不要な接触を回避することができる傾斜式回路基板搬送装置を提供することにある。

上述の課題を解決するために、本考案は、回路基板を搬送するのに用いられる傾斜式回路基板搬送装置を提供するものである。
本考案の傾斜式回路基板搬送装置は、ベース、複数のローラ部材及び空気供給ユニットから構成する。ベース上の長手空間により、回路基板が搬送される搬送経路が形成される。各ローラ部材は、搬送経路に沿ってベース上の傾斜の低い方の側辺に配列設置される。また、ベースは、搬送経路に対応する表面を有する。ベース表面は、傾斜状であり、上面に複数の空気供給孔が設置される。空気供給ユニットは、各空気供給孔に空気を供給し、搬送経路方向に空気を噴出する。これにより、回路基板は、搬送経路を通過する際に空気圧の効果を受けて支持されるため、回路基板を加工する過程において、不要な接触を回避することができる。

本考案の傾斜式回路基板搬送装置においては、ベースの下方から上方に空気が噴出されるため、ベース上を通過する回路基板は、空気圧を受け、搬送過程において浮上する。これにより、搬送過程において、回路基板が搬送設備の各部位や部品などと不要に接触するのを減少させることができる。

本考案の一実施形態による傾斜式回路基板搬送装置を示す斜視図である。図１の線２−２に沿った断面図である。図１の線３−３に沿った断面図である。本考案の他の実施形態による傾斜式回路基板搬送装置の一部を示す側断面図である。

本考案の特徴および技術内容を示す実施形態を図面に沿って詳細に説明する。ここで、図面は、参考及び説明のために提供するものであり、本考案を限定するものではない。

図１を参照する。図１は、本考案の一実施形態による傾斜式回路基板搬送装置を示す斜視図である。本考案は、回路基板６を搬送するのに用いられる傾斜式回路基板搬送装置を提供するものである。搬送される回路基板６には、所定の搬送経路上において、エッチング、洗浄などの作業が行われる。本考案の一実施形態による傾斜式回路基板搬送装置は、ベース１、複数のローラ部材２及び空気供給ユニット３から構成される。

ベース１は、各ローラ部材２を搭載するために用いられる。また、ベース１上の所定の長手空間は、搬送経路１０とされる。搬送経路１０の長さは、加工される回路基板６に応じて調整することができる。

複数のローラ部材２は、搬送経路１０に沿ってベース１上の少なくとも一方の側辺（低い方の側辺）に配列設置される。また、伝動機構（図示せず）により、各ローラ部材２は、ベース１上において回転する。これにより、複数のローラ部材２上の回路基板６は、搬送経路１０に沿って搬送される。各ローラ部材２は、ベース１上に横方向に枢着されるローラ軸２０と、ローラ軸２０上に固定されるローラ２１と、ローラ２１外側に位置するアイドルローラ２２と、を具える。また、ベース１の他方の側辺（高い方の側辺）にも、搬送経路１０に沿って複数のローラ部材２を配列設置してもよい。複数のローラ部材２は、上述のローラ軸２０及びローラ２１から構成されるが、当然、アイドルローラ２２をさらに具えてもよい。

図１及び図２を参照する。本考案の一実施形態による傾斜式回路基板搬送装置においては、ベース１の下方に空気供給ユニット３が設けられる。これにより、ベース１の下方から上方に空気が噴出されるため、ベース１上を通過する回路基板６は、空気圧を受け、搬送過程において浮上する。これにより、搬送過程において、回路基板６が搬送設備の各部位や部品などと不要に接触するのが減少する。ベース１は、搬送経路１０に対応する表面１１を有する。表面１１は、傾斜状であり、水平面との間に角θが形成される。また、表面１１上には、複数の空気供給孔１１０が設置される。空気供給ユニット３は、空気圧ポンプであり、管路（図示せず）を介して、各空気供給孔１１０に接続され、各空気供給孔１１０に空気を供給する。これにより、各空気供給孔１１０からは、下方から搬送経路１０に向かって上方に空気が噴出される。これにより、回路基板６は、搬送過程において、空気圧を受けて浮上するため、回路基板６を搬送して必要な加工作業を行うのに都合がよい。

図１及び図３を参照する。本考案の一実施形態中、搬送経路１０は、順番に、少なくとも１つの準備領域１００と加工領域１０１とに区別される。加工領域１０１上には、搬送経路１０の中心位置に沿って配置される位置規制ローラセット４と、搬送経路１０の上下に対向し、回路基板６に薬剤又は液体を噴射する加工ユニット５と、が設けられる。位置規制ローラセット４は、上下に対向する下ローラ４０及び上ローラ４１から構成される。位置規制ローラセット４は、回路基板６を上ローラ４１と下ローラ４０との間に通過させ、加工領域１０１で位置規制するために用いられる。これにより、加工中、回路基板６に薬剤又は液体が噴射されることにより、回路基板６が過度に偏移することが防止される。また、加工ユニット５は、複数の噴射ヘッド５０と、各噴射ヘッド５０に連通する供給管５１と、を具える。供給管５１を介し、薬剤又は液体が各噴射ヘッド５０から回路基板６に噴射される。回路基板６が空気ばねの作用を受けた状態で、噴射された薬剤又は液体は、回路基板６に沿って下方に流れる。これにより、回路基板６と薬剤又は液体とが良好に接触すると共に、薬剤又は液体が回路基板６の表面上に停滞し過ぎることにより、回路基板６が損傷することを防止することができる。

図４を参照する。図４に示すように、本考案の他の実施形態中、ベース１の表面１１には、ローラ部材２のローラ軸２０が嵌入される凹溝１１１が形成される。また、空気供給孔１１０は、隣り合う２つの凹溝１１１間に位置する。これにより、各空気供給孔１１０と回路基板６との間の距離を短くし、各空気供給孔１１０を回路基板６に接近させることができるため、回路基板６に大きな空気圧を供給し、空気ばねの効果を高めることができる。

上述の構造により、本考案の傾斜式回路基板搬送装置が構成される。

上述したことから分かるように、本考案は、所望の目的を確実に達成し、従来技術の欠点を解決することができる。また、新規性及び進歩性を有する。

以上の説明は、本考案の好適な実施形態を示すものであり、本考案の実用新案登録請求の範囲を限定するものではない。即ち、本考案の明細書及び図面を運用した同等効果である変更は、すべて、本考案の範囲に含まれる。

１ベース
１０搬送経路
１００準備領域
１０１加工領域
１１表面
１１０空気供給孔
１１１凹溝
２ローラ部材
２０ローラ軸
２１ローラ
２２アイドルローラ
３空気供給ユニット
４位置規制ローラセット
４０下ローラ
４１上ローラ
５加工ユニット
５０噴射ヘッド
５１供給管
６回路基板

Claims

回路基板を搬送するために用いられる傾斜式回路基板搬送装置であって、
前記傾斜式回路基板搬送装置は、ベース、複数のローラ部材及び空気供給ユニットを備え、
前記ベースの長手方向に前記回路基板が搬送される搬送経路が形成され、該ベースは、側方に向けて傾斜すると共に、前記搬送経路の回路基板に相対する側に複数の空気供給孔が設置され、
前記複数のローラ部材は、前記搬送経路に沿って前記ベース上の低い方の側辺に配列設置され、
前記空気供給ユニットは、前記各空気供給孔に空気を供給し、前記搬送経路を搬送される回路基板に向けて空気を噴出することにより、前記回路基板が前記搬送経路を通過する際、空気ばねの効果により支持することを特徴とする傾斜式回路基板搬送装置。
前記搬送経路は、順番に、処理工程に沿って少なくとも１つの準備領域と加工領域とに区分され、前記加工領域上には、前記搬送経路の上下に対向する加工ユニットが設けられることを特徴とする請求項１に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記加工ユニットは、複数の噴射ヘッドと、前記噴射ヘッドに連通する供給管と、を有することを特徴とする請求項２に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記加工領域の前後には、前記搬送経路の中心位置に沿って配置される位置規制ローラセットが複数設けられることを特徴とする請求項２又は３に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記各位置規制ローラセットは、上下に対向する下ローラ及び上ローラから構成され、前記回路基板は、前記各上ローラと前記各下ローラとの間を通過することを特徴とする請求項４に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記各ローラ部材は、前記ベース上に横方向に枢着されるローラ軸に固定される複数のローラと、前記ローラ外側に位置して傾斜した回路基板を低い側方で受けるアイドルローラと、から構成することを特徴とする請求項１に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記傾斜したベースの高い方の側辺上には、さらに前記搬送経路に沿って複数の前記ローラ部材が配列設置されることを特徴とする請求項１又は６に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記ベースの表面には、前記各ローラ部材のローラ軸が嵌入される凹溝が形成され、前記空気供給孔は、隣り合う２つの前記凹溝間に位置することを特徴とする請求項６に記載の傾斜式回路基板搬送装置。
前記空気供給ユニットは、空気圧ポンプであり、前記空気圧ポンプは、管路を介して前記各空気供給孔に接続されることを特徴とする請求項１に記載の傾斜式回路基板搬送装置。