CN110911335B - 气浮支撑平台 - Google Patents

气浮支撑平台 Download PDF

Info

Publication number
CN110911335B
CN110911335B CN201911106920.0A CN201911106920A CN110911335B CN 110911335 B CN110911335 B CN 110911335B CN 201911106920 A CN201911106920 A CN 201911106920A CN 110911335 B CN110911335 B CN 110911335B
Authority
CN
China
Prior art keywords
air
temperature control
gas
control plate
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911106920.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110911335A (zh
Inventor
闫莹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201911106920.0A priority Critical patent/CN110911335B/zh
Publication of CN110911335A publication Critical patent/CN110911335A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110911335B publication Critical patent/CN110911335B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67109Apparatus for thermal treatment mainly by convection

Abstract

本发明实施例提供的气浮支撑平台包括多个彼此独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部包括基板、控温板和出气板,所述控温板和所述基板之间设置有气体通道,所述控温板上设有第一排气孔,所述出气板上设有第二排气孔,每个所述气浮支撑部可单独调节由其排出的气体的流量和温度。所述气浮支撑平台用于支撑显示面板进行喷墨打印时,可以根据打印过程中显示面板重量和温度的变化,调整排出气体的流量和温度,促使显示面板在打印过程中始终保持水平放置和合适的温度,防止出现打印偏差,有利于提高喷墨打印的精度和打印过程的流畅性。

Description

气浮支撑平台
技术领域
本发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种用于支撑显示面板的气浮支撑平台。
背景技术
在显示面板制造过程中,会使用到喷墨打印技术对显示面板的像素单元进行打印,具体是利用喷墨打印装置,将包含像素单元成分的墨水逐滴注入对应的像素单元中,然后经过干燥、烘烤成膜,形成所需的像素结构。在这个过程中,打印位置的准确性和打印的精度要求非常高,并且直接影响着显示面板的性能和品质。
目前,喷墨打印过程中,一般使用气浮装置支撑待打印的玻璃基板,气浮装置通过吹出稳定的气流将玻璃基板托举至一水平高度。但是在打印过程中,墨水滴到玻璃基板上后,会造成玻璃基板的局部区域重量增加,气浮装置吹出的气流无法将该区域托举至足够高度,玻璃基板发生倾斜,导致打印精度下降;另外,由于刚滴到玻璃基板上的墨水温度较高,玻璃基板受热会发生局部膨胀,也会导致打印精度的降低。
因此,需要对现有的玻璃基板支撑平台进行改进,以解决上述技术问题。
发明内容
基于上述现有技术的不足,本发明提供了一种气浮支撑平台,通过将所述气浮支撑平台划分为多个彼此独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部可单独调节由其排出的气体的流量和温度,从而实现对喷墨打印过程中的玻璃基板的水平托举和局部降温,保证打印精度。
本发明提供一种气浮支撑平台,包括多个独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部包括:
基板;
控温板,设置于所述基板上层,所述控温板上设置有第一排气孔,所述控温板用于调节通过所述第一排气孔的气体的温度;以及
出气板,设置于所述控温板上层,所述出气板上设置有第二排气孔;
其中,所述基板与所述控温板之间设置气体通道,所述气体通道中的气体通过所述第一排气孔和所述第二排气孔从所述出气板的出气面排出。
根据本发明一实施例,所述控温板与所述出气板之间设置储气空间,所述储气空间用于储存和分散由所述第一排气孔排出的气体。
根据本发明一实施例,所述控温板上还设置有排气孔盖,所述排气孔盖用于打开或关闭所述第一排气孔。
根据本发明一实施例,所述第一排气孔与所述第二排气孔正对设置。
根据本发明一实施例,所述第一排气孔与所述第二排气孔错开设置或正对设置。
根据本发明一实施例,所述多个独立的气浮支撑部将所述气浮支撑平台划分为多个气浮区域,所述气浮区域的形状为长方形或正方形。
根据本发明一实施例,所述气体通道与排气泵或压缩气体罐连通,所述排气泵或所述压缩气体罐用于向所述气体通道提供气体。
根据本发明一实施例,所述气体通道中的气体压强保持恒定。
根据本发明一实施例,所述第一排气孔具有圆形或椭圆形截面,所述第二排气孔具有圆形或椭圆形截面。
根据本发明一实施例,所述控温板为铝板,所述控温板与控温装置连接,所述控温装置用于加热或冷却所述控温板。
本发明的有益效果是:本发明提供的气浮支撑平台包括多个彼此独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部可单独调节由其排出的气体的流量和温度。所述气浮支撑平台用于支撑显示面板进行喷墨打印时,可以根据打印过程中显示面板重量和温度的变化,调整排出气体的流量和温度,促使显示面板在打印过程中始终保持水平放置和合适的温度,防止出现打印偏差,有利于提高喷墨打印的精度和打印过程的流畅性。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的气浮支撑平台的局部平面结构示意图;
图2是图1所示的气浮支撑平台沿A-A’的截面图;
图3是图1所示的气浮支撑平台的控温板的区域B的局部示意图;
图4是图1所示的气浮支撑平台用于玻璃基板喷墨打印过程中的示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明实施例提供一种气浮支撑平台,所述气浮支撑平台包括多个彼此独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部可单独调节由其排出的气体的流量和温度。所述气浮支撑平台用于支撑显示面板进行喷墨打印时,可以根据打印过程中显示面板重量和温度的变化,调整排出气体的流量和温度,促使显示面板在打印过程中始终保持水平放置和合适的温度,防止出现打印偏差,有利于提高喷墨打印的精度和打印过程的流畅性。
如图1、图2和图3所示,其中,图1是本发明实施例提供的气浮支撑平台的局部平面结构示意图,图2是图1所示的气浮支撑平台沿A-A’的截面图,图3是图1所示的气浮支撑平台的控温板的区域B的局部示意图。在显示面板的制作过程中,所述气浮支撑平台10用于支撑玻璃基板,以便于对所述玻璃基板进行喷涂、喷墨打印等操作。所述气浮支撑平台10包括多个独立的气浮支撑部11,例如图1中所示的气浮支撑部11a、11b、11c、11d、11e、11f、11g、11h,每个所述气浮支撑部11可以通过一独立的系统进行控制,全部的所述气浮支撑部11组合成为所述气浮支撑平台10的支撑面。所述气浮支撑平台10通过多个所述气浮支撑部11之间的协调工作,完成水平托举玻璃基板的操作。可选地,多个独立的所述气浮支撑部11将所述气浮支撑平台10划分为多个气浮区域,所述气浮区域是指所述气浮支撑部11的出气面所对应的区域,所述气浮区域的形状可以是长方形、正方形或其它不规则形状。
所述气浮支撑部11均包括基板111、设置于所述基板111上层的控温板112、以及设置于所述控温板112上层的出气板113。所述基板111与所述控温板112之间设置有气体通道114,所述气体通道114连通外部供气装置(图中未示出),如排气泵、压缩气体罐等,所述供气装置用于向所述气体通道114提供气体,并促使所述气体通道114中的气体压强保持恒定,从而便于所述气浮支撑平台10输出稳定气流。所述气体通道114是所述气浮支撑平台10输出气流、托举玻璃基板的重要结构。
需要说明的是,所述基板111可以是所述气浮支撑平台10的底部封装层,用于密封所述控温板112的底部空间,并在靠近所述控温板112的一侧形成所述气体通道114。
可选地,所述气浮支撑平台10的每个所述气浮支撑部11均设置一独立的所述基板111,以形成对应于每一个所述气浮支撑部11的所述气体通道114。
所述控温板112设置于所述基板111的上层,所述控温板112与所述基板111之间形成所述气体通道114。所述控温板112上设置有沿其厚度方向贯穿的第一排气孔1121,所述第一排气孔1121用于将所述气体通道114中的气体排出。所述第一排气孔1121的形状、大小可以根据实际生产需求自由设置,此处不做限制。例如,所述第一排气孔1121可以具有圆形或椭圆形截面;所述第一排气孔1121可以是竖直的圆柱形通孔,以保证气体通过所述第一排气孔1121时具有较高的通过效率;所述第一排气孔1121也可以是弯曲的贯穿孔,以保证气体在所述第一排气孔1121中保留一定时间,便于所述控温板112对气体的温度进行调节。
所述控温板112用于调节通过所述第一排气孔1121的气体的温度。进一步地,所述控温板112为铝板,所述控温板112与控温装置连接,所述控温装置可以根据某一特定区域的温度条件,加热或冷却所述控温板112,从而实现对穿过所述第一排气孔1121的气体的温度的控制。例如,所述气浮支撑平台10用于支撑喷墨打印中的玻璃基板时,由于喷出的墨滴温度较高,对所述玻璃基板的局部区域产生加热作用,所述控温装置根据检测的该受热区域的温度,调控所述控温板112处于较低的温度,从而降低穿过所述第一排气孔1121的气体的温度,该气体吹至所述玻璃基板上时,可以实现对所述玻璃基板的受热区域进行降温,进而防止所述玻璃基板受热膨胀,而影响喷墨打印精度。
所述控温板112上还设置有排气孔盖1122,所述排气孔盖1122用于打开或关闭所述第一排气孔1121。具体地,所述排气孔盖1122受流量调节系统控制,所述流量调节系统可以单独控制每一个所述流量孔盖1122的开合状态。应当理解的是,所述气浮支撑平台10用于支撑喷墨打印中的玻璃基板时,由于打印过程需要经过由局部到整体的过程,因此,在局部打印过程中,墨滴会促使该局部打印区域的重量增加,假如此时所述气浮支撑平台10在整个支撑面仍以相同的气体流量支撑玻璃基板,会出现玻璃基板偏斜的问题。而本发明实施例提出的在所述第一排气孔1121上设置所述排气孔盖1122的方案可以很好的解决上述问题,进行喷墨打印之前的玻璃基板的质量较轻,所述流量调节系统控制部分所述排气孔盖1122关闭,并使所述玻璃基板保持水平,喷墨打印过程中,墨滴造成玻璃基板的局部重量增加,流量调节系统进一步打开与该区域相对应的所述排气孔盖1122,使该区域产生更大的托举力,促使玻璃基板保持水平状态。
可选地,所述气浮支撑平台10的每个所述气浮支撑部11均包含一个独立的所述控温板112,每个所述控温板112可以独立进行温度调节,从而可以根据实际需要,实现对所述玻璃基板的局部区域或整体进行温度调节和控制。
所述出气板113设置于所述控温板112的上层,所述出气板113上设置有第二排气孔1131。需要说明的是,由所述第一排气孔1121排出的气体,经过所述第二排气孔1131从所述出气板113的出气面排出;所述第二排气孔1131为所述气浮支撑平台10的气体输出提供通道,所述出气板113用于使所述气浮支撑平台10输出的气流平稳而均匀,从而为所述玻璃基板提供稳定的托举力。
可选地,所述控温板112与所述出气板113之间设置有储气空间115,所述储气空间115用于储存和分散由所述第一排气孔1121排出的气体。应当理解的是,所述气体通道114中的气体,经过所述第一排气孔1121调整温度和传输后进入所述储存空间115中,所述储气空间115形成所述控温板112与所述出气板113之间的气体缓冲地带,有利于所述出气板113排出温度均衡、流量稳定的气流。
可选地,所述第一排气孔1121与所述第二排气孔1131可以是正对设置,也可以是错开设置。所述第二排气孔1131的形状和结构可以与所述第一排气孔1121相同或不同。当所述第一排气孔1121与所述第二排气孔1131垂直正对设置时,由所述第一排气孔1121排出的气体可以迅速经所述第二排气孔1131排出,缩短气体在所述气浮支撑平台10中的流转路径,提升所述气浮支撑平台10关于气体温度和流量的响应速度。当所述第一排气孔1121与所述第二排气孔1131为错开设置时,可以促使气体在所述储气空间115中流转,有利于所述气浮支撑平台10输出流量稳定、温度均衡的气流。
可选地,所述气浮支撑平台10的每一个所述气浮支撑部11均包含一个独立的出气板113,并且在每一个所述气浮支撑部11内,所述出气板113与所述控温板112之间形成独立的所述储气空间115,不同所述气浮支撑部11的所述储气空间之间不互通,从而便于实现对每一个所述气浮支撑部11输出的气体的流量和温度进行控制。
下面结合图4所示对本发明实施例提供的气浮支撑平台10用于支撑玻璃基板20进行喷墨打印色阻块201的过程进行说明:
参考图1至图4所示,在所述气浮支撑平台10喷出的气体的托举力的作用下,所述玻璃基板20悬空水平放置。由于打印所述色阻块201之前,所述玻璃基板20的质量较轻,所述流量调节系统控制部分所述排气孔盖1122打开即可实现将所述玻璃基板20托举至一定高度。在打印过程中,由于包含色阻成分的墨滴具有一定的高温和质量,优先形成的所述色阻块201会对所述玻璃基板20产生局部加热作用,并造成所述玻璃基板20的局部质量增大。一方面,所述玻璃基板20的局部受热会促使所述玻璃基板20局部膨胀,打印墨滴难以准确滴入指定位置,易造成打印精度降低;此时,根据打印位置,调整对应的所述气浮支撑部11的所述控温板112的温度,使该气浮支撑部11输出的气体的温度降低,从而实现对所述玻璃基板20进行局部降温,例如图4中所示的打印状态中,调整所述气浮支撑部11g的输出气体温度,对所述玻璃基板20的打印区域进行局部降温。另一方面,所述玻璃基板20的局部质量增加,会造成所述玻璃基板20发生倾斜而失去水平状态,进而造成喷墨打印精度降低;此时,根据打印位置,调整对应的所述气浮支撑部11的所述排气孔盖1122的打开数量,以提高该区域的气体托举力,促使所述玻璃基板20保持水平状态,例如图4中所示的打印状态中,调整所述气浮支撑部11g的所述排气孔盖1122的打开数量,使该区域的托举力增大,托举所述玻璃基板20保持水平状态。需要说明的是,上述气浮支撑平台10对输出气体的温度和托举力的调整可以通过智能控制系统进行,所述智能控制系统可以根据所述玻璃基板20所处的状态,如所述玻璃基板20的温度和质量分布,进行自动调控。
综上所述,本发明实施例提供的气浮支撑平台包括多个彼此独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部可单独调节由其排出的气体的流量和温度。所述气浮支撑平台用于支撑显示面板进行喷墨打印时,可以根据打印过程中显示面板重量和温度的变化,调整排出气体的流量和温度,促使显示面板在打印过程中始终保持水平放置和合适的温度,防止出现打印偏差,有利于提高喷墨打印的精度和打印过程的流畅性。
需要说明的是,虽然本发明以具体实施例揭露如上,但上述实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种气浮支撑平台,其特征在于,包括多个独立的气浮支撑部,每个所述气浮支撑部包括:
基板;
控温板,设置于所述基板上层,所述控温板上设置有第一排气孔,所述控温板用于调节通过所述第一排气孔的气体的温度;以及
出气板,设置于所述控温板上层,所述出气板上设置有第二排气孔;
其中,所述基板与所述控温板之间设置气体通道,所述气体通道中的气体通过所述第一排气孔和所述第二排气孔从所述出气板的出气面排出,并且所述第一排气孔是弯曲的贯穿孔。
2.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述控温板与所述出气板之间设置储气空间,所述储气空间用于储存和分散由所述第一排气孔排出的气体。
3.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述控温板上还设置有排气孔盖,所述排气孔盖用于打开或关闭所述第一排气孔。
4.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述第一排气孔与所述第二排气孔正对设置。
5.根据权利要求2所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述第一排气孔与所述第二排气孔错开设置或正对设置。
6.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述多个独立的气浮支撑部将所述气浮支撑平台划分为多个气浮区域,所述气浮区域的形状为长方形或正方形。
7.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述气体通道与排气泵或压缩气体罐连通,所述排气泵或所述压缩气体罐用于向所述气体通道提供气体。
8.根据权利要求7所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述气体通道中的气体压强保持恒定。
9.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述第一排气孔具有圆形或椭圆形截面,所述第二排气孔具有圆形或椭圆形截面。
10.根据权利要求1所述的气浮支撑平台,其特征在于,所述控温板为铝板,所述控温板与控温装置连接,所述控温装置用于加热或冷却所述控温板。
CN201911106920.0A 2019-11-13 2019-11-13 气浮支撑平台 Active CN110911335B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911106920.0A CN110911335B (zh) 2019-11-13 2019-11-13 气浮支撑平台

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911106920.0A CN110911335B (zh) 2019-11-13 2019-11-13 气浮支撑平台

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110911335A CN110911335A (zh) 2020-03-24
CN110911335B true CN110911335B (zh) 2022-05-31

Family

ID=69817604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911106920.0A Active CN110911335B (zh) 2019-11-13 2019-11-13 气浮支撑平台

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110911335B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112659760A (zh) * 2020-12-15 2021-04-16 深圳市升达康科技有限公司 浮动支撑装置及打码设备
CN113108715B (zh) * 2021-04-13 2024-01-23 南京中安半导体设备有限责任公司 悬浮物的测量装置和气浮卡盘
JP2023069602A (ja) * 2021-11-08 2023-05-18 株式会社日立ハイテク ステージ装置及びステージ装置を備える荷電粒子線装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101213991B1 (ko) * 2005-12-16 2012-12-20 엘아이지에이디피 주식회사 기판 이송 장치 및 방법
EP2053663A1 (en) * 2007-10-25 2009-04-29 Applied Materials, Inc. Hover cushion transport for webs in a web coating process
KR100938355B1 (ko) * 2009-10-23 2010-01-22 이재성 헬리컬나선을 통해 균일하면서 높은 압력을 갖도록 에어가 분출되는 비접촉식 반송플레이트
JP2011124342A (ja) * 2009-12-09 2011-06-23 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
KR102163521B1 (ko) * 2013-05-15 2020-10-12 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 제조 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
CN106044225B (zh) * 2016-06-28 2019-05-31 江苏东旭亿泰智能装备有限公司 气浮平台、气浮装置及玻璃基板传送装置
CN108944075B (zh) * 2018-07-25 2019-10-15 京东方科技集团股份有限公司 用于喷墨打印的打印台、打印设备及打印方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110911335A (zh) 2020-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110911335B (zh) 气浮支撑平台
CN100413797C (zh) 不接触地支承和输送平板玻璃的方法和装置
CN101003041B (zh) 涂敷方法、涂敷装置以及涂敷处理程序
CN213228043U (zh) 真空干燥装置
US9586412B2 (en) Ink-jet printer
US20100223957A1 (en) Float bath system for manufacturing float glass and cooling method of the same
CN107230697B (zh) 具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法
FI72957B (fi) Foerfarande och anordning foer termisk seghaerdning av glas.
CN1891647B (zh) 平板玻璃传送装置
CN210101058U (zh) 真空干燥装置
WO2022160489A1 (zh) 一种粉床3d打印的快速冷却装置及系统
CN103839855A (zh) 多级式基板干燥装置
JP5195473B2 (ja) 吸液タンクおよびこれを備えた液滴吐出装置
CN106654069A (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
CN204957799U (zh) 用来运送平板构件的输送载具
WO2020131620A1 (en) Devices, systems, and methods for controlling floatation of a substrate
CN112838180A (zh) 真空干燥装置
US3866875A (en) Method and apparatus for support of sheet material
CN102386063A (zh) 基板冷却装置
CN105177528B (zh) 一种真空减压装置
JP2000239035A (ja) ガラスリボンの搬送方法及び装置
US3218142A (en) Process and apparatus for drawing glass
CN111755631A (zh) 张网机台
CN114571879B (zh) 一种喷墨打印真空干燥装置及喷墨打印干燥方法
CN217514509U (zh) 能局部调节膜泡厚度的吹膜设备冷却风环

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant