CN106654069A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。该显示面板具有多个呈矩阵形式排列的像素区域，该显示面板的制作方法包括形成像素界定层的方法：在基板上形成像素界定材料层，像素界定材料层的厚度小于一预设厚度；其中，预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm；通过构图工艺在对应像素区域的位置形成开孔，相邻两个开孔之间具有间隔物。该显示面板的制作方法用于制作显示面板。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管显示面板，由于其具有低制造成本、高应答速度、省电、可用于便携式设备的直流驱动、工作温度范围大等优点，从而越来越多地被应用于各种高性能显示领域当中。

由于喷墨打印技术具有操作简单、成本低廉、易于实现大尺寸以及材料利用率较高等优点，因此在制作有机发光二极管显示面板时，通常采用喷墨打印技术形成有机发光二极管显示面板中的有机层。具体的，形成有机发光二极管显示面板的有机层的方法为：根据所需成膜的厚度确定出所需打印的墨水的体积，并将该墨水滴入像素界定层中；然后进行干燥成膜以形成有机层。

然而，采用现有的喷墨打印方法形成有机层时，墨水在像素界定层的边缘攀爬高度较大，使得形成的有机层的厚度很不均匀，从而使得显示器出现亮度不均的情况，降低显示器的显示质量。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，用于提高形成的有机层的膜厚均匀性。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有多个呈矩阵形式排列的像素区域，显示面板的制作方法包括形成像素界定层的方法：在基板上形成像素界定材料层，所述像素界定材料层的厚度小于一预设厚度；其中，所述预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm；通过构图工艺在对应所述像素区域的位置形成开孔，相邻两个所述开孔之间具有间隔物。

可选的，还包括在所述像素界定层的开孔内，形成一层功能薄膜层的方法：向所述像素界定层的开孔内滴入具有预设计量的墨滴，并对所述墨滴进行干燥以形成初级薄膜层；其中，构成所述墨滴的材料与构成所述功能薄膜层的材料相同；多次重复上述步骤，在所述开孔内形成多个依次堆叠的所述初级薄膜层；其中，材料相同的多个依次堆叠的所述初级薄膜层构成一层所述功能薄膜层。

进一步的，向所述像素界定层的开孔内滴入具有预设计量的墨滴，当所述墨滴与所述像素界定层的接触角小于或等于60°时，所述多次重复上述步骤包括重复1～10次上述步骤。

可选的，还包括对所述间隔物的侧壁进行疏水性处理。

可选的，所述间隔物的纵向截面形状为梯形或矩形，所述纵向截面与所述基板垂直。

进一步的，当所述间隔物的纵向截面形状为梯形，所述梯形的长边背离所述基板，所述梯形的短边靠近所述基板；其中，所述间隔物的侧壁与基板之间的夹角范围为30°～75°。

可选的，所述功能薄膜层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层中的任意一种。

可选的，当所述功能薄膜层为有机发光层时，构成所述有机发光层的材料为高分子聚合物材料或小分子材料。

本发明实施例的另一方面，提供一种采用如上所述的显示面板的制作方法制备的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括像素界定层，所述像素界定层包括与像素区域的位置相对应的开孔，以及位于相邻两个所述开孔之间的间隔物；所述间隔物的厚度小于一预设厚度，其中，所述预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm。

本发明实施例的又一方面，提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，该显示面板具有多个呈矩阵形式排列的像素区域，显示面板的制作方法包括形成像素界定层的方法：具体的，在基板上形成像素界定材料层，通过构图工艺在对应像素区域的位置形成开孔，相邻两个开孔之间具有间隔物。其中，像素界定材料层的厚度小于一预设厚度，该预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm。

这样一来，由于像素界定材料层的厚度小于1.45μm～1.55μm，则形成的像素界定层的开孔的高度H也小于1.45μm～1.55μm，在开孔内形成有机材料功能层的功能薄膜层时，墨水在开孔内攀爬的高度也降低，因此使得形成的功能薄膜层的边缘部分的高度与中间部分的高度之差降低，从而使得形成的功能薄膜层的膜厚更加均匀，进而提高了形成的功能薄膜层的膜厚均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程示意图；

图2为本发明实施例提供的一种在基板上形成像素界定材料层的示意图；

图3为在图2所示的基板上形成开孔以及间隔物的示意图；

图4为本发明实施例提供的一种间隔物的纵向截面的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种间隔物的纵向截面的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种形成功能薄膜层的制作方法流程示意图；

图7a-7c为本发明实施例提供的一种在图3所示的开孔内形成功能薄膜层的过程示意图；

图8为本发明实施例提供的一种对滴有墨滴的基板进行干燥的示意图。

附图标记：

01-显示面板；10-基板；20-像素界定材料层；21-像素界定层；201-间隔物；202-开孔；31-初级薄膜层；40-功能薄膜层；50-真空干燥机。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种如图3所示的显示面板01的制作方法，该显示面板01具有多个呈矩阵形式排列的像素区域，上述显示面板01的制作方法包括形成如图3所示的像素界定层21的方法，具体的，如图1所示：

步骤S101、在如图2所示的基板10上形成像素界定材料层20。像素界定材料层20的厚度F小于一预设厚度，其中，预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm。

需要说明的是，本发明对上述基板10不做限定，例如可以为阵列基板。或者在对显示装置进行某一测试时，为了避免采用真实的显示装置进行测试，可以在任一基板上形成像素界定材料层20，该基板可以为玻璃基板或者透明树脂等。

步骤S102、通过构图工艺在对应像素区域的位置形成如图3所示的开孔202，相邻两个开孔202之间具有间隔物201。上述开孔202和间隔物201构成像素界定层21。

需要说明的是，第一、上述构图工艺，可指包括光刻工艺，或包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺，是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。

第二、本发明对间隔物201的纵向截面A的形状不做限定。例如如图3或4所示，间隔物201的纵向截面A的形状为梯形，或者如图5所示为矩形，其中，上述纵向截面A与基板10垂直。

这样一来，由于像素界定材料层20的厚度F小于1.45μm～1.55μm，则形成的像素界定层21的开孔202的高度H也小于1.45μm～1.55μm；在开孔202内形成如图7c所示的有机材料功能层的功能薄膜层40时，墨水在开孔202内攀爬的高度K也降低，因此使得形成的功能薄膜层40的边缘部分的高度K与中间部分的高度J之差降低，从而使得形成的功能薄膜层40的膜厚更加均匀，进而提高了形成的功能薄膜层40的膜厚均匀性。

进一步的，本发明实施例提供的显示面板01的制作方法还包括，在图4所示的像素界定层21的开孔202内，形成有机材料功能层。该有机材料功能层包括具有多个不同功能的功能薄膜层40。其中，该功能薄膜层40可以为空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层中的任意一种，本发明对此不做限定。

在此情况下，当上述像素界定材料层20的厚度F小于1.45μm～1.55μm时，为了防止在开孔202内形成如图7b所示的功能薄膜层40时，滴入开孔202内的墨水发生溢流，优选的，如图6所示，形成上述功能薄膜层40的方法包括：

步骤S201、如图7a所示，向像素界定层21的开孔202内滴入具有预设计量的墨滴E，并对墨滴E进行干燥以形成如图7b所示的初级薄膜层31；其中，构成墨滴E的材料与构成功能薄膜层40的材料相同。

其中，确定预设计量的墨滴E的方法为：选定制作功能薄膜层40所需的墨水，在形成的功能薄膜层40的厚度确定后，根据墨水的特性计算出打印时所需的墨水的体积，然后计算出单次滴入开孔202内的墨滴E的计量，使得墨滴E滴入开孔202后，位于开孔202上方的墨滴E的接触角θ小于60°，此时墨滴E的计量即为预设计量。例如，假设形成厚度为0.06μm的功能薄膜层40时，打印时所需的墨水的体积为24pl，在保证位于开孔202上方的墨滴E的接触角θ小于60°的情况下，计算出单次滴入墨滴E的计量为8pl，其中，8pl即为预设计量。如图7a所示，具有预设计量的墨滴E滴入开孔202后，墨滴E的部分在开孔202的上方，当墨滴E的接触角θ小于60°时，墨滴E不会发生溢流。这样一来，在形成初级薄膜层31时，墨滴E不会发生溢流，进而不会对周围的开孔202内形成功能薄膜层40时造成影响。

其中，对上述墨滴E进行干燥的方法可以为：将滴有墨滴E的基板10放入如图8所示的真空干燥机50中进行干燥。由于真空干燥机50的干燥速度较快，因此可以减少形成初级薄膜层31的工艺时间。

步骤S202、多次重复上述步骤，在开孔202内形成如图7c所示的多个依次堆叠的初级薄膜层31；其中，材料相同的多个依次堆叠的初级薄膜层31构成一层功能薄膜层40。

需要说明的是，当重复上述步骤的次数大于10次时，会增加形成功能薄膜层40的工艺时间，从而使得制作功能薄膜层40的工艺复杂，进而增加了制作成本。基于此，优选的，向像素界定层21的开孔202内滴入具有预设计量的墨滴E，当墨滴E与像素界定层21的接触角θ小于或等于60°，上述多次重复上述步骤包括：重复1～10次上述步骤。这样一来，在形成功能薄膜层40时，在降低墨滴E发生溢流的几率的同时，也不增加形成功能薄膜层40的时间。

基于此，与现有技术中一次将所需的墨水一次滴入像素界定层21的开孔202内相比，本发明通过在像素界定层21的开孔202内多次滴入预设计量的墨滴E，并进行干燥以形成初级薄膜层31，多个材料相同的初级薄膜层31构成功能薄膜层40，因此在开孔202内形成功能薄膜层40时不会发生溢流。

在此情况下，当功能薄膜层40包括有机发光层时，构成有机发光层的材料可以为高分子聚合物材料，此时可以形成PLED(polymer light-emitting diode，中文名称：高分子发光二极管)显示面板；或者构成有机发光层的材料为小分子材料，此时可以形成OLED显示面板。以下，以形成PLED显示面板中的有机发光层为例，对形成功能薄膜层40的方法进行说明。本实施例中，以单次滴入墨滴E的计量均为8pl为例，对如图7a所示的开孔202的高度H(单位：μm)变化时，滴入的墨滴E与像素界定层21的接触角θ以及墨滴E超出开孔202的高度N进行举例说明。

表1

由表1可以看出，在单次滴入开孔202内的墨滴E的计量不变的情况下，随着开孔202的高度H的降低，墨滴E超出开孔202的高度N逐渐增大，同时滴入的墨滴E的接触角θ逐渐增大，但接触角θ均小于60°，因此不会发生溢流。

由上述描述以及表1可知，在将像素界定材料层20的高度F制作的较低，即形成开孔202的高度H降低时，当将单次墨滴E的计量控制为预设计量，在形成功能薄膜层40的过程中不会发生溢流。此时，由于开孔202的高度H降低，因此形成初级薄膜层31时，墨滴E在开孔202的攀爬的高度L也会降低，从而使得形成的功能薄膜层40的边缘部分的高度K与中间部分的高度J之差降低，从而使得形成的功能薄膜层40的膜厚更加均匀。

在此基础上，为了进一步降低墨滴E在开孔202内攀爬的高度L，可以利用间隔物201的侧壁B对墨滴E在开孔202内的攀爬进行抑制。例如，当间隔物201的纵向截面形状为梯形时，如图4所示，梯形的长边T背离基板10，梯形的短边X靠近基板10。此时对滴入开孔202内的墨滴E进行干燥时，间隔物201的侧壁B均向靠近基板10的一侧倾斜，倾斜的侧壁B会对墨滴E在开孔202的攀爬起到一定的抑制作用，从而降低了墨滴E在开孔202内攀爬的高度L。

在此情况下，如图4所示，当间隔物201的侧壁B与基板10之间的夹角α小于30°时，若保证开孔202的顶边长度不变，会造成开孔22的底边太长，使得形成的功能薄膜层40的底面较宽，由于像素界定层21的像素区域一定，未与像素区域对应的功能薄膜层40的部分会无法实现有效出光，因此造成该部分的功能薄膜层40的浪费；若保证开孔202的底边长度不变，会造成开孔202的顶边太短，即开孔202的开口较小，因此在向开孔202滴入墨滴E时，墨滴E进入开孔202内的速率变慢，容易发生溢流。

当间隔物201的侧壁B与基板10之间的夹角α大于75°时，间隔物201的侧壁B向基板10一侧的倾斜角度变小，墨滴E易在侧壁B上进行攀爬，从而使得侧壁B抑制墨滴E在开孔202内的攀爬的高度L的效果不明显。

因此优选的，间隔物201的侧壁B与基板10之间的夹角α的范围是30°～75°，基于此，在开孔202内形成功能薄膜层40时，一方面，不会造成功能薄膜层40的浪费，且在向开孔202内滴入墨滴E时，墨滴E不易发生溢流；另一方面，间隔物201的侧壁B可以很好的抑制墨滴E在开孔202内的攀爬高度。

进一步的，为了进一步降低墨滴E在开孔202内的攀爬高度，可以对间隔物201的侧壁B进行疏水性处理。

需要说明的是，本发明对疏水性处理的方式不做限定，例如可以为在间隔物201的侧壁B涂覆一层疏水性剂。或者，对间隔物201的侧壁B进行疏水性处理，以使得侧壁B中的亲水基团的物质，如羟基、羧基等，与带长链烷基的环氧化物、卤化酞基、卤化物、异氰酸进行化学反应或酸配反应，在亲水基团链接一定数目的疏水基团，如烷基疏水集团、碳氟疏水性基团等，从而使该物质亲水基团变为疏水基团，由亲水性变为疏水性。

这样一来，在对开孔202内滴入的墨滴E进行干燥时，由于间隔物201的侧壁B进行了疏水性处理，墨滴E中的溶剂不易在侧壁B上进行攀爬，从而降低了墨滴E在开孔202内攀爬的高度L。

本发明实施例提供一种采用如上所述的显示面板01的制作方法制备的显示面板01，显示面板01如图4所示，包括像素界定层21，像素界定层21包括与像素区域的位置相对应的开孔202，以及位于相邻两个开孔202之间的间隔物201。其中，像素界定层21的厚度H小于一预设厚度，该预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm。

这样一来，由于像素界定材料层20的厚度F小于1.45μm～1.55μm，则形成的像素界定层21的开孔202的高度H也小于1.45μm～1.55μm；在开孔202内形成如图7c所示的有机材料功能层的功能薄膜层40时，墨水在开孔202内攀爬的高度K也降低，因此使得形成的功能薄膜层40的边缘部分的高度K与中间部分的高度J之差降低，从而使得形成的功能薄膜层40的膜厚更加均匀，进而提高了形成的功能薄膜层40的膜厚均匀性。

本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板01，具有与前述实施例提供的显示面板01相同的结构和有益效果，由于前述实施例已经对该显示面板01的结构和有益效果进行了详细的描述，此处不再赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有多个呈矩阵形式排列的像素区域，其特征在于，包括形成像素界定层的方法：

在基板上形成像素界定材料层，所述像素界定材料层的厚度小于一预设厚度；其中，所述预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm；

通过构图工艺在对应所述像素区域的位置形成开孔，相邻两个所述开孔之间具有间隔物。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括在所述像素界定层的开孔内，形成一层功能薄膜层的方法：

向所述像素界定层的开孔内滴入具有预设计量的墨滴，并对所述墨滴进行干燥以形成初级薄膜层；其中，构成所述墨滴的材料与构成所述功能薄膜层的材料相同；

多次重复上述步骤，在所述开孔内形成多个依次堆叠的所述初级薄膜层；其中，材料相同的多个依次堆叠的所述初级薄膜层构成一层所述功能薄膜层。

3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，向所述像素界定层的开孔内滴入具有预设计量的墨滴，当所述墨滴与所述像素界定层的接触角小于或等于60°时，所述多次重复上述步骤包括重复1～10次上述步骤。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，还包括对所述间隔物的侧壁进行疏水性处理。

5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述间隔物的纵向截面形状为梯形或矩形，所述纵向截面与所述基板垂直。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，当所述间隔物的纵向截面形状为梯形，所述梯形的长边背离所述基板，所述梯形的短边靠近所述基板；

其中，所述间隔物的侧壁与基板之间的夹角范围为30°～75°。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述功能薄膜层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，当所述功能薄膜层为有机发光层时，构成所述有机发光层的材料为高分子聚合物材料或小分子材料。

9.一种采用如权利要求1-8任一项所述的显示面板的制作方法制备的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括像素界定层，所述像素界定层包括与像素区域的位置相对应的开孔，以及位于相邻两个所述开孔之间的间隔物；

所述间隔物的厚度小于一预设厚度，其中，所述预设厚度的范围为1.45μm～1.55μm。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。