JP4250033B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4250033B2 JP4250033B2 JP2003275593A JP2003275593A JP4250033B2 JP 4250033 B2 JP4250033 B2 JP 4250033B2 JP 2003275593 A JP2003275593 A JP 2003275593A JP 2003275593 A JP2003275593 A JP 2003275593A JP 4250033 B2 JP4250033 B2 JP 4250033B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- protective cover
- blowing
- processing apparatus
- plasma processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
これによって、プラズマ吹出し手段の吹出し方向にあるローラコンベア(搬送手段)やその他の配置物を、保護カバーによってプラズマから保護することができる。また、被処理物を保護カバーと干渉しないようにしながら搬送できるとともに、保護カバーと被処理物の間の隙間を小さくして、該隙間の雰囲気がプラズマ吹出し手段と被処理物との間の処理空間に入り込むのを防止できる。
これによって、プラズマに直接曝されても損傷せず、ローラコンベアなどの搬送手段を
確実に保護可能な保護カバーを提供できる。
これによって、保護カバーの面積が大きくても撓まないようにできるとともに、分割カバーどうしの合わせ目からプラズマが裏側へ漏れるのを防止できる。
これによって、保護カバーと被処理物との間の距離が設定どおりの大きさになるように調節でき、製造誤差があってもそれを補正することができる。
これによって、保護カバーを、簡単に高さ調節できるとともにプラズマ吹出し手段に正対するように位置調節できる。
これによって、簡単な構成で保護カバーをプラズマ吹出し手段に正対するように位置調節可能にすることができる。
図1〜3は、大面積のガラス基材Wを被処理物とし、これを略常圧下でプラズマ洗浄するためのリモート式常圧プラズマ処理装置Mを示したものである。リモート式常圧プラズマ処理装置Mは、ベースB上に水平に設置されたローラコンベア10(搬送手段)と、このローラコンベア10の上側に配置されたプラズマ処理ヘッド20(プラズマ吹出し手段)とを備えている。周知の通り、ローラコンベア10は、多数本のシャフト11と、各シャフト11に間隔を置いて設けられたローラ12とを有している。シャフト11は、左右に延びるとともに、互いに前後に並べられている。このローラコンベア10上にガラス基材Wが載せられ、前後方向(図2において左右方向)に送られるようになっている。
電極33,34の少なくとも一方には、他方との対向面に、アーク防止のための固体誘電体層が形成されている。
図1、図3、図11に示すように、常圧プラズマ処理装置Mには、左右一対のヘッド支持台70が設けられている。支持台70は、ベースBに立設された複数の支柱71と、これら支柱71の上端部に設けられた台座72とを有している。これら支柱71と台座72は、分解・組み立て可能になっている。
台座72は、前後に長い平板状をなし、ローラコンベア10のシャフト11より上側に配置されている。
図1〜図3に示すように、常圧プラズマ処理装置Mは、不活性ガス溜め容器50を、更に備えている。不活性ガス溜め容器50は、プラズマ吹出しノズル30のちょうど真下に配置され、この部分のローラコンベア10を内部に収容するようになっている。
図2および図3に示すように、不活性ガス溜め容器50の底板54は、前記ローラコンベア10より下側に配置されている。図2、図5、図7に示すように、底板54は、前後幅方向に沿って4枚(複数)の底板部54aに分割されている。底板部54aは、各々左右に延び、互いに前後に並べられている。隣接する底板部54aどうしのうち一方の底板部54aの縁には、継ぎ板部54bが設けられており、この継ぎ板部54bが、他方の底板部54aの縁の上面に被せられ、ネジ止めされている。
図5に示すように、底板54の上面には、上板支え55(支持部材)が、前後左右に整列して複数配置されている。図6に示すように、支え55は、垂直L字状をなし、その下端部が、底板54にネジ止めされている。図2および図3に示すように、これら支え55の上端部に、上板51が載せられ、ネジ止めされている。また、図6に示すように、前後側板53の縦リブ53a(図8)の上端部に、上板51の縁部が載せられ、ネジ止めされている。さらに、左右側板52の縦の縁板52c(図9)の上端部に、上板51の四隅が載せられている。
図2および図3に示すように、ローラコンベア10の下方には、ベースBに固定の基台61が設けられている。基台61の上面(案内面)は、前方へ向かって上へ傾斜されている。この基台61の上面に、4つ(複数)の容器受け部材62が設けられている。受け部材62は、棒状をなして前後に延びるとともに、互いに左右に間隔を置いて配置されている。受け部材62の下面は、基台61の上面の傾斜角に合わせて前方へ向かって上へ傾斜されている。これにより、受け部材62の上面は、水平になっている。この受け部材62の上面に、前記不活性ガス溜め容器50が水平に設置され、底板54が、受け部材62にネジ止めされている。
図10において、基台61上面および容器受け部材62の傾斜角度、並びに不活性ガス溜め容器50の上下動範囲は、誇張して示してある。
詳述すると、図2に示すように、装置Mには、処理ガス源2に加えて、不活性ガス源5が備えられている。不活性ガス源5には、不活性ガスとして例えば窒素が貯えられている。不活性ガス源5からのガス管5aは、三方弁2vを介して前記処理ガス源2からのガス管2aに合流されている。三方弁2vは、2つのガス源2,5のうち何れか一方を選択し、プラズマ吹出しノズル30に接続するようになっている。不活性ガス源5を選択すれば、プラズマ吹出しノズル30から窒素が吹出されることになる。(この場合、電源3はオフにしておく。)この窒素が、上板51のローラ通孔51dとローラ12との隙間を通り、容器50の内部に入ることになる。
なお、不活性ガス源5からの管5aを不活性ガス溜め容器50内に直接接続することにより、容器50内に不活性ガスを充填するようにしてもよい。
上板51は、複数の板部51a,51bに分割されているので、全体として大面積であっても殆ど撓まないようにすることができる。また、容器50内の支え55にて支持されているので、撓みを一層確実に防止できる。
分割による合わせ目51cが、ノズル30の吹出し口30aからずらされているので、プラズマが合わせ目51cから下側へ抜けるのを防止することができる。
不活性ガス溜め容器50は、分解・組み立て可能であるので、既存のローラコンベア10に後付けする場合でもローラコンベアを分解することなく容易に行なうことができる。撤去も容易である。特に、底板54は、細幅の底板部54aに分割されているので、ローラコンベア10の下側に容易に挿入することができる。
さらに、高さ調節ボルト73によってプラズマ処理ヘッド20を高さ調節する。これによって、ワーキングディスタンスを設定どおりの大きさにでき、製造誤差を補正できる。
例えば、搬送手段は、ローラコンベアに限らず、種々の方式のものを用いることができる。
本発明は、洗浄処理に限らず、成膜、エッチング、表面改質、アッシング等の種々のプラズマ表面処理に遍く適用でき、略常圧に限らず減圧下でのプラズマ表面処理にも適用できる。
W ガラス基材(被処理物)
10 ローラコンベア
12 ローラ
20 プラズマ処理ヘッド(プラズマ吹出し手段)
30a 吹出し口
33,34 電極
51 上板(保護カバー)
51a,51b 上板部(分割カバー)
51c 合わせ目
51d ローラ通孔
54 底板(保護カバーの受け部材への連結部)
54c 長孔(ネジ止め用の孔)
61 基台(保護カバーの高さ調節機構の構成要素)
62 受け部材(保護カバーの高さ調節機構の構成要素)
Claims (7)
- 処理ガスを電極間に通して吹出すプラズマ吹出し手段と、被処理物を、前記プラズマ吹出し手段の吹出し方向を横切るように送る搬送手段とを備えたプラズマ処理装置において、被処理物の通る位置よりプラズマ吹出し手段とは逆側に僅かに離して耐プラズマ性材料からなる保護カバーを設け、前記保護カバーが、ガラスにて構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 処理ガスを電極間に通して下方へ吹出すプラズマ吹出し手段と、被処理物を、前記プラズマ吹出し手段の下側を横切るように送るローラコンベアとを備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ吹出し手段の直下のローラコンベアを耐プラズマ性材料からなる保護カバーで覆い、この保護カバーにローラコンベアのローラの上縁部を通すローラ通孔を形成し、前記保護カバーが、ガラスにて構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 処理ガスを電極間に通して吹出すプラズマ吹出し手段と、被処理物を、前記プラズマ吹出し手段の吹出し方向を横切るように送る搬送手段とを備えたプラズマ処理装置において、被処理物の通る位置よりプラズマ吹出し手段とは逆側に僅かに離して耐プラズマ性材料からなる保護カバーを設け、前記保護カバーが、複数に分割され、これら分割カバーの合わせ目が、前記プラズマ吹出し手段の吹出し口と正対する位置からずれていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 処理ガスを電極間に通して下方へ吹出すプラズマ吹出し手段と、被処理物を、前記プラズマ吹出し手段の下側を横切るように送るローラコンベアとを備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ吹出し手段の直下のローラコンベアを耐プラズマ性材料からなる保護カバーで覆い、この保護カバーにローラコンベアのローラの上縁部を通すローラ通孔を形成し、前記保護カバーが、複数に分割され、これら分割カバーの合わせ目が、前記プラズマ吹出し手段の吹出し口と正対する位置からずれていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 前記保護カバーの高さ調節機構を備えたことを特徴とする請求項2又は4に記載のプラズマ処理装置。
- 前記高さ調節機構が、傾斜した案内面をもつ基台と、前記案内面の傾斜方向に沿ってスライド可能かつ任意位置に固定可能な受け部材とを有しており、この受け部材上に、前記
保護カバーが、前記スライド方向に位置調節可能に支持されていることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ処理装置。 - 前記保護カバーの受け部材への連結部と前記受け部材との一方には、他方へのネジ止め用の孔が形成され、この孔が、前記スライド方向に沿う長孔になっていることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003275593A JP4250033B2 (ja) | 2003-07-16 | 2003-07-16 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003275593A JP4250033B2 (ja) | 2003-07-16 | 2003-07-16 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005038752A JP2005038752A (ja) | 2005-02-10 |
JP4250033B2 true JP4250033B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=34212194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003275593A Expired - Fee Related JP4250033B2 (ja) | 2003-07-16 | 2003-07-16 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4250033B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4612520B2 (ja) * | 2005-10-11 | 2011-01-12 | シャープ株式会社 | 大気圧プラズマ処理装置 |
JP4860664B2 (ja) * | 2008-06-05 | 2012-01-25 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
-
2003
- 2003-07-16 JP JP2003275593A patent/JP4250033B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005038752A (ja) | 2005-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI327552B (en) | Apparatus and method for transferring a glass substrate | |
CN101266916B (zh) | 基板处理装置 | |
TWI638757B (zh) | 晶圓儲存容器 | |
KR200349874Y1 (ko) | 플라즈마 에칭 챔버와, 이를 이용한 플라즈마 에칭 시스템 | |
US8042558B2 (en) | High-pressure water cleaning system | |
JP4381160B2 (ja) | 表面処理装置 | |
CN1754409B (zh) | 等离子处理装置 | |
JP4250033B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR20090108738A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
JP4351496B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
CN201044235Y (zh) | 基板处理装置 | |
JP5162448B2 (ja) | 表面処理装置 | |
KR20170076626A (ko) | 웨이퍼 수납용기 | |
KR20180053271A (ko) | 유리판의 제조 방법 및 그 제조 장치 | |
JP4331117B2 (ja) | プラズマ処理装置の電極構造 | |
JP4348148B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2009205896A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4896954B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP3709411B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2006202661A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4429681B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2006228660A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP6562208B2 (ja) | ガラス板の製造方法及びその製造装置 | |
KR20190006046A (ko) | 웨이퍼 수납용기 | |
JP2008071611A (ja) | プラズマ表面処理装置の電極構造 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060419 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080820 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20080924 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081224 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090116 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4250033 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140123 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |