TWI320022B - Treatment system - Google Patents

Description

1320022 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種處理系統，係將被處理基板自匣盒站側之

匣盒抽出，於處理站對該基板施以一連串處理之後，送回匣盒站 側之匣盒。 I 【先前技術】 自以，，平面顯示器(FPD)或半導體裝置之製造，多使用如例 專1J文獻1所揭示處理系統，將各種處理裝 理。—般而言，該種處理系統係於將處 固定片數未處理基板之£盒投人E盒站，並 將收^有α〇ι數處理完畢之基板龍盒自g盒站 站之間，可多軸移動之輸送機構或輪送機哭人進行美i 機器人具有將基板大致保 ί二ΐϊΐΐ 基板，將取出之基板輸送到處理站之搬入 口飞夕口用Μ基板依序自搬入部經過一連 、、 部為止之輸送機構或輸送裝置。當處理站3有 取的基板輸送到ϋ盒站，並收納到反，將接 常為原H盒内的原收納位置）。又，處理 思彳納位置(通 獨立者雖然佔地(footprint)會變大，作是於生與搬出部分離 的。 ；曰文人1一疋於生產能力方面為較佳 [專利文獻丨]曰本特開平11-54588 【發明内容】 [發明欲解決之問題] 1320022 係將基板以;’輪达機器人於匣盒站與處理站之間 處理ϊίϊίϊ Ϊ 1片未處理的基板，或僅收納1片 搬入1 >1未W : $觀亦為’雌人部以_次的接近僅 完畢之處出部以—次的接近僅接取1片處理 秒畢則i'线全體之動作循環時間或作業時間為例如6〇 各站上：：、幾态人於1個60秒的週期内，只需進行⑴移動到匣 之以、(2)自該E盒將1版望之未處理基板Ϊ出 二處站之搬出部、⑹自搬出部接取1片處理完畢之 ^於該盒、（8)將1罐理完畢基板收 L雜處理系'统’由生產能力提升之觀點，被要求切實

作輩時°由此點’藉由於處理站側設置多台規制全體 速度的處理裝置並使其平行運轉等方式，能對應短作ΐ 金站與處理站之間，輸送機器人係以如以往： 样订土板父接或輸达’由於機ϋ人之動作速度極限，益法期 待巧站側配合地將作業時間改善，以致成為瓶賴在。“U 絲有鑑於f知技術之問題而生，目的為提供—種處理系 幅改ί益站及處理站透過輸送機構結合之系統中，作業時間大 [解決問題之方式] 為了魏上述目的，本剌之絲线具有:處職，包 等逐片處理之多數處理裝置，將前述基板依序輸送到該 處理裝置而施以—連串處理；⑽站，於前述處理站附近， 4 1 =置1個或多個以可使多片基板出入的方式多段收納的匣 二，輪送機構’ f狄前舰盒站與前述處理站之間，自前述心 卢一則述匣盒將基板以2片為單位輸送到前述處理站，並使 免完畢之基板以2片為單位自前述處理站送回前述昆盒站上任 1320022 $逑=入部’設於前述處理站，將未處理之基板以2 it 構躲’而逐片地供給初段的處理裝置； 2ΐ广t處站，自最終段之處理裝置逐片地接取完成 斤有處理元畢的基板而以2片為單位交接給前述輪送機構。 户理ϊ本ϊ明之處理系統，由於輸送機構對於匡盒站側之®盒及 ίΐί，，/搬出部，將基板以2片為單位交接，並於兩站^ 2倍時間。藉此，能於不受輸 作業日^制下’留有餘裕地於處理站之作業時間規制系統全體之 點而==明之—較佳態樣，於處咖設置了以搬人部作為起 1片地延t第1輸送路，將未處理之基板自搬入部逐 部具有·第 片tn1輸送路上既定之載置位置。該裝載 第1輸送路上之載置位置上方之第 St疋！的第2位置而臨時地支持；第1升降構件，可於t 板分別?及第1移載部，將未處理之2片基 構件於原第2臨時支持部後，使第1升降 2载Si後’使第1升降構件於原位置及第2位置來二 :言冗以=2:_多到載置位置= 將以2片為—支持部及第1移載部之合作動作，能 序装载於第1輸自輸送機構以最短路線有效率地依 依知本發明之一較佳態樣，第i臨時支持部具有:第工支持臂， 1320022 =====之錯直的第1旋轉轴作為中心而於 持鎖，ί裝間旋轉;-或多數支 臂旋轉驅動。又，第2餘0士 ±，4f弟支持#驅動部’使第1支持 其如:' 時支持部具有：第2支持臂，可以蘇、 側之錯直的第2旋轉軸作為中心而於Μ置: 於該第2支持臂；及第2 銷，安裝 就該構成，第丨及第2 動:卩將第2支持臂旋轉驅動。 及第2支持臂旋播部猎由以既定時間安排分別使第！ 第3送路輸送到搬出部。於該情形，搬： Ϊ ’理完畢之基板自第2輸送路上既定取 前、f於、^^片地旱起，將處理完畢之基板以2片為一組交接仏 。該卸載部為了將自第2輸送路上之取出位 元畢基板以2片為—組交接給輸送機構，呈有.第 之HiH2,板分職時地支持於設定於取出位置上方 上取出位置下方之原位置與取出位置上方之前 片S 構件於原位置與第6位置之間來回移動而$ 忒弟1片基板自取出位置移往第4臨時支持部，苴次，去 ί板:取出Ϊ置後’將第2升降構件自原位置與第^置j 來回私動而使第2 #基板自取出位置制第3臨時支持部 5; ?Γ弟3及第4臨時支持部與第2移載部之合作動作，ί〔 而s;=r第2輸送路以最短路線有效率 依照本發明之一較佳態樣，第3臨時支持部具有:第3支持臂， 1320022 可以藉設於基板升降區域外側之鉛直的第 第5位置與基板升降區域外側之第7位置之作為=而= ，’絲於該第3支持臂；及第3支持』= 技轉驅動。又，第4臨時支持部具有：第4 —支持 之ϊ直的第4旋轉轴作為中心而於第 於該第4支持臂；及第4支持臂驅動 麵’安裝

，’第3及第4臨時支娜由以既J 及第4支持臂旋轉，能使將基板以2片為 或輸送機構平順地進行。 、、私載部 ’ ^本發明之—較佳態樣，輪送機構 處理站之搬入部= 相同dliL 處理站之搬出部搬入搬入部時 相门的上下位置關係—起搬出。以該方式，將 下2^ίί搬入/搬出，能謀求省空間化或輪送有效率。土 严理ίΐίίϊ之—較佳態樣，處理站具有對調部，將朝向初段 二入Γ先送出之第1基板及後送出之第2基板的輪 随過多數處理裝置輸送至搬出部之途中，相 互對调。較么為，該對調部設於第i 4第2輸送路之中任 又其=«^部之較佳構成例而言，可具有:第5臨時支持部， 設定在較第丨或第2輸送路上既定對調位置為 mj〇位置，帛3升降構件，可於設定在對調位置下方之原 2之間升降移動;及第3移載部，當第1基板到達 升降構件於原位置與第9位置之間來回移動， 移到第9位置’並於第2基板通過超過 i ΐίί且使^升降構件於原μ與第9位置之間來回移 处伽板自第9臨時支持部移卿調位置。藉由該構成， 此利用輸送路吨調2片-組之基板的輸送轉。 _ 依照本發明之—較佳祕，輸構财··輪送本體，可於£ 10 1320022 盒站與處理站之搬人部與搬出部之 运本體，能沿水付向進退絲難動，輸’ *裝於該輪 出，接著，將該等未處理之第i 及弟2銷組而同時取 並將處理完畢之第1及第2基板自人於搬入部， 而同時取出，接著，將該等處銷組 匡盒。以該方式，輸送機構如果為2送回 送臂之!次操作將二板部之接近時’能以-輸 盒站:處構具有:輸送本體’可於e 第平方向來回移動所望的行程；及 夕乂' 土板支持用，各固定於該等第1及第2輸送臂 組第in基板自_於第1及第2銷 時或依序L=部接;處===同 ίί之ί 2ϊ’=ΐ?或峰也取出’接著，將該等處理 =举之弟1及弟2基板同時或依序送回匣盒。 送機構具有如該2個獨立之輪送臂彳盖 m ^ 、‘只珣 出部接近時，將第i 構造，對於11盒、搬入部或搬 劈Pit / 4 以上下2段重疊的方式使兩輸送 2 行程的進退動作—次將2片基板同時交接，能使 交』运#侧或依序以1次之進退動作而將2片基板逐片地依序 [發明之效果] 照本發明之處理系統’藉由將站與處理站之 二真土板父接及輸送以2片為-組進行，能達成作業時間之大幅 Ιί又吾。 1320022 【實施方式】 來說明本發明之較佳實施形態。 處理=㈣統之—構成例的塗布顯影 系統1G係設置於清淨室内，例如以 的清‘抗布Γ&ΐίϋ製造處理的光微影步驟中 士淑㈣mi 賴顯減舰等各處理者。曝光處理 由Άω接而設置之外部之曝絲置12進行。 塗ίίΐί 2統10於中心部配置有横長的處理站 面站α謂，、=f (Χ方向)兩端雜置紐盒站(c/s)14及界 =站_8。於£盒站(c/s)14與處理站(鄉6之間設有輸送單元 E盒站(C/S)14為系統1〇之£盒搬 1 _個(_ 為 二多段重疊的方式收納。又，圖示_省略， ，^站(C/S)14尚fm裝載蟑’於與無 器之間進行匣盒C投人及送出；或者 ^早H翰运機 il盒C正面將光感測器於錯直方機構’於各 基板有無或位置錯辦進行絲性檢等。1各收納位置中 輸达單元20具備:輸送路22，與g盒台15 路22上水平移動。雜送機構24可於χ、γ，ζ，θ4轴動作， 並具有可將基板大致保持水平而進退移動之輸送臂24a，能 近ϋ盒台15上任:tn盒C而使基㈣錄盒。内任意收納 出^，同日^將基板G交接至處理站(p/s)16側 構1 具體構造及作用於後詳述。 荆九恢偁Μ之 於，理站_16 ’各處理部賴處理流程或步驟之順序 糸統長，方向=方向)延伸之平行且反向的—對線A、B配置°。 更„兄’於ϋ盒站(C/S)14側起朝向界面站( 游部之處理線A ’以橫向一列崎搬入單元㈣12〇、’清^ 12 1320022 部25、第η/熱處理部26、塗布處理部28及第2熱處理部3〇。其 中，搬入單元(m)120與清洗處理部25以第1平流型輸送路連接^ 在此’清洗處理部25由平流方式之準分子UV照射單元卜一_41 與擦磨清洗單元(SCR)42所構成。 立另一方面，於界面站側起朝向匣盒站(c/S)14側之下游 部之$理線B，以橫向一列地配置第2熱處理部3〇、顯影處理 32、脱色處理部34、第3熱處理部36、檢查單元(AP)122、對; f元(CH)124及搬出單元(OUT)126。其中，顯影處理部32與脱^ 處理部34以第2平流型輸送路連接，檢查單元(Ap)m及對 =(CH)U4及搬出單元(OUT)126以第3平流型輸送路連接。於該 線形態、，帛2熱處理部30位於上游側之處理線a最後尾部^ 位於下游側之處理線B之前頭，跨越兩線A、B間。 A、B之間設有輔助輸送空間38，能將基板g以 方向ίΓ方向7)雙ίίί穿梭裝置4〇藉由未圖示之驅動機構能於線 Λ ^鄰f清洗處理部25下游側之第1熱處理部26,沿著處理線 型的輸送機構46，於其__乡鱗元μ 斤示，於上游側之多段單元部卿4， f 妾用之通過單元(pasSl)5〇、脱水烘烤用之 )52、54及黏附單元⑽56。在此，通過單元 又，G平舰自輸纽私(SCR)42側接取。 夕、畜$二奴早兀#(TB)48，自下起依序疊排基板交接用 it 2Ι二^早 用以將基板G以平流送到塗布處理部 ^ 2所示，縱型輸送機構46具有: 鉛直方向延伸之引導執道68升降銘叙 聪/ϋ T/口者 降輸送體70上以Θ方向旋轉哎旋韓·於二_ 72 ’可於该升 輸送體72上戈轉’輪运臂或銷組74，於該旋轉 輸运體72上s支持基板^面往前後方向進退或伸縮。用以升 13 1320022 降驅動升降輸送體7G之驅動部76設於垂刻導軌道68之如山 側，用以旋轉驅動旋轉輸送體72之驅動部78钱‘而 70 ’用以進退驅動輸送臂74之驅動部㈨安裝於旋轉輸=^體 各驅動^ 2、78、⑼例如可由電動馬解構成。該構成之輸送 構46能於尚速地升降或旋轉運動而接近兩鄰之多段單元 (TB)44 48中之任思單元，也能將基板G交接給助 側之穿梭裝置40。 側^工间別 鄰接於塗布處理部28下游側之第2熱處理部3〇也與 熱處理部26具有相同構成，於兩處理線A、B間設有縱型輸 構90，於處理、線A側(最後尾部)設有一多段單元部(tb)88，於 理線Β侧(前頭)設有另-多段單元部(ΤΒ)92。又，配處 部32下游側之第3熱處理部36也與上述第i熱處理部^或^ ϊίΐί 構成’沿著處理線B設有縱型輸送機構100, 並於其刖後兩侧s又有一對多段單元部(TB)98、1〇2。 界面站(I/F)18具有用以將基板G與鄰接之曝 輸送裝置刚，於其周圍配置有緩衝台(腳)1〇6、延伸•冷f台的 (EXT, · COL)108及周邊裝置11〇。於緩衝台(BUF)1〇6設有定置型 之缓衝®盒(未圖示）。延伸·冷卻台(Εχτ · c〇L)⑽具備冷卻 月b，為基=交接用之台，係於將基板G接驳於處理站側時 使用。周邊裝置110可為將例如字幕產生S(TITLER)與周邊曝光 ^卿以上I疊層之構成。輸送裝置104具有能保持基板G之 ^置’例如輸送臂104a ’能進行基板G_接曝絲 单元(觀胸、(EXT · COL)1〇8、(TITLER舰)11〇之交接。飞谷 圖3顯示於該塗布顯影處理系統中對i片基板〇處理之步 驟。首先，輸送單兀20之輸送機構22自g盒站(c/s)14之台15 上的既賴盒C中取出基板g ’並搬人處理站(P/S)16之搬入單元 =)120(步驟S1)。基板G自搬人單元卿2〇被提供給清洗處理 邛25。搬入部120之構成及作用於後詳述。 於清洗處理部25内，基板G於第j輸送路上沿處理線a方 14 1320022 皮輪送，途中依序被準分子uv照射單元(e— ^及

Hr權耶2施以紫外線清洗處理及擦磨清洗處理(步驟〜 夺磨清洗單元(SCR)42内清洗處理完畢之基㈣，維 輸送路上之狀態被搬入第1熱處理部26之多段單元 4(TB)44内之通過單元(pASSl)5〇。 序被% 反2由縱型輸送機構46以既定順 。例基板G紗自通過單元(PASSL)50 欠，id丨)52、54之一 ’在此接受脱水處理(步驟S4)。 -人基板G被移到冷卻單元(c〇L)62、64之_， ς 二^==步驟S5)。Μ，基板G被移到_單元 =L(步驟16)，水化處理結束後，基板G以 ▽卻早兀(COL)62、64之一冷卻至到達一定之基板 G被移到屬於下游側多段單元部^過單元。 以該方式，於第！熱處理部26内，基板G能透 於上游側之多段單元部(TB)44與下游側之多段單元邙 進仃相同之基板輸送動作。 加也月匕 游側鄰之塗布處理部28之抗_彳塗布單元(ci)82 /)被和到下 (被;劑塗布單元(ct)82藉由例如旋塗法於基板上面 被處理面)塗布減舰，f接騎 敬上面 接受減厂_的乾燥處理，接著，於下游 除去基板周緣部多餘(不要)的抗_(步驟叫。又， 於抗钱·布單元仰82採關如使 又_ 接28,受如上述抗繼布處理之 接給位在下游侧鄰之第2熱處理部3G之上游側屬於多段單^又 15 1320022 (ΤΒ)88之通過單元(PASS)。 於第2熱處理部30内，基板G藉由輸送機構9〇以既定順序 巡迴=既定單元。例如，基板G起先自該通過單元(pASS)被移到 加熱單元(PREBAKE)之一，於此接受抗餘劑塗布後之供株(牛 S9)。其次，基板G被移到冷卻單元(c〇L)之一，於此^卻^達到 一定的基板溫度(步驟S10)。其後，基板G經由下游側多段單元 (ΤΒ)92側之通過單元(PASS)，或不經由而交接給界面站(ι/ρ側 之延伸•冷卻台(EXT · COL)108。

於界面站(I/F)18，基板G自延伸•冷卻台· c〇L)1〇8被 搬入周邊裝置11G之周邊曝光裝置(EE)，於此接受用以將附著於 基板G周邊部之抗蝕劑於顯影時除去之曝光後， 裝置 12(麵 Sll)。 ^ 於曝光裝置12，於基板G上之抗钱劑既定電路圖案被曝光。 然後，圖案曝光結束之基板G —自曝光裝置12送回界面站 (I/F)18(步驟S11)，首先被搬入周邊裝置11〇之字幕產生器 yTITLER)，於此在基板上既定部位被記載既定資訊(步驟Μ〗）。豆 後，基板G送回延伸·冷卻台(EXT · C〇L)1〇8。界面站 & 中，基板G輸送及基板G與曝光裝置12之接駁由輸送 進行。 於處理站(P/S)16，第2熱處理部30中，輸送機構9〇自延伸 卿⑽接取曝紋成之基板G，透過處理線B令 夕又早元。p (TB)92内之通過單元(pASS)交接給顯景多處理部32 於顯影處理部32,自該多段單元部(TB)92内之通過單元(pAS: 取之基板G被搬入顯影單元(DEV)94。於顯影單元①E 4^ ^ 輸送耻躺處雜B之下游，例域紐輪輸送 =机方式輸达，並於輸送中實施顯影、沖洗、乾 處理步驟(步驟S13)。 卞予逆甲為 逆路ΐΐΪΐϊΪ 32接受顯影處理之基板G，維持裝載於第2彰 路上之狀恶被搬入下游側相鄰之脱色處理部34，在此接受i綠 16 1320022 轨户理二二上驟8匕)1之後被送到為第2輸送路終點之第3 ^，側多段單元部㈣98内之通過單元⑦娜）。 *献:弟理部％ ’基板G起先自該通過單元必⑹被移到 1 卩至蚊之基板溫度(步驟Sl6)。第3熱處理部％ 之宁基板G之輸送由輸送機構1〇〇進行。 此;二單兀_S · C〇L)接受冷卻處理之基板G，於 輯於弟3輸送路喊到檢查單元(AP)m。於檢查單元 ϋ,Ι Fi’i^^板G以例如滾輪輸送—面鶴—面對基板G—上之 ΐϊϋ 線寬檢查或膜f •膜厚檢查等(步驟S17)。檢查結 2 L 狀胁自第3輸送路上錄B方向下行，通過對 Ϊ 達搬料元(GUT)126内之終驗置。於對調單 兀(CH)124，被一起搬入搬入單元职)12〇之2片為一組之基 輸送順序被對調。搬出單元_)126自第土3輸送 接位置使輸送單元2G之輸送機構 於it )搬出單元(ουτ)126之構成及作用 牛驟f f^24自㈣單元(OUT)126取岭布顯影處理之所有 it將^出之基板G收納㈣盒站(c/s)14 ‘ 原收、吊，係送回未處理時收納之賴盒内之 於該處理站(P/S)16，規制作業時間之主要處理裝置 ’尤其是祕舰布單元(CT)82。，藉由使抗^虫劑1 布早tl(ct)82内之塗布處軸作高速化，或設置多台塗 運轉之方式，驗處理歸/S)16内健剌Α幅地縮^ 於該塗布㈣處_統10，輸送單元2G之輸送機構 &站(C/S)14及處理站(P/S)16之間將基板㈣2片為一組^於 17 1320022

Gi+1)進行交接或輸送。 —圖4〜圖7顯不輸送機構24之-構成例。如圖4、圖5及 戶^^送H有触基部或輸送本體130，該等能沿著構 成輸运早兀20 $之輸送路的輪送路22於γ方向水平移動 = 运本體130具備:巢型3層箱構造之升降部132,及於該升 ϋ 上面以可旋轉方式安裝的圓盤型旋轉體或轉盤134。 ”降部132，分別具有上面開口之外^體136 138及内側箱體140。外側箱體136之左右側 ^體 ⑷’與在γ方向延伸之輸送路22以可滑動方式卡合，2丨由導/ ^直進驅動機構例如傳送帶機構，能於γ方向直進移 ， 138 136\ 之螺Ί管(actua!or)例如滾珠螺桿機構可對於外側 於既疋行程或南度以内升降移動。内側箱體140 二移巧之方式被裝入中間_ 138之中，藉由未圖示之螺 ^物料轉觸謂射卜觸體138相對地於既 或尚度以内升降移動。該實施例如圖6所示，為於升降邻 方*王屮體之任意高度位置，中間箱體138相對於外側碰136向上 與内側箱體140相對於中間紐138向上方之行 ΐ ίΐΓ持同(hl=h2)之方式構成。於内側箱體140内之上 動馬tl42用以使轉盤134繞中心轴(垂直軸)旋轉或旋轉之旋轉驅 臂24a輪之Γ盤134安裝有於水平方向伸縮自如之輸送 lp(lmk)146、148 ’與上下一對之銷組⑽、152以直列方式連t f 地說，如圖4及圖7所示，第1環節14基 Γ於水平㈣旋轉之方式安裝於轉㈣Ϊ 以可環節148之基端部透過旋轉轴(財_ 、好面内方疋轉之方式被安裝。於第2環節148之前端部， 18 1320022 而保持之鎖組】5G、152之基端部透過旋轉軸(腕 軸)J3以I於水平面内旋轉之方式被安裝。 皮帶、及環節146、148之内部，内建有傳動機構(例如 ^ί動等)’其將安裝於轉盤134之未®示驅動源(例 例，俜達到各環節部或手部。於該實施 丄基端部之旋轉轴(肩_作為原點，以使鎖 146、14S 銷組長邊方向直進移動之方式，使第1及第2環節 ，及銷組150、152三者連動而旋轉運動。 自^、152具有:結合於腕軸；3之水平基本板154，及 自该基本板154往銷組長邊方向水平延伸之一對銷組 組臂156由例如碳纖維強化塑膠(CFRjy)構成，於苴上面杏門 如由聚㈣_(Ρ0Μ)構成之多巍附塾‘ 連接於真ίίί(板未=)真空吸附力吸附保持於基板背面側之用， 圖8所示’輸送機構24於接近11金站⑽別時， ί d被選擇之E盒c正面，使輪送臂24a動作而自 更;丄下t 片基板Gi、Gi+i以1次之臂操作同時取出。 ^平::地說’使輸达臂⑽魏定高度位置往前方移動或前 „ 150、152各插入匣盒C内該基板Gi、‘之下次接 到二微往垂直上方提起而將兩基板Gi、&移載 臂=6，同時對各吸附墊158提供真空吸引力，而將= 板Gi，Gi+1各自吸附保持於兩銷組15〇、152。 ===，Gi、知各“於== 2之狀態自5亥匣盒C同時取出。輸送臂24a或兩銷組丨 之上下移動係由輸送本體13〇之升降部132進行。 ，輸送機構24於-輸送臂24a具備上下-對之銷組^工’ 能以-輸送臂之1次操作將2片基板Gi、Gi+i有效率地 又、 兩銷組150、152之上下間隔對應於内基板 ^ ’ 圖示雖省略’於昆盒C内設有將各基板G以水平4::支〜 19 1320022 部 B车，f Ϊ#進行於Θ方向之旋獅作或Y方向之直進移動 内既定:為:係使兩雜15G、152後退雜墙送機構24 广兄疋之本位置(h〇mep〇siti〇n)，以使兩銷組15〇、⑸上之 _ιΓ之接近該最小讀轉半徑關。接近處理站 妬Γ r n f兀(政)120及搬出單元(OUT)126時，為了將兩基 =動Ϊ:;時交接，亦與上述以相同方法進行輪送臂池之進 詳細ϋ依圖9〜圖18 ’對處理站_16之搬人單元㈣12〇 單元(师2G及清洗處理部25之全體構成。如 ϋ方向i^T)12G及清洗處卿25料有將雜滾輪160 162,並線A之方向)以既定間隔配置而成之第1輸送路 Μ而传二ΐί輸送路162 f 一列配置之5個區塊或組件从〜 成5有用二-、^化。於將該等組#Ml〜M5分隔之隔壁164，形 路162之狹縫166 °又’輸送路162被引入第1 ==)中=單元部~通過單元 4 πΐτ等5個組件Ml〜M5之中，位於輸送路丨62最上游^ 射!成搬入單卿〇，並且第2的組件 洗單ΐίίΊ州41 ’ μ 3她件M3、M4、叫構成擦磨清 搬入單元(IN)120具有:臨時支持部168，一次將2 H^ ii自2G之輸送機構24於水平狀態同時接取，“ ，及移載機構170，將基板Gi、Gi+1自臨時支持 ^及送路162上既定位置。搬入單元(IN)12G内湖 =子uv照射單元卜爪…設有燈室Μ，其係於 上方收納紫外線燈172而成。紫外線燈172由例如介電體阻隔 1320022 =燈構成’將有機污染清洗較佳 m 子光)通過石英玻璃窗176照射於正 沿著=，(scr)42，組件乂細磨清洗== 喷霧^84等。i己ί ^盖學液供給喷嘴180、親刷182、清洗 置有沖洗噴嘴186==Ϊ|Ϊ=室内在輸送路162上方配 以收集落於輸送路162之下之液體0=-置有用 底之排液口連接回收系統或排;:=;、。185、. 處理ίΪ5中^體〜(D) ’朗搬人單元_()及清洗 中各基板G位置或移動變化之^i〇iAMD)為搬入早几(_20之 G1+1 ，9之虛線所示’ 一次將2片基板Q、 ^單/時自輸料元2G之輸職構24搬入於搬 卿6收納於£盒^=同^也^，與f紅 Gi+i在上。 糊j也就疋沉，為基板Gi在下，基板 既定，2ίϊ^120内’臨時支持部168將兩基板6、‘各於 17〇 自ί態水平支細1G之⑷)。移載機構 逆路H 持部8拿取T段基板Q，放下到正下方之輸 iH载置於既定位置(輸送開始位置)(圖10之⑼）。緊接 構藉由電輪⑽透過旋_練或錄等傳動機 ίίΐΐΪ：達之驅動力使基板邮前進方向旋轉。如此-來， 上藉由滾輪輸送往相鄰的準分子w照射單 内之作孝日± 1G之(C)) °然後’經過對應於清洗處理部25 A板ί — ^間後，至此被支持於臨時支持部⑽之上段 載tti7G被拿取而裝載於正下方之輸送路162 °置以平抓滾輪輸送送出至準分子UV照射單元(e 21 1320022 、、'm(圖ι〇之⑽。又，於輸送路162之中，較佳為將滾輪輸 k之驅動糸於搬入單元(ιν)120與清洗處理部25之間加以分 並使獨立動作。 ° 於π洗處理部25中，於準分子UV照射單元(e—υν)41，從 内之料線燈172糾之紫外線透過石英玻璃窗176被照 路162上之各基板G。藉由該紫外線，使基板表面附近 $被，發而生成臭氧，藉由該臭氧使基_面之有機物氧化· H除士去。離開準分子uv照射單元(e—uv)41之後，其次，各 土板G破搬入擦磨清洗單元(SCR)42之擦磨清洗室Μ;。 於擦磨清洗室Μ;内’各基板G起先藉由化學品溶液喷嘴· 例如酸紐系之化學品溶液。接著，將錄糾一面於親 下磨擦—面通過脫離。輕刷182以未圖示之刷驅動部之 往與輸送方向相對之方向旋轉，並擦掉基板表面之異 片、污染物等）。之後緊接著，清洗喷霧管184對各基 板人达清洗液例如純水，流洗掉漂浮於基板上的異物。 “磨π洗室M3之後，各基板G通過沖洗處理室m4。於沖、、先 J理J ? 4，沖洗喷嘴186對輸送路162上之各基板g提供沖:先 2，，。藉此，自將擦磨清洗室％帶到各基板g上之液 物/示沣者的液體)取代為沖洗液。 '、 —冲洗處理室Μ#之後，基板G被送到乾燥處理室m5。於乾燥声 氣刀188將刀狀之銳利氣體淹例如空氣碰觸被輸送到輪 之各基板G。減，附著於基板G之液體藉由空氣之 於乾燥處理室M5經過液體甩落之各基板G以原狀 到相鄰的第1熱處理部26中之上游側 及二ί·:圖11〜圖18對搬入單元_2。内更詳細之構成 圖1^及圖12顯示搬入單元_20内要部構成 面圖。於搬入單元_12〇内，固定於地板之框架刚縱横地 =則 22 1320022 =該框架190安裝有輸送路162之滾輪16〇、臨時支 載機構170 '輸送驅動部192等。 、σ卩矛夕 固定水平地支持於 :可旋轉财式支_定在框_之轴mj； 12 ^端(長邊緣部)之__H6Ga，&==基= 基板G之中間部之多個圓筒形滾軸部祕 =持 二一2成接受基板〇下端側之侧面的鳄狀粗^ 輸达驅動。P192具有:電動馬達198，固定於⑽ 之旋轉驅動力傳達到各滾輪挪該傳動 使该旋轉驅動軸202與各滾輪16〇 /輪204 力口移«構m具有：多數空氣氣缸動固定於框 二190之底部，升降基部2〇8，由結合於該 舌 降機21°，於輸送方向(X方向)= 鎖桿212」於¥方峡伸；多數升降 洛κ 干 在長邊方向隔適當間隔朝上安裝，·多數空 上ΐ裝。5 ’為使水平桿212升降移動，於升降基部208垂直地朝 退移示ϋ機士210於升降範圍内之最低位置即原位置或後 ^夕，位置，王雜中之狀態。於該狀態，升降基部升降用之空 及升降機210之空氣氣紅215的各活塞桿為後退的狀 i “;?12位於滾輪160之下，各升降銷214前端鑽進輸送 構24^ϊίΐ!ϋ68將藉由輸送單元2〇(圖11中為左鄰)之輸送機 構Μ將裝載於輸送臂瓜之銷組⑼⑸而以水平狀態搬入之 23 1320022 =為組之基板在設定於輸送路⑹ ±. 乂接'，°私载機構170為止。於圖示構成例之中，臨

日:去二15168由用以將兩基板01、Gi+]個別支持之第1及第2臨 哙支持部168A、168B構成。 示次弟2 L 等臨時支持部168A、168B，各由:多難轉轴216A、細， 5:1降^周圍^於錯直方向延伸；旋_動部，例_ ί〇Α 20B ίί 216A ' 216B ； ^ 於妒亩卜古κ.^址丄在各水千支持臂220a、22〇b， 二，上方l伸，所構成。水平支持臂22〇a、2施

St携之各旋轉氣紅218A、2聰之旋轉驅動，“板升降 =相之原位置或後退㈣位置與_之麵移 轉或％轉移動。圖12顯示於第1及第2臨時支持H68A = J J ’依圖12〜圖18說明搬入單元卿2。之作用。自 2或，，理之基板G E盒站(c/s)14搬入之前，於搬 職 =二3持部麗、娜之各水平支持f 2嵐、2施(於f O 乂，域内之前進移動位置舰待機。然後，輸送機構' = :圖11之左側)將輸送臂22a之兩鎖組15。、1521。使兩f 5鎖2於 =狀態分別交接給兩水平支持臂2觀、22阳之1 上。此時，如圖12所示，移載機構17〇使升Ϊ …升降基部208在原位置或後退移動位置待機。 =送機構24之輸送臂22a將兩基板Q、& :支持部168A、168B而後—自搬人單 S = =m使升降基㈣8及升降機210自圖12之原:置 =達圖13之第1前進雜位置為止。如上述，由於 於輸达方向(X方向)隔既定間隔設置多個，因此，使得全部 = 升降 24 1320022 機2=二起以相，的時間安排運動。詳細來說，升降基部升降用 之空ί氣缸2〇6藉由使活塞桿前進或伸長’能使升降基部208以 水平妥勢上升，並且安裝於升降基部2〇8之各升降機一起上 ^在此同時’各升降機21〇之空氣氣紅215亦藉由使活塞桿前 ’ ΐί升降機210 * ’升降銷214及水平桿212脫離輸 达路162之滾輪160之間而上升，進一步升降銷214之上端上 =達第m時支持部168A之基板支持位置(嚴格地說，為僅較 j微狀位置）。於該升降機21()上升或驗移_作之途中， &升ΐϋ平支持臂22GA之支持銷222維持水平姿勢移動裝載 以該方式基板Gi自弟1臨時支持部168A之支持銷222A f 之升降銷21R交接一完成，第i臨時支^ 168= ^水平支持臂220A旋轉而退避到基板升降區域之外(圖 著，移載機構170使升降基部2〇8及升降機21〇自圖14之丨、 進移動位置下降至骑gj 15之後退鶴健。詳細地說，升 ，升降用之空氣氣紅施及升降機21〇之空氣氣缸215藉由使^ 之活塞杯後退或縮短，於各升降機21〇，使水平 m送路162之滾輪160之間而下降至到達原位置 =置:升降銷214之上端變得較輸送路162為低。於該= 平:欠2板Gi自升降機210之升降銷214維持水 千文勢移純載到滾輪16〇之滾軸部施、函。以該 美 ΐί 平狀態鋪置魏餅輸魏162上之輸送開始位置: 其後’基板Gi於輸送路162上藉由滾輪輸送被送到清洗處理部25。 叫上述’基板Gi自搬入單元卿20被送出之後，以既定之時 =女排’移載機構170將升降基部施及升降機21〇自圖15之 置上ί移動到目16之第2前進移動位置為止。此時，升降鎖 之上立而上升至到達第2臨時支持部⑽Β之基板支持位 ==、，為僅較其猶微高之位置）。於該升降機21〇上升或前進移 動動作途巾’基板Gi+1自水平支射遞之支_ 22犯維持水 25 1320022 平姿勢移動裝载至升降銷214。 上藉此’當將基板Gi+i自第2臨時支持部168B之支持銷222B 交接給升降機210之升降銷214 —完成，第2臨時支持部168B使 各水平支持臂220B旋轉而退避於基板升降區域外。緊接著，移載 ，構170使升降基部2〇8及升降機210自圖Π之第2前進移動位 置下降至到達圖18之後退移動位置。於該升降機21〇下降移動之 ’基板〇i+1自升降機210之升降銷214以水平狀態移動裝載 U輪160之滾軸部160a、160b。藉此，基板Gi+i以水平姿勢被 ，，至輸送路162上之輸送開始位置。然後，緊接於該裝載，基 扳Gi+1於輸送路162上藉由滾輪輪送被送到清洗處理部25。 如上述，於該搬入單元(IN)12〇，在輸送路162之上方，第工 以ί 支持部168A、聰將藉由輸送單元20之輸送機構Μ 捭仂罟—起被搬人之基板Gi、Gi+1，分別於第1及第2基板支 Ϊ 大致水平地支持。紐，移載機構⑺起先使ί 輪送路‘US詈將=Gi以水平姿勢自升降機21〇裝載至 之既位置。然後，於輸送路162上，基板G_被送屮 路162 ί之Ϊ"洗處理部25後’移載機構170使升降機21()1自輸送 藉由第2臨時支持部刪丄弟丄基板支f位置為止’而 臨時支捭邱、土板Gi+卜准持-水平安勢接取，於第2 P夂、Γΐ持4 退避後，使升降機210下降至原位詈A +，二 處理部25。.以此方式，以2片A 土板⑴也被迗出到清洗 之兩基板Q、Gi+1，以基板j 人單元㈣12〇 到處理站(P/S)16 @之各處理部在先、基板Gi+1在後依序地被轉送 於搬入單元_2〇中，。依照如上述搬入·裝载•送出方式， 26 1320022 ΐ之構成，將藉由輸送單元20之輸送機構24被以上 喊二於輸i::入之基板巧，、依序地以最短路線有效率 處理部2$。、 ’而以平流方式提供給初段之處理裂置（清洗 圖19(A)〜(D)〜圖24’對對調單元(CH)124詳細説明。 務動⑷〜Ϊ")顯示對調單元(CH)124之中，各基板〇之位置或 元(nii2〇t^。如上述’以2片為一組一起被搬入於搬入單 艎H之1^基板Gi、Gi+】以Gi在先，Gi+1接在其後之方式，被 Ϊ达由iZ(fS)16内，各處理部。因此，於對調單元(CH)124 以平泣方7、!=檢查早雄p)122先完摘有處理之基板㈣ 千机方式达到第3輸送路230上(圖19之(八))。在此， 奉ϊί滾輪騰x方向(處理線b之方向)以既定間隔 ί „内之通過冷卻•單元(PASS ·C0L)通過檢查單元(ΑΡ)122 及對调單兀(CH)124延伸到達搬出單元(〇υτ)ΐ26。 一=對调單元(CH)124，當基板Gi__到達既定之對調位置，該 =内之滾輪輸送停止，緊接著基板Gi自輸送路现被帶到設 ^2方3避位置(圖19之⑹）。之後’由上游側之檢查單元 (兀成所有處理之基板Gi+1平流地被送到輸送路230(圖19 之(B))。基板Gi+〗在對調單元(CH)124内不停止，而通過超過退避 於上方之基板Q之下(圖19之(C))。基板Gi+1通過超過之後，某板 ϋ上方之退避位置下到輸送路23〇上，以平流之滾輪輸送^到 下游側之搬出單元(OUT)126(圖19之(0))。如此一來，於對調單元 (CH)124之中，兩基板Gi、Gi+i之輸送順序逆轉，基板 搬出單元(OUT)126，接在其後，基板Gi到達。又，於輸送路^ 之中，較佳為將滾輪輸送之驅動系在檢查單元(AP)122.、對調單元 (CH)12及搬出單元(〇υτ)126之間分割，並使獨立動作。^ 作用圖2〇〜圖24對對調單元，)124内一^ 27 1320022 面圖單元f0124内要部構成之平面圖及側 於該框架232安壯右發…々’固定於地面之框架232縱横地交又， 载機義、輪<滾輪16Q ' _支持部234、移 元‘内之構成可為相當於將上述搬入單 一者省虼夕棋/圖18)中弟1及第2臨時支持部168A、168B任 第i臨時支^ f f目當於將自搬入單元_⑽搬入 機椹Ϊ!!邠 構成省略之構造，臨時支持部2料 ' 移載 時支持部16^Γ驅動部238於搬人單元_2G分別對應於第2臨 支持WU68B、移载機構17〇及輸送驅動部192。 即眉構236之升降機210在升降範圍内最低位置 升降用之“置’待機中之狀態。於該狀態，升降基部 前端鑽位於浪輪16❹正下方’各升降銷214之 自檢轉雄哪2以平·輸送騎調單元 輪榦送彳ni輸^t23G上之對調位置’輸送驅動部238使滾 自^ 21 二移載機構236餅降基部208及升降機210 自囷21之原位置上升移動到達圖22之前進移動位置， 銷2將基板Gi_水平姿勢自輸送路230接取，並拿起 到既定之兩度位置(退避位置)。於此，時支持部234使水= 旋轉而自基板升降區域外進入其中，^23:千= 现使升降基部施及升降細下降到原位置，圖/所載= 機210之升降銷214送回輸送路230之下。夢此，美柄 路230之上方退避而被支持於水平支持臂22(^‘銷 其後，輸送驅動部238使輸送路23〇之滾 ，24所示，於輸送路230上將自檢查單元(Ap)i22輸=來的 基板Gi+1以骑止的狀態通過。藉此，基板‘於對調單元(哪24 28 1320022 内離’而^皮达到下游側之搬出單元(〇UT)126。 州/入f早球耶24内’基板Gi+1通過超過之後，輸送驅動部 234 _!門之滾輪輸送，於移载機構236與臨時支持部 234之間，使基板Gi自輸送路23〇上之對調位置:二 =置為止動作以時間倒轉的方式進行相反的動作。也^ 降機210自圖24之後退移動位置上升移ΐ到達 ^ ^ 234 板升降區域之外後，移龍错二技持部234退避到基 ^置下嶋賴 盆他ίίΐί 單元(CH)124，能以較簡易之構成，於與 片為-組之基叫上，叫好效率將2 (〇UT)126之中各基板G之位置或移動變化之示意圖。早兀 理部，但是藉_單;：(_1先兩 先送到搬出單元(〇UT)126(圖25之(A))。 、、凋1+1被 你署=單兀(OUT)126 ’基板Gi+1 —到達輸送路23〇上之線點 位置(拿起位置），滚輪輸送暫時停止， 之:、:占 起至到達蚊於其上方之上妓 ^板=由對調單元(CH)124平流地送到輸送路23〇(上) 〉(Q)。騎，搬出單元(OUT)126内之滾輪輸送再度開始。 拿起位置），滾輪輸送停止，緊接著基板^ 輸达路230被拿起至到達設定在其上方之下段交接位 29 1320022 ⑼）。藉此’口。於搬出單元(〇υτ)126之中，兩基板、g以 搬入於搬人單元卿2G時為相同位置關係，即基板 在上之位置_，被多段地配置於既定交接位置:緊接, ，皁,20之輸送機構24接近搬出單元輸別 =内”將，i、知裝載於上下-對之 而取出（圖25之(D))。 搬出單元(OUT)126，具體而言，圖示雖然省略 ^^^相^之構成’且能進行與搬人單元㈣^之動^ n反轉之反向的動作。也就是說，於搬出單元(ουτ)ΐ26， ’基板Gi+1 —到達輸送路23〇上之終點 =，升降基部测及升降機21G自圖18戶^=)動= ，動至到達圖17所示第2前進移動位置，自輸送路(23〇)上之 旱，位置將基板Gi+1裳載於升降機21〇之升降銷別而拿到上方 !^，位置’亦即上段之基板交接位置。緊接著，第2臨時支持部 B將水平支持臂220B自基板升降區域之外放入其中而使支持 加j22B鑽進基板Gi+1之下(圖16)。其次，移載機構17〇使升降基 邛208,及升降機210下降至原位置，升降機21〇之升降銷214送 回輸送路(230)之下(圖15)。藉此，基板Gi+i於較第2臨時支持部 68B，上段之基板交接位置被大致水平地支持。 其次，自後方基板Gi—到達輸送路230之終點位置(拿取位 置)’則移载機構170將升降基部208及升降機210自圖15所示後 ，移動^立置上升移動至到達圖14所示第1前進移動位置，將基板 輸送路(230)上之拿取位置裝載於升降機21〇之升降銷214， 而拿起到下段之基板交接位置。緊接著，第1臨時支持部168A使 水平支持臂220A自基板升降區域之外進入而使支持銷222A鑽進 基fGi之下(圖13)。緊接著，移載機構170使升降基部208及升 降機210下降至原位置，使升降機210之升降銷214退避至輸送 $(23=)之下（圖12)。如此一來，基板^於較第1臨時支持部ι68Α 為下段之基板交接位置被大致水平地支持。以該方式，於搬出單 30 1320022 元(OUT)126之中，藉由比較簡易之構成，能將2 Q、Gi+1以平流方式自最終段之處理裝置(檢查單元^以▲ 線有效率地上下2段平行絲給輸送單元2G 路 於輸送單元2G，輸送機構24將2 μ __ 4 自處理站(P/S)16之搬出單元(OUT)126以1 + : = 後，於侧旋轉而‘以接取二 同時收納於触納位置。輸送機構24於‘叫c 3 處理站(P/S)l6之間由於將基板之交接及輸送以 广 因=，為配合處理站(p/s)16之作業時間，只要以其進 ^動作便可。也就是說，如果處理站(p/咖側之作 仏 ⑻ί基板Gi、Gi+1、⑺移動到E盒站(c/s)14上之該E各C、 形，㈣進行即可。於該情 μ二it於該實施形態，不要求提高輸送單元如之輸送機槿 大栌扩41又極限，而能達成塗布顯影處理系統之中作聿時門之 大幅縮短，缺生產能力大為絲。 料間之 理系統10之中，對調單元 情形，自搬人單元(η^ο ^Γ Γ與清洗處理部25之間。於該 QG ί止的基板i i+1於對調單元(CH)124輸送順序㈣， :ίί其後而轉送到處理站卿6内之各: 後2達於搬出早剩126 ’與上述同樣，Gi+1先到達，GJ其 31 1320022 將未處站(C/S)14中以2片為一組 及該等A板S /二1自1取出時之兩者上下位置關係， 板送理站，16接受處理而後處理完畢之基 比皿L%之兩者上下位置關係， =二 也適二該情形== ^，於處理站(p/s)16，平流之輸送路162、⑽相於 肖度，可躲糾⑽料勢輸送。該 =处i f構0、236藉由使升降機210為可旋轉之撬型 支持部168、234以水平狀態進行與各基^ ^ 接輸运路162_、230以傾斜狀態進行各基板G之交接。 车场不本發明處理祕可_之其他實施例的塗布處理 ίί =塗布處理系統為’例如以LCD基板作為被處理 ΐ等各产理的處理之光微影步驟中之清洗、抗钱劑塗布、預 絲之邱ί Γ機(standalone)。圖中，於圖1之塗布顯影處理系 統之4刀具有相同構成或機能之部分標以相同符號。 理站統240透過輸送單元20紐盒站(c/s)14及處 3(P/S)242連結。於處理站(p/s)242，依處理流程或步驟之順序， 置於沿著於系統長邊方向(χ方向)延伸之處 ，於自&盒站(C/，側朝另一端縱型輸送機構 \ )254刖進路之處理線c，縱型熱處理部(TB)244、清洗處理 31 縱型熱處理部(TB)252以横向排成一列。在此，清洗處理部 ⑽H式之準分子w照射單元(爾)248與擦磨清洗單元 /、又，於自另一端縱型輸送機構(S/A)254朝向匣盒站(c/s)14側 後退路之處理線D，縱型熱處理部(TB)256、258、縱型及水平輪 32 1320022 送機構(M/A)26G、塗布處理單元(C()T)262、基板交接用延伸單元 0264、縱型輸送機構(S/A)266、縱 =早兀 ==7=單^丁)270、縱型輸送機構_72縱ί熱處 理。卩（）74以一〇[^刀橫向一列•一部分横向二列地配置。 於處理流程中’在位於清洗處理部246與塗布處理軍开 (fOT)262之間之縱型熱處理部(ΤΒ)252、况、2s8，適當地多段 登脱水供烤用之加熱單元卿")、黏料元_、冷卻單 =(COL)寻。又’於縱型熱處理部(TB)252，尚設有透過平流之輸 达路連接於清洗處理部246之基板交接用之通過單雄A , 於鄰接輸送單元20之其中-縱型熱處理部(TB)244，多 排配置:横入横出型之搬入單元_，可自預烘用加熱單元且 (PREBAKE)、輸送機構24及縱型輸送機構邮卯兩方(雙向 用ί通過單元(PASS)，透過平流之輸送路連接於清 洗处里邛246，荨。又，於另一縱型熱處理部(TB)274，多段疊 配置·共用加熱單元(PREBAKE);横入横出型之搬出單元且 (^UT?，可自輸送機構24及縱型輸送機構(S/A)272雙方(雙向)接 一於設於縱型熱處理部(TB)244之横入横出型搬入單元 不^省略，設有將基板(^上下2段平行而水平支持之支持部。輸 达早兀20之輸送機構24將自匣盒站(c/s)14側之匣盒c以2片 一組取出來之未處理基板Gi、Gi+i__起交接給上述支持部。在此， =基板Gi、Gi+i之上下位置關係與收納於匣盒站(c/s)14之匣盒匸 =為相同。也就是說’為基板Gi在下、基板‘在上。縱型g 機構(S/A)272可為與圖2之縱型輸送機構46具有相同構成者，以 2片為一組被搬入該搬入單元(IN)之未處理基板Q、G糾使用單— 銷組型之輸送臂74而自上述支持部依序地，例如先為Gi、之後為

Gi+1 ’逐片地取出，並透過通過單元(pASS)依序地逐片地平流地 給清洗處理部246。 八 又 1於設在上述縱型熱處理部(TB)274之横入橫出型的搬出單 33 1320022 =(〇UT)’ ®轉省略，亦設有將基以上下2 子持部。處理站卿4繼成所有處理之基 機構（S/A)272被逐片地搬入到搬出單元(〇υτ)内。在此 $機構(S/A)272京尤2片為-組之基板q、Gi+i，與到此為止之二 處理順序無關，可以用與收納於 c/s)臣： C時相同的上下位置關係，裝載於 ^二 =說，可^單-銷_之輪送f 74，將基板)t ，持位置(交接位置)。藉此，能將2片為一組之處理J畢板 之+輸平㈣―起自㈣單聊取接給輸送單元20 如该方式，於該塗布處理系統24〇由基 與處理站(_2之_交減輸紗2 ，機，24之動作速度成為瓶頸，並使系統全 ^ 短，能謀求生產能力之改善。 大巾田縮 應併設平流對 果取、Ί之處理裝置為讀或疊排， 一辟上Ϊ實施形態之中，輪送單元20之輸送機構24於一妗 达# 24a之前端部具有上下_對的銷組i5〇、15 乂 j 理f 出部(〇υτ)之接近能藉由2 ί !二^退動^將2片基板Gi、知同時交接。就變 2^4b 24f 22 2 =之^成 輪送臂施、2如安裝單—的齡150、 圖27及圖28中’於輪送本體130之轉盤134，就由3轴水平 34 1320022 多關節機器人或水平關節機器人構成之操作器而言，於水平方向 伸縮自如之2個輸送臂鳥、2如以左右並列地安裝。各輸送臂 2=中終^又動器為單一銷組150、152，除此以外，與上述 中之輸送臂2如為大致相同的構成。尤其是’於兩輪送 | 24b、24c之間，藉由為輸送臂2牝之銷組15〇在上、輸送臂2如 之銷組152在下之位置關係，能彼此互不干涉。 輸送機構24當具有如該成對型之輸送臂24b、24c時，可藉 由對£盒。或處理田站(P/S}搬入部或搬出部的接近，使銷'组15〇、曰 152以上下2段重豎之方式而使兩輸送臂2仙、24c同時並進 作1次’而將2片基板Gi、Gi+1同時地交接，也 # 24b、24c分別地個別或依序進行1次進退動作，而 二 土板Gi、Gi+1逐片地依序交接。任一方式都能將基板以2 月為一、'且(Q、Gi+1)同時於匣盒站(c/_處理站(p/s)之間輸送’因 六姑ΓίΪ地說’前者之方式，也就是將2片基板Gi、同時 ^ 式與上述實施形態為相同，具有能縮短交接時間之優 &六ί方面，後者之方式，也就是將2片基板Gj、Gi+1逐片依 同HIΪ ’於無餘裕(尤其是空間的餘裕)將2片基板Gi、Gi+i =夺父接給處理站(p/s)之搬入部(IN)或搬出部(〇υτ)時為有利 音^二f有以1次接近而能使2片基板Gi、Gj出入厘盒C内任 g ΐ優點。例如’也可於匿盒C内之每隔1個收納 位置使2片基板Gi、G/Ci+2)出入。 隔丨用成對型輸送臂鳥、撕時，當盒内之基板收納間 ftί f #屬、旅間的最小可能間隔，藉由使兩臂24b、24c 二隔叹為收納間隔之整數倍，能以兩輪送臂2扑、2和以同時且相 進退動作進行1次，而將2片基板同時交接純盒内離 設定為2倍收關隔時，可龍盒，以第丨次之接近， 35 1320022 fi ”虎之基板Gl、〇3同時搬入/搬出，並於第2次之接近，將第 ^及第4號之基板〇2、&同時搬入/搬出，並於第3次之接近， ^第5號及第7號之基板g5、g7同時搬入/搬出，並於第4次之接 近’將第6號及第號之基板&、&同_入/搬出。 施田明細於如上述實施形態之塗布顯影處理純，但也可 站與4理站之_過輸送機構進行基板交接及輪送 明之中，處理基板不限定於咖基二 罩、印刷基板等。 _、CD基板、玻璃基板、光 【圖式簡單說明】 = 適用之塗布顯影處理系統構成之平面圖。 側面圖。^凡之塗布顯影處理系統中熱處理部構成之 理步示實施形態之塗布顯影處理系統帽—片基板之處 面圖圖4係齡實施形態之輸送機構之構成(輸送臂伸展狀態)側 _側面圖 ^係齡細版輪频叙_(_触狀態)之 圖6係顯示實施形態之輪送機構 圖7係顯示實施形態之輪送機構之要立體圖。 圖8係顯示實施形態之輸送機盖丄稱珉十面圖 動作的-P皆段側面圖。 &構自^站之E盒取出基板之 略側面圖 =係齡實細彡態讀入單认清洗處理部全 體構成的概 圖10(A)〜(D)係顯示實施形態中，搬 動變化之示意圖。 m入單元内基板之位置與移 圖11係齡實施賴憎Μ元内要部構辭面圖。 1320022 之要部構成(一階段)側面 圖12係顯示實施形態中搬入單元内 圖。 圖。圖㈣顯示實施形態中搬人單元内之要部構成(―階段)側面 圖Μ係顯示實施形態中搬入單元内之要部構成(―階段側面 圖。 圖15係顯示實施形態中搬入單元内之要部構成(一階段)側面 圖。

圖！6係顯示實施形態中搬入單元内之要部構成(_階段)側面 圖。 圖Π係顯示實施形態中搬入單元内之要部構成(一階段)側面 圖。 圖18係顯示實施形態中搬入單元内之要部構成(一階段)側面 圖。 圖i9(AHD)係齡實施形態中對調單元内之基板 移 動變化示意圖。

圖 圖 圖20係顯示實施形態中對調單元内之要部構成平面圖。 圖21係顯示實施形態中對調單元内之要部構成(一階段)侧面 圖 22係顯示實施形態中對調單元内之要部構成(一階段)側面 圖23係顯示實施形態中對調單元内之要部構成(一階段)側面 圖。 圖24係顯示實施形態中對調單元内之要部構成(一階段)側面 圖。 圖25(A)〜(D)係顯示實施形態中搬出單元内基板位置及移動 變化之示意圖。 圖26係顯示本發明可適用塗布處理系統之構成的平面圖。 圖27係顯示實施形態一變形例之中輸送機構要部構成之平面 37 1320022 圖。 圖28係顯示上述變形例中輸送機構要部之構成的部份背面 剖面圖。 【主要元件符號說明】 A、B 處理線 C 匣盒 G、Gi、Gi+1 基板 MfMs 組件 J1 旋轉軸(肩轴） J2旋轉軸(肘轴） J3 旋轉轴(腕轴） 10 塗布顯影處理系統 12曝光裝置 14 匣盒站(C/S) 15匣盒台 16 處理站(P/S) 18 界面站(I/F) 20輸送單元 22輸送機構 22a輸送臂 24輸送機構 24a輸送臂 24b輸送臂 24c輸送臂 25 清洗處理部 26第1熱處理部 28 塗布處理部 30第2熱處理部 38 1320022 32顯影處理部 34脱色處理部 36 第3熱處理部 38輔助輸送空間 40穿梭裝置 41 準分子UV照射單元(e—UV) 42擦磨清洗單元(SCR) 44 多段單元部(TB) 46縱型輸送機構 48多段單元部（TB) 50 通過單元(PASSl) 52加熱單元(DHP) 54加熱單元(DHP) 56黏附單元(AD) 60 通過單元(PASSr) 62 冷卻單元(COL) 64 冷卻單元(COL) 66黏附單元(AD) 68引導軌道 70升降輸送體 72旋轉輸送體 74輸送臂 76 驅動部 78 驅動部 80 驅動部 82抗蝕劑塗布單元(CT) 84減壓乾燥單元(VD) 86邊緣沖洗單元(ER) 88多段單元部(TB) 39 1320022 90輸送機構 92多段單元部(TB) 94顯影單元(DEV) 98多段單元部(TB) 100輸送機構 102多段單元部(TB) 104輸送裝置 104a輸送臂 106緩衝台(BUF) 108 延伸·冷卻台(EXT · COL) 110 周邊裝置(TITLER/EE) 120搬入單元(IN) 122檢查單元(AP) 124對調單元(CH) 126搬出單元(OUT) 130輸送本體 132 升降部 134轉盤 136外侧箱體 138中間箱體 140内侧箱體 141引導部 142 旋轉驅動馬達 146(含 146b、146c)第 1 環節 148(含 148b、148c)第 2 環節 150銷組 152銷組 154(含154b、154c)水平基本板 156(含 156b、156c)銷組臂 40 1320022 158(含 158b、158c)吸附墊 160 滾輪 160a 滚軸部 160b 滾軸部 162輸送路 164 隔壁 166狹缝 168 臨時支持部 168A 第1臨時支持部 168B 第2臨時支持部 170移載機構 172 紫外線燈 174 燈室 176石英玻璃窗 178 凹面反射鏡 180化學品溶液供給喷嘴 182輥刷 183 盤 184 清洗喷霧管 185盤 186沖洗喷嘴 187 盤 188 氣刀 190框架 192 輸送驅動部 194 軸承 196 軸承 198電動馬達 200無端傳動帶 41 1320022 202 .旋轉驅動軸 204齒輪 206 空氣氣缸 208升降基部 210升降機 212水平桿 214升降銷 215 空氣氣缸 216A旋轉軸 216B 旋轉軸 218A旋轉氣缸 218B旋轉氣缸 220A水平支持臂 220B水平支持臂 222A支持銷 222B支持銷 230輸送路 232框架 234 臨時支持部 236移載機構 238輸送驅動部 240 塗布處理系統 242 處理站(P/S) 244 縱型熱處理部(TB) 246清洗處理部 248 準分子UV照射單元(e-UV) 250擦磨清洗單元(SCR) 252縱型熱處理部(TB) 254縱型輸送機構(S/A) 42 1320022 256縱型熱處理部(ΤΒ) 258 縱型熱處理部(ΤΒ) 260縱型及水平輸送機構(Μ/Α) 262 塗布處理單元(COT) 264基板交接用延伸單元(EXT) 266縱型輸送機構(S/A) 268縱型（多段)減壓乾燥單元(VD) 270 延伸單元(EXT) 272縱型輸送機構(S/A) 274 縱型熱處理部(TB)

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Claims (1)

1. D2002牛f第095102299 _申請案中文申請專利範圍修正頁無劃線版h ^ ’ L 補克丨 十、申請專利範圍： 1.一種處理系統，具備： 冷”月％修(更)正替換頁 • 處理站’包含用以逐片處理被處理基板的多 將則述基板依序送到該等多個處理裝置而進行一連串之置， g盒站’配置有-個或多健排之g盒， 理 --附近取出置入基板方式成多段收納著多數之基板；时處理站 輸送機構，設於前述匣盒站與前述處理站之間， 站士任—前舰盒將未處理之基板以2片為單位取出，輸 ^處理站，並將處理完畢的基板以2片為單位自前述處理站= 刖述匣盒站上之任一前述匣盒； 送回 搬入部，設於前述處理站，自前述輸送機構以2片為 取未處理的基板，而後逐片地供給到初段之處理裝置·，‘’、、接 =部’設於前述處理站，制接取來自最終段之 的所有處理完畢的基板，錢以2 u單位m =申請專利範圍第1項之處理系統，其中’於==站構: 為起點而朝水平方向延伸之第1輸送路，未處又 =====部逐片地通過前述第1輸送路而被輸送到前 ㈣i如！ΐ專利範圍第2項之處理系統’其中，前述搬入部且有 巧部’由則述輸送機構以2片為一組接取未處理的基板，而^ 依序地逐'載置於前述第丨輸送路上之既絲置位置。 申ΐ專利範圍第3項之處理系統，其中，前述裝載部星備. 付署，古及ϊ2臨時支持部，於設定在前述第1輸送路上之ϊ置’ 2置及較其高出既定量之第2位置，分別自ίΐ 輪送機構接取未處理的2片基板而臨時地支持該基板； 第1移載部’具有：第！升降構件，可在設定於前述第 ΐϋ之載置位置下方的原位置及設定於前述載置位置上方之前 位置^間升降移動；在未處理的2片基板自前述輸送 刀別父接給前述第i及第2臨時支持部後，使前述第1升降構件 44 1320022 之間來回移動’將第1片基板自前 ^輸送路上離開置使 原，述第2位置之間來回移動使而工 臨時支持部移到前述載置位置。㈣崎^片基板自刖·述弟2 持部5具^申請專利範圍第4項之處理系統，其中，前述第丨臨時支 旋轉持’此以5又在前述基板升降區域外側之鉛直的第1 而於前述第1位置與前述基板升降區域外側之第3 ^或多數支持銷，安裝在前述第i支持臂；及， 1支持臂驅動部，旋轉驅動前述第丨支持臂。 5申請專利範圍第4項或申請專利 其中丄前述第2臨時支持部具有： 糾〜里糸、.充 旋韓’能以設在前述基板升降區域外側之鉛直的第2 而於前述第2位置與前述基板升降區域外側之第4 :或多數支持銷，安裝在前述第2支持臂；及， 第2支持臂驅動部，旋轉驅動前述第2支持臂。 =如申請專利範圍第i至4項中任一項之處理系統，其中，於 処理站設置以前述搬出部為終點而朝水 =仏處理完畢之基板自前述最終段之處理|置逐片 弟2輸送路而被輸送到達前述搬出部。 8.如申請專利範圍第7項之處理系統，前述搬出部具有卸 =二將處理完畢的基板自前述第2輸送路上之既定取出位置依序 機構也取出’並將處理％畢的基板以2片為—組交接給前述輸送 ^如申請專利範圍第8項之處理系統，其中，前述卸載部具有·· 第3及第4臨時支持部，為了將自前述第2輸送路上的取出 45 1320022 ί置板以2片為一組交接給前述輪送機 :在叹疋於别述取出位置上方之第5位置及較其 之第=位置分別接取2片基板，並予以臨時地支持；及 里 f 2移载部，具有··第2升降構件，可於設定在 之取出位置之下方的原位置及設定於前述取出位 2 ^ ^If2述取出位置移到前述第4臨時i t 原置與前述第5位置之間來回移動，將第^片=? 剛述取出位置移到前述第3臨時支持部。 弟2片基板自 支持^有申請專利範圍第9項之處理系統，其中，前述第3臨時 旋轉iii持臂’能以設在前述基板升降區域外側之錯直的第3 而於前述第5位置與前述基板升降區域外:之第7 1多數支觸，安裝在前述第3支持臂；及， 弟支持臂驅動部，旋轉驅動前述第3支持臂。 支持音=:請專利範圍第9項之處理系統，其中，前述第4臨時 施鍾持臂’能以設在前述基板升降區域外側之β直的第4 而於前述第6位置與前述基板鱗 2^數支持銷’安裝在前述第4支持臂;及， 弟支持臂驅動部，旋轉驅動前述第4支持臂 乐及弟2片基板一起自前述搬 46 1320022 出部搬出。 右斜申請專利範_12項之處理系統，其中，前述處理站具 '+· 將朝向前述初段之處理裝置自前述搬人部先送出之前 ίί，出之前述第2基板的輸送順序，於自前述搬入 ill多數處理裝置輸❹搶賴出部之情，相互對調。 於利範圍第13項之處理系統，其中，前述對調部設 於則述弟1或第2輸送路之任一者。 有：15.如申請專利範圍第14項之處理系統，其中，前述對調部具 咬第f 持部’將第1絲_地支持於設定在前述第1 次弟f輸迗路上既定之對調位置上方之第9位置；及 置下ί ΪΪ : Ϊ 3升降構件’能在設定於前述對調位 ，使前述第3升降構件於前述ί位ί 到前述第9位置；= 1片/板自前述對調位置移 後，你结罝 田第2片基板通過超過前述對調位置之 移動，片3 ίί原位置與前述第9位置之間來回 位置。弟片基板自則述弟9位置之臨時支持部移到前述對調 前述範鮮1至5項中任—項之處理系統，其中， 述搬於前述以站及前述處理站之前述搬入部及前 的行，安裝於前述輸送本體而可沿水平方向前後移動所望 送臂以第2銷組’用以支持基板，以上下2段固定於前述輪 述連續之未處理之第1及第2基板自前述s各步哉妖 迷弟1及第2齡_綠出，接著，將該縣處if5於前 47 1320022 人前述搬人部，並將處理完畢之第1及第2基板自前 述搬卩裝載於前述第1及第2銷組而同時取出，接著，將該等 處理元畢之第1及第2基板同時送回前述匣盒。 =如申請專利翻f i至5項中任—項之處理純， 别述輸送機構具有： /、 之間本體，可於前舰如與前述處理站之搬人部及搬出部 第1及第2輸送臂，安裝於前述輸送本體， 來回移動所望的行程；及 叩十方向 輸送銷组’用以支持基板，分別固定於前述第1及第2 拙，將任意之第1及第2基板自前舰盒裝載於前Μ〗芬楚ο 同時或依序取出，接著，將該等未處^之第 將該等處财㈣_2編嘯===著， 十一、圖式··

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