TWI304753B - Nozzle arrangement and method for the treatment of a treated material with a treatment medium - Google Patents

Nozzle arrangement and method for the treatment of a treated material with a treatment medium Download PDF

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TWI304753B
TWI304753B TW094101181A TW94101181A TWI304753B TW I304753 B TWI304753 B TW I304753B TW 094101181 A TW094101181 A TW 094101181A TW 94101181 A TW94101181 A TW 94101181A TW I304753 B TWI304753 B TW I304753B
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Description

'1304753 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種噴嘴裝置及一種以一處理媒介來處 理被處理材料的方法。更特別地是,本發明係關於一種湧 浪噴嘴裝置,例如可用於超薄印刷電路膜或印刷電路板的 濕化學處理之貫通式(run-through)系統。 【先前技術】 以湧浪噴嘴形式出現的噴嘴裝置例如可用於印刷電路 板的濕化學處理之貫通式系統,以便使印刷電路板或印刷 電路膜形式的被處理材料通過此系統時能達成最快又最均 勻的處理。在此情形中,通常使用好幾個湧浪噴嘴,使其 設置在被處理材料的通過平面之上方及/或下方,使得噴 嘴裝置能在橫貫於被處理材料的運送方向上大致延伸在其 整個寬度上方。藉由這些湧浪噴嘴,可將一處理液體噴灑 到被處理材料的表面上,或是從此表面上吸走,以便藉此 使處理液體在被處理材料表面上達成固定且均勻的交換。 在EP 1 187 515 A2號案中,就這方面提出了多數不 同的噴嘴裝置。在此情形下,主要使用圓形管,且均具有 不同的噴嘴形狀。例如,這些噴嘴形狀可以是傾斜排列的 狹縫噴嘴、互相成數排排列的圓形噴嘴,或是互相成數排 排列且具有不同寬度的狹縫噴嘴。上述的噴嘴裝置特別是 關於樞軸噴嘴,藉此可以使處理液體的液體流動達到週期 性的方向變化,而同時被處理材料也可以通過。 -4 - (2) (2)'1304753 在DE 37 08 529 A1號案中,提出使用狹縫噴嘴,藉 此由於對應噴嘴的可變狹縫寬度之故,所以能調整個別處 理液體的流動體積與噴灑壓力。 在DE 35 28 575 A1號案中,使用一噴嘴來執行水平 通過的印刷電路板內之鑽孔的淸潔、活性化及/或金屬化 。此噴嘴是設置在運送平面的下方且垂直於運送方向,呈 駐波形式的一液體處理媒介從噴嘴輸送到通過此系統的個 別印刷電路板之底面上。噴嘴是配置在一噴嘴外殻的上部 內,噴嘴外殼是由一具有進入孔的預備室所形成的,藉此 預備室可藉由一孔罩而與噴嘴內部空間的上部分隔開來。 藉由此孔罩,則可以達到液體處理媒介朝向噴嘴的流動分 佈。在狹縫形式的一真正噴嘴孔前方之噴嘴內部空間係作 爲預備室之用,以便使液體處理媒介的波浪能均勻地建立 起來。 在EP 0 280 078 B1號案中,已知一噴嘴裝置,係藉 由一適當的處理液體用於印刷電路板等的工件之淸潔或化 學處理。此種噴嘴裝置包含一下入口箱及一外殼箱,藉此 處理液體會被導引通過下入口箱,經由外殼箱底部的孔洞 ,而進入外殼箱的內部。外殻箱具有一中心分隔壁,且組 合有兩個穿孔水位及設置於上方的狹縫,因此處理液體會 流入兩狹縫’且在此上方形成兩個均勻的正弦波形,會流 過工件,特別是印刷電路板的鑽孔,由於細腰管效應 (Venturi Effect)之故’能確保材料受到密集的交換。 藉由上述的湧浪噴嘴裝置,流速在連接到處理液體的 -5- (3) J304753 入口處之區域中是最大的,這是由於在此處會出現處理液 體的最大體積。隨著與此連接區域的距離增加,流速便會 減少’這是由於在每個情形中局部的處理液體會經由湧浪 噴嘴裝置的個別噴嘴孔流出。因此,除了靜態壓力之外, 在噴嘴孔內會引起衝擊或總壓以及流速不規則等現象。進 一步產生的後果就是處理液體的出口體積會有所不同。 當進行超薄及/或脆弱的被處理材料之濕化學處理時 ’會產生一種風險,就是在噴嘴裝置的一入口區中,受到 在被處理材料本身一邊緣上引起的液體波浪,使得被處理 材料產生轉向離開移動路徑或輸送帶。如此會導致一種情 形’就是被處理材料會沿著噴嘴裝置產生刮傷,或是完全 維持懸空’如此會浪費被處理材料或者堵住了對應處理系 統的內部。假如發生阻塞的話,爲了淸除阻塞所以必須中 斷製造過程,由於在其他處理情形中處理時間較長,上述 的中斷會在大部分的情形中導致更多的浪費。 【發明內容】 因此,本發明的目的就是要提供一種噴嘴裝置及一種 被處理材料的處理方法,特別是用於以一處理液體來處理 超薄板狀處理材料,可以解決上述問題,且特別能避免被 處理材料受到處理液體或其他處理媒介的流動而在噴嘴入 口處內轉向離開了移動路徑。如此意味著在噴嘴裝置的入 口區內’垂直於被處理材料的平面之力量必須越低越好。 根據本發明,藉由具有獨立項申請專利範圍第1項特 -6 - (4) J304753 點之噴嘴裝置以及具有獨立項申請專利範圍第27項特點 之方法便可達成上述目的。附屬項則界定出本發明的較佳 實施例。 本發明的方法與噴嘴裝置所根據之基本槪念包含處理 媒介的運送或移除,其中此處理媒介在被處理材料的運送 方向上具有一流動分量。因此,處理媒介被吸入噴嘴裝置 或處理通道的入口區之周圍區域內,使得被處理材料在處 P 理通道中的運送時能獲得支撐。 本發明的噴嘴裝置係用以將印刷電路板或印刷電路膜 等形式的被處理材料,藉由處理液體或處理媒介,而處理 成平板或長帶狀材料’如此被處理材料可以沿著從噴嘴裝 置的入口區至出口區的運送方向上之一運送平面內移動。 除了處理液體之外’處理媒介也可以是氣體的處理媒介。 在此情形中’噴嘴裝置包含至少一噴嘴孔,其設計方式乃 使處理液體的流動或處理媒介的流動能夠相對於被處理材 φ 料的運送平面’成一預定角度傾斜地通過噴嘴孔。此角度 的預定方式係使液體流動或處理媒介的流動能轉向進入被 處理材料的運送方向’或是流出在此方向上移動的噴嘴孔 外面。 如此一來’處理液體或處理媒介大致上會在噴嘴裝置 的出口區方向上從至少一噴嘴孔流出,然而卻不是在噴嘴 裝置的入口區方向上。因此’會在噴嘴裝置的—處理通道 內發生負壓’此通道是由噴嘴裝置與被處理材料所形成的 ’通過此通道可使循環的處理媒介吸入到噴嘴裝置的入口 ⑧ (5) r J304753 區內,且避免被處理材料轉向離開運送平面或是預定的運 送路徑外面之風險。 液體流動或處理媒介的流動之轉向最好是由至少一噴 嘴孔來產生,而此噴嘴孔又是由至少一噴嘴孔通道所形成 的,此噴嘴孔通道係相對於被處理材料的運送平面成一銳 角延伸出去。在此情形中此角度最好測出的最大値爲80 度。然而,介於0度與60度之間的角度,甚至10度與30 | 度之間的角度特別有利。 本發明的噴嘴裝置可以設計成用來噴灑處理液體於被 處理材料上面,或是將處理媒介吸上去。在第一種情形中 ’就是假如至少一噴嘴孔被設計用來輸送處理媒介的話, 則角度會正對著被處理材料的移動方向呈開放,使得處理 媒介的流動會轉向進入被處理材料的移動方向。在此情形 中’假如至少一噴嘴孔係配置在噴嘴裝置的一外殻壁內且 主要沿著運送平面延伸的話,則會更加有利,如此一來從 φ 至少一噴嘴孔到入口區之間的距離會小於該至少—噴嘴孔 到出口區之間的距離。 在第二情形中,就是假如至少一噴嘴孔被設計成接收 或吸收處理媒介的話’則此角度會在被處理材料的運.送方 向上呈開放,因此會獲得以下的情形,就是處理媒介的流 動會轉向進入被處理材料的運送方向。在此情形中,假如 至少一噴嘴孔係配置在主要沿著運送平面延伸的一外殼壁 內,則會更加有利,如此一來從至少—噴嘴孔到出口區之 間的距離會小於該至少一噴嘴孔到入口區之間的距離。 -8- (6) 1304753 由於噴嘴裝置的非對稱結構,所以能確保在噴嘴裝置 與被處理材料之間形成一延伸的處理通道,其中處理媒介 會在被處理材料的移動方向上流動。如此能確保以處理媒 介對被處理材料進行更有效的處理。然而,並未強制規定 噴嘴孔必須設置在入口區或出口區的附近。 最好’噴嘴裝置的設計方式能使介於噴嘴裝置的外殼 壁(最好是其中設置有至少一噴嘴孔的外殻壁)與運送平面 之間的距離,在被處理材料的移動方向上,於入口區與至 少一噴嘴孔之間的一區域中會減少。因此,在此區域中, 以楔形方式在入口區方向上開放的一通道便會形成於外殼 壁與運送平面之間。最好,噴嘴裝置的設計方式能使嘴裝 置的外殼壁與運送平面之間的距離間隔,於被處理材料的 運送方向上在至少一噴嘴孔與出口區之間的一區域中增加 。因此,在此區域中,以楔形方式在出口區方向上開放的 一通道便會形成於外殼壁與移動平面之間。 楔形通道最好是形成在被處理材料的兩側上,藉由所 謂的細腰管效應,能在噴嘴裝置的入口區內產生一額外的 負壓。因爲噴嘴裝置最好是設置在處理媒介中,所以處理 媒介能從入口區的周圍區域同時被吸入。由於處理媒介被 吸入的緣故,所以在入口區內朝向噴嘴裝置的外殼壁則形 成一緩衝部,致使在被處理材料與噴嘴裝置的外殼壁之間 的任何接觸均能有效地避免。 最好,在噴嘴裝置入口區內的噴嘴裝置前緣被導成斜 角或圓角,以便防止任何會使被處理材料轉向離開路徑外 -9- ⑧ (7) * ,1304753 的漩渦形成。 至少一噴嘴孔的設計方式最好是在寬度方向上的一寬 度上方延伸’其中寬度方向是沿著運送平面且垂直於運送 方向。在此情形中’選擇寬度使其成爲被處理材質的—對 應寬度之函數,致使能保證被處理材質的均勻平坦處理。 噴嘴裝置可以特別地設計成狹縫狀或形成多數排的孔,彼 此之間具有一距離間隔。在此方向中,噴嘴孔最好是設置 B 成平行於移動平面。 由於噴嘴裝置的入口吸引效應之故,假如在移動路徑 的整個寬度上液體的分佈不均勻的話,則被處理材料受到 牽引而進入一側之風險將會升高,且因此會在一側離開運 送路徑,或者維持掉入運送路徑的兩側周圍。 爲了使處理媒介產生較佳的分佈,因此假如噴嘴裝置 包含一媒介通道或液體通道來運送處理媒介,且沿著至少 —噴嘴孔延伸,將會是很有利的。最好,媒介通道是藉由 φ 多數分佈孔而連接到至少一噴嘴孔上,其中分佈孔沿著至 少一噴嘴孔而彼此隔開。分佈孔代表一流動阻力且因此能 增進處理媒介在噴嘴孔的整個寬度上之分佈。最好,分佈 孔具有相同的直徑與長度,但距離卻不同。然而,也可以 具有其他的結構。 根據一實施例,噴嘴裝置包含一插入元件,係設置在 媒介通道中,其移位體積會隨著與一連接孔間隔的增加而 增加,此孔是設置用來引入與移除處理媒介的。因此’可 以確保媒介通道的通過剖面(就是能用於處理媒介通過的 -10 - (8) (8)1 ,1304753 剖面表面積)會隨著與連接孔的距離增加而減少。在此情 形中’插入元件的設計方式乃使通過剖面隨著與連接孔的 距離間隔增加而呈連續或階段地減少。在通道剖面中的連 續減少之達成方式,例如可藉由一對應形狀的插入件或在 媒介通道的外殼之一壁厚度內產生對應的增加。在通道剖 面內的階梯狀減少,例如可藉由包含個別部位或區段的插 入件。這些區段可以是簡單的移位本體或穿孔本體,例如 通道剖面可由孔的大小尺寸來決定。個別的區段可以藉由 黏著結合、焊接、繃緊張力棒或緊固裝置。在此情形中, 通道剖面的階梯狀減少之設計方式乃使多數階梯定位於對 應的分佈孔上,如此一來,在一特定階段處的通道剖面之 減少最好能藉由對應的分佈孔而適用於處理媒介的流動。 因此,處理通道的通道剖面可適用於在一特定的時間單元 中流經媒介通道內的處理媒介之體積’致使能獲得均勻分 佈的流速與壓力。來自個別區段所構成的插入元件之階梯 狀組合亦提供相當低製造成本的優點。 就這一點來說,將連接媒介通道至噴嘴孔的分佈孔也 可以設有不同的長度’也就是說’如同在具有不同階段的 壁厚度之外殼壁內的孔。同樣地’假如至少—噴嘴孔包含 沿著寬度方向設置的多數孔,此設計方式乃爲使個別孔用 來形成具有不同長度的通道或孔。由於至少一噴嘴孔的— 分佈孔或彼此相鄰配置的多數孔之不同長度結構’因此會 引起不同的流動阻力値’會導致進一步流速的均等 (evening-out)。也可以使用相同的孔直徑’但是在孔與孔 -11 - (9) '1304753 之間卻具有不同的距離。 上述的分佈孔均可具有相等的直徑。然而,就調整流 速的效果來說,將分佈孔設計成具有不同直徑會比較有利 。如此意味著分佈孔的直徑可以調整成適合媒介通道內的 流速以及與此流速有關的壓力比。此外,藉由具有不同直 徑的閥孔,分佈孔的尾端亦可設有具有相同直徑的埋頭孔 (countersink)。因此,能產生流速的進一步均等,且特 | 別是在露出分佈孔時的流速。 上述的分佈孔可以在插入元件或一外殼壁內以對應孔 的形式產生。插入元件可以在其縱向(就是沿著移動的方 向)上設有一 U型剖面,致使能產生一括弧狀的整體形狀 ,可藉由鉗入噴嘴裝置的一外殼內而固定。 在具有狹縫形狀的噴嘴孔之情形中,假如這是由外殻 壁與一正對的插入條狀物所形成的話,那會是很有利的。 在此情形中’可以移除插入條狀物以便淸潔噴嘴裝置’且 φ 本來就很窄小噴嘴孔如今也可以輕易地讓淸潔工具得以進 入。 根據本發明的一較佳實施例,處理通道的剖面可藉由 適當成形法使其適用於想要的流速’且平行於被處理材料 的平面。這一'點最好是由插入條狀物來達成’因爲插入條 狀物是設計來可供替換的,如此一來噴嘴裝置便能容易適 用於一特殊被處理材料的要求。 藉由處理通道的成形,也可以在一界定區域內獲得一 負壓,這一點同樣地最好是由至少一可替換插入條狀物來 -12- (10) 1304753 達成。由於在一界定區域內的負壓之故,可以使處理媒介 流入或流過被處理材料的盲孔或通道孔。 根據本發明’能以一特定方式來影響處理通道的剖面 ,藉此調整流速’而在一界定區域內產生一負壓。這一點 最好是藉由將處理通道內沿著運送方向在一或多處位置上 產生的處理通道予以變窄而達成。 根據一較佳實施例,可藉由一噴嘴軌道來調整狹縫狀 P 噴嘴孔的出口剖面。由金屬或塑膠所製成的噴嘴軌道因此 以一可調整方式安放在噴嘴裝置的外殼內。噴嘴軌道最好 能設計成可替換方式,以便選擇不同幾何形狀的噴嘴孔。 以此方式,噴嘴裝置可以精確又靈活的方式適用於不同的 處理要求與不同的被處理材料。 最好’假如至少一噴嘴孔是由至少一噴嘴孔通道而形 成的話,此噴嘴孔通道是相對於被處理材料的運送平面成 一銳角或大約與其平行的方式延伸,然後分佈孔也可以藉 • 由分佈通道或分佈孔來形成,這些分佈孔通道則是相對於 被處理材料的運送平面成一角度,此角度是大於噴嘴孔相 對於運送平面的角度。此外,分佈孔或分佈通道在相對於 至少一噴嘴孔的運送方向上可以偏移排列。由於這些判斷 基準的緣故,處理媒介的流動會產生多重偏移。特別是, 由於處理媒介流動時的動態力,所以可避免以下的危險, 就是在噴嘴孔通道的方向上,處理媒介並未以較高的流速 流出噴嘴孔外。 本發明的噴嘴裝置可以設計成一個別的噴嘴裝置,在 -13- ⑧ (11) (11)• ,1304753 被處理材料一側上具有一噴嘴孔’或者設計成在兩側上的 一噴嘴裝置’其中在被處理材料的上方與下方均具有一噴 嘴孔。 假如噴嘴裝置包含至少一噴嘴孔的話會格外有利,係 設置在至少一噴嘴孔對面放置的被處理材料之運送平面一 側上。因此,當通過噴嘴裝置時,被處理材料可以從上下 兩側受到處理。這對於需要處理上下兩側的被處理材料來 說是很有利的,例如印刷電路板或在兩側上印刷的膜。特 別是可藉由這一點來節省處理步驟,且縮短整個處理時間 ,整個人力與支出均可減少。在此情形中,將噴嘴裝置設 計成相對於被處理材料的移動平面呈鏡面對稱方式是特別 有利’如此便能在被處理材料的兩側上提供上述噴嘴裝置 的優點。 爲了處理被處理材料內的肓孔或通道孔,設置至少一 或多個額外噴嘴孔是更加有利的,這些噴嘴孔可以使處理 媒介大致上垂直於被處理材料的表面來運送。這些額外的 噴嘴孔可以相對於上述的噴嘴孔而設置在上游處或下游處 ,以便在運送方向上產生一流動分量。假如噴嘴孔是設置 在被處理材料的平面兩側上的話,則設置在被處理材料不 同兩側上的額外噴嘴孔彼此之間是可以直接面對面或是偏 移。額外的噴嘴孔能以一可調整或無法調整的方式來設有 處理媒介,這一點可經由相同的媒介通道來完成,係用以 在移動方向上使噴嘴孔具有流動分量。爲了產生特別的優 點,被處理材料中的通道孔可以藉由額外的噴嘴孔來處理 -14- (12) (12) ,1304753 ,由於在額外的噴嘴孔處屬於正壓,而在被處理材料對面 一側上的處理通道內則存在負壓。另一方面,也可以分開 提供。在後者中,可以設置一分開的輸送裝置或泵來輸送 處理媒介。 可進一步看出被處理材料經由噴嘴裝置的處理通道之 運送情形,可藉由減少在運送方向上的流動分量來改善, 或者減少在垂直於噴嘴裝置入口區內的被處理材料平面之 流動分量。除了上述的方法之外,這一點最好能藉由將噴 嘴裝置出口區內的處理通道剖面予以擴大來達成。.於是 ,藉由塑形噴嘴裝置或噴嘴通道,可達成以下的結果,就 是處理媒介的流速在入口區的一側上會沿著移動方向連續 地增加,然而在出口區的一側上流速則連續地減少。除此 之外,出口區可以設有影響流動元件。作爲影響流動元件 ,可使用形成在噴嘴裝置的表面上內或表面上之突起、擋 板或網狀物會比較有利。由於影響流動元件之故,可以避 免渦流,且因此會縮小垂直於被處理材料的平面與移動方 向上的流動分量。此外,影響流動元件也可以確保對被處 理材料產生一額外的導引功能。 本發明使處理媒介得以在被處理材料的移動方向上特 定地引起一流動,.以便從噴嘴裝置的入口區處吸入處理媒 介’以此方式,有效地支撐被處理材料移動通過噴嘴裝置 的處理通道。甚至以此方式,能運送超薄的被處理材料( 稱爲長帶狀材料)而不需要進一步的驅動裝置,如滾筒、 輪子、夾鉗等。除此之外,處理媒介從入口區的周圍區域 -15- ⑤ (13) J304753 吸入也確保處理媒介的有效循環。藉由吸入所達成在入口 區內處理媒介的體積流量大致上會大於噴嘴孔單獨產生的 體積流量。此外,本發明的噴嘴裝置能使被處理材料產生 一種無接觸的移動。 噴嘴裝置特別適用於印刷電路板或印刷電路膜等處理 材料之濕化學處理,可作爲一對應裝置或系統的一部份。 由於特殊設計的流動條件,噴嘴裝置能提供一項優點,就 § 是被處理材料不會轉向離開其本身平面的運送路徑外面。 此項優點特別適用於噴嘴裝置的入口區。噴嘴裝置進一步 能沿著噴嘴裝置的寬度使被處理材媒介產生均勻的流速與 流量’如此一來,可獲得更加均勻的處理結果。此外,設 置一均勻的噴射或波浪幾何形狀,且特別是處理媒介到噴 嘴孔之間的流動產生均勻對齊。最後,噴嘴裝置能允許製 作得很精巧且可以從少量零件製成,因此,在對應裝置或 系統上的空間要求與製造成本上均可保持得很小。 # 以下’將參考附圖根據較佳實施例來詳細說明本發明 【實施方式】 圖1A顯示本發明噴嘴裝置的一實施例,特別適用於 作爲鍍鋅系統的一電湧噴嘴,具有可用於印刷電路板或印 刷電路膜的水平通過動線。噴嘴裝置包含兩噴嘴,可沿著 一運送平面延伸,其中被處理材料是沿著一運送平面從入 口區1 5到出口區1 6移動。此兩個噴嘴彼此直接正對且相 -16- (14) 1304753 對於移動平面成鏡面對稱。位於兩個噴嘴之間的是被處理 材料所通過的一處理通道。 在每個情形中,噴嘴包含一外殼2,其中在正對著運 送平面的一側上設有一噴嘴孔8。以處理流體形式出現且 用於處理被處理材料的一處理媒介則經由一連接孔1而引 導至噴嘴,此連接孔係設置在噴嘴的一表面側上。處理流 體從連接孔1通過到一媒介通道內,此通道成液體通道6 p 的形式,且藉由分佈孔7而連接到噴嘴孔上。處理液體的 液體流在圖1中以箭頭11與11’表示。 噴嘴的外殼2在噴嘴裝置入口區15的一側上包含一 側壁而在出口區1 6的一側上也包含一側壁。噴嘴的外殼2 是藉由一外殼蓋13來關閉起來,致使外殼2連同外殼蓋 一起包圍住液體通道6。在液體通道6內設置的是一具有 U形剖面的插入元件3。在此情形中,插入元件3的開放 側是設置在外殼2內的噴嘴孔8 —側上,使得分佈孔7能 φ 從液體通道6處自由進入。插入元件最好是由塑膠製成, 且在其外部設有一如U形的緊固元件,以便穩定噴嘴與外 殼2。U形緊固元件4最好包含一金屬,可抵抗所使用的 化學物品,例如可爲不鏽鋼、鈦、鈮等。 被處理材料10以箭頭18所示的移動方向,在移動的 水平平面上通過噴嘴裝置。在此情形中’處理液體從噴嘴 孔8傾斜地導引至被處理材料1 0上。因此’會在噴嘴裝 置的入口區1 5 —側上產生吸引效果。噴嘴裝置係設置在 一液體媒介中,如此—來由於吸引效果之故,箭頭1〗’所 -17- (15) (15)1304753 示的處理流體會被吸入處理通道內。 圖1B是一局部放大圖,顯示圖1A的一噴嘴。在此圖 形中,可以特別看出噴嘴孔8是由一噴嘴孔通道所形成, 相對於被處理材料10的運送平面呈一銳角17。銳角17正 對著運送方向開啓,使得處理液體會受到噴嘴孔通道的影 響而轉向進入運送方向18。在每個情形中,分佈孔7是由 外殻2中呈孔狀的一分佈通道所形成的,此通道相對於運 送平面係設置成一角度,此角度大於噴嘴孔通道的銳角17 。因此,箭頭U所示的液體流在被處理材料1 0的運送平 面上會轉向很多次。 圖2以局部剖面的形式,沿著圖1 A所表示的剖面線 A-A5,就是沿著噴嘴裝置的寬度方向,顯示出圖1A與圖 1B的噴嘴裝置。從圖2可以看出,連接孔1係設置成一 具有密封環14的連接噴嘴,通過此噴嘴處理液體可進入 流體通道6。特別是,可以看到插入元件3被設計成楔形 ,如此一來,當液體通道與連接孔1之間的距離增加時’ 液體通道的通過剖面就會減少。進一步可以看到分佈孔7 是形成爲外殼2壁內的多數孔’彼此之間等距離排列。壁 的厚度大致上沿著噴嘴的寬度是固定的’如此能獲得大致 等長度的分佈孔7。 從圖2可以看出,噴嘴孔8是設置成一狹縫’係沿著 噴嘴寬度的方向上延伸。 圖3是一剖面圖,沿著圖1 A所表示的剖面線B - B ’, 以局部剖面的形式顯示出圖1Α,圖1Β與圖2的噴嘴裝置 -18- (16) (16)1304753 。從圖3可以看出,分佈孔7是具有圓形剖面的孔,彼此 之間等距離排列。特別是這些分佈孔7是一排排地相鄰排 列,係位於噴嘴轉向入口區1 5的一側上。 在圖1A與1B中箭頭11所示的液體流動因此會從楔 形流動通道6流經具有圓形剖面的分佈孔7,然後通過設 計成均勻寬度狹縫的噴嘴孔8,最後流到被處理材料1 〇上 。在分佈孔與噴嘴孔8之間,液體流動會被改變成一扁平 的噴射,主要是在被處理材料的整個寬度上延伸。 由於楔形插入元件3之故,可確保在液體通道6內的 所有點上流速是相等的。因爲所有的分佈孔7均具有相等 的尺寸,可獲得一非常均勻的噴灑圖案,也就是一均勻的 噴射或波浪幾何形狀,以及一均勻方向的液體流動。 液體流動的均勻幾何形狀對於產生吸引效果來說是格 外重要的,這是由於所謂的細腰管效應,因爲藉由沿著寬 度方向上的一非均勻吸力,被處理材料則會被傾斜地吸入 ,且在此情形下,被處理材質則可能會仍舊維持在運送路 徑的一側邊外圍上。 爲了避免這一點,本發明實施例所代表的噴嘴與噴嘴 裝置具有以下的幾個優點: A) 噴嘴孔8並未設置在中心處,而是在入口區1 5附 近內的噴嘴之一側面縱向邊緣上。 B) 噴嘴孔8係設計成噴嘴孔通道的形式,如圖1B所 示,係相對於被處理材料1 〇的運送平面成一銳角1 7。 C) 面對著運送平面的外殻壁之厚度在噴嘴孔8與出 -19 - ⑧ (17) 1304753 口區1 6之間的一區段內是減少的,因此處理通道在此區 段中在運送方向上會呈楔形擴大。 D) 入口區15與出口區16內的噴嘴邊緣是渾圓的, 以便避免在處理液體中形成渦流。 E) 在入口區15與噴嘴孔8之間的一區段中,正對著 運送平面的外殼壁厚度是增加的,因此處理通道在此區域 中在運送方向18上會呈楔形變窄。 • 如此特別是意味著入口區與出口區呈現漏斗狀,具有 圖1A所示的鏡面對稱噴嘴裝置。 由於噴嘴朝向被處理材料的特殊幾何形狀,所以會在 噴嘴裝置的入口區15內產生一負壓,此負壓可導致液體 與被處理材料從噴嘴裝置的周圍區域吸入到處理通道內, 如圖1A內的箭頭1Γ所示。由於在入口區15內處理通道 的楔形或漏斗形之故,朝向噴嘴孔8的流速會增加。由於 噴嘴的流動與混圓邊緣,可確保很薄的被處理材質不會衝 φ 擊到噴嘴的側壁。由於在入口區1 5內的噴嘴裝置之吸引 效應,經由處理通道吸入的處理液體會比經由噴嘴孔8流 出的液體還要多。如此不僅防止對被處理材料的損害,而 且也能加速處理過程,這是由於可以達到比習知的噴嘴裝 置更短的處理時間。例如,可藉由負壓來獲得上述結果, 而此負壓使在盲孔內存在的空氣或是處理時形成的氣體得 以吸出,且因此增進了處理液體所進行的表面潤濕。 在噴嘴裝置的出口區中,當處理通道的寬度增加時, 流速會減少。 -20- (18) (18)* ,1304753 在入口區1 5側及出口區1 6側上,可以將輸送帶滾輪 設置在噴嘴裝置旁邊。輸送帶滾輪能確保被處理材料在相 鄰的處理站上能可靠地來回移動。 圖4是一剖面圖,顯示本發明另一實施例的噴嘴裝置 。圖4是沿著圖5的線C-C'所作之局部剖面圖。在圖1至 3內所示的實施例之噴嘴裝置的類似特點與零件是以相同 的參數來標示,且以下不提供進一步的說明。 不同於圖1至3所述之實施例,圖4的噴嘴裝置在處 理通道6內具有一插入元件3a,此插入元件係設置在噴嘴 孔8的一側上。第一分佈孔9係設置在插入元件3內,藉 此處理液體可以從液體通道6引導至一轉向通道5。此轉 向通道5是由插入元件3 a的一對應加深處所形成的。從 該處,處理液體會通過第二分佈孔7而流到噴嘴孔8,其 中第二分佈孔係對應於圖1至3的實施例之分佈孔。第一 分佈孔9的設置方式在運送方向上是與第二分佈孔7與噴 嘴孔8產生偏移。因此,液體流動會產生大約90度的第 —轉向而從第一分佈孔9流入轉移通道5內,且產生大約 9〇度的第二轉向而從轉向通道5流入第二分佈孔7。當處 理液體從第二分佈孔7引入噴嘴孔通道內時,會產生第三 轉向。因此,即使處理液體的流速較高時,仍可以確保液 體能相對於被處理材料10的運送平面在想要的方向上流 動。 藉由圖4所示的噴嘴裝寘’正對著被處理材料10的 噴嘴之一表面是由一插入條狀物1 2所形成的,此插入條 -21 - ⑧ (19) (19)•1304753 狀物12具有一鳩尾狀的導引,係插入噴嘴的外殼2內,. 而噴嘴在這一側上同樣地設計成鳩尾狀。噴嘴孔8是藉由 插入條狀物12的一邊緣而形成在一側上,且藉由外殼2 的一正對邊緣而形成在另一側上,如此一來,可以沿著噴 嘴的寬度產生一狹縫狀的噴嘴孔8。正對著被處理材料10 的運送平面之插入元件側大致上具有與上述相同的形狀, 以便對應於圖1至3的噴嘴裝置之外殼壁。因此,可確保 達到同樣有利的流動效果。 爲了淸潔噴嘴,可以移除插入元件12,使得第二分佈 孔7能夠自由進入。 圖5是一側視圖,沿著圖4所示的剖面線B-B’,以局 部剖面的形式顯示圖4的噴嘴裝置。從圖5中可以看出, 在插入元件3a中的第一分佈孔9是沿著噴嘴裝置的寬度 方向上彼此等距離地排列。由於插入元件3a的楔形,不 同長度的分佈孔在每個情形中能形成用於個別的第一分佈 孔9。插入元件3 a的楔形在此情形中之設計方式乃是當與 連接孔1的距離增加時,液體通道6的通過剖面會減少。 如此意味著一旦分佈孔變得更長時,他們脫離連接孔1就 越遠,因此會在分佈孔上類似地產生一較大的壓力降。如 此產生一均等效應,特別是朝向正對著連接孔1的液體通 道8尾端處。此外,插入元件3 a的楔形之設計方式乃使 液體通道在此尾端處的剩餘高度不爲零,但是在最遠離連 接孔1的此點上具有最終値最好是2 - 8 mm。 圖6是一側視圖’沿者圖4所不的剖面線A - A ',以局 -22 - ⑧ (20) ,1304753 部剖面的形式顯示圖4與圖5的噴嘴裝置。從 出,第一分佈孔9是沿著形成於噴嘴中心的一 向1 8上排列。然而,第二分佈孔7已經根據 的實施例加以說明了,就是在入口區的方向上 列。因此,如上所述,可產生液體流動的有利 從圖6可以看出,第一與第二分佈孔7, 9是具 的分佈孔。在此實施例中,第一與第二分佈孔 等的直徑。對於第二分佈孔7來說,最好是設 第一分佈孔7不同的直徑。假如第一分佈孔9 孔7彼此之間具有不同的直徑或不同的距離間 一點是很有利的。 藉由噴嘴裝置的上述實施例,在以不同厚 進行多數測試時,可獲得非常良好的結果。在 經顯示,一旦印刷電路膜受到吸力而被提起時 運送速度大致上就會因負壓的緣故而增加。不 多快,也不會在印刷電路膜上產生任何傷害。 用輸送帶滾輪,可以發現到即使是彎曲的印刷 力影響而伸展進入噴嘴裝置,且在一預定運送 噴嘴裝置,也不會產生任何損害或堵塞。 在此,可以指出一點,就是藉由實現噴嘴 分上述的手段或特點時,就能在特定的應用上 勻地供應處理液體及吸力效果,使得被處理材 學處理期間可靠地導引通過噴嘴裝置。 當然,在不背離本發明基本想法之前提下 圖6可以看 排在運送方 圖1 - 3所示 產生偏移排 多重轉向。 有圓形剖面 7 5 9具有相 置成具有與 與第二分佈 隔的話,這 度的導電膜 此情形中已 ,導電膜的 管運送速度 藉由額外使 電路膜受吸 路徑上通過 裝置的一部 達到適當均 料可以在化 ,仍然可以 -23 - (21) •1304753 對圖形中所示的實施例構思出許多修改之處。 例如,連接孔1可以設置在噴嘴寬度方向上的外殼2 之中心處,如此一來,處理液體的供應就會發生在中心處 。在此變形例中,液體通道6在外殼2內部的通過剖面, 會從中間連接孔1開始到噴嘴裝置的兩端(就是兩側)爲止 逐漸減少,且插入元件3或3a的厚度會分別從中間連接 孔1開始朝向兩端增加,致使在插入元件3 a內的分佈孔9 | 會在兩側上增加。 除此之外,在所示的實施例中,連續減少的液體通道 6之通過剖面是藉由沿著插入元件3或3 a的個別高度增加 來達成的。當然,可以想像得出液體通道6的幾個側壁在 噴嘴寬度方向上具有遞增的壁厚度。除了這些較次要的要 求之外,可以去除用於另外壓力分佈的轉向通道5。 爲了增進流速的均勻性,狹縫狀的噴嘴孔8可以設有 一變化寬度,藉此寬度可以在噴嘴的寬度方向上從連接孔 • 1處開始減少。 如上所述,分佈孔7或9也可以設計成具有不同的直 徑,如此一來,特別是爲了實現連續遞增的流動阻力,分 佈孔7或9的直徑產生對應減少便很容易構思而出。 在用於限定液體通道6的分佈孔7或9 一側上,這些 孔可以設置具有較大直徑的埋頭孔。爲了獲得在噴嘴寬度 方向上連續遞增的流動阻力,這些埋頭孔可以設有不同的 深度,特別是在噴嘴寬度方向上具備連續遞增的深度。 此外,也可以使分佈孔之間的距離間隔產生變化,致 -24- ⑧ (22) 1304753 使接近連接孔1的分佈孔比起遠離連接孔1的分 會具有較小的距離間隔。 也可以去除圖中所示的緊固裝置4,例如使 的外殻壁來取代。同樣地可以構思出將插入元件 以及外殼2設計成單一元件。最後,在所示的實 要注意以下的事實,就是甚至可以使用此種情形 一狹縫狀的噴嘴孔8在噴嘴的寬度方向上延伸, 噴嘴寬度方向上排列好幾條狹縫,彼此之間是以 離間隔來排列。假如適合的話,也可以使用彼此 的圓形孔。 對於呈楔形的處理通道來說,也可以設立在 被處理材料I 〇之間,或者藉由噴嘴的傾斜排列 正對表面的對應調整,在兩個噴嘴之間產生漏斗 通道。特別是在此情形中,上下噴嘴的非對稱排 是很有利的。 圖7顯示本發明噴嘴裝置的另一實施例,基 應於根據圖1所述的實施例。類似的零件則以相 標示。然而,與圖1A有所不同之處,噴嘴孔8 可調整式。分佈孔7從液體通道6開始在噴嘴裝 區1 5之方向上,相對於運送方向1 8傾斜地延伸 7具有一距離間隔,係沿著噴嘴裝置的寬度方向 與連接孔1的距離越遠時’此寬度就會變得更大 噴嘴軌道20是以可調整方式設置在外殼的 壁上,噴嘴軌道2 0起初是沿著前外殻壁以垂直 佈孔來說 用一較厚 3 或 3 a 施例中, ,僅設置 但是卻在 均勻的距 相互鄰近 一噴嘴與 以及個別 狀的處理 列方式也 本上係對 同的參數 是設計成 置的入口 。分佈孔 改變,當 〇 一前外殼 於被處理 -25- ⑧ (23) 1304753 材料10的移動平面之方向來延伸,然後轉向進入一前邊 緣區內,如此便轉向進入運送方向。噴嘴軌道20的前邊 緣區之一內表面是被扭轉成朝向分佈孔7,而前邊緣區的 一外表面則形成噴嘴裝置的入口區1 5之一前邊緣,且被 扭轉成朝向被處理材料1 0。噴嘴孔8因此是藉由噴嘴軌道 20與一外殼壁來限定的。 噴嘴軌道20是以可調整的方式裝配至外殻壁上。特 別地是,噴嘴軌道20可藉由一設定螺絲21在垂直於運送 平面的方向上移動。可藉由在噴嘴軌道20內的一縱向孔 來確保此種可調整配置方式,其中設定螺絲21就是引入 通過此縱向孔的。以此方式,噴嘴軌道2 0可藉由釋放設 定螺絲2 1來移動,且噴嘴軌道20可藉由適當地鎖緊設定 螺絲21而固定於一新的位置上。因此,一方面噴嘴孔8 的剖面產生改變,而另一方面,位於前邊緣區的外表面與 被處理材料1〇的運送平面之間的距離也會產生改變。於 是,藉由噴嘴軌道2 0,就可以調整噴嘴孔8的剖面以及入 口區內處理通道的剖面。當然,噴嘴軌道2 0的可調整裝 配方式之其他實施例也可以構思得出。例如,噴嘴軌道2 0 所在的外殼壁可以相對於運送平面傾斜地延伸。 除此之外,噴嘴軌道2 0也可以不同方式成形。這一 點特別是與前邊緣區有關’係被扭轉至被處理材料1 0的 運送方向18上。於是’可以使前邊緣區產生不同的曲率 。藉由噴嘴軌道2 0的傾斜配置,因此也可以構思出一種 大致上非曲線路徑的噴嘴軌道2 0。 -26- (24) (24)1304753 最好,設置不同種類的噴嘴軌道20,以便用於不同種 類的被處理材料以及不同的處理要求,這些噴嘴軌道是以 可替換方式裝配於噴嘴裝置的外殼2上。以此方式,可以 增加噴嘴裝置對於個別要求的調整之精確度與彈性。 如圖1 A所示,噴嘴裝置係設置在被處理材料的運送 平面之兩側上。特別是,如此意味著將一噴嘴設置在運送 平面的上方,而將一噴嘴設置在運送平面的下方。然而, 當然對於噴嘴裝置來說可以只包含一個噴嘴,將其設置在 被處理材料的一側上,如圖1B所示。除此之外,圖7所 示的噴嘴裝置也可以設置有一插入元件,如圖4所示。在 此情形中,噴嘴孔8是藉由噴嘴軌道2 0的邊緣以及插入 元件1 2來限定的。 假如噴嘴裝置只有設置在運送平面的一側上的話,則 被處理材料可以額外地藉由滾筒、輪子或導引軌道等支撐 在正對側上。在被處理材料的一側上之負壓,即使是被處 理材料內的最小通道孔,也可以產生出良好平齊的通過。 圖8顯示本發明另一實施例的噴嘴裝置。對應於圖1 至7的零件則以相同的參數表示。圖8所示的噴嘴裝置是 對應於根據圖7所述的噴嘴裝置,然而,噴嘴在每個情形 中均具有一額外的噴嘴孔22,係設計用以在大致垂直於被 處理材料1 0的運送平面之方向上射出處理液體。額外的 噴嘴孔22能使處理液體的流動增強而通過被處理材料內 的孔’例如通道孔或盲孔等。以此方式,在被處理材料內 形成的孔區域中可以使被處理材料達成更有效的處理。 ⑤ (25) (25) J304753 在圖8中,額外的噴嘴孔22是設置在彼此正對的上 下噴嘴內。這樣的結構是有利於處理盲孔。然而,另一方 面,對於額外的噴嘴孔2 2來說,也可以彼此之間偏移排 列,假如打算在被處理材料10通過通道孔時產生—連續 的流動的話’這一點特別有利。 藉由圖8所示的噴嘴裝置,處理液體經由液體通道6 而導引至額外的噴嘴孔22’液體通道亦用以將處理液體導 引至晴嘴孔8。另·一方面’可以提供一分開輸送的處理液 體到額外的噴嘴孔22上。爲此目的’液體通道6可藉由 一分隔壁(未顯示)而分割成兩個分開的通道。除此之外’ 也可以設置一種機構’以便使處理液體經過此額外的噴嘴 孔22之流動可以調整或受到控制’而與流經噴嘴孔8的 處理液體流動無關。由於處理液體到額外的噴嘴孔22之 間的一個別輸送,因此特別地可設置一個別的輸送裝置或 輸送栗。 圖8所示的噴嘴裝置具有一對稱結構,在被處理材料 10的運送平面上方與下方均具有噴嘴,這些噴嘴是設計成 與運送平面成鏡面對稱。然而,根據上述,對於噴嘴裝置 來說,並非強制規定要設計成與運送平面成對稱。例如, 此情形乃爲圖9所示的實施例。 圖9是一包含兩個噴嘴的噴嘴裝置,這兩個噴嘴是設 置在被處理材料的運送平面之兩側上,且分別具有不同的 結構。對應於圖1至8的零件再度賦予相同的參數。設置 在運送平面下方的噴嘴其結構對應於圖7所示的結構。然 -28- (26) (26)1304753 而,設置在被處理材料10之運送平面上方的是一具有不 同結構的噴嘴。此噴嘴與設置在運送平面下方的噴嘴不同 處特別在於,它只配備一噴嘴孔23,因此主要是將處理液 體以垂直於被處理材料10之運送平面之方向射出。結果 ,在具有大致垂直射出的處理液體之運送平面的一側上, 產生出一負壓。特別是用於很薄的被處理材料時,可以放 置額外的導引元件或支撐輪在運送平面具有負壓的一側, 在此未顯示於圖形中。因此,被處理材料10的移動就是 以一有效方式來支撐,而設置在移動平面上方的噴嘴就設 計彈性方面來說可以具有自己的噴嘴孔23,且可以調整成 適用於面朝此噴嘴的被處理材料之表面處理的特殊要求。 因此,總體來說,本發明噴嘴裝置的設計具有高度的彈性 〇 此外,對於圖1至9所示的噴嘴裝置之入口區或出口 區也可以設有導引元件,這些導引元件一方面用來減少或 免除處理液體的紊流,而在另一方面可以對被處理材料1〇 提供導引的功能。例如,導引元件可以設計成網狀物或突 起的形式,而設置在正對著被處理材料10的噴嘴外殼之 表面上。這些網狀物可以對齊平行於移動方向1 8,但是也 脫離此移動方向,以便確保被處理液體的流動能產生適當 的導引。特別是在出口區16內,其中處理通道一般是向 外擴大的,對於導引元件來說,最好能設計成使他們界定 出一運送通道,其剖面小於處理通道的剖面。於是,被處 理材料的移動會被侷限於垂直運送平面的一很小區域上, -29- ⑧ (27) (27)• J304753 同時提供額外的空間給導引元件之間的處理液體流動。由 於設置導引元件之故,因此在噴嘴裝置的出口區1 6特別 能使被處理材料1 0達成增進的導引。導引元件也可以包 含輪子或滾筒。 導引元件也可以與滾筒或輪子組合在一起,藉此導引 元件可以設計成蜂巢狀,且將輪子設置在蜂巢狀結構的網 狀物之間。而且,輪子或滾筒也可以設有銷齒,以便突出 於網狀物之間的蜂巢結構之一端上。這些機構特別適用於 增進在入口區15內且特別是出口區16的被處理材料1〇 之導引。假如被處理材料1 〇是很容易轉向離開運送平面 的薄膜狀材質時,這一點.特別有利。 根據圖1至9所述的噴嘴裝置在所有的情形中是關於 處理液體從噴嘴裝置輸送至被處理材料10上。然而,假 如被處理材料1 0之運送方向或噴嘴的排列方式顛倒的話 ,噴嘴裝置以類似方式藉由吸力將處理液體從被處理材料 10移除到噴嘴裝置內。假如在處理期間產生分解產物或使 固態物質掉下的話,這一點會特別有利。藉由將處理液體 吸入噴嘴裝置內,可以吸引分解產物或固態物質。且以最 快方式通過進入一再生單元或過濾器,以便去除固態物質 。因此,幾乎可以完全排除這些物質所導致的處理結果受 損。 而且,即使假如上述實施例是關於以一處理液體來處 理被處理材料的噴嘴或噴嘴裝置,本發明仍舊未侷限於此 。更明確地說,本發明的噴嘴裝置也非常適用於氣體處理 -30- (28) • 1304753 媒介或液體與氣體處理媒介的混合物。因此’例如可以使 用熱空氣來烘乾具有彈性且很薄的被處理材料’或者使用 水與空氣的混合物作爲處理媒介來進行潤濕(乃作爲防止 雀斑或斑點的形成)。除此之外’本發明的噴嘴裝置也非 常適用於以其他氣體進行處理,由於處理媒介的均勻分佈 ,所以這些氣體能在被處理材料的表面上產生化學效應。 藉由上述的噴嘴裝置,不僅是在水平方向,同時也可 •以在垂直方向上影響處理媒介的移動。在此情形中,爲了 達到均勻地管理流動,就是通過分佈孔與可調整噴嘴軌道 的流動,必須注意位於垂直放置的噴嘴處之大地壓力差 (geodetic pressure difference) ° 也可以使用傳統的"垂直系統〃,其中多數平板被個 別地下降至不同的處理槽內,或是彼此相鄰地安裝在齒條 上。在此情形中,可以使用入口區內的吸力效應以及噴嘴 的其他優點。 φ 在氣體處理媒介的情形中,噴嘴裝置最好是能設置在 如氣體處理媒介等氣體媒介中。 當然’上述圖1至9所述的噴嘴裝置彼此之間也可以 組裝起來。特別是’可以沿著被處理材料的運送路徑串聯 地設置幾個噴嘴裝置,這些噴嘴裝置最好能界定互補的處 理區。 例如’可設計一處理區,用來移除污泥顆粒進入一側 或兩側上的噴嘴孔內。可以設計另一處理區,藉由流動所 引發的負壓將氣體從一側上或兩側上的盲孔移出。至於, (S) -31 - (29) (29).1304753 另一處理區則可以設計成用來沖洗通道孔,在此情形中, 如上所述,在被處理材料的一側上產生一正壓,而在被處 理材料的另一側上產生一負壓。 當然,這幾個處理區也可以形成在一噴嘴裝置內。 處理媒介的流動,也就是每單位時間輸送至一噴嘴孔 或噴嘴裝置上的處理媒介量,以及處理媒介.的壓力,兩者 最好能受到控制或能調整成爲被處理材料性質的函數。在 此情形中,特別是被處理材料的厚度、盲孔或通道孔的存 在,以及污泥污染物的程度等因素均可納入考量。 在此情形中,噴嘴裝置內側數排噴嘴的處理媒介之流 動及/或壓力最好能分開控制或調整,如此一來,可以防 止被處理材料從運送路徑處產生側向偏移。 【圖式簡單說明】 圖1 A是一側視圖’顯示本發明的噴嘴裝置之一實施 例,具有兩個沿圖2所示的剖面線C - C ’呈局部剖面的噴嘴 » 圖1 B是一放大圖,顯示圖1 A的一噴嘴之放大剖面; 圖2是一剖面圖,沿著圖1A所示的剖面線A-A’以局 部剖面顯示圖1 A的實施例; 圖3是一剖面圖,沿者圖1 A所不的剖面線B - B以局 部剖面顯示圖1 A的實施例; 圖4是一·剖面圖,沿者圖5所不的剖面線C - C顯不本 發明噴嘴裝置的另一實施例; ⑧ (30) (30)1304753 圖5是一剖面圖,沿著圖4所示的剖面線B-B’以局部 剖面顯示圖4的實施例; 圖6是一剖面圖,沿著圖4所示的剖面線A-A’以局 部剖面顯示圖4的實施例; 圖7是一剖面圖,顯示本發明噴嘴裝置之另一實施例 ,具有一可調式噴嘴軌道; 圖8是一剖面圖,顯示本發明噴嘴裝置之另一實施例 ,具有一額外的噴嘴孔;及 圖9是一剖面圖,顯示本發明噴嘴裝置之另一實施例 ,其中設置在移動平面兩側上的噴嘴裝置之零件是屬於不 同的設計。 【主要元件符號說明】 1 連 接 孔 2 外 殻 3, 3a 插 入 元 件 4 緊 固 裝 置 5 轉 向 通 道 6 液 體 通 道 7 分 佈 孔 8 噴 嘴 孔 9 分 佈 孔 10 被 處 理 材料 11, 1 1 5 液 體 路 徑 -33 (31) 1304753 (31)
1 2 插入條狀物 13 外殼蓋 14 密封環 15 入口區 16 出口區 17 角度 18 移動方向 19 液體路徑 20 噴嘴軌道 2 1 設定螺絲 22, 23 額外噴嘴孔

Claims (1)

  1. (1) (1)1304753 十、申請專利範圍 1. 一種噴嘴裝置,用於以一處理媒介來處理被處理 材料,藉此被處理材料(10)可以在該噴嘴裝置的一入口區 (15)到一出口區(16)的運送方向(18)上之一運送平面內運 送,該噴嘴裝置的特徵在於: 至少一噴嘴孔(8) ’係設計成使通過噴嘴孔(8)流動的 處理媒介係相對於被處理材料(10)的運送平面,成一預定 角度傾斜流動,致使處理媒介的流動會轉向進入被處理材 料(10)的運送方向。 2 ·如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置,其中該至少 一噴嘴孔(8 )是由至少一噴嘴孔通道所形成,該噴嘴孔通道 係相對於被處理材料(10) %運送平面成一銳角(17)來延伸 〇 3-如申請專利範圍_ 2項之噴嘴裝置,其中該角度 (17)的最大値爲80度。 4 ·如申請專利範圍第2項之噴嘴裝置,其中該至少 一噴嘴孔(8)是設計用來射出處理媒介,且該角度(17)正對 著被處理材料(10)的運奉方向開啓。 5 ·如申請專利範_第4項之噴嘴裝置,其中該至少 一噴嘴孔(8)是設置在一外殼壁內,該外殼壁主要是沿著運 ·. 送平面延伸,使得在該至少一噴嘴孔(8)與入口區(15)之間 的距離會小於該至少一噴嘴孔(8)與出口區(1 6)之間的距離 〇 6.如申請專利範圍第2項之噴嘴裝置,其中該至少 -35- (2) (2) 1304753 一噴嘴孔(8)是設計成用來容納處理媒介,且該角度(17)在 被處理材料(10)的運送方向(18)上呈開啓。 7.如申請專利範圍第6項之噴嘴裝置,其中該至少 一噴嘴孔(8)是設置在一外殼壁內,該外殻壁主要是沿著運 送平面延伸,使得在該至少一噴嘴孔(8)與出口區(16)之間 的距離會小於該至少一噴嘴孔(8)與入口區(15)之間的距離 〇 8 ·如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置,其中該噴嘴 裝置係設計成使得該噴嘴裝置的一外殼壁與運送平面之間 的距離’在被處理材料(10)的運送方向上介於入口區(15) 與至少一噴嘴孔(8 )之間的一區域內減少,使得在該區域中 ’在入口區(15)的方向呈楔形開啓的一通道會形成在外殼 壁與運送平面之間。 9. 如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置,其中該噴嘴 裝置是設計成使得該噴嘴裝置的一外殼壁與運送平面之間 的距離’在被處理材料(10)的運送方向(18)上介於至少一 噴嘴孔(8)與出口區之間的一區域內減少,使得在此區域 中’在出口區(16)的方向呈楔形開啓的一通道會形成在外 殼壁與運送平面之間。 10. 如申請專利範圍第]項之噴嘴裝置,其中該至少 一噴嘴孔(8)沿著運送平面在垂直於運送方向(18)的一方向 上之寬度延伸。 11. 如申請專利範圍第1 〇項之噴嘴裝置,其中該至 少一噴嘴孔(8)是設計成狹縫形式。 -36- (3) 1304753 12. 如申請專利範圍第1 1項之噴嘴裝置,其中該狹 縫乃形成通過噴嘴裝置的一外殼壁且通過一可移除條狀物 (12)。 13. 如申請專利範圍第1 1項之噴嘴裝置,其中該狹 縫係藉由一噴嘴軌道(20)而限定於至少一側上,該噴嘴軌 道(2 0)是以可調整的方式放置於噴嘴裝置的一外殼壁內。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之噴嘴裝置,其中該噴 φ 嘴軌道(20)是可以交換的,以便能夠選擇不同幾何形狀的 噴嘴孔。 15. 如申請專利範圍第1 3項之噴嘴裝置,其中該噴 嘴軌道(20)在入口區(15)內界定出噴嘴裝置的一前緣。 16. 如申請專利範圍第1 〇項之噴嘴裝置,其中該至 少一噴嘴孔(8)包含幾個孔,該等孔沿著垂直於運送方向 (18)且平行於運送平面的方向上互相隔開。 17. 如申請專利範圍第1〇項之噴嘴裝置,其中該噴 φ 嘴裝置包含一媒介通道(6),係沿著至少一噴嘴孔(8)延伸 ,以便運送處理媒介’該媒介通道係藉由分佈孔(7,9)而 連接至該至少一噴嘴孔(8)上’該等分佈孔係沿著.至少一噴 嘴孔(8)而互相隔開。 1 8 ·如申請專利範圍第1 7項之噴嘴裝置,其中該媒 介通道(6)係設計成使得當與作爲輸送或移除處理媒介的一 連接孔(1)之間的距離增加時’該媒介通道(6)的通過剖面 會減少。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之噴嘴裝置,其中該噴 -37- (4) •1304753 嘴裝置包含一設置在媒介通道(6)內的插入元件(3,3a),當 與連接孔(1)之間的距離間隔增加時,其位移體積會增加。 20. 如申請專利範圍第1 7項之噴嘴裝置,其中該至 少一噴嘴孔(8)是由至少一噴嘴孔通道而形成的,該噴嘴孔 通道相對於被處理材料(10)的運送平面成一銳角(17)延伸 ,且分佈孔(7)是藉由分佈通道而形成的,該等分佈通道相 對於被處理材料(10)的運送平面成一角度來設置,該角度 B 會大於噴嘴孔通道相對於運送平面的該角度(1 7)。 21. 如申請專利範圍第1 7項之噴嘴裝置,其中該等 分佈孔(9)在被處理材料(10)的運送方向(18)上相對於至少 一噴嘴孔(8)成偏移。 22. 如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置,其中該噴嘴 裝置包含至少另一噴嘴孔(8),係設置在正對著該至少一噴 嘴孔(8)的被處理材料(10)之運送平面一側上。 23. 如申請專利範圍第22項之噴嘴裝置,其中噴嘴 φ 裝置係設計成相對於被處理材料(1 〇)的運送平面成鏡面對 稱。 24. 如申請專利範圍第1項之噴嘴裝置,其中該噴嘴 裝置包含額外的噴嘴孔(22, 23 ),係設計成能以垂直於被 處理材料(1 0 )的運送平面之方式射出處理媒介。 25. 如申請專利範圍第1至24項中任一項之噴嘴裝 置,其中該噴嘴裝置係設計用於印刷電路板或印刷電路膜 作爲被處理材料(1 〇)之一濕化學處理裝置。 2 6. —種用於印刷電路板或印刷電路膜的濕化學處理 -38- (5) 1304753 裝置’其特徵在於具有如申請專利範圍第1至2 5項中任 一項之噴嘴裝置。 27· —種以處理媒介來處理被處理材料之方法,藉此 被處理材料(10)可以在噴嘴裝置的—入口區(15)到—出口 區(16)的運送方向(18)上之一運送平面內移動,其特徵在 於該方法包含以下步驟: 使噴嘴裝置的一噴嘴孔(8)所射出或接收的處理媒介之 • 流動轉向進入被處理材料(10)的運送方向(18)。 2 8 ·如申請專利範圍第2 7項之方法,其中該處理媒 介係相對於被處理材料(1 〇 )的運送平面以1至3 〇度的一預 定銳角來射出或接收。 29·如申請.專利範圍第28項之方法,其中該角度(17) 爲80度。 30.如申請專利範圍第27項之方法,其中該方法包 含以下步驟:調適噴嘴裝置的形狀,以便在噴嘴裝置的一 φ 處理通道之至少一限定區域內具體的產生一負壓。 3 1 .如申請專利範圍第3 0項之方法,其中該負壓是 產生於噴嘴裝置的入口區(1 5 )內,以便使處理媒介能從入 口區(1 5)的周圍吸入。 32.如申請專利範圍第27項之方法,其中該方法包 a以下步驟:調適噴嘴裝置的塑形’以便調整處理媒介的 流速。 3 3 .如申請專利範圍第2 7項之方法,其中該方法包 含以下步驟:調適噴嘴裝置的塑形及噴嘴孔(8 )與至少一額 -39- (6) •1304753 外噴嘴孔(22, 23)的位置’使得在噴嘴裝置的特定區域內 ’能在被處理材料的一側上產生負壓而在另一側上產生正 壓。 34. 如申請專利範圍第27項之方法,其中該方法包 含以下步驟:控制導入噴嘴裝置內的處理媒介之流動。 35. 如申請專利範圍第27項之方法,其中該方法包 #以下步驟:控制導入噴嘴裝置內的處理媒介之壓力。 φ 36.如申請專利範圍第27至3 5項中任一項之方法, 其中該噴嘴裝置係根據申請專利範圍第1至2 6項中任— 項來設計的。 -40 ⑧
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