JP3521716B2 - 回転塗布装置用塗液供給装置 - Google Patents
回転塗布装置用塗液供給装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、半
導体製造用マスク基板、液晶表示パネル用ガラス基板等
の基板を水平に保持したまま回転させて基板表面にフォ
トレジストなどの流動性液体材料を塗布するための回転
塗布装置用塗液供給装置に関するものである。
導体製造用マスク基板、液晶表示パネル用ガラス基板等
の基板を水平に保持したまま回転させて基板表面にフォ
トレジストなどの流動性液体材料を塗布するための回転
塗布装置用塗液供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体や液晶表示用カラーフ
ィルターの製造工程におけるフォトレジスト等の塗布方
法として、真空チャックで吸着された基板（ウエハやガ
ラス板）の中央部にフォトレジスト等塗布液を、先端に
ノズルを有する塗液滴下装置（ディスペンサー）より滴
下後、この基板を高速回転させて行ない薄膜を形成する
回転塗布法（スピンコート方式）が一般的に知られ使用
されている。この方式は、ウエハ等基板回転時に生ずる
遠心力を利用して、約１μｍの薄い膜を形成するもので
ある。
ィルターの製造工程におけるフォトレジスト等の塗布方
法として、真空チャックで吸着された基板（ウエハやガ
ラス板）の中央部にフォトレジスト等塗布液を、先端に
ノズルを有する塗液滴下装置（ディスペンサー）より滴
下後、この基板を高速回転させて行ない薄膜を形成する
回転塗布法（スピンコート方式）が一般的に知られ使用
されている。この方式は、ウエハ等基板回転時に生ずる
遠心力を利用して、約１μｍの薄い膜を形成するもので
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術においては、回転する基板の中心近傍と周辺部
とでは、遠心力が異なるため、形成された塗膜が基板中
心部が厚く、周辺部に向かって薄くなるという問題点が
あった。
従来技術においては、回転する基板の中心近傍と周辺部
とでは、遠心力が異なるため、形成された塗膜が基板中
心部が厚く、周辺部に向かって薄くなるという問題点が
あった。
【０００４】この問題点の解決法として、多量の塗液を
滴下供給して膜厚の差を軽減させることも可能である
が、塗液の多量消費という問題に繋がるものであった。
滴下供給して膜厚の差を軽減させることも可能である
が、塗液の多量消費という問題に繋がるものであった。
【０００５】本発明は、かかる従来技術の問題点を解決
するものであり、その課題とするところは、半導体や液
晶表示用カラーフィルター等の製造工程におけるフォト
レジスト等の塗布する回転塗布法によって、基板（ウエ
ハやガラス板等）上に得られる塗膜厚に差がなく、かつ
塗液消費量を必要最低限とする回転塗布装置用塗液供給
装置を提供することにある。
するものであり、その課題とするところは、半導体や液
晶表示用カラーフィルター等の製造工程におけるフォト
レジスト等の塗布する回転塗布法によって、基板（ウエ
ハやガラス板等）上に得られる塗膜厚に差がなく、かつ
塗液消費量を必要最低限とする回転塗布装置用塗液供給
装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を達成するために、まず請求項１の発明では、緩やかに
回転する基板上に、塗液をある一定幅でビートを形成し
ながらもしくはカーテン状に吐出するスロット型押し出
し塗液供給装置であって、該塗液の吐出量が前記基板の
中心部から周辺部に向かって連続的に多くなるようにす
るスロット型塗液供給ヘッドを備えてなることを特徴と
する回転塗布装置用塗液供給装置としたものである。
を達成するために、まず請求項１の発明では、緩やかに
回転する基板上に、塗液をある一定幅でビートを形成し
ながらもしくはカーテン状に吐出するスロット型押し出
し塗液供給装置であって、該塗液の吐出量が前記基板の
中心部から周辺部に向かって連続的に多くなるようにす
るスロット型塗液供給ヘッドを備えてなることを特徴と
する回転塗布装置用塗液供給装置としたものである。
【０００７】また、請求項２の発明では、前記スロット
型塗液供給ヘッドの塗液流路となるスリットの幅を、一
部もしくは全部において、中心部から左右端に向かって
連続的に大きくしてなることを特徴とする回転塗布装置
用塗液供給装置としたものである。
型塗液供給ヘッドの塗液流路となるスリットの幅を、一
部もしくは全部において、中心部から左右端に向かって
連続的に大きくしてなることを特徴とする回転塗布装置
用塗液供給装置としたものである。
【０００８】また、請求項３の発明では、前記スロット
型塗液供給ヘッドの内部に設けられたマニホールドから
スロット型塗液供給ヘッドの先端までのスリットの距離
を、一部もしくは全部において、中心より左右端に向か
って小さくしてなることを特徴とする回転塗布装置用塗
液供給装置としたものである。
型塗液供給ヘッドの内部に設けられたマニホールドから
スロット型塗液供給ヘッドの先端までのスリットの距離
を、一部もしくは全部において、中心より左右端に向か
って小さくしてなることを特徴とする回転塗布装置用塗
液供給装置としたものである。
【０００９】また、請求項４の発明では、前記スロット
型塗液供給ヘッドの内部に設けられたマニホールドの容
積を、一部もしくは全部において、中心より左右端に向
かって小さくしてなることを特徴とする回転塗布装置用
塗液供給装置としたものである。
型塗液供給ヘッドの内部に設けられたマニホールドの容
積を、一部もしくは全部において、中心より左右端に向
かって小さくしてなることを特徴とする回転塗布装置用
塗液供給装置としたものである。
【００１０】また、請求項５の発明では、前記スロット
型塗液供給ヘッドの先端と前記基板とのギャップを、一
部もしくは全部において、中心より左右端に向かって大
きくしてなることを特徴とする回転塗布装置用塗液供給
装置としたものである。
型塗液供給ヘッドの先端と前記基板とのギャップを、一
部もしくは全部において、中心より左右端に向かって大
きくしてなることを特徴とする回転塗布装置用塗液供給
装置としたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
用いて説明する。図１は、本発明に係わる回転塗布装置
（１００）の全体を説明する図であり、図２は、本発明
の回転塗布装置用塗液供給装置（１）の主要な部分を構
成するスロット型塗液供給ヘッド（５０）のスリット
（６０）の形状を断面で表した説明図である。また、図
３は、スリット（６０）の距離すなわちヘッド先端まで
の長さを説明するものであり、図４は、スロット型塗液
供給ヘッド（５０）の内部に形成されたマニホールド
（７０）の形状等を説明する図であり、図５は、スロッ
ト型塗液供給ヘッド（５０）の先端形状を説明する図で
ある。
用いて説明する。図１は、本発明に係わる回転塗布装置
（１００）の全体を説明する図であり、図２は、本発明
の回転塗布装置用塗液供給装置（１）の主要な部分を構
成するスロット型塗液供給ヘッド（５０）のスリット
（６０）の形状を断面で表した説明図である。また、図
３は、スリット（６０）の距離すなわちヘッド先端まで
の長さを説明するものであり、図４は、スロット型塗液
供給ヘッド（５０）の内部に形成されたマニホールド
（７０）の形状等を説明する図であり、図５は、スロッ
ト型塗液供給ヘッド（５０）の先端形状を説明する図で
ある。
【００１２】先ず図１に示す回転塗布装置全体について
説明する。本発明に係わる回転塗布装置（１００）は、
回転台（３０）上に基板（１０）が水平にチャック等で
強固に保持され、回転軸（３１）を中心にモーター（３
２）により回転駆動される。この回転台（３０）の周囲
には、カップ（３３）が配置されており、回転台（３
０）上の基板（１０）にフォトレジスト等の塗液（２）
を回転塗布する際に飛散する余分の塗液（２）を補集
し、廃液回収タンク（３４）に回収する。
説明する。本発明に係わる回転塗布装置（１００）は、
回転台（３０）上に基板（１０）が水平にチャック等で
強固に保持され、回転軸（３１）を中心にモーター（３
２）により回転駆動される。この回転台（３０）の周囲
には、カップ（３３）が配置されており、回転台（３
０）上の基板（１０）にフォトレジスト等の塗液（２）
を回転塗布する際に飛散する余分の塗液（２）を補集
し、廃液回収タンク（３４）に回収する。
【００１３】この回転塗布装置（１００）には、回転台
（３０）により水平保持された基板（１０）の上方位置
で、基板（１０）の表面からの高さ方向に移動可能なス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）が設けられていて、ス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）の先端と基板表面との
ギャップ制御や、必要に応じてカップ（３３）外の退避
位置にも移動できるように構成されている。
（３０）により水平保持された基板（１０）の上方位置
で、基板（１０）の表面からの高さ方向に移動可能なス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）が設けられていて、ス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）の先端と基板表面との
ギャップ制御や、必要に応じてカップ（３３）外の退避
位置にも移動できるように構成されている。
【００１４】また、この回転塗布装置（１００）には、
塗布バルブ（２２）を備えたフレキシブルチューブ（２
０）が塗液（２）を貯めた加圧タンク（２１）に連結さ
れており、窒素による加圧手段を用いて、スロット型塗
液供給ヘッド（５０）にフォトレジスト等の塗液（２）
を圧送する。また、塗液（２）の供給終了時には、塗布
バルブ（２２）が閉じると同時に残圧開放バルブ（２
３）を開くことにより余剰圧力が開放され、スロット型
塗液供給ヘッド（５０）から基板（１０）表面に塗液
（２）が垂れ落ちるのを防止する。また、塗液（２）を
スロット型塗液供給ヘッド（５０）に送る手段は圧送に
限らず、ポンプによる手段を用いても構わない。
塗布バルブ（２２）を備えたフレキシブルチューブ（２
０）が塗液（２）を貯めた加圧タンク（２１）に連結さ
れており、窒素による加圧手段を用いて、スロット型塗
液供給ヘッド（５０）にフォトレジスト等の塗液（２）
を圧送する。また、塗液（２）の供給終了時には、塗布
バルブ（２２）が閉じると同時に残圧開放バルブ（２
３）を開くことにより余剰圧力が開放され、スロット型
塗液供給ヘッド（５０）から基板（１０）表面に塗液
（２）が垂れ落ちるのを防止する。また、塗液（２）を
スロット型塗液供給ヘッド（５０）に送る手段は圧送に
限らず、ポンプによる手段を用いても構わない。
【００１５】上記の回転塗布装置（１００）に付随する
本発明の回転塗布装置用塗液供給装置（１）は、図１に
示すように、まず緩やかに回転する基板（１０）上に、
塗液（２）をある一定幅でビートを形成しながらもしく
はカーテン状に吐出するスロット型押し出し塗液供給装
置であって、その塗液（２）の吐出量を前記基板（１
０）の中心部から周辺部に向かって連続的に多くなるよ
うにするスロット型塗液供給ヘッド（５０）を備えてな
ることを特徴とするものである。
本発明の回転塗布装置用塗液供給装置（１）は、図１に
示すように、まず緩やかに回転する基板（１０）上に、
塗液（２）をある一定幅でビートを形成しながらもしく
はカーテン状に吐出するスロット型押し出し塗液供給装
置であって、その塗液（２）の吐出量を前記基板（１
０）の中心部から周辺部に向かって連続的に多くなるよ
うにするスロット型塗液供給ヘッド（５０）を備えてな
ることを特徴とするものである。
【００１６】そこでまず、上記スロット型塗液供給ヘッ
ド（５０）は、図２に示すように、その塗液流路となる
スリット（６０）の幅（Ｗ）を、一部もしくは全部にお
いて、中心部（６０ｃ）から左右端部（６０ｓ）に向か
って連続的に広くしてなるものとしたものである。
ド（５０）は、図２に示すように、その塗液流路となる
スリット（６０）の幅（Ｗ）を、一部もしくは全部にお
いて、中心部（６０ｃ）から左右端部（６０ｓ）に向か
って連続的に広くしてなるものとしたものである。
【００１７】上記スリット（６０）の幅（Ｗ）は、塗液
（２）の粘度によって、調整あるいはスリット（６０）
の交換等を必要とするもので、粘度の低い場合は全体的
に小さく、中心部（６０ｃ）と左右端部（６０ｓ）の幅
の差の比率も小さくするものである。
（２）の粘度によって、調整あるいはスリット（６０）
の交換等を必要とするもので、粘度の低い場合は全体的
に小さく、中心部（６０ｃ）と左右端部（６０ｓ）の幅
の差の比率も小さくするものである。
【００１８】上記のように、スロット型塗液供給ヘッド
（５０）を用いて、そのスリット（６０）の幅（Ｗ）を
中心部（６０ｃ）から左右端部（６０ｓ）に向かって連
続的に広くすることによって、緩やかに回転する被塗布
物である基板（１０）の中心部から周辺部に向かって連
続的に吐出量が多くすることができ、その後の高速回転
によって得られた基板（１０）上の膜厚は、極均一なも
のとすることができる。また、吐出量も必要最小限とす
ることができ、従来のスピンナーコート法に比較し、よ
り経済的効果を発揮するものである。
（５０）を用いて、そのスリット（６０）の幅（Ｗ）を
中心部（６０ｃ）から左右端部（６０ｓ）に向かって連
続的に広くすることによって、緩やかに回転する被塗布
物である基板（１０）の中心部から周辺部に向かって連
続的に吐出量が多くすることができ、その後の高速回転
によって得られた基板（１０）上の膜厚は、極均一なも
のとすることができる。また、吐出量も必要最小限とす
ることができ、従来のスピンナーコート法に比較し、よ
り経済的効果を発揮するものである。
【００１９】また、図３に示すように、前記スロット型
塗液供給ヘッド（５０）の内部に設けられたマニホール
ド（７０）からスロット型塗液供給ヘッド（５０）の先
端までのスリットの距離（Ｄ）を、一部もしくは全部に
おいて、中心部（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向か
って小さくしてなるものとしたものである。
塗液供給ヘッド（５０）の内部に設けられたマニホール
ド（７０）からスロット型塗液供給ヘッド（５０）の先
端までのスリットの距離（Ｄ）を、一部もしくは全部に
おいて、中心部（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向か
って小さくしてなるものとしたものである。
【００２０】上記マニホールド（７０）からスロット型
塗液供給ヘッド（５０）の先端までのスリット（６０）
の距離（Ｄ）は、塗液（２）の粘度によって、調整ある
いはヘッド（５０）の交換等を必要とするもので、粘度
の低い場合は全体的に大きく、中心部（６０ｃ）と左右
端（６０ｓ）とにおけるスリットの距離（Ｄ）の差の比
率も大きくするものである。従って、前記図２に示すス
リット（６０）の幅（Ｗ）と塗液（２）の粘度との相互
作用からこのスリットの距離（Ｄ）および中心部（７０
ｃ）と左右端部（７０ｓ）とのスリットの距離（Ｄ）と
の比率を設定する必要がある。
塗液供給ヘッド（５０）の先端までのスリット（６０）
の距離（Ｄ）は、塗液（２）の粘度によって、調整ある
いはヘッド（５０）の交換等を必要とするもので、粘度
の低い場合は全体的に大きく、中心部（６０ｃ）と左右
端（６０ｓ）とにおけるスリットの距離（Ｄ）の差の比
率も大きくするものである。従って、前記図２に示すス
リット（６０）の幅（Ｗ）と塗液（２）の粘度との相互
作用からこのスリットの距離（Ｄ）および中心部（７０
ｃ）と左右端部（７０ｓ）とのスリットの距離（Ｄ）と
の比率を設定する必要がある。
【００２１】上記のように、スロット型塗液供給ヘッド
（５０）を用いて、そのの内部に設けられたマニホール
ド（７０）からスロット型塗液供給ヘッド（５０）の先
端（５０ｅ）までのスリットの距離（Ｄ）を、中心部
（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向かって小さくする
ことにより、緩やかに回転する被塗布物である基板（１
０）の中心部から周辺部に向かって連続的に吐出量が多
くすることができ、前述のスリット（６０）の幅（Ｗ）
との相互作用により、より安定して連続的に吐出量が多
くすることができる。よって、その後の高速回転によっ
て得られた基板（１０）上の膜厚は、より極均一なもの
とすることができ、また、塗液の吐出量も必要最小限と
することができ、より経済的効果を発揮するものであ
る。
（５０）を用いて、そのの内部に設けられたマニホール
ド（７０）からスロット型塗液供給ヘッド（５０）の先
端（５０ｅ）までのスリットの距離（Ｄ）を、中心部
（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向かって小さくする
ことにより、緩やかに回転する被塗布物である基板（１
０）の中心部から周辺部に向かって連続的に吐出量が多
くすることができ、前述のスリット（６０）の幅（Ｗ）
との相互作用により、より安定して連続的に吐出量が多
くすることができる。よって、その後の高速回転によっ
て得られた基板（１０）上の膜厚は、より極均一なもの
とすることができ、また、塗液の吐出量も必要最小限と
することができ、より経済的効果を発揮するものであ
る。
【００２２】また、図４に示すように、上記スロット型
塗液供給ヘッド（５０）の内部に設けられたマニホール
ド（７０）の容積を、一部もしくは全部において、中心
部（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向かって連続的に
小さくすることによって、マニホールド（７０）の左右
端部（７０ｓ）では、塗液（２）の圧力が高くなるの
で、中心部（７０ｃ）より、緩やかに回転する基板（１
０）上の周辺部に吐出量を多くすることができ、その後
の高速回転によって得られる基板（１０）上の膜厚をよ
り均一なものとすることができる。また、塗液の吐出量
も必要最小限とすることができ、より経済的効果を発揮
するものである。
塗液供給ヘッド（５０）の内部に設けられたマニホール
ド（７０）の容積を、一部もしくは全部において、中心
部（７０ｃ）より左右端（７０ｓ）に向かって連続的に
小さくすることによって、マニホールド（７０）の左右
端部（７０ｓ）では、塗液（２）の圧力が高くなるの
で、中心部（７０ｃ）より、緩やかに回転する基板（１
０）上の周辺部に吐出量を多くすることができ、その後
の高速回転によって得られる基板（１０）上の膜厚をよ
り均一なものとすることができる。また、塗液の吐出量
も必要最小限とすることができ、より経済的効果を発揮
するものである。
【００２３】さらにまた、図５に示すように、上記スロ
ット型塗液供給ヘッド（５０）の先端（５０ｅ）と緩や
かに回転する上記基板（１０）とのギャップ（Ｇ）を、
一部もしくは全部において、ヘッド先端（５０ｅ）の中
心より左右端に向かって連続的に大きくすることによっ
て、基板（１０）の回転逆方向であるヘッド先端（５０
ｅ）にビート（図示せず）を形成しながら、緩やかに回
転する基板（１０）上の中心部より周辺部に向かって塗
液の吐出量を多くすることができ、その後の高速回転に
よって得られる基板（１０）上の膜厚をより均一なもの
とすることができる。また、塗液の吐出量も必要最小限
とすることができ、より経済的効果を発揮するものであ
る。
ット型塗液供給ヘッド（５０）の先端（５０ｅ）と緩や
かに回転する上記基板（１０）とのギャップ（Ｇ）を、
一部もしくは全部において、ヘッド先端（５０ｅ）の中
心より左右端に向かって連続的に大きくすることによっ
て、基板（１０）の回転逆方向であるヘッド先端（５０
ｅ）にビート（図示せず）を形成しながら、緩やかに回
転する基板（１０）上の中心部より周辺部に向かって塗
液の吐出量を多くすることができ、その後の高速回転に
よって得られる基板（１０）上の膜厚をより均一なもの
とすることができる。また、塗液の吐出量も必要最小限
とすることができ、より経済的効果を発揮するものであ
る。
【００２４】このように、ギャップ（Ｇ）をヘッド先端
（５０ｅ）の中心より左右端（５０ｓ）に向かって連続
的に大きくすることのみでも上記の効果は得られるが、
上記のスリット（６０）幅（Ｗ）やスリット（６０）の
距離（Ｓ）あるいはマニホールド（７０）の容積等をも
考慮することによって、より安定的にビート（図示せ
ず）を形成することができ、従ってより安定して均一な
基板（１０）上の膜厚とすることができる。
（５０ｅ）の中心より左右端（５０ｓ）に向かって連続
的に大きくすることのみでも上記の効果は得られるが、
上記のスリット（６０）幅（Ｗ）やスリット（６０）の
距離（Ｓ）あるいはマニホールド（７０）の容積等をも
考慮することによって、より安定的にビート（図示せ
ず）を形成することができ、従ってより安定して均一な
基板（１０）上の膜厚とすることができる。
【００２５】
【実施例】次に本発明を実施例により、より具体的に説
明する。 〈実施例１〉基板（１０）として、サイズ３００ｍｍ×
３００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのノンアルカリガラス＃１
７３７（コーニング社製）を回転台（１０）上にチャッ
クにより強固に水平保持した後、塗布幅２９０ｍｍのス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）の先端（５０ｅ）が前
記基板（１０）表面から２００μｍの位置に水平固定す
る。その後、基板（１０）を９ｒｐｍで回転させなが
ら、フォトレジストＡＺ１３７０（ヘキスト社製）を吐
出量０．２５Ｋｇ／ｃｍ2 でスロット型塗液供給ヘッド
（５０）から基板（１０）の表面にプレコートした。な
お塗液（２）の粘度は１１ｃｐｓであった。
明する。 〈実施例１〉基板（１０）として、サイズ３００ｍｍ×
３００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのノンアルカリガラス＃１
７３７（コーニング社製）を回転台（１０）上にチャッ
クにより強固に水平保持した後、塗布幅２９０ｍｍのス
ロット型塗液供給ヘッド（５０）の先端（５０ｅ）が前
記基板（１０）表面から２００μｍの位置に水平固定す
る。その後、基板（１０）を９ｒｐｍで回転させなが
ら、フォトレジストＡＺ１３７０（ヘキスト社製）を吐
出量０．２５Ｋｇ／ｃｍ2 でスロット型塗液供給ヘッド
（５０）から基板（１０）の表面にプレコートした。な
お塗液（２）の粘度は１１ｃｐｓであった。
【００２６】また、ここで使用したスロット型塗液供給
ヘッド（５０）のスリット（６０）の幅（Ｗ）は、中心
部（６０ｃ）で３０μｍ、左右端部（６０ｓ）で１５０
μｍであり、マニホールド（７０）からヘッド先端（５
０ｅ）までのスリット（６０）の距離（Ｄ）は、スリッ
ト（６０）の中心部（６０ｃ）で６０ｍｍ、左右端部
（６０ｓ）で１ｍｍのものを使用した。なお、マニホー
ルド（７０）の容量およびヘッド先端（５０ｅ）と基板
（１０）のギャップ（Ｇ）は中心部と左右端部では一定
のものを使用した。
ヘッド（５０）のスリット（６０）の幅（Ｗ）は、中心
部（６０ｃ）で３０μｍ、左右端部（６０ｓ）で１５０
μｍであり、マニホールド（７０）からヘッド先端（５
０ｅ）までのスリット（６０）の距離（Ｄ）は、スリッ
ト（６０）の中心部（６０ｃ）で６０ｍｍ、左右端部
（６０ｓ）で１ｍｍのものを使用した。なお、マニホー
ルド（７０）の容量およびヘッド先端（５０ｅ）と基板
（１０）のギャップ（Ｇ）は中心部と左右端部では一定
のものを使用した。
【００２７】以上で得られた基板（１０）上の塗液
（２）の膜厚は、基板（１０）の中心で約５０μｍ、そ
の周辺部で約１８０μｍ程度で連続的に変化しているも
のであった。
（２）の膜厚は、基板（１０）の中心で約５０μｍ、そ
の周辺部で約１８０μｍ程度で連続的に変化しているも
のであった。
【００２８】次に、塗布バルブ（２２）を閉じ、同時に
残圧開放バルブ（２３）を開くことによって、余剰圧力
を開放し、スロット型塗液供給ヘッド（５０）を上昇さ
せカップ（３３）外に退避させた後、基板（１０）を１
０００ｒｐｍ、１０秒間回転させて、基板（１０）表面
上に２μｍ±３％以内の膜厚精度に優れたレジスト膜を
得ることができた。
残圧開放バルブ（２３）を開くことによって、余剰圧力
を開放し、スロット型塗液供給ヘッド（５０）を上昇さ
せカップ（３３）外に退避させた後、基板（１０）を１
０００ｒｐｍ、１０秒間回転させて、基板（１０）表面
上に２μｍ±３％以内の膜厚精度に優れたレジスト膜を
得ることができた。
【００２９】〈比較例１〉従来の先端にノズルを有する
ディスペンサー（塗液滴下装置）を使用した塗液供給方
法で、実施例１と同様のフォトレジストを２０ｃｃ基板
の中心に供給した後、実施例１と同条件でスピンコート
した。その結果得られた塗布膜厚の精度は２μｍ±５％
であり、基板（１０）中心部で僅かに厚く周辺部で薄い
精度のものであった。
ディスペンサー（塗液滴下装置）を使用した塗液供給方
法で、実施例１と同様のフォトレジストを２０ｃｃ基板
の中心に供給した後、実施例１と同条件でスピンコート
した。その結果得られた塗布膜厚の精度は２μｍ±５％
であり、基板（１０）中心部で僅かに厚く周辺部で薄い
精度のものであった。
【００３０】さらに、上記実施例１での基板（１０）一
枚当たりのフォトレジスト使用量は約９ｃｃであり、従
来の比較例１における装置での基板（１０）一枚あたり
のフォトレジスト使用量に対して約１１ｃｃ節約できる
ものであった。このように実施例１での節約量は、量産
することによって莫大な経済効果を発現するものであっ
た。
枚当たりのフォトレジスト使用量は約９ｃｃであり、従
来の比較例１における装置での基板（１０）一枚あたり
のフォトレジスト使用量に対して約１１ｃｃ節約できる
ものであった。このように実施例１での節約量は、量産
することによって莫大な経済効果を発現するものであっ
た。
【００３１】
【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち、緩やかに回転する基板上
に、塗液をある一定幅でビートを形成しながらもしくは
カーテン状に吐出するスロット型押し出し塗液供給装置
であって、該塗液の吐出量を前記基板の中心部から周辺
部に向かって連続的に多くなるようにするスロット型塗
液供給ヘッドを備え、そのスロット型塗液供給ヘッドの
スリットの幅を、中心部から左右端に向かって連続的に
大きくしてなり、また、そのスロット型塗液供給ヘッド
の内部に設けられたマニホールドからヘッドの先端まで
のスリットの距離を、中心より左右端に向かって連続的
に小さくしてなるものとすることによって、得られた基
板上の膜厚は、極均一なものとすることができる。ま
た、塗液の吐出量も必要最小限とすることができ、莫大
な経済効果を発現できる。
示す如き効果がある。即ち、緩やかに回転する基板上
に、塗液をある一定幅でビートを形成しながらもしくは
カーテン状に吐出するスロット型押し出し塗液供給装置
であって、該塗液の吐出量を前記基板の中心部から周辺
部に向かって連続的に多くなるようにするスロット型塗
液供給ヘッドを備え、そのスロット型塗液供給ヘッドの
スリットの幅を、中心部から左右端に向かって連続的に
大きくしてなり、また、そのスロット型塗液供給ヘッド
の内部に設けられたマニホールドからヘッドの先端まで
のスリットの距離を、中心より左右端に向かって連続的
に小さくしてなるものとすることによって、得られた基
板上の膜厚は、極均一なものとすることができる。ま
た、塗液の吐出量も必要最小限とすることができ、莫大
な経済効果を発現できる。
【００３２】また、上記マニホールドの容積を、中心部
より左右端部に向かって連続的に小さくし、さらにま
た、上記スロット型塗液供給ヘッドの先端と上記基板と
のギャップを、ヘッド先端の中心より左右端に向かって
連続的に大きくすることによって、得られる基板上の膜
厚をより均一なものとすることができる。また、塗液の
吐出量も必要最小限とすることができるものである。
より左右端部に向かって連続的に小さくし、さらにま
た、上記スロット型塗液供給ヘッドの先端と上記基板と
のギャップを、ヘッド先端の中心より左右端に向かって
連続的に大きくすることによって、得られる基板上の膜
厚をより均一なものとすることができる。また、塗液の
吐出量も必要最小限とすることができるものである。
【図１】本発明に係わる回転塗布装置の全体を説明する
概略図である。
概略図である。
【図２】本発明の一実施の形態を表すもので、回転塗布
装置用塗液供給装置を構成するスロット型塗液供給ヘッ
ドのスリット形状を側断面で表した説明図である。
装置用塗液供給装置を構成するスロット型塗液供給ヘッ
ドのスリット形状を側断面で表した説明図である。
【図３】本発明の回転塗布装置用塗液供給装置を構成す
るスロット型塗液供給ヘッドの内部に形成されたマニホ
ールドの形状と位置を説明する図である。
るスロット型塗液供給ヘッドの内部に形成されたマニホ
ールドの形状と位置を説明する図である。
【図４】本発明の回転塗布装置用塗液供給装置を構成す
るスロット型塗液供給ヘッドの内部に形成されたマニホ
ールドの形状を説明する図である。
るスロット型塗液供給ヘッドの内部に形成されたマニホ
ールドの形状を説明する図である。
【図５】本発明の回転塗布装置用塗液供給装置を構成す
るスロット型塗液供給ヘッドの先端形状を説明する図で
ある。
るスロット型塗液供給ヘッドの先端形状を説明する図で
ある。
１‥‥回転塗布装置用塗液供給装置
２‥‥塗液
１０‥‥基板
２０‥‥フレキシブルチューブ
２１‥‥塗液貯留加圧タンク
２２‥‥塗布バルブ
２３‥‥残圧開放バルブ
３０‥‥回転台
３１‥‥回転軸
３２‥‥モーター
３３‥‥カップ
３４‥‥廃液回収タンク
５０‥‥スロット型塗液供給ヘッド
５０ｃ‥‥ヘッド先端の中心部
５０ｓ‥‥ヘッド先端の左右端部
５０ｅ‥‥ヘッド先端
６０‥‥スリット
６０ｃ‥‥スリット中心部
６０ｓ‥‥スリットの左右端部
７０‥‥マニホールド
７０ｃ‥‥マニホールドの中心部
７０ｓ‥‥マニホールドの左右端部
１００‥‥回転塗布装置
Ｄ‥‥マニホールドからヘッド先端までのスリットの距
離 Ｇ‥‥ヘッド先端と基板とのギャップ Ｗ‥‥スリットの幅
離 Ｇ‥‥ヘッド先端と基板とのギャップ Ｗ‥‥スリットの幅
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
Claims (5)
- 【請求項１】緩やかに回転する基板上に、塗液をある一
定幅でビードを形成しながらもしくはカーテン状に吐出
するスロット型押し出し塗液供給装置であって、該塗液
の吐出量を前記基板の中心部から周辺部に向かって連続
的に多くなるようにすることにより、塗膜の厚さが前記
基板の中心部から周辺部に向かい連続的に厚くなる様に
するスロット型塗液供給ヘッドを備えたことを特徴とす
る回転塗布装置用塗液供給装置。 - 【請求項２】前記スロット型塗液供給ヘッドの塗液流路
となるなるスリットの幅を、一部もしくは全部におい
て、中心部から左右端に向かって連続的に大きくしてな
ることを特徴とする請求項１記載の回転塗布装置用塗液
供給装置。 - 【請求項３】前記スロット型塗液供給ヘッドの内部に設
けられたマニホールドからスロット型塗液供給ヘッドの
先端までのスリットの距離を、一部もしくは全部におい
て、中心部から左右端に向かって連続的に小さくしてな
ることを特徴とする請求項１または２記載の回転塗布装
置用塗液供給装置。 - 【請求項４】前記スロット型塗液供給ヘッドの内部に設
けられたマニホールドの容積を、一部もしくは全部にお
いて、中心部から左右端に向かって小さくしてなること
を特徴とする請求項１、２または３記載の回転塗布装置
用塗液供給装置。 - 【請求項５】前記スロット型塗液供給ヘッドの先端と前
記基板とのギャップを、一部もしくは全部において、中
心部から左右端に向かって大きくしてなることを特徴と
する請求項１、２，３または４記載の回転塗布装置用塗
液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32326197A JP3521716B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 回転塗布装置用塗液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32326197A JP3521716B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 回転塗布装置用塗液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11162808A JPH11162808A (ja) | 1999-06-18 |
| JP3521716B2 true JP3521716B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=18152827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32326197A Expired - Fee Related JP3521716B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 回転塗布装置用塗液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3521716B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6799736B2 (en) * | 2000-11-09 | 2004-10-05 | Honeywell International, Inc. | Material dispensing apparatus including a nozzle having a wedge-shaped aperture, and method of using same |
| US6817466B2 (en) | 2000-11-09 | 2004-11-16 | Honeywell International, Inc. | Apparatus for manufacturing filter cartridges, and method of using same |
| JP4767482B2 (ja) * | 2003-07-08 | 2011-09-07 | ノードソン コーポレーション | 液体又は溶融体の塗布方法及びノズル |
| US6984433B2 (en) | 2003-07-25 | 2006-01-10 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method of producing the same |
| DE102004002421A1 (de) * | 2004-01-16 | 2005-08-18 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
| KR100586453B1 (ko) | 2004-07-26 | 2006-06-08 | 주식회사 수성케미칼 | 연속식 회전 코팅을 이용한 광학 필터의 제조방법 |
| US8529993B2 (en) | 2006-05-01 | 2013-09-10 | Zetta Research andDevelopment LLC—RPO Series | Low volatility polymers for two-stage deposition processes |
| JP5979700B2 (ja) | 2011-09-28 | 2016-08-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法 |
| JP5868702B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-02-24 | リンテック株式会社 | 積層装置 |
| CN102809847B (zh) * | 2012-07-23 | 2015-07-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片、液晶显示面板及显示装置 |
| JP6438748B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2018-12-19 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 塗布方法および塗布装置 |
| DE102015100579A1 (de) * | 2015-01-15 | 2016-07-21 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten |
-
1997
- 1997-11-25 JP JP32326197A patent/JP3521716B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11162808A (ja) | 1999-06-18 |
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