TWI298423B

TWI298423B - Developer producing equipment and method

Info

Publication number: TWI298423B
Application number: TW091101792A
Authority: TW
Inventors: Toshimoto Nakagawa; Shu Ogawa; Satoru Morita; Makoto Kikukawa; Takahiro Hozan
Original assignee: Nagase & Co Ltd; Hirama Lab Co Ltd; Nagase Cms Technology Co Ltd
Priority date: 2001-02-06
Filing date: 2002-02-01
Publication date: 2008-07-01
Also published as: CN1237398C; KR100520252B1; CN1373393A; US6623183B2; KR20020070782A; US20020146251A1

Description

1298423 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ‘ _____B7_五、發明説明（） 1 〔發明之背景〕 (發明之領域）本發明係有關顯像液製造裝置及顯像液製造方法，詳述之，乃有關藉管路連接於要形成施加有微細加工之電子電路所用的加工設備，且要製造在於該加工設備予以顯像光致抗蝕劑等時所會使用之鹼系顯像液的裝置，及該鹼系顯像液之製造方法。 (關連之背景技術）一般在於製造電子裝置等之具有施加有微細加工之電子電路的裝置時，對於使用在照相平版印刷（光刻）過程之（光致）抗蝕劑材料，有由曝光可溶化之正片型，和由曝光不會溶化之負片（底片）型者。做爲一例子，在於製造半導體裝置，平面顯示器（F PD)基板等時，因會重複地進行如此之光刻，主要乃多用正片型之（光致）抗蝕劑。而做爲正片型抗蝕劑之顯像液材料，可舉此如磷酸鹼，苛性納，矽酸鹼，或由與該等和其它之無機鹼等的混合物所形成之無機鹼水溶液。又在具有會產生鹼金屬污染之虞時，則使用不含金屬之胺系之有機鹼水溶液，氫氧化四甲銨（TMAH)水溶液，氫氧化三甲基單乙醇銨（膽鹼 )水溶液等。而在後者之中，乃多用著2 · 3 8%濃度之 T M A Η水溶液。 _ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） - i---------胃 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-4- 1298423 A7 B7 五、發明説明（） 3 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而，在傳統上，顯像液要在半導體裝置等之製造工場，以調整其組成及濃度後來使用時，不僅會在設備及運轉成本方面而已，由要充分地管理組成及濃度之觀點言，極爲困難。爲此，在於半導體裝置等之製造工場（以下簡稱爲「使用側」。），不得不使用在顯像液廠家（以上簡稱爲「供應側」。）所調整之組成及濃度的顯像液。該狀況時，在供應側將採用以純水稀釋調合成所定組成之顯像溶液，並塡充調整成所定之濃度之顯像液至容器，以供應如此之已調製完成之顯像液給予使用側之方法。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製該時，顯像液之稀釋倍率乃由液組成及溶液濃度，顯像對象之正片型（光致）抗蝕劑等之種類，使用目的等而有種種之相異，通常爲8〜4 0倍左右。因而，在供應側所調整之顯像液之量可響應於稀釋倍率而大幅度地增大，使得要準備搬運該顯像液至使用側之容器，塡充至容器的作業及搬運成本會成爲極龐大。其結果，具有所謂該等費用會在顯像液成本中佔有相當比率之問題。又在供應側所調製之顯像液，直至會在使用側使用時爲止，因會在搬運及保管上需要適當之期間，使得也具有所謂在該期間，顯像液會產生劣化之問題。再者，顯像液因容易吸收空氣中之碳酸氣，即使在使用側設置有稀釋裝置，也會具有所謂在稀釋操作中或在貯存所稀釋之顯像液中，由吸收碳酸氣而產生濃度變化之問本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6-

1298423 AV B7 五、發明説明（） 4 題。該情事，可做爲在半導體裝置製造工場等之使用側爲何不實施稀釋顯像液之理由之一。爲了意圖解決該等問題，在日本國專利特許第 2. 7 5 1 8 4 9號公報，揭示一種顯像液之稀釋裝置，其具備有：接受光致抗蝕劑用鹼系顯像溶液和純水來強制性地攪拌所定時間用的攪拌槽；抽出該攪拌槽內之混合液的一部分測定其導電率之後，再倒入攪拌槽內用的導電率測定機構；依據來自導電率測定機構之輸出信號來控制所要供應給予攪拌槽之光致抗蝕劑用鹼系顯像溶液或純水中之任何一方的流量用之控制機構；接受來自攪拌槽之混合液並預以貯在之貯存槽；及以氮氣來密封攪拌槽及貯存槽的氮氣密封機構。該裝置係用於可在使用側予以混合顯像溶液〔原（料 )液〕和純水，以調製顯像液用者，由而成爲可大致解決所謂管理顯像液之組成及濃度上之問題，及增大顯像液之運送成本等的習知之該等問題。〔發明之槪要〕然而，近年來伴隨著市場之要求，而形成有需要製造多種類小批量之基板等。爲此，在使用側乃爲了要應付於製造該等之多種類小批量之基板，予以配備複數之基板製造裝置，且成爲必得同時操動該等之狀態。再者，所使用之該等之各別裝置的顯像液濃度，也有遍及例如0 . 1 %至 2 . 5 %之廣範圍之不同狀況，使得產生在每一次使用時本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1298423 五、發明説明（） 5 有需要準備種種濃度之顯像液。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲此，本發明乃鑑於上述情事而發明者，其目的係擬提供一種在使用側，可從顯像溶液〔原（料）液〕以良好糈度且迅速地製造所期盼之顯像液，而可充分地來應付在多種類小批量下之製造基板之同時，能以.良好精度來管理所製造之顯像液的組成及濃度之顯像液製造裝置及顯像液製造方法者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製爲了解決上述課題，依據本發明之精製顯像液製造裝置，係藉管路連接於要形成實施有微細加工之電子電路用的加工設備，而製造要在該加工設備所使用之鹼系顯像液的裝置，具備有：供予且攪拌顯像溶液（原液）和純水來調整鹼系顯像液用的調製槽；要測定調製槽內之鹼系顯像液量用之的第1液（體）量測定機構；要測定調製槽內之鹼系顯像液的鹼濃度用之第1鹼濃度測定機構；依據第1 液量測定機構之測定値及第1鹼濃度測定機構之測定値而調整調製槽內的鹼系顯像液之量用的第1液量控制機構；及依據第1液量測定機構之測定値及第1鹼濃度測定機構之測定値而調整對於要供予調製槽之顯像溶液（原液）之供應量及純水之供應量中的至少任何一方用之液（體）供應控制機構者。以如此所構成之顯像液製造裝置，將在調製槽內以純水稀釋顯像溶液來調製顯像液。該時，實際地測定調製槽內之液量及顯像液成分的鹼濃度，並依據該測定値，由第 1液量控制機構及液（體）供應控制機構來調整顯像液能本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8 - 1298423 五、發明説明（） 7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 進一步具體地言時，倘若具備有從調製槽送給鹼系顯像液於前述調勻槽，並要調整調製槽之鹼系顯像液之液位 (液面高度），及調勻槽之鹼系顯像液之液位用的液（體 ).供應，液位控制機構時，極爲實用。而該等液位雖可調整爲任意之液位，但理想爲調整成兩者爲略同一高度。則該時，液（體）供應、液位控制機構，將使鹼系顯像液從調製槽成自然地送液給予調勻槽，且更理想爲具備有連接於調製槽及調勻槽之連通管者。又理想爲具備有設置於調勻槽和加工設備之間，而用於要貯存鹼系顯像液用的貯存槽。再者，更理想爲具備有以濕的氮氣來密封調製槽和調勻槽的濕氮氣密封機構。又調製槽爲具有複數者也極爲實用。或也可構成調製槽和調勻槽成爲一體。再者，倘若具備有要測定包含於所要供予加工設備前的狀態之鹼系顯像液中的微粒子數量用的微粒子數（量）測定機構時，更爲實用。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製更理想爲具備有要去除包含於鹼系顯像液中之溶（解殘）留氣體用的溶留氣體去除機構。尤其理想爲，第1液量測定機構爲要測定鹼系顯像液之容積或重量中之至少任何一方者。或第1鹼濃度測定機構理想爲導電率計、超音波濃度計、液體密度計及自動滴定裝置中之至少任何之一種。同樣，第2鹼濃度測定機構爲導電率計、超音波濃度本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 1298423 A7 B7 五、發明説明（） ~ 8 計，液體密度計及自動滴定裝置中之至少任何之一種。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 更具體地言時，顯像溶液（原液）乃具有從所定範圍之鹼濃度所選擇之任意鹼濃度者。又依據本發明之顯像液製造方法，係要製造藉管路來要供予用於形成施加有微細加工之電子電路的加工程用之鹼系顯像液的方法，其特徵爲具有：以攪拌顯像溶液〔原 (料）液〕和純水來調製鹼系顯像液之過程；要測定鹼系顯像液之量的過程；要測定鹼系顯像液之鹼濃度之過程；依據鹼系顯像液之液量測定値及鹼濃度測定値來調整鹼系顯像液之量的過程；及依據鹼系顯像液之液量測定値及鹼濃度測定値來調整要供予用於調製鹼系顯像液之過程的顯像溶液（原液）之供應量及前述純水之供應量中之至少任何一方用的過程。 (較佳合適之實施形態）經濟部智慧財產局員工消費合作社印製以下，將詳細說明有關本發明之實施形態。再者，對於同一構件或元件，將附上同一符號，並省略重複說明。又有關位置之關係，除特別告示以外，乃依據圖面所示之位置關係者。再者，圖面之尺寸比率並非限定於圖示之比率者。如上述，圖1係以模式來顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第1實施形態之結構的系統圖。顯像液製造裝置1 〇〇乃具備有要貯存顯像溶液（原液）之顯像溶液槽1 0 1及連接有純水供應系之s周製槽張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐) _11 - 1298423 at Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（） 9 1 0 5者。顯像溶液槽1 0 1貯存有顯像溶液，並構成爲依據未圖示之液位（液面高度）計之指示値，且藉由具有流量調節閥之管路1 1 0來補給顯像溶液至顯像溶液槽 1 0 1 內。又在顯像溶液槽1 0 1連接有具備流量調節閥3 0 3 及泵112之管路111 ，該管路111乃具有管路混合器（Π n e m i X e r ) 1 〇 4且連接於較連結於純水供應系之純水供應配管1 0 2之管路混合器1 0 4更上流側。顯像溶液槽1 0 1內之顯像溶液係從管路1 1 1由運轉泵1 1 2 而與由運轉泵1 1 3來供應之純水合流於具有流量調節閥 3 0 2及泵1 1 3之純水供應配管1 0 2內，並由管路混合器1 0 4更加以混合之後，輸給於調製槽1 0 5。再者，從純水供應配管1 0 2分岐著具有流量調節閥 3 0 1及泵且連接於調製槽1 0 5之純水供應配管1 0 3 ，而形成可單獨地供應純水給予調製槽1 〇 5內。而在此，做爲本發明所要使用之顯像溶液爲例如磷酸鹼、苛性鈉、矽酸鹼、或由該等和其他之無機鹼等之混合物所形成的無機鹼水溶液。又具有會產生鹼金屬污染之虞時，以使用不含有金屬之胺系的有機水溶液，T M A Η水溶液，膽鹼水溶液爲佳。另一^方面，在本發明所使用之純水’只要爲在需要驗系顯像液之電子電路基板製造工場等所使用之純水即可。於如此之製造工場等，因需要多量之純水，因而，傾向於必需設置純水製造裝置。因此，在使用側較容易地獲取在本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） ' • ΙΊ

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-12- 1298423 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 i、發明説明（） 10 本發明所需要之鹼系顯像液的製造用純水。又對於鹼系顯像液，也可因應於所需而適當地添加添加劑。.而做爲如此之添加劑，有例如界面活性劑。再者，要添加添加劑時，也可配設添加劑槽。另一方面，調製槽1 0 5具備有攪拌機構1 1 6之同時，具有連接於液量控制機構1 0 8 (第1液量控制機構 )及液（體）供應控制機構1 0 9之控制系的液量測定機構1 0 6 (第1液量測定機構）及鹼濃度測定機構1 〇 7 (第1鹼濃度測定機構）。攪拌機構1 1 6係用於強制性地攪拌從管路混合器 1 0 4所送來之顯像溶液及純水之混合液用者。而做爲混合液之攪拌方法，有例如以攪拌翼之攪拌來使調製槽 1 0 5內之混合液產生循環之循攪拌。再者，在進行循環攪拌時，倘若令用於再度吐出循環液於調製槽1 0 5內用之管嘴（噴嘴）的吐出方向予以配置成混合液可朝調製槽 1 ◦ 5之內周方向旋轉時，就可實施射流旋轉攪拌。攪拌機構1 1 6係可實現如此之任何之一的攪拌方法者。又液量測定機構1 0 6係用於實際測定，管理調製槽 1 0 5內之鹼系顯像液之液（體）量用者。測定液量可由例如鹼系顯像液之容積或重量之至少任何一方來實施。再者，在此所謂之「管理液量」乃指實施管理使用了調製槽1 0 5內之鹼系顯像液而減少時之減少量，乃實施管理以強制性地減少鹼系顯像液直至所定量爲止時的強制減少乙事（將後述之在調勻槽2 0 2之「管理液量」也爲 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -13- 1298423 五、發明説明（） 11 同樣）。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又鹼濃度測定機構1 0 7係用於實際測定、管理調製槽1 0 5內之鹼系顯像液的鹼濃度用者。而做爲鹼濃度測定機構1 0 7有例如導電率計、超音波濃度計、液體密度計、或自動滴定裝置等。該等雖可採用其中之任何者，但理想爲以採用導電率計爲佳。該時，若預先求出在基準溫度附近之鹼系顯像液之導電率和鹼系顯像液之濃度的關係，及在基準溫度附近之鹼系顯像液的導電率的溫度係數時，就能以良好精度且簡便地製造所期盼濃度之顯像液。再者，鹼濃度測定機構1 0 7係如圖1所示，可配設於調製槽1 0 5之外部，倘若配設其電極部形成配置於調製槽1 0 5內，以令調製槽1 0 5內之鹼系顯像液的鹼濃度成爲可直接予以測定時，也極爲理想。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製另一方面，液量控制機構1 0 8係依據來自液量測定機構1 0 6及鹼濃度測定機構1 0 7之測定信號來進行所定之運算者，且進而依據該運算結果來控制調製槽1 〇 5 內之鹼系顯像液成爲一定量者。具體地言時，例如在於響應於所需來調製（報告）與使用於電子電路基板之顯像過程的鹼系顯像液爲相異之驗系顯像液時，就從來自液量測定機構1 〇 6之輸出信號及來自鹼濃度測定機構1 〇 7之輸出信號，予以算出爲使驗系顯像液成爲所期盼之濃度而所需要之調製槽1 〇 5內鹼系顯像液之減少量。而後，依據該所算出之値，予以減少本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -14- 1298423 at B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（） 12 調製槽1 0 5內之鹼系顯像液。該時，從調製槽1 0 5所排出之鹼系顯像液，也可經由連接於調製槽1 0 5和加調備之管路1 1 4來送給予使用該濃度之鹼系顯像液的電子電路基板之顯像過程，或也可經由具有流量調節閥3 0 5且連接於調製槽1 〇 5之排洩用的管路1 1 5來排出至裝置外。再者，考慮到對於環境之影響，以送給至加工設備中之顯像過程爲理想。另一方面，液（體）供應控制機構1 0 9係依據來自液量測定機構1 0 6及鹼濃度測定機構1 0 7之實（際）測（定）信號而控制要供應於調製槽1 0 5之顯像溶液（原液）及純水中之至少任何一方的供應量用者。具體地言時，在於調製最初之鹼系顯像液時，由於使用了鹼系顯像液而減少之鹼系顯像液的再調製時，或由液量控制機構1 0 8而強制性地減少鹼系顯像液後之不同鹼濃度的鹼系顯像液之調製時，予以控制供應予調製槽 1 0 5之顯像溶液及純水中之至少任何一方之供應量用者〇以下，將說明有關使用以如上述所構成之顯像液製造裝置1 〇〇的本發明之顯像液製造方法的一例子。首先，調製槽1 0 5爲空之需要配新液時，液量測定機構1 〇 6會檢測其爲、、空〃之情事。而後，由從液量測定機構1 0 6所輸出之指示信號而操動泵1 1 2及泵 1 1 3，以對於調製槽1 〇 5輸送由顯像溶液及純水所形成之混合液。接著，由攪拌機構1 1 6攪拌該混合液’而 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

訂

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 15- 1298423 五、發明説明（） 13 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在該狀態下之鹼濃度使之成爲略均勻化。又在該期間，以液量測定機構1 0 6來測定調製槽1 0 5內之混合液的液量，並同時由鹼濃度測定機構1 0 7來測定混合液之鹼濃度.。而該等測定値信號係各從液量測定機構1 〇 6及鹼濃度測定機構1 0 7輸出，並輸入於液（體）供應控制機構 1 0 9。液供應控制機構1 0 9則依據該等之測定信號且爲了調製所期盼濃度之鹼系顯像液，將進行運算要算出應供予調製槽1 0 5之顯像溶液及/或純水的供應量。其次，從液供應控制機構會傳送顯示該算出結果的信號至流量調節閥3 0 1、3 0 2、3 0 3中之至少任何之一，並響應於該指示令所定之流量調節閥以所定之打開來開放一定時間。由而，將顯像溶液及純水中之至少任何一方之所定量會供予調製槽1 0 5，並調製爲所期盼濃度之鹼系顯像液。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又做爲其他例子，以下將說明有關要調製與既存（原有）之鹼系顯像液有相異濃度之鹼系顯像液之方法。該時，例如預先輸入所期盼之鹼濃度於液（體）供應控制機構 1 0 9。而後，首先，進行由液量測定機構1 0 6來測定在於調製槽1 0 5內之既存的鹼系顯像液之液量，及由鹼濃度測定機構1 0 7來測定在於調製槽1 0 5內之既存的鹼系顯像液濃度而該等之測定値信號，將從各個液量測定機構1 0 6 及鹼濃度測定機構1 0 7輸出，並輸入於液量控制機構本&張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16- 1298423 A7 ___ B7 五、發明説明（） 14 1 0 8 °液量控制機構1 〇 8，將依據該等之測定信號來進行運算而算出爲了要調製所期盼濃度之鹼系顯像液，應減少之既存鹼系顯像液的液量（亦即，從調製槽1 〇 5應排出之液量）。接著’顯示該所算出的結果的信號，會從液量控制機構1 0 8傳送至流量調節閥3 0 4及/或流量調節閥 3 0 5 ’並響應於該指示令所定之流量調節閥以所定之打開度開放一定時間。由而從調製槽1 〇 5會排出所定量之既存（原有）之鹼系顯像液，使得會減少調製槽1 〇 5內之液量。然後’爲了調製預先予以輸入設定之所期盼濃度的鹼系顯像液’將由來自液（體）供應控制機構1 〇 9之輸出信號而令流量調節閥3 0 1、3 Q 2、3 0 3中之至少任何之一’以所定之打開度開放一定時間，以供予顯像溶液 /或純水至調製槽1 〇 5內。以如此地進行，就可獲得與既存之鹼系顯像液爲相異之所期盼濃度的鹼系顯像液。再者’以下，將以上述後者之狀態，亦即要調製與既存之鹼系顯像液具有相異濃度的鹼系顯像液時爲例，來說明使用液量控制機構1 〇 8及液（體）供應控制機構 1 0 9之更具體性的控制機構。將對於既存之鹼系顯像液的鹼濃度爲3 %者，予以調製成鹼濃度爲2 %之鹼系顯像液時之狀況爲例來說明。首先，由液量測定機構1 0 6來測定在於調製槽 1 〇 5內之濃度3 %鹼系顯像液之液（體）量。並同時由本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） . 鮮 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -17- 1298423 五、發明説明（） 15 鹼濃度測定機構1 0 7來測定鹼系顯像液之鹼濃度（亦良P ，濃度爲3 % 〃）。該測定値信號，將從液量測定機構1 0 6及鹼濃度測定機構1 0 7各個傳送至液量控制機構1 0 8。而液量控制機構1 〇 8 ’將依據該等之測定値來算出要調製濃度2 %之鹼系顯像液所需減少濃度3 %之驗系顯像液的減少量。接著，響應於運算結果亦即所算出之減少量之指示信號，將從液量控制機構1 0 8輸出。由而，會從調製槽 1 〇 5排出調製槽1 〇 5內之濃度3 %之鹼系顯像液所定量（該狀況時爲既存量之1 / 3 )。其次，由液量測定機構1 0 6來測定殘留於調製槽 1 0 5內之濃度3 %的鹼系顯像液之液量（減少後之液量 )，並同時由鹼濃度測定機構1 0 7來再度測定鹼系顯像液之鹼濃度（亦就是'' 3 % 〃）。而該等之各測定信號係輸入於液（體）供應控制機構 1 0 9，以算出要調製爲濃度2 %之鹼系顯像液所需要之顯像溶液及純水中之至少任何之一的供應量給予調製槽 1 0 5之量。並依據該所算出之量，將由來自液（體）供應控制機構之指示信號而供應顯像溶液及/或純水給予調製槽1 0 5，就可獲得所期盼濃度也就是濃度2 %之鹼系顯像液。再者，在本例，至少將供應與前述之濃度3 %的鹼系顯像液之減少量爲同量之純水給予調製槽1 0 5。又該時，理想爲令液量測定機構1 0 6及鹼濃度測定機構 1 0 7能實質性地來連續測定鹼系顯像液之液量及鹼濃度本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁}

、1T €1. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 1298423 A7 _____B7 五、發明説明（) 16 爲佳。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以如此所調製之鹼系顯像液，將經由具有泵2 1 2及流量調節閥3 0 4且連接調製槽1 〇 5和加工設備用的管路1 1 4，從調製槽1 〇 5輸給於加工設備中之加工過程〇而做爲鹼系顯像液濃度之管理範圍，乃會要求例如所定濃度之± 1/1 0 0 0以內。尤其，前述之TMAH水溶液時，有傾向於要求所定濃度之± 1 / 2 0 0 0以內（ 2 · 3 8 0 ± 0 · 0 0 1重量％ )。於本發明之顯像液製造裝置1 0 0，由於實施上述之濃度調製，使得可充分地實現如此之嚴格的濃度管理。又以上之運算/控制係由控制系列來進行自動控制，因而，時間損失極少，且可迅速地實施鹼系顯像液的濃度調整。再者，由於可實施上述之濃度調整，使得在於配設有加工設備之使用側，可簡便地製造所要求之種種濃度的鹼系顯像液。因此，對於製造多種類小批量之半導體裝置等經濟部智慧財產局員工消費合作社印製之電子電路基板，可充分地具有機動性且成彈性地來應付 0 又在管路1 1 4之泵2 1 2後段，配設有做爲過瀘機構之過濾器2 1 3。從調製槽1 0 5所送來之鹼系顯像液，具有可能會混進起因於泵2 1 2之驅動或配管的微粒子，來自顯像溶液之微粒子起因於來自裝置系列以外之塵埃 (無機物質或有機物質）的微粒子等。而過濾器2 1 3則用於去除所混進於鹼系顯像液之如此的微粒子成分用者。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19- 1298423 A7 B7 五、發明説明（） 17 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如此之鹼系顯像液中的微粒子，將對於加工設備之電子電路基板等的顯像時，有可能形成顯像不良之原因。則具有會產生圖案結構缺陷等之虞。因此，對於如使用於電子電路基板的顯像過程之鹼系顯像液，通常要求著鹼系顯像液1 4中，0 _ 1 # m以上之粒子限制（管理値）於所謂1 0個以下。因此，做爲過濾器2 1 3之過濾材料，將適當地選擇具有可擔保如此基準之過滤能力者，例如可舉出織布、不織布及過濾膜。再者，管路1 1 4之過濾器2 1 3後段所配設之微粒子數（量）測定機構2 1 1係用於測定包含於鹼系顯像液之微粒子數量用者。如上述，包含於從調製槽1 0 5所送來之鹼系顯像液的大部分微粒子，可由過濾器2 1 3來去除。而微粒子數（量）測定機構2 1 1係用於判斷以如上述所過濾之鹼系顯像液中的微粒子濃度是否可滿足管理値用者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製爲此，即使通過過濾器2 1 3仍包含大於所定管理値之微粒子的鹼系顯像液，將藉由另外管路來回行送給予調製槽1 0 5，並再經由管路1 1 4而由過濾器2 1 3來過濾。由而，可確實地抑制鹼系顯像液中之微粒子濃度於一定値以下。再者，在於管路1 1 4後段，配設有溶（解殘）留氣體去除機構2 1 4。於鹼系顯像液，一般可溶（解）留（存）氧氣，氮氣等之氣體。當該等之氣體溶存於鹼系顯像液中時，會在使用鹼系顯像液於電子電路基板的製造過程本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20 - 1298423 A7 A7 B7 五、發明説明（） 21 等，因而，爲了避免重複，在此將省略其詳細說明。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者，配設與攪拌機構1 1 6同樣之攪拌機構（第2 攪拌機構）也爲理想。若構成如此時，可迅速地調勻調勻槽2 0 2內之鹼系顯像液之鹼濃度。而做爲攪拌鹼系顯像液之方法，可操用與前述調製槽1 0 5內之對於混合液所進行的同樣方法，但考慮到鹼系顯像液之發泡等時，理想爲採用循環攪拌或射流旋轉攪拌。又在調勻槽2 0 2予以調勻鹼系顯像液，並送給於加工設備之鹼系顯像液，雖能由適濾器2 1 3來充分地除微粒子成分，但在顯像液製造裝置，若考慮在調勻槽2 0 2 之鹼濃度的調勻化時，以進行循環過濾爲理想。再者，顯像液製造裝置2 0 0，若配備著用於從調製槽1 0 5送給鹼系顯像液於調製槽2 0 2且用於保持調製槽1 0 5及調勻槽2 0 2之液位（液面高度）略爲一定用的液（體）供應、液位控制機構時，就極爲理想。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製在調勻槽2 0 2所調勻之鹼濃度的鹼系顯像液，將經由管路1 1 4來送給於加工設備，由而可減少調勻槽 2 0 2內之液量。爲要補足該鹼系顯像液之減少量’且保持調勻槽2 0 2內之液量略爲一定，將從調製槽1 〇 5重新送給已調製鹼濃度之鹼系顯像液。而做爲該液（體）供應，液位控制機構，當鹼系顯像液在調製槽1 0 5以分批方式來調製時，可舉出例如配設如未圖示之泵之以強制性地送給液體用之機構於從調製槽 1 0 5要送給鹼系顯像液至調勻槽2 0 2的管路2 0 1中本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -24- 1298423 五、發明説明（） 23 之鹼系顯像液的鹼濃度，更進一步地予以均勻化。因此，可更進一步地增進要送給於加工設備之鹼系顯像液的鹼濃度之調整精度。又可增大調整完成之鹼系顯像液的貯存量，因而，可立即因應於電子電路等之加工設備的鹼系顯像液使用量之大幅度增加。又不僅如此而已，可在維護調製槽1 0 5及/或調勻槽2 0 2時，不停止加工設備之下來操動。又也可具備複數之調製槽1 〇 5。在調製槽1 0 5所調製之鹼系顯像液，雖可由鹼濃度測定機構1 0 7來管理該鹼濃度於適切範圍，但如前述，在每一調製或多或少對於所期盼之濃度會產生誤差。爲此，倘若在複數調製槽1 0 5所調製之鹼系顯像液同時送給調勻槽2 0 2時，將會在調勻槽2 0 2內打消在各個調製槽1 0 5所產生之鹼濃度誤差所引起之偏差（不均勻），使得可迅速地令鹼濃度平均化。又由於多數化，使得例如複數之調製槽1 0 5中之任何一部，爲了故障，檢查等而無法操動時，也可由其他之調製槽1 0 5來操動，因而，具有不需要中斷鹼系顯像液之製造下可繼續地進行之優點。圖3係以模式性地顯示依據本發明之精製顯像液製造裝置的第3實施形態結構之系統圖。顯像液製造裝置 3 0 0乃構成爲調製槽1 0 5及調勻槽2 0 2成一體以外，構成爲可發揮與圖1所示之顯像液製造裝置3 0 0可發揮同等之功能者。再者，圖4係以模式性地顯示如此之成本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -26- 1298423 Α7 Β7 五、發明説明（） 24 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一體化的調製槽1 0 5及調勻槽2 0 2之外形的斜視（立體）圖。如同圖所示，兩者均形成圓筒狀，且構成配置調製槽1 0 5於調勻槽2 0 2內部成同軸狀之所謂雙重圓筒構造。由於如此地構成一體，使得能在不阻礙鹼系顯像液之高度製造，管理功能下，來使做爲加工設備之附帶設備的顯像液製造裝置3 0 0能成爲小型化，因此，可符合於近年來尤其要求極爲大之加工設備整體的小型化。圖5係以模式性來顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第4實施形態的結構之系統圖。顯像液製造裝置4 0 0 除了更具備有藉有流量調節閥及泵之成獨立的管路來連接於調製槽1 0 5及調勻槽2 0 2之顯像溶液〔原（料）液〕槽4 0 1之外，與圖2所示之顯像液製造裝置2 0 0構成同樣者。顯像溶液槽4 0 1係要供應與要供應於顯像溶液1 0 1之顯像溶液1之濃度爲相異的顯像溶液2者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製一般言，通常所使用之顯像溶液爲鹼濃度在於1 5 % 〜3 0%之範圍者，而在電子電路基板等之加工設備所使用之鹼系顯像液之鹼濃度爲0 . 0 5 %〜2 · 5 %。例如做爲鹼系顯像液之鹼成分予以使用T M A Η時，主要會使用鹼濃度爲2 · 3 8 %之顯像液。該狀況時，於具有上述結構之顯像液製造裝置4 0 0 ，做爲例如顯像溶液槽4 0 1之顯像溶液2，若使用予以調整爲要在加工設備所使用之鹼系顯像液的鹼濃度（例如，在T M A Η溶液時爲2 . 3 8 % )附近者時，就可令所本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -27- 1298423 五、發明説明（) 26 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，以良好之精度且迅速地從顯像溶液〔原（料）液〕製造所期盼濃度之顯像液，且可充分地來應付於多種類小批量下之基板製造之同時，能以良好之精度來管理所製造之顯像液的組成及濃度。又由於如上述之狀況，使得並不需要配備顯像溶液之稀釋裝子或在使用側用於要保管在供應側預先調製之濃度爲相異的種種鹼系顯像液的貯液槽等之設備。再者，可迅速地供應伴隨著近年來市場所要求之在於多種類小批量下的電子電路基板等之製造上所要使用的管理成良好精度之種種鹼系顯像液給予其加工設備及製程。又再可達成做爲加工設備之顯像液製造裝置的小型化。再者，可廣濶地設定鹼系顯像液之鹼濃度範圍（動態範圍）。加上可減低鹼系顯像液之廢液量，由而可意圖減輕對於環境之污染重擔下，進而可意圖削減成本。〔圖式之簡單說明〕經濟部智慧財產局員工消費合作社印製圖1係以模式性地顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第1實施形態的結構之系統圖。圖2係以模式性地顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第2實施形態的結構之系統圖。圖3係以模式性地顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第3實施形態的結構之系統圖。圖4係以模式性地顯示圖3所示之成一體化的調製槽及調与槽之外形的斜視（立體）圖。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -9Q- 1298423 五、發明説明（） 27 圖5係以模式性地顯示依據本發明之顯像液製造裝置的第4實施形態的結構之系統圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔符號之說明〕 100 顯像液製造裝置 10 1 顯像溶液〔原（料）液〕槽 1 0 2 純水供應配管 10 3 純水供應配管（分岐管） 104 管路混合器 1 0 5 調製槽 10 6 (第1 )液量測定機構 10 7 (第1 )鹼濃度測定機構 10 8 (第1 )液量控制機構 10 9 液（體）供應控制機構 1 1 0 管路 111 管路 112 泵經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 113 泵 114 管路 115 管路（排液、排洩用） 116 攪拌機構 200 顯像液製造裝置 2〇1 管路 2 0 2 調勻槽本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30- 1298423 A7 B7 五、發明説明（) 28 2 0 3 (第2 )液量測定機構 2 0 4 (第2 )鹼濃度測定機構 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 0 5 管路（回流送給用） 2 0 7 (第2 )液量控制機構 209 濕氮氣密封機構 2 10 管路 2 12 泵 213 過濾器 2 14 溶（解殘）留氣體去除機構 300 顯像液製造裝置 301 流量調節閥 3 0 2 流量調節閥 303 流量調節閥 304 流量調節閥 305 流量調節閥 306 流量調節閥 307 流量調節閥經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 400 顯像液製造裝置 401 顯像溶液槽本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -31 -

Claims

夂、申請專利範圍第9 1 1 0 1 792號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國95年12月29日修正 1 · 一種顯像液製造裝置，係藉管路連接於要形成實細有微細加工之電子電路用的加工設備，而製造要在該加工設備所使用之鹼系顯像液的裝置，具備有：供予顯像溶液〔原（料）液〕和純水且予以攪拌來調製前述鹼系顯像液的調製槽；要測定調製槽內之前述鹼系顯像液的液量用的第1液 (體）測定機構；要測定調製槽內之前述鹼系顯像液的鹼濃度用之第1 鹼濃度測定機構；依據前述第1液量測定機構之測定値及前述第1鹼濃度測定機構之測定値，算出爲使前述調製槽內之鹼系顯像液的鹼濃度變更成所期盼之濃度的前述調製槽內鹼系顯像液的液量之減少量，並根據前述減少量之所算出的値，來減少前述調製槽內的前述鹼系顯像液之液量的第1液量控制機構；及依據前述第1液量測定機構之測定値及前述第1鹼濃度測定機構之測定値，算出爲使液量已根據前述第1液量控制機構而減少之前述調製槽內鹼系顯像液的鹼濃度’變更成所期盼之濃度時所需的顯像液與純水之至少其中任一方的供給量，並根據該供給量對前述調製槽供給前述顯像溶液（原液）及前述純水中的至少任何一方的液（體）供本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂鮮經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1298423 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍應控制機構者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 .如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置，其中具備配置於前述調製槽和前述加工設備之間，而用於調式 (調平）驗系顯像液之鹼濃度用的調勻槽。 3 ·如申§靑專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中前述調与槽具備有要測定該調勻槽內的鹼系顯像液之量用的第2液量測定機構者。 4 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中前述調勻槽具備有要測定該調勻槽內的前述鹼系顯像液之鹼濃度用的第2鹼濃度測定機構者。 5 ·如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中前述調勻槽係具備有測定前述調勻槽內的鹼系顯像液的量之第2液量測定機構、與測定前述調勻槽內的鹼系顯像液的鹼濃度之第2鹼濃度測定機構，且進一步具備有可依據前述第2液量測定機構之測定値及前述第2鹼濃度測定機構之測定値來調整該調勻槽內之前述鹼系顯像液的量用之第2液量控制機構者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 ·如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中具備有要回流送給前述調勻槽槽內之前述鹼系顯像液至前述調製槽用的回流送給用管路者。 7 ·如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置’其中前述調勻槽具備有要攪拌該調勻槽內之前述驗系顯像液用的攪拌機構者。 8 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置’其中本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -2 - 1298423 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍前述調勻槽具備有要過濾該調勻槽內之前述鹼系顯像液用之過濾機構者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中具備有從前述調製槽送給前述鹼系顯像液於前述調勻槽，並要調整該調製槽之該鹼系顯像液之液位（液面高度）、及該調勻槽之該鹼系顯像液之液位用的液（體）供應、液位控制機構者。 i 〇 .如申請專利範圍第9項之顯像液製造裝置，其中前述液（體）供應，液位控制機構，將從前述調製槽自然輸送液（體）之前述鹼系顯像液至調製槽，且具有連接於該調製槽及該調勻槽之連通管者。 1 1 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中具備有設置於前述調勻槽和加工設備之間，而用於要貯存（儲存）前述鹼系顯像液用的貯存槽。 1 2 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中具備有以濕的氮氣來密封前述調製槽及前述調勻槽用之濕氮氣密封機構者。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 3 .如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置，其中具有前述調製槽複數個者。 1 4 .如申請專利範圍第2項之顯像液製造裝置，其中前述調製槽和前述調勻槽爲構成爲一體者。 1 5 ·如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置’其中具備有要測定包含於所要供予前述加工設備前的狀態之前述鹼系顯像液中的微粒子數量用之微粒子數（量）測定本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -3 - 1298423 A8 B8 C8 D8 七、申請專利範圍機構者。 1 6 .如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置，其中具備有要去除溶（解殘）留氣體用的溶留氣體去除機構者。 1 7 .如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置，其中前述第1液量測定機構乃要測定前述鹼系顯像液之容積或重量中至少任何一方者。 1 8 ·如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置’其中前述第1鹼濃度測定機構乃導電率計、超音波濃度計、液體密度計及自動滴定裝置中之至少任何一種。 1 9 .如申請專利範圍第4項之顯像液製造裝置，其中前述第2鹼濃度測定機構乃導電率計、超音波濃度計、液體密度計及自動滴定裝置中之至少任何一種。 2 0 ·如申請專利範圍第1項之顯像液製造裝置，其中顯示顯像溶液（原液）具有從所定範圍之鹼濃度所選擇之任意的鹼濃度者。 2 1 · —種顯像液製造方法，係要製造藉管路來供給用於形成施加有微細加工之電子電路的加工過程之鹼系顯像液的方法，其特徵爲具備有：以攪拌顯像溶液〔原（料）液〕和純水來調製前述鹼系顯像液之過程；要測定前述鹼系顯像液之量的過程；要測定前述鹼系顯像液之鹼濃度之過程；依據前述鹼系顯像液之液量測定値及鹼濃度測定値來本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X：297公釐） (請先閲·#背面之注意事項再填寫本頁) T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1298423 A8 B8 C8 D8 ~、申請專利範圍調整該鹼系顯像液之量的過程；及依據前述鹼系顯像液之液量測定値及鹼濃度測定値來調整要供予用於調製前述鹼系顯像液之過程的前述顯像溶液（原液）之供應量及前述純水之供應量中之至少任何一方用的過程。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 5 -