TWI275331B - Board inspection apparatus and method - Google Patents

Description

1275331 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於基板檢查裝置及方法，特別是關於一種 用乂視克方式檢查受檢基板之正反兩面的基板檢查裝置及 方法。 【先前技術】 傳統上，已有許多種類的以視覺方式之檢查裝置被研 鲁發來判定基板（例如，用以裝設電子元件，如半導體裝置的 印刷電路基板）的品質。藉由根據擷取自基板圖樣之影像所 取得的影像資料來測定形成在該基板上圖樣的品質。日本 已公開的專利出版品編號2000-1 966223顯示一包含多組 才双查台（stage)，用以執行平行的製程，其目的在提升視覺 方式檢查之時間效率，和達成一簡潔的裝置尺寸。 在某些案例裡，需要基板（雙面基板）的正反兩面做視 覺方式檢查，而有效率地執行視覺方式檢查之視覺方式檢 參查裝置因此被研發。日本已公開的專利出版品編號 2003-99758顯示一視覺方式檢查裝置，它可自不同座標位 置擷取雙面基板之上面與底面的個別影像，且頂面及底面 是分別地接受視覺方式檢查，因此避免頂面視覺方式檢查 與底面視覺方式檢查間的互相干擾。 然而，在日本已公開的專利出版品編號20004 所顯現的視覺方式檢查裝置，必須要執行雙面基板之每一 面的視覺方式檢查。因此，例如，當在檢查雙面基板之頂 面後檢查底面時，在檢查底面之前，它需要翻轉基板，導 317040 5 1275331 致，务低視覺方式檢查的時間效率。 所K '在日本已公開的專利出版品編號2〇〇3 —99758 樓的材料作為檢查對象，L=鱗隨自我支 . …、法榼查不能自我支撐的脆性 杳'。患庄意到當脆性材料由其他材料所支撐時可以檢 ^ =是在此情況下，至少部分的材料是被支禮材料所覆 ^此叉檢材料之相反面無法全部受到檢查。 【發明内容】 因此’本發明的之—目的是提供—種基板檢查裝置及 方法’可容許檢查基板的反面，從㈣加檢查之時間效率。 本發明有如下的特徵，以達到前述的目的。 八本4月之第個悲樣是有關一種用以操取如影像等 檢查對象，及檢查基槪面的基錢查裝置。基板檢查裝 置包括：第一檢查纟、第二檢查台、旋轉驅動部（r〇t町 on =ve secti°n)、取像部（服㈣咖、基板供應部 /board Supply sectlon)和基板排放部（b〇ard ejecu section) ° 第一檢查台包括多組設在第一旋轉軸周圍的第一基 板握持面（flrst board holding face)，且這多組第二美 板握持面的各個係與基板的第一主面（first principal 土 face)接觸來握持基板。第二檢查台是設在緊鄰第—檢杳 台，且包括多組設在第二旋轉軸周圍的第二基板握持面， 這多組第二基板握持面的各個與基板的第二主面接觸來握 持基板。旋轉驅動部藉由使第一檢查台繞著第一旋轉轴旋 3]7040 1275331 轉及使第二檢查台繞著第二旋轉轴旋轉來變換多組第一基 板握持面及多組第二基板握持面的方向。取像部同時操取 由第一基板握持面及第二基板握持面平行配置建構之平行 組（parallel set)所握持的基板的主面影像。基板供應部 供應基板到不同於平行組中之第一基板握持面的第一基板 握持面。基板排放部排放由不同於平行組中之第二基板握 持面的基板握持面所握持之基板。 _ 在基於第一個態樣的第二個態樣中，基板檢查裝置更 包括控制部，以控制多組第一基板握持面或多組第二基板 握持面，以便握持和鬆開基板。第一檢查台包括第一基板 握持面驅動部，用以移動多組第一基板握持面來改變它們 與第一旋轉軸的距離。第二檢查台包括多組基板握持面驅 動部，用以移動多組第二基板握持面來改變它們與第二旋 軺軸的距離。第一基板握持面驅動部和第二基板握持面驅 動部使由第一基板握持面和第二基板握持面之相對组 _ (〇PP〇S!ng set)各自離開第—旋轉軸和第二旋轉轴，如 此，，由相對組之第一基板握持面所握持之基板的第二主面 相對機件組之第二基板握持面相接觸。控制部控制第 &基板，持面和第二基板握持面的相對組，如此，在相對 、、且Γ由弟—基板握持面所握持之基板釋放，而由相對組中 之弟二基板握持面所握持。 取#2於第—個態樣的第三個態樣中，取像部包括第一 取像裝置、第二取傻奘罟、 一 H， . 茗置支撐兀件和線性驅動部（1 inear cti 1 ve sect i〇n)。第一百又*驻$也w 弟取认故且擷取平行組中由第一基板 317040 1275331 面所握持之第二主面的影像。第 件支ί 握持之第—主面的影像。支擇元 牛支仿弟一取像裝置和第二取像 撐元件向平杆於出楚m 、果性1&動相將支 仃方'、由弟一基板握持面和第二基板握持面平行 配置之平行對的方向移動。 卸十仃 録於第—個態樣的第四個態樣中，第一檢 旋轉軸周圍之四方向配置的第—基板握持面。第 7:— 口有四個向第二旋轉抽周圍之四方向配置的第 板握持面。 且日]弟—基 在基於第四個態樣的第五個態樣 ::轉轴是互相水平平行配置。旋轉驅動部繼Γ: V弟—檢查台’如此，四個第-基板握持面之至少—和 :個第二基板握持面之一是互相相反的。取 二 由=互相平行配置在第一檢查台和第二檢查台頂側之 = 土板握持面及第二基板握持面所組成的平行組所握持之 =板主面影像。基板供應部供應基板到配置在第—檢查台 :面的第-基板握持面。基板排放部排放由配置在： 底面之第二基板握持面所握持的基板。基板從第j 板握持面傳送到相反的第二基板握持面。 在基於第五個態樣的第六個態樣中，基板檢查裝置更 I括控制部，用以控制四個第一基板握持面或四個第二基 板握持面，則更握持或鬆開基板。第一檢查台包括第一i ::握持面驅動部’用以移動四個第一基板握持面，以便改 變它們與第—旋轉軸的距離。第二檢查台包括第二基板握 317040 8 1275331 2驅動部，用以移動四個第二基板握持面，以改變它們 握：：旋轉㈣，。第—基板握持面驅動部和第二基板 ίΐ相=部使由第—基板握持面和第二基板握持面對所 取之相對组，合則i结 弟一釭T專軸及第二旋轉軸移動離開， 如此致使由相對也φ Μ _ 、， 、中弟基板握持面所握持之基板的第二 Μ 一/、相對組中之第二基板握持面相接觸。控制部控制由 Υ 土板握持面和第二基板握持面相對所成之相對組，以

5 =對組中之第—基板握持面所握持之基板自相對組中 =弟一基板握持面釋放，而傳送到相對組中之第二基板握 持面而被其所握持。 在2於第五個態樣的第七個態樣中，基板檢查裝置更 立括口疋在取像部之取像區域（imaging space)的接觸 P斤第榀查台包括第一基板握持面驅動部，用以移動四 個=-基板握持面，以改變它們與第—旋轉轴的距離。第 一榀查口包括第二基板握持面驅動部，用以移動四個第二 丨基板握持面，以改變它們與第二旋轉軸的距離。第一基板 握持面驅動部和第二基板握持面驅動部使由第一基板握持 面和第二基板握持面互相平行配置而成之平行組，分別由 第一旋轉軸及第二旋轉軸移動離開，如此致使由第一基板 握持面和第二基板握持面互相平行配置而成之平行組定位 於與各自的接觸部分接觸之位置。 在基於第五個態樣的第八個態樣中，基板排放部包括 多組接受排放基板之基板盒（board case)和翻轉台（turn t a b 1 e)。多組基板盒接收排放的基板。翻轉台有一繞預定 3]7040 9 1275331 垂直軸翻轉之旋轉平面，這個旋轉平面裝設有多組 ，。依照被設置在第二檢查台底側之第二基板握持：所握 持之基板，基板排放部翻轉翻轉台，使多組基板盒之 立即配置在第二檢查台底面之第二基板握持面下方。 本毛明之第九個態樣是有關一種用以擷取，如影像， 及檢查基板之反面的基板檢查方法。該基板檢查方法包括 基板供應步驟、取像步驟、基板排放步驟和翻轉步驟 基板供應步驟供應基板到設在第一旋轉轴周圍之多一 面的第一檢查台，而使至少多組第一基板握持面 =絲的第-主面接觸以握住基板。在取像步驟同時 ::弟—基板握持面和第二基板握持面互相平行配置而 二Γ組：Γ!的基板主面影像。在基板排放步驟自設 ΐ:::: 括多組設在第二旋轉軸周圍的第二 檢查台排放由至少多組第二基板握持面 -所握持的基板。在翻轉步驟藉 ::二㈣其台及翻轉在第二旋轉轴周圍的』 弟-基板握持面和多組苐二基板握持面的方向。 包括第九個態樣的第十個態樣中，基板檢查方法更 ^板傳送步驟。在基板傳送步驟將基板由第—基板握 便使第二基板握持:與== 致第-其此4P A 0弟一主面相接觸，而因此導 A拓：二S ’面握住基板。基板供應步驟、取像步驟、 基板排放㈣基板傳送步驟是同時被執行的。 根據弟，可在由多組基板握持面握持之基板上 3]7040 10 1275331 執仃不同的製程’且這些製程可同時並行。於是，檢查基 板兩=的U製程可同時並行，而因此，在確保有^ 的產夏同時，可同時並行檢查基板的兩面。又，即使基板 是由脆性材料所組成，每個基板的主面是由與其相㈣之 基板握持面所支禮，因此，基板可被穩固地保護。另外， =了與基板握持面接觸的部分外，基板不被任何元件所遮 1，因此，基板之任一部份均可被取像裝置擷取作為影像。 φ 根據第二態樣，使與基板第一主面相接觸之第一基板 握持面所握持的基板的第二主面與第二基板握持面接ς而 傳送到第二基板握持面'，因此，在翻轉基板上可免除複雜 的機構，使它易於擷取基板相反側的影像。 根據第三態樣，取像部與互相平行配置的第一及第二 基板握持面做平行移動，因此，取像料取像範圍增加；· 又，支撐元件裝設有第一主面用的取像裝置及第二主面用 的取像裝置，因此，能使用整合的驅動裝置。 • 根據第四態樣，被提供在第一檢查台和第二檢查台之 基板握持面是被互相配置來面對其中心在旋轉軸之矩形平 行六面體的側面，因此易於設計及產出它自己的基板檢查 裝置。 — 根據第五悲樣，基板自配置在底面的基板握持面供應 /排放，因此，放置在未檢查基板堆頂端的未檢查基板可依 序地供應，且已檢查的可被依序地堆疊。又，在上方互相 平行配置之基板握持面所握持之基板的主面影像被同時地 擷取，因此，易於控制取像部的聚焦和掃描操作。再且， 11 3】7040 1275331 一相對的基板握持面 因 基板是從一基板握持面傳送到另 此，可不須翻轉基板即切換要與基板握持面接觸的主面。 根據第六態樣，與基板第—主面相接觸之第—基板握 持面聽持的基板與第μ面與第二騎㈣面接觸而傳 送到第二基板握持面，因此，可免除翻轉基板的複雜機構， 使它易於揭取基板相反侧的影像。 根據第七態樣L持要取像之純之基板握持面 是被移㈣絲歸面與固^在取像區域之接觸部分接觸 勺位置口此可放置要取像之基板到取像部可確實操取 要取像之基板之影像的位置。 八根據m設有多組用以接收已檢查基板的基板 ，，且可根據被排放基板的種類（type)切換它們。因此， 它可根據它們的檢查結果來分類基板到不同的種類，及排 放不同種類的基板到不同的目的地。 又，本發明的基板檢查方法可完成相同於前面描述之 馨本發明的基板檢查裝置所完成的效果。 #本發明的這些目白卜特徵、態樣和優點將隨下面配合 者伴隨圖面所做的本發明詳細說明，而更加明顯。 【實施方式】 6 (較佳實施型態的說明） 根據本發明之實施形態的基板檢查裝置參考第1到第 5圖來說明。* i圖是說明基板檢查裝置概略結構的前視 圓。第2圖是說明基板檢查裝置概略結構的上視圖。第3 圖是說明基板檢查裝置及其延伸狀態下之氣壓缸的前視 317040 ]2 1275331 固第4圖疋s兒明基板檢查裝置之氣壓機構概略結構的内 ° 、】視圖弟5圖疋5兒明旋轉地驅動基板檢查裝置之旋轉 2件機械結構的後視圖。為澄清這些元件間的位置關係， 第1到5圖將不顯示基板檢查裝置1的所有元件。 — 在第1圖内，基板檢查裝置1包括第一基板檢查台2、 第二基板檢查台3、A面檢查頭4、B面檢查頭5、框架 Grame)6、基板供應部7、基板接收部8和控制部（未顯 厂、）這裡，基板檢查裝置丨檢查基板，如印刷電路板，用 ^安裝電子元件，如半導體裝置在其上，且要檢查的基板 疋相反面而要視覺方式檢查的雙面板。在下面的說明中， 要檢：之基板的兩個主面之一稱為A面而另—面稱為β面。 弟一檢查台2包括第一旋轉元件2卜Α面檢查吸持台 2a、22b、22c 及 22d、氣塵缸 23a、23b、23c 及 23d 和第 -動專軸24。第一旋轉元件21為堅固矩形六面體，且是 可繞第一旋轉軸24以第1圖中“A，，说_ λα ^ μ τ α所指不的方向旋轉 的。平行於第一旋轉軸24之第一 π 乐奴衿兀件21的四個側面 各故有四組Α面檢查吸持台22丨 9Q ^ oo Za引22d及其各自的氣壓缸 2 3 a到2 3 d之一。第一旌身垂击丄9 /1 θ 、 π軸24疋直接垂直於第}圖的紙 上。A面檢查吸持台22a設在二凡 、、丑鋪叹在弟一旋轉軸24上 面的氣壓缸23a之上（在第]图描％ 一

1圖僅頒不兩組氣壓缸23a) 〇 A 欢_吸持台2 2 b設在三組舖設在望 ^ ^ n a 001 / 又在弟一方疋轉軸24左側的氣 反缸23b之上（在第1圖僅部 一 員不兩組氣壓缸23b)4面檢查 及持σ . 2 2 c设在二組鋪設在篆 9, , t 又在乐一紅轉軸24下面的氣壓缸 3c之上（在第1圖僅顯示 、且紅23c)，以便平行於a 3]7040 13 1275331 面檢查吸持合9 9 λ , -旋轉軸24古：食查吸持台22d設在三組鋪設在第 氣壓缸心=壓r23d之上(在第1圖僅顯示兩組 # 更平订於Α面檢查吸持台22b。 台3 I::查？係設在緊鄰於第-檢查台2。第二檢查 及32d尸7旋轉元件31、B面檢查吸持台32a、32b、32c = = 及娜和第二旋_34。 ::Γ:ί轉元件21，第二旋轉元綱堅固矩形六 二二ΐ Γ 7繞平行於第—旋轉軸2 4之第二旋轉軸3 4 …二 _β”所示方向旋轉的。平行於第二旋轉軸34 、、疋鈐元件3 1的四個側面設有四個β面檢杳吸持台 如到32d及它們各自的氣壓紅33a到伽之二第^ ^ ^々方向是垂直於第1圖的紙面。B面檢查吸持台32a 係》又在—組鋪5曼在第二旋轉轴34上面的氣壓缸3%之上 (在第1圖僅顯示兩組氣壓& 33a)。B面檢查吸持台挪 ir、π在—組鋪设在第二旋轉軸％左側的氣壓红33b之上 f(在第1圖僅顯示兩組氣壓版33b) ’則更相對於A面檢查 吸持台22^B面檢查吸持台32c係設在三組鋪設在第二旋 轉軸34下面的氣壓缸33c之上（在第}圖僅顯示兩組氣壓 缸33c) ’以便平行於β面檢查吸持台32a。b面檢查吸持 台32d係設在三組鋪設在第二旋轉軸34右侧的氣壓缸33d 之上（在第1圖僅顯示兩組氣壓缸33d)，以便平行於A面 檢查吸持台32b。 如第1及2圖所示，框架6是由檢查頭支撐 61 (inspection head support)、三組線性移動轴承 62a、 317040 ]4 1275331 ^^及62c、本體基座（b〇dybaSe)63、接觸元件64和滾珠 l#(ball screw)65來穩固地組成。本體基座63是由支 Λ牙柱（support ing column)固定在第一檢查台2和第二檢查 口 3上方的平面。線性移動軸承6 %至6 2 c每一個均是由， 例如—執迢與滑塊的結合所組成，除了軌道與滑塊的組合 外：它們也可由軸和軸承或套筒(sleeve)、導引軌道(㈣和 m 1)和導引等等各種組合來組成。三組線性移動軸承62a 至62C包括它們各自的轨道621a、621b及621c和滑塊 622a、622b及622c，而軌道621a至621c是固定在本體基 座63的頂面(在第2圖内，軌道621a至621c和滑塊622a 至622c疋。又在檢查碩支撐6丨底部，是虛線所指處）。執道 621a至,621c是固定在預定的區間’以使其互相平行，如 此，軌道621b是配置在軌道621a和執道621c之間。第一 ，查^ 2是配置在執道6&和621b之間的下方區域，而 弟一檢查台3是配置在軌道621b和621c之間的下方區 丨域。又，本體基座63裝設有位於軌道621b上方區域的滾 珠螺桿65，以便平行於軌道621b及藉由線性馬達651旋 I地驅動。攻裡’線性馬達651的驅動是由前述的控制部 來控制的。請注意在第1和第2圖，用以支撐執道6仏 至621c的本體基座63，為了闡明與其他元件間的關係， :=猶0如多個本體基座63是分開設置的，而分開的本體 '"坐…_疋被固定且連接在一起的，以便至少在第一檢查台 2θ和第二檢查台3之上方形成開口 (〇Pe】nng)。接觸部二4 是配置在相同平面(例如：三個接觸部分係設在開口處)。4 3]7040 ]5 1275331 接觸部分64突出到開口且固定在本體基座63。 议一]支松61自固定在本體’基座63頂面之軌道621a =伸到心。滑塊622a、622bl、咖2及622c是設在檢 入員支咎61下面。滑塊622a是與軌道621a可滑動地嚅 二π塊622bl及622匕2是與軌道62113可滑動地嚆合，及 滑=622c是與執道621c可滑動地餐合。又，檢查頭支樓 61是與滾珠螺桿65在滑塊622M及622b2之上面被摔縱， 因此，.當線性馬達6 51啟動時’滾珠螺桿6 5旋轉使得檢查 ^支知61沿著執道621a至Μ。互相平行的方向移動（在 弟2圖“C”所指示的方向） 亚且，A面檢查頭4和B面檢查頭5係配置在檢查頭 支撐61 ° A_®檢查頭4 #σ β面檢查頭5每-個均包括取像 、（未".’員示）例如· CCD (電荷搞合元件）相機，可擷取 檢查頭支撐61下方穿過向下開口 (如第2圖虛線所示)缝隙 或51之區域的影像4面檢查頭4係配置在檢查 (頭支撐61内滑塊62%和滑塊622Μ及似⑽間的區域。 特別地’如同猶後說明將呈現的，當第一檢查台2之入面 檢查吸持台22a至22d之—放置成與接觸部分64接觸時， 檢查頭支稽61是朝帛2圖所示的“c”方向移動，如此，a 面榀查頭4即放置在a面檢查頭4之取像裝置可擷取由A 面檢查吸持台吸持之基板S之影像的位置。又，β面檢查 頭5配置在檢查頭支禮61内滑塊62加及6撕和滑塊 62二間的區域。特別地，當第二檢查台3之3面檢查吸持 台32a至32d之一放置成與接觸部分64接觸時，檢查頭支 3]7040 ]6 1275331 撑61是朝第2圖所示的“Γ，，古 H a 1 汀丁的C方向移動，如此，β面檢查頭5 疋被放置在Β面檢省頭$夕街你壯 、 ^ 貝b之取像裝置可擷取由β面檢查努 持台吸持之基板S影像的位置。 基板供應部7係直接地放置在第一檢查台2的下面。 基板供應部7包括開口面朝上之基板盒71和舉升台 (llftlngtable)72。舉升台72係設在基板盒71内，而在 破基板檢查裝置丨檢查之前，基板s是被堆疊在基板幻工 内的4升口 72 °舉升台72做上下移動，以使基板S堆頂 端的基板S，在垂直方向永遠保持相同的高度。請注意被 供應到基板供應部7之未檢查絲s是㈣疊在基板幻i 内如此以使其中的一個主面，亦即，A面，朝下。又， 如_後說明將顯現的’當第—基板檢查台2<Α面檢查 吸持台22a至22d向下移動時，Α面檢查吸持台的外緣部 份即與基板盒71的頂端邊緣接觸，而Α面檢查吸持台的吸 持面是係配置在基板盒71之開口。 基板接收部8包括三組基板盒81a、81b及81c、三組 舉升〇 82a、82b及82c和旋轉台83。舉升台8 2a至82c 是各別地係設在基板盒81a至81c内。藉由舉升台82a至 82c上下移動，使得基板s堆頂端的基板s在垂直方向永 遠保持在相同的高度。特別地，在基板盒81a至81c内， 基板S是根據基板檢查裝置1的檢查結果來堆疊。A面及b 面兩者均通過基板檢查裝置1檢查之基板S〇k被堆疊在基 板盒81 a内。A面及/或β面未能通過基板檢查裝置1檢查 之基板Sng即堆豐在基板盒81 内。α面及/或β面須重新 17 3]7040 1275331 由基板檢查裝置1檢查之基板Svi係堆疊在基板盒W c 内。這些基板盒81a至81c即被放置在旋轉台⑽之旋轉的 平坦表面。旋轉台83是由控制部以第2圓内“ D，，所示^方 向來控制其旋轉及停止位置，如此任一個基板盒8〗a至8 ^ c 是被直接地放置在第二檢查台3下面。請注意在基板接收 已檢查之基板s〇k、Sng&Svf是以a面朝上在基板 二81 a至81 c内堆豐。又，如同稍後說明將顯現的，當第 二檢查台3之B面檢查吸持台32a至32d向下移動時，β 2檢查吸持纟料緣部份將與被直接地放在β面檢查吸持 m之任—個基板盒仏至81。的頂端邊緣接觸，且β 面才欢查吸持台之吸持面是被直接地放在 面之基板盒開口。 一及狩口 Τ ” m:第1到第3圖，說明分別包含在第-檢查 及弟二檢查台3內 的伸展/收縮操作。“ ^至23d及33a至33d 所：述的，第—旋轉元件21提供分別用以支 拉A面;f双查吸持台22 缸23a泛至22d之氣壓缸2%至23d。氣壓 Ma至23d疋由控制部 作，且伸展/收縮掉作改料^制以便執行伸展/收縮操 一旋轉車由24之間它們^/面檢查吸持台22a至⑽和第 至23d是在收縮狀態在第1圖，氣壓缸心 個係放在接近於第絲面祆查吸持台2%至22d每一 氣壓虹23a至23d θ 兀件21的側面。又’在第3圖， 至22d係放在遠離;笑^展狀態，而Α面檢查吸持台22a 、來一旋轉元件21。 317040 18 1275331 如第2及第3圖所顯示的，當氣壓缸23a是伸展時， 在第一旋轉軸24上方之A面檢查吸持台22a係放在A面檢 查吸持台22a外緣部分之頂面（亦即是面對遠離第一旋轉 ^軸24之側面）與接觸部分64接觸。以下將被放置與接觸 部分64接觸之任一 A面檢查吸持台稱為“八面檢查位 置，，。在本實施形態，為可靠地放置A面檢查吸持台22& 到第2圖所示的A面檢查位置，固定之接觸部分64的區域 (總數三個)是與氣壓缸23a支撐A面檢 •域(總數三個)重疊的。 “之& 一又，如第3圖所示’當氣壓缸23。是伸展時，而在第 (:疋Λ轴24下面之A面檢查吸持台仏外緣部分的底面 之基:旋囀軸2 4之側面)係與基板供應部7 持 7 頂部邊緣接觸’而A面檢查吸持台22c之吸 持面疋係放在基板盒71的開口。 71 m η ^ ^ Α Λ下將被放置在基板盒 馨置”。 —面檢查吸持台的位置稱為“基板供應位 旋二=3圖所示，當氣—23d伸展時，位於第- 面檢查吸持台咖及其已伸/之°^7持面是係與β 觸。 \乳墨缸33b的吸持面接 以下將任一 A面檢查吸持么 安 吸持台之彳 ° 持面共任一 β面檢查 料面接觸的位置稱為“基板傳送位置”。 又’弟二旋轉元件31提佯 持台心至咖之氣塵缸咖至33d。:^面檢查吸 是由控制部所控制， 乱壓缸33a至33d 仃伸展/收縮操作，且伸展/收 3]7040 19 1275331 縮操作改變β面檢查吸持台3 夕門亡們夂ή AA 32d和弟一旋轉軸34 之間匕們各自的距離。右楚 尸 #^ D 圖，氣壓缸33a至33d是在 收鈿狀悲，而B面檢查吸持△ 32 疋牡 、斤於盆一浐喆一丄 至32d母一個係放在接 近方、'弟一凝轉兀件31的侧面。又，在第3圖，氣壓 至33d是在伸展狀鲅，而R 、土 3a 七土 β面檢查吸持台32a至32(1係妨 在遠離於第二旋轉元件31。 係放 如第2及第3圖所顯+从 ^ ^ ^ α尸/r ”，、員不的，當氣壓缸33 在第二旋轉軸24上方 R 疋狎展^， # ^ ^ B面檢查吸持台32a係放在B面檢 •查吸持台32a外緣部分之社β曲才双 象丨刀之頂面（亦即是面對遠離 =4之側面）#接觸部分64接觸。以下將被放置—與接觸 Μ 64接觸之任一 β面檢查吸持台稱為“ ^檢查位 本所實施^態’為可靠地放置Β面檢查吸持台32a J弟2圖所不的B面檢查位置m接觸部分 (總數三個）是盥氣厣缸π *产 0 &或 撑8面檢查吸持台…之區 域（總數三個）重疊的。 • 又，如第3圖所示，當氣壓缸33c是伸展時，/ Μ :走_下面之Β面檢查吸持台32。外緣部；的底二 :疋㈣遠離第二旋轉軸34之側面）係與基板接收部8之 —板盒81a至81c的任一頂部邊緣接觸，而β面檢查吸持 台^之吸持面是係放基板盒的開口。以下將被放置在任 土板盒開口之任一Β面檢查吸持台的位置稱為 放位置，，。 土 I妍 又，如第3圖所示，當氣壓缸33b伸展時，位於第二 旋轉軸34左側之B面檢查吸持台⑽的吸持面係與a面檢 317040 20 1275331 查吸持台22d及々两、^_ 下將任-3d的吸持面接觸。以 之吸持吸持面與任—A面檢查吸持台 持面接細的位置稱為“基板傳送位置”。 媒"!著，請參考第4圖，說明基板檢查裝置1之氣嚴機 構。雖然第4圖僅今明铉 ^入才 ^ ^ 檢杳μ沾， 弟檢查台2的氣壓機構，但第二 榀一D 3的氣壓機構是相似結構的。下文，將 2的氣厗播爐炎a主κ 4双查σ 說明。為簡化第-檢查台2之氣 二：的:兒明，第4圖僅說明部分的第—檢查台2,且亦 視圖5兄明Α面檢查吸持台22a及22c。 cm cf弟4圖’基板檢查裝置1之的氣壓機構包括鼓風機 90、工壓機95、主要管91a、主要其 尸 要g 91b、氣壓切換部92、 、吕 a及93c和氣壓缸管94a及94c。筮^ ^ 支撐在第一旋棘亓杜91 广 弟一紋轉軸24 包括夕u疋‘兀件21的氣壓切換部92。氣壓切換部92 夕，、且由控制部控制之切換閥，以控制開/關操 Z 4包括—中空通路，以從軸的-端通到每-個切 •山4圖虛線所指*的）。又，第—旋轉軸24的另一 令而、〜疋時滑輪（1:iming Pulley)25固定在此。主要管91a 旋轉軸24之中空通路連接到鼓風機9G與氣壓切 、、如此由豉風機90產生的氣壓透過氣壓切換部92 被供f到A面檢查吸持台22a至22d。同樣地，主要、管7 _ 透^弟一旋轉軸24之中空通路連接到空壓機95與氣壓切 、σ 士此由工壓機9 5產生的氣壓透過氣壓切換部9 2 被供應到氣壓缸23a至23d。 、。 Α面榀查吸持台22a至22d每一個均有吸持面Af與多 317040 21 1275331 個形成在其中之吸持孔（在第4圖，僅顯示A面檢查吸持台 2e2a及22C)。又，連接在A面檢查吸持台22a至22d和氣 壓切換部92之切換間間的是會根據它們各自的氣慶紅心 至23d之伸展/收鈿操作而可伸展/收縮的吸持管93日至 93d(在第4圖，僅顯示吸持管93a及93〇。這裡，吸持管 93a至93d tc連接到它們各自的切換閥。又，從吸持管心 至93d供應到A面檢查吸持台…至細的氣塵（負屡）是 從形成在A面檢查吸持台仏至挪之吸持孔釋放出。特 :::當負麼是在控制部之控制下，透過吸持管咖至93d =應到A面檢查吸持台22a至22d時，負壓會在每—個吸 、孔產生’且因此，吸持面⑼可用來真空吸持基板。 又，連接在氣壓缸2%至23d與氣壓切換部92之切 換閥之間的是氣壓叙管94a ? Q4H f /· μ ,^ Q, n S 94a至94d(在弟4圖，僅顯示氣壓 B 4C)。在控制部控制下，氣壓（正壓）是從空壓 機95供應到氣壓缸管94 二 ⑽up / 因此容許氣壓缸…至 23d執仃伸展/收縮操作。 同於第-檢告台2之方、“ : 3的氣壓機構是以相 二穿明±之方法組構的，因此這裡省略它的詳細 §兄明、注…夺滑輪％是係固定在第二檢杳 旋轉軸34的一端。雖麸本者 一口 3之弟一 、本’、轭开/恶舉例說明氣壓切換部 在兩個氣壓系統，亦即是鼓風機 之 切換，但兩個氣壓“之每 ^ 95之間 + ^ 3 了有獨立的切換部。 錄第5圖，說明在基板檢查裝置！内用以旋 Τ寸地驅動第一旋轉元件2丨 5圖是後視圖，用以物八二：4兀件31的機構。第 兄明心刀的基板檢查裝置1。應注意到 3]7040 22 1275331 在第5目，顯示在第！與第3圖之第―檢查 t 查台3之間的位置關係是水平相反的，且顯^ ^第二檢 它們的旋轉方向也是相反的。 ’’、不弟1圖之 在第5圖’用以旋轉驅動第一旋轉元件 〜 轉元件31的機構包括旋轉驅動馬達⑻、定 卑二旋 _则及張緊輪（tensi〇n灿㈣⑽及1〇 動馬達101㈣輪⑽固定在其上的旋轉轴，走轉驅 馬達1〇1在控制部之控制下，以預定的旋轉角驅動 滑輪1〇2。確動皮帶103是繞滑輪⑽及確動滑;^驅動 經張緊輪1〇4及105來旋轉的。張緊輪1〇4及^25及35 時皮帶的張力。旋轉驅動馬達1〇1的定 ，各自有定時滑輪25及35固定在其上的第二= 轉轴34亦被驅動而旋轉，且第—旋— 笫一方疋轉元件3 ]县柄姑榮 及 的旋轉方向，…：5门—旋轉軸24及第二旋轉轴34 注意在本實施形態：第一=指:的A和丄方向旋轉。請 是根據控制部所仏定的旋21及弟-紅轉元件31 ⑴方向旋轉撕轉指令，以【為單位，各自以 接著，參考第6到13C 作。第6圖是流程圖，用以 裝置1所執行的操作。 圖，說明基板檢查裝置1的操 說明由檢查基板S之基板檢查 在第6圖， 檢查吸持台2 2 g 基板檢查裝置1之控制部啟動所有的A面 至22d及B面檢查吸持台32a至32d的吸 23 317040 1275331 力（步驟si)。特別地，控制部控制設在第一檢查台2及第 二檢查台3之氣壓控制部（請看第4圖）的切換 便供應負㈣A面檢查吸持台22au2dAB = 查吸持台32a至32d。 接著，基板檢查裝置丨之控制部從空壓 =斤有的氣厂堅…23d及33a至咖，如此使：們 =伸展方向移重力（步驟S2;如第3圖所顯示的方向）。以 :個操作，四個A面檢查吸持台22a至挪之任三個是夂 、士被放在A面檢查位置、基板供應位置及基板傳送位置: 足=，當基板S被堆疊在基板供應部7内部時，基板§堆 :端之基板S的主面(特別是β面)被真空吸持且固持於被 f基板供應位置之檢查吸持台的吸持面。在第3圖 所說明的範例中，Α面檢查吸持台仏是被放在人面檢查 位置，A面檢查吸持台22c是被放在基板供應位置，而^ 面^查吸持台22d是被放在基板傳送位置。又，以步驟μ ,之操作’四個Β面檢查吸持台32a至32d之任三個是久 被放在B面檢查位置、基板排放位置及基板傳送位置^ 弟3圖的範例中，B面檢查吸持台…是被放在 位置’B面檢查吸持台32。是被放在基板排放位置，而B— =檢查吸持台32b是被放在基板傳送位置，以便與 查吸持台22d相接觸。 接著’基板檢查裝置i之控制部檢測是否有基板3被 吸持且固持於放在A面檢查位置之A面檢查吸持台的吸 面或放在B面檢查位置之3面檢查吸持台的吸持面（步驟 317040 24 1275331 幻）。例如：在這個檢測下，光學感測器（〇pticai anSOr)(未顯示）可直接地檢測基板，或是設在氣壓電路内 =真空感測器（vacuum sens〇r)可檢測是否有基板被吸 持。若控制部檢測有基板8被吸持且固持在任一吸持面， 。則$制執行到步驟S4,而若檢測沒有基板被吸持且固持在 吸持面，則控制執行到步驟S5。 在步驟S4,基板檢查裝置}之控制部控制A面檢查頭 4及B面檢查頭5之取縣置，以便擷取各自被吸持且被 ^保放在A面檢查位置及ΒΦ檢查位置之檢查吸持台的基 反s之主面影像’㈣’控制執行到步驟。特別地，斤 制部驅動線性馬達651 1預定的速度移動檢查頭支撐工 61，且藉以導致被固定在檢查頭支撐61的a面檢查頭居 及B面檢查頭5通過各自被吸持且固持於放在“檢查位 置及B面檢查位置之檢查吸持台的基板s上方（請看第2 圖）。當A面檢查頭4及“檢查頭5通過基才“上方時， •，制部控制A面檢查頭4之取像裝置來擷取被吸持且固持 2放在A面檢查位置之A面檢查吸持台的基板§之“的 7整影像，且同時地控制β面檢查頭5之取像裝置來掘取 :皮吸持且固持於放在Β面檢查位置之β面檢查吸持台的基 β面的兀正衫像。換言之’基板檢查裝置1同時在 反S的Α面及另-基板S的β面執行掃描及取像製程。 接著，控制部根據掘取之影像的影像資料獲得檢^果。 於被㈣圖樣的影像資料與操取之影像的影像資 4疋被圖樣修補的，藉以獲得視覺方式檢查結果。在本# 317040 25 1275331 知形感、，控制部檢測每一基板的A面及β面，分為三種等 、：·通過”、“未通過”及“重新檢查'請注意當基板s 被吸持且固持於放在Α面檢查位置或β面檢查位置之 面時，控制部僅可控制有基板s被放置來執行取像操作之 側的取像裝置，且獲得檢查結果。 送位=:S5二板檢查裝置1之控制部停止放在基板傳 ::置…檢查吸持台的吸持。特別地，控制部控制設 ‘負控制部的切換間開/關操作來停止 U負Μ到放在基板傳送位置面檢查輯台 巳例，Α面檢查吸持台挪被放在基板傳送位置，而 才工制邛使付A面檢查吸持台22d停止吸持。 這裡，‘基板S之兩個主面之一（特' 吸持且確保於放在基板傳送 疋）被真空 I 士 （A面檢查吸持台W明姓 面日才，基板s之其他主面（特別是八 ）及持 送位置之B面檢查吸持台的吸持面放在基板傳 丨放在基板傳送位置之A面檢查吸持台田/空制部停止 板傳送位置之基板S‘B面之吸持;，’被放在基 對放在基板傳送位置之B面檢查吸持台：口::制部持1 買 傳送位置之基板S的A面被直处嗯拄〇 、，使放在基板 傳送位置之Β面檢查吸持台的；=且：固持於放在基板 位置之基板S從Α面檢杳吸持此，在基板傳送 台，且被真空吸持及固持之= 面檢查吸持 接著，基板檢查裝置i之控 ^切換為Α面° 置之Β面檢查吸持台的吸持（步驟 好放在基板排放位 ^ 。特別地，控制部控 26 317040 Ϊ275331 停:=查台3之氣壓控制部的切換閥開/關操作來 第二！愿到放在基板排放位置之“檢查吸持台。在 乐d圖的乾例，b面檢杳 而控制部使得βΓΛ 在基板排放位置， |便侍β面檢查吸持台32c停止吸持。 =里，當基板S之兩個主面之—（特別是义面）被直空 I固持於放在基_放位置之β面檢查吸持△的 8:編，皮放在基板接收部8之任-基板… 吸制部停止放在基板排放位置之Β面檢香 持:二吸持時，在基板排放位置之基板主面直空:及 方二=而在基Μ被排放到基板接收部8。請注意基於 4二二述之步驟S4、^S6像是連續執行的， 匕們疋可同時同步執行的。 至23= ^板檢查裝置1之控制部控制所有的氣齡23a 圖所顯干的：ί):以收縮的方向移動(步驟S7;如第1 的狀用這個操作，A面檢查吸持台22a”2d =及持台…至咖是全部被放在鄰近於第一旋轉 兀件21或弟二旋轉元件31之側面。 =，基板檢查裝置！之控制部決定是否終止基板s 、：二尸糊。當它決定終止檢查時，控制部終止在第 ，程圖製程。在另一方面，當它決 控制繼續到步驟S9。 一 ::驟S9 ’根據檢查結果，基板檢查裝置）之控制部 心畢被放在第二檢查台3正下方的任—基板盒…至 81c，且控制旋轉台83來旋轉放在第二檢查台3正下方之 317040 27 1275331 基板盒81 a至81 c的被選定者。特別地，控制部根據在第 1圖顯示被吸持且固持於放在第二旋轉軸34右側之B面檢 直及持台之基板S (從被吸持且固持於放在B面檢查吸持台 32a至32d的基板S之中被選出）的檢查結果（在第1圖，b 面檢查吸持台32d)，來選擇基板盒81a至81c之中的一 個。例如’當基板S之A面及B面兩者的檢查結果是‘‘通 過，控制部決定基板S通過檢查，而選擇接收基板$〇让 的基板盒81a。可替換地，當基板s之a面及B面至少一 個的檢查結果是“未通過，，時，控制部決定基板s未能通過 仏二而遥擇接收基板Sng的基板盒81 b。另一可替換地， $基板S之A面及B面兩者的檢查結果是‘‘重新檢查”或是 當A及B面之一侧的檢查結果是“通過，，，而另一側的檢查 結果是“重新檢查，，時，控制部決定需要重新檢查，而選擇 『:之板S v f的基板盒8 i c。請注意步驟S 9可在 S6之刖立即被執行。 及第=基板檢查裝置1之控制部控制第-旋轉元件 二 件31，如第1圖所示，分別以“A，，及“B，，方 向旋轉9 〇 ( |瞒i ς 1。、 方 達101來使第一旋轉元半- 付1勒馬 , 牛21及乐一方疋轉元件31分別婊々々 一方疋轉軸24及第二旋轉軸3 刀別％罘 杳吸持a $ 9 。用這個操作，A面檢 -及持u 22a至22M〇B面檢查 松 9〇。。 σ wa至32d全部轉 接者’基板檢查裝置1 却 導致停止吸持之“檢杳吸二广重新啟動在步驟S5 —及持。的吸持，及在步驟S6導致 3170 牝 28 1275331 Z止f持之β面檢查吸持台的吸持（步驟S11)。用這個摔 U控制部使得所有的A面檢查吸持台2一及B: 及持台广/咖執行吸持操作。此後，控制回到步 馭S2，且控制部重複前述的製裎。 接著，麥考第7A到1 3C圖，_ & i& ，砰細矹明依據重複第6 由基板檢查裝置1執行用以_

=複第 :6圖所顯示之流程圖製程，基板檢查農置J 〉主意圖中的輪廓箭頭指示當氣壓缸23a至23d 及33a至33d執行伸展/收缩掉作 至挪及b面檢查吸^m，A面檢查吸持台^ 第7二弟二旋轉元件31之旋轉移動。 I兄月虽未檢查的基板被供應到基板檢查裝置！ ^!7始狀態。在基板供應部7，許多基板WB—面朝上 :2二又’在第—檢查台2之四组A面檢查吸持台22a # —巾，A面檢查吸持台22a是被面朝下放置。又，在 二二檢查台3之四組B面檢查吸持台32a至伽中，B面 二叙吸：台仏是被面朝下放置。基板檢查裝置1之控制 入1祕〜、3及β面檢查吸持台3。至32d之吸持。下面基 二二組5兄明之目的’在基板供應部7内被堆疊之許多基板 s將自頂端到底端依序稱為基板SI、S2、S3、.。 接者，當控制部執行前面的步驟S2 (第一循環）時，A 面檢查吸持台…至加和“檢查吸持台咖^划是 317040 29 1275331 :弟—旋轉元件21及第二旋轉元件31移出。然後， 空7内被放在基板s堆頂端的基板si β面被真 口持於被放在基板供應位置之Α面檢查吸持台 a的吸持面（如第7B圖所顯示的狀態）。 ^者，當控制部執行前面的步驟s7(第一循環）時，A 、双2吸持台22a至22d和B面檢查吸持台32a至32d是 7:別料第-旋轉元件21之側面及第二旋轉元件31之側 4入尤此傻’被真空吸持且確信被放在基板供應位置之A面 :―二料22a吸持面的基板S1自基板供應部7被取出 (如乐7C圖所顯示的狀態）。 A 一接者，當控制部執行前面的步驟S10(第一循環）時， △弟一旋轉元件21及第二旋轉元件31被旋轉90。。因此， 古私查吸持台22a至22d、B面檢查吸持台至及 空吸持且固持於被放在基板供應位置之A面檢查吸持 令22a吸持面的基板&全部被旋轉9〇。（如第μ圖所顯 :的狀態)。如第8A圖所顯示的，第-旋轉元件21及第二 旋轉兀件31被順時針旋轉90。。 接者，當控制部執行前面的步驟S2(第二循環）時，A 面檢查吸持台228至咖和B面檢查吸持台32a至32(1是 刀別攸弟一旋轉元件21及第二旋轉元件3"多出。然後， 办土板七、I °卩7内被放在基板s堆頂端的基板S2 β面被真 工吸持且固持於放在基板供應位置之Α面檢查吸持台2仏 的吸持面（如第圖所顯示的狀態）。

接者，當控制部執行前面的步驟S7(第二循環）時，A 317040 30 1275331 :私查吸持台223至2加和β面檢查 刀別移近第-旋轉元件21之側面及第二^/至伽疋 面。此後，被真空吸持且 疋“件31之側 面的Α柘S?白且4 寺在Α面秩查吸持台22b吸持 態) 基板供應部7被取出(如第8C圖所顯示的狀 接者，當控制部執行前面的步 旋轉元#. 卩弟一循％)^， 第一旋轉元件21及第二旋轉元件3 :弟二 A面檢查吸持台22 ? $轉9〇 。因此， 被真空吸持且@_、 查吸持台32a至伽及 持面的基板S1ΛΓ別在A面檢查吸持台仏和22b吸 土反S1和S 2全部被旋輕q Q。「a μ A 狀態）。 才 u第9A圖所顯示的 接著，當控制部執行前面

面檢查吸持台如至挪和3面檢杳吸^錢）時，A 分別從第-旋轉元件2丨及第_旋;-元=;仏至是 在基板供庫邱弟—旋軺兀件Μ移出。然後， ，、息邛7内被放在基板s堆頂端 ,空吸持且固持於放在基板供 =:=真 的吸持面。另外，木面松查吸持台22c 杳位置之祐;執行前述步驟S4時，在A面檢 —置被吸持且固持在Λ面檢杳吸持a乃々#

面被擷取影像且由Α而於才—及持D 22a之基板S1A 9B圖所e§_由查頭4的取像裝置來檢杳（如第 兆圖所鮮員不的狀態）。 一 V 3乐

接者，當控制部執行前面的步驟 面檢查吸持么99 、乐一循％)時，A 分別料第-# β面仏查吸持台如至32d是 面。此後被；，件21之側面及第二旋轉元件31之側 一及持且固持在A面檢查吸持台22c吸持 317040 31 1275331 基板S3自基板供應部7被取出(如㈣所顯示的狀 第-=元步驟-(第三循環)時， A面檢查吸持二== 被真空吸持且固持於分別在a二:m2d及 持面的基板S1至S3全部被^ q —及持D 228至2&吸 的狀態）。 疋轉90。（如第l〇A圖所顯示 接著，當控制部執行前面的步a & 面檢查吸持台仏至叫Β面檢杳吸=盾：)：，Α 分別從第—_ 4 2} ^ = 至伽是 在基板供應部7内被放在基板s;=二出。然後， 空吸持且固持於放在基板供應位2=:， 的吸持面。又，在基板傳送位置之被直 ““ 22d 面檢查吸持台22a之基 ，、工寺口持在λ I之β面檢查人與在基板傳送位置 執行前述步驟叫在A面檢二當控制部

面檢查吸持台2 2 b之基板s 2 A面—被擷取夺且固持在A 頭4的取伤壯m + |猢取衫像且由A面檢查 ^ ^ ^ ^ ^""g )〇 j 持且固持在A面檢•吸持”2二:位置之被真空吸 sm面祐“：持。22a之基板S1被釋放，且基板 面。 〃工吸持且固持在β面檢查吸持台32c的吸持 四循環）時 接々 ㊂控制部執行前面的步驟S 7 (第 317040 32 1275331 面查吸持台22a至22d和β面檢查吸持台32a至32d θ 分別移近第-旋轉元件21之側面及第二旋轉元件Μ之^ 面。此後，被真空吸持且固持在Α面檢查吸持纟⑽吸持 面的基板S4自基板供應部7被取出。又，在基板傳送位置 ^被真空吸持且固持在β面檢查吸持台32。吸持面的基板 幻從第—檢查台2傳送到第二檢查台3，而被真空吸持且 :趣}的主面從3面轉換到“(如第i〇c圖所顯示 ^大恶）°請注意，在基板S1被傳送之後，沒有基板3停 邊在A面檢查吸持台22a之吸持面。 ^接著，當控制部執行前面的步驟S10(第四循環）時， 昂一旋轉元件21及第二旋轉元件31被旋轉⑽。。因此， A面檢查吸持台^至挪^面檢查吸持台仏至伽、 =吸持且固持在A面檢查吸持台挪至22d吸持面的基板 至S4及被吸持且固持在β面檢查吸持台32c之基板幻 全部被旋轉90。（如第11A圖所顯示的狀態）。接著，當控 =部執行前面的步驟S11 b寺，a面檢查吸持台他被引發 重新啟動吸持。 接著，當控制部執行前面的步驟S2(第五循環）時，a 面榀查吸持台22a 22d和B面檢查吸持台32a至32d是 分別從第一旋轉元件21及第二旋轉元件31移出。然後， ^基板供應部7内被放在基板s堆頂端的基板Μ面被真 吸#且固持在基板供應位置之A面檢查吸持台^的吸 =面又，在基板傳运位置之被真空吸持且固持在a面檢 二吸持纟22b之絲S2 A面即與在基板傳送位置之β面檢 317040 33 1275331 查吸持纟32d的吸持面相接觸。另夕卜，當控制部執行前述 步驟S4時，在A面檢查位置之被吸持且固持在A面檢查吸 持台22c之基板S3之A面被擷取影像且由a面檢查5頁4 的取像裝置來檢查。此同時，B面檢查頭5的影”置亦 $仃操作以揭取，如影像，及檢查被吸持且固持在β面檢 查位置之Β面檢查吸持台似的基板如第⑴ _示的狀態）。接著，當控制部執行 ==置’“面檢查吸持台故所真空吸㈣ =基板f被釋放，而基板以之A面被真空吸持且固持 在B面檢查吸持台32d的吸持面。 面於ΓΓ姓當控制部執行前面的步驟S7(第五循環）時，A 面知查吸持台22a至22d釦R而4入太 ^ 分別浐、斤楚μ 查吸持台323至伽是 :„:旋轉元件21之側面及第二旋轉元件31之侧 面的美板S5被自真美空：持且固持在Α面檢查吸持台仏吸持 應部7被取出。又，在基板傳送位置 s2從第H 檢查吸持台32d吸持面的基板 Γ: 台2傳送到第二檢查台3,且被直〜持且 固持之基板82的主面從β 真工及持且 示的狀態）。請注咅，卢贫 換 （弟】】C圖所顯

停留在A面俨雀：土板犯被傳送之後，沒有基板S +面私查吸持台22b之吸持面。 接著富控制部執行前面的 第-旋轉元件面的步知训（第五循環）時， 被吸持且確保在“檢查吸持二:查:持台32 奸σ 22a、22c及22d的基板 317040 34 1275331 〇及被吸持且固持在β面檢查吸持台及32d之 ^反/1: S2全部被旋轉9〇。（如第12A圖所顯示的狀 :接者，當控制部執行前面的步驟S11時，A面檢查吸 、口 22b被引發重新啟動吸持。 — 接者，當控制部執行前面的步驟S2(第六循環） :檢查吸持台咖至22(1和B面檢查吸持台32a至32d是 7刀別從第—旋轉元件21及第二旋轉元件31移出。然後， 2板供應部7内被放在基板S堆頂端的基板S6之B面被 /、工吸持且確保於放在基板供應位置之Λ面檢查吸持台 於放I:持t。又’在基板傳送位置之被真空吸持且固持 、关 面檢查吸持台22c之基板S3之Α面即與在基板傳 、 之Β面檢查吸持台32a的吸持面相接觸。 者 ^:執行前料驟“時，在A面檢查位置之被吸持且; 在A面檢查吸持台挪之基板⑷面 ::查頭4的取像襄置來檢查。此同時，B面檢二且:： 置亦執行操❹擷取，如影像’及檢查被料且確 保在Β面檢查位置之Β面檢查吸持台咖的基板s2^ ==m圖所顯示的狀態）。接著，當控制部執行前述 Y 4日守，在基板傳送位置，由A面檢查吸持台22c直 空吸持且固持的基板S3被釋放，且基板幻之4面被直二 吸持且固持在B面檢查吸持台32a的吸持面。 ”工 接著，當控制部執行前面的步驟S7(第六循環）時，A 面檢查吸持台22&至22(1和B面檢查吸持台32a至32d θ 分別移近第一旋轉元件21之側面及第二旋轉元件Μ之： 317040 35 1275331 =此後被真1吸持且石1保在A面檢查吸持台22a之吸 才寸面的基板S6自基;fe #麻都7 > g , …士“ 七、應β 7被取出。又，在基板傳送位 =二=B面檢查吸持台32a吸持面的基 =:/其 送到第二檢查台3,且被真空吸 所曰… 2的主面從β面轉換至“面(如第12C圖 所_不的狀態）。請注奄，，其 〜在基板S3被傳送之後，沒有基 f :邊在A面檢查吸持台22c之吸持面。此後，當控

部執行步驟S 9 B寺，根據美# ς A I據基才反S1之A面檢查結果（請看第 其i 查結果（請看第UB圖），基板接收部8中 土反皿之被選擇，接著，旋轉台8 3被旋轉。 味接者_，當控制部執行前面的步驟S10(第六循環）時， 弟紅轉兀件21及第二旋轉元件3"皮旋轉⑽。。因此， 面檢查吸持台22a至22d、β面檢查吸持台…至伽、 持在Α面檢查吸持台22a、22b *㈣的基板 被吸持且固持在B面檢查吸持台32a、32c及32d 土。=至^全部被旋轉9〇。（如第13A®所顯示的狀 二 者’當控制部執行前述的步驟S11時，A面檢查吸 持。22c被引發重新啟動吸持。 接著，當控制部執行前面的步驟S2(第七循環）時，a 持台仏至挪和β面檢查吸持台3仏至32d是 :攸弟—旋轉元件21及第二旋轉元件31移丨。然後， ^土板供應部7内被放在基板S堆頂端的基板S7B面被真 工吸=且固持於放在基板供應位置之a面檢查吸持台^ 、ϋ彳才面。又，在基板傳送位置之被真空吸持且固持於放 317040 36 1275331 土 A面檢查吸持台22d之基板S4 A面即與在基板傳送位置 之B面檢查吸持台32b的吸持面相接觸。另外，被真空吸 持且固持在基板排放位置之β面檢查吸持台咖的基^ 被放在基板接收盒δ中所選定的基板盒之開口。又 =執行前述步驟S4時，在“檢查位置之被吸持且二; 在A面檢查吸持台22a之基板沾之a面被操取影像' 面檢查頭4的取像裝置來檢查。此同時，β面檢 ==置亦執行操作㈣取，如影像’及檢查被:及持且確 :^面檢查位置之B面檢查吸持台…的基板 牛：二:3ΒΓ斤顯示的狀態)。接著’當控制部執行前述 所真空吸持且固持的基板S4釋放，且基^d 空吸持且固持在B面檢查吸持台咖的吸持面。此後二 控制部執行前述的步驟料，將在基板排放位置之: 查吸持台/2C被真空吸持且固持的基板S1釋放。 " 接著，當控制部執行前面的步驟S7(第七循環） 面檢查吸持台22a至22d和B面檢查吸持台咖至伽b :別移近第一旋轉元件21之側面及第二旋轉元件31之： 而此後，被真空吸持且固持在A面檢查吸持台既之吸 盟寺=板S7自基板供應部7被取出。又，在基板傳送位

^ 吸持且固持在β面檢查吸持台咖吸持面的A 板S4攸弟一檢查台2傳送到第二檢查台3 ==:主面從β面轉換到“。接著，二: 查叫口 32c具空吸持及固持被釋放的基板以排放到所選 3J7040 37 1275331 ==收部8之基板盒(如第i3C圖所顯示的狀態)。 二二操作被重複地執行，如此基板檢查裝置1之 二；内所堆疊的基板5與它們的相反側是被視覺 方式核查，且依序排放到基板接收部8。 在被吸二兄明’在基板檢查裝置1，不同的製程執行 確保在A面檢查吸持台仏至⑽及B面檢查 :U咖的基板，且這些製程是同時互相平 特別地’基板檢查裝置1重複第6圖所顯示 以衣私’因此根據台的位置而執行平行的操作： =㈣查吸持台吸持基板s的操作、操取基板s之Α面 呆作、藉由從第一檢查台2傳送基板 二=基板S的操作、操取基板“面影像的偷 =面i查吸持台32排放基Μ的操作。據此 炎置1平行執行—“用以檢查基板S相反側的製程，因一 t可以平行檢查基板3的相反側，同時確保有效率的生 ^置。又’即使基板S是由脆性材料所構成的印刷電路板， 母一個基板S的主面是由與其接觸的台來支樓，且因此美 可可靠地被固持。另外，基板S除了在與台接觸埠； 之夕卜沒有被任何元件所蓋著，因此基板s之任何部份均 可被影像裝置擷取為影像。 請注意雖然前述已說明—基板5被真空吸持且固持在 A面檢查吸持台及B面檢查吸持台的範例，但其他方法也 可用於握持基板⑷面檢查吸持台及B面檢查吸持二。 例如：靜電吸持可用於握持基板面檢查吸持台 317040 38 1275331 面檢查吸持台。又，用以改變A面檢查吸持台盘第 21間之距離的機構及用以改變B面檢查吸持台4: 3元件31間之距離的機構不用氣⑽。例如：可使= 的實沐η〜4構（llfilngmech〇。儘管前述 a 有況明-A面檢查吸持台及6面檢查吸持△入 :引：二=:吸：作的範例’但台可引發執行吸心 田而要％，例如一系列製程開始時。又，氣壓缸可 組構成不會施行不需要的伸展/收縮操 在^ 之氣壓缸23b及23d)。 弟3圖 又，前面說明一範例，當所有的氣壓缸23a至2加及 33^3^被伸展時，A面檢查吸持台及6面檢查吸持台（特 :是第3圖所顯示的a面檢查吸持台22七及B面檢查 台32d)決不被放在下面的位置：a面檢查位置、b面檢杳 位置基板供應位置、基板傳送位置及基板排放位置。在 前面提及的範例，沒有製程是被執行在被吸持且固持在A ，檢查吸持台及B面檢查吸持台之基板3上。然而，此類 基板S可在A及B面接受額外的製程。即使額外的製程是 執行在基板S之A面及B面，基板檢查裝置丨可平行地= 行系列的製程’以檢查基板S的相反側，而因此，一气 列的製程可被執行，而沒有增加處理時間。 又，前面說明一範例，A面檢查頭4及B面檢查頭5 固定在檢查頭支撐61，且掃描與取像製程是以掃描方向 (在第2圖箭頭“c”所指示的方向）經由移動檢查頭支樓μ 在基板S上執行。這裡容許一驅動源（線性馬達β 51)應用 3]7040 39 1275331 到所有必需的掃描及取像製程。然而，八面檢查頭 面檢查頭5可組構成垂直於前述移動方向（即，垂直於第； 圖箭頭”c，，所指示方向的水平方向）沿著檢查頭支樓61是 可移動的。在此情況下，它可增加用以掃描及取像製程之 A面檢查頭4及b面檢查頭5的面積。 八請注意在基板檢查裝置1，第一檢查台2及第二檢查 台3各自有四個檢查吸持台，但本發明並不侷限在此。本 發明可應用到兩個檢查台各自有多於或少於四個檢查吸持 台的情況。 第14A和14B圖說明第一檢查台2〇〇及第二檢查台3⑽ 各自^包含八個檢查吸持台之範例。特別地，在第i4A圖， 支撐檢查吸持台的氣壓缸各自在收縮狀態，而在第ΐ4β 圖，支撐檢查吸持台的氣壓缸各自在伸展狀態。又，在第 及14B圖内，被檢查的基板s是以剖面線（Μ — 來顯示。 ^ • ^如第ΗΑ及14Β圖所顯示的，第一檢查台2〇〇及第二 =台3GG各自包含由矩形人角柱所形成的旋轉元件。第 一榀查ϋ 2〇〇及第二檢查台300被建構以便以第14Α圖箭 頭所指不的方向繞通過兩個矩形八角柱中心之旋轉軸以 45為單位來旋轉。檢查吸持台被提供在每一矩形八角柱 =之旋轉元件的八個面上方的氣壓缸上。當所有的氣壓缸 疋在收縮狀態時，每個檢查吸持台是放在靠近矩形八角柱 =旋，元件處（如第14Α圖所顯示的狀態），而當所有的氣 蜃虹疋在伸展狀態時，每個檢查吸持台是放在遠離矩形八 317040 40 1275331 角枝形旋轉元件處（如第14B圖所顯示的狀態）。 田所有的氣壓缸是在伸展狀態時，設在第一檢查台 2J)〇之檢查吸持台（例如：面朝下的台）被放在基板供應位 二以對放在基板供應部7内之基板§堆頂端的基板§做吸 β及固拚。又’设在第—檢查台2〇〇之另一檢查吸持台(例 朝下的σ )係放在A面檢查位置對被吸持及固持在檢 持台之基板S的A面執行掃描及取像操作。另外，設 在第-檢查台2GG之又另—檢查吸持台（例如：面朝右的台 ir、放在基板傳送位置’而被吸持及固持在檢查吸持台之基 板S的A面知與第二檢查台3〇〇之檢查吸持台相接觸。 田所有的氣壓缸是在伸展狀態時，設在第二檢查台 300之檢查吸持台（例如：自朝左的台）係放在基板傳送位 置，而基板S從第-檢查台2〇〇被傳送。又，設在第二檢 查台細之另—檢查吸持台（例如：面朝上的台）係放在B 面檢查位置對被吸持及固持在檢查吸持台之基板“勺β面 執行掃描及取像操作。另外，設在第二檢查台3⑽之又另 -檢查吸持台（例如：面朝下的台）係置放在基板排放位 置而基板S係排放到基板接收部8。 士岫面所说明，貫際上在使用兩個檢查台各自包含八 個檢查吸持台之情況下，不同的製程執行在被吸持且固持 在檢查吸持台的基板’且這些製程可同時互相平行地被執 行。 第15Α至15D圖說明第一檢查台25〇及第二檢查台35〇 各自包含兩個檢查吸持台。特別地，在第15Α圖，放在垂 41 317040 1275331 直方向用以支撐檢查吸持台之氣壓缸是在伸展&態。在第 15B圖，放在垂直方向用以支撐檢查吸持台之氣壓缸是在 收縮狀態。在第15C圖，放在水平方向用以支撐檢查吸持 台之氣壓缸是在收縮狀態。在第15D圖，放在水平方向用 以支撐檢查吸持台之氣壓缸是在伸展狀態。又，在第 至1 5 D Η ’受心之基板s以剖視線表示。 如第154至15D圖所顯示的，第一檢查台25〇及第二 檢查台350各自包含繞相符合之旋轉軸旋轉的旋轉元件。 第一檢查台250及第二檢查台35〇是各自組構成以9〇。為 單位及第15C圖箭頭所顯示之方向可旋轉。兩個檢查吸持 ^是平行配置在旋轉元件相反側之氣壓紅上。當所有的氣 壓缸是在收縮狀態時，每個檢查吸持台是在靠近旋轉元件 ，置（如第M5B及15C所顯示的狀態），而當所有的氣 ^在伸展14時，每個檢查吸持台是在遠離旋轉元件放置 (如第1 5Α及15D所顯示的狀態）。 :設在垂直方向之檢查吸持台的氣壓缸是在伸展狀 :日“如㈣所顯示之狀態），設在第一檢查讀之檢 一吸持台(例如：面朝下的台)是放在基板供應部7内之基 板S堆頂端的基板8做吸持及固持。又 ::之另一檢查吸持台(例如：面朝上的台)係放在心 置，對被吸持及@持在檢查吸持台之基板W a面執 二=取像操作。另夕卜，設在第二檢查台350之檢查吸 ' 、•面朝上的台）係放在β面檢查位置，對被吸持 及固持在檢查輯^絲面執行料及取像= 317040 42 1275331 作又，叹在第二檢查台350之檢查吸持台（例如：面朝下 的台）係纟在基板排放位置，而基板8係排放到基板接收部 〜當設在水平方向之檢查吸持台的氣壓缸是在伸展狀 恶時（如第15D所顯示之狀態），設在第一檢查台25〇之檢 查吸持台（例如：面朝右的台）是被放在基板傳送位置，而 被吸持及固持在檢查吸持台之基板s的A面與帛二檢查台 350之檢奎吸持台的吸持面相接觸。又，設在第二檢查台 350之檢查吸持台（例如：面朝左的台）是放在基板傳送位 置，而基板S從第一檢查台25〇被傳送。 如前面的說明，即使在使用兩個檢查台各自包含兩個 檢查吸持台的情m同的製程是被執行在被吸持且確 保在檢查吸持台的基板s上，而這些製程可同時互相平行 地被執行。 又’第-及第二檢查台可各自有由矩形三角柱形成的 鲁旋轉元件。在這個情況下，第一及第二檢查台是被構建為 以120。為單位繞貫穿兩組矩形三角柱的中心來旋轉。檢. 查吸持台被提供在矩形三角柱形之旋轉元件的三個面上= 之氣壓缸。第一檢查台之任一檢查吸持台被配置以便相對 於第二檢查台之檢查吸持台。用這個架構，可達成與本發 明所達成之結果相同之結果。 雖然本發明已被詳細說明，前面的說明是所有觀點的 例證且不受限制的。應了解各種其他的修改及變化並未脫 離本發明的範圍内。 317040 43 1275331 [圖式簡單說明】 第1圖是前視圖，為根據本發明之實施形態來說明基 板檢查裝置1的概略結構。 ’ 第2圖是上視圖，用來說明顯示在第！圖内之基板檢 查裝置的概略結構。 第3圖是前視圖’用以說明顯示在第^圖内之基板檢 查裝置1及它的延伸狀態下的氣㈣（〜cylinder)23和 3 3的概略結構。 第4圖是内部側視圖，用 …、 ^ ^ ^ ^ ^ 1 ΛΑ - 乂呪明顯示在第1圖内之基 板心查I置1的氣壓機構之概略結構。 某板二省：w f視圖$以§兄明顯示在第1圖内旋轉驅動 基板Ml置1之旋轉元件的機械結構； 第6圖是流程圖，用巧 一 ^ F ¥ 1 ^ A ^ c 说月頌示在第1圖内之基板檢 豈展置li查基板S所執行的操作。 第7A至7C圖是概略視用 之芙柘於杏狀罢]各 兄α 用以說明顯示在第1圖内 ;之暴板h查I置1重複第 第一階段。 m圖所顯示之流程圖製程操作的 第8 A至8C圖是概略 内之基板檢查裝置i重複第δα ’用以說明顯示在第1圖 的第二階段。 θ所顯示之流程圖製程操作 弟9 Α至9 C圖是概略賴 ^ ^ j- , 4 , 圖’用以說明顯示在第1圖

内之基板檢查裝置i重許 ^ 1 M 的第三階段。 θ所_示之流程圖製程操作 第U Α至i〇c圖是概 各視®，用以說明顯示在第工 317040 44 1275331 圖内之基板檢查裝置1重複第6圖所顯示之流 作的第四階段。 疋圖製裎操 第Π A至lie圖是概略視圖，用以說明顯示 圖内之基板檢查裝置1重複第6圖所顯示之流在第 作的第五階段。 缸圖製 第1 2A至12C圖是概略視圖，用以說明顯示》 内之基板檢查裝置1重複第6圖所顯示之流程 弟1圖

的第六階段。 衣程操作 弟1 3 A至13 (3圖是概略視圖，用以說明顯卞 —、 圖内之基板檢查裝置丨重複第6圖所顯示之流裎圖製乐程1 摔 作的第七階段。 卞 第14A及1仙圖是第一檢查台200和第二檢查台300 口自包含八個檢查吸持台（i㈤tabi e)之範例說明。而 第15 A至15D圖是第一檢查台250和第二檢查台350 各自含兩個檢查吸持台之範例說明。 •〔主要元件符號說明】 1 基板檢查裝置 2 第一基板檢查台 弟二基板檢查台 4 A面檢查頭 β Β面檢查頭 6 框架 7 基板供應部 基板接收部 45 317040 8 1275331 21 第一旋轉元件 22a 至 22d A面檢查吸持台 23a 至 23d 、33a至33d 氣壓缸 24 第一旋轉軸 25、35 確動滑輪 31 第二旋轉元件 32aj32d B面檢查吸持台 34 第二旋轉軸 4卜51 缝隙 61 檢查頭支撐 62a 至 62c 線性移動軸承 63 本體基座 64 接觸元件 64 接觸部分 65 滚珠螺桿 71、 81a至81c 基板盒 72、 82a至82c 舉升台 83 旋轉台 90 鼓風機 91a 、 91b 主要管 92 氣壓切換部 93a 至 93d 吸持管 94a至94(1 氣壓缸管 95 空壓機 46 317040 1275331 101 旋轉驅動馬達 102 滑輪 103 定時皮帶 104 、 105 張緊輪 200 、 250 第一檢查台 300 、 350 第二檢查台 621a 至 621c 執道 622a 至 622c、622bl、622b2 滑塊 651 線性馬達 Af 吸持面 S、SI 至 S7、Sng、S〇k、Svf 基板 47 317040

Claims (1)

1275331 十、申請專利範圍： 丄· 檢查裝置’用㈣取，如影像，及檢查基板 之相反側，該裝置包括： 弟-檢查台包含多個繞第一旋轉軸而設置之第一 =握持面，該多個第—基板握持面各自與基板的第 主面相接觸來握持基板； 第榀查〇，鄰接於第一檢查台而設置，且包含多 個繞第二旋轉轴而設置之第二基板握持面，該多組第 -基板握持面各自與基板的第二主面相接觸來握 板； $車τ驅動部’用以使第一檢查台繞第一旋轉轴旋轉 使弟 查口繞弟一旋轉軸旋轉來改變多個第一基 板握持面及第二基板握持面的方向；

取像部，用以同時擷取由配置成相平行之美 握持面及第二基板握持面組成之平行組（paraiiei^t) 所握持的基板主面的影像； 基板供應部，用以供應基板到不同於在平行組之第 一基板握持面之第一基板握持面，及 基板排放部，用以排放由不同於在平行組之第二基 板握持面之基板握持面所握持之基板。 如申明專利範圍第1項的基板檢查裝置，更包含用以 控制多個第一基板握持面或多個第二基板握持面之控 制部，以便握持及釋出基板；其中， 該第一檢查台包含用以移動多個第一基板握持面 48 317040 2. 1275331 的乐一基板握持面驅動部，以改變它們與第一旋轉軸 距離； ^第二檢查台包含用以移動多個第二基板握持面的 弟二基板握持面驅動部，以改變它們與第二旋轉軸距 離； —第一基板握持面驅動部及第二基板握持驅動部使 由第一基板握持面及第二基板握持面相對而成之相對 鲁組（opposmg set)分別自第—旋轉軸及第二旋轉軸移 動而離開:如此，使相對組之第—基板握持面所握持 之基板的第二主面與相對組之第二基板握持面相接 觸，及 控制部控制由第-基板握持面及第二基板握持面 相對而成之相對組，如此使相對組中之第一基板握持 面所握持之基板由此被釋放，而由相對組之第二基板 握持面所握持。 #3.如申請專利範圍帛w的基板檢查裝置，q 包含： 八 〇 第取像I置，用以擷取由平行組中之第一基板握 持面所握持之基板之第二主面的影像； 第-取像裝置，用以擷取由平行組中之第二基板握 持面所握持之基板之第一主面的影像； 支撑元件，用U支撐第一轉裝置及第二取像裝 置；及 ㈣㈣部’用以使該支禮^件向平行於由配置成 317040 49 1275331

5-才目平* ^于夕楚· ^ 乐一基板握持面及第二基板握持面所組成 之平行對的方向移動。 士申$專利乾圍第1項的基板檢查裝置，其中 Ί亥第_ 士入士 人 ⑦查台有四個向繞第一旋轉軸之四個方向 而设的第一基板握持面；及 上彳双查〇有四個向繞第二旋轉軸之四個方向而 設的第二基板握持面。 士申明專利乾圍第4項的基板檢查裝置，其中 肩第一旋轉軸及第二旋轉軸是水平地互相平行配 置； 忒旋轉驅動部旋轉第一檢查台及第二檢查台，如此 四個弟一基板握持面之至少一個和四個第二基板握持 面之至少一個是互相相對； ^ 。玄取像部同時擷取由被分別定位在第一檢查台及 弟二檢查台頂側而互相平行之第一基板握持面及第二 基板握持面所組成之平行組所握持之基板的主面 像； . 該基板供應部供應基板到被配置在第一檢查 側之第一基板握持面； 一 該基板排放部排放由配置在第二檢查台底側之第 二基板握持面所握持之基板；及 基板從第一基板握持面被傳送到相對的第二基板 握持面。 6·如申請專利範圍第5項的基板檢查裝置，更包含用以 3170.40 50 1275331 控制四個第—基板握持面或四個第二基板握持面的控 制部，以便握持及釋放基板，其中 〜該第一檢查台包含用以移動四個第一基板握持面 的第一基板握持面驅動部，以改變它們與第一旋轉軸 距離； ^第二檢查台包含用以移動四個第二基板握持面的 ，二基板握持面驅動部，以改變它們與第二旋轉軸距 離； 第一基板握持面驅動部及第二基板握持面驅動部 使由第-基板握持面及第二基板握持面相對而組成之 相對組（0卿s i ng set )分別自第一旋轉轴及第二旋轉 軸移動離開，如此，使相對組之第—基板握持面所J 持之基板的第二主面與在相對組之第二基板 接觸，及 不 控制部控制由第一基板握持面及第二基板握持面 相對而成之相對組，如此使該相對組ϋ板 面所握持之基板從該第—基板握持面釋放，而傳遞至 並由相對組之第二基板握持面所握持。 如申請專利範圍第5項的基板檢查裝置，i包含被固 定在取像部之取像區域的接觸部分，其中 ―該第-檢查台包含用以移動四個第—基板握持面 的弟-基板握持面驅動部，以改變它們與第 距離； T种 δ亥弟一檢查台包含用以移動四個第二基板握持面 3]7040 5] 1275331 的第二基板握持面驅動部，以改變它們與第二旋轉轴 距離； 該第一基板握持面驅動部及第二基板握持面驅動 ^使由第一基板握持面及第二基板握持面互相平行而 成之平行組分別自第一旋轉軸及第二旋轉轴移動離 開’如此，使平行配置之第一基板握持面及第二基板 握持面定位於使它們各自的接觸部分相接觸之位置。 • 如申6青專利範圍第5項的基板檢查裝置，其中 基板排放部包含·· 多個基板盒，用以接收被排放的基板；及 旋轉台，具有繞一預定垂直軸旋轉之旋轉平面；該 旋轉平面裝設有多個基板盒；及 基板排放部旋轉旋轉台俾使該多個基板盒之一個 依照配置在第二檢查台底侧之第二基板握持面所握持 的基板而定位在設置於該第二檢查台底侧之第二基板 _ 握持面的直接下方。 9· 一種基板檢查方法，係擷取如影像等對象物，以檢查 基板的相反面之方法，這方法包含： 基板供應步驟，用以供應基板到包含繞第_旋轉轴 而設之多個第一基板握持面的第一檢查台，使該多個 第一基板握持面之至少一個與基板的第一主面 並握持基板； 取像步驟5用以同時擷取由平行配置之第一美板扩 持面及第二基板握持面而成的平行組所握持之基板々 317040 52 1275331 主面影像； 放步驟，用以自緊鄰於第—檢查台而設置之 似°排放至少多個第二基板握持面之-所握持 土板’且包含繞第二旋轉軸而設的多個第二基板握 麵面；及 ^翻轉步驟，使第一檢查台繞第一旋轉轴旋轉，並使 弟一才双查台繞第二旋轉軸旋轉，俾改變多個第一基板 握持面與多個第二基板握持面的方向。 •士申4利fe II第9項的基板檢查方法，更包含基板 傳运步U以故第一基板握持面傳送基板到與第一 土板握持面相對的第二基板握持面，以便使第二基板 握持面與基板的第二主面相接觸，且因此使第二基板 握持面握住基板，其中基板供應步驟、取像步驟、基 板排放步驟及基板傳送步驟係同時並行。 53 317040