1260279 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關使功能液滴吐出頭相對地移動，同時， 在工件上吐出功能液進行描繪，而且對功能液滴吐出頭進 行維修之液滴吐出裝置，光電裝置之製造方法，光電裝置 及電子機器。 【先前技術】 以前的液滴吐出裝置方面，習知爲在有機E L裝置或 彩色濾光片之製造所採用的噴墨方式之裝置（例如，參照 專利文獻1 )。該液滴吐出裝置，係具備於石定盤上具有 工件之搭載基板之X軸台，與搭載功能液滴吐出頭之γ 軸台之描繪裝置，而且具備被倂設於該描繪裝置，於機台 上對功能液滴吐出頭進行功能液吸引或擦拭之維修裝置。 於Y軸台，垂設可自由移動之主載件，於該主載件（載 件）’支撐著由副載件（頭板）與於此搭載之1 2個功能 液滴吐出頭所形成之頭單元。 接著’利用X軸台使基板於主掃描方向（於X軸方 向）來回移動，與此同步地從各功能液滴吐出頭吐出功能 液，而且，每來回移動就藉Y軸台使頭單元（功能液滴 吐出頭）向副掃描方向（Y軸方向）移動以於基板之全部 區域進行描繪。 另一方面，於進行功能液滴吐出頭之維修之場合，利 用 Y軸台將頭單元送入維修裝置，於該狀態下，對頭單 -4 - (2) (2)1260279 元以吸引單元進行之功能液之吸引處理，與以擦拭單元進 行之拂拭處理。此外，於交換裝拆自如地被支撐在主載件 之頭單元之場合，使頭單元事先移動到與維修裝置相反側 之起始（h 〇 m e )位置，而進行交換作業。 專利文獻1 日本專利公報特開2003-266673號 【發明內容】 發明所欲解決之課題 此般之以前的液滴吐出裝置中，因爲必須對基板（工 件）使頭單元向X軸方向及Y軸方向移動同時進行吐出 功能液，所以於大型工件之場合在其處理（生產節拍時間 :t a c t t i m e )上有費時之問題。於相關之場合，考慮以所 謂之線列印之方式，採用藉由全功能液滴吐出頭以網羅1 描繪線之頭單元。 但是，如此作法，於一部份之功能液滴吐出頭產生故 障之場合會產生必須交換頭單元全體，想必造成交換作業 繁雜。此外，對應於頭單元，而產生設置吸引單元及擦拭 單元之必要，想必會形成龐大之維修裝置。 本發明之課題係提供一種能在不損及交換性以及維修 性下，構成大型之頭單元之液滴吐出裝置、光電裝置之製 造方法、光電裝置及電子機器。 (3) (3)1260279 用以解決課題之手段 本發明之液滴吐出裝置，係具備：對著面臨描繪區域 之工件，使導入功能液之功能液滴吐出頭相對地移動並於 工件上吐出功能液進行描繪之描繪手段，以及 被倂設於描繪手段，對著面臨維修區域（ maintenance area )之功能液滴吐出頭，進行維修之維修 手段之液滴吐出裝置，其特徵爲： 描繪手段係具備：搭載工件同時使工件向主掃描方向 之X軸方向移動之X軸台， 於載件搭載功能液滴吐出頭之複數個載件單元（ carriage unit ) ，以及 使複數個載件單元移動於描繪區域與維修區域之間之 Y軸台； Y軸台（table )，係構成複數個載件單元能個別移動 〇 根據該構成，因爲利用於載件搭載功能液滴吐出頭之 複數個載件單元，以構成描繪線，而且利用Y軸台以構 成複數個載件單元能個別移動，所以能夠以並排複數個載 件單元構成寬幅（長線）之描繪線，而且能使載件單元個 別地面臨維修手段加以維修處理。此外，利用 Y軸台， 能夠使載件單元於交換區域個別地移動，載件單元每個都 進行交換功能液滴吐出頭。 從而，能在不損及交換性以及維修性下，構成形成廣 幅（長線）之描繪線之大型頭單元。 -6- (4) 1260279 該場合’利用被搭載於複數個載件單元之複數個功能 液滴吐出頭之全部吐出噴嘴，構成對應於描繪區域之描繪 寬幅之1描繪線較佳。 根據該構成，能不須形成副掃描（向 Y軸方向之間 歇移動），而對1工件進行描繪，能夠縮短極多的對工件 之描繪處理上之處理時間（tact time )。 這些場合’ Y軸台之驅動源以線性馬達（1 i n e a r m o t o r )構成較佳。 根據該構成，能以單純之構造且高精度地進行對於複 數個載件單元之個別移動。 這些場合，各載件單元具有：被支撐在Y軸台之滑 動件（slider )之載件，與裝拆自如地被保持在載件，由 功能液滴吐出頭及搭載此之頭板所形成之頭單元（head u n i t );維修區域係兼作爲對載件裝拆頭單元之交換區域 較佳。 根據該構成，能夠利用維修區域，容易地進行對載件 裝拆頭單元、亦即介由頭單元，進行交換功能液滴吐出頭 。這對於從功能液之性質使用交換頻率高之功能液滴吐出 頭之場合特別有用。 該場合，在各頭板係搭載複數個功能液滴吐出頭；複 數個功能液滴吐出頭，係以其全部吐出噴嘴構成成爲描繪 線一部分之部分描繪線之方式以指定之配置圖案被配置； 配置圖案，係由分別於X軸方向及Y軸方向上偏離並以 階梯狀地且單一列地配置之液滴吐出頭群所構成較佳。 -7- (5) 1260279 同樣地，在各頭板係搭載複數個功能液滴吐出頭；複 數個功能液滴吐出頭，係以其全部吐出噴嘴構成成爲描繪 線一部分之部分描繪線之方式以指定之配置圖案被配置； 配置圖案，係由分別於X軸方向及γ軸方向上偏離並以 階梯狀地且於Υ軸方向複數列地配置之液滴吐出頭群所 構成較佳。 根據這些構成’能採用標準的吐出噴嘴數多數個之功 能液滴吐出頭，構成描繪線，而且，能夠以僅廢棄功能不 全之功能液滴吐出頭再生頭單元，而無損及功能液滴吐出 頭之生產性。此外，藉由採用後者之配置圖案，能在不改 變於複數個載件單元之全體之Υ軸方向長度下，能狹窄 化X軸方向之寬幅，能夠緊密地構成裝置全體。 這些場合，各載件單元係分別搭載對前述功能液滴吐 出頭供給功能液之功能液槽（tank )較佳。 根據該構成，能縮短極多功能液槽與功能液滴吐出頭 之間之距離，而且，能夠非常單純化功能液槽及功能液滴 吐出頭間之功能液管之管路配置◦藉此，能夠安定化功能 液滴吐出頭吐出功能液。又，於功能液槽與功能液滴吐出 頭之間介設壓力調整閥較佳。以如此作法，就能根據功能 液槽及功能液滴吐出頭間之水頭壓之變動，消除功能液滴 吐出頭之不安定的功能液吐出。 這些場合，維修手段具有：從功能液滴吐出頭之各吐 出噴嘴吸引功能液之吸引單元，與利用擦拭片（wiping sheet )以拂拭吸引後之功能液滴吐出頭之噴嘴面之擦拭 -8- (6) 1260279 單元(wiping unit)較佳。 根據該構成，對於功能液滴吐出頭，能以吸引單元所 進行之吸引處理、與擦拭單元所進行之拂拭處理，將於各 載件單元之功能液滴吐出頭之吐出功能維持在良好狀態。 又，將吸引單元及擦拭單元做成對應於1個載件單元之構 造，如形成以載件單元單位進行維修處理（吸引處理及拂 拭處理）之方式，即使複數個載件單元之全體大型化，也 沒有必要大型化維修手段。 本發明之光電裝置之製造方法，其特徵係 採用上述之液滴吐出裝置，在工件上利用功能液滴形 成成膜部。 本發明之光電裝置，其特徵係 採用上述之液滴吐出裝置，在工件上利用功能液滴形 成成膜部。 根據這些構成，因爲製造採用極爲高精度且短時間地 處理對工件之描繪之液滴吐出裝置，所以能製造信賴性高 之光電裝置。又，作爲光電裝置（平面顯示器：fUt panel display)，考慮到彩色濾光器、液晶顯示裝置、有 機EL裝置、PDP裝置、電子放出裝置等。又，電子放出 裝置，係包含所謂之FED (Field Emission Display)或 SED ( Surface-conduction Electron- Emitter Display)裝置 之槪念。再者，作爲光電裝置，考慮包含金屬配線形成、 透鏡形成、透鏡形成及光擴散體形成等之裝置。 本發明之電子機器，其特徵係 -9- (7) (7)1260279 利用上述之光電裝置之製造方法所製造之光電裝置或 者搭載上述之光電裝置。 該場合，作爲電子機器，所謂之搭載平面顯示器之行 動電話、電腦，還有各種電器製品都屬於電子機器。 【實施方式】 以下，參照附圖，說明適用本發明之描繪系統。本實 施型態之描繪系統，係形成被組裝入液晶顯示裝置等所謂 平面顯示器的製造生產線，而形成由R (紅）、G (綠） 、B (藍）等3色所構成的彩色濾光片之著色層（詳細後 述）者。 第1圖係描繪系統之平面模式圖。如同圖所示，描繪 系統1係由3組描繪單元2所構成。各描繪單元2分別對 應於R · G · Β之各色，藉由將工件w (基板）依序導入 各描繪單元2，可以在工件W上1色1色地形成著色層。 如第1圖所示，各描繪單元2，具備供形成著色層之 液滴吐出裝置3、被並設於液滴吐出裝置3而搬進搬出工 件W之工件搬出搬入裝置4、被接續於各裝置而控制描繪 單元2全體的控制裝置5。此外，如同圖所示，液滴吐出 裝置3，被收容於容室（chamber )裝置6。容室裝置6, 係所謂之熱控容室（t h e r m a 1 c h a m b e r )，以在一定溫度條 件下對工件W進行液滴吐出（描繪）的方式，在溫度管 理下收容液滴吐出裝置3全體。容室裝置6，具備收容液 滴吐出裝置3全體的盒狀容室本體1 1，控制之控制盤（ -10- (8) (8)1260279 省略圖示），以使容室本體1 1內的溫度成爲一定的方式 進行溫度管理之空氣調和機器1 2。雖在圖示中省略，但 在谷室本體1 1的右側面前方，被形成有成爲工件搬進· 搬出開口的開閉門，在將工件W導入液滴吐出裝置3的 場合等’可以透過開閉門而操作被收容於容室本體i〗內 的液滴吐出裝置3。 液滴吐出裝置3，具備功能液滴吐出頭72 (省略圖示 )，把將對應於R · G · B之任一色的功能材料（濾光片 材料）溶入功能液溶媒之功能液導入功能液滴吐出頭7 2 (省略圖示），於工件W上藉由功能液滴進行描繪。工 件搬進搬出裝置4，具備移載工件W之機械手臂1 5，透 過機械手臂1 5將未處理的工件W搬入至描繪單元2內， 將此導入液滴吐出裝置3，同時將處理完成（已經描繪） 的工件W由液滴吐出裝置3回收而將此搬出描繪單元2 外。機械手臂1 5，可以從上述開閉門操作容室本體n內 的液滴吐出裝置3，對液滴吐出裝置3之工件W的導入與 回收，係將機械手臂1 5由開閉門插入容室本體1 1內而進 行的。控制裝置5，由個人電腦等構成，裝置本體以外， 還具備顯示器、CD光碟機或DVD光碟機等各種光碟機。 又，圖中所示之符號1 8，係供設置乾燥裝置之設置 空間，因應於狀況不同，可以在描繪單元2內設置使對工 件W吐出的功能液之功能液溶媒被乾燥（氣化）之用的 乾燥裝置。 其次，說明成爲本發明的主要部之液滴吐出裝置3。 - 11 - (9) 1260279 如第2〜5圖所示，液滴吐出裝置3具備：設置於 之大型共通架台21、及在共通架台21上展開配設 本體22。如同圖所示，在共通架台21上，被配設 3 1及角鋼架台3 2，同時立設有由2組4個腳架3心 構成之一對支撐腳架3 3。 如第2〜5圖所示，裝置本體2 2，係具備：具 液滴吐出頭72之頭單元41，具有直接設置於固5 上而設定工件W之設定台而透過設定台101 W移動（主掃描）於X軸方向的工件移動手段4 2 台），被配設於一對支撐腳架3 3上而使頭單元4 1 Y軸方向（副掃描方向）之頭（head )移動手段43 台），及在設定台1 〇1配置其主要部而對設定台1 ( 工件W時將工件W提高同時除去工件W所帶靜電 卸除手段4 4，對頭單元4 1 (功能液滴吐出頭7 2 ) 能液的功能液供給手段4 5，及在角鋼架台3 2上配 要部而維修頭單元4 1 (功能液滴吐出頭7 2 )之維 4 6 〇 此外’雖然省略圖示，裝置本體22具備對各 給液體的同時也將不要的液體（功能液以及洗淨液 的液體供給回收手段，或供給驅動•控制各手段之 縮空氣的空氣供給手段，供（吸附）設定工件w 空氣吸引手段等。被導入至此液滴吐出裝置3的工/ 係橫置於設定台ιοί而被設定之縱180〇111】11>(橫i 之透明基板（玻璃基板），預先做入要被形成著色 地板上 的裝置 固定盤 i · b所 有功能 !盤3 1 使工件 (X軸 移動於 (Y軸 π卸下 之工件 供給功 置其主 修手段 手段供 )回收 用的壓 之用的 件W， 5 0 0mm 層之畫 -12- (10) (10)1260279 素區域（後述）。 在此液滴吐出裝置3，藉由同步於工件移動手段42 的驅動，而驅動功能液滴吐出頭7 2，使功能液吐出至工 件W的畫素區域內，進行對工件W之描繪處理（液滴吐 出處理）。亦即，藉由頭單元41與工件移動手段42，構 成描繪手段。另一方面，在工件交換等非描繪處理時，驅 動頭移動手段43，（透過後述之載件carriage 75 )使頭 單元4 1臨於維修手段46，藉由維修手段46進行功能液 滴吐出頭7 2的維修處理。如上所述，功能液滴吐出裝置 3，被收容於容室裝置6內，包含一連串的描繪處理或維 修處理的幾乎所有處理，都在容室裝置6內進行。 又，如第3圖所示，根據工件移動手段42之工件W 的移動軌跡，與根據頭移動手段4 3之頭單元4 1的移動軌 跡相交成爲進行描繪處理的描繪區域5 1。此外，根據頭 移動手段4 3之頭單元4 1的移動軌跡上之臨接維修手段 4 6的區域成爲進行維修處理的維修區域5 2。又，維修區 域5 2，亦兼作爲交換頭單元4 1之用的頭交換區域。進而 ，工件移動手段42之圖示前方側的區域，成爲對液滴吐 出裝置3進行工件W搬進搬出（導入導出）之工件搬出 搬入區域5 3 ’臨於此工件搬出搬入區域5 3，被設置上述 之工件搬出搬入裝置4。 其次，說明液滴吐出裝置3之各構成要素。如第2〜 5圖所示，固定盤3 1被形成爲約略長方體，延伸於χ軸 方向。此外，固定盤31具有由其中央部往γ軸方向之左 -13- (11) (11)1260279 右伸出之張出部3 1 a，被構成爲平面俯視像變形的「十」 字形。角鋼架台3 2係以角鋼材組合構成爲方形，於Y軸 方向與固定盤3 1 (之張出部3 1 a )並排配設。 如這些圖所示，一對支撐腳架3 3以夾著角鋼架台3 2 的方式並排配設於X軸方向（前後）。各支撐腳架3 3， 跨過固定盤3 1以及角鋼架台3 2的配設範圍延伸於Y軸 方向，具有整齊配列於Y軸方向之2組4根支柱6 1，與 架設跨於4根支柱6 1間的柱狀支撐構件6 2。亦即，一對 支撐腳架33具有4組8根支柱，與2個柱狀支撐構件62 。各支撐腳架33之2組支柱61其長度各爲不同。接著， 以使2組4根支柱61成爲相同高度的方式，使較短之一 組支柱立設於固定盤3 1的張出部3 1 a，同時使較長之一 組支柱立設於共通架台2 1上。 柱狀支撐構件62由具有同一端面的2個區塊（block )6 3 a · b所構成。兩區塊6 3 a · b係以石材構成。區塊 6 3 a係立設於固定盤3 1之2根支柱6 1 a間而以與Y軸方 向平行的方式被架設。同樣地，區塊6 3 b係使立設於共通 架台21之2根支柱61b與Y軸方向成爲平行的方式被架 設。亦即，藉由2根支柱61a以及區塊63a構成腳架34a ，藉由2根支柱61b以及區塊63b構成腳架34b。此二區 塊6 3 a · b對Y軸方向係以相互抵合的狀態連結端面，同 時固定於支柱6 1 a · b上。接著，藉由連續於Y方向並列 設置之區塊6 3 a · b構成柱狀支撐構件6 2。又，各支柱6 1 與柱狀支撐構件6 2之間中介設有高度調整板6 6而以調整 -14- (12) 1260279 柱狀支撐構件62 (的上端面）的高度的方式構成亦可（ 參照第5圖）。
其次說明裝置本體22之各手段。如圖6所示，頭單 元4 1係由被整齊排列配置於Y軸方向的複數（7個）分 割頭單元7 1所構成。如第5、6、8圖所示，各分割頭單 元7 1具備1 2個功能液滴吐出頭72、支撐1 2個功能液滴 吐出頭72之頭板73，及將各功能液滴吐出頭72固定於 頭板7 3之用的1 2個頭保持構件7 4，及被支撐於上述頭 移動手段4 3的同時也支撐頭板7 3的載件7 5。 亦即，藉由載件75及支撐此之頭板73構成載件單元 。載件單元，被垂直設於頭移動手段43的橋架板141 ( 後述），7個載件單元藉由頭移動手段43被構成爲可對 Y軸方向（一方向）個別移動。
如第7圖所示，功能液滴吐出頭72，係所謂2連結 構’具備具有2連接續針8 2的功能液導入部8 1、連接於 功能液導入部8 1的2連頭基板8 3，及連接於功能液導入 部8 1的下方而被形成內部充滿功能液的頭內流路之頭本 體8 4。接續針8 2被接續於圖外的功能液槽2 0 1 (後述） ’對功能液滴吐出頭7 2之頭內流路供給功能液。頭本體 84係以空腔（cavity ) 85 ( piezo壓電元件）、具有開口 吐出噴嘴8 8之噴嘴面8 7之噴嘴板8 6所構成。於噴嘴面 8 7 ’多數（1 8 0個）吐出噴嘴8 8所構成的噴嘴列被形成 爲2列。吐出驅動功能丨仪滴吐出頭7 2時，錯由空fe 8 5的 幫浦作用，由吐出噴嘴8 8吐出功能液滴。 -15- (13) (13)1260279 如第6、8圖所示，頭板7 3係以由不銹鋼等構成平面 看起來約略平行四邊形的厚板所構成。於頭板7 3，定位 1 2個功能液滴吐出頭72的位置，中介著頭保持構件74， 被形成有由背面側固定各功能液滴吐出頭7 2之用的1 2個 安裝開□(省略圖示）。各頭板7 3上所形成的1 2個安裝 開口，以分別於X軸方向以及Y軸方向上偏離的狀態下 被配置爲1列。藉此，各功能液滴吐出頭7 2以使噴嘴列 與Y軸方向平行的方式被固定，同時1 2個功能液滴吐出 頭7 2構成1列之液滴吐出頭群，對頭板7 3其噴嘴列之一 部分（於Y軸方向）重複的方式被配置爲階梯狀。亦即 ’藉由各分割頭單元7 1所搭載之液滴吐出頭群（1 2個功 能液滴吐出頭7 2 )之噴嘴列（吐出噴嘴8 8 )構成1條分 割插繪線（部分描繪線）。 如第5圖所示，載件7 5具有裝拆自如地支撐頭板7 3 之載件本體9 1，及被安裝於載件本體9 1的上面而對（頭 板73之）0方向進行位置補正之用的0回轉機構92，及 介由Θ回轉機構9 2吊設載件本體9 1同時被固定·支撐於 頭移動手段43的外觀爲「I」形的吊設構件93。 雖省略圖示，在載件本體9 1，設有供定位頭板7 3的 定位機構。藉此，在頭單元4 1，7個分割頭單元7 1被整 齊排列配置於Y軸方向（參照第6圖）。亦即，於Y軸 方向，各分割頭7 1的各功能液滴吐出頭72，以與對應的 位置關係（同一配置位置）之其他6個功能液滴吐出頭 7 2整齊排列的方式被配置◦換言之，介由頭板7 3被定位 -16- (14) (14)1260279 ，由分別對應的位置關係所在之7個功能液滴吐出頭72 所構成之功能液滴吐出頭列，並列於X軸方向1 2列而在 Y軸方向上爲位置偏離開的狀態被配置。 接著，使整齊配置7個分割頭單元7 1時，各分割頭 單元7 1之7條分割描繪線連續於γ軸方向，應可構成對 應於工件W的描繪寬幅之〗描繪線，各頭板73在被定位 的狀態下被支撐。亦即，分割描繪線，將1條描繪線分割 爲7部分而配給各分割頭單元7 1。當整齊配列7個分割 頭單元7 1時，頭板73整齊排列，可形成由7條分割描繪 線（1 2 X 7個功能液滴吐出頭7 2之噴嘴列）所構成的1描 繪線。1描繪線，係以可以對應於工件W的縱置·橫置的 方式對應於工件W的長邊的長度而被設定，爲1 800mm。 又，頭單元41 (全分割頭單元71 )臨於描繪區域5 1，被 形成1描繪線的位置，成爲頭單元41的描繪起始位置（ home )，在此位置進行工件W的描繪處理。 又，只要是被搭載於頭板73的各功能液滴吐出頭72 的噴嘴列（吐出噴嘴8 8 )於Y軸方向連續，而可以形成 分割描繪線者，頭板7 3之功能液滴吐出頭7 2之配置方法 可以任意設定。在本實施型態，以噴嘴列之一部分於Υ 軸方向上重複的方式，將1 2個功能液滴吐出頭7 2配列於 頭板7 3，但不使噴嘴列重複，而介由1 2個功能液滴吐出 頭7 2之全吐出噴嘴8 8構成1描繪線的方式配置1 2個功 能液滴吐出頭7 2亦可。此外，如第9圖所示，1 2個功能 液滴吐出頭7 2二分配置（爲複數列）亦可。如此’將複 -17- (15) (15)1260279 數功能液滴吐出頭72分割爲複數列而配置的話，可以使 X軸方向之頭板7 3的寬幅變窄。同樣地，如果可形成1 條描繪線，分割頭單元7 1的配置亦可任意設定。此外， 搭載於各分割頭7 1的功能液滴吐出頭7 2的個數，或分割 頭單元7 1數目等也可以因應實際情形而任意設定。 如第2〜5圖所示’工件移動手段4 2，具備：設定工 件W的設定台1 〇 1、使可在X軸方向上自由滑動地支撐 設定台1 0 1之X軸氣動滑動件（air slider ) 1 02、延伸於 X軸方向而介由設定台1 01使工件W移動於X軸方向之 左右一對X軸線性馬達1 〇 3、並排設置於X軸線性馬達 103而導引X軸氣動滑動件102的移動之一對X軸導軌（ 省略圖示），及供掌握設定台1〇1的位置之用的X軸線 性標尺104 (省略圖示）。 如第4、5圖所示，設定台1 01係在被支撐於X軸氣 動滑動件i 02之Θ台1 1 1層積吸附設定工件W之吸附台 1 1 2。Θ台1 1 1具有固定於X軸氣動滑動件1 02之Θ固定 部1 2 1 (台座），支撐吸附台1 1 2同時可轉動（於θ軸方 向）地被支撐於Θ固定部12 1之0回轉部12 2 (回轉台） 。藉由透過吸附台1 1 2使工件W轉動於β軸方向，微調 整（補正）工件W的0位置。又，於0固定部1 21被支 撐後述之維修手段4 6之沖洗單元2 3 1。 吸附台1 1 2，具有吸附設定工件W之台（t a b 1 e )本 體1 3 1、支撐台本體1 3 1之3組台支撐構件1 3 2、被固定 於β台111而透過台支撐構件132支撐台本體131之支撐 -18- (16) (16)1260279 座1 3 3。台本體131，係以厚板狀的石盤所構成’被形成 平面看來約略正方形。台本體1 3 1之一邊，配合工件W 長邊的長度被形成爲1 8 0 0 m m，設定爲可以縱置或者橫置 工件W的方向。如第2、3圖所示，於台本體1 3 1的表面 ，被形成複數供吸附工件W之用的吸引溝1 3 4。接著，於 各吸引溝134，被形成連接於前述空氣吸引手段之吸引孔 (省略圖示），透過吸引溝1 3 4使可以對工件W產生充 分吸引力作用。 3組台支撐構件1 3 2，以使0台1 1 1的回轉軸（0軸 )、台本體1 3 1的重心成爲一致的方式，三點支撐台本體 1 3 1。詳細後述，但在吸附台1 1 2，被組入工件卸除手段 44之提高（lift-up )機構161以及預對準機構171。接著 ，於支撐座1 3 3，被配設提高機構1 6 1以及預對準機構 1 7 1之主要部，同時於台本體1 3 1，整齊排列形成有供使 提高機構161之複數提高栓162貫通之用的貫通孔135。 X軸線性馬達1 0 3、一對X軸導軌以及X軸線性標尺 1 〇4 ’被直接載置於前述固定盤3 1上。使一對X軸線性 馬達1 03 (同步）驅動時，由一對X軸導軌導引同時X軸 氣動滑動件1 0 2移動於X軸方向，設定於設定台1 0 1的 工件W移動於X軸方向。此外，於一對X軸導軌之間， 倂設有X軸線性標尺1 0 4，根據此X軸線性標尺1 0 4，計 昇功能彳仪滴吐出頭 7 2之吐出時間（t i m i n g )。又，一對 X軸線性馬達1 0 3、一對X軸導軌、以及X軸線性標尺 1 〇4，係被收容於一對X軸收容盒1 05內。 -19- (17) (17)1260279 如第2〜5圖所示，頭移動手段4 3跨架於描繪區域 5 1與維修區域5 2，同時使頭單元4 1在描繪區域5 1與維 修區域5 2間移動。頭移動手段4 3具備：一個一個支撐上 述7個分割頭單元7 1之7個橋架板1 4 1、7個橋架板1 4 1 整齊排列於Y軸方向而將此雙持支撐的7組Y軸滑動件 1 4 2、延伸於γ軸方向而透過7組γ軸滑動件丨4 2使7個 橋架板1 4 1移動於γ軸方向之一對γ軸線性馬達丨4 3、延 伸於Y軸方向而導引7個橋架板1 4 1的移動之一對Y軸 導軌1 44 ( LM導引）、以及透過載件75檢測頭單元41 ( 功能液滴吐出頭72 )之移動位置的軸線性標尺1 46 (省略 圖示）。 如第5圖所示，於橋架板1 4 1被形成決定載件7 5的 位置之插通開□(省略圖示），橋架板1 4 1使載件7 5 ( 吊設構件9 3 )插通於插通開口，將此固定。此外，各橋 架板1 4 1上，搭載驅動對應的分割頭單元7 1的功能液滴 吐出頭7 2之頭用電裝單元1 4 5 (參照第2、3圖）。7個 頭用電裝單元1 4 5以相鄰的橋架板之頭用電裝單元1 4 5不 會相互干涉的方式配置爲錯開狀，可以有效率地配置橋架 板14卜 一對Y軸線性馬達1 4 3以及一對Y軸導軌1 4 4，一個 一個直接配置於上述一對支撐腳架3 3之柱狀支撐構件6 2 。此外，Y軸線性標尺1 46，被直接配設於一對柱狀支撐 構件6 2之一方。在本實施型態的頭移動手段4 3，驅動一 對Y軸線性馬達1 4 3，同時使7組Y軸滑動件1 4 2移動於 -20- (18) 1260279 Y軸方向，藉以使7個分割頭單元7 1所構成的頭單元4 1 作爲一體（在形成1描繪線的狀態）而可移動於Υ軸方 向。另一方面’藉由選擇驅動一對Υ軸線性馬達1 4 3，使 7組Υ軸滑動件142分別獨立移動，可使各分割頭單元 7 1個別往Υ軸方向移動。 又，如第5圖所示’於各柱狀支撐構件6 2，有一對 托架1 5 1以朝外方式固定在其側面，於一對托架1 5 1，有 Υ軸收容盒152被支撐。亦即，與一對柱狀支撐構件62 並列，被配設一對Υ軸收容盒1 52。而在一對Υ軸收容盒 1 5 2對應於可獨立移動的7個分割頭單元7 1，使接續於各 分割頭單元7 1 (頭用電裝單元1 4 5 )的管線或纜線類，以 可追從於各分割頭單元7 1的移動的方式收容之7個Υ軸 纜線擔持體153 (登錄商標爲Cable Pair )被二分收容。 在此場合，最好是使對應於二分配置之7個頭用電裝單元 1 4 5，而將7個Y軸纜線擔持體1 5 3二分（爲4個與3個 )° 此處，說明一連串的描繪處理。先於描繪處理，首先 驅動頭移動手段4 3 ’使頭單元4 1移動至描繪區域5 1 (描 繪起始位置）◦一方面，使用工件搬出搬入裝置4，對位 於工件搬出搬入區域5 3之設定台1 〇 1導入未處理之工件 W。在設定台1 0 1上設定工件W之後’驅動工件移動手段 4 2，使工件 W在主掃描（X軸）方向上往程移動。與此 工件W之往程移動同步，選擇性驅動功能液滴吐出頭7 2 ，對工件W進行功能液的選擇性吐出動作（描繪處理） -21 - (19) 1260279 如上所述’頭單元4 1的i描繪線，係配合於工件w 的長邊的長度而形成的，不管工件w是縱置或橫置，藉 由工件W之i往程移動，可以結束對丨枚工件w之描繪 處理。工件W之一往程移動後，接著驅動工件移動手段 42，使工件回程移動，使描繪處理完成的工件w移動至 工件搬出搬入區域5 3。接著，藉由工件搬出搬入裝置4， 由設定台101回收完成處理之工件w。 在本實施型態，係使對頭單元4 1直接移動工件的構 成’但亦可爲封固疋之工件W移動頭單元4 1之構成。此 外，不僅在工件W的往程移動時，在回程移動時也進行 功能液滴吐出頭72的吐出驅動，以1往復移動完成描繪 處理的構成亦可。進而，使用1描繪線比工件W之一邊 (描繪寬幅）還短而構成之頭單元4 1進行描繪處理亦爲 可能。在此場合，只要藉由交互進行使工件w移動同時 進行1描繪線之描繪的主掃描，與在主掃描後使頭單元 4 1在Y軸方向上移動1描繪線份之副掃描，進行描繪處 理即可。 又’上述以外，工件移動手段42之X軸線性馬達 1 0 3、X軸導軌以及X軸線性標尺丨〇 4都被直接支撐於固 定盤3 1上。此外，頭移動手段4 3之Y軸線性馬達1 4 3、 Y軸導軌1 4 4、以及Y軸線性標尺1 4 6，被直接支撐於以 石材構成的柱狀支撐構件62。如此，使頭移動手段43以 及工件移動手段4 2之主要部，設置於容易做出平面度以 -22- (20) (20)1260279 及熱膨脹率小的石材上，可以高精度移動工件 W以及頭 單元4 1，可高精度地在工件W上進行描繪處理。 其次，說明工件卸除手段44。工件卸除手段44將搬 入工件搬出搬入區域5 3之未處理的工件W設定（導入） 於設定台1 0 1，同時由設定台1 〇 1回收處理完畢的工件W ，具備提高機構1 6 1、預對準機構1 7 1、除電手段1 8 1。 如第4、5圖所示，提高機構1 6 1被整齊排列配置於 X軸方向以及Y軸方向，具有由被形成於吸附台1 1 2 (台 本體1 3 1 )之貫通孔1 3 5出沒之複數提高栓1 62。接著， 將未處理的工件W載置於設定台1 0 1時，由吸附台1 1 2 ( 複數之）提高栓162先行突出，由前述工件搬出搬入裝置 4之機械手臂1 5受取工件W之後，使提高栓1 62沒入吸 附台1 1 2。另一方面，由吸附台1 1 2回收工件W時，使沒 入於吸附台1 1 2的提高栓1 62上升而使工件W由吸附台 1 1 2舉起（提高、離開）。機械手臂1 5由下側臨接被提 高的工件W，工件W由吸附台1 1 2回收。 如第2〜5圖所示，預對準機構1 7 1係藉由提高機構 1 6 1使被載置於吸附台1 1 2的未處理工件 W，對台本體 1 3 1定位（預對準）之用者，具備藉由以一對X夾持構件 (省略圖示）夾入工件W的前後端，進行工件W的前後 方向（X軸方向）的定位之X軸定位單元172、藉由以2 組Y夾持構件（省略圖示）夾入工件W的左右端，進行 工件W的左右方向（Y軸方向）的定位之Y軸定位單元 174。 -23- (21) 1260279 除電手段1 8 1，係藉由照射軟χ線除去在工件w的 內面剝離帶電之靜電，例如以離子化機構成。除電手段 1 8 1臨接配置於工件搬出搬入區域5 3，由機械手臂1 5使 移動至提局機構1 6 1之工件W，或臨於從吸附台1丨2提高 (離開）的工件而可以有效率地除去工件W的靜電。 其次，說明功能液供給手段4 5。功能液供給手段4 5 ，係以對應於7個分割頭單元7 1的7個功能液供給單元 1 9 0所構成，各功能液供給單元1 9 0，對對應的分割頭單 元7 1供給功能液（參照第2、3圖）。各功能液供給單元 1 90，具有··有貯留功能液的複數（1 2個）功能液槽20 1 之槽單元1 9 1，連接各功能液槽2 0 1以及各功能液滴吐出 頭7 2之複數（1 2條）功能液供給管〗9 3，中介設於複數 功能液供給管1 9 3的複數（1 2個）壓力調整閥2 1 1之閥 單元1 92。 如第2及3圖所示，槽單元191以夾著上述插通開口 與頭用電裝單元145對峙的方式載置於上述橋架板141上 。被設於槽單元1 9 1的1 2個功能液槽201 (中介1 2條功 能液供給管1 93 )分別被連接到搭載於分割頭單元7 1的 1 2個功能液滴吐出頭72。又，功能液槽2 01係於樹脂製 的卡匣殼20 5內收容將功能液真空包裝之功能液包206的 卡匣形式者，於功能液包貯留有預先脫氣的功能液（參照 第10圖）。 如第6圖所示，閥單元192具有12個壓力調整閥 2 1 1、將1 2個壓力調整閥2 1 1固定於上述頭板（head -24- (22) (22)1260279 p 1 a t e ) 7 3的]2個閥固定構件2 1 2。如第1 〇圖所示，壓力 調整閥21 1具有連接於功能液槽201的1次室221，及連 接於功能液滴吐出頭72的2次室222 ’及連通1次室221 與2次室2 2 2的連通流路2 2 3形成於閥殼體2 2 4內者。於 2次室2 2 2之一面設有面向外部的瓣2 2 5，於連通流路 22 3設有藉由瓣22 5進行開閉作用的閥體226。從功能液 槽2 01被導入1次室2 2 1的功能液，通過2次室2 2 2被供 給至功能液滴吐出頭72，此時隨特定的調整基準壓力（ 此處爲大氣壓）瓣22 5會移動。藉此，設於連通流路223 的閥體226進行開閉動作，以使2次室222之功能液壓力 稍成負壓的方式行2次室222內之壓力調整。 如此將壓力調整閥2 1 1中介設於功能液槽20 1與功能 液滴吐出頭7 2之間，使不會受到功能液槽2 0 1的水頭（ 液面）影響，可以安定供給功能液至功能液滴吐出頭72 。亦即，藉由功能液滴吐出頭72 (噴嘴面87 )之位置， 與壓力調整閥2 1 1 (瓣2 2 5之中心）的位置之高度差，決 定功能液之供給壓，藉由使此高低差成爲特定之値，可以 使功能液之供給壓保持於所要的壓力。又，閥體226之閉 閥時1次室2 2 1與2次室2 2 2被切斷連接，壓力調整閥 2 1 1具有吸收發生在功能液槽側（1次側）產生的脈動等 之減震（d a m p e r )功能。 如第6圖所示，1 2個閥固定構件2 1 2仿在Y軸方向 位置偏移的分割頭單元7 1之功能液低吐出頭7 2，在Υ軸 方向上偏移，而被配設於頭板7 3上。如此，仿功能液滴 -25- (23) 1260279 吐出頭7 2的配置而配置壓力調整閥2 1 1，可以使功能 低吐出頭72以及壓力調整閥2 1 1間之功能液供給管1 的長度成爲一定’對各功能液滴吐出頭7 2可以供給約 相同供給壓之功能液。 又，在本實施型態，雖將槽單元1 9 1配置於橋架 1 4 1上，但搭載於頭板73上之構成亦可。在此場合’ 成上可以縮短功能液槽2 0 1至功能液低吐出頭7 2之功 液供給管1 9 3 (功能液流路）的長度，可有效率地利用 能液。此外，閥單元1 92的設置位置，也不限定於頭 7 3上，可因應實情設置於橋架板1 4 1上。 其次說明維修手段46。維修手段46係以功能液滴 出頭72的維修爲主目的，具備：沖洗單元23 1、吸引 元232、擦拭單元233、單元升降機構235。如第5圖 不，沖洗單元2 3 1被倂設於設定台1 〇 1。吸引單元2 3 2 擦拭單元2 3 3、以及單元升降機構23 5被支撐於角鋼架 3 2 (參照第2〜4、1 1、1 2圖）。 又，維修手段4 6，除了上述個單元以外，最好還 有檢查由功能液吐出頭7 2所吐出的功能液滴飛行狀態 吐出檢查單元、或測定由功能液滴吐出頭72所吐出的 能液滴的重量之重量測定單元等。 沖洗單元2 3 1，係供接受以沖洗動作，亦即以功能 滴吐出頭7 2之預備吐出（捨棄吐出）動作所吐出的功 液4，特別是在進行對工件W吐出功能液之前接受沖 之用者。如第5圖所示，沖洗單元23丨，係以沿著設定 液 93 略 板 構 能 功 板 吐 單 所 \ 台 涉 之 功 液 能 洗 台 -26 - (24) (24)1260279 1 〇 1配設而接受功能液的沖洗盒24 1、被固定於上述0台 1 1 1之Θ固定部121而支撐沖洗盒241之盒支撐構件242 所構成。 沖洗盒24 1，平面上看起來被形成爲長方形的箱狀’ 於其底面敷設有吸收功能液的吸收材（省略圖示）° '冲洗 盒24 1的短邊，係對應於頭單元4 1的X軸方向之長度而 被形成，沖洗盒24 1的長邊，係使與台本體1 3 1之一邊長 度（一描繪線之長度）一致而被形成，亦即’沖洗盒24 1 ，以包含頭單元4 1的方式構成，以可以一次接受由被搭 載於頭單元4 1的全功能液滴吐出頭72所沖洗之功能液的 方式構成。 盒支撐構件242，直角相交於設定台1 〇 1 (吸附台 1 1 2 )之X軸，沿著位於與上述工件搬出搬入區域5 3相 反側（圖示後方）之邊，支撐沖洗盒24 1。亦即，沖洗盒 24 1，沿著吸附台1 1 2之成爲工件往復移動時之先端側的 邊，配設沖洗盒24 1，所以使工件W往程移動於X軸方 向時，頭單元4 1，臨於沖洗單元2 3 1後，臨於工件W。 亦即，僅爲了吐出前淸洗之用途，不需要移動頭單元4 1 ，同時可以在臨於工件 W之前才進行吐出前淸洗。此外 ，對設定台1 〇 1導入/回收工件時，沖洗盒24 1位於工件 搬出搬入區域5 3的後方側，所以不會妨礙工件W的導入 /回收。又，使設定台1 01臨於工件搬出搬入區域5 3的 話，沖洗盒2 4 1以臨於描繪區5 1的方式被支撐，成爲位 於頭單元4 1之正下方的位置（參照第5圖）。 -27- (25) (25)1260279 進而，盒支撐構件242以沖洗盒24 1的上端面與設定 於吸附台Π 2的工件W的表面約略齊面的方式支撐沖洗 盒2 4 1。如此，藉由使沖洗盒2 4 1約略與吸附台1 1 2齊面 地支撐，可以使沖洗盒 2 4 1不干涉頭單元 4 1，同時可以 使在沖洗時所吐出的功能液有效率的接受於沖洗盒。 如上所述，本實施型態，僅在工件 W的往程移動時 使功能液低吐出頭7 2進行吐出驅動之構成，但在工件w 的回程時也使功能液滴吐出頭72進行吐出的場合，以設 一對沖洗盒，沿著設定台1 01之與X軸直角相交的2邊 配設此盒較佳。藉此，伴隨著工件W的往復移動可以在 吐出驅動之前進行沖洗。 又，沖洗動作時，除了前述吐出前沖洗以外，亦有例 如在工件W交換時，暫時停止對工件W的描繪而進行的 定期沖洗，在本實施型態，係使藉由此定期沖洗所吐出的 功能液，由後述之吸引單元2 3 2來接受的方式構成。 吸引單元2 3 2 ’吸引功能液滴吐出頭72，而由功能液 滴吐出頭7 2將功能液強制排出。根據吸引單元2 3 2之功 能液低吐出頭7 2的吸引，除了供解消/防止功能液滴吐 出頭7 2的噴嘴阻塞而進行以外，在新設液滴吐出裝置3 的場合，或進行功能液滴吐出頭 7 2的頭交換的場合等， 爲了對由功能液槽20 1至功能液滴吐出頭72爲止的功能 液流路塡充功能液而進行吸引。 如第2〜4、1 1、12圖所示，吸引單元2 3 2，於γ軸 方向鄰接於擦拭單元2 3 3而被配設，臨於維修區域52。 - 28- (26) 1260279 吸引單元2 3 2，係對應於構成頭單元4 1的7個分割頭單 元7 1而被構成。亦即，吸引單元2 3 2，具有以分割頭單 元7 1單位進行吸引的7個分割吸引單元2 5 1。7個分割吸 引單元25 1，仿構成頭單元4 1的7個分割頭單元7 1的配 置，係以整齊排列於Y軸方向的狀態被配置。 如第1 3、1 4圖所示，7個分割吸引單元2 5 1 ’藉由上 述單元升降機構2 3 5之升降機構3 5 1 (後述）而可個別升 降地被支撐。如這些圖所示’各分割吸引單元2 5 1 ’具有 :對分割頭單元7 1由下側臨接’而具有使密接於功能液 滴吐出頭72的噴嘴面87之蓋261之蓋單元252 ’及支撐 蓋單元25 2的蓋支撐構件2 5 3，及被組入蓋支撐構件253 而透過蓋支撐構件2 5 3使蓋單元2 5 2升降的蓋升降機構 2 5 4，透過使密接的蓋2 6 1使吸引力作用於功能液滴吐出 頭7 2的吸引手段（省略圖示）。 如第丨3、14圖所示，蓋單元2 5 2，對應於被搭載於 分割頭單元7 1的功能液滴吐出頭之排列’使1 2個蓋2 6 1 配設於蓋空間（caP SPaCe) 262。亦即，於吸引單兀232 ，仿頭單元4 1之功能液滴吐出頭72之配置圖案’配置 12X7個（84個）蓋261，可以使對應的蓋261密接於頭 單元4 1之所有功能液滴吐出頭72。雖省略圖示，於各蓋 26 1，設有大氣開放閥’藉由使在吸引動作之最終階段打 開此大氣開放閥，可以吸引殘留於蓋26 1內的功能液。 如第1：5、14圖所示，蓋支撐構件253’具有支撐盖 單元2 5 2的蓋支撐板265、使蓋支撐板26 5可自由滑動於 -29- (27) 1260279 上下方向地支撐之蓋腳架（stand ) 2 6 6以及支撐 266的蓋支撐空間267。又，蓋支撐板265的下面 定有供開閉蓋2 6 1之大氣開放閥（省略圖示）之用 汽缸(air cylinder) 2 6 8 ° 如第1 4圖所示，蓋升降機構2 5 4，具備：被 蓋腳架2 6 6上側，介由蓋支撐板2 6 5而自由升降地 單元2 5 2之第1升降汽缸2 7 1，及被配設於蓋腳架 側，介由第1升降汽缸2 7 1而自由升降地支撐蓋單 之第2升降汽缸。第1升降汽缸2 7 1以及第2升 272係以行程（stroke )互異的氣動汽缸所構成，I 降汽缸272的行程被構成爲比第1升降汽缸271的 長。接著，藉由選擇地驅動第1及第2升降汽缸 272，可以使蓋單元252的上升位置切換爲蓋261 功能液滴吐出投72的第1位置，與較第1位置稍名 〜3 m m程度）的第2位置之任一方。具體而Η，驅 升降汽缸2 7 1時，可以使蓋單元2 5 2由特定的下降 移動至第1位置，驅動第2升降汽缸2 72時，可以 元2 5 2移動至第2位置。 吸引手段，具有使吸引力作用於分割頭單元7 個功能液滴吐出頭72的單一噴射泵（ejector )， 1 2個蓋2 6 1與噴射泵的吸引管（均省略圖示）◦ ，透過空氣供給管（省略圖示）被連接於上述空氣 段。連接於噴射泵的1根吸引管，透過頭管（he ad 省略圖示）分歧爲複數（1 2根）分歧吸引管（省 蓋腳架 ，被固 的一對 配設於 支撐蓋 2 6 6下 :元 252 降汽缸 _ 2升 行程還 271、 密接於 玫低（2 ί動第1 端位置 使蓋單 1的12 及連接 噴射泵 供給手 pipe， 略圖示 -30- (28) 1260279 )’而被連接於各蓋261。於吸引管，中介 回收手段之再利用槽（後述），以噴射泵吸 被貯留於再利用槽。又，在同圖雖然省略， 管之蓋2 6 1附近，由蓋2 6 1側依序分別設有 液的液體感測器2 7 6、檢測出各分歧吸引管 力感測器2 7 7 (均參照第1 8圖）、以及關 管之用的吸引用閥。 接下來說明分割吸引單元251之吸引動 動作，驅動頭移動手段4 3，使頭單元4 1移 5 2 ’使分割頭單元7 i之一臨於分割吸引單 ，驅動蓋升降機構2 5 4，使蓋單元2 5 2移動 藉此，對臨於分割吸引單元2 5 1的分割頭單 功能液滴吐出頭72，密接對應的蓋261。其 給手段對噴射泵供給壓縮空氣，透過蓋2 6 1 吐出頭7 2的吸引。由各功能液滴吐出頭7 2 功能液之後，停止對噴射泵供給壓縮空氣。 能液滴吐出頭72的吸引時，驅動蓋升降機 單元2 5 2移動至下降端位置，使蓋2 6 1由功 72離開。 又，功能液之吸引中，根據液體感測器 感測器2 77之檢測訊號進行吸引動作的監控 測出各蓋 2 6 1的吸引不良。此外，藉由根 2 7 6以及壓力感測器2 7 7之檢測結果開閉上 ，可以使從各功能液滴吐出頭72所吸引的 設有液體供給 引的功能液， 於各分歧吸引 檢測有無功能 內的壓力之壓 閉各分歧吸引 作。先於吸引 動至維修區域 元 2 5 1。接著 至第1位置。 元 71 之所有 次，由空氣供 進行功能液滴 吸引一定量的 接著，結束功 構2 5 4，使蓋 能液滴吐出頭 2 7 6以及壓力 ，成爲可以檢 據液體感測器 述之吸引用閥 功能液量約略 -31 - (29) (29)1260279 爲一定，可以防止隨著吸引動作而使功能液過剩地被吸引 〇 吸引單元2 3 2不僅供使用於如上述之功能液滴吐出頭 7 2的吸引，還以接受定期沖洗的功能液的方式被構成。 亦即，吸引單元2 3 2之各蓋2 6 1，兼作沖洗盒的功能，使 在定期沖洗中各功能液滴吐出頭7 2所吐出的功能液，以 對應的蓋2 6 1接受。在此場合，蓋升降機構2 5 4被驅動， 使蓋單元2 5 2上升至第2位置。藉此，蓋2 61，以對功能 液滴吐出頭7 2的噴嘴面8 7僅稍微離開（約2〜3 m m )的 狀態被支撐，可以蓋2 6 1有效率地接受定期沖洗之功能液 〇 此外’吸引單元2 3 2，於液滴吐出裝置3之非描繪處 理時等’也可以使用於保管功能液滴吐出頭72。在此場 合，使頭單元4 1臨於維修區域5 2之後，驅動蓋升降機構 2 5 4使蓋單元2 5 2移動至第i位置。藉此，蓋261密接於 功能液滴吐出頭7 2之噴嘴面8 7，噴嘴面8 7被密封（蓋 住c ap p 111 g )，防止功能液滴吐出頭7 2 (吐出噴嘴8 8 )之 乾燥。 其次’ I兌明擦拭單兀2 3 3。擦拭單元2 3 3，藉由功能 液滴吐出頭72的吸引等，使功能液附著而髒污的各功能 液滴吐出頭72的噴嘴面87，使用擦拭片281拭取（擦拭 wiping )。如第2〜4、1 1、12圖所示，擦拭單元2 3 3，被 配置於上述單元升降機構2 3 5之描繪區域51與吸引單元 23 2之間，亦即，被配置於維修區域52之描繪區域5丨側 -32- (30) 1260279 。藉由這樣的配置，擦拭單元2 3 3，結束吸引處理 依序臨於往描繪區域5 1移動的頭單元4 1 (分割頭] )，而可對其功能液滴吐出頭72進行擦拭處理。 如第15、16圖所示，擦拭單元2 3 3，具備被 要部的單元本體2 8 2、及使單元本體2 8 2滑動自如 撐於X軸方向之橫移動機構2 8 3。單元本體2 8 2， 出被捲爲滾筒狀的擦拭片同時捲取的拭片供給單元 由功能液滴吐出頭72的下側靠近而以擦拭片28 1 嘴面87的擦拭單元292、使洗淨液散布於送出的 281的洗淨液供給單元293、及支撐這些之擦拭框 又被供給至擦拭片28 1的洗淨液，係揮發性比較高 液的溶劑，可以有效地除去附著於功能液滴吐出頭 噴嘴面8 7的功能液。 擦拭框294具有方形的擦拭基座301、以與X 平行的方式立設的一對側框（side frame ) 3 02。於 框3 02的左側（描繪區域側），被配設拭片供給單 ，於其右側（吸引單元2 3 2側）上部，被配設擦 292。此外，於側框3 02，以臨於由拭片供給單元 送出於擦拭單元292的擦拭片281的方式，支撐洗 給單元293。 如第1 5、1 6圖所示，拭片供給單元2 91，具 塡滾筒狀的擦拭片2 8 1而使擦拭片2 8 1 (於其延伸 送出的圖示上側之捲軸3 1 1、捲取被送出的擦拭片 圖示下側的捲取捲軸3 1 2、捲取並旋轉捲取捲軸3 ] ，可以 _元7 1 配設主 地被支 具有送 291、 擦拭噴 擦拭片 294 ° 的功能 72的 軸成爲 一對側 元291 拭單元 29 1所 淨液供 有：裝 方向） 281之 2的捲 -33- (31) 1260279 取馬達3 1 3、及使捲取馬達3 1 3的動力傳達至 3 1 2的動力傳達機構3 1 4、以及使來自送出捲軸 拭片2 8 1送往擦拭單元2 9 2的中間滾筒3 1 5。 於位於側框3 0 2的外側的送出捲軸3 1 1的軸 以抵抗捲取馬達3 1 3的方式設有制動旋轉的轉矩 torque limiter) 316，可以對送出的擦拭片 281 的張力。捲取馬達3 1 3，以齒輪馬達構成，被固 3 0 2。動力傳達機構3 1 4，具有固定於捲取馬達 出端之驅動傳動輪3 1 7、與固定於捲取捲軸3 1 2 從動輪3 1 8、及跨架於兩傳動輪3 1 7、3 1 8之間 帶3 1 9。驅動捲取馬達3 1 3時，透過自身的減速 時皮帶3 1 9跟著運行，對捲取捲軸3 1 2傳達動力 滾筒3 1 5的軸端，設有速度檢測器3 20 (參照第 ，檢測擦拭片2 8 1的給送速度。送出捲軸3 1 1、 3 1 2以及中間滾筒3 1 5，其軸線與擦拭片2 8 1的 之X軸方向爲平行，跨撐於側框3 0 2且可自由 支撐。亦即，擦拭片281，往與擦拭片281的寬 X軸方向）直角相交的方向送出。 如第15、16圖所示，擦拭單元292，具有 擦拭片2 8 1的寬幅之軸方向的長度，使擦拭片2 j 功能液滴吐出頭7 2的噴嘴面8 7之擦拭滾筒3 2 1 地支撐擦拭滾筒3 2 1之一對軸承構件3 2 2、透 承構件3 2 2使擦拭滾筒3 2丨升降的滾筒升降機構 支撐這些同時被固定於側框3 02的L字形之一 捲取捲軸 3 Π之擦 端一方， 限制器（ 賦予一定 定於側框 3 1 3的輸 的軸端之 的計時皮 齒輪列計 。於中間 1 8圖） 捲取捲軸 寬幅方向 旋轉地被 幅方向（ :對應於 U抵接於 、雙支撐 過一對軸 3 2 3、及 對軸承框 -34- (32) 1260279 3 24等。送出捲軸31 1所送出的擦拭片281，經過中間滾 筒3 1 5，轉繞於擦拭滾筒3 2 1，而被捲取於捲取捲軸3 1 2 〇 擦拭滾筒3 2 1係自由旋轉的滾筒，在使軸線與X軸 方向一致的狀態，自由旋轉地支撐於一對軸承構件3 22。 亦即，擦拭滾筒3 2 1以與被搭載於頭單元4 1的功能液滴 吐出頭7 2的噴嘴列直角相交的方式被支撐，使在噴嘴列 方向（縱向擦拭）擦拭噴嘴面8 7。在此場合，爲防止功 能液滴吐出頭72的噴嘴面87的損傷，擦拭滾筒321以採 具有柔軟性與彈性的橡膠構成較佳。滾筒升降機構3 2 3， 具有被固定於一對側框3 02上的一對滾筒升降汽缸3 2 5 ( 氣動汽缸），可自由升降地支撐一對軸承構件3 22。亦即 驅動滾筒升降汽缸3 2 5時，透過軸承構件3 22，擦拭滾筒 3 2 1可升降至可抵接於頭單元4 1的功能液滴吐出頭72的 噴嘴面8 7之特定擦拭高度位置。 如第15、16圖所示，洗淨液供給單元2 9 3，具有由 噴霧噴嘴所構成的被接續於後述之洗淨液槽的複數洗淨液 噴嘴3 3 1、跨架於一對側框3 02而支撐複數洗淨液噴嘴 3 3 1的噴嘴支撐構件3 3 2。噴嘴支撐構件3 3 2，被設於中 間滾筒3 1 5與擦拭滾筒3 2 1之間，同時以與軸方向（擦拭 片28 1之寬幅方向）平行的方式雙撐地被支撐於一對側框 3 0 2。複數之洗淨噴嘴3 3 1，以臨於由中間滾筒3 1 5往擦 拭滾輪3 2 1給送之擦拭片2 8 1的方式被配設。在此場合， 對擦拭片2 8 1的寬幅全體均勻噴霧洗淨液的方式配置複數 -35- (33) 1260279 洗淨液噴嘴3 3 1於X軸方向較佳。又’在本實施型 爲對擦拭片2 8 1寬幅全體供給洗'淨液’具備複數之洗 噴嘴3 3 1，但藉由設置可使複數洗淨液噴嘴3 3 1在擦 2 8 1的寬幅方向移動之噴嘴移動機構’ 亦可以單一噴嘴構成洗淨液噴嘴3 3 1。 橫移動機構2 8 3，透過單元本體2 8 2’使擦拭片 全體移動於其寬幅方向（X軸方向）。如上所述’功 滴吐出頭72透過頭保持構件74被安裝於頭板73， 嘴列與鄰接於直角相交的X軸方向之功能液滴吐出豆 之間具有間隙（參照圖8 )。亦即，沿著噴嘴列方向 行功能液滴吐出頭72的擦拭時，於擦拭片2 8 1，附 紋狀的髒污（參照第1 7 a圖）。亦即，相當於功能液 出頭72間的間隙的部分，無法用於擦拭，僅擦拭片 的一部份可供擦拭用。在此，設橫移動機構2 8 3，一 行擦拭之後，使附著條紋狀髒污的擦拭片2 8 1在X 向上橫向移動，可以使對功能液滴吐出頭72之擦 28 1的擦拭位置改變，可以有效利用上述間隙部分的 片2 8 1 (參照第1 7 b圖）。又，取代橫移動機構2 8 3 置使頭單元4 1 (分割頭單元7丨）移動於X軸方向的 ’使其對擦拭片2 8 1橫向移動之構成也可以得到同樣 果。 如第1 5、1 6圖所示，橫移動機構2 8 3，具有自 動於X軸方向地支撐單元本體2 8 2之2組4個橫移 動件3 4 3、使2組4個橫移動滑動件3 4 3移動於X軸 育旨， 淨液 拭片 28 1 能液 在噴 | 72 ，進 著條 滴吐 28 1 度進 軸方 拭片 擦拭 而設 機構 的效 由滑 動滑 方向 -36- (34) 1260279 的橫移動球螺絲3 4 2、使橫移動球螺絲3 4 2正逆向回轉的 橫移動馬達3 4 1、延伸於X軸方向而導引橫移動滑動件 3 43的移動之一對橫移動導軌3 44，及被固定於上述單元 升降機構2 3 5 (基座板3 5 2 )而支撐這些之橫移動基座 3 4 5等。驅動橫移動馬達341時，透過橫移動球螺絲342 橫移動滑動件3 4 3 (正負向）移動於X軸方向，單元本體 2 8 2對橫移動基座3 4 5移動於X軸方向。 在本實施型態，鄰接於X軸方向的功能液滴吐出頭 72間之間隙，成爲與噴嘴列直交的功能液滴吐出頭72之 短邊約1個份，以橫移動機構2 8 3使其橫移動之距離被設 定爲功能液滴吐出頭7 2的短邊1個份。亦即，使其移動 X軸方向之功能液滴吐出頭72的配置間距的半間距份。 但是，此値，可以因應於功能液或擦拭片2 8 1的種類或X 軸方向之功能液滴吐出頭72的配置間距等而改變。又， 本實施型態之橫移動機構2 8 3，係以馬達驅動使單元本體 2 8 2滑動，但取代馬達驅動，而使用無桿汽缸等之空氣驅 動亦可。 在此，說明擦拭單元23 3之一連串動作。首先，驅動 洗淨液供給單元2 9 3，由洗淨液噴嘴3 3 1使洗淨液噴霧， 對擦拭片2 8 1供給洗淨液。另一方面，驅動滾筒升降汽缸 3 2 5使擦拭滾筒3 2 1上升至擦拭高度位置。其次，驅動捲 取馬達3 1 3，含浸洗淨液的擦拭片2 8 1被送往擦拭滾筒 3 2 1。含浸洗淨液的擦拭片2 8 1被送往擦拭滾筒3 2 1時， 停止捲取馬達3 1 3的驅動’停止擦拭片2 8 1的送出。接著 -37- (35) (35)1260279 ，驅動頭移動手段4 3。藉此’頭單元4 1 ’使搭載功能液 滴吐出頭72的噴嘴面87抵接於含浸洗淨液之擦拭片281 (按壓）的狀態下，移動於維修區域52。亦即’對擦拭 片2 8 1，滑動功能液滴吐出頭7 2的噴嘴面，以擦拭片2 8 1 擦拭功能液滴吐出頭72的噴嘴面87。 詳細後述，但在本實施型態，係以分割頭單元7 1之 單位進行擦拭的構成，使7個分割頭單元7 1 —個個依序 臨於擦拭單元2 3 3，藉以連續擦拭搭載於分割頭單元7 1 的功能液滴吐出頭7 2。此處，在此擦拭單元2 3 3，以未使 用的擦拭片2 8 1擦拭特定個數份之分割頭單元7 1後，驅 動橫移動機構2 8 3，使擦拭片2 8 1移動於X軸方向。接著 ，進而擦拭特定個數之分割頭單元7 1後，驅動捲取馬達 3 1 3，給送使用完畢的擦拭片2 8 1。 其次，說明單元升降機構23 5。上述維修區域52，不 僅使用於功能液滴吐出頭72的維修，也兼作吸引單元 2 3 2或擦拭單元2 3 3之維修，或供交換搭載於載件75的 頭板73 (頭交換）之用的作業區域。在此，單元升降機 構2 3 5，藉由從維修功能液滴吐出頭72的特定維修位置 (操作位置）直到特定的退避位置爲止使吸引單元23 2以 及擦拭單元2 3 3下降，可以確保作業區域於吸引單元232 以及擦拭單元2 3 3上。 如第1 1、12圖所示，單元升降機構2 3 5，具有支撐 吸引單元232的7個分割吸引單元251以及擦拭單元233 之任一個的8個升降機構3 5 1。可以使這些分別獨立升降 -38- (36) (36)1260279 於維修位置以及退避位置之間。如第1 3〜1 6圖所示，升 降機構351，具有跨架於上述角鋼架台32之基座板3 5 2 ( base plate )、被固定於基座板3 5 2而可自由升降地支撐 分割吸引單元251或者擦拭單元2 3 3之單元升降汽缸353 (氣動汽缸）、及導引分割吸引單元2 5 1或擦拭單元2 3 3 升降移動之一對單元升降導軌354。 單元升降汽缸3 5 3，貫通基座板3 5 2，汽缸本體，被 固定於基座板3 5 2的下面中央位置，活塞桿被固定於分割 吸引單元251或者擦拭單元233。單元升降汽缸353所可 進行的升降行程被設定於200mm〜400mm。單元升降導軌 3 54，貫通基座板3 5 2，係由使上端固定於（導引的）分 割吸引單元251或者擦拭單元23 3之一對導引桿（shaft ) 3 5 5、滑動自如地卡合於一對導引桿3 5 5同時被固定於基 座板3 5 2的一對具法藍的直線壓簧3 5 6所構成。一對導引 桿3 5 5，以單元升降汽缸3 5 3爲中心對稱配置，以可以安 定導引分割吸引單元251或者擦拭單元23 3的升降的方式 構成。 通常，單元升降機構2 3 5，將吸引單元232以及擦拭 單元2 3 3支撐於維修位置，吸引單元23 2以及擦拭單元 2 3 3僅在進彳了頭父換時，使這些下降到退避位置。 液體供給手段，係以將來自維修手段4 6之沖洗單元 2 3 1的廢液回收至廢液槽的廢液回收系、以吸引單元2 3 2 吸引的功能液以及被吐出至吸引單元23 2的功能液回收至 再利用槽的功能液回收系、具有洗淨液槽而對擦拭單元 -39- (37) (37)1260279 2 3 3供給洗淨液的洗淨液供給系來構成（均省略圖示）。 又，於裝置本體22 ’被配設彙總收容廢液回收系之廢液 槽、功能液回收系之再利用槽、以及洗淨液供給系之洗淨 液槽之槽櫃。 其次，參照第1 8圖，說明液滴吐出裝置3之主控制 系。如該圖所示，液滴吐出裝置3，具備具有頭單元4 !( 功能液滴吐出頭72 )以及工件移動手段42的描繪部3 6 ! 、具有頭移動手段4 3之頭移動部3 6 2、具有工件卸除手 段44之工件卸除部3 6 3、具有維修手段46之維修部364 、具有各種感測器進行各種檢測之檢測部3 6 5、驅動各部 之驅動部3 6 6、以及被接續於各部進行液滴吐出裝置3全 體的控制之控制部3 6 7 (控制裝置5 )。 於控制部3 67，具備：連接各手段之介面371、具有 可暫時記憶之記憶區域而供控制處理之作業區域使用的 R A Μ 3 7 2、具有各種記憶區域而記憶控制程式或控制資料 之ROM 3 73、供記憶對工件W進行描繪之描繪資料或來 自各手段的各種資料等而同時記憶供處理各種資料之用的 程式等之硬碟374、及依照ROM 3 7 3或硬碟3 74所記憶的 程式而演算處理各種資料之C P U 3 7 5，以及將這些相互連 接之匯流排3 76等。 接著，控制部3 67，將來自各手段的各種資料，透過 介面371輸入，同時依照被記憶於硬碟3 7 4的（或者藉由 CD — ROM光碟機等依序讀出的）程式在CPU 375使其演 算處理，藉由將其處理結果輸出至各手段，而控制裝置全 -40- (38) 1260279 體。 參照第1 9〜2 1圖，以進行頭單元4 1的維修的場合爲 例，說明液滴吐出裝置3的控制。於頭單元4 1的維修’ 包含爲謀求搭載的功能液滴吐出頭7 2的功能維持/功能 回復，在工件W交換時定期進行定期維修’交換分割頭 單元7 1的頭板7 3之頭交換、在此，針對定期維修說明控 制流程之後，說明頭交換的控制流程。又’爲謀說明上的 方便，把頭單元41之7個分割頭單元71 ’作爲由圖示左 側起第1〜第7分割頭單元7 1 a〜g。同樣地，也把吸引單 元2 3 2的7個分割吸引單元2 5 1作爲圖示左側起之第1〜 第7分割吸引單元251a〜g。 定期維修，對頭單元4 1之所有功能液滴吐出頭7 2 ’ 使用吸引單元232吸引之後，使用擦拭單元23 3進行擦拭 者。如第1 9 b圖所示，在定期維修的控制流程’首先驅動 頭移動手段4 3，使構成頭單元4 1的7個分割頭單元7 1 全部移動到維修區域5 2 ’同時分別使其臨於分割單元2 5 1 。其次，驅動7個蓋升降機構2 5 4，使7個蓋單元2 5 2移 動到第1位置，使對應的蓋2 61密接於頭單元41的所有 功能液滴吐出頭72。接著’對所有分割吸引單元25 1的 噴射泵供給壓縮空氣’吸引頭單元4 1的所有功能液滴吐 出頭72。 結束所有功能液滴吐出頭7 2的吸引後，驅動第1分 割吸引單元2 5 1 a的蓋升降機構2 5 4 ’使蓋2 6 1由第1分 割頭單元7 1 a的功能液滴吐出頭7 2離開。接著’驅動頭 -41 - (39) 1260279 移動手段，使第1分割頭單元7 l a移動往描繪區域51 ’ 同時驅動擦拭單元2 3 3，對第1分割頭單兀7 1 a之所有功 能液滴吐出頭72進行擦拭。其間，第2〜第7分割頭單 元71b〜g藉由第2〜第7分割吸引單元251b〜g的蓋261 封住（蓋住）搭載的功能液滴吐出頭72的狀態下待機’ 藉此，可以防止待機中的功能液滴吐出頭7 2 (的吐出噴 嘴8 8 )乾燥而塞住。
接近對第1分割頭單元7 1 a之擦拭結束時，驅動第2 分割吸引單元251b之蓋升降機構254，使蓋261由待機 中的第2分割頭單元7 ；! b之功能液滴吐出頭72離開。接 著’第1分割頭單元7 1 a之擦拭結束後，控制頭移動手段 43之驅動，使第1分割頭單元7 1 a移動至描繪區域5 1同 時驅動擦拭單元23 3之橫移動機構283，使擦拭片281移 動於X軸方向。接著，使第2分割頭單元7 1 b往描繪區
域5 1移動，進行第2分割頭單元7丨b的擦拭（參照第 1 9 c 圖）。 結束第2分割頭單元7 1 b的擦拭之前，驅動第3分割 吸引單元2 5 1 c的蓋升降機構2 5 4而使蓋2 6 1離開待機中 的第3分割頭單元7丨c。結束第2分割頭單元7丨b的擦拭 後’控制頭移動手段4 3使第2分割頭單元7 1 b移動至描 繪區域5 1，同時驅動擦拭單元2 3 3之拭片供給單元2 9 ；!( 捲取馬達3 1 3 )，送出擦拭片2 8 1，供給含浸洗淨液之未 使用的擦拭片281至擦拭單元292 (擦拭滾筒321 )。 接著’驅動頭移動手段43，進行第3分割頭單元7 1 c -42 - (40) (40)1260279 的擦拭。以下，對於待機中的第4〜第7分割頭單元7 1 d 〜g也反覆進行同樣動作，擦拭及往描繪區域5 1之移動 ’也以第4〜第7分割頭單元7 1 c〜g之順序進行。 另一方面，直到結束所有的分割頭單元7 1的擦拭爲 止的期間，被送至描繪區域5 1的（待機中的）分割頭單 元7 1之功能液低吐出頭72，以特定間隔定期被吐出驅動 ’進行沖洗動作。此時，設定台1 0 1，爲了工件交換而臨 於工件搬出搬入區域5 3，在描繪區域5 1待機中的分割頭 單元7 1，臨於沖洗盒2 4 1的正上方進行沖洗。 又’在本實施例，係使擦拭前的分割頭單元7 1在蓋 住狀態下待機，但也可以朝向蓋26 1使以特定的間隔定期 沖洗（對蓋內沖洗）同時使其待機的方式構成。在此場合 ，使蓋2 6 1由第1分割頭單元7 1 a離開時，驅動第2〜第 7分割吸引單元2 5 1 b〜g的蓋升降機構2 5 4，使第2〜第7 分割吸引單元251b〜g之蓋261移動往第2位置。 原本在使用揮發性極低的功能液的場合，供擦拭之待 機時間幾乎不會影響功能液滴吐出頭72的吐出性能的場 合，不需要進行待機中的加蓋或者蓋內沖洗。在此場合， 因爲沒有進行在擦拭的待機中加蓋或者蓋內沖洗的必要， 所以使吸引單元2 3 2以不滿7個分割吸引單元2 5 1構成亦 可。特別是進行定期維修的頻率很少的場合，分割吸引單 元2 5 1的減少，不僅對全體的生產週期造成的影響很少， 而且可以使吸引單元2 3 2以單一的分割吸引單元2 5 1構成 。相反的，在頻繁進行定期維修的場合，供擦拭之待機時 -43- (41) (41)1260279 間對全體的處理時間產生影響，所以亦可設置應削減此待 機時間之複數擦拭單元2 3 3。 此外，如第1 9圖所示，在本實施型態，擦拭前的分 割頭單元7 1，在等待擦拭的期間不移動，留在進行吸引 的位置，但在每次結束先前進行的分割頭單元7 1的擦拭 時，依序移動位於描繪區域5 1側（擦拭單元23 3側）而 鄰接之分割吸引單元2 5 1之蓋單元2 5 2亦可。 以下參照第2 0圖具體說明。如第2 0 a圖所示，（臨 於第1分割吸引單元2 5 1的）第1分割頭單元7 1 a移動至 擦拭單元233時，使第2〜第7分割頭單元71b〜g移動 至第1〜第6分割吸引單元25 la〜f。接著如第20b圖所 示，結束第1分割頭單元71的擦拭，臨於第1分割吸引 單元251的第2分割頭單元71b移動至擦拭單元23 3時， 使第3〜第7分割頭單元7 1 c〜g移動至第1〜第5分割吸 引單元25 la〜e。又，在此場合，擦拭結束之分割頭單元 7 1也往描繪區域5 1移動。如此，藉由伴隨著（先進行擦 拭的）分割頭單元7 1之往擦拭單元2 3 3的移動’使待機 中的分割頭單元7 1移動至鄰接的擦拭單兀2 3 3側之分割 吸引單元，可以縮短頭單元4 1 (所有分割頭單元 7 1 )之 擦拭所需要的時間。 進而，在本實施型態，結束1個分割頭單元71的擦 拭後，使擦拭片28 1橫向移動’但橫向移動的時間可依照 實際情形（功能液的種類等）而適當設定之。例如’亦可 以在進行2個分割頭單元7 1的擦拭之後’使擦拭片2 8 1 -44- (42) 1260279 橫向移動，進而進行個分割頭單元7 1的擦拭後，使 片28 1送出的方式進行。此外，在各分割頭單元7 1 片7 3等，設置檢測擦拭片2 8 1的髒污程度的檢測手 省略圖示），而因應擦拭片2 8 1的髒污程度，橫向移 拭片2 8 1亦爲可能。在此場合，只要以反射型光感測 攝影機等構成髒污檢測手段即可。 又，在定期維修，對構成頭單元4 1的所有分割 元7 1進行吸引、擦拭，但僅對任意一個分割頭單元「 行吸引、擦拭當然亦可。在此場合，只要驅動頭移動 4 3使使進行吸引/擦拭的分割頭單元7 1臨於第1分 引單元251a即可。 其次，說明頭交換的控制流程。在本實施型態， 單元2 3 3的上方，亦即最接近於維修區域5 2的上方 爲供進行頭交換之用的頭交換區域，首先驅動頭移動 43，使進行頭交換的分割頭單元7 1，移動至擦拭單元 。接著，驅動支撐擦拭單元2 3 3的單元升降機構235 降機構3 5 1，使其移動至上述退避位置。藉此，可以 拭單元2 3 3的上方產生作業空間，可以有效率地進行 換◦結束頭交換時，上述升降機構3 5 1再度被驅動， 拭單元2 3 3以及第1分割抽吸單元2 5 1上升至維修位 又，爲了更有效地確保作業空間，與擦拭單元2 3 3鄰 第1分割頭單元7 1最好也移動至退避位置。 接著以交換第5分割頭單元7 1的頭板7 3的場合 ，說明頭交換的一連串流程。如第2 1 b圖所示，，首 擦拭 的頭 段（ 動擦 器、 頭單 rl進 手段 割吸 擦拭 ，成 手段 233 之升 在擦 頭交 使擦 置。 接的 爲例 先驅 -45- (43) (43)1260279 動頭移動手段4 3，使第5〜第7分割頭單元7 1 e〜g移動 至維修區域5 2，使第5分割頭單元7 1 e臨於擦拭單元2 3 3 ，同時使第6、第7分割頭單元7 1 f、g臨於第2、3分割 吸引單元2 5 1 b、c。接著如第2 1 c圖所示，驅動升降機構 351使擦拭單元233以及第1分割吸引單元251移動至退 避位置。又，第6、第7分割頭單元7丨f、g的移動位置 ，並不以此爲限，亦可例如以臨於第6、第7分割吸引單 元2 5 1 f、g的方式使其移動（參照第2 1 c'圖）。 頭交換作業中，爲了防止作業外的分割頭單元7 1的 功能液滴吐出頭72的乾燥、阻塞，於作業外的分割頭單 元 71，進行蓋塞（capping )或者（定期的）沖洗。亦即 ，第6、第7分割頭單元7 1 f、g驅動臨接的分割吸引單 元251 (在此爲第2、第3分割吸引單元251b、c)的蓋 升降機構254，蓋單元252移動至第1位置或者第2位置 。接著，在第1〜第4分割頭單元7 1 a〜d，臨於沖洗盒而 進行沖洗，另一方面，第6、第7分割頭單元7 1 f、g則 進行蓋塞或者蓋內沖洗。 結束頭交換作業後，第6、第7分割頭單元7 1 f、g 驅動臨於分割吸引單元2 5 1的蓋升降機構2 5 4 ’使位於第 1位置或第2位置的蓋單元2 5 2下降至下降端位置’同時 驅動上述升降機構3 5 1，使擦拭單元2 3 3以及第1分割單 元2 5 1上升至維修位置。 又，在本實施型態，頭交換時，使一部份的頭交換單 元殘留於描繪區域5 1，但使頭單元4 1的所有分割頭單元 -46- (44) (44)1260279 7 1移動至維修區域5 2的方式構成亦可。在此場合，使7 個所有分割頭單元7 1臨於對應的分割吸引單元2 5丨。接 著’在除了進行作業的分割頭單元7 1 (在此場合爲第5 分割頭單元7 1 e )以外的6個分割頭單元7 1進行蓋塞， 或者進行蓋內沖洗。 此外’維修吸引單元2 3 2的各分割吸引單元2 5 1或者 擦拭單元23 3的場合，不爲進行維修的單元自身的退避， 而使臨接於此的單元（各分割吸引單元2 5 1或者擦拭單元 23 3 )移動至退避位置。特別是進行第1〜第6分割吸引 單元2 5 1 a〜f的維修的場合，使臨接於進行維修的分割吸 引單元251的兩側的單元移動至退避位置（參照第22圖 )° 如此，在控制部3 67藉由統括控制各手段，使這些協 同動作而進行各種處理。 其次’作爲使用本實施型態的液滴吐出裝置3製造的 光電裝置（平板顯示器），以彩色濾光片、液晶顯示裝置 、有機EL裝置、電漿顯示器（PDP裝置）、電子放出裝 置（FED裝置、SED裝置）、進而被形成於這些顯示裝置 的主動矩陣基板等爲例，說明這些的構造以及其製造方法 。又，所謂主動矩陣基板，是指被形成薄膜電晶體、以及 導電連接於薄膜電晶體的源極線、資料線之基板。 首先’說明被組入液晶顯示裝置或有機EL裝置等之 彩色濾光片的製造方法。第2 3圖，係顯示彩色濾光片製 造工程之流程圖，第24圖係顯示依照製造工程的順序顯 -47- (45) 1260279 示之本實施型態的彩色濾光片6 0 0 (濾另 模式剖面圖。 首先，在黑矩陣形成工程S 1 0 1，如； 在基板（W ) 601上形成黑矩陣6〇2 ◦黑： 屬絡、金屬絡與與化絡的層積體、或者樹 形成由金屬薄膜所構成的黑矩陣6 0 2的場 法或蒸鍍法等。此外形成由樹脂薄膜所構 的場合，可以使用凹版照相印刷、光阻劑 〇 接者於堤形成工程（S102)，在重疊 狀態形成堤6 0 3。亦即，如第2 4 b圖所 601以及黑矩陣602的方式形成由負型透 成的光阻劑層6 0 4。接著，以形成爲矩陣 膜6 0 5覆蓋其上面的狀態下進行曝光處理 進而，如第24c圖所示，藉由蝕刻處 之未曝光的部分而圖案化光阻劑層6 04， ’藉由樹脂黑形成黑矩陣的場合，可以同 與堤。 此堤60 3與其下之黑矩陣602，成爲 6 0 7 a的區隔壁部6 0 7 b，於後面的著色層 能液滴吐出頭 7 2形成著色層（成膜部 6 0 8 B時規定功能液滴的彈著區域。 藉由經過以上的黑矩陣形成工程及堤 上述之濾光片基體600A。 ί基體6 0 0 A )的 ,2 4 a圖所示， 矩陣602係由金 脂黑等形成的。 合可以使用濺鍍 成的黑矩陣6 0 2 法、熱轉印法等 於黑矩陣602的 示，以覆蓋基板 明感光樹脂所構 圖案形狀的遮罩 〇 :理光阻劑層604 形成堤603。又 時兼用爲黑矩陣 區隔各畫素區域 形成工程藉由功 )60 8R、60 8 G、 形成工程，可得 -48- (46) 1260279 又於本實施型態，作爲堤6 03的材料 成爲疏液（疏水）性的樹脂材料。接著， )601的表面爲親液（親水）性的緣故， 之著色層形成工程之液滴在以堤6 0 3 (區丨 包圍的各畫素區域6 0 7內之彈著位置精度 其次，在著色層形成工程（S103)， ，藉由功能液滴吐出頭7 2吐出功能液滴 區隔壁部607b所包圍的各畫素區域607a 使用功能液滴吐出頭7 2導入R、G、B三 光材料）進行功能液滴吐出。又，R、G 圖案，可以是條紋配列、馬賽克配列以及 其後’經過乾燥處理（加熱等處理） 形成3色之著色層608R、608G、608B。J 、608 G、608B之後，移至保護膜形成工 第24e圖所示，以覆蓋基板601、區隔壁i 色層608R、608G、608B的上面的方式形^ 亦即’基板601之形成著色層608R、 面王體被吐出保護膜用塗布液之後，經乾 膜 60 9。 接著’形成保護膜609後，彩色濾光 一工程之成爲透明電極的I T 0 (銦錫氧化 程。 第2 5圖係作爲使用上述彩色濾光片 裝置之一例之被動矩陣型液晶裝置（液晶 ，使用塗膜表面 基板（玻璃基板 可以提高於後述 攝壁部607b)所 〇 如第2 4 d圖所示 而使其彈著於以 內。在此場合， 色之功能液（濾 、B三色的配列 三角配列。 使功能液固定， 移成著色層608R 程（S104 )，如 部607b、以及著 获保護膜609。 608G 、 608B 之 燥處理形成保護 片600，移至次 物）等之成膜工 6 0 〇之液晶顯示 裝置）之槪略構 -49- (47) (47)1260279 成之重要部位剖面圖。於此液晶裝置6 2 Ο，藉由安裝液晶 _動用IC、背光、支撐體等附帶要素，而得到作爲最終 _品之透過型液晶顯示裝置。又，彩色濾光片6 0 0係與第 24圖所示之物相同者，對應的部位被賦予相同的符號而 省略其說明。 此液晶裝置62 0的槪略構成包含有彩色濾光片600、 由玻璃基板等構成的對向基板62 1、以及由被挾持於其間 的STN ( Super Twisted Nematic )液晶組成物所構成的液 晶層622等，使彩色濾光片600配置於圖中上側（觀察者 側）。 又，雖未圖示，在與對向基板62 1以及彩色濾光片 600的外面（與液晶層622側相反側之面）分別配設偏光 板，此外於位在對向基板62 1側之偏光板的外側，被配設 有背光。 於彩色濾光片6 0 0的保護膜6 0 9上（液晶層側），以 特定的間隔被形成複數在左右方向成爲長尺寸的短冊狀之 第i電極62 3，以覆蓋此第1電極623之彩色濾光片600 側相反側之面的方式被形成第1配向膜6 2 4 ° 另一方面，對向基板621之與彩色濾光片600相對方 向之面，與彩色濾光片600的第1電極623直角相交的方 向上以特定的間隔形成複數長尺寸之短冊狀的第2電極 626，以覆蓋此第2電極62 6之液晶層622側之面的方式 被形成第2配向膜627。這些第1電極62 3以及第2電極 6 2 6係藉由1 τ 0等透明導電材形成的。 -50- (48) 1260279 被設於液晶層6 2 2內之間隔件6 2 8係供保持液晶層 6 2 2的厚度（胞間隙）爲一定之用的構件。此外，密封材 6 2 9係防止液晶層6 2 2內的液晶組成物往外部漏出之用的 構件。又，第1電極6 2 3之一端部作爲拉回配線6 2 3 a延 伸至密封材6 2 9的外側。 接著，第1電極623與第2電極626交叉的部分爲畫 素，在此成爲畫素的部分’使彩色濾光片600的著色層 608R、608G、608B位於此而構成之。 在通常的製造工程，於彩色濾光片600，進行第1電 極623的圖案化以及第1配向膜624的塗布做成彩色濾光 片600側的部分，同時另外在對向基板621，進行第2電 極626的圖案化以及第2配向膜的塗布而作成對向基板 62 1側的部分。其後，在對向基板62 1側的部分作入間隔 件62 8以及密封材629，在此狀態貼合彩色濾光片600側 的部分，接著，由密封材6 2 9的注入口注入構成液晶層 6 2 2的液晶，密閉注入口。其後，層積兩偏光板及背光。 實施型態之液滴吐出裝置3，例如塗布構成上述胞間 隙（cell gap )之間隔件材料（功能液），同時於對向基 板62 1側之部分貼和彩色濾光片60 0側之部分以前’可以 在以密封材629包圍的區域均勻塗布液晶（功能液）。此 外，也可能以功能液滴吐出頭7 2進行前述密封材6 2 9的 印刷。進而，也可以藉由功能液滴吐出投72進行第1、 第2配向膜624、627之塗布。 第26圖係使用了於本實施型態製造的彩色濾光片 -51 - (49) (49)1260279 6 0 0之液晶裝置之第2例之槪略構成之重要部位剖面圖。 此液晶裝置6 0與則述液晶裝置6 2 0的不同點在於將 彩色濾光片6 0 0配置於圖中下側（與觀察者相反側）。 此液晶裝置6 3 0之槪略構成爲在彩色濾光片6 0 0與由 玻璃基板等所構成的對向基板6 3 1之間夾持由S TN液晶 所構成的液晶層6 3 2。又’雖未圖示，對向基板6 3 1與彩 色濾光片600的外面分別配設有偏光板等。 在彩色濾光片600之保護膜609上（液晶層63 2側） 以特定的間隔被形成複數於圖中縱深方向爲長尺寸的短冊 狀第1電極6 3 3，以覆蓋此第1電極6 3 3之液晶層6 3 2側 之面的方式形成第1配向膜63 4。 對向基板631之與彩色濾光片600相對之面上’彩色 濾光片600側之與第1電極63 3直交方向上延伸的複數短 冊狀之第2電極636以特定的間隔被形成，以覆蓋此第2 電極6 3 6的液晶層6 3 2側之面的方式被形成第2配向膜 63 7 ° 於液晶層6 3 2，設有供保持此液晶層6 3 2的厚度爲一 定之用的間隔件6 3 8，及供防止液晶層63 2內的液晶組成 物往外部漏出之用的密封材63 9。接著與前述液晶裝置 620同樣，第1電極633與第2電極636交叉的部分爲畫 素，在此成爲畫素的部位，使彩色濾光片600的著色層 608R、608G、608B位於此而構成。 第27圖係使用適用本發明之彩色濾光片600構成液 晶裝置之第3例。顯示透過型的薄膜電晶體（TFT )型液 -52- (50) (50)1260279 晶裝置之槪略構成之分解立體圖。 此液晶裝置65 0係將彩色濾光片6 00配置於圖中上側 (觀測者側）。 此液晶裝置6 5 0之槪略構成包含有彩色濾光片6 0 0、 以與此相對方向配置的對向基板6 5 1，及被挾持於其間未 圖示之液晶層，被配置於彩色濾光片600的上面側（觀測 者側）之偏光板6 5 5、被配置於對向基板65 1的下面側之 偏光板（未圖示）等。 於彩色濾光片600之保護膜609的表面（對向基板 6 5 1側之面）被形成液晶區動用的電極6 5 6。此電極6 5 6 由ITO等透明導電材所構成，成爲覆蓋被形成後述的畫素 電極6 6 0之區域全體的全面電極。此外，在覆蓋此電極 65 6之與畫素電極660相反側之面的狀態設有配向膜657 〇 對向電極651之與彩色濾光片600相對向之面被形成 絕緣層6 5 8，於此絕緣層6 5 8上，掃描線6 6 1與訊號線 6 62以相互直交的狀態被形成。接著，被包圍於這些掃描 線661與訊號線662的區域內被形成畫素電極660。在實 際之液晶裝置，在畫素電極660上設有配向膜，但圖示省 略。 此外，在畫素電極6 6 0之切口部與掃描線6 6 1與訊號 線6 62包圍的部分，被組入具有源極電極、汲極電極、半 導體及閘極電極之薄膜電晶體663而構成。接著，藉由對 掃描線6 6 1與訊號限6 6 2之訊號施加而使薄膜電晶體6 6 3 -53- (51) 1260279 開關而可以進行對畫素電極660之通電控制的方 〇 又’上述各例之液晶裝置 6 2 0、6 3 0、6 5 0， 个生之_成’但也可以設置反射層或者半透過半反 f吏其成爲反射型的液晶裝置或者半透過半反射型 置。 其次’第28圖係有機EL裝置之顯示區域 稱顯示裝置7 0 0 )之重要部位剖面圖。 此顯示裝置7 〇 〇，其槪略構成係：在基板 上層積電路元件部702、發光元件部703以及陰 狀態。 於此顯示裝置7 00，由發光元件部703對基 發出之光，透過電路元件部702以及基板701往 射出的同時，由發光元件部703往基板701的相 出之光藉由陰極704反射之後，透過電路元件部 基板70 1而往觀測者側射出。 在電路元件部702與基板701之間被形成由 所構成的下底保護膜706，於此下底保護膜706 元件7 0 3側）被形成由多結晶矽所構成的島狀 7 07。此半導體膜707的左右區域藉由打入高濃 而分別形成源極區域707a與汲極區域707b。接 陽離子的中央部成爲通道區域707c。 此外，於電路元件部702形成覆蓋下底保護 及半導體膜7 0 7的透明的閘極絕緣膜7 0 8，在此 式被構成 係爲透過 射層，而 之丨仪晶裝 (以下簡 (W ) 70 1 極7 04的 板70 1側 觀測者側 反側所發 702以及 矽氧化膜 上（發光 半導體膜 度陽離子 著未打入 膜706以 聞極絕緣 -54- (52) (52)1260279 膜70 8上的半導體膜707的對應於通道區域7 0 7c的位置 ’被形成例如由A1，Μ 〇，T a，T i，W等所構成的閘極電 極7 0 9。此閘極電極7 0 9以及閘極絕緣膜7 0 8上，被形成 透明的第1層間絕緣膜7 1 1 a與第2層間絕緣膜7 1 1 b。此 外’貫通第1、第2層間絕緣膜7 1 1 a、7 1 1 b，分別被形成 連通至半導體膜707之源極區域707a、汲極區域707b的 接觸孔 712a、 712b。 接著，於第2層間絕緣膜71 lb上，由ITO等所構成 的透明畫素電極7 1 3被圖案化形成爲特定的形狀，此畫素 電極713通過接觸孔712a被連接於源極區域70 7a。 此外於第1層間絕緣膜7 1 1 a上被配設電源線7 1 4， 此電源線714，通過接觸孔712b被連接於汲極區域707b 〇 如此，於電路元件部7 0 2，分別被形成連接至各畫素 電極7 1 3之驅動用薄膜電晶體7 1 5。 上述發光元件部703，其槪略構成爲包含被層積於各 個複數之畫素電極713上之功能層717、具備於各畫素電 極7 1 3以及功能層7 1 7之間而區隔各功能層7 1 7之堤部 7 18° 藉由這些畫素電極7 1 3、功能層7 1 7以及被配設於功 能層7 1 7上的陰極7 0 4而構成發光元件。又，畫素電極 7 1 3，被圖案化形成爲平面看來約略爲矩形狀，於各畫素 電極7 1 3間被形成堤部7 1 8。 堤部7 1 8，例如係由氧化矽、二氧化矽、二氧化鈦等 -55- (53) (53)1260279 無機材料所形成的無機物堤層7 1 8 a (第1堤層）、被層 積於此無機物堤層7 1 8 a上而由壓克力樹脂、聚醯亞胺樹 脂等耐熱性、耐溶媒性優異的光阻所形成的剖面爲梯形的 有機物堤層7 1 8 b (第2堤層）所構成。此堤部7 1 8之一 部分，係以騎上畫素電極7 1 3的週緣部上的狀態被形成。 接著，於各堤部7 1 8之間，被形成對畫素電極7 1 3朝 向上方逐漸擴開之開口部7 1 9。 上述功能層7 1 7，係由：於開口部7 1 9內在畫素電極 7 1 3上以層積狀態形成的正孔注入/輸送層7 1 7a、及被形 成於此正孔輸入/輸送層717a上的發光層717b所構成。 又，鄰接於此發光層7 1 7b亦可進而形成具有其他功能的 其他功能層。例如可以形成電子輸送層。 正孔注入/輸送層717a，具有由畫素電極713側輸 送正孔而注入發光層717b的功能。此正孔注入/輸送層 7 1 7 a，以吐出包含正孔注入/輸送層形成材料的第i組成 物（功能液）而形成。作爲正孔注入/輸送層形成材料， 使用習知的材料。 發光層7 1 7b係發出紅色R、綠色G、或藍色B之任 一色者3，藉由吐出包含發光層形成材料（發光材料）的 第2組成物（功能液）而被形成。作爲第2組成物之溶媒 (非極性溶媒），以使用對正孔注入/輸送層7 1 7 a不溶 的習知材料較佳，藉由將這樣的非極性溶媒使用於發光層 717b之第2組成物，可以使正孔注入/輸送層717a不會 再溶解而形成發光層717b。 -56- (54) 1260279 接著，以在發光層717b，由正孔注入/輸送層 所注入的正孔，與從陰極704所注入的電子在發光層 合而發光的方式被構成。 陰極704以覆蓋703全面的狀態被形成’與畫素 7 1 3成對而發揮使電流流至功能層7 1 7的功能。又’ 陰極7 0 4的上部被配置有未圖示的密封構件。 其次，參照第2 9〜3 7圖說明上述顯示裝置7 〇 〇 造工程。 此顯示裝置7 0 0，如第2 9圖所示，經過堤部形 程（S 11 1 )、表面處理工程（s 1 1 2 )、正孔注入/輸 形成工程（S 1 1 3 )、發光層形成工程（S 11 4 )以及對 極形成工程（S115)而被製造。又，製造工程並不以 者爲限，亦有應需要而除去其他工程或者追加其他工 場合。 首先，在堤部形成工程（S 1 1 1 )，如第3 0圖所 在第2層間絕緣膜7 1 1 b上形成無機物堤部7 1 8 a。此 物堤部7 1 8 a，係在形成位置形成無機物膜後，將此 物膜藉由光蝕刻技術等而圖案化形成的。此時，以無 堤層7 1 8 a之一部分與畫素電極7 1 3的週緣部重疊的 形成。 如果形成無機物堤層7 1 8 a，如第3 1圖所示在無 堤層718a上形成有機物堤層718b。此有機物堤層 也與無機物堤層7 1 8 a同樣藉由光蝕刻技術等圖案化 成。 7 17a 再結 電極 於此 的製 成工 送層 向電 例示 程的 示， 無機 無機 機物 方式 機物 7 18b 而形 - 57- (55) (55)1260279 如此形成堤部7 1 8。此外，伴此，在各堤部7 1 8間， 被形成對畫素電極7 1 3朝向上方開口的開口部7 1 9。此開 口部7 1 9規定畫素區域。 在表面處理工程（S 1 1 2 )，進行親液化處理以及撥液 化處理。施以親液化處理的區域，係無機物堤層7 1 8 a的 第1層積部718aa以及畫素電極713的電極面713a，這 些區域，例如藉由將氧氣作爲處理氣體之電漿處理而被表 面處理爲親液性。此電漿處理，亦可兼作畫素電極7 1 3之 ITO的洗淨等。 此外，撥液化處理，施於有機物堤層7 1 8b的壁面 7 18s以及有機物堤層718b的上面，例如以四氟甲烷作爲 處理氣體之電漿處理使表面被氟化處理（處理爲撥液性） 〇 藉由進行此表面處理工程，使用功能液滴吐出頭72 形成功能層7 1 7時，可以使功能液低更確實地彈著於畫素 區域’此外可以防止彈著於畫素區域的功能液滴由開口部 7 1 9溢出。 接著，藉由經過以上的工程，得到顯示裝置基體 7〇〇A。此顯示裝置基體700A被載置於第！圖所示的液滴 吐出裝置3之設定台1 0 1，進行以下的正孔注入/輸送層 形成工程（S 11 3 )以及發光層形成工程（S 1 1 4 )。 如第3 2圖所示，在正孔注入/輸送層形成工程（ S113)，由功能液滴吐出頭72將包含正孔注入/輸送層 形成材料的第1組成物吐出至畫素區域之各開口部7丨9內 -58- (56) (56)1260279 。其後，如第3 3圖所示，進行乾燥處理以及熱處理，使 包含於第1組成物的極性溶媒蒸發，在畫素電極（電極面 7 13a) 713上形成正孔注入/輸送層717a。 其次，說明發光層形成工程（S 1 1 4 )。在此發光層形 成工程，如上所述，爲防止正孔注入/輸送層717a之再 溶解，作爲使用於發光層形成時所用的第2組成物的溶媒 ，採用對正孔注入/輸送層7 1 7a不溶的非極性溶媒。 然而另一方面，正孔注入/輸送層7 1 7a對非極性溶 媒的親和性很低，即使將包含非極性溶媒的第2組成物吐 出至正孔注入/輸送層7 1 7a上，也變得會有不能夠使正 孔注入/輸送層717a與發光層717b密接，或者無法均勻 塗布發光層717b之虞。 在此，爲提高非極性溶媒以及對發光層形成材料之正 孔注入/輸送層7 1 7 a的表面的親和性，以在發光層形成 之前進行表面處理（表面改質處理）較佳，此表面處理， 係把在發光層形成時屬使用的第2組成物之非極性溶媒相 同的溶媒或者類似此之溶媒之表面改質材，塗布於正孔注 入/輸送層717a上，將此乾燥而進行的。 藉由施以這樣的處理，正孔注入/輸送層7 1 7 a的表 面變得容易親近非極性溶媒，在其後的工程，可以將包含 發光層形成材料的第2組成物均勻塗布於正孔注入/輸送 層 7 1 7 a。 接著其次如第3 4圖所示，把包含對應於各色之中之 任 （在弟3 5圖之例爲藍色B )的發光層形成材料的第2 -59- (57) 1260279 組成物作爲功能液滴對畫素區域（開口部7 1 9 )內打 定量。被打入畫素區域內的第2組成物，擴展於正孔 /輸送層717a上而充滿於開口部719內。又，萬一 組成物偏離畫素區域而彈著於堤部718的上面71 8t 合，也因爲其上面7 1 8 t如上所述被施以撥液處理， 第2組成物容易轉入開口部7 1 9內。 其後，藉由進行乾燥工程等，乾燥處理吐出後的 組成物，使包含於第2組成物的非極性溶媒蒸發， 35圖所示，在正孔注入/輸送層717a上形成發光層 。在此圖之場合，形成對應於藍色B之發光層717b。 同樣地，使用功能液滴吐出頭72如第3 6圖所示 序施行與上述對應於藍色B的發光層7 1 7b的場合同 工程，形成對應於其他色（紅色R以及綠色G )的發 7 1 7b。又，發光層7 1 7b的形成順序，並不以例示的 爲限，可以任何順序形成。例如可以因應於發光層形 料而決定形成的順序。此外，作爲R、G、B三色的 圖案，可以是條紋配列、馬賽克配列以及三角配列。 如以上進行，在畫素電極7 1 3上形成功能層7 Π 即正孔注入/輸送層717a以及發光層717b。接著， 對向電極形成工程（S 1 1 5 )。 在對向電極形成工程（S 1 1 5 )，如第3 7圖所示 發光層717b以及有機物堤層718b之全面藉由例如蒸 、濺鍍法、CVD法等形成陰極704 (對向電極）。此 7 04，於本實施型態，例如以層積鈣層與鋁層而構成。 入特 注入 第2 的場 所以 第2 如第 7 17b ，依 樣的 光層 順序 成材 配列 ，亦 移到 ，於 鑛法 陰極 -60- (58) (58)1260279 於此陰極704的上部，適當設置作爲電極之鋁膜、銀 膜、或防止其氧化之二氧化矽、氮化矽等保護層。 如此形成陰極704後，藉由施以藉密封構件密封此陰 極7 0 4的上部之密封處理或配線處理等其他處理等，可得 顯示裝置700。 其次，第3 8圖係電漿型顯示裝置（P D P裝置；以下 簡稱顯示裝置8 0 0 )的重要部位分解立體圖。又，在該圖 顯示將其一部份剖開的狀態。 此顯示裝置8 00之槪略構成爲包含：相互對向配置的 第1基板801、第2基板802、以及被形成於其間的放電 顯示部8 0 3。放電顯示部8 0 3，係藉由複數放電室8 0 5所 構成。這些複數放電室805之中，以紅色放電室805R、 綠色放電室8 0 5 G、藍色8 0 5 B之三個放電室8 0 5成組地構 成1個畫素的方式被配置。 在第1基板8 0 1的上面以特定間隔形成條紋狀的位址 電極8 0 6，以覆蓋此位址電極8 0 6與第1基板8 0 1的上面 的方式形成介電體層8 0 7。於介電體層807上，位於各位 址電極8 0 6之間且以沿著各位址電極8 0 6的方式立起設有 隔壁8 0 8。此隔壁8 0 8包含如圖所示延伸於位址電極8 0 6 的寬幅方向兩側者，及延伸於與位址電極806直角相交的 方向之未圖示者。 接著，藉由此隔壁8 0 8所區隔的區域成爲放電室8 0 5 〇 放電室8 0 5內配設有螢光體8 09。螢光體8 09係發光 -61 - (59) 1260279 出紅R、綠G、藍B之任一色的螢光，分別在紅色放電室 8 05 R的底部配置有紅色螢光體8 0 9R、在綠色放電室 805G的底部配置有綠色螢光體809G、在藍色放電室 805B的底部配置有藍色螢光體809B。 在第 2基板8 02的圖中下側之面，與上述位址電極 8 06直角相交的方向上有複數顯示電極81 1隔著特定的間 隔爲形成爲條紋狀。接著，以覆蓋這些的方式被形成由介 電體層8 1 2、以及氧化鎂等所構成的保護膜8 1 3。 第1基板801與第2基板802，係在以位址電極806 與顯示電極8 1 1相互直交的狀態下使其對向而貼合。又， 上述位址電極8 0 6與顯示電極8 1 1被接續於未圖示之交流 電源。 接著，藉由對各電極8 06、81 1通電，於放電顯示部 8 0 3螢光體8 09被激發發光，而可以顯示彩色。 於本實施型態，可以使用第1圖所示之液滴吐出裝置 3形成上述位址電極8 06、顯示電極81 1、以及螢光體809 等。以下，例示第1基板801之位址電極8 06的形成工程 〇 在此場合，在將第1基板8 0 1載置於液滴吐出裝置3 的設定台1 0 1的狀態進行以下的工程。 首先，藉由功能液滴吐出頭72，將含有導電膜配線 形成用材料的液體材料（功能液）作爲功能液滴使彈著於 位址電極形成區域。此液體材料，作爲導電膜配線形成用 材料，係使金屬等導電性微粒子分散於分散媒者。作爲此 -62 · (60) (60)1260279 導電性微粒子，可以使用含有金、銀、銅、鈀、或者鎳的 金屬微粒子，或導電性高分子等。 關於成爲補充對向的所有的位址電極形成區域，結束 液體材料的補充之後，乾燥處理吐出後的液體材料，使包 含於液體材料的分散媒蒸發而藉以形成位址電極8 06。 然而，於上述係例示位址電極8 06之形成，對於上述 顯示電極81 1以及螢光體8 09也可以藉由經上述各工程而 形成。 形成顯示電極8 1 1的場合，與位址電極8 06的場合同 樣，使含有導電膜配線形成用材料的液體材料（功能液） 作爲功能液滴使彈著於顯示電極形成區域。 此外’在形成螢光體809的場合，使包含對應各色（ R、G、B )之螢光材料的液體材料（功能液）由功能液滴 吐出頭72作爲液滴吐出，使彈著於對應色的放電室805 內。 其次，第39圖，顯示電子放出裝置（FED裝置或者 SED裝置’以下簡稱顯示裝置90 0 )之重要部分剖面圖。 又，在該圖係將顯示裝置900的一部份以剖面顯示。 此顯示裝置900之槪略構成爲包含相互對向配置的第 1基板901、第2基板902、及被形成於其間的電場放出 顯示部9 0 3。電場放出顯示部903係由配置爲矩陣狀的複 數電子放出部9 0 5所構成。 第1基板901的上面，構成陰極電極90 6的第1元件 電極90 6a以及第2元件電極906b以相互直交的方式被形 -63- (61) (61)1260279 成。此外，以第1元件電極906a與第2元件電極9 06b所 區隔的部分，被形成形成間隙9 0 8的導電性膜9 0 7。亦即 藉由第1元件電極9 0 6 a、第2元件電極9 0 6 b以及導電性 膜9 0 7構成複數電子放出部9 0 5。導電性膜9 0 7例如以氧 化鈀（PdO )等構成’此外間隙90 8係在形成導電性膜 907後，藉由塑形（forming)等形成。 於第2基板9 0 2的下面，被形成對峙於陰極9 0 6的陽 極電極9 0 9。陽極電極9 0 9的下面，被形成格子狀的堤部 9 1 1，以此堤部9 11包圍的往下開口之各開口部9 1 2以對 應於電子放出部905的方式被配置螢光體913。螢光體 9 1 3，係發出紅R、綠G、藍B之任一色的螢光者，於各 開口部9 1 2，紅色螢光體9 1 3 R、綠色螢光體9 1 3 G、藍色 螢光體913B被配置爲以上述特定之圖案。 接著，所謂如上述般構成的第1基板901與第2基板 902，存有微小間隙而被貼合。在此顯示裝置9 00,透過導 電性膜（間隙908 ) 907使由陰極之第1元件電極906a或 者第2元件電極906b所飛出的電子，打到形成於陽極之 陽極電極909的螢光體9 1 3而激發放光，而可以行彩色顯 不 ° 在此場合也與其他實施型態问樣’使用液滴吐出裝置 3形成第1元件電極906a、第2元件電極906b、導電性 膜90 7以及陽極電極90 9，同時可以使用液滴吐出裝置3 形成各色之螢光體913R、913G、913B。 第1元件電極906a、第2元件電極906b、以及導電 -64- (62) 1260279
性膜907，具有第40a圖所示之平面形狀，在成膜這些的 場合，如第 40b圖所示，預先殘留作入第1元件電極 906a、第2元件電極906b、導電性膜9 0 7的部分，形成 (以光蝕刻法）堤部B B ◦接著，在藉由堤部B B構成的 溝部分，形成第1元件電極90 6a、第2元件電極9 06b ( 根據液滴吐出裝置3之噴墨法），使其溶劑乾燥進行成膜 之後，形成導電性膜907 (藉由根據液滴吐出裝置3之噴 墨法）。接著，形成導電性膜9 0 7後，除去堤部B B (灰 化剝離處理），移至上述之塑形處理。又，與上述有機 EL的場合同樣，以進行對第1基板901以及第2基板 902之親液化處理或對堤部91 1、BB之撥液化處理較佳。 此外，做爲其他光學裝置，亦可考慮金屬配線形成、 透鏡形成、光阻形成、以及光擴散體形成等之裝置。藉由 將上述之液滴吐出裝置3用於各種光電裝置（裝置）之製 造，可以有效率地製造各種光電裝置。
【圖式簡單說明】 第1圖係本發明實施型態相關之描繪系統之平面模式 圖。 第2圖係本發明實施型態相關之液滴吐出裝置之外觀 斜視圖。 第3圖係本發明實施型態相關之液滴吐出裝置之平面 圖。 第4圖係本發明實施型態相關之液滴吐出裝置之正面 -65- (63) (63)1260279 圖。 第5圖係本發明實施型態相關之液滴吐出裝置之側面 圖。 第6圖係頭單元（head unit )之說明圖，顯示頭單元 之頭板（head plate)周圍之圖。 第7圖係功能液滴吐出頭之外觀立體圖。 第8圖係本實施型態之頭板之說明圖，（a )係頭板 之外觀立體圖，（b )係從下側所見之頭板之圖。 第9圖係針對本實施型態之頭板的變形例的說明圖， (a )係頭板的外觀立體圖，（b )係從下側所見之頭板的 圖。 第1 0圖係功能液供給手段之說明圖，（a )係壓力調 整閥周圍之說明圖，（b )係壓力調整閥之剖面圖。 第Π圖係角鋼架台周圍之外觀立體圖。 第1 2圖係角鋼架台周圍之背面圖。 第1 3圖係分割吸引單元周圍之外觀立體圖。 第1 4圖係分割吸引單元周圍之側面圖。 第15圖係擦拭（wiping)單元周圍之外觀立體圖。 第1 6圖係擦拭單元周圍之側面圖。 第1 7圖係橫移動機構之說明圖，（a )係顯示功能液 滴吐出頭，與擦拭後且橫移動機構驅動前的擦拭片（ w i p i n g s h e e t )之位置關係圖，（b )係顯示功能液滴吐出 頭，與擦拭後且橫移動機構驅動後的擦拭片之位置關係圖 -66- (64) (64)1260279 第1 8圖係說明描繪裝置之主控制系之方塊圖。 第19圖係說明在定期維修（mailltenance)之分割頭 單元與分割吸引單元之位置關係圖。 第2 0圖係供說明定期維修之本實施型態之變形例之 圖，（a )係在第1分割頭單元之擦拭時，（b )係在第2 分割頭單元之擦拭時，（c )係在第6分割頭單元之擦拭 時，說明其與分割吸引單元之位置關係圖。 第2 1圖係說明在頭交換之分割頭單元與分割吸引單 元之位置關係圖。 第22圖係顯示在第5分割頭單元之維修時之分割吸 引單元之位置關係圖。 第2 3圖係說明彩色濾光片製造工程之流程圖。 第24圖（a )〜（e )係依製造工程順序顯示之彩色 濾光片之模式剖面圖。 第2 5圖係顯示採用適用本發明之彩色濾光片之液晶 裝置的槪略構成之重要部分剖面圖。 第26圖係顯示採用適用本發明之彩色濾光片之第2 例之液晶裝置的槪略構成之重要部分剖面圖。 第2 7圖係顯示採用適用本發明之彩色濾光片之第3 例之液晶裝置的槪略構成之重要部分剖面圖。 第2 8圖係有機EL裝置之顯示裝置之重要部分剖面 圖。 第29圖係說明有機EL裝置之顯示裝置之製造工程 流程圖。 -67- (65) 1260279 第30圖係說明形成無機物堤（bank )層之工程圖。 第3 1圖係說明形成有機物堤層之工程圖。 第3 2圖係說明形成正孔注入/輸送層的過程之工程 圖。 第3 3圖係說明正孔注入/輸送層被形成的狀態之工 程圖。 第3 4圖係說明形成藍色發光層的過程之工程圖。 第3 5圖係說明藍色發光層被形成的狀態之工程圖。 第3 6圖係說明各色發光層被形成的狀態之工程圖。 第3 7圖係說明形成陰極之工程圖。 第38圖係電漿型顯示裝置（PDP裝置）之顯示裝置 之重要部分分解立體圖。 第39圖係電子放出裝置（FED裝置）之顯示裝置之 重要部分剖面圖。 第40圖係顯不裝置之電子放出部周圍之平面圖（&) 以及顯示其形成方法之平面圖（b )。 【主要元件符號說明】 3 :液滴吐出裝置 5 :控制裝置 41 :頭單元 42 :工件移動手段 4 3 :頭移動手段 4 6 :維修（m a i n t e 11 a n c e )手段 -68- (66) (66)1260279 5 1 :描繪區域 5 2 :維修區域 7 1 :分割頭單元 7 2 :功能液滴吐出頭 7 3 :頭板 7 5 :載件 8 7 :噴嘴面 8 8 :吐出噴嘴 111: 0 台（table) 1 1 2 :吸附台 1 2 1 : 0固定部 122 : 0回轉部 13 1 :台本體 1 33 :支撐座（base ) 2 0 1 :功能液槽 232 :吸引單元 2 3 3 :擦拭單元 2 3 5 :單元昇降機構 2 4 1 :防水盒 2 8 1 :擦拭片 2 8 3 :橫移動機構 291 :片供給單元 2 9 3 :洗淨液供給單元 W :工件 -69