JP2003266738A - 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - Google Patents

吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Info

Publication number
JP2003266738A
JP2003266738A JP2002076740A JP2002076740A JP2003266738A JP 2003266738 A JP2003266738 A JP 2003266738A JP 2002076740 A JP2002076740 A JP 2002076740A JP 2002076740 A JP2002076740 A JP 2002076740A JP 2003266738 A JP2003266738 A JP 2003266738A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
head
functional liquid
liquid droplet
forming
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002076740A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Nakamura
真一 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2002076740A priority Critical patent/JP2003266738A/ja
Priority to KR10-2002-0079218A priority patent/KR100453602B1/ko
Priority to TW091137522A priority patent/TW565508B/zh
Priority to US10/383,566 priority patent/US6910762B2/en
Priority to CNB031072542A priority patent/CN1210153C/zh
Publication of JP2003266738A publication Critical patent/JP2003266738A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J29/00Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
    • B41J29/02Framework
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J25/00Actions or mechanisms not otherwise provided for
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/09Ink jet technology used for manufacturing optical filters
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット方式の吐出装置で用いるヘッ
ドユニットであって、吐出装置のメインキャリッジに保
持されるサブキャリッジ41に液滴吐出ヘッド7を搭載
して成るものにおいて、液滴吐出ヘッド7に対する給液
用の配管経路の配管作業を容易にすると共に、配管取り
外し時の液垂れで液滴吐出ヘッド7の配線コネクタが汚
損されることを防止する。 【解決手段】 サブキャリッジ41に、液滴吐出ヘッド
7の搭載箇所から離れた場所に位置させて、液滴吐出ヘ
ッド7に配管アダプタ48を介して接続されているヘッ
ド側配管部材に吐出装置の給液タンクに連なる装置側配
管部材を着脱自在に接続する配管ジョイント49を設け
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークに対し相対
移動するメインキャリッジを備える吐出装置で使用する
ヘッドユニットに関し、更に詳細には、吐出装置のメイ
ンキャリッジに着脱自在に保持されるサブキャリッジに
インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッド
を搭載して成る吐出装置用のヘッドユニットおよびこれ
を備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有
機EL装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PD
P装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラ
ーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ
形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジス
ト形成方法および光拡散体形成方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】インクジェットプリンタのインクジェッ
トヘッド(機能液滴吐出ヘッド)は、微小なインク滴
(液滴)をドット状に精度良く吐出することができるこ
とから、例えば吐出液に特殊なインクや感光性の樹脂等
の機能液を用いることにより、各種製品の製造分野への
応用が期待されている。
【0003】例えば、カラーフィルタの基板といったワ
ークに対し相対移動するメインキャリッジを備える吐出
装置を用い、吐出装置のメインキャリッジに着脱自在に
保持されるサブキャリッジに複数の機能液滴吐出ヘッド
を搭載して成るヘッドユニットを吐出装置に投入し、ヘ
ッドユニットをメインキャリッジの動きでワークに対し
相対移動させつつ各機能液滴吐出ヘッドから液晶材料や
有機発光材料を吐出させて、液晶表示装置や有機EL表
示装置等を製造することが考えられている。
【0004】この場合、液晶材料や有機発光材料といっ
た吐出すべき液体を機能液滴吐出ヘッドに供給するた
め、吐出装置に設けた給液タンクに連なる配管部材を機
能液滴吐出ヘッドの液体導入口に着脱自在に接続し、液
体導入口から配管部材を取り外してヘッドユニットの交
換を行い得られるようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、機能液滴吐
出ヘッドには、これに形成した各吐出ノズルに液体を圧
送するポンプ部とポンプ部用の配線コネクタ部とが設け
られており、上記の如く機能液滴吐出ヘッドの液体導入
口に配管部材を着脱自在に接続すると、配管部材を取り
外したときに、配管部材からの液垂れで配線コネクタ部
に液体が付着し、故障の原因になることがある。
【0006】本発明は、以上の点に鑑み、機能液滴吐出
ヘッドの配線コネクタ部への液垂れを防止できるように
した吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出
装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機EL装置の
製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造
方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの
製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成方法、金
属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法お
よび光拡散体形成方法を提供することをその課題として
いる。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の吐出装置用ヘッ
ドユニットは、ワークに対し相対移動するメインキャリ
ッジを備える吐出装置で使用するヘッドユニットであっ
て、メインキャリッジに着脱自在に保持されるサブキャ
リッジに機能液滴吐出ヘッドを搭載して成るものにおい
て、サブキャリッジの機能液滴吐出ヘッドから離間した
位置に、吐出装置に設けた給液タンクに連なる装置側配
管部材と機能液滴吐出ヘッドに連なるヘッド側配管部材
とを接続する配管ジョイントを設けたことを特徴とす
る。
【0008】上記の構成によれば、配管ジョイントにお
いて装置側配管部材を取り外すことによりヘッドユニッ
トを交換できる。そして、配管ジョイントは機能液滴吐
出ヘッドから離間しているため、配管部材からの液垂れ
を生じても機能液滴吐出ヘッドの配線コネクタ部に液体
が付着することはない。
【0009】また、配管ジョイントを機能液滴吐出ヘッ
ドが存在しないヘッドユニットのオープンスペース部分
に配置することで配管作業が行い易くなる。特に、配管
ジョイントを、一端部に管継手を介してヘッド側配管部
材を接続した、サブキャリッジに固定のソケットと、該
ソケットの他端部に形成したプラグ穴に抜差し自在に嵌
合する、装置側配管部材を接続したプラグとを備えるも
のに構成すれば、配管ジョイントに対する装置側配管部
材の着脱が容易になり、配管作業性が一層向上する。
【0010】ここで、ソケットとプラグとを備える配管
ジョイントでは、プラグの先端にテーパを付けて、ソケ
ットにプラグを挿入し易くするが、このままではプラグ
穴の穴底面とプラグの先端との間に空隙が形成され、稼
働中に空隙からの気泡が機能液滴吐出ヘッドに流入し
て、吐出不良を生ずる可能性がある。この場合、プラグ
穴の穴底面を、プラグの先端のテーパに合わせたテーパ
面に形成しておけば、プラグ穴の穴底面とプラグの先端
との間に空隙が形成されず、また、プラグ穴の深さとプ
ラグの長さとの寸法公差でプラグ穴の穴底面とプラグの
先端との間に空隙が空いても、この空隙はプラグから流
出する液体の流線に向けてテーパ状に指向するため、吐
出装置の稼働前に行う機能液滴吐出ヘッドへの液体充填
工程で空隙から効率良く気泡が吸い出され、稼働中に空
隙からの気泡が機能液滴吐出ヘッドに流入することはな
い。
【0011】また、ソケットとプラグとの間のシール性
を向上させるため、プラグの外周に、プラグ穴に対する
シール用のOリングを軸方向の間隔を存して複数装着す
ることが望ましい。
【0012】本発明の吐出装置は、上記した吐出装置用
ヘッドユニットを備え、ワークである基板に対し、機能
液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に走査しなが
ら機能液滴を選択的に吐出することを特徴とする。
【0013】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドへ
の配管材の繋ぎ込み等において、機能液滴吐出ヘッドの
配線コネクタ部への液垂れを防止でき、信頼性ある吐出
装置を提供することができる。
【0014】本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記
した吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上にフィル
タエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であっ
て、機能液滴吐出ヘッドにフィルタ材料を導入し、吐出
装置用ヘッドユニットを介して機能液滴吐出ヘッドを基
板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出
してフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
【0015】本発明の有機EL装置の製造方法は、上記
した吐出装置を用い、基板上の絵素ピクセルにEL発光
層を形成する有機EL装置の製造方法であって、機能液
滴吐出ヘッドに発光材料を導入し、吐出装置用ヘッドユ
ニットを介して機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的
に走査し、発光材料を選択的に吐出してEL発光層を形
成することを特徴とする。
【0016】本発明の電子放出装置の製造方法は、上記
した吐出装置を用い、電極上に蛍光体を形成する電子放
出装置の製造方法であって、機能液滴吐出ヘッドに蛍光
材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能
液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料
を選択的に吐出して蛍光体を形成することを特徴とす
る。
【0017】本発明のPDP装置の製造方法は、上記し
た吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部に蛍光体を
形成するPDP装置の製造方法であって、機能液滴吐出
ヘッドに蛍光材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニット
を介して機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に
走査し、蛍光材料を選択的に吐出して蛍光体を形成する
ことを特徴とする。
【0018】本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、
上記した吐出装置を用い、電極上の凹部に泳動体を形成
する電気泳動表示装置の製造方法であって、機能液滴吐
出ヘッドに泳動体材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニ
ットを介して機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に
走査し、泳動体材料を選択的に吐出して泳動体を形成す
ることを特徴とする。
【0019】このように、上記の吐出装置を、液晶表示
装置の製造方法、有機EL(Electro-Luminescence)装
置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP(Plas
ma Display Panel)装置の製造方法および電気泳動表示
装置の製造方法に適用することにより、各製造方法にお
ける信頼性を向上させることができる。なお、液滴吐出
ヘッドの走査は、一般的には主走査および副走査となる
が、いわゆる1ラインを単一の液滴吐出ヘッドで構成す
る場合には、副走査のみとなる。また、電子放出装置
は、いわゆるFED(Field Emission Display)装置を
含む概念である。
【0020】本発明のカラーフィルタの製造方法は、上
記した吐出装置を用い、基板上にフィルタエレメントを
配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタ
の製造方法であって、機能液滴吐出ヘッドにフィルタ材
料を導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液
滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材
料を選択的に吐出してフィルタエレメントを形成するこ
とを特徴とする。この場合、フィルタエレメントを被覆
するオーバーコート膜が形成されており、フィルタエレ
メントを形成した後に、機能液滴吐出ヘッドに透光性の
コーティング材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニット
を介して機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査
し、コーティング材料を選択的に吐出してオーバーコー
ト膜を形成することが、好ましい。
【0021】本発明の有機ELの製造方法は、上記した
吐出装置を用い、EL発光層を含む絵素ピクセルを基板
上に配列して成る有機ELの製造方法であって、機能液
滴吐出ヘッドに発光材料を導入し、吐出装置用ヘッドユ
ニットを介して機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的
に走査し、発光材料を選択的に吐出してEL発光層を形
成することを特徴とする。この場合、EL発光層と基板
との間には、EL発光層に対応して画素電極が形成され
ており、機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、
吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液滴吐出ヘッド
を基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に
吐出して画素電極を形成することが、好ましい。この場
合、EL発光層を覆うように対向電極が形成されてお
り、EL発光層を形成した後に、機能液滴吐出ヘッドに
液状電極材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介
して機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、
液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成するこ
とが、好ましい。
【0022】本発明のスペーサ形成方法は、上記した吐
出装置を用い、2枚の基板間にセルギャップを構成すべ
く粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であっ
て、機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料
を導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液滴
吐出ヘッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査
し、粒子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形
成することを特徴とする。
【0023】本発明の金属配線形成方法は、上記した吐
出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形
成方法であって、機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を
導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液滴吐
出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状金属材料を
選択的に吐出して金属配線を形成することを特徴とす
る。
【0024】本発明のレンズ形成方法は、上記した吐出
装置を用い、基板上にマイクロレンズを形成するレンズ
形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を
導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液滴吐
出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選
択的に吐出してマイクロレンズを形成することを特徴と
する。
【0025】本発明のレジスト形成方法は、上記した吐
出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成する
レジスト形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドにレジ
スト材料を導入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して
機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レジ
スト材料を選択的に吐出してレジストを形成することを
特徴とする。
【0026】本発明の光拡散体形成方法は、上記した吐
出装置を用い、基板上に光拡散体を形成する光拡散体形
成方法であって、機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導
入し、吐出装置用ヘッドユニットを介して機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択
的に吐出して光拡散体を形成することを特徴とする。
【0027】このように、上記の吐出装置を、カラーフ
ィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成
方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形
成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、
各製造方法における信頼性を向上させることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施形態について説明する。本実施形態の吐出装
置は、いわゆるフラットディスプレイの一種である有機
EL装置の製造ラインに組み込まれるものであり、複数
の機能液滴吐出ヘッドを用い、その吐出ノズルから発光
材料等の機能液を吐出して(インクジェット方式)、有
機EL装置の発光機能を為す各画素のEL発光層および
正孔注入層を形成するものである。
【0029】そこで、先ず有機EL装置の構造について
説明すると共にその製造方法(製造プロセス)について
説明する。そして次に、搭載した機能液滴吐出ヘッドを
走査する吐出装置とその周辺設備とから成る有機EL装
置の製造装置を、その製造方法と共に説明する。
【0030】図1ないし図13は、有機EL素子を含む
有機EL装置の製造プロセスと共にその構造を表してい
る。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズ
マ処理工程と、正孔注入/輸送層形成工程及び発光層形
成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程
と、封止工程とを具備して構成されている。
【0031】バンク部形成工程では、基板501に予め
形成した回路素子部502上及び電極511(画素電極
ともいう)上の所定の位置に、無機物バンク層512a
と有機物バンク層512bを積層することにより、開口
部512gを有するバンク部512を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極511の一部に、無
機物バンク層512aを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層512bを形成する工程が含ま
れる。
【0032】まず無機物バンク層512aを形成する工
程では、回路素子部502の第2層間絶縁膜544b上
及び画素電極511上に、その全面に亘って無機物バン
ク層512aとなるSiO2、TiO2等の無機物膜をC
VD法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって形成
する。次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニ
ングして、図1に示すように、電極511の電極面51
1aの形成位置に対応する下部開口部512cを設け
る。このとき、無機物バンク層512aを電極511の
周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このよ
うに、電極511の周縁部(一部)と無機物バンク層5
12aとが重なるように無機物バンク層512aを形成
することにより、発光層510b(図10〜図13参
照)の発光領域を制御することができる。
【0033】次に有機物バンク層512bを形成する工
程では、図2に示すように、無機物バンク層512a上
に有機物バンク層512bを形成する。有機物バンク層
512bをフォトリソグラフィー技術等によりエッチン
グして、有機物バンク層512bの上部開口部512d
を形成する。上部開口部512dは、電極面511a及
び下部開口部512cに対応する位置に設けられる。
【0034】上部開口部512dは、図2に示すよう
に、下部開口部512cより広く、電極面511aより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層512aの下部開口部512cを囲む第1積層部5
12eが、有機物バンク層512bよりも電極511の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部512d、下部開口部512cを連通させることに
より、無機物バンク層512a及び有機物バンク層51
2bを貫通する開口部512gが形成される。
【0035】次に、プラズマ処理工程では、バンク部5
12の表面と画素電極の表面511aに、親液性を示す
領域と、撥液性を示す領域を形成する。このプラズマ処
理工程は、予備加熱工程と、バンク部512の上面(5
12f)及び開口部512gの壁面並びに画素電極51
1の電極面511aを親液性を有するように加工する親
液化工程と、有機物バンク層512bの上面512f及
び上部開口部512dの壁面を、撥液性を有するように
加工する撥液化工程と、冷却工程とに大別される。
【0036】まず、予備加熱工程では、バンク部512
を含む基板501を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板501を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板501を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板501の予備加熱
温度を、例えば70〜80℃の範囲とすることが好まし
い。
【0037】次に、親液化工程では、大気雰囲気中で酸
素を処理ガスとするプラズマ処理(O2プラズマ処理)
を行う。このO2プラズマ処理により、図3に示すよう
に、画素電極511の電極面511a、無機物バンク層
512aの第1積層部512e及び有機物バンク層51
2bの上部開口部512dの壁面ならびに上面512f
が親液処理される。この親液処理により、これらの各面
に水酸基が導入されて親液性が付与される。図3では、
親液処理された部分を一点鎖線で示している。
【0038】次に、撥液化工程では、大気雰囲気中で4
フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理(CF4
ラズマ処理)を行う。CF4プラズマ処理により、図4
に示すように、上部開口部512d壁面及び有機物バン
ク層の上面512fが撥液処理される。この撥液処理に
より、これらの各面にフッ素基が導入されて撥液性が付
与される。図4では、撥液性を示す領域を二点鎖線で示
している。
【0039】次に、冷却工程では、プラズマ処理のため
に加熱された基板501を室温、または液滴吐出工程の
管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板501を
室温、または所定の温度(例えば液滴吐出工程を行う管
理温度)まで冷却することにより、次の正孔注入/輸送
層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【0040】次に、発光素子形成工程では、画素電極5
11上に正孔注入/輸送層及び発光層を形成することに
より発光素子を形成する。発光素子形成工程には、4つ
の工程が含まれる。即ち、正孔注入/輸送層を形成する
ための第1組成物を各前記画素電極上に吐出する第1液
滴吐出工程と、吐出された前記第1組成物を乾燥させて
前記画素電極上に正孔注入/輸送層を形成する正孔注入
/輸送層形成工程と、発光層を形成するための第2組成
物を前記正孔注入/輸送層の上に吐出する第2液滴吐出
工程と、吐出された前記第2組成物を乾燥させて前記正
孔注入/輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程と
が含まれる。
【0041】まず、第1液滴吐出工程では、液滴吐出法
により、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を
電極面511a上に吐出する。なお、この第1液滴吐出
工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲
気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。(な
お、画素電極上にのみ正孔注入/輸送層を形成する場合
は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入/輸
送層は形成されない)
【0042】図5に示すように、機能液滴吐出ヘッドH
に正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を充填
し、機能液滴吐出ヘッドHの吐出ノズルを下部開口部5
12c内に位置する電極面511aに対向させ、機能液
滴吐出ヘッドHと基板501とを相対移動させながら、
吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御された第1組成
物滴510cを電極面511a上に吐出する。
【0043】ここで用いる第1組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、N−メチルピロリドン(NMP)、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入/輸送層形成材料は、R・G・Bの各発光層51
0bに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。
【0044】図5に示すように、吐出された第1組成物
滴510cは、親液処理された電極面511a及び第1
積層部512e上に広がり、下部、上部開口部512
c、512d内に満たされる。電極面511a上に吐出
する第1組成物量は、下部、上部開口部512c、51
2dの大きさ、形成しようとする正孔注入/輸送層の厚
さ、第1組成物中の正孔注入/輸送層形成材料の濃度等
により決定される。また、第1組成物滴510cは1回
のみならず、数回に分けて同一の電極面511a上に吐
出しても良い。
【0045】次に正孔注入/輸送層形成工程では、図6
に示すように、吐出後の第1組成物を乾燥処理及び熱処
理して第1組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させること
により、電極面511a上に正孔注入/輸送層510a
を形成する。乾燥処理を行うと、第1組成物滴510c
に含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層51
2a及び有機物バンク層512bに近いところで起き、
極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入/輸送層形成材料が濃
縮されて析出する。そして、電極面511a上でも極性
溶媒の蒸発が起き、これにより電極面511a上に正孔
注入/輸送層形成材料からなる平坦部510aが形成さ
れる。電極面511a上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ
均一であるため、正孔注入/輸送層の形成材料が電極面
511a上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの
平坦部510aが形成される。
【0046】次に第2液滴吐出工程では、液滴吐出法に
より、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸
送層510a上に吐出する。この第2液滴吐出工程で
は、正孔注入/輸送層510aの再溶解を防止するため
に、発光層形成の際に用いる第2組成物の溶媒として、
正孔注入/輸送層510aに対して不溶な非極性溶媒を
用いる。
【0047】しかしその一方で正孔注入/輸送層510
aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層510a上に吐
出しても、正孔注入/輸送層510aと発光層510b
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
510bを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入/
輸送層510aの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【0048】そこでまず、表面改質工程について説明す
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第2組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、液滴吐出法、スピンコート法また
はディップ法により正孔注入/輸送層510a上に塗布
した後に乾燥することにより行う。
【0049】例えば、液滴吐出法による塗布は、図7に
示すように、機能液滴吐出ヘッドHに、表面改質用溶媒
を充填し、機能液滴吐出ヘッドHの吐出ノズルを基板
(すなわち、正孔注入/輸送層510aが形成された基
板)に対向させ、機能液滴吐出ヘッドHと基板501と
を相対移動させながら、吐出ノズルHから表面改質用溶
媒510dを正孔注入/輸送層510a上に吐出するこ
とにより行う。そして、図8に示すように、表面改質用
溶媒510dを乾燥させる。
【0050】次に、第2液滴吐出工程では、液滴吐出法
により、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/
輸送層510a上に吐出する。図9に示すように、機能
液滴吐出ヘッドHに、青色(B)発光層形成材料を含有
する第2組成物を充填し、機能液滴吐出ヘッドHの吐出
ノズルを下部、上部開口部512c、512d内に位置
する正孔注入/輸送層510aに対向させ、機能液滴吐
出ヘッドHと基板501とを相対移動させながら、吐出
ノズルから1滴当たりの液量が制御された第2組成物滴
510eとして吐出し、この第2組成物滴510eを正
孔注入/輸送層510a上に吐出する。
【0051】発光層形成材料としては、ポリフルオレン
系高分子誘導体や、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
EL材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、9,10-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
6、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。
【0052】非極性溶媒としては、正孔注入/輸送層5
10aに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層510bの第2組
成物に用いることにより、正孔注入/輸送層510aを
再溶解させることなく第2組成物を塗布できる。
【0053】図9に示すように、吐出された第2組成物
510eは、正孔注入/輸送層510a上に広がって下
部、上部開口部512c、512d内に満たされる。第
2組成物510eは1回のみならず、数回に分けて同一
の正孔注入/輸送層510a上に吐出しても良い。この
場合、各回における第2組成物の量は同一でも良く、各
回毎に第2組成物量を変えても良い。
【0054】次に発光層形成工程では、第2組成物を吐
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入/輸
送層510a上に発光層510bを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第2組成物を乾燥処理することにより第2
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図10に示す
ような青色(B)発光層510bを形成する。
【0055】続けて、図11に示すように、青色(B)
発光層510bの場合と同様にして、赤色(R)発光層
510bを形成し、最後に緑色(G)発光層510bを
形成する。なお、発光層510bの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。
【0056】次に対向電極形成工程では、図12に示す
ように、発光層510b及び有機物バンク層512bの
全面に陰極503(対向電極)を形成する。なお,陰極
503は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばCa、Ba等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にLiF等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側(封止側)
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極(陰極層)503は、例えば蒸着法、スパッタ
法、CVD法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層510bの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。
【0057】また、フッ化リチウムは、発光層510b
上のみに形成しても良く、更に青色(B)発光層510
b上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色(R)
発光層及び緑色(G)発光層510b、510bには、
LiFからなる上部陰極層503bが接することとな
る。また陰極503の上部には、蒸着法、スパッタ法、
CVD法等により形成したAl膜、Ag膜等を用いるこ
とが好ましい。また、陰極503上に、酸化防止のため
にSiO2、SiN等の保護層を設けても良い。
【0058】最後に、図13に示す封止工程では、窒
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機EL素子504上に封止用基板505を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極50
3にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極503に侵入して陰極503が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極503を接続すると
ともに、駆動ICに回路素子部502の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機EL装置500が得られ
る。
【0059】なお、上記の撥液膜、陰極503、画素電
極511等においても、それぞれ液体材料を用い、液滴
吐出法で形成するようにしてもよい。
【0060】次に、有機EL装置の製造装置について説
明する。上述したように有機EL装置の製造プロセスに
おいて、正孔注入/輸送層(正孔注入層)を形成する正
孔注入/輸送層形成工程(第1液滴吐出工程+乾燥工
程)と、表面改質工程と、発光層を形成する発光層形成
工程(第2液滴吐出工程+乾燥工程)とは、機能液滴吐
出ヘッドを用いた液滴吐出法で行われる。これに対応
し、本実施形態の有機EL装置の製造装置では、機能液
滴吐出ヘッドを、発光機能材料を吐出させながら走査す
る吐出装置が用いられている。
【0061】より具体的には、図14に示すように、正
孔注入/輸送層形成工程(必要な場合には表面改質工程
を含む)を行う正孔注入層形成設備Aは、第1液滴(発
光機能材料:正孔注入層材料)を導入する機能液滴吐出
ヘッドを搭載した上記の吐出装置1aと、乾燥装置2a
と、基板搬送装置3aとを備えており、且つこれらを収
容するチャンバ装置4aを備えている。上述したよう
に、正孔注入/輸送層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置4
aが設けられている。
【0062】チャンバ装置4aは、吐出装置1aを収容
する主チャンバ4aaと、乾燥装置2aおよび基板搬送
装置3aを収容すると共にこれらの連結部分(搬送路)
をトンネル状に収容する副チャンバ4abとで構成され
ている。主チャンバ4aaは、不活性ガスを連続的に流
して良好な雰囲気を構成する方式を採用しており(詳細
は後述する)、副チャンバ4abは、不活性ガスを循環
させて良好な雰囲気を構成する方式を採用している。な
お、図中の符号5は、基板移載装置である。
【0063】同様に、図15に示すように、発光層形成
工程を行う発光層形成設備Bは、第2液滴(発光機能材
料:R・G・B発光層材料)を導入する機能液滴吐出ヘ
ッドを搭載した上記の吐出装置1bと、乾燥装置2b
と、基板搬送装置3bとを色別に3組備えており、且つ
これらを収容するチャンバ装置4bを3組備えている。
上記と同様に、発光層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置4
bが設けられている。そして、この場合のチャンバ装置
4bも、各吐出装置1bを収容する3つの主チャンバ4
baと、各乾燥装置2bおよび各基板搬送装置3bを収
容すると共にこれらの連結部分(搬送路)をトンネル状
に収容する3つの副チャンバ4bbとで構成されてい
る。
【0064】正孔注入層形成設備Aの吐出装置1aおよ
び発光層形成設備Bの各吐出装置1bは、それぞれの機
能液滴吐出ヘッドに導入する液体材料が異なるだけで、
同一の構造を有している。また、各乾燥装置2a,2
b、各基板搬送装置3a,3bおよび各チャンバ装置4
a,4bも、同一もしくは同様の構造を有している。し
たがって、機能液滴吐出ヘッドの交換や、発光機能材料
の供給系の交換における手間を無視すれば、任意の1組
の設備(吐出装置1、乾燥装置2、基板搬送装3および
チャンバ装置4)で、有機EL装置の製造は可能であ
る。
【0065】そこで、本実施形態では、図15における
左端の1組の設備、すなわちB色の発光層を形成する吐
出装置1b、乾燥装置2b、基板搬送装3bおよびチャ
ンバ装置4bを例に、各構成装置を説明し、他の設備の
説明は省略する。
【0066】図外の装置により、上記のバンク部形成工
程およびプラズマ処理工程を経た基板は、図15の左端
に位置する基板移載装置5から基板搬送装置3(3b)
に搬送され、ここで方向および姿勢転換されて吐出装置
1(1b)に搬送される。基板搬送装置3(3b)から
吐出装置1(1b)に受け渡され基板は、吐出装置1
(1b)にセットされる。吐出装置1(1b)では、そ
の機能液滴吐出ヘッドにより、基板の多数の画素領域
(開口部512g)にB色の発光材料(液滴)が吐出さ
れる(第2液滴吐出工程)。
【0067】次に、発光材料が塗着した基板は、吐出装
置1(1b)から基板搬送装置3(3b)に受け渡さ
れ、基板搬送装置3(3b)により乾燥装置2(2b)
に導入される。乾燥装置2(2b)では、基板を所定時
間、高温の不活性ガスの雰囲気に曝して、発光材料中の
溶剤を気化させる(乾燥工程)。ここで再度、基板を吐
出装置1(1b)に導入し第2液滴吐出工程が行われ
る。すなわち、この第2液滴吐出工程と乾燥工程とが複
数回繰り返され、発光層が所望の膜厚になったところ
で、基板は基板搬送装置3(3b)を経て、R色の発光
層を形成すべく中間の吐出装置1(1b)に搬送され、
最後に、G色の発光層を形成すべく右端の吐出装置1
(1b)に搬送される。そして、これらの作業は、上記
のチャンバ装置4(4b)内の不活性ガスの雰囲気中で
行われる。なお、B・R・Gの各色発光層の形成のため
の作業順は、任意である。
【0068】なお、乾燥装置2および基板搬送装置3の
詳細な説明は省略するが、例えば乾燥装置2であれば、
不活性ガスを吹き付けるブロー乾燥や真空乾燥の他、ホ
ットプレートを用いるもの或いはランプ(赤外線ラン
プ)を用いるもの等が、好ましい。そして、乾燥温度
は、40℃±2℃〜200℃±2℃とすることが、好ま
しい。
【0069】次に、吐出装置1について詳細に説明す
る。吐出装置1は、図16ないし図19に示すように、
液滴吐出装置(液滴吐出手段)10と、その付帯装置1
1とを備えている。付帯装置11は、液滴吐出装置10
に液体材料を供給すると共に不要となった液体を回収す
る液体供給回収装置13、各構成部品への駆動・制御用
等の圧縮エアーを供給するエアー供給装置14、エアー
を吸引する真空吸引装置15および機能液滴吐出ヘッド
7のメンテナンスに供するメンテナンス装置16等を備
えている。
【0070】液滴吐出装置10は、床上に設置した架台
21と、架台21上に設置した石定盤22と、石定盤2
2上に設置したX軸テーブル23およびこれに直交する
Y軸テーブル24と、Y軸テーブル24に吊設するよう
に設けたメインキャリッジ25と、このメインキャリッ
ジ25に保持されたヘッドユニット26とを有してい
る。詳細は後述するが、ヘッドユニット26には複数の
機能液滴吐出ヘッド7が設けられている。また、この複
数の機能液滴吐出ヘッド7に対応して、X軸テーブル2
3の吸着テーブル81上に基板(ワーク)Wがセットさ
れるようになっている。
【0071】本実施形態の液滴吐出装置10では、機能
液滴吐出ヘッド7の駆動(液滴の選択的吐出)に同期し
て基板Wが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド7
のいわゆる主走査は、X軸テーブル23のX軸方向への
往復の両動作により行われる。また、これに対応して、
いわゆる副走査は、Y軸テーブル24により機能液滴吐
出ヘッド7のY軸方向への往動動作により行われる。な
お、上記の主走査をX軸方向への往動(または復動)動
作のみで行うようにしてもよい。
【0072】一方、ヘッドユニット26のホーム位置
は、図17および図19における図示左端位置となって
おり、且つ、この液滴吐出装置10の左方からヘッドユ
ニット26の運び込み或いは交換が行われる(詳細は後
述する)。また、図示の手前側には、上記の基板搬送装
置3が臨んでおり、基板Wはこの手前側から搬入・搬出
される。そして、この液滴吐出装置10の図示右側に
は、上記付帯装置11の主な構成装置が、一体的に添設
されている。
【0073】付帯装置11は、キャビネット形式の共通
機台31と、共通機台31内の一方の半部に収容した上
記のエアー供給装置14および真空吸引装置15と、共
通機台31内の一方の半部に主要装置を収容した上記の
液体供給回収装置13と、共通機台31上に主要装置を
収容した上記メンテナンス装置16とを備えている。
【0074】メンテナンス装置16は、機能液滴吐出ヘ
ッド7の定期的なフラッシング(全吐出ノズルからの液
体の捨て吐出)を受けるフラッシングユニット33と、
機能液滴吐出ヘッド7の吸引および保管を行うクリーニ
ングユニット34と、機能液滴吐出ヘッド7のノズル形
成面をワイピングするワイピングユニット35とを有し
ている。そして、クリーニングユニット34およびワイ
ピングユニット35は、上記の共通機台31上に配設さ
れている。
【0075】一方、主チャンバ4は、図14および図1
5に示すように、チャンバルーム37に、電気室38お
よび機械室39を併設した、いわゆるクリーンルームの
形態を有している。チャンバルーム37には、不活性ガ
スである窒素ガスが導入され、これに収容した上記の液
滴吐出装置10および付帯装置11は、全体として窒素
ガスの雰囲気に曝され、窒素ガスの雰囲気中で稼動す
る。
【0076】ここで、図20の模式図を参照して、窒素
ガスの雰囲気中で稼動する吐出装置1の一連の動作を簡
単に説明する。先ず、準備段階として、ヘッドユニット
26が液滴吐出装置10に運び込まれ、これがメインキ
ャリッジ25にセットされる。ヘッドユニット26がメ
インキャリッジ25にセットされると、Y軸テーブル2
4がヘッドユニット26を、図外のヘッド認識カメラの
位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニッ
ト26が位置認識される。ここで、この認識結果に基づ
いて、ヘッドユニット26がθ補正され、且つ、ヘッド
ユニット26のX軸方向およびY軸方向の位置補正がデ
ータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット(メイ
ンキャリッジ25)26はホーム位置に戻る。
【0077】一方、X軸テーブル23の吸着テーブル8
1上に基板(この場合は、導入される基板毎)Wが導入
されると、この位置(受渡し位置)で後述する主基板認
識カメラ90が基板を位置認識する。ここで、この認識
結果に基づいて、基板Wがθ補正され、且つ、基板Wの
X軸方向およびY軸方向の位置補正がデータ上で行われ
る。位置補正後、基板(吸着テーブル81)Wはホーム
位置に戻る。なお、X軸およびY軸テーブル23,24
の初期調整時(いわゆる通り出し)には、吸着テーブル
81上にアライメントマスクを導入し、後述する副基板
認識カメラ108により初期調整を行う。
【0078】このようにして準備が完了すると、実際の
液滴吐出作業では、先ずX軸テーブル23が駆動し、基
板Wを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴
吐出ヘッド7を駆動して、機能液滴の基板Wへの選択的
な吐出動作が行われる。基板Wが復動した後、こんどは
Y軸テーブル24が駆動し、ヘッドユニット26を1ピ
ッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Wの主走査方
向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド7の駆動が行われ
る。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Wの端か
ら端まで(全領域)液滴吐出が行われる。
【0079】なお、本実施形態では、ヘッドユニット2
6に対し、その吐出対象ワークである基板Wを主走査方
向(X軸方向)に移動させるようにしているが、ヘッド
ユニット26を主走査方向に移動させる構成であっても
よい。また、ヘッドユニット26を固定とし、基板Wを
主走査方向および副走査方向に移動させる構成であって
もよい。
【0080】次に、上記した液滴吐出装置10および付
帯装置11について、順を追って説明するが、その前
に、理解を容易にすべく、液滴吐出装置10の主要部と
なるヘッドユニット26について詳細に説明する。
【0081】図21ないし図23は、ヘッドユニットの
構造図である。これらの図に示すように、ヘッドユニッ
ト26は、サブキャリッジ41と、サブキャリッジ41
に搭載した複数個(12個)の機能液滴吐出ヘッド7
と、各機能液滴吐出ヘッド7をサブキャリッジ41に個
々に取り付けるための複数個(12個)のヘッド保持部
材42とを備えている。12個の機能液滴吐出ヘッド7
は、6個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の
角度傾けて配設されている。
【0082】また、各6個の機能液滴吐出ヘッド7は、
副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、12個
の機能液滴吐出ヘッド7の全吐出ノズル68(後述す
る)が副走査方向において連続する(一部重複)ように
なっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブ
キャリッジ41上において、同一方向に傾けて配置した
6個の機能液滴吐出ヘッド7を2列としたものであり、
且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド7が相互
に180°回転した配置となっている。
【0083】もっとも、この配列パターンは一例であ
り、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出
ヘッド7同士を90°の角度を持って配置(隣接ヘッド
同士が「ハ」字状)したり、各ヘッド列間における機能
液滴吐出ヘッド7を90°の角度を持って配置(列間ヘ
ッド同士が「ハ」字状)したりすることは可能である。
いずれにしても、12個の機能液滴吐出ヘッド7の全吐
出ノズル68によるドットが副走査方向において連続し
ていればよい。
【0084】また、各種の基板Wに対し機能液滴吐出ヘ
ッド7を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド7をあ
えて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配
設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列
(ドット列)を構成できる限り、これを単一の機能液滴
吐出ヘッド7で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘ
ッド7で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッ
ド7の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
【0085】サブキャリッジ41は、一部が切り欠かれ
た略方形の本体プレート44と、本体プレート44の長
辺方向の中間位置に設けた左右一対の基準ピン45,4
5と、本体プレート44の両長辺部分に取り付けた左右
一対の支持部材46,46と、各支持部材46の端部に
設けた左右一対のハンドル47,47とを有している。
左右のハンドル47,47は、例えば組み立てたヘッド
ユニット26を上記の液滴吐出装置10に載せ込む場合
に、ヘッドユニット26を手持ちするための部位とな
る。また、左右の支持部材46,46は、サブキャリッ
ジ41を液滴吐出装置10のセット部に固定するときの
部位となる(いずれも詳細は後述する)。更に、一対の
基準ピン45,45は、画像認識を前提として、サブキ
ャリッジ(ヘッドユニット26)41をX軸、Y軸およ
びθ軸方向に位置決め(位置認識)するための基準とな
るものである。
【0086】さらに、サブキャリッジ41には、各機能
液滴吐出ヘッド7から離れた場所、例えばサブキャリッ
ジ41のハンドル47側の端部に位置させて、各機能液
滴吐出ヘッド7に配管アダプタ48を介して接続される
ヘッド側配管部材48aと液体供給回収装置13の後記
詳述する給液タンク126に連なる装置側配管部材とを
着脱自在に接続する配管ジョイント49が設けられてい
る。
【0087】図24(a)(b)に明示されているよう
に、配管ジョイント49は、サブキャリッジ41のハン
ドル47側の端部にブラケット490を介して固定され
る横長のプレート491を備えており、このプレート4
91に、上下2列で計12個のソケット492を嵌合固
定し、各ソケット492の一端部に、各ヘッド側配管部
材48aを管継手493を介して接続するように構成さ
れている。各ソケット492の他端部にはプラグ穴49
2aが形成されており、このプラグ穴492aにプラグ
494が抜き差し自在に嵌合している。
【0088】プラグ494には、装置側配管部材がエル
ボ管495を介して接続されており、かくて、各ソケッ
ト492に各プラグ494を抜き差しするだけで、ヘッ
ド側配管部材48aに装置側配管部材を接続、分離でき
る。そして、配管分離時に液垂れを生じても、配管ジョ
イント49は機能液滴吐出ヘッド7から離間しているた
め、後記する機能液滴吐出ヘッド7のコネクタ66に液
垂れした液体が付着することはなく、液垂れによる故障
を防止できる。尚、上記プラグ494は、プレート49
1に両端のねじ496で着脱自在に取り付けられる押え
バー497により抜け止めされている。
【0089】ところで、プラグ穴492a内にプラグ4
94との間の空隙を生ずると、空隙からの気泡が機能液
滴吐出ヘッド7に流入して、液滴の吐出不良を生ずる。
そこで、本実施形態では、プラグ穴492aの穴底面4
92bをプラグ494の先端のテーパに合わせたテーパ
面に形成し、空隙が生じないようにしている。尚、プラ
グ穴492aの深さとプラグ494の長さとの寸法公差
で穴底面492bとプラグ494の先端との間に若干の
空隙を生ずる可能性もあるが、この空隙はプラグ494
から流出する液体の流線方向にテーパ状に指向するた
め、吐出装置1にヘッドユニット26を投入したときに
行う機能液滴吐出ヘッド7への液体充填工程で空隙から
容易に気泡を吸引排除でき、吐出装置1の稼働中に空隙
から機能液滴吐出ヘッド7に気泡が流入することはな
い。
【0090】また、本実施形態では、プラグ494の外
周に、プラグ穴492aに対するシール用のOリング4
98を軸方向の間隔を存して複数、例えば2個装着し、
プラグ494とソケット492との間のシール性を向上
させている。
【0091】さらに、サブキャリッジ41には、図示し
ないが、左右2列の機能液滴吐出ヘッド群の上側に位置
して、これら機能液滴吐出ヘッド7に接続される左右一
対の配線接続アッセンブリが設けられている。そして、
各配線接続アッセンブリは、吐出装置1の制御装置(ヘ
ッドドライバ:図示省略)に配線接続されるようになっ
ている。
【0092】図25(a)(b)に示すように、機能液
滴吐出ヘッド7は、いわゆる2連のものであり、2連の
接続針62,62を有する液体導入部61と、液体導入
部61の側方に連なる2連のヘッド基板63と、液体導
入部61の下方に連なる2連のポンプ部64と、ポンプ
部64に連なるノズル形成プレート65とを備えてい
る。各接続針62には、上記配管アダプタ48が接続さ
れており、更に、各接続針62の基部には、ポンプ部6
4への異物の侵入を防止するフィルタ62aが装着され
ている。ヘッド基板63の2連のコネクタ66,66に
は、上記配線接続アッセンブリから導出されるフレキシ
ブルフラットケーブル(図示せず)が接続されている。
【0093】また、ポンプ部64とノズル形成プレート
65とにより、サブキャリッジ41裏面側に突出する方
形のヘッド本体60が構成されている。また、ノズル形
成プレート65のノズル形成面67には、多数の吐出ノ
ズル68が2列に形成されている。尚、配管アダプタ4
8は、2連の接続針62,62に対応させて各1個の機
能液滴吐出ヘッド7に対し2個宛設けられているため、
配管ジョイント49の各ソケット492に接続されるヘ
ッド側配管部材48aをY字継ぎ手を介して2個の配管
アダプタ48,48に接続している。
【0094】次に、液滴吐出装置10の他の構成装置と
付帯装置11の各構成装置について、順を追って説明す
る。
【0095】図26ないし図29は、X軸テーブルを搭
載した液滴吐出装置の架台21および石定盤22を表し
ている。これら図に示すように、架台21は、アングル
材等を方形に組んで構成され、下部に分散配置したアジ
ャストボルト付きの複数(9個)の支持脚71を有して
いる。架台21の上部には、各辺に対し2個の割合で、
運搬等の移動の際に石定盤22を固定するための複数
(8個)の固定部材72が、側方に張り出すように取り
付けられている。各固定部材72は、ブラケット様に
「L」字状に形成され、基端側を架台21の上部側面に
固定され、先端側を調整ボルト73を介して、石定盤2
2の下部側面に当接するようになっている。石定盤22
は、架台21に対し非締結状態で載っており、石定盤2
2を運搬する際にこの固定部材72により、架台21に
対し石定盤22がX軸方向およびY軸方向(前後左右)
に不動に固定される。
【0096】石定盤22は、機能液滴吐出ヘッド7を精
度良く移動させるX軸テーブル23およびY軸テーブル
24が、周囲の環境条件や振動等により精度(特に平面
度)上の狂いが生じないように支持するものであり、平
面視長方形の無垢の石材で構成されている。石定盤22
の下部には、これを架台21上に支持するアジャストボ
ルト付きの3つの主支持脚75および6つの補助脚76
が設けられている。3つの主支持脚75は、石定盤22
を3点で支持し、その表面の平行度(水平度を含む)を
出すためのものであり、6つの補助脚76は、石定盤2
2の3つの主支持脚75から外れた部分を支持しその撓
みを抑制するものである。
【0097】このため、図29に模式的に示すように、
3つの主支持脚75,75,75は二等辺三角形をなす
ように配置され、その底辺を為す2つの主支持脚75
が、石定盤22の基板搬入側(同図では左側、図16で
は手前側)に位置するように配設されている。また、6
つの補助脚76,76,76,76,76,76は、上
記3つの主支持脚75,75,75を含んで縦横に3×
3となるように、均一且つ分散して配設されている。
【0098】この場合、石定盤22上には、その長辺に
沿う中心線に軸線を合致させてX軸テーブル23が設置
され、短辺に沿う中心軸に軸線を合致させてY軸テーブ
ル24が設置されている。このため、X軸テーブル23
は、石定盤22上に直接固定され、Y軸テーブル24
は、その4本の支柱78がそれぞれスペーサブロック7
9を介して石定盤22上に固定されている。これによ
り、Y軸テーブル24は、X軸テーブル23を跨いでそ
の上側に直交するように配設されている。なお、図27
中の符号80は、後述する主基板認識カメラを固定ため
の4つの小ブロックであり、主基板認識カメラも石定盤
22上に固定されている。
【0099】図26ないし図28のX軸移動系と図30
ないし図32のθ移動系に示すように、X軸テーブル2
3は、石定盤22の長辺方向に延在しており、基板Wを
エアー吸引により吸着セットする吸着テーブル81と、
吸着テーブル81を支持するθテーブル82と(図30
ないし図32参照)、θテーブル82をX軸方向にスラ
イド自在に支持するX軸エアースライダ83と、θテー
ブル82を介して吸着テーブル81上の基板WをX軸方
向に移動させるX軸リニアモータ84と、X軸エアース
ライダ83に併設したX軸リニアスケール85と(図2
6ないし図29参照)で構成されている。
【0100】X軸リニアモータ84は、X軸エアースラ
イダ83のヘッドユニット26搬入側に位置し、X軸リ
ニアスケール85は、X軸エアースライダ83の付帯装
置11側に位置しており、これらは、相互に平行に配設
されている。X軸リニアモータ84、X軸エアースライ
ダ83およびX軸リニアスケール85は、石定盤22上
に直接支持されている。吸着テーブル81には、上記の
真空吸引装置15に連なる真空チューブが接続されてお
り(図示省略)、そのエアー吸引によりセットされた基
板Wが平坦度を維持するようにこれを吸着する。
【0101】また、X軸リニアスケール85の付帯装置
11側には、これに平行に位置して、石定盤22上にボ
ックス88に収容された状態で、X軸ケーブルベア(登
録商標)87が配設されている。X軸ケーブルベア87
には、吸着テーブル81の真空チューブやθテーブル8
2用のケーブル等が、吸着テーブル81およびθテーブ
ル82の移動に追従するように、収容されている(図2
7および図28参照)。
【0102】このように構成されたX軸テーブル23
は、X軸リニアモータ84の駆動により、基板Wを吸着
した吸着テーブル81およびθテーブル82が、X軸エ
アースライダ83を案内にしてX軸方向に移動する。こ
のX軸方向の往復移動において、基板搬入側から奥側に
向かう往動動作により、機能液滴吐出ヘッド7の相対的
な主走査が行われる。また、後述する主基板認識カメラ
90の認識結果に基づいて、θテーブル82による基板
Wのθ補正(水平面内における角度補正)が行われる。
【0103】図33は、主基板認識カメラを表してい
る。同図に示すように、吸着テーブル81の直上部に
は、基板の搬入位置(受渡し位置)に臨むように、一対
の主基板基板認識カメラ90,90が配設されている。
一対の主基板基板認識カメラ90,90は、基板の2つ
の基準位置(図示省略)を同時に画像認識するようにな
っている。
【0104】図34、図35および図36に示すよう
に、Y軸テーブル24は、石定盤22の短辺方向に延在
しており、上記のメインキャリッジ25を吊設するブリ
ッジプレート91と、ブリッジプレート91を両持ちで
且つY軸方向にスライド自在に支持する一対のY軸スラ
イダ92,92と、Y軸スライダ92に併設したY軸リ
ニアスケール93と、一対のY軸スライダ92,92を
案内にしてブリッジプレート91をY軸方向に移動させ
るY軸ボールねじ94と、Y軸ボールねじ94を正逆回
転させるY軸モータ95とを備えている。また、一対の
Y軸スライダ92,92の両側に位置して、一対のY軸
ケーブルベア96,96がそれぞれボックス97,97
に収容した状態で、配設されている。
【0105】Y軸モータ95はサーボモータで構成され
ており、Y軸モータ95が正逆回転すると、Y軸ボール
ねじ94を介してこれに螺合しているブリッジプレート
91が、一対のY軸スライダ92,92を案内にしてY
軸方向に移動する。すなわち、ブリッジプレート91の
Y軸方向への移動に伴って、メインキャリッジ25がY
軸方向に移動する。このメインキャリッジ(ヘッドユニ
ット26)25のY軸方向の往復移動において、ホーム
位置側から付帯装置11側に向かう往動動作により、機
能液滴吐出ヘッド7の副走査が行われる。
【0106】一方、上記の4本の支柱78上には、メイ
ンキャリッジ25の移動経路の部分を長方形開口98a
とした載置台プレート98が支持されており、載置台プ
レート98上には、長方形開口98aを逃げて一対のY
軸スライダ92,92およびY軸ボールねじ94が、相
互に平行に配設されている。また、載置台プレート98
から外側に張り出した一対の支持板99,99上には、
上記の一対のY軸ケーブルベア96,96が、そのボッ
クス97,97と共に載置されている。
【0107】基板搬入側のY軸ケーブルベア96には、
主にヘッドユニット26に接続されるケーブルが収容さ
れ、逆側のY軸ケーブルベアには、主にヘッドユニット
26に接続される装置側配管部材が収容されている(い
ずれも図示省略)。そして、これらケーブルおよび配管
部材は、上記のブリッジプレート91を介してヘッドユ
ニット26の複数の機能液滴吐出ヘッド7に接続されて
いる。
【0108】図37および図38に示すように、メイン
キャリッジ25は、上記のブリッジプレート91に下側
から固定される外観「I」形の吊設部材101と、吊設
部材101の下面に取り付けたθテーブル102と、θ
テーブル102の下面に吊設するように取り付けたキャ
リッジ本体103とで構成されている。そして、この吊
設部材101が、上記の載置台プレート98の長方形開
口98aに臨んでいる。
【0109】キャリッジ本体103は、ヘッドユニット
26が着座するベースプレート104と、ベースプレー
ト104を垂設するように支持するアーチ部材105
と、ベースプレート104の一方の端部に突出するよう
に設けた一対の仮置きアングル106,106と、ペー
スプレート104の他方の端部に設けたストッパプレー
ト107とを備えている。また、ストッパプレート10
7の外側には、基板Wを認識する上記の一対の副基板認
識カメラ108が、配設されている。
【0110】ベースプレート104には、ヘッドユニッ
ト26の本体プレート44が遊嵌する方形開口111が
形成され、またこの方形開口111を構成するベースプ
レート104の左右の各開口縁部112には、ヘッドユ
ニット26を位置決め固定するためのボルト孔113,
113、2つの貫通孔114,114および位置決めピ
ン115とが設けられている。
【0111】このように構成されたメインキャリッジ2
5には、ヘッドユニット26が、その両ハンドル47,
47により手持ちされて運び込まれ、セットされるよう
になっている。すなわち、運び込まれたヘッドユニット
26は、いったん両仮置きアングル106,106上に
載置される(仮置き)。ここで、ブリッジプレート91
上に配設した装置側配管部材を、ヘッドユニット26の
配管ジョイント49に接続すると共に、制御系のケーブ
ルを配線接続アッセンブリに配線接続する。そして、再
度ハンドル47,47を把持し、両仮置きアングル10
6,106をガイドにしてヘッドユニット26を先方に
押し入れ、これをベースプレート104の左右の開口縁
部112,112にセットするようになっている。
【0112】次に、付帯装置11の共通機台31につい
て説明する。図39ないし図42に示すように、共通機
台31は、隔壁を介して大小の2つの収容室122a,
122bを形成したキャビネット形式の機台本体121
と、機台本体121上に設けた移動テーブル123と、
移動テーブル123上に固定した共通ベース124と、
機台本体121上の移動テーブル123から外れた端位
置に設けたタンクベース125とを備えている。共通ベ
ース124には、クリーニングユニット34およびワイ
ピングユニット35が載置され、タンクベース125に
は、後述する液体供給回収装置13の給液タンク126
が載置されている。
【0113】機台本体121の下面には、アジャストボ
ルト付きの6つの支持脚128と、4つのキャスタ12
9が設けられており、また液滴吐出装置10側には、液
滴吐出装置10の架台21と連結するための一対の連結
ブラケット130,130が設けられている。これによ
り、液滴吐出装置10と付帯装置(共通機台31)11
と一体化され、且つ必要に応じて付帯装置11を分離
し、移動できるようになっている。
【0114】機台本体121の小さい方の収容室122
bには、エアー供給装置14および真空吸引装置15の
主要部分が収容され、大きい方の収容室122aには、
機能液供給回収装置13のタンク類が収容されている。
そして、このタンク類に接続するための継手群131
が、機台本体121の端部上面に形成した矩形開口12
1aに臨んでいる(図示左端図)。また、この矩形開口
121aの近傍に位置して、後述する廃液ポンプ152
が設けられている(図16参照)。
【0115】移動テーブル123は、機台本体121の
長手方向に延在しており、共通ベース124を支持する
方形テーブル133と、方形テーブル133をスライド
自在に支持する一対の移動スライダ134,134と、
一対の移動スライダ134,134間に配設されたボー
ルねじ135と、ボールねじ135を正逆回転させる移
動モータ136とを備えている。移動モータ136は、
カップリング137を介してボールねじ135の端に接
続され、方形テーブル133は、雌ねじこま138を介
してボールねじ135に螺合している。これにより、移
動モータ136が正逆回転すると、ボールねじ135を
介して方形テーブル133および共通ベース124が、
X軸方向に進退する。
【0116】移動テーブル123は、共通ベース124
上に載置したクリーニングユニット34とワイピングユ
ニット35とを移動させるが、移動テーブル123が駆
動するときには、上記のY軸テーブル24により、ヘッ
ドユニット26がクリーニングユニット34の直上部に
臨んでいる。クリーニングユニット34が、ヘッドユニ
ット26の複数の機能液滴吐出ヘッド7に密着して液体
を吸引すると、各機能液滴吐出ヘッド7のノズル形成面
67が汚れるため、続いて移動テーブル123により、
複数の機能液滴吐出ヘッド7にワイピングユニット35
が接近して、ノズル形成面67が汚れを拭き取るように
動作する(詳細は後述する)。
【0117】また、移動テーブル123の脇には、これ
に平行にケーブルベア139が配設されている。ケーブ
ルベア139は、共通機台31上に固定されると共に先
端部が共通ベース124に固定されていて、両ユニット
34,35用のケーブルやエアーチューブ、或いは後述
する洗浄用のチューブや廃液(再利用)用のチューブ等
が、収容されている(図示省略)。
【0118】次に、図43ないし図46を参照して、液
体供給回収装置13について説明する。図43の配管系
統図に示すように、液体供給回収装置13は、ヘッドユ
ニット26の各機能液滴吐出ヘッド7に液体材料を供給
する液体供給系141と、クリーニングユニット34で
吸引した液体材料を回収する液体回収系142と、ワイ
ピングユニット35に、液体材料の溶剤を洗浄用として
供給する洗浄液供給系143と、フラッシングユニット
33からの廃液を回収する廃液回収系144とで構成さ
れている。
【0119】図44および図45は、上記の共通機台3
1の大きい方の収容室122aに収容したタンク群であ
り、引出し形式の防液パン146上に、複数のタンクが
載置されている。防液パン146上には、タンク群を構
成する、図示左側から洗浄液供給系143の洗浄タンク
147、液体回収系142の再利用タンク148および
液体供給系141の加圧タンク149が横並びに配設さ
れると共に、洗浄タンク147および再利用タンク14
8の近傍に、小型に形成した廃液回収系144の廃液タ
ンク150が配設されている。
【0120】図43に示すように、廃液タンク150
は、廃液ポンプ152を介してフラッシングユニット3
3に接続され、各機能液滴吐出ヘッド7によりフラッシ
ングユニット33に吐出した液体材料を、廃液タンク1
50に回収する。再利用タンク148は、クリーニング
ユニット34の吸引ポンプ153に接続されており、吸
引ポンプ153により各機能液滴吐出ヘッド7から吸引
した液体材料を回収する。なお、図46に示すように、
廃液ポンプ152と後述する給液タンク126上流側の
開閉弁154とは、支持プレート155に固定されてお
り、上述のように、機台本体121の端部上面に取り付
けられている(図16参照)。
【0121】図43に示すように、洗浄タンク147に
は、エアー供給装置14に連なるタンク加圧用のチュー
ブ156が接続され、流出側がワイピングユニット35
の洗浄液噴霧ヘッド噴霧ノズル(後述する)195に接
続されている。すなわち、洗浄タンク147は、エアー
供給装置14から導入される圧縮エアーにより、内部の
洗浄液を洗浄液噴霧ヘッド195に圧力供給する。詳細
は後述するが、洗浄液噴霧ヘッド195が吐出した洗浄
液は、機能液滴吐出ヘッド7を拭き取るワイピンクング
シート182に含浸される。
【0122】加圧タンク149には、エアー供給装置1
4に連なるタンク加圧用のチューブ157が接続され、
流出側が液体供給系141の給液タンク126に接続さ
れている。すなわち、加圧タンク149は、液体材料の
メインタンクであり、エアー供給装置14から導入され
る圧縮エアーにより、内部の液体材料を給液タンク12
6に圧送する。
【0123】図47ないし図49は、給液タンク126
を表している。給液タンク126は、上記のタンクベー
ス125上に固定されており、両側に液位窓162,1
62を有すると共にフランジ形式で閉蓋された矩形のタ
ンク本体161と、両液位窓162,162に臨んで機
能液の液位(水位)を検出する液位検出器163と、タ
ンク本体161が載置されるパン164と、パン164
を介してタンク本体161を支持するタンクスタンド1
65とを備えている。
【0124】タンクスタンド165は、取付けプレート
167と、取付けプレート167上に立設した2本の支
柱状部材168,168とから成り、この2本の支柱状
部材168により、タンク本体161の高さおよび水平
が微調節できるようになっている。タンク本体(の蓋
体)161の上面には、加圧タンク149に連なる供給
チューブ169が繋ぎこまれており、またヘッドユニッ
ト26側にのびる給液通路(図43の符号158)用の
6つのコネクタ170aおよび大気開放用の1つのコネ
クタ170bが、設けられている。
【0125】液位検出器163は、上下に僅かに離間し
て配設した上限レベル検出器163aおよび下限レベル
検出器163bから成り、この上限レベル検出器163
aと下限レベル検出器163bとは、タンクスタンド1
65に対し、基部側で個々に高さ調節自在に取り付けら
れている。上限レベル検出器163aおよび下限レベル
検出器163bは、いずれもタンク本体161の両液位
窓162,162に向かっての延びる一対の板状アーム
163c,163cを有しており、一対の板状アーム1
63c,163cの一方には、一方の液位窓162に臨
む発光素子163dが、他方には他方の液位窓162に
臨む受光素子163eが取り付けられている。すなわ
ち、この発光素子163dおよび受光素子163eによ
り、透過型の液位センサが構成されている。
【0126】給液タンク126に接続される上記の供給
チューブ169の上流側には、開閉弁154が介設され
ている(図43および図46参照)。開閉弁154は、
上限レベル検出器163aおよび下限レベル検出器16
3bにより開閉制御され、給液タンク126の液位が常
に上限レベルと下限レベルの間にあるように調整され
る。ここで、液体材料は、所定圧で加圧タンク149か
ら給液タンク126に圧送されるが、給液タンク126
では、この加圧タンク149側の圧力が大気開放で縁切
りされ、上記液位の調整によって管理される僅かな水頭
圧(例えば25mm±0.5mm)で機能液滴吐出ヘッ
ド7に液体材料が供給される。これにより、機能液滴吐
出ヘッド7のポンピング動作、すなわちポンプ部64内
の圧電素子のポンプ駆動で精度良く液滴が吐出され、機
能液滴吐出ヘッド7の吐出ノズル68からの液垂れが防
止される。
【0127】なお、図43に示すように、給液タンク1
26からの6本の給液通路158は、それぞれT字継ぎ
手158aを介して2本宛計12本の分岐通路158b
に分岐され、ヘッドユニット26に設けた配管ジョイン
ト49の12個の各ソケット492にこれら各分岐通路
158bを装置側配管部材として接続している。また、
各分岐通路158bには開閉弁166が介設されてお
り、機能液滴吐出ヘッド7への液体充填工程で後記詳述
するように開閉弁166を一時的に閉弁するようにし
た。
【0128】次に、メンテナンス装置16について、ワ
イピングユニット35、クリーニングユニット34、フ
ラッシングユニット33の順で説明する。
【0129】図50ないし図55に示すように、ワイピ
ングユニット35は、別個独立に構成された巻取りユニ
ット(図50ないし図52)171と拭取りユニット
(図53ないし図55)172とから成り、上記の共通
ベース124上に、突き合わせた状態で配設されてい
る。巻取りユニット171は共通ベース124の手前側
に、拭取りユニット172は共通ベース124の奥側、
すなわちクリーニングユニット34側に配設されてい
る。
【0130】実施形態のワイピングユニット35は、ク
リーニングユニット34の直上部、すなわちクリーング
位置に停止しているヘッドユニット26に対し、後述す
るワイピングシート182を走行させながら、上記の移
動テーブル123により全体としてX軸方向に移動し、
複数の機能液滴吐出ヘッド7を拭き取るものである。こ
のため、ワイピングユニット35は、巻取りユニット1
71から繰り出され、拭取り動作のために拭取りユニッ
ト172を周回して巻取りユニット171に巻き取られ
るようになっている。
【0131】図50、図51および図52に示すよう
に、巻取りユニット171は、片持ち形式のフレーム1
74と、フレーム174に回転自在に支持した上側の繰
出しリール175および下側の巻取りリール176と、
巻取りリール176を巻取り回転させる巻取りモータ1
77とを備えている。また、フレーム174の上側部は
サブフレーム178が固定されており、このサブフレー
ム178には、繰出しリール175の先方に位置するよ
うに速度検出ローラ179および中間ローラ180が、
両持ちで支持されている。さらに、これら構成部品の下
側には、洗浄液を受ける洗浄液パン181が配設されて
いる。
【0132】繰出しリール175には、ロール状のワイ
ピングシート182が挿填され、繰出しリール175か
ら繰り出されたワイピングシート182は、速度検出ロ
ーラ179および中間ローラ180を介して拭取りユニ
ット172に送り込まれる。巻取りリール176と巻取
りモータ177との間にはタイミングベルト183が掛
け渡され、巻取りリール176は巻取りモータ177に
より回転してワイピングシート182を巻き取る。
【0133】詳細は後述するが、拭取りユニット172
にもワイピングシート182を送るモータ(拭取りモー
タ194)が設けられており、繰出しリール175は、
これに設けたトルクリミッタ184により、拭取りモー
タ194に抗するように制動回転する。速度検出ローラ
179は、自由回転する上下2つのローラ179a,1
79bから成るグリップローラであり、これに設けた速
度検出器185により、巻取りモータ177を制御す
る。すなわち、繰出しリール175は、ワイピングシー
ト182を張った状態で送り出し、巻取りリール176
は、ワイピングシート182を弛みが生じないように巻
き取る。
【0134】図53、図54および図55に示すよう
に、拭取りユニット172は、左右一対のスタンド19
1,191と、一対のスタンド191,191に支持さ
れた断面略「U」字状のベースフレーム192と、ベー
スフレーム192に両持ちで回転自在に支持された拭取
りローラ193と、拭取りローラ193を回転させる拭
取りモータ194と、拭取りローラ193に平行に対峙
する洗浄液噴霧ヘッド195と、ベースフレーム192
を昇降させる複動形式の一対のエアーシリンダ196,
196とを備えている。
【0135】一対のスタンド191,191は、それぞ
れ外側に位置する固定スタント198と、固定スタント
198の内側に、上下方向にスライド自在に取り付けた
可動スタンド199とから成り、各固定スタンド198
のベース部に上記のエアーシリンダ196が立設されて
いる。各エアーシリンダ196のプランジャ196a
は、可動スタンド199に固定されており、同時に駆動
する一対のエアーシリンダ196,196により、ベー
スフレーム192およびこれに支持された拭取りローラ
193や拭取りモータ194等が昇降する。
【0136】拭取りローラ193は、タイミングベルト
201を介して拭取りモータ194に連結した駆動ロー
ラ202と、ワイピングシート182を挟んで駆動ロー
ラ202に接触する従動ローラ203とから成る、グリ
ップローラで構成されている。駆動ローラ202は、例
えばコア部分に弾力性或いは柔軟性を有するゴムを巻回
したゴムローラで構成され、これに周回するワイピング
シート182を、走行させながら機能液滴吐出ヘッド7
のノズル形成面67に押し付けるようになっている。
【0137】洗浄液噴霧ヘッド195は、拭取りローラ
(駆動ローラ202)193の近傍にあって、上記の中
間ローラ180から送られてくるワイピングシート18
2に洗浄液を吹き付ける。このため、洗浄液噴霧ヘッド
195の前面、すなわち拭取りローラ193側には、複
数の噴霧ノズル204がワイピングシート182の幅に
合わせて横並びに設けられ、後面には、上記の洗浄タン
ク147に連なるチューブ接続用の複数のコネクタ20
5が設けられている。
【0138】洗浄液を吹き付けられたワイピングシート
182は、洗浄液を含浸し、機能液滴吐出ヘッド7に臨
んでこれを拭き取るようになっている。なお、拭取りロ
ーラ193の下方に位置して、ベースフレーム192に
も洗浄液パンが設けられており、巻取りユニット171
の洗浄液パン181と共に、ワイピングシート182か
ら滴る洗浄液を受け得るようになっている。
【0139】ここで、図56の模式図を参照して、一連
の拭取り動作を簡単に説明する。ヘッドユニット26の
クリーニングが完了すると、移動テーブル123が駆動
し、ワイピングユニット35を前進させてヘッドユニッ
ト26に十分に接近させる。拭取りローラ193が機能
液滴吐出ヘッド7の近傍まで移動したら、移動テーブル
123を停止し、両エアーシリンダ196,196を駆
動して、機能液滴吐出ヘッド7に接触(押し付ける)す
るように拭取りローラ193を上昇させる。
【0140】ここで、巻取りモータ177および拭取り
モータ194を駆動して、ワイピングシート182を拭
取り送りすると共に、洗浄液の噴霧を開始する。また、
これと同時に、再度移動テーブル123を駆動し、ワイ
ピングシート182の送りを行いながら、拭取りローラ
193を、複数の機能液滴吐出ヘッド7の下面を拭き取
るように前進させる。拭取り動作が完了したら、ワイピ
ングシート182の送りを停止し且つ拭取りローラ19
3を下降させ、さらに移動テーブル123によりワイピ
ングユニット35を、元の位置に後退させる。
【0141】次に、図57ないし図60を参照して、ク
リーニングユニット34について説明する。クリーニン
グユニット34は、12個の機能液滴吐出ヘッド7に対
応して12個のキャップ212を、キャップベース21
3に配置したキャップユニット211と、キャップユニ
ット211を支持する支持部材214と、支持部材21
4を介してキャップユニット211を昇降させる昇降機
構215とを備えている。また、図43に示すように、
吸引ポンプ153を介設した再利用タンク148に連な
る吸引通路216をヘッダパイプ216aを介して12
本の分岐通路216bに分岐し、これら各分岐通路21
6bを各キャップ212に接続している。各分岐通路2
16bには、キャップ212側から順に液体センサ21
7と圧力センサ218と開閉弁219とが設けられてい
る。
【0142】12個のキャップ212は、ヘッドユニッ
ト26の12個の機能液滴吐出ヘッド7と同じ並びで且
つ同じ傾き姿勢で、キャップベース213に固定されて
いる。各キャップ212は、図61に示すように、キャ
ップ本体220とキャップホルダ221とから成り、キ
ャップ本体220は、2つのばね222,222で上方
に付勢され且つ僅かに上下動可能な状態でキャップホル
ダ221に保持されている。キャップベース213に
は、12個のキャップ212に対応して12個の取付け
開口224が形成されると共に、この取付け開口224
を含むように12個の浅溝225が形成されている。各
キャップ212は、下部を取付け開口224に挿入し、
そのキャップホルダ221を浅溝225に位置決めされ
た状態で、浅溝225の部分にねじ止めされている(図
60参照)。
【0143】各キャップ本体220の上面には、機能液
滴吐出ヘッド7の2列の吐出ノズル群を包含する凹部2
20aが形成され、凹部220aの周縁部にはシールパ
ッキン227が取り付けられ、また底部位には吸収材2
28が押え枠228aにより押えつけた状態で敷設され
ている。そして、凹部220aの底部位には小孔229
が形成され、この小孔229が、吸引用の各分岐通路2
16bが接続されるL字継手230に連通している。液
体材料を吸引する場合には、機能液滴吐出ヘッド7のノ
ズル形成面67にシールパッキン227を押し付けて、
2列の吐出ノズル群を包含するようノズル形成面67を
封止する。
【0144】各キャップ212には、更に、凹部220
aをその底面側で大気開放する大気開放弁231が設け
られている。大気開放弁231は、ばね231aで上方
の閉じ側に付勢されており、液体材料の吸引動作の最終
段階で、大気開放弁231を引き下げて開弁することに
より、吸収材228に含浸されている液体材料も吸引で
きるようにしている。図中231bは大気開放弁231
の操作部である。
【0145】支持部材214は、上端にキャップユニッ
ト211を支持する支持プレート241を有する支持部
材本体242と、支持部材本体242を上下方向にスラ
イド自在に支持するスタンド243とを備えている。支
持プレート241の長手方向の両側下面には、一対のエ
アーシリンダ244,244が固定されており、この一
対のエアーシリンダ244,244で昇降される操作プ
レート245を設けて、操作プレート245上に各キャ
ップ212の大気開放弁231の操作部231bに係合
するフック245aを取り付けている。かくて、一対の
エアーシリンダ244,244により操作プレート24
5を介して大気開放弁231が開閉される。
【0146】昇降機構215は、スタンド243のベー
ス部243aに立設したエアーシリンダから成る下段の
昇降シリンダ246と、このシリンダ246で昇降され
るプレート248上に立設したエアーシリンダから成る
上段の昇降シリンダ247とを備えており、前記支持プ
レート241に上段の昇降シリンダ247のピストンロ
ッドが連結されている。両昇降シリンダ246,247
のストロークは互い異なっており、両昇降シリンダ24
6,247の選択作動でキャップユニット211の上昇
位置を比較的高い第1位置と比較的低い第2位置とに切
り換え自在としている。
【0147】ここで、キャップユニット211は、ヘッ
ドユニット26をキャップユニット211の直上部に臨
むクリーニング位置に移動する際に機能液滴吐出ヘッド
7がキャップ212に当接しないように、常時は、キャ
ップ212のシールパッキン227と機能液滴吐出ヘッ
ド7のノズル形成面67との間に数mmの隙間が空くよ
うに設定した下降端位置に待機している。そして、第1
位置への上昇でキャップ212のシールパッキン227
を機能液滴吐出ヘッド7のノズル形成面67に密着さ
せ、第2位置では、キャップ212のシールパッキン2
27と機能液滴吐出ヘッド7のノズル形成面67との間
に僅かな隙間(例えば0.5mm程度)が空くようにし
ている。なお、本実施形態では、キャップユニット21
1を下段の昇降シリンダ246で第1位置に上昇させ、
上段の昇降シリンダ247で第2位置に上昇させるよう
にしているが、第1位置と第2位置とへの上昇を上下逆
の昇降シリンダで行うように構成しても勿論良い。
【0148】このように構成されたクリーニングユニッ
ト34は、移動テーブル123によりヘッドユニット2
6のY軸方向移動軌跡に交差する位置に移動しており、
これに対しヘッドユニット26がクリーニングユニット
34(キャップユニット211)の直上部に臨むクリー
ニング位置にY軸テーブル24により移動する。ここ
で、昇降機構215の下段の昇降シリンダ246の作動
によりキャップユニット211が第1位置に上昇し、ヘ
ッドユニット26の12個の機能液滴吐出ヘッド7に、
下側から12個のキャップ212を押し付ける。各機能
液滴吐出ヘッド7に押し付けられた各キャップ212
は、自身の2つのばね222,222に抗してそのキャ
ップ本体220が幾分沈み込み、そのシールパッキン2
27が機能液滴吐出ヘッド7のノズル形成面67に均一
に密着する。
【0149】続いて、吸引ポンプ153を駆動すると共
に、吸引用の各分岐通路216bに介設した開閉弁21
9を開弁し、各機能液滴吐出ヘッド7の全吐出ノズル6
8から各キャップ212を介して液体材料を吸引する。
そして、吸引完了の直前に大気開放弁231を開弁し、
その後開閉弁219を閉弁して吸引を完了する。吸引動
作が完了したら、キャップユニット211を下降端位置
に下降させる。なお、吸引中は、吸引用の各分岐通路2
16bに設けた圧力センサ218からの信号に基づいて
各キャップ212の吸引不良を生じたか否かを監視す
る。また、装置の稼動を停止しているとき等のヘッド保
管時には、キャップユニット211を第1位置に上昇さ
せ、各機能液滴吐出ヘッド7を各キャップ212で封止
して、保管状態とする。
【0150】次に図62および図63を参照して、フラ
ッシングユニット33について説明する。フラッシング
ユニット33は、上記したX軸ケーブルベア87のボッ
クス88上に配設されている(図30参照)。フラッシ
ングユニット33は、X軸ケーブルベア87上に固定し
たスライドベース251と、スライドベース251上に
進退自在に設けた長板状のスライダ252と、スライダ
252の両端部に固定した一対のフラッシングボックス
253,253と、各フラッシングボックス253内に
敷設した一対の液体吸収材254,254とで構成され
ている。
【0151】一対のフラッシングボックス253,25
3は、ヘッドユニット26の左右2列の各機能液滴吐出
ヘッド群に対応する幅を有すると共に、各機能液滴吐出
ヘッド群の副走査方向の移動範囲に対応する長さを有し
て、細長形状に形成されている。そして、この一対のフ
ラッシングボックス253,253は、スライダ252
からX軸テーブル23の上側に直角に延在し、且つ吸着
テーブル81を挟むように配設されている。また、各フ
ラッシングボックス253,253の中央部底面には、
ドレン口を構成する排液継手256が取り付けられてい
る。この排液継手256に接続した排液チューブ(図示
省略)は、X軸ケーブルベア87内を通って上記の廃液
タンク150に接続されている。
【0152】スライダ252には、一対のフラッシング
ボックス253,253間に位置して、X軸テーブル2
3のθテーブル82に向かって延びる一対の取付け片2
57,257が固定されており、この一対の取付け片2
57,257の先端部が、θテーブル82のベース部に
固定されている。すなわち、スライダ252を介して、
一対のフラッシングボックス253,253が、スライ
ドベース251に案内されてθテーブル82と共に移動
するようになっている。
【0153】このように構成されたフラッシングユニッ
ト33では、図30に示すように、θテーブル82と共
にフラッシングユニット33が往道して行くと、最初に
同図示の右側のフラッシングボックス253がヘッドユ
ニット26の直下を通過する。このとき、複数(12
個)の機能液滴吐出ヘッド7が順にフラッシング動作を
行い、ヘッドユニット26は、そのまま通常の液滴吐出
動作に移行する。同様に、フラッシングユニット33が
復道して行くと、最初に左側のフラッシングボックス2
53がヘッドユニット26の直下を通過する。このと
き、複数の機能液滴吐出ヘッド7が順にフラッシング動
作を行い、ヘッドユニット26は、そのまま通常の液滴
吐出動作に移行する。このようにして、主走査のための
往復動中に適宜フラッシングが行われる。したがって、
フラッシング動作のためにのみヘッドユニット26等が
移動することはなく、フラッシングがタクトタイムに影
響することがない。
【0154】フラッシングは、液滴の吐出が或る程度の
時間休止されるとき、例えば吐出装置1に対する基板W
の出し入れ時にも行う必要がある。そこで、液滴の吐出
が或る程度の時間休止されるとき、ヘッドユニット26
をキャップユニット211の直上部に臨むクリーニング
位置に移動し、各機能液滴吐出ヘッド7から各キャップ
212に向けてフラッシングを行う。この場合、キャッ
プユニット211が下降端位置に存すると、機能液滴吐
出ヘッド7からの吐出液体の一部が機能液滴吐出ヘッド
7とキャップ212との間の隙間から霧状になって外部
に飛散してしまう。そのため、キャップユニット211
を昇降機構215の上段の昇降シリンダ247により上
記第2位置に上昇させ、この状態でフラッシングを行う
ようにした。
【0155】これによれば、機能液滴吐出ヘッド7とキ
ャップ212との間の隙間が僅かになり、機能液滴吐出
ヘッド7からの吐出液体の外部への飛散が防止される。
この場合、キャップ212に吸引ポンプ153からの吸
引力を作用させておけば、吐出液体の外部への飛散をよ
り効果的に防止できる。なお、機能液滴吐出ヘッド7の
ノズル形成面67にキャップ212を密着させた状態で
フラッシングを行うことも考えられるが、ノズル形成面
67にキャップ212を密着させるとノズル形成面67
が汚れるため、フラッシング後のノズル形成面6のワイ
ピングが必要になり、実用的ではない。
【0156】ところで、吐出装置1に新たなヘッドユニ
ット26を投入したときは、機能液滴吐出ヘッド7のヘ
ッド内流路が空になっているため、液滴吐出作業を開始
する前に、ヘッド内流路に液体材料を充填することが必
要になる。この場合、給液タンク126からの液体材料
の供給は僅かな水頭圧でしか行われないため、ヘッド内
流路に液体材料を充填するには吸引が必要になる。そこ
で、液体充填作業に際しては、ヘッドユニット26をク
リーニング位置に移動し、キャップユニット211を上
記第1位置に上昇させて、各機能液滴吐出ヘッド7のノ
ズル形成面67に各キャップ212を密着させ、給液タ
ンク126内の液体材料を各キャップ212を介して作
用される吸引ポンプ153からの吸引力で各機能液滴吐
出ヘッド7のヘッド内流路に充填する。然し、キャップ
212による吸引を行っても、ヘッド内流路で液体材料
の流速が低下して、ヘッド内流路から気泡をうまく排除
できず、残留気泡の影響で液滴の吐出不良を生ずる。特
に、機能液滴吐出ヘッド7の接続針62の基部に設けた
フィルタ62a上に気泡が残り易くなる。
【0157】そこで、本実施形態では、給液用の各分岐
通路158bに上記の如く開閉弁166を介設すると共
に、吸引用の各分岐通路216bに上記の如く液体セン
サ217を設け、液体充填開始後キャップ212まで液
体材料が吸引されて、これを液体センサ217が検知し
たとき、キャップ212による吸引を継続したまま対応
する開閉弁166を一時的に閉弁するようにした。これ
によれば、開閉弁166の閉弁中にヘッド内通路が減圧
され、その後の開閉弁166の開弁で液体材料が急激に
流れて、ヘッド内流路における液体材料の流速が高速化
し、ヘッド内流路から気泡が効率良く排除される。実験
によれば、開閉弁166の閉弁前の流速が100mm/
s程度であったのに対し、開閉弁166を一時的に閉弁
してから開弁すると流速が200〜2000mm/sと
大幅に増加することが確認された。
【0158】ここで、開閉弁166の閉弁前におけるヘ
ッド内流路の液体充填率が高い程閉弁後にヘッド内流路
が効率良く減圧される。上記液体センサ217に液体材
料が到達したときはヘッド内流路が液体材料でほぼ満た
されており、液体センサ217を用いることで、閉弁タ
イミングを適切に自動制御できる。また、給液用と吸引
用の各分岐通路158b,216bにそれぞれ開閉弁1
66と液体センサ217を設けることにより、個々の機
能液滴吐出ヘッド7で初期の液体充填率にばらつきを生
じても、各機能液滴吐出ヘッド7毎に適切なタイミング
で個別に開閉弁166を閉弁できる。
【0159】また、開閉弁166と機能液滴吐出ヘッド
7との間の通路長さが短い程閉弁後の減圧効率が向上す
ると共に、充填時の液体消費量が減少する。ここで、メ
インキャリッジ25と一体に動く部分に開閉弁166を
搭載しておけば、メインキャリッジ25に保持されるヘ
ッドユニット26の動きに追従させるための弛みを開閉
弁166と機能液滴吐出ヘッド7との間の通路部分に付
ける必要がなく、通路長さを短縮できる。そこで、本実
施形態では、メインキャリッジ25を吊設するブリッジ
プレート91に開閉弁166を搭載している。その詳細
は図64および図65に示す通りであり、ブリッジプレ
ート91に固定されるスタンド261上に、12個の開
閉弁166を6個宛上下2段に搭載している。
【0160】また、開閉弁166の搭載箇所を覆うスタ
ンド261の上プレート262に、6個のT字継ぎ手1
58bと、6個のアース継ぎ手158cとを配置し、給
液タンク126に連なる6本の給液通路158(チュー
ブ)をそれぞれアース継ぎ手158cを介してT字継ぎ
手158bの内向き接続口に接続している。そして、こ
れら6個のT字継ぎ手158bの下向き接続口に接続さ
れる6本の分岐通路158bの上流部分158b1を上
段の6個の開閉弁166の流入口166aに接続すると
共に、これらT字継ぎ手158bの外向き接続口に接続
される残りの6本の分岐通路158bの上流部分158
1を下段の6個の開閉弁166の流入口166aに接
続している。
【0161】また、スタンド261の下プレート263
には、ブラケット264を介して12個の管継手158
dが配置されており、上下2段の計12個の開閉弁16
6の流出口に接続される12本の分岐通路158bの中
間部分158b2をそれぞれ管継手158dの一端に接
続し、これら管継手158dの他端に、ヘッドユニット
26の配管ジョイント49のソケット492に接続され
る装置側配管部材たる分岐通路158bの下流部分15
8b3を接続している。なお、スタンド261には、ヘ
ッドユニット26に開閉弁166を介さずに給液するた
めのマニホルド265も設けられている。
【0162】以上、有機EL装置の製造装置について説
明したが、液晶表示装置のカラーフィルタといった他の
製品をインクジェット方式で製造する吐出装置において
も同様に本発明を適用できる。
【0163】例えば、液晶表示装置におけるカラーフィ
ルタの製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド7に
R、G、B各色のフィルタ材料を導入し、複数の機能液
滴吐出ヘッド7を主走査および副走査し、フィルタ材料
を選択的に吐出して、基板上に多数のフィルタエレメン
トを形成する。加えて、上記と同様の方法で、多数のフ
ィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜を形成し
てもよい。
【0164】同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置1
0は、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造方法
および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用すること
ができる。
【0165】電子放出装置の製造方法では、複数の機能
液滴吐出ヘッド7にR、G、B各色の蛍光材料を導入
し、複数の機能液滴吐出ヘッド7を主走査および副走査
し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光
体を形成する。なお、電子放出装置は、FED(電界放
出ディスプレイ)を含む上位の概念である。
【0166】PDP装置の製造方法では、複数の機能液
滴吐出ヘッド7にR、G、B各色の蛍光材料を導入し、
複数の機能液滴吐出ヘッド7を主走査および副走査し、
蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部
にそれぞれ蛍光体を形成する。
【0167】電気泳動表示装置の製造方法では、複数の
機能液滴吐出ヘッド7に各色の泳動体材料を導入し、複
数の機能液滴吐出ヘッド7を主走査および副走査し、イ
ンク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそ
れぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから
成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていること
が、好ましい。
【0168】一方、本実施形態の機能液滴吐出装置10
は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成
方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等に
も、適用可能である。
【0169】スペーサ形成方法は、2枚の基板間に微小
なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを
形成するものであり、スペーサを構成する粒子材料を液
中に分散させ液状に調整した材料を、複数の機能液滴吐
出ヘッド7に導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド7を主
走査および副走査し、粒子材料を選択的に吐出して少な
くとも一方の基板上にスペーサを形成する。例えば、上
記の液晶表示装置や電気泳動表示装置における2枚の基
板間のセルギャップを構成する場合に有用であり、その
他この種の微小なギャップを必要とする半導体製造技術
に適用できることはいうまでもない。
【0170】金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド7に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド7を主走査および副走査し、液状金属材料を選
択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例え
ば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを
接続する金属配線や、上記の有機EL装置におけるTF
T等と各電極とを接続する金属配線に適用することがで
きる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般
的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもな
い。
【0171】レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出
ヘッド7にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド7を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に
吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成す
る。例えば、上記のFED装置におけるビーム収束用の
デバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイ
スに適用可能であることはいうまでもない。
【0172】レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド7にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出
ヘッド7を主走査および副走査し、レジスト材料を選択
的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形
成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形
成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグ
ラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用
可能である。
【0173】光拡散体形成方法では、基板上に多数の光
拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機
能液滴吐出ヘッド7に光拡散材料を導入し、複数の機能
液滴吐出ヘッド7を主走査および副走査し、光拡散材料
を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場
合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうま
でもない。
【0174】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の吐出装置用ヘッドユニットおよび吐出装置によれば、
配管取り外し時に配管部材からの液垂れを生じても、機
能液滴吐出ヘッドのコネクタ部に液体が付着することは
なく、かつ、ヘッドユニットのオープンスペース部分で
ヘッドユニットに対する配管作業を行うことができ、作
業性が向上する。
【0175】一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、
有機EL装置の製造方法等の各種製造方法によれば、吐
出装置を介して製造方法の信頼性を高めることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
けるバンク部形成工程(無機物バンク)の断面図であ
る。
【図2】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
けるバンク部形成工程(有機物バンク)の断面図であ
る。
【図3】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
けるプラズマ処理工程(親水化処理)の断面図である。
【図4】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
けるプラズマ処理工程(撥水化処理)の断面図である。
【図5】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
ける正孔注入層形成工程(液滴吐出)の断面図である。
【図6】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
ける正孔注入層形成工程(乾燥)の断面図である。
【図7】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
ける表面改質工程(液滴吐出)の断面図である。
【図8】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
ける表面改質工程(乾燥)の断面図である。
【図9】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法にお
けるB発光層形成工程(液滴吐出)の断面図である。
【図10】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法に
おけるB発光層形成工程(乾燥)の断面図である。
【図11】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法に
おけるR・G・B発光層形成工程の断面図である。
【図12】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法に
おける対向電極形成工程の断面図である。
【図13】 実施形態に係る有機EL装置の製造方法に
おける封止工程の断面図である。
【図14】 実施形態に係る正孔注入層形成設備の概念
図である。
【図15】 実施形態に係る発光層形成設備の概念図で
ある。
【図16】 実施形態に係る吐出装置の外観斜視図であ
る。
【図17】 実施形態に係る吐出装置の外観正面図であ
る。
【図18】 実施形態に係る吐出装置の外観側面図であ
る。
【図19】 実施形態に係る吐出装置の外観平面図であ
る。
【図20】 実施形態に係る吐出装置の吐出装置の模式
図である。
【図21】 実施形態に係るヘッドユニットの平面図で
ある。
【図22】 実施形態に係るヘッドユニットの側面図で
ある。
【図23】 実施形態に係るヘッドユニットの正面図で
ある。
【図24】 (a)実施形態に係るヘッドユニットの配
管ジョイントの外観斜視図、(b)配管ジョイントの断
面図である。
【図25】 (a)実施形態に係る機能液滴吐出ヘッド
の外観斜視図、(b)機能液滴吐出ヘッドの断面図であ
る。
【図26】 実施形態に係る吐出装置の石定盤廻りの側
面図である。
【図27】 実施形態に係る吐出装置の石定盤廻りの平
面図である。
【図28】 実施形態に係る吐出装置の石定盤廻りの正
面図である。
【図29】 実施形態に係る吐出装置の石定盤の支持形
態を示す模式図である。
【図30】 実施形態に係る吐出装置のX軸テーブルの
平面図である。
【図31】 実施形態に係る吐出装置のXテーブルの側
面図である。
【図32】 実施形態に係る吐出装置のXテーブルの正
面図である。
【図33】 実施形態に係る吐出装置の主基板認識カメ
ラ廻りの斜視図である。
【図34】 実施形態に係る吐出装置のY軸テーブルの
平面図である。
【図35】 実施形態に係る吐出装置のY軸テーブルの
側面図である。
【図36】 実施形態に係る吐出装置のY軸テーブルの
正面図である。
【図37】 実施形態に係るY軸テーブルのメインキャ
リッジの斜視図である。
【図38】 実施形態に係るY軸テーブルのメインキャ
リッジの平面図である。
【図39】 実施形態に係る吐出装置の共通機台の斜視
図である。
【図40】 実施形態に係る吐出装置の共通ベースを取
り去った共通機台の斜視図である。
【図41】 実施形態に係る吐出装置の共通機台の側面
図である。
【図42】 実施形態に係る吐出装置の共通機台の平面
図である。
【図43】 実施形態に係る吐出装置の液体供給回収装
置の配管系統図である。
【図44】 実施形態に係る液体供給回収装置のポンプ
群廻りの斜視図である。
【図45】 実施形態に係る液体供給回収装置のポンプ
群廻りの平面図である。
【図46】 実施形態に係る液体供給回収装置の廃液ポ
ンプ廻りの斜視図である。
【図47】 実施形態に係る液体供給回収装置おける給
液タンクの斜視図である。
【図48】 実施形態に係る液体供給回収装置おける給
液タンクの側面図である。
【図49】 実施形態に係る液体供給回収装置おける給
液タンクの正面図である。
【図50】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る巻取りユニットの斜視図である。
【図51】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る巻取りユニットの平面図である。
【図52】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る巻取りユニットの正面図である。
【図53】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る拭取りユニットの斜視図である。
【図54】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る拭取りユニットの平面図である。
【図55】 実施形態に係るワイピングユニットにおけ
る拭取りユニットの正面図である。
【図56】 ワイピングユニットの動作を示す模式図で
ある。
【図57】 実施形態に係るクリーニングユニットの外
観斜視図である。
【図58】 実施形態に係るクリーニングユニットの正
面図である。
【図59】 実施形態に係るクリーニングユニットの側
面図である。
【図60】 実施形態に係るクリーニングユニットの平
面図である。
【図61】 クリーニングユニットのキャップの拡大断
面図である。
【図62】 実施形態に係るフラッシングユニットの斜
視図である。
【図63】 実施形態に係るフラッシングユニットの平
面図である。
【図64】 実施形態に係る給液通路中の開閉弁の配置
部の斜視図である。
【図65】 実施形態に係る給液通路中の開閉弁の配置
部の側面図である。
【符号の説明】
W 基板(ワーク) 1 吐出装置 7 機能液滴吐出ヘッド 25 メインキ
ャリッジ 26 ヘッドユニット 41 サブキ
ャリッジ 49 配管ジョイント 492 ソケッ
ト 492a プラグ穴 492b 穴
底面 494 プラグ 498 Oリ
ング 48b ヘッド側配管部材 126 給液
タンク 158b 装置側配管部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 505 H05B 33/14 A 4F041 H05B 33/10 33/26 Z 33/14 B41J 3/04 102Z 33/26 101Z Fターム(参考) 2C056 EA20 EA22 FA15 FB01 FB05 KC02 KC05 2H048 BA02 BA64 BB02 BB42 2H091 FA02X FA02Z FA29X FA29Y FA29Z FA31X FA31Y FA31Z FC29 LA12 LA30 3K007 AB18 DB03 FA01 4D075 AC07 AC09 CA47 DA06 DB13 DB14 DB31 DC21 DC24 4F041 AA02 AA05 AB02 BA13 (54)【発明の名称】 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機 EL装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造方法、電気泳動表示装置の製 造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方 法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークに対し相対移動するメインキャリ
    ッジを備える吐出装置で使用するヘッドユニットであっ
    て、前記メインキャリッジに着脱自在に保持されるサブ
    キャリッジに機能液滴吐出ヘッドを搭載して成るものに
    おいて、 前記サブキャリッジの前記機能液滴吐出ヘッドから離間
    した位置に、吐出装置に設けた給液タンクに連なる装置
    側配管部材と前記機能液滴吐出ヘッドに連なるヘッド側
    配管部材とを接続する配管ジョイントを設けたことを特
    徴とする吐出装置用ヘッドユニット。
  2. 【請求項2】 前記配管ジョイントは、一端部に管継手
    を介して前記ヘッド側配管部材を接続した、前記サブキ
    ャリッジに固定のソケットと、該ソケットの他端部に形
    成したプラグ穴に抜差し自在に嵌合する、前記装置側配
    管部材を接続したプラグとを備えることを特徴とする請
    求項1に記載の吐出装置用ヘッドユニット。
  3. 【請求項3】 前記プラグ穴の穴底面を、前記プラグの
    先端のテーパに合わせたテーパ面に形成することを特徴
    とする請求項2に記載の吐出装置用ヘッドユニット。
  4. 【請求項4】 前記プラグの外周に、前記プラグ穴に対
    するシール用のOリングを軸方向の間隔を存して複数装
    着することを特徴とする請求項2または3に記載の吐出
    装置用ヘッドユニット。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の吐
    出装置用ヘッドユニットを備え、 ワークである基板に対し、機能液を導入した前記機能液
    滴吐出ヘッドを相対的に走査しながら機能液滴を選択的
    に吐出することを特徴とする吐出装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の吐出装置を用い、カラ
    ーフィルタの基板上にフィルタエレメントを形成する液
    晶表示装置の製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにフィルタ材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記フィル
    タ材料を選択的に吐出して前記フィルタエレメントを形
    成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基板
    上の絵素ピクセルにEL発光層を形成する有機EL装置
    の製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに発光材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記発光材
    料を選択的に吐出して前記EL発光層を形成することを
    特徴とする有機EL装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項5に記載の吐出装置を用い、電極
    上に蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であっ
    て、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査し、前記蛍光材
    料を選択的に吐出して前記蛍光体を形成することを特徴
    とする電子放出装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項5に記載の吐出装置を用い、背面
    基板上の凹部に蛍光体を形成するPDP装置の製造方法
    であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに蛍光材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記背面基板に対し相対的に走査し、前記蛍
    光材料を選択的に吐出して前記蛍光体を形成することを
    特徴とするPDP装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項5に記載の吐出装置を用い、電
    極上の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造
    方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査し、前記泳動体
    材料を選択的に吐出して前記泳動体を形成することを特
    徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基
    板上にフィルタエレメントを配列して成るカラーフィル
    タを製造するカラーフィルタの製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにフィルタ材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記フィル
    タ材料を選択的に吐出して前記フィルタエレメントを形
    成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記フィルタエレメントを被覆するオ
    ーバーコート膜が形成されており、 前記フィルタエレメントを形成した後に、 前記機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を
    導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記コーテ
    ィング材料を選択的に吐出して前記オーバーコート膜を
    形成することを特徴とする請求項11に記載のカラーフ
    ィルタの製造方法。
  13. 【請求項13】 請求項5に記載の吐出装置を用い、E
    L発光層を含む絵素ピクセルを基板上に配列して成る有
    機ELの製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに発光材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記発光材
    料を選択的に吐出して前記EL発光層を形成することを
    特徴とする有機ELの製造方法。
  14. 【請求項14】 前記EL発光層と前記基板との間に
    は、前記EL発光層に対応して画素電極が形成されてお
    り、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状電
    極材料を選択的に吐出して前記画素電極を形成すること
    を特徴とする請求項13に記載の有機ELの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記EL発光層を覆うように対向電極
    が形成されており、 前記EL発光層を形成した後に、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状電
    極材料を選択的に吐出して前記対向電極を形成すること
    を特徴とする請求項14に記載の有機ELの製造方法。
  16. 【請求項16】 請求項5に記載の吐出装置を用い、2
    枚の基板間にセルギャップを構成すべく粒子状のスペー
    サを形成するスペーサ形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料
    を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを少なくとも一方の前記基板に対し相対的に走
    査し、前記粒子材料を選択的に吐出して前記基板上に前
    記スペーサを形成することを特徴とするスペーサ形成方
    法。
  17. 【請求項17】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基
    板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状金
    属材料を選択的に吐出して前記金属配線を形成すること
    を特徴とする金属配線形成方法。
  18. 【請求項18】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基
    板上にマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であっ
    て、 前記機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記レンズ
    材料を選択的に吐出して前記マイクロレンズを形成する
    ことを特徴とするレンズ形成方法。
  19. 【請求項19】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基
    板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法
    であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記レジス
    ト材料を選択的に吐出して前記レジストを形成すること
    を特徴とするレジスト形成方法。
  20. 【請求項20】 請求項5に記載の吐出装置を用い、基
    板上に光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、 前記吐出装置用ヘッドユニットを介して前記機能液滴吐
    出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記光拡散
    材料を選択的に吐出して前記光拡散体を形成することを
    特徴とする光拡散体形成方法。
JP2002076740A 2002-03-19 2002-03-19 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 Pending JP2003266738A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002076740A JP2003266738A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
KR10-2002-0079218A KR100453602B1 (ko) 2002-03-19 2002-12-12 토출 장치용 헤드 유닛과 이것을 구비한 토출 장치, 액정표시 장치의 제조 방법, 유기 el 장치의 제조 방법,전자 방출 장치의 제조 방법, pdp 장치의 제조 방법,전기 영동 표시 장치의 제조 방법, 컬러 필터의 제조방법, 유기 el의 제조 방법, 스페이서 형성 방법, 금속배선 형성 방법, 렌즈 형성 방법, 레지스트 형성 방법 및광확산체 형성 방법
TW091137522A TW565508B (en) 2002-03-19 2002-12-26 Head unit for ejection apparatus and ejection apparatus equipped therewith; method of manufacturing LCD device, organic EL device, electron emission device, PDP device, electrophoretic display device, color filter, and organic EL method of forming spacer
US10/383,566 US6910762B2 (en) 2002-03-19 2003-03-10 Head unit for ejection apparatus and ejection apparatus equipped therewith; method of manufacturing lcd device, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter, and organic el; method of forming spacer, metallic wiring, lens, resist, and light diffusion member
CNB031072542A CN1210153C (zh) 2002-03-19 2003-03-19 液滴喷头的液体填充方法和喷出装置、光电器件制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002076740A JP2003266738A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003266738A true JP2003266738A (ja) 2003-09-24

Family

ID=28035464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002076740A Pending JP2003266738A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6910762B2 (ja)
JP (1) JP2003266738A (ja)
KR (1) KR100453602B1 (ja)
CN (1) CN1210153C (ja)
TW (1) TW565508B (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005231358A (ja) * 2004-01-21 2005-09-02 Olympus Corp インクジェットヘッドのメンテナンス方法及び画像形成装置
JP2005230801A (ja) * 2004-01-22 2005-09-02 Seiko Epson Corp ワイピング方法、ワイピング装置、これを備えた描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
JP2005254798A (ja) * 2004-02-13 2005-09-22 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2007307915A (ja) * 2004-02-13 2007-11-29 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
JP2008136892A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Tokyo Electron Ltd デバイス製造装置およびデバイス製造方法
KR100933524B1 (ko) * 2008-01-22 2009-12-23 주식회사 탑 엔지니어링 액정 적하장비, 그것의 액정 공급 장치 및 공급 방법
KR101331405B1 (ko) * 2009-08-25 2013-11-21 주식회사 탑 엔지니어링 액정 적하장비, 그것의 액정 공급 장치 및 공급 방법

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003302083A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Canon Inc ワークの加工方法、ワークの加工装置及びカセット、並びに、プリント装置のユニット
US6858464B2 (en) 2002-06-19 2005-02-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing light emitting device
US20060158474A1 (en) * 2003-07-10 2006-07-20 Van Dam Dirkjan B Method and device for accurately positioning a pattern on a substrate
JP4347187B2 (ja) * 2004-02-13 2009-10-21 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP4042737B2 (ja) * 2004-10-27 2008-02-06 セイコーエプソン株式会社 パターン形成システム
JP2006263559A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP4508115B2 (ja) * 2006-01-13 2010-07-21 セイコーエプソン株式会社 駆動力伝達装置、機械装置、及び液体噴射装置
TW200740615A (en) * 2006-04-21 2007-11-01 Icf Technology Co Ltd Method of manufacturing thin film pattern layer
US9700908B2 (en) 2012-12-27 2017-07-11 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
KR20220001519A (ko) 2012-12-27 2022-01-05 카티바, 인크. 정밀 공차 내로 유체를 증착하기 위한 인쇄 잉크 부피 제어를 위한 기법
US11141752B2 (en) 2012-12-27 2021-10-12 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
US9832428B2 (en) 2012-12-27 2017-11-28 Kateeva, Inc. Fast measurement of droplet parameters in industrial printing system
US9352561B2 (en) 2012-12-27 2016-05-31 Kateeva, Inc. Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances
US11673155B2 (en) 2012-12-27 2023-06-13 Kateeva, Inc. Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy
CN104275946B (zh) * 2013-07-10 2016-09-28 富翔精密工业(昆山)有限公司 打标装置
CN104416159B (zh) * 2013-08-20 2016-06-29 中国科学院理化技术研究所 一种低熔点金属多维结构的液相打印系统及打印方法
CN107825886B (zh) 2013-12-12 2020-04-14 科迪华公司 制造电子设备的方法
JP6955767B2 (ja) 2015-07-31 2021-10-27 カティーバ, インコーポレイテッド インク送達システムおよび方法
CN111787978B (zh) * 2018-10-02 2022-07-15 胡东明 混合制造设备和方法
US11383437B2 (en) 2018-10-02 2022-07-12 Dongming Hu Hybrid manufacturing apparatus
JP7310393B2 (ja) * 2019-07-16 2023-07-19 セイコーエプソン株式会社 液体吐出装置

Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5322218U (ja) * 1976-08-02 1978-02-24
JPS5563085A (en) * 1978-11-04 1980-05-12 Yuzuru Hashimoto Joint for glass tube or the like
JPH0288091U (ja) * 1988-12-26 1990-07-12
JPH0674379A (ja) * 1992-06-25 1994-03-15 Fujii Gokin Seisakusho:Kk 自在継手
JPH07332568A (ja) * 1994-06-09 1995-12-22 Nitto Kohki Co Ltd 管継手
JPH08162019A (ja) * 1994-12-09 1996-06-21 Toray Ind Inc プラズマディスプレイの製造方法
JPH10112585A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 U H T Kk プリント配線体及びその製造方法並びにその製造装置
JPH10153967A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Seiko Epson Corp フルカラー有機el表示装置およびその製造方法
JPH10264369A (ja) * 1997-03-27 1998-10-06 Canon Inc インクジェット記録装置
JPH10337862A (ja) * 1997-06-06 1998-12-22 Seiko Epson Corp インクジェット式記録装置
JP2000108216A (ja) * 1998-10-02 2000-04-18 Canon Inc マイクロレンズアレイの製造方法
JP2000198215A (ja) * 1997-12-09 2000-07-18 Brother Ind Ltd 画像記録装置のインク供給構造
JP2000318184A (ja) * 1999-05-11 2000-11-21 Canon Inc インクジェット記録装置および、該インクジェット記録装置を有するカラーフィルタ製造装置
JP2001188235A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Seiko Epson Corp 液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器
JP2001296420A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、その製造装置、カラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置を備えた装置の製造方法及びインク吐出装置
JP2001343672A (ja) * 2000-05-30 2001-12-14 Seiko Epson Corp 電気泳動表示装置およびその製造方法
JP2002049031A (ja) * 2000-07-31 2002-02-15 Seiko Epson Corp 液晶装置およびその製造方法
JP2002066391A (ja) * 2000-08-31 2002-03-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布方法および塗布装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD257638A1 (de) * 1987-02-19 1988-06-22 Univ Halle Wittenberg Ferroelektrische fluessigkristalle
US4855455A (en) * 1988-01-22 1989-08-08 W. R. Grace & Co.-Conn. Preparation of amino acid derivatives
JP2003053993A (ja) * 2001-08-14 2003-02-26 Canon Inc インクジェット記録ヘッド

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5322218U (ja) * 1976-08-02 1978-02-24
JPS5563085A (en) * 1978-11-04 1980-05-12 Yuzuru Hashimoto Joint for glass tube or the like
JPH0288091U (ja) * 1988-12-26 1990-07-12
JPH0674379A (ja) * 1992-06-25 1994-03-15 Fujii Gokin Seisakusho:Kk 自在継手
JPH07332568A (ja) * 1994-06-09 1995-12-22 Nitto Kohki Co Ltd 管継手
JPH08162019A (ja) * 1994-12-09 1996-06-21 Toray Ind Inc プラズマディスプレイの製造方法
JPH10112585A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 U H T Kk プリント配線体及びその製造方法並びにその製造装置
JPH10153967A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Seiko Epson Corp フルカラー有機el表示装置およびその製造方法
JPH10264369A (ja) * 1997-03-27 1998-10-06 Canon Inc インクジェット記録装置
JPH10337862A (ja) * 1997-06-06 1998-12-22 Seiko Epson Corp インクジェット式記録装置
JP2000198215A (ja) * 1997-12-09 2000-07-18 Brother Ind Ltd 画像記録装置のインク供給構造
JP2000108216A (ja) * 1998-10-02 2000-04-18 Canon Inc マイクロレンズアレイの製造方法
JP2000318184A (ja) * 1999-05-11 2000-11-21 Canon Inc インクジェット記録装置および、該インクジェット記録装置を有するカラーフィルタ製造装置
JP2001188235A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Seiko Epson Corp 液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器
JP2001296420A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、その製造装置、カラーフィルタを備えた液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置を備えた装置の製造方法及びインク吐出装置
JP2001343672A (ja) * 2000-05-30 2001-12-14 Seiko Epson Corp 電気泳動表示装置およびその製造方法
JP2002049031A (ja) * 2000-07-31 2002-02-15 Seiko Epson Corp 液晶装置およびその製造方法
JP2002066391A (ja) * 2000-08-31 2002-03-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布方法および塗布装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005231358A (ja) * 2004-01-21 2005-09-02 Olympus Corp インクジェットヘッドのメンテナンス方法及び画像形成装置
JP2005230801A (ja) * 2004-01-22 2005-09-02 Seiko Epson Corp ワイピング方法、ワイピング装置、これを備えた描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
JP2005254798A (ja) * 2004-02-13 2005-09-22 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2007307915A (ja) * 2004-02-13 2007-11-29 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
JP2008136892A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Tokyo Electron Ltd デバイス製造装置およびデバイス製造方法
KR100933524B1 (ko) * 2008-01-22 2009-12-23 주식회사 탑 엔지니어링 액정 적하장비, 그것의 액정 공급 장치 및 공급 방법
KR101331405B1 (ko) * 2009-08-25 2013-11-21 주식회사 탑 엔지니어링 액정 적하장비, 그것의 액정 공급 장치 및 공급 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100453602B1 (ko) 2004-10-20
TW200304415A (en) 2003-10-01
US20030179252A1 (en) 2003-09-25
TW565508B (en) 2003-12-11
CN1210153C (zh) 2005-07-13
KR20030076195A (ko) 2003-09-26
CN1445088A (zh) 2003-10-01
US6910762B2 (en) 2005-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3985559B2 (ja) 吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2003266738A (ja) 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP4066661B2 (ja) 有機el装置の製造装置および液滴吐出装置
JP3890973B2 (ja) ヘッドユニット
JP2003266007A (ja) 気密チャンバにおける接続ラインの貫通構造およびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2003275646A (ja) 吐出装置における機能液滴吐出ヘッドのクリーニングユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2003191462A (ja) 描画装置、並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP3901119B2 (ja) 描画装置、有機el装置の製造方法および製造装置、並びに有機el装置および電子機器
JP3894000B2 (ja) ヘッドユニットの組立方法、機能液滴吐出ヘッドの位置決め装置およびヘッドユニットの組立装置
JP3945475B2 (ja) メンテナンス装置およびこれを備えた描画装置
JP3937833B2 (ja) 機能液滴吐出ヘッドの洗浄方法および洗浄装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2006082080A (ja) 機能液滴吐出ヘッドへの液体充填方法および吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2004267927A (ja) 描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器
JP4399148B2 (ja) インクジェットヘッドの機能液充填方法および機能液滴吐出装置
JP2003243158A (ja) 有機el装置の製造方法および製造装置、並びに有機el装置、電子機器および液滴吐出装置
JP2003182110A (ja) 機能液滴吐出ヘッドの保管方法および保管装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
JP2004087303A (ja) 製膜装置とその液状体充填方法及びデバイス製造方法とデバイス製造装置並びにデバイス
JP2005185899A (ja) チャンバ用貫通構造、液滴吐出装置および装置製造方法
JP2008023525A (ja) 描画装置および電気光学装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040630

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060130

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060418

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060616

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060627

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20060825