KR20050081861A

KR20050081861A - 액적 토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학장치 및 전자 기기

Info

Publication number: KR20050081861A
Application number: KR1020040103090A
Authority: KR
Inventors: 사카모토겐지
Original assignee: 세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date: 2004-02-13
Filing date: 2004-12-08
Publication date: 2005-08-19
Also published as: US20050190225A1; CN1654206A; CN100410077C; JP4347187B2; TWI260279B; TW200526425A; KR100695548B1; JP2005254797A

Abstract

본 발명은 교환성 및 메인터넌스성을 손상시키지 않고, 대형 헤드 유닛을 구성할 수 있는 액적 토출 장치에 관한 것이다.

상기 액적 토출 장치는 기능 액적 토출 헤드(72)에 의해 워크(W) 위에 묘화를 행하는 묘화 수단과 기능 액적 토출 헤드(72)에 대하여 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 수단(46)을 구비하며, 묘화 수단은 워크(W)를 탑재하는 동시에 워크(W)를 X축 방향으로 이동시키는 X축 테이블(42)과, 기능 액적 토출 헤드(72)를 캐리지(75)에 탑재한 복수의 캐리지 유닛과, 복수의 캐리지 유닛을 묘화 에리어(51)와 메인터넌스 에리어(52) 사이에서 이동시키는 Y축 테이블(43)을 구비하며, Y축 테이블(43)은 복수의 캐리지 유닛을 개별적으로 이동 가능하게 구성되어 있다.

Description

액적 토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기{DROPLET DISCHARGING APPARATUS, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC APPARATUS}

본 발명은 기능 액적 토출 헤드를 상대적으로 이동시키면서 워크(work) 위에 기능액을 토출하여 묘화를 행하는 동시에, 기능 액적 토출 헤드에 대하여 메인터넌스를 행하는 액적 토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기에 관한 것이다.

종래의 액적 토출 장치로서, 유기 EL 장치나 컬러 필터의 제조에 이용되는 잉크젯 방식의 장치가 알려져 있다(예를 들면 특허 문헌 1 참조). 이 액적 토출 장치는 석정반(石定盤) 위에 워크인 기판을 탑재한 X축 테이블과, 기능 액적 토출 헤드를 탑재한 Y축 테이블을 갖는 묘화 장치를 구비하는 동시에, 이 묘화 장치에 병설(倂設)되고, 기대(機臺) 위에, 기능 액적 토출 헤드에 대하여 기능액의 흡인이나 와이핑(wiping)을 행하는 메인터넌스 장치를 구비하고 있다. Y축 테이블에는 메인 캐리지가 이동 가능하게 수설(垂設)되고, 이 메인 캐리지(캐리지)에 서브 캐리지(헤드 플레이트)와 이에 탑재된 12 개의 기능 액적 토출 헤드로 이루어지는 헤드 유닛이 지지되어 있다.

그리고, X축 테이블에 의해 기판이 주주사 방향(X축 방향에)으로 왕복 이동되고, 이와 동기(同期)하여 각 기능 액적 토출 헤드로부터 기능액을 토출하는 동시에, 왕복 이동마다 Y축 테이블에 의해 헤드 유닛(기능 액적 토출 헤드)이 부(副)주사 방향(Y축 방향으로)으로 이동됨으로써 기판 전역에 묘화가 행해진다.

한편, 기능 액적 토출 헤드의 메인터넌스를 행하는 경우에는, Y축 테이블에 의해 헤드 유닛을 메인터넌스 장치로 보내고, 이 상태에서 헤드 유닛에 대하여, 흡인 유닛에 의한 기능액의 흡인 처리와, 와이핑 유닛에 의한 불식(拂拭) 처리가 행해진다. 또한, 메인 캐리지에 탈착이 자유롭게 지지된 헤드 유닛을 교환하는 경우에는, 메인터넌스 장치의 역(逆)측 홈(home) 위치에 헤드 유닛을 이동시켜두고, 교환 작업을 행하도록 한다.

[특허 문헌 1]

특개 2003-266673호 공보

이러한 종래의 액적 토출 장치에서는, 기판(워크)에 대하여, 헤드 유닛을 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시키면서 기능액의 토출을 행할 필요가 있기 때문에, 워크가 대형인 경우에는 그 처리(takt time)에 시간이 걸리는 문제가 있다. 이러한 경우에, 이른바 라인 프린터와 같이 전체 기능 액적 토출 헤드에 의해 하나의 묘화 라인을 망라하는 헤드 유닛을 사용하는 것을 생각할 수 있다.

그러나, 이와 같이 하면, 일부의 기능 액적 토출 헤드에 문제가 생긴 경우에 헤드 유닛을 전체로 교환할 필요가 생기고, 교환 작업이 번잡하게 된다고 상정된다. 또한, 헤드 유닛에 대응하여, 흡인 유닛 및 와이핑 유닛을 설치할 필요가 생기고, 메인터넌스 장치가 대형화되는 것이 상정된다.

본 발명은, 교환성 및 메인터넌스성을 손상시키지 않고, 대형의 헤드 유닛을 구성할 수 있는 액적 토출 장치 및 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기를 제공하는 것을 그 과제로 한다.

본 발명의 액적 토출 장치는 묘화 에리어에 면한 워크에 대하여, 기능액을 도입한 기능 액적 토출 헤드를 상대적으로 이동시키면서 워크 위에 기능액을 토출하여 묘화를 행하는 묘화 수단과, 묘화 수단에 병설되고, 메인터넌스 에리어에 면한 기능 액적 토출 헤드에 대하여 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 수단을 구비한 액적 토출 장치로서, 묘화 수단은 워크를 탑재하는 동시에 워크를 주주사 방향이 되는 X축 방향으로 이동시키는 X축 테이블과, 기능 액적 토출 헤드를 캐리지에 탑재한 복수의 캐리지 유닛과, 복수의 캐리지 유닛을 묘화 에리어와 메인터넌스 에리어 사이에서 이동시키는 Y축 테이블을 구비하고, Y축 테이블은, 복수의 캐리지 유닛을 개별적으로 이동 가능하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.

이 구성에 의하면, 기능 액적 토출 헤드를 캐리지에 탑재한 복수의 캐리지 유닛에 의해, 묘화 라인을 구성하는 동시에, Y축 테이블에 의해, 복수의 캐리지 유닛을 개별적으로 이동 가능하게 구성하고 있기 때문에, 복수의 캐리지 유닛을 정렬함으로써 광폭(장 라인)의 묘화 라인을 구성할 수 있는 동시에, 캐리지 유닛을 개별적으로 메인터넌스 수단에 면하게 하여 메인터넌스 처리할 수 있다. 또한, Y축 테이블에 의해 캐리지 유닛을 교환 에리어로 개별적으로 이동시켜서 기능 액적 토출 헤드의 교환 등을 캐리지 유닛마다 행할 수 있다.

따라서, 교환성 및 메인터넌스성을 손상시키지 않고, 광폭(장 라인)의 묘화 라인을 형성하는 대형의 헤드 유닛을 구성할 수 있다.

이 경우, 복수의 캐리지 유닛에 탑재되어 있는 복수의 기능 액적 토출 헤드의 전체 토출 노즐에 의해, 묘화 에리어의 묘화 폭에 대응하는 하나의 묘화 라인이 구성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 부주사(Y축 방향으로의 간헐 이동)를 필요로 하지 않고, 하나의 워크에 대하여 묘화를 행할 수 있고, 워크로의 묘화 처리에서의 택트 타임을 극히 짧게 단축할 수 있다.

이들의 경우, Y축 테이블의 구동원이 리니어 모터로 구성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 복수의 캐리지 유닛에 대한 개별적인 이동을 단순한 구조로, 또한 정밀도 좋게 행할 수 있다.

이들의 경우, 각 캐리지 유닛은, Y축 테이블의 슬라이더에 지지된 캐리지와, 캐리지에 탈착이 자유롭게 유지되고, 기능 액적 토출 헤드 및 이를 탑재한 헤드 플레이트로 이루어지는 헤드 유닛을 가지며, 메인터넌스 에리어는, 캐리지에 대하여 헤드 유닛을 탈착하는 교환 에리어를 겸하고 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 메인터넌스 에리어를 이용하여, 캐리지에 대한 헤드 유닛의 탈착, 즉 헤드 유닛을 통하여, 기능 액적 토출 헤드의 교환을 용이하게 행할 수 있다. 이것은, 기능액의 성질로부터 교환 빈도가 높은 기능 액적 토출 헤드를 사용하는 경우에 특히 유용하다.

이 경우, 각 헤드 플레이트에는 복수개의 기능 액적 토출 헤드가 탑재되어 있으며, 복수개의 기능 액적 토출 헤드는 그 전체 토출 노즐이 묘화 라인의 일부가 되는 부분 묘화 라인을 구성하도록 소정 배치 패턴으로 배치되어 있고, 배치 패턴은 X축 방향 및 Y축 방향으로 각각 위치가 어긋난 계단 형상이며, 또한 단일 열로 배치한 액적 토출 헤드 그룹으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.

마찬가지로 각 헤드 플레이트에는 기능 액적 토출 헤드의 복수개가 탑재되어 있고, 복수개의 기능 액적 토출 헤드는 그 전체 토출 노즐이 상기 묘화 라인의 일부가 되는 부분 묘화 라인을 구성하도록 소정 배치 패턴으로 배치되어 있고, 배치 패턴은 X축 방향 및 Y축 방향으로 각각 위치가 어긋난 계단 형상이며, 또한 Y축 방향으로 복수열로 배치한 액적 토출 헤드 그룹으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.

이들 구성에 의하면, 표준적인 토출 노즐수가 다수인 기능 액적 토출 헤드를 이용하여, 묘화 라인을 구성할 수 있는 동시에, 기능 부전(不全)의 기능 액적 토출 헤드만을 폐기하여 헤드 유닛을 재생할 수 있고, 기능 액적 토출 헤드의 제품 비율성을 손상시키지 않는다. 또한, 후자의 배치 패턴을 채용함으로써, 복수의 캐리지 유닛에서 전체의 Y축 방향의 길이를 변경하지 않고, X축 방향의 폭을 좁게할 수 있고, 장치 전체를 컴팩트하게 구성할 수 있다.

이들의 경우, 각 캐리지 유닛에는, 기능 액적 토출 헤드에 기능액을 공급하는 기능액 탱크가 각각 탑재되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 기능액 탱크와 기능 액적 토출 헤드 사이의 거리를 극단적으로 짧게할 수 있는 동시에, 기능액 탱크 및 기능 액적 토출 헤드 사이의 기능액 튜브의 처리를 극단적으로 단순화할 수 있다. 이에 의해, 기능 액적 토출 헤드로부터의 기능액의 토출을 안정화할 수 있다. 또한 기능액 탱크와 기능 액적 토출 헤드 사이에 압력 조정 밸브를 개설하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 기능액 탱크 및 기능 액적 토출 헤드 사이의 수두압 변동에 근거하는 기능 액적 토출 헤드의 불안정한 기능액 토출을 해소할 수 있다.

이들의 경우, 메인터넌스 수단은 기능 액적 토출 헤드의 각 토출 노즐로부터 기능액을 흡인하는 흡인 유닛과, 흡인 후의 기능 액적 토출 헤드의 노즐면을 와이핑 시트에 의해 불식하는 와이핑 유닛을 가지는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 기능 액적 토출 헤드에 대하여, 흡인 유닛에 의한 흡인 처리와, 와이핑 유닛에 의한 불식 처리를 행함으로써, 각 캐리지 유닛에서의 기능 액적 토출 헤드의 토출 기능을 양호한 상태로 유지할 수 있다. 또한, 흡인 유닛 및 와이핑 유닛을 1 개의 캐리지 유닛에 대응하는 구조로 하고, 캐리지 유닛 단위로 메인터넌스 처리(흡인 처리 및 불식 처리)를 행하도록 하면, 복수의 캐리지 유닛 전체가 대형화하여도, 메인터넌스 수단을 대형으로 할 필요가 없어진다.

본 발명의 전기 광학 장치의 제조 방법은, 상술한 액적 토출 장치를 이용하여, 워크 위에 기능 액적에 의한 성막부를 형성하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 전기 광학 장치는, 상술한 액적 토출 장치를 이용하여, 워크 위에 기능 액적에 의한 성막부를 형성하는 것을 특징으로 한다.

이들 구성에 의하면, 워크로의 묘화를 극히 고정밀도이며, 또한 단시간에 처리하는 액적 토출 장치를 이용하여 제조되기 때문에, 신뢰성이 높은 전기 광학 장치를 제조하는 것이 가능해진다. 또한, 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이)로서는, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, PDP 장치, 전자 방출 장치 등을 생각할 수 있다. 또한, 전자 방출 장치는 이른바 FED(field emission display)나 SED(surface-conduction electron-emitter display) 장치를 포함하는 개념이다. 또한, 전기 광학 장치로서는 금속 배선 형성, 렌즈 형성, 레지스트 형성 및 광 확산체 형성 등을 포함하는 장치를 생각할 수 있다.

본 발명의 전자 기기는, 상기한 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조된 전기 광학 장치 또는 상기한 전기 광학 장치를 탑재한 것을 특징으로 한다.

이 경우, 전자 기기로서는, 이른바 플랫 패널 디스플레이를 탑재한 휴대 전화, 퍼스널 컴퓨터 이외에, 각종 전기 제품이 이에 해당한다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명을 적용한 묘화 시스템에 대해서 설명한다. 본 실시예의 묘화 시스템은, 액정 표시 장치 등의, 이른바 플랫 패널 디스플레이의 제조 라인에 조직되어, R(빨강)·G(초록)·B(파랑)의 3색으로 이루어지는 컬러 필터의 착색층(상세한 내용은 후술함)을 형성하는 것이다.

도 1은, 묘화 시스템의 평면 모식도이다. 상기 도면에 나타낸 바와 같이 묘화 시스템(1)은, 3조(組)의 묘화 유닛(2)으로 구성되어 있다. 각 묘화 유닛(2)은, R·G·B의 각 색에 각각 대응하고 있고, 워크(W)(기판)를 각 묘화 유닛(2)에 차례로 도입함으로써, 워크(W) 위에 착색층을 1색 분량씩 형성할 수 있게 되어 있다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 각 묘화 유닛(2)은 착색층을 형성하기 위한 액적 토출 장치(3)와, 액적 토출 장치(3)에 병설되고, 워크(W)를 반출입(搬出入)하는 워크 반출입 장치(4)와, 각 장치에 접속되고, 묘화 유닛(2) 전체를 제어하는 제어 장치(5)를 구비한다. 또한, 상기 도면에 나타낸 바와 같이, 액적 토출 장치(3)는 챔버 장치(6)에 수용되어 있다. 챔버 장치(6)는 이른바 열(thermal) 챔버로서 일정한 온도 조건에서 워크(W)에 대한 액적 토출(묘화)이 행해지도록, 액적 토출 장치(3) 전체를 온도 관리하에서 수용하고 있다. 챔버 장치(6)는 액적 토출 장치(3) 전체를 수용한 박스 형상의 챔버 본체(11)와, 이것을 제어반(도시 생략)과, 챔버 본체(11) 내의 온도가 일정하게 되도록 온도 관리를 행하는 공기 조화 기기(12)를 구비하고 있다. 도시를 생략했으나, 챔버 본체(11)의 우측면 전방에는, 워크 반입·반출 통로가 되는 개폐문이 형성되어 있고, 액적 토출 장치(3)에 워크(W)를 도입하는 경우 등에는, 개폐문을 통하여 챔버 본체(11) 내에 수용된 액적 토출 장치(3)에 접속할 수 있게 되어 있다.

액적 토출 장치(3)는, 기능 액적 토출 헤드(72)(도시 생략)를 구비하고, R·G·B의 어느 1색에 대응한 기능 재료(필터 재료)를 기능액 용매에 녹인 기능액을 기능 액적 토출 헤드(72)(도시 생략)에 도입하여, 워크(W) 위에 기능 액적에 의한 묘화를 행한다. 워크 반출입 장치(4)는, 워크(W)를 이재(移載)하는 로봇 암(15)을 구비하고, 로봇 암(15)을 통하여, 미처리(묘화전) 워크(W)를 묘화 유닛(2) 내에 반입하여 이것을 액적 토출 장치(3)에 도입하는 동시에, 처리 완료(묘화가 끝난 상태) 워크(W)를 액적 토출 장치(3)로부터 회수(回收)하여 이것을 묘화 유닛(2) 외에 반출한다. 로봇 암(15)은, 상기 개폐문에서 챔버 본체(11) 내의 액적 토출 장치(3)에 접속 가능하고, 액적 토출 장치(3)에 대한 워크(W)의 도입(導入)·회수(回收)는 로봇 암(15)을 개폐 도어로부터 챔버 본체(11) 내로 삽입하여 행해진다. 제어 장치(5)는 컴퓨터 등으로 구성되고, 장치 본체 이외에, 모니터 디스플레이나, CD 드라이브 또는 DVD 드라이브 등의 각종 드라이브를 구비하고 있다.

또한, 도면에서 가리키는 부호 18은 건조 장치를 설치하기 위한 설치 스페이스이고, 상황에 따라서 워크(W)에 토출시킨 기능액의 기능액 용매를 건조(기화)시키기 위한 건조 장치를 묘화 유닛(2) 내에 설치 가능하다.

다음으로, 본 발명의 주요부가 되는 액적 토출 장치(3)에 대해서 설명한다. 도 2 내지 5에 나타낸 바와 같이, 액적 토출 장치(3)는 플로어(床) 위에 설치한 대형의 공통 가대(架臺)(21)와, 공통 가대(21) 위에 넓게 배열 설치된 장치 본체(22)를 구비하고 있다. 상기 도면에 나타낸 바와 같이, 공통 가대(21) 위에는 석정반(31) 및 앵글 가대(32)가 배열 설치되는 동시에, 2 조 4 개의 스탠드(34a 및 b)로 이루어지는 한 쌍의 지지 스탠드(33)가 입설(立設)되어 있다.

도 2 내지 5에 나타낸 바와 같이, 장치 본체(22)는 기능 액적 토출 헤드(72)를 가지는 헤드 유닛(41)과, 석정반(31) 위에 직접 설치되고, 워크(W)를 세트하는 세트 테이블(101)을 가지고, 세트 테이블(101)을 통하여 워크(W)를 X축 방향으로 이동(주주사)시키는 워크 이동 수단(42)(X축 테이블)과, 한 쌍의 지지 스탠드(33) 위에 배열 설치되고, 헤드 유닛(41)을 Y축 방향(부주사 방향)으로 이동시키는 헤드 이동 수단(43)(Y축 테이블)과, 세트 테이블(101)에 그 주요부가 배열 설치되고, 세트 테이블(101)에 대한 워크(W)의 제급(除給)시에, 워크(W)를 리프트업하는 동시에, 워크(W)의 정전기를 제전(除電)하는 워크 제급 수단(44)과, 헤드 유닛(41)(기능 액적 토출 헤드(72))에 기능액을 공급하는 기능액 공급 수단(45)과, 앵글 가대(32) 위에 그 주요부가 배열 설치되고, 헤드 유닛(41)(기능 액적 토출 헤드(72))을 보수하는 메인터넌스 수단(46)을 구비하고 있다.

또한, 도시를 생략했으나, 장치 본체(22)는, 각 수단에 액체를 공급하는 동시에 불필요하게 된 액체(기능액 및 세정액)를 회수하는 액체 공급 회수 수단이나, 각 수단을 구동·제어하기 위한 압축 에어를 공급하는 에어 공급 수단, 워크(W)를 (흡착) 세트하기 위한 에어 흡인 수단 등을 구비하고 있다. 이 액적 토출 장치(3)에 도입되는 워크(W)는, 세트 테이블(101)에 횡치(橫置) 세트되는 세로 1800 mm×가로 1500 mm의 투명 기판(유리 기판)이며, 미리 착색층을 형성시키는 화소 영역(후술함)이 제작되어 있다.

이 액적 토출 장치(3)에서는, 워크 이동 수단(42)의 구동에 동기하여, 기능 액적 토출 헤드(72)를 구동함으로써, 워크(W)의 화소 영역 내에 기능액을 토출시키고, 워크(W)에 묘화 처리(액적 토출 처리)를 행한다. 즉, 헤드 유닛(41)과 워크 이동 수단(42)에 의해, 묘화 수단이 구성된다. 한편, 워크 교환 등의 비묘화 처리시에는, 헤드 이동 수단(43)을 구동하여, (후술하는 캐리지(75)를 통하여) 헤드 유닛(41)을 메인터넌스 수단(46)에 면하게 하고, 메인터넌스 수단(46)에 의해, 기능 액적 토출 헤드(72)의 메인터넌스 처리를 행하게 되어 있다. 상술한 바와 같이, 액적 토출 장치(3)는, 챔버 장치(6) 내에 수용되어 있고, 일련의 묘화 처리나 메인터넌스 처리를 포함하는 대부분의 처리는, 챔버 장치(6) 내에서 행해진다.

또한, 도 3에 나타낸 바와 같이, 워크 이동 수단(42)에 의한 워크(W)의 이동 궤적과, 헤드 이동 수단(43)에 의한 헤드 유닛(41)의 이동 궤적이 교차하지만, 묘화 처리를 행하는 묘화 에리어(51)가 된다. 그리고, 헤드 이동 수단(43)에 의한 헤드 유닛(41)의 이동 궤적 위의, 메인터넌스 수단(46)에 면한 영역이 메인터넌스 처리를 행하는 메인터넌스 에리어(52)가 된다. 또한, 메인터넌스 에리어(52)는, 헤드 유닛(41)을 교환하기 위한 헤드 교환 에리어를 겸하고 있다. 또한, 워크 이동 수단(42)의 도면상 앞측의 영역은, 액적 토출 장치(3)에 대한 워크(W)의 반출입(도출입(導出入))을 행하는 워크 반출입 에리어(53)로 되어 있고, 이 워크 반출입 에리어(53)에 면하여, 상기한 워크 반출입 장치(4)가 설치되어 있다.

다음으로, 액적 토출 장치(3)의 각 구성 요소에 대해서 설명한다. 도 2 내지 5에 나타낸 바와 같이, 석정반(31)은 대략 직방체로 형성되고, X축 방향으로 연재하고 있다. 또한, 석정반(31)은, 그 중앙부로부터 Y축 방향의 좌우에 돌출한 표출부(31a)를 가지고, 평면에서 보았을 때 변형 「십(十)」자형으로 구성된다. 앵글 가대(32)는, 앵글재를 사각형으로 짜서 구성되고, Y축 방향에서 석정반(31)(의 장출부(31a))과 정렬하여 배열 설치되어 있다.

이들 도면에 나타낸 바와 같이, 한 쌍의 지지 스탠드(33)는 앵글 가대(32)를 사이에 끼우도록 X축 방향(전후)에 정렬하여 배열 설치된다. 각 지지 스탠드(33)는, 석정반(31) 및 앵글 가대(32)의 배열 설치 범위에 이르고, Y축 방향으로 연재하고 있어, Y축 방향으로 정렬한 2 조 4 개의 지주(61)와, 4 개의 지주(61) 사이를 가로지르는 기둥 형상의 지지 부재(62)를 가지고 있다. 즉, 한 쌍의 지지 스탠드(33)는, 4조 8개의 지주(61)와, 2개의 기둥 형상의 지지 부재(62)를 구비하고 있다. 각 지지 스탠드(33)의 2 조의 지주(61)는, 각각 길이가 다르다. 그리고, 2 조 4 개의 지주(61)가 같은 높이가 되도록, 짧은 쪽의 지주 1조가, 석정반(31)의 장출부(31a)에 입설되는 동시에, 긴 쪽의 지주 1조가 공통 가대(21) 위에 입설된다.

기둥 형상 지지 부재(62)는 동일 단면을 가지는 2개의 블록(63a 및 b)으로 구성된다. 양 블록(63a 및 b)은 석재로 구성되어 있다. 블록(63a)은 석정반(31)에 입설한 2개의 지주(61a) 사이를 Y축 방향과 평행하도록 가설되어 있다. 마찬가지로 블록(63b)은 공통 가대(21)에 입설한 2개의 지주(61b)를 Y축 방향과 평행하게 가설되어 있다. 즉, 2개의 지주(61a) 및 블록(63a)에 의해 스탠드(34a)가 구성되고, 2개의 지주(61b) 및 블록(63b)에 의해 스탠드(34b)가 구성된다. 이들 양 블록(63a 및 b)은 Y축 방향에 대하여, 단면을 서로 맞댄 상태로 연결되는 동시에 지주(61a 및 b) 위에 고정된다. 그리고, Y축 방향으로 연속하여 병설한 블록(63a 및 b)에 의해 기둥 형상 지지 부재(62)가 구성된다. 또한, 각 지주(61)와 기둥 형상 지지 부재(62)와의 사이에 높이 조정 플레이트(66)를 개설하고, 기둥 형상 지지 부재(62)(상단면)의 높이를 조정하게 할 수도 있다(도 5 참조).

다음으로 장치 본체(22)의 각 수단에 대해서 설명한다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 헤드 유닛(41)은 Y축 방향으로 정렬 배치된 복수(7 개)의 분할 헤드 유닛(71)으로 구성되어 있다. 도 5, 도 6 및 도 8에 나타낸 바와 같이, 각 분할 헤드 유닛(71)은, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)와, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)를 지지하는 헤드 플레이트(73)와, 각 기능 액적 토출 헤드(72)를 헤드 플레이트(73)에 고정하기 위한 12 개의 헤드 유지 부재(74)와, 상기 헤드 이동 수단(43)에 지지되는 동시에, 헤드 플레이트(73)를 지지하는 캐리지(75)를 구비하고 있다.

즉, 캐리지(75)와, 이에 지지된 헤드 플레이트(73)에 의해 캐리지 유닛이 구성되어 있다. 캐리지 유닛은, 헤드 이동 수단(43)인 브릿지 플레이트(141)(후술함)에 수설되어 있고, 7 개의 캐리지 유닛은, 헤드 이동 수단(43)에 의해, Y축 방향(일방향)에 대하여 개별 이동이 가능하게 구성되어 있다.

도 7에 나타낸 바와 같이, 기능 액적 토출 헤드(72)는 이른바 2 련(連)으로서, 2 련의 접속침(82)을 가지는 기능액 도입부(81)와, 기능액 도입부(81)에 이어지는 2 련의 헤드 기판(83)과, 기능액 도입부(81)의 하부에 이어지고, 내부가 기능액으로 채워지는 헤드 내 유로가 형성된 헤드 본체(84)를 구비하고 있다. 접속침(82)은 도면 외의 기능액 탱크(201)(후술함)에 접속되고, 기능 액적 토출 헤드(72)의 헤드 내 유로에 기능액을 공급한다. 헤드 본체(84)는 캐비티(85)(피에조 압전 소자)와, 토출 노즐(88)이 통로한 노즐면(87)을 가지는 노즐 플레이트(86)로 구성되어 있다. 노즐면(87)에는 다수(180개)의 토출 노즐(88)로 이루어지는 노즐열이 2열 형성되어 있다. 기능 액적 토출 헤드(72)를 토출 구동하면, 캐비티(85)의 펌프 작용에 의해 토출 노즐(88)로부터 기능 액적을 토출한다.

도 6 및 도 8에 나타낸 바와 같이, 헤드 플레이트(73)는 스텐레스 등으로 이루어지는 평면에서 보았을 때 대략 평행 사변형의 후판으로 구성되어 있다. 헤드 플레이트(73)에는 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)를 위치 결정하고, 헤드 유지 부재(74)를 통하여, 이면(裏面)측에서 각 기능 액적 토출 헤드(72)를 고정하기 위한 12 개의 장착 통로(도시 생략)가 형성되어 있다. 각 헤드 플레이트(73)에 형성된 12 개의 장착 통로는 X축 방향 및 Y축 방향으로 각각 위치를 어긋나게 한 상태로 1 열로 배치되어 있다. 이것에 의해, 각 기능 액적 토출 헤드(72)는, 노즐열이 Y축 방향과 평행이 되도록 고정되는 동시에, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)는, 1열의 액적 토출 헤드 그룹을 구성하고, 헤드 플레이트(73)에 대하여, 그 노즐열의 일부가 (Y축 방향으로) 중복되도록 단차 형상으로 배치된다. 즉, 각 분할 헤드 유닛(71)에 탑재된 액적 토출 헤드 그룹(12 개의 기능 액적 토출 헤드(72))의 노즐열(토출 노즐(88))에 의해, 1 개의 분할 묘화 라인(부분 묘화 라인)이 구성된다.

도 5에 나타낸 바와 같이, 캐리지(75)는, 헤드 플레이트(73)를 탈착이 자유롭게 지지하는 캐리지 본체(91)와, 캐리지 본체(91)의 상면에 장착되고, (헤드 플레이트(73)의) θ 방향에 대한 위치 보정을 행하기 위한 θ 회전 기구(92)와, θ 회전 기구(92)를 통하여 캐리지 본체(91)를 적설하는 동시에, 헤드 이동 수단(43)에 고정·지지된 외관 「I」형 적설 부재(93)를 가지고 있다.

도시를 생략했으나, 캐리지 본체(91)에는, 헤드 플레이트(73)를 위치 결정하기 위한 위치 결정 기구를 설치할 수 있다. 이것에 의해, 헤드 유닛(41)에서는, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)이 Y축 방향으로 정렬 배치된다(도 6 참조). 즉, Y축 방향에서, 각 분할 헤드 유닛(71)의 각 기능 액적 토출 헤드(72)는, 대응하는 위치 관계(동일한 배치 위치)에 있는 다른 6 개의 기능 액적 토출 헤드(72)와 정렬하도록 배치된다. 환언하면, 헤드 플레이트(73)가 위치 결정됨으로써, 각각 대응한 위치 관계에 있는 7 개의 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 이루어지는 기능 액적 토출 헤드열이, X축 방향으로 정렬하여 12 열, Y축 방향으로 위치가 어긋난 상태로 배치된다.

그리고, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)을 정렬 배치시키면, 각 분할 헤드 유닛(71)의 7 개의 분할 묘화 라인이 Y축 방향으로 연속하여, 워크(W)의 묘화 폭에 대응하는 1 묘화 라인을 구성하는, 각 헤드 플레이트(73)가 위치 결정된 상태로 지지된다. 즉, 분할 묘화 라인은 1 묘화 라인을 7 개로 분할하여 각 분할 헤드 유닛(71)에 배치한 것이며, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)을 정렬 배치시키면, 헤드 플레이트(73)가 정렬하여, 7 개의 분할 묘화 라인(12×7 개의 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐열)으로 이루어지는 1 묘화 라인이 형성된다. 1 묘화 라인은, 워크(W)의 종치(縱置) 및 횡치에 대응할 수 있도록, 워크(W)의 장변의 길이에 대응하여 설정되어 있고, 1800 mm로 된다. 또한, 헤드 유닛(41)(전체 분할 헤드 유닛(71))이 묘화 에리어(51)에 면하여, 1 묘화 라인이 형성되는 위치가, 헤드 유닛(41)의 묘화 홈 위치 로 되어 있고, 이 위치에서 워크(W)의 묘화 처리가 행해진다.

또한, 헤드 플레이트(73)에 탑재되는 각 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐열(토출 노즐(88))이 Y축 방향에서 연속하여, 분할 묘화 라인을 형성 가능한 것이면, 헤드 플레이트(73)에서의 기능 액적 토출 헤드(72)의 배치 방법은 임의로 설정 가능하다. 본 실시예에서는, 노즐열의 일부가 Y축 방향으로 중복되도록, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)를 헤드 플레이트(73)에 배치하고 있지만, 노즐열을 중복시키지 않고, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)의 전체 토출 노즐(88)에 의해 1 묘화 라인이 구성되도록, 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)를 배치해도 좋다. 또한, 도 9에 나타낸 바와 같이 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)를 2 분하여 (복수열로) 배치하는 것도 가능하다. 이와 같이, 복수의 기능 액적 토출 헤드(72)를 복수열로 분할하여 배치하면, X축 방향에서의 헤드 플레이트(73)의 폭을 좁게 할 수 있다. 마찬가지로, 1 묘화 라인을 형성 가능하면, 분할 헤드 유닛(71)의 배치도 임의로 설정 가능하다. 그리고, 당연하지만, 각 분할 헤드 유닛(71)에 탑재하는 기능 액적 토출 헤드(72)의 개수나, 분할 헤드 유닛(71)수 등도 실정에 따라 임의로 설정 가능하다.

도 2 내지 도 5에 나타낸 바와 같이, 워크 이동 수단(42)은 워크(W)를 세트하는 세트 테이블(101)과, 세트 테이블(101)을 X축 방향으로 슬라이드가 자유롭게 지지하는 X축 에어 슬라이더(102)와, X축 방향으로 연재하고, 세트 테이블(101)을 통하여 워크(W)를 X축 방향으로 이동시키는 좌우 한 쌍의 X축 리니어 모터(103)와, X축 리니어 모터(103)에 병설되고, X축 에어 슬라이더(102)의 이동을 안내하는 한 쌍의 X축 가이드 레일(도시 생략)과, 세트 테이블(101)의 위치를 파악하기 위한 X축 리니어 스케일(104)(도시 생략)을 구비하고 있다.

도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 세트 테이블(101)은 X축 에어 슬라이더(102)에 지지된 θ 테이블(111)에, 워크(W)를 흡착 세트하는 흡착 테이블(112)을 적층한 것이다. θ 테이블(111)은, X축 에어 슬라이더(102)에 고정한 θ 고정부(121)(테이블 베이스)와, 흡착 테이블(112)을 지지하는 동시에, θ 고정부(121)에 (θ축 방향으로) 회동 가능하도록 지지된 θ 회전부(122)(회전 테이블)를 가지고 있고, 흡착 테이블(112)을 통하여, 워크(W)를 θ축 방향으로 회동시킴으로써, 워크(W)의 θ 위치를 미조정(보정)한다. 또한, θ 고정부(121)에는, 후술하는 메인터넌스 수단(46)의 플러싱 유닛(231)이 지지되어 있다.

흡착 테이블(112)은, 워크(W)를 흡착 세트하는 테이블 본체(131)와, 테이블 본체(131)를 지지하는 3조의 테이블 지지 부재(132)와, θ 테이블(111)에 고정되고, 테이블 지지 부재(132)를 통하여, 테이블 본체(131)를 지지하는 지지 베이스(133)를 가지고 있다. 테이블 본체(131)는 후판 형상의 석반으로 구성되고, 평면에서 보았을 때 대략 정방형으로 형성된다. 테이블 본체(131)의 한 변(邊)은, 워크(W)의 장변의 길이에 맞추어 1800 mm로 형성되어 있고, 워크(W)를 종치 및 횡치 중 임의의 방면으로 세트 가능하게 되어 있다. 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 테이블 본체(131)의 표면에는, 워크(W)를 흡인하기 위한 흡인구(吸引溝)(134)가 복수 형성되어 있다. 그리고, 각 흡인구(134)에는, 상기한 에어 흡인 수단에 이어지는 흡인 구멍(도시 생략)이 형성되어 있고, 흡인구(134)를 통하여, 워크(W)에 충분한 흡인력을 작용시킬 수 있게 되어 있다.

3 조의 테이블 지지 부재(132)는, θ 테이블(111)의 회전축(θ축)과, 테이블 본체(131)의 중심이 일치하도록, 테이블 본체(131)를 3 점(点) 지지한다. 자세한 것은 후술하지만, 흡착 테이블(112)에는, 워크 제급 수단(44)의 리프트업 기구(161) 및 프리 얼라이먼트 기구(171)가 조직된다. 그리고, 지지 베이스(133)에는, 리프트업 기구(161) 및 프리 얼라이먼트 기구(171)의 주요부가 배열 설치되어 있는 동시에, 테이블 본체(131)에는, 리프트업 기구(161)의 복수의 리프트업 핀(162)을 관통시키기 위한 관통 구멍(135)이 정렬하여 형성되어 있다.

X축 리니어 모터(103), 한 쌍의 X축 가이드 레일 및 X축 리니어 스케일(104)은, 상기한 석정반(31) 위에 직접 재치(載置)되어 있다. 한 쌍의 X축 리니어 모터(103)를 (동기시켜) 구동하면, 한 쌍의 X축 가이드 레일을 가이드로 하면서, X축 에어 슬라이더(102)를 X축 방향으로 이동시키고, 세트 테이블(101)에 세트된 워크(W)가 X축 방향으로 이동한다. 그리고, 한 쌍의 X축 가이드 레일 사이에는, X축 리니어 스케일(104)이 병설되어 있고, 이 X축 리니어 스케일(104)에 근거하여, 기능 액적 토출 헤드(72)의 토출 타이밍이 계측된다. 또한, 한 쌍의 X축 리니어 모터(103), 한 쌍의 X축 가이드 레일 및 X축 리니어 스케일(104)은, 한 쌍의 X축 수용 박스(105) 내에 수용되어 있다.

도 2 내지 도 5에 나타낸 바와 같이, 헤드 이동 수단(43)은, 묘화 에리어(51)와 메인터넌스 에리어(52)를 건네주는 동시에, 헤드 유닛(41)을 묘화 에리어(51)와 메인터넌스 에리어(52) 사이에서 이동시키는 것이다. 헤드 이동 수단(43)은, 상기한 7 개의 분할 헤드 유닛(71)을 1 개씩 지지하는 7 개의 브릿지 플레이트(141)와, 7 개의 브릿지 플레이트(141)가 Y축 방향으로 정렬되도록, 이것을 양측에서 지지하는 7조의 Y축 슬라이더(142)와, Y축 방향으로 연장되고, 7조의 Y축 슬라이더(142)를 통하여 7 개의 브릿지 플레이트(141)를 Y축 방향으로 이동시키는 한 쌍의 Y축 리니어 모터(143)와, Y축 방향으로 연장되고, 7 개의 브릿지 플레이트(141)의 이동을 안내하는 한 쌍의 Y축 가이드 레일(144)(LM 가이드)과, 캐리지(75)를 통하여 헤드 유닛(41)(기능 액적 토출 헤드(72))의 이동 위치를 검출하는 Y축 리니어 스케일(146)(도시 생략)을 구비하고 있다.

도 5에 나타낸 바와 같이, 브릿지 플레이트(141)에는, 캐리지(75)를 위치 결정하는 삽통(揷通) 통로(도시 생략)가 형성되어 있고, 브릿지 플레이트(141)는, 삽통 개구에 캐리지(75)(적설 부재(93))를 삽통시켜, 이를 고정하고 있다. 그리고, 각 브릿지 플레이트(141) 위에는, 대응하는 분할 헤드 유닛(71)의 기능 액적 토출 헤드(72)를 구동하는 헤드용 전장 유닛(145)이 탑재되어 있다(도 2 및 도 3 참조). 7 개의 헤드용 전장 유닛(145)은, 서로 이웃하는 브릿지 플레이트의 헤드용 전장 유닛(145)이 서로 간섭하지 않도록 지그재그 형상으로 배치되고, 브릿지 플레이트(141)를 효율적으로 배치할 수 있게 되어 있다.

한 쌍의 Y축 리니어 모터(143) 및 한 쌍의 Y축 가이드 레일(144)은, 상기한 한 쌍의 지지 스탠드(33)의 기둥 형상 지지 부재(62)에 1 개씩 직접 설치되어 있다. 또한, Y축 리니어 스케일(146)은, 한 쌍의 기둥 형상 지지 부재(62)의 한편에 직접 배열 설치되어 있다. 본 실시예의 헤드 이동 수단(43)에서는, 한 쌍의 Y축 리니어 모터(143)를 구동하여, 7조의 Y축 슬라이더(142)를 동시에 Y축 방향으로 이동시킴으로써, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)으로 이루어지는 헤드 유닛(41)을 일체(一體)로서(1 묘화 라인을 형성한 상태로) Y축 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 한편, 한 쌍의 Y축 리니어 모터(143)를 선택적으로 구동함으로써, 7조의 Y축 슬라이더(142)를 각각 독립 이동시키고, 각 분할 헤드 유닛(71)을 개별로 Y축 방향으로 이동시킬 수 있게 되어 있다.

또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 각 기둥 형상 지지 부재(62)에는, 그 측면에 한 쌍의 브래킷(151)이 외향(外向)으로 고정되어 있고, 한 쌍의 브래킷(151)에는, Y축 수용 박스(152)가 지지되어 있다. 즉, 한 쌍의 기둥 형상 지지 부재(62)와 함께, 한 쌍의 Y축 수용 박스(152)가 배열 설치되어 있다. 한 쌍의 Y축 수용 박스(152)에는, 독립 이동 가능한 7 개의 분할 헤드 유닛(71)에 대응하고, 각 분할 헤드 유닛(71)(헤드용 전장 유닛(145))에 접속하는 튜브나 케이블류를, 각 분할 헤드 유닛(71)의 이동에 추종 가능하도록 수용한 7 개의 Y축 케이블 담지체(擔持體)(153)(케이블 베어: 등록 상표)가, 2 분되어 수용된다. 이 경우, 2 분하여 배치한 7 개의 헤드용 전장 유닛(145)에 대응시키고, 7 개의 Y축 케이블 담지체(153)를 4 개와 3 개로 2 분하는 것이 바람직하다.

여기서, 일련의 묘화 처리에 대해서 설명한다. 묘화 처리에 앞서, 우선, 헤드 이동 수단(43)을 구동하고, 헤드 유닛(41)을 묘화 에리어(51)(묘화 홈 위치)으로 이동시킨다. 한편, 워크 반출입 장치(4)를 이용하여, 워크 반출입 에리어(53)에 위치하는 세트 테이블(101)에, 미처리 워크(W)를 도입한다. 세트 테이블에(101)에 워크(W)가 세트되면, 워크 이동 수단(42)이 구동하고, 워크(W)를 주주사(X축) 방향으로 왕동(往動)시킨다. 이 워크(W)의 왕동과 동기하여, 기능 액적 토출 헤드(72)가 선택적으로 구동되고, 워크(W)에 대한 기능액의 선택적인 토출 동작(묘화 처리)이 행해진다.

상술한 바와 같이, 헤드 유닛(41)의 1 묘화 라인은, 워크(W) 장변의 길이에 맞추어 형성되어 있으므로, 워크(W)의 종치·횡치에 관계 없이, 워크(W)의 1 왕동에 의해, 1매의 워크(W)에 대한 묘화 처리를 끝낼 수 있다. 워크(W)의 1 왕동 후, 이어서 워크 이동 수단(42)을 구동하여, 워크(W)를 복동(復動)시키고, 묘화 처리가 완료된 워크(W)를 워크 반출입 에리어(53)로 이동시킨다. 그리고, 워크 반출입 장치(4)에 의해, 처리가 완료된 워크(W)를 세트 테이블(101)로부터 회수한다.

본 실시예에서는, 헤드 유닛(41)에 대하여, 워크(W)를 직접 이동시키는 구성으로 되어 있지만, 고정한 워크(W)에 대하여, 헤드 유닛(41)을 이동시키는 구성으로 할 수도 있다. 그리고, 워크(W)의 왕동시 뿐만 아니라, 복동시에도 기능 액적 토출 헤드(72)의 토출 구동을 행하여, 1 왕복 이동으로 묘화 처리를 종료시키는 구성으로 할 수도 있다. 또한, 1 묘화 라인을 워크(W)의 한 변(묘화 폭)보다도 짧게 구성한 헤드 유닛(41)을 이용하여 묘화 처리를 행하는 것도 가능하다. 이 경우, 워크(W)를 이동시키면서 1 묘화 라인의 묘화를 행하는 주주사와, 주사한 후에 헤드 유닛(41)을 1 묘화 라인분 Y축 방향으로 이동시키는 부주사를 교대로 행함으로써, 묘화 처리를 행하면 된다.

또한, 상술하였으나, 워크 이동 수단(42)의 X축 리니어 모터(103), X축 가이드 레일 및 X축 리니어 스케일(104)은, 석정반(31) 위에 직접 지지되어 있다. 또한, 헤드 이동 수단(43)의 Y축 리니어 모터(143), Y축 가이드 레일(144) 및 Y축 리니어 스케일(146)은, 석재로 구성된 기둥 형상 지지 부재(62)에 직접 지지되어 있다. 이와 같이, 헤드 이동 수단(43) 및 워크 이동 수단(42)의 주요부를, 평면도를 내기 쉽고 또한 열팽창율이 적은 석재 위에 설치함으로써, 워크(W) 및 헤드 유닛(41)을 정밀도 좋게 이동시킬 수 있고, 워크(W)에 정밀도 좋게 묘화 처리를 행할 수 있게 된다.

다음으로, 워크 제급 수단(44)에 대해서 설명한다. 워크 제급 수단(44)은, 워크 반출입 에리어(53)에 반입된 미처리 워크(W)를 세트 테이블(101)에 세트(도입)하는 동시에, 처리가 완료된 워크(W)를 세트 테이블(101)로부터 회수하기 위한 것이며, 리프트업 기구(161)와, 프리 얼라이먼트 기구(171)와, 제전 수단(181)을 구비하고 있다.

도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 리프트업 기구(161)는 X축 방향 및 Y축 방향으로 정렬 배치되고, 흡착 테이블(112)(테이블 본체(131))에 형성된 관통 구멍(135)에서 출몰(出沒)하는 복수의 리프트업 핀(162)을 가지고 있다. 그리고, 미처리 워크(W)를 세트 테이블(101)에 재치할 때에는, 흡착 테이블(112)로부터 (복수의) 리프트업 핀(162)을 돌출시켜 두고, 상술한 워크 반출입 장치(4)의 로봇 암(15)에서 워크(W)를 수취한 후, 리프트업 핀(162)을 흡착 테이블(112)에 몰입시킨다. 한편, 흡착 테이블(112)로부터 워크(W)를 회수할 때에는, 흡착 테이블(112)에 몰입하고 있는 리프트업 핀(162)을 상승시켜 워크(W)를 흡착 테이블(112)로부터 리프트업(이간)시킨다. 리프트업한 워크(W)로 포트 암(15)이 하측에서 면하고, 워크(W)가 흡착 테이블(112)로부터 회수된다.

도 2 내지 도 5에 나타낸 바와 같이, 프리 얼라이먼트 기구(171)는, 리프트업 기구(161)에 의해 흡착 테이블(112)에 재치된 미처리 워크(W)를, 테이블 본체(131)에 대하여 위치 결정(프리 얼라이먼트)하는 것이며, 한 쌍의 X 삽입 부재(도시 생략)로 워크(W)의 전후 단부를 사이에 끼움으로써, 워크(W)의 전후 방향(X축 방향)의 위치 결정을 행하는 X축 위치 결정 유닛(172)과, 2 조의 Y 삽입 부재(도시 생략)에서 워크(W)의 좌우 단부를 사이에 끼움으로써, 워크(W)의 좌우 방향(Y축 방향)의 위치 결정을 행하는 Y축 위치 결정 유닛(174)을 구비하고 있다.

제전 수단(181)은 연(軟) X선을 조사함으로써, 워크(W)의 이면에 박리 대전한 정전기를 제거하는 것이며, 예를 들면 이오나이저로 구성되어 있다. 제전 수단(181)은 워크 반출입 에리어(53)에 면하여 배열 설치되고, 로봇 암(15)에서 리프트업 기구(161)로 이동되는 워크(W)나, 흡착 테이블(112)로부터 리프트업(이간)되는 워크(W)에 면하여, 효율적으로 워크(W)의 정전기를 제거할 수 있게 되어 있다.

다음으로, 기능액 공급 수단(45)에 대해서 설명한다. 기능액 공급 수단(45)은, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)에 대응하는 7 개의 기능액 공급 유닛(190)으로 구성되어 있고, 각 기능액 공급 유닛(190)은, 대응하는 분할 헤드 유닛(71)에 기능액을 공급한다(도 2 및 도 3 참조). 각 기능액 공급 유닛(190)은, 기능액을 저장하는 복수(12 개)의 기능액 탱크(201)를 가지는 탱크 유닛(191)과, 각 기능액 탱크(201) 및 각 기능 액적 토출 헤드(72)를 접속하는 복수(12 개)의 기능액 공급 튜브(193)와, 복수의 기능액 공급 튜브(193)에 개설한 복수(12 개)의 압력 조정 밸브(211)를 가지는 밸브 유닛(192)을 가지고 있다.

도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 탱크 유닛(191)은, 상기한 삽통 개구를 사이에 끼고, 헤드용 전장 유닛(145)과 대치하도록, 상기한 브릿지 플레이트(141) 위에 설치된다. 탱크 유닛(191)에 설치된 12 개의 기능액 탱크(201)는 (12 개의 기능액 공급 튜브(193)를 통하여) 분할 헤드 유닛(71)에 탑재된 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)에 각각 접속된다. 또한, 기능액 탱크(201)는 수지제의 카트리지 케이스(205)에, 기능액을 진공 팩한 기능액 팩(206)을 수용한 카트리지 형식의 것이며, 기능액 팩에는 미리 탈기된 기능액이 저장되어 있다(도 10 참조).

도 6에 나타낸 바와 같이, 밸브 유닛(192)은, 12 개의 압력 조정 밸브(211)와, 12 개의 압력 조정 밸브(211)를 상기한 헤드 플레이트(73)에 고정하는 12 개의 밸브 고정 부재(212)를 가지고 있다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 압력 조정 밸브(211)는, 기능액 탱크(201)에 이어지는 1 차실(221)과, 기능 액적 토출 헤드(72)에 이어지는 2 차실(222)과, 1 차실(221)과 2 차실(222)을 연통하는 연통 유로(223)를 밸브 하우징(224) 내에 형성한 것이다. 2 차실(222)의 1 면에는 외부에 접하여 다이어프램(225)이 설치되어 있고, 연통 유로(223)에는 다이어프램(225)에 의해 개폐 동작하는 밸브 본체(226)가 설치되어 있다. 기능액 탱크(201)로부터 1차실(221)에 도입된 기능액은, 2차실(222)을 통하여 기능 액적 토출 헤드(72)에 공급되지만, 그 때, 소정 조정 기준 압력(여기에서는 대기압)에 의해, 다이어프램(225)이 변위한다. 이것에 의해, 연통 유로(223)에 설치한 밸브 본체(226)가 개폐 동작하고, 2차실(222)의 기능액 압력이 약간 부압으로 되도록, 2차실(222) 내의 압력 조정이 행해진다.

이러한 압력 조정 밸브(211)를 기능액 탱크(201)와 기능 액적 토출 헤드(72) 사이에 개설함으로써, 기능액 탱크(201)의 수두에 영향을 받지 않고, 기능 액적 토출 헤드(72)에 기능액을 안정적으로 공급하는 것이 가능해진다. 즉, 기능 액적 토출 헤드(72)(노즐면(87))의 위치와, 압력 조정 밸브(211)(다이어프램(225)의 중심)의 위치의 고저차에 의해, 기능액의 공급압이 결정되고, 이 고저차를 소정값으로 함으로써, 기능액의 공급압을 소정압으로 유지할 수 있게 된다. 또한, 밸브 본체(226)의 폐변시에서 1차실(221) 및 2차실(222)은 절연되어 있고, 압력 조정 밸브(211)는, 기능액 탱크측(1차측)에서 발생한 맥동 등을 흡수하는 덤퍼 기능을 가지고 있다.

도 6에 나타낸 바와 같이, 12 개의 밸브 고정 부재(212)는 Y축 방향으로 위치가 어긋난 분할 헤드 유닛(71)의 기능 액적 토출 헤드(72)를 모방하여, Y축 방향으로 위치가 어긋나 있고, 헤드 플레이트(73) 위에 배열 설치되어 있다. 이와 같이, 기능 액적 토출 헤드(72)의 배치를 모방하여 압력 조정 밸브(211)를 배치함으로써, 기능 액적 토출 헤드(72) 및 압력 조정 밸브(211) 사이의 기능액 공급 튜브(193)의 길이를 일정하게 할 수 있고, 각 기능 액적 토출 헤드(72)에 대하여, 대략 동일한 공급압의 기능액을 공급할 수 있다.

또한, 본 실시예에서는, 탱크 유닛(191)을 브릿지 플레이트(141) 위에 배열 설치했지만, 헤드 플레이트(73) 위에 탑재하는 구성으로 할 수도 있다. 이 경우, 기능액 탱크(201)로부터 기능 액적 토출 헤드(72)에 이르는 기능액 공급 튜브(193)(기능액 유로)의 길이를 짧게 구성할 수 있어, 기능액을 효율적으로 이용할 수 있다. 또한, 밸브 유닛(192)의 설치 위치도, 헤드 플레이트(73) 위에 한정되지 않아, 실정에 따라, 브릿지 플레이트(141) 위에 설치하는 것도 가능하다.

다음으로, 메인터넌스 수단(46)에 대해서 설명한다. 메인터넌스 수단(46)은, 기능 액적 토출 헤드(72)의 메인터넌스를 주목적으로 한 것이며, 플러싱 유닛(231)과, 흡인 유닛(232)과, 와이핑 유닛(233)과, 유닛 승강 기구(235)를 구비하고 있다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 플러싱 유닛(231)은, 세트 테이블(101)에 병설되어 있다. 흡인 유닛(232), 와이핑 유닛(233) 및 유닛 승강 기구(235)는, 앵글 가대(32)에 지지되어 있다(도 2 내지 4, 도 11, 도 12 참조).

또한, 메인터넌스 수단(46)으로서, 상기 각 유닛에 더하여, 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 토출된 기능 액적의 비행 상태를 검사하는 토출 검사 유닛이나, 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 토출된 기능 액적의 중량을 측정하는 중량 측정 유닛 등을 설치하는 것이 바람직하다.

플러싱 유닛(231)은, 플러싱 동작, 즉 기능 액적 토출 헤드(72)의 예비 토출(사(捨)토출)에서 토출된 기능액을 받기 위한 것이며, 특히, 워크(W)에 기능액을 토출시키기 직전에 행하는 토출전 플러싱를 받기 위한 것이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 플러싱 유닛(231)은, 세트 테이블(101)을 따라 배열 설치되고, 기능액을 받는 플러싱 박스(241)와, 상기한 θ 테이블(111)의 θ 고정부(121)에 고정되고, 플러싱 박스(241)를 지지하는 박스 지지 부재(242)로 구성되어 있다.

플러싱 박스(241)는, 평면에서 보았을 때 직사각형의 상자 형상으로 형성되어 있고, 그 저면에는, 기능액을 흡수시키는 흡수재(도시 생략)가 부설되어 있다. 플러싱 박스(241)의 단변은, 헤드 유닛(41)의 X축 방향에서의 길이에 대응하여 형성되고, 플러싱 박스(241)의 장변은, 테이블 본체(131)의 한 변의 길이(1 묘화 라인의 길이)에 일치시켜 형성된다. 즉, 플러싱 박스(241)는, 헤드 유닛(41)을 포함하도록 구성되고, 헤드 유닛(41)에 탑재된 전체 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 플러싱된 기능액을 한 번에 받을 수 있도록 구성된다.

박스 지지 부재(242)는, 세트 테이블(101)(흡착 테이블(112))의, X축에 직교하고, 상기한 워크 반출입 에리어(53)와 반대측(도시 후방)에 위치하는 변(邊)을 따라, 플러싱 박스(241)를 지지하고 있다. 즉, 플러싱 박스(241)는, 흡착 테이블(112)의 워크 왕동시의 선단측이 되는 변을 따라, 플러싱 박스(241)가 배열 설치되므로, 워크(W)를 X축 방향에 왕동하면, 헤드 유닛(41)은, 플러싱 유닛(231)에 면한 후, 워크(W)에 면하게 된다. 따라서, 토출전 플러싱만을 위해서, 헤드 유닛(41)을 이동시키는 것이 불필요해 지는 동시에, 워크(W)에 면하기 직전에 토출전 플러싱을 행할 수 있다. 또한, 세트 테이블(101)에 대하여, 워크(W)를 도입·회수할 때에는, 플러싱 박스(241)는 워크 반출입 에리어(53)의 후방측에 위치하기 때문에, 워크(W)의 도입·회수의 방해가 되지 않는다. 또한, 세트 테이블(101)을 워크 반출입 에리어(53)에 면하게 하면, 플러싱 박스(241)는 묘화 에리어(51)에 면하도록 지지되고, 헤드 유닛(41)의 바로 아래에 위치하게 된다(도 5 등 참조).

또한, 박스 지지 부재(242)는, 플러싱 박스(241)의 상단면이, 흡착 테이블(112)에 세트한 워크(W)의 표면과 대략 면일(面一)로 되도록, 플러싱 박스(241)를 지지하고 있다. 이와 같이, 플러싱 박스(241)를 흡착 테이블(112)과 대략 면일로 지지함으로써, 헤드 유닛(41)에 플러싱 박스(241)가 간섭하지 않는 동시에, 플러싱에서 토출된 기능액을 플러싱 박스에 효율적으로 받을 수 있게 되어 있다.

상술한 바와 같이, 본 실시예는, 워크(W)의 왕동시에만 기능 액적 토출 헤드(72)를 토출 구동시키는 구성이지만, 워크(W)의 복동시에도 기능 액적 토출 헤드(72)를 토출시킬 경우에는, 플러싱 박스를 한 쌍 설치하여, 세트 테이블(101)의 X축과 직교하는 2 변(邊)을 따라, 이를 배열 설치하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 워크(W)의 왕복 이동에 수반하는 토출 구동 직전에 플러싱을 행할 수 있다.

또한, 플러싱 동작에는, 상기한 토출전 플러싱 이외에, 워크(W)의 교환시와 같이, 워크(W)에 대한 묘화를 일시적으로 정지할 때 행하는 정기 플러싱이 있고, 본 실시예에서는, 이 정기 플러싱에 의해 토출된 기능액을 후술하는 흡인 유닛(232)에 의해서 받도록 구성되어 있다.

흡인 유닛(232)은 기능 액적 토출 헤드(72)를 흡인하여, 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 기능액을 강제적으로 배출시키는 것이다. 흡인 유닛(232)에 의한 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인은, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐 포화를 해소/방지하기 위해서 행해지는 이외에, 액적 토출 장치(3)를 신설한 경우나, 기능 액적 토출 헤드(72)의 헤드 교환을 행하는 경우 등에, 기능액 탱크(201)로부터 기능 액적 토출 헤드(72)에 이르는 기능액 유로에 기능액을 충전하기 위해서 행해진다.

도 2 내지 도 4, 도 11 및 도 12에 나타낸 바와 같이, 흡인 유닛(232)은 Y축 방향에서 와이핑 유닛(233)과 인접하여 배열 설치되고, 메인터넌스 에리어(52)에 면하고 있다. 흡인 유닛(232)은, 헤드 유닛(41)을 구성하는 7 개의 분할 헤드 유닛(71)에 대응하여 구성되어 있다. 즉, 흡인 유닛(232)은, 분할 헤드 유닛(71) 단위에서 흡인을 행하는 7 개의 분할 흡인 유닛(251)을 가지고 있다. 7 개의 분할 흡인 유닛(251)은 헤드 유닛(41)을 구성하는 7 개의 분할 헤드 유닛(71)의 배치를 모방하여, Y축 방향으로 정렬 배치된 상태로 배치되어 있다.

도 13 및 도 14에 나타낸 바와 같이, 7 개의 분할 흡인 유닛(251)은 상기한 유닛 승강 기구(235)의 승강 기구(351)(후술함)에 의해, 각각에 승강 가능하도록 지지되어 있다. 이들 도면에 나타낸 바와 같이, 각 분할 흡인 유닛(251)은, 분할 헤드 유닛(71)에 대하여 하측에서 면하여, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 밀착시키는 캡(261)을 가지는 캡 유닛(252)과, 캡 유닛(252)을 지지하는 캡 지지 부재(253)와, 캡 지지 부재(253)에 조직되고, 캡 지지 부재(253)를 통하여 캡 유닛(252)을 승강시키는 캡 승강 기구(254)와, 밀착시킨 캡(261)을 통하여 기능 액적 토출 헤드(72)에 흡인력을 작용시키는 흡인 수단(도시 생략)을 구비하고 있다.

도 13 및 도 14에 나타낸 바와 같이, 캡 유닛(252)은, 분할 헤드 유닛(71)에 탑재된 기능 액적 토출 헤드(72)의 정렬에 대응시키고, 12 개의 캡(261)을 캡 베이스(262)에 배열 설치한 것이다. 즉, 흡인 유닛(232)에는 헤드 유닛(41)에서의 기능 액적 토출 헤드(72)의 배치 패턴에 모방하여, 12×7 개(84 개)의 캡(261)이 배치되어 있고, 헤드 유닛(41)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)에, 대응하는 캡(261)을 밀착시키는 것이 가능하다. 도시를 생략했으나, 각 캡(261)에는, 대기 개방 밸브가 설치되어 있고, 이 대기 개방 밸브를 흡인 동작의 최종 단계에서 개변함으로써, 캡(261) 내에 잔류하는 기능액을 흡인할 수 있다.

도 13 및 도 14에 나타낸 바와 같이, 캡 지지 부재(253)는, 캡 유닛(252)을 지지하는 캡 지지 플레이트(265)와, 캡 지지 플레이트(265)를 상하 방향으로 슬라이드가 자유롭게 지지하는 캡 스탠드(266)와, 캡 스탠드(266)를 지지하는 캡 지지 베이스(267)를 가지고 있다. 또한, 캡 지지 플레이트(265)의 하면에는, 캡(261)의 대기 개방 밸브(도시 생략)를 개폐시키기 위한 한 쌍의 에어 실린더(268)가 고정되어 있다.

도 14에 나타낸 바와 같이, 캡 승강 기구(254)는, 캡 스탠드(266) 상측에 배열 설치되고, 캡 지지 플레이트(265)를 통하여, 캡 유닛(252)을 승강이 자유롭게 지지하는 제 1 승강 실린더(271)와, 캡 스탠드(266)의 하측에 배열 설치되고, 제 1 승강 실린더(271)를 통하여, 캡 유닛(252)을 승강이 자유롭게 지지하는 제 2 승강 실린더(272)를 가지고 있다. 제 1 승강 실린더(271) 및 제 2 승강 실린더(272)는, 서로 행정(行程)이 다른 에어 실린더로 구성되어 있고, 제 2 승강 실린더(272)의 행정은, 제 1승강 실린더(271)의 행정보다도 길게 구성되어 있다. 그리고, 제 1 및 제 2 승강 실린더(271, 272)를 선택적으로 구동함으로써, 캡 유닛(252) 상승 위치가, 캡(261)이 기능 액적 토출 헤드(72)에 밀착하는 제 1 위치와, 제 1 위치에서 약간(2 내지 3 mm정도) 낮은 제 2 위치의 어느 한편에 교체된다. 구체적으로는, 제 1 승강 실린더(271)를 구동하면, 캡 유닛(252)을, 소정의 하강 단부 위치로부터 제 1 위치까지 이동시킬 수 있고, 제 2 승강 실린더(272)를 구동하면, 캡 유닛(252)을 제 2 위치까지 이동시킬 수 있게 된다.

흡인 수단은, 분할 헤드 유닛(71)의 12 개의 기능 액적 토출 헤드(72)에 흡인력을 작용시키는 단일 이젝터와, 12 개의 캡(261)과 이젝터를 접속하는 흡인 튜브를 가지고 있다(모두 도시 생략). 이젝터는, 에어 공급 튜브(도시 생략)를 통하여, 상기한 에어 공급 수단에 접속되어 있다. 이젝터에 접속한 1 개의 흡인 튜브는, 헤더 파이프(도시 생략)를 통하여 복수(12 개)의 분기(分岐) 흡인 튜브(도시 생략)에 분기하고, 각 캡(261)에 접속된다. 흡인 튜브에는, 액체 공급 회수 수단의 재이용 탱크(후술함)가 개설되어 있고, 이젝터에 흡인된 기능액은, 재이용 탱크에 저장된다. 또한, 상기 도면에서는 생략했지만, 각 분기 흡인 튜브의 캡(261) 근방에는, 캡(261)측에서 순서대로, 기능액의 유무를 검출하는 액체 센서(276), 각 분기 흡인 튜브 내의 압력을 검출하는 압력 센서(277)(모두 도 18 참조) 및 각 분기 흡인 튜브를 개폐하기 위한 흡인용 밸브가 각각 설치되어 있다.

분할 흡인 유닛(251)의 흡인 동작에 대해서 설명한다. 흡인 동작에 앞서, 헤드 이동 수단(43)을 구동하여, 헤드 유닛(41)을 메인터넌스 에리어(52)로 이동시키고, 분할 헤드 유닛(71) 1 개를 분할 흡인 유닛(251)에 면하게 한다. 이어서, 캡 승강 기구(254)를 구동하고, 캡 유닛(252)을 제 1 위치까지 이동시킨다. 이것에 의해, 분할 흡인 유닛(251)에 면한 분할 헤드 유닛(71)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)에, 대응하는 캡(261)이 밀착한다. 다음으로, 에어 공급 수단에서 이젝터로 압축 에어를 공급하고, 캡(261)을 통하여 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인을 행한다. 각 기능 액적 토출 헤드(72)로부터, 기능액이 일정량 흡인되면, 이젝터에 대한 압축 에어의 공급이 정지된다. 그리고, 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인이 종료되면, 캡 승강 기구(254)를 구동하고, 캡 유닛(252)을 하강단 위치까지 이동시켜, 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 캡(261)을 이간시킨다.

또한, 기능액 흡인 중에는, 액체 센서(276) 및 압력 센서(277)의 검출 신호 에 근거하여, 흡인 동작의 모니터링이 행해지고, 각 캡(261)의 흡인 불량을 검출할 수 있게 되어 있다. 그리고, 액체 센서(276) 및 압력 센서(277)의 검출 결과에 근거하여 상기 흡인용 밸브를 개폐함으로써, 각 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 흡인되는 기능액 양을 대략 일정하게 할 수 있고, 흡인 동작에 의해서 기능액이 과잉 흡인되는 것을 방지할 수 있다.

흡인 유닛(232)은, 상기한 바와 같은 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인에 제공될 뿐만 아니라, 정기 플러싱의 기능액을 받도록 구성되어 있다. 즉, 흡인 유닛(232)의 각 캡(261)은, 플러싱 박스의 역할을 겸하고 있으며, 정기 플러싱에서 각 기능 액적 토출 헤드(72)가 토출한 기능액을, 대응하는 캡(261)에서 받게 된다. 이 경우, 캡 승강 기구(254)가 구동되고, 캡 유닛(252)을 제 2 위치까지 상승시킨다. 이에 따라, 캡(261)은, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 대하여 약간(2~3㎜) 이간한 형태로 지지되고, 정기 플러싱의 기능액을 효율적으로 캡(261)에 받을 수 있게 된다.

또한, 흡인 유닛(232)은 액적 토출 장치(3)의 비묘화 처리시 등에, 기능 액적 토출 헤드(72)를 보관하기 위해서 사용하는 것도 가능하다. 이 경우, 메인터넌스 에리어(52)에 헤드 유닛(41)을 면하게 한 후, 캡 승강 기구(254)를 구동하여, 캡 유닛(252)을 제 1 위치까지 이동시킨다. 이것에 의해, 캡(261)이 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 밀착하여, 노즐면(87)이 밀봉(캡핑)되고, 기능 액적 토출 헤드(72)(토출 노즐(88))의 건조가 방지된다.

다음으로, 와이핑 유닛(233)에 대해서 설명한다. 와이핑 유닛(233)은 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인 등에 의해, 기능액이 부착하여 더러워진 각 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)을, 와이핑 시트(281)를 이용하여 닦아내는(와이핑하는) 것이다. 도 2 내지 4, 도 11 및 도 12에 나타낸 바와 같이, 와이핑 유닛(233)은, 상기한 유닛 승강 기구(235)의 묘화 에리어(51)와 흡인 유닛(232)의 사이, 즉 메인터넌스 에리어(52)의 묘화 에리어(51) 측에 배치되어 있다. 이러한 배치에 의해, 와이핑 유닛(233)은 흡인 처리를 끝내고, 묘화 에리어(51)로 이동시키는 헤드 유닛(41)(분할 헤드 유닛(71))에 차례로 면할 수 있고, 그 기능 액적 토출 헤드(72)에 와이핑 처리를 행할 수 있게 되어 있다.

도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같이, 와이핑 유닛(233)은, 주요부가 배열 설치된 유닛 본체(282)와, 유닛 본체(282)를 X축 방향으로 슬라이드가 자유롭게 지지하는 횡(橫)이동 기구(283)를 구비하고 있다. 유닛 본체(282)는, 롤 형상으로 감은 와이핑 시트(281)를 계속 풀어내면서 감는 시트 공급 유닛(291)과, 기능 액적 토출 헤드(72)의 하측로부터 면하여, 와이핑 시트(281)로 노즐면(87)을 닦는 닦아내기 유닛(292)과, 풀어낸 와이핑 시트(281)에 세정액을 살포하는 세정액 공급 유닛(293)과, 이들을 지지하는 와이핑 프레임(294)을 가지고 있다. 또한, 와이핑 시트(281)에 공급되는 세정액은, 비교적 휘발성이 높은 기능액의 용제이며, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 부착하는 기능액을 효율적으로 제거할 수 있게 되어 있다.

와이핑 프레임(294)은, 사각형의 와이핑 베이스(301)와, X축 방향과 평행하도록, 와이핑 베이스(301)에 입설한 한 쌍의 사이드 프레임(302)을 가지고 있다. 한 쌍의 사이드 프레임(302)의 좌측(묘화 영역측)에는, 시트 공급 유닛(291)이 배열 설치되고, 그 우측(흡인 유닛(232)측) 상부에는, 닦아내기 유닛(292)이 배열 설치되어 있다. 그리고, 사이드 프레임(302)에는, 시트 공급 유닛(291)으로부터 닦아내기 유닛(292)에 인출되는 와이핑 시트(281)에 면하도록, 세정액 공급 유닛(293)이 지지되어 있다.

도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같이, 시트 공급 유닛(291)은, 롤 형상의 와이핑 시트(281)를 장전하고, 와이핑 시트(281)를 (그 연재 방향으로) 풀어내는 도면상 상측의 인출 릴(311)과, 풀어낸 와이핑 시트(281)를 감는 도면상 하측의 권취(捲取) 릴(312)과, 권취 릴(312)을 회수 회전시키는 권취 모터(313)와, 권취 모터(313)의 동력을 감김 릴(312)에 전달하는 동력 전달 기구(314)와, 인출 릴(311)로부터 와이핑 시트(281)를 닦아내기 유닛(292)으로 송출하는 중간 롤러(315)를 가지고 있다.

사이드 프레임(302)의 외측에 위치하는 인출 릴(311)의 축단부의 한편에는, 권취 모터(313)에 저항하도록 제동 회전하는 토크 리미터(316)가 설치되어 있고, 인출된 와이핑 시트(281)에 일정한 장력을 부여할 수 있게 되어 있다. 권취 모터(313)는, 기어드 모터로 구성되고, 사이드 프레임(302)에 고정되어 있다. 동력 전달 기구(314)는, 권취 모터(313)의 출력 단부에 고정한 구동 활차(317)와, 권취 릴(312)의 축단에 고정한 종동(縱動) 활차(318)와, 양 활차(317, 318) 사이에 건네준 타이밍 벨트(319)를 가지고 있다. 권취 모터(313)가 구동하면, 자신의 감속 기어열을 통하여 타이밍 벨트(319)가 주행하고, 권취 릴(312)에 동력이 전달된다. 중간 롤러(315)의 축단부에는, 속도 검출기(320)(도 18 참조)가 설치되어 있고, 와이핑 시트(281)가 송출 속도를 검출하고 있다. 인출 릴(311), 권취 릴(312) 및 중간 롤러(315)는 그 축선이, 와이핑 시트(281)의 폭 방향인 X축 방향과 평행하도록, 사이드 프레임(302)에 양쪽으로, 또한 회전이 자유롭게 축지(軸支)되어 있다. 즉, 와이핑 시트(281)는, 와이핑 시트(281)의 폭 방향(X축 방향)과 직교하는 방향으로 풀려 송출된다.

도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같이, 닦아내기 유닛(292)은, 와이핑 시트(281)의 폭에 대응한 축 방향의 길이를 가지고, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 와이핑 시트(281)를 접촉시키는 닦아내기 롤러(321)와, 닦아내기 롤러(321)를 양쪽에서 지지하는 한 쌍의 베어링 부재(322)와, 한 쌍의 베어링 부재(322)를 통하여 닦아내기 롤러(321)를 승강시키는 롤러 승강 기구(323)와, 이들을 지지하는 동시에, 사이드 프레임(302)에 고정된 「L」자 형상의 한 쌍의 베어링 프레임(324)을 가지고 있다. 인출 릴(311)로부터 인출된 와이핑 시트(281)는, 중간 롤러(315)를 거쳐, 닦아내기 롤러(321)를 주회하고, 권취 릴(312)에 감기게 된다.

닦아내기 롤러(321)는, 자유 회전 롤러이며, 축선을 X축 방향과 일치시킨 상태에서, 한 쌍의 베어링 부재(322)에 회전이 자유롭게 축지(軸支)되어 있다. 즉, 닦아내기 롤러(321)는, 헤드 유닛(41)에 탑재된 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐열과 직교하도록 지지되어 있고, 노즐면(87)을 노즐열 방향으로(종식(縱拭)으로) 닦아내게 되어 있다. 이 경우, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)의 손상을 방지하기 위해, 닦아내기 롤러(321)를 유연성과 탄력성을 가지는 고무 등으로 구성하는 것이 바람직하다. 롤러 승강 기구(323)는, 한 쌍의 사이드 프레임(302) 위에 고정된 한 쌍의 롤러 승강 실린더(325)(에어 실린더)를 가지고, 한 쌍의 베어링 부재(322)를 승강이 자유롭게 지지하고 있다. 즉, 롤러 승강 실린더(325)를 구동하면, 베어링 부재(322)를 통하여, 닦아내기 롤러(321)가 헤드 유닛(41)의 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)에 접촉 가능한 소정의 닦아내기 높이 위치까지 승강한다.

도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같이, 세정액 공급 유닛(293)은 분무 노즐로이루어지고, 후술하는 세정액 탱크에 접속된 복수의 세정액 노즐(331)과, 한 쌍의 사이드 프레임(302)에 건네지고, 복수의 세정액 노즐(331)을 지지하는 노즐 지지 부재(332)를 가지고 있다. 노즐 지지 부재(332)는, 중간 롤러(315)와 닦아내기 롤러(321)의 사이에 설치되는 동시에, X축 방향(와이핑 시트(281)의 폭 방향)과 평행하도록 한 쌍의 사이드 프레임(302)에 양쪽에서 지지되어 있다. 복수의 세정액 노즐(331)은, 중간 롤러(315)로부터 닦아내기 롤러(321)에 보내지는 와이핑 시트(281)에 면하여 배열 설치된다. 이 경우, 와이핑 시트(281)의 폭 전체에 세정액이 균등하게 분무되도록, 복수의 세정액 노즐(331)을 X축 방향으로 균등하게 배치하는 것이 바람직하다. 또한, 본 실시예에서는, 와이핑 시트(281)의 폭 전체에 세정액을 공급시키기 위해, 복수의 세정액 노즐(331)을 구비하고 있지만, 세정액 노즐(331)을 와이핑 시트(281)의 폭 방향으로 이동시키는 노즐 이동 기구를 설치함으로써, 세정액 노즐(331)을 단일하게 구성하는 것도 가능하다.

횡 이동 기구(283)는, 유닛 본체(282)를 통하여, 와이핑 시트(281) 전체를 그 폭 방향(X축 방향)으로 이동시키기 위한 것이다. 상술한 바와 같이, 기능 액적 토출 헤드(72)는 헤드 유지 부재(74)를 통하여 헤드 플레이트(73)에 장착되어 있고, 노즐열과 직교한 X축 방향에 인접하는 기능 액적 토출 헤드(72) 사이에는 틈새를 가지고 있다(도 8참조). 따라서, 노즐열 방향을 따라, 기능 액적 토출 헤드(72)의 닦아내기를 행하면, 와이핑 시트(281)에는, 스트라이프 형상으로 더러움이 부착한다(도 17의 (a) 참조). 즉, 기능 액적 토출 헤드(72) 사이의 틈새에 상당하는 부분은, 닦아내기에 이용되지 않고, 와이핑 시트(281)의 일부분만이 닦아내기에 사용된다. 그런데, 횡 이동 기구(283)를 설치하고, 일단 닦아내기를 행하여 스트라이프 형상으로 오염물이 부착된 와이핑 시트(281)를, X축 방향으로 횡 이동시킴으로써, 기능 액적 토출 헤드(72)에 대한 와이핑 시트(281)의 불식 위치를 다르게 하고, 상기한 틈새 부분의 와이핑 시트(281)를 유효하게 이용할 수 있도록 했다(도 17의 (b) 참조). 또한, 횡 이동 기구(283)에 대신하여, 헤드 유닛(41)(분할 헤드 유닛(71))을 X축 방향으로 이동시키는 기구를 설치하고, 이것을 와이핑 시트(281)에 대하여 횡 이동시키는 구성으로서도 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같이, 횡 이동 기구(283)는, 유닛 본체(282)를 X축 방향으로 슬라이드가 자유롭게 지지하는 2 조 4 개의 횡 이동 슬라이더(343)와, 2 조 4 개의 횡 이동 슬라이더(343)를 X축 방향으로 이동시키는 횡 이동 볼 나사(342)와, 횡 이동 볼 나사(342)를 정역(正逆) 회전시키는 횡 이동 모터(341)와, X축 방향으로 연장되고, 횡 이동 슬라이더(343)의 이동을 가이드하는 한 쌍의 횡 이동 가이드(344)와, 상기한 유닛 승강 기구(235)(페이스 플레이트(352))에 고정되고, 이들을 지지하는 횡 이동 베이스(345)를 구비하고 있다. 횡 이동 모터(341)가 구동하면, 횡 이동 볼 나사(342)를 통하여 횡 이동 슬라이더(343)가 X축 방향에(정역) 이동하고, 횡 이동 베이스(345)에 대하여, 유닛 본체(282)가 X축 방향을 이동한다.

본 실시예에서는, X축 방향에 인접하는 기능 액적 토출 헤드(72) 사이의 틈새는, 노즐열과 직교하는 기능 액적 토출 헤드(72)의 단변 대략 1 개분으로 되어 있고, 횡 이동 기구(283)에서 횡 이동시키는 거리는, 기능 액적 토출 헤드(72)의 단변 1 개분으로 설정되어 있다. 즉, X축 방향에서의 기능 액적 토출 헤드(72)의 배치 피치의 반피치분을 이동시키도록 하고 있다. 단, 이 값은, 기능액이나 와이핑 시트(281)의 종류나 X축 방향에서의 기능 액적 토출 헤드(72)의 배치 피치 등에 따라 변경 가능하다. 또한, 본 실시예의 횡 이동 기구(283)는, 모터 구동으로 유닛 본체(282)를 슬라이드시키고 있지만, 모터 구동에 대신하여, 라드레스 실린더 등을 이용한 에어 구동으로 할 수도 있다.

여기서, 와이핑 유닛(233)의 일련의 동작에 대해서 설명한다. 먼저, 세정액 공급 유닛(293)을 구동하고, 세정액 노즐(331)로부터 세정액을 분무시켜, 와이핑 시트(281)에 세정액을 공급한다. 한편, 롤러 승강 실린더(325)가 구동되고, 닦아내기 롤러(321)를 닦아내기 높이 위치까지 상승시킨다. 다음으로, 권취 모터(313)가 구동되고, 세정액을 함침(含浸)한 와이핑 시트(281)가 닦아내기 롤러(321)에 송출된다. 세정액을 함침한 와이핑 시트(281)가 닦아내기 롤러(321)에 송출되면, 권취 모터(313)의 구동이 정지되고, 와이핑 시트(281)의 송출이 정지된다. 이어서, 헤드 이동 수단(43)이 구동된다. 이것에 의해, 헤드 유닛(41)은, 탑재한 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)을, 세정액을 함침한 와이핑 시트(281)에 접촉시킨(꽉 누른)상태에서, 메인터넌스 에리어(52)를 이동해 간다. 즉, 와이핑 시트(281)에 대하여, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면이 접동하고, 기능 액적 토출 헤드(72)의 노즐면(87)이 와이핑 시트(281)에서 불식되어 간다.

상세한 내용은 후술하지만, 본 실시예에서는, 분할 헤드 유닛(71) 단위에서 와이핑을 행하는 구성으로 되어 있고, 7 개의 분할 헤드 유닛(71)을 1 개씩, 순서대로 와이핑 유닛(233)에 면하게 함으로써, 분할 헤드 유닛(71)에 탑재하는 기능 액적 토출 헤드(72)를 연속하여 와이핑 한다. 여기서, 이 와이핑 유닛(233)에서는 미사용의 와이핑 시트(281)에 소정 갯수분의 분할 헤드 유닛(71)을 와이핑한 후, 횡 이동 기구(283)를 구동하여, 와이핑 시트(281)를 X축 방향으로 이동시킨다. 그리고, 또한 소정 갯수분의 분할 헤드 유닛(71)을 와이핑한 후, 권취 모터(313)를 구동하고, 사용이 끝난 와이핑 시트(281)를 송출하도록 되어 있다.

다음으로, 유닛 승강 기구(235)에 대해서 설명한다. 상기한 메인터넌스 에리어(52)는, 기능 액적 토출 헤드(72)의 보수에 이용될 뿐만 아니라, 흡인 유닛(232)이나 와이핑 유닛(233)의 메인터넌스나, 캐리지(75)에 탑재한 헤드 플레이트(73)를 교환하기(헤드 교환) 위한 작업 영역을 겸하고 있다. 여기서, 유닛 승강 기구(235)는, 기능 액적 토출 헤드(72)를 보수하는 소정의 메인터넌스 위치(접속 위치)로부터, 소정의 퇴피(退避) 위치까지, 흡인 유닛(232) 및 와이핑 유닛(233)을 하강시킴으로써, 흡인 유닛(232) 및 와이핑 유닛(233) 위에 작업 영역을 확보하는 것이다.

도 11 및 도 12에 나타낸 바와 같이, 유닛 승강 기구(235)는, 흡인 유닛(232)의 7 개의 분할 흡인 유닛(251) 및 와이핑 유닛(233)의 어느 1 개를 지지하는 8개의 승강 기구(351)를 가지고 있고, 이들을, 메인터넌스 위치 및 퇴피 위치 사이에서, 각각 독립하여 승강시킬 수 있게 되어 있다. 도 13 내지 도 16에 나타낸 바와 같이, 승강 기구(351)는, 상기한 앵글 가대(32)에 건네준 베이스 플레이트(352)와, 베이스 플레이트(352)에 고정되고, 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)을 승강이 자유롭게 지지하는 유닛 승강 실린더(353)(에어 실린더)와, 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)의 승강 이동을 가이드하는 한 쌍의 유닛 승강 가이드(354)를 가지고 있다.

유닛 승강 실린더(353)는, 베이스 플레이트(352)를 관통하고 있고, 실린더 본체는, 베이스 플레이트(352)의 하면 중앙 위치에 고정되고, 피스톤 라드는, 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)으로 고정되어 있다. 유닛 승강 실린더(353)에 의한 승강 행정은, 200 mm 내지 400 mm로 설정되어 있다. 유닛 승강 가이드(354)는 베이스 플레이트(352)를 관통하고, 상단을 (가이드하는) 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)에 의해 고정된 한 쌍의 가이드 샤프트(355)와, 한 쌍의 가이드 샤프트(355)에 접동(摺動)이 자유롭게 결합하는 동시에, 베이스 플레이트(352)에 고정된 한 쌍의 플랜지 부착 리니어 부쉬(356)로 구성되어 있다. 한 쌍의 가이드 샤프트(355)는 유닛 승강 실린더(353)를 중심으로 하여, 대칭으로 배치되어 있고, 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)의 승강을 안정적으로 가이드할 수 있게 되어 있다.

통상, 유닛 승강 기구(235)는, 흡인 유닛(232) 및 와이핑 유닛(233)을 메인터넌스 위치에 지지하고 있으며, 흡인 유닛(232) 및 와이핑 유닛(233)이나, 헤드 교환을 행할 때에만 이들을 퇴피 위치까지 하강시킨다.

액체 공급 회수 수단은 메인터넌스 수단(46)의 플러싱 유닛(231)에서의 폐액(廢液)을 폐액 탱크로 회수하는 폐액 회수계와, 흡인 유닛(232)으로 흡인한 기능액 및 흡인 유닛(232)으로 토출된 기능액을 재이용 탱크로 회수하는 기능액 회수계와, 세정액 탱크를 가지고, 와이핑 유닛(233)으로 세정액을 공급하는 세정액 공급계로 구성되어 있다(모두 도시 생략). 또한, 장치 본체(22)에는 폐액 회수계의 폐액 탱크, 기능액 회수계의 재이용 탱크 및 세정액 공급계의 세정액 탱크를 통합하여 수용하는 탱크 캐비넷이 배열 설치되어 있다.

다음으로, 도 18을 참조하여 액적 토출 장치(3)의 주제어계에 대해서 설명한다. 상기 도면에 나타낸 바와 같이, 액적 토출 장치(3)는, 헤드 유닛(41)(기능 액적 토출 헤드(72)) 및 워크 이동 수단(42)을 가지는 묘화부(361)와, 헤드 이동 수단(43)을 가지는 헤드 이동부(362)와, 워크 제급 수단(44)을 가지는 워크 제급부(363)와, 메인터넌스 수단(46)을 가지는 메인터넌스부(364)와, 각종 센서를 가지고, 각종 검출을 행하는 검출부(365)와, 각 부를 구동하는 구동부(366)와, 각부에 접속되고, 액적 토출 장치(3) 전체의 제어를 행하는 제어부(367)(제어 장치(5))를 구비하고 있다.

제어부(367)에는 각 수단을 접속하기 위한 인터페이스(371)와, 일시적으로 기억 가능한 기억 영역을 가지고, 제어 처리를 위한 작업 영역으로서 사용되는 RAM(372)과, 각종 기억 영역을 가지고, 제어 프로그램이나 제어 데이터를 기억하는 ROM(373)과, 워크(W)에 묘화를 행하기 위한 묘화 데이터나, 각 수단에서의 각종 데이터 등을 기억하는 동시에, 각종 데이터를 처리하기 위한 프로그램 등을 기억하는 하드 디스크(374)와, ROM(373)이나 하드 디스크(374)에 기억된 프로그램 등을 따라서, 각종 데이터를 연산 처리하는 CPU(375)와, 이들을 서로 접속하는 버스(276)가 구비되어 있다.

그리고, 제어부(367)는, 각 수단에서의 각종 데이터를, 인터페이스(371)을 통하여 입력하는 동시에, 하드 디스크(374)에 기억된(또는, CD-ROM 드라이브 등에 의해 차례로 판독된) 프로그램에 따라서 CPU(375)에 연산 처리시키고, 그 처리 결과를 각 수단에 산출함으로써, 장치 전체를 제어한다.

도 19 내지 도 21을 참조하여, 헤드 유닛(41)의 메인터넌스를 행하는 경우를 예로 들어, 액적 토출 장치(3)의 제어에 대해서 설명한다. 헤드 유닛(41)의 메인터넌스에는, 탑재한 기능 액적 토출 헤드(72)의 기능 유지·기능 회복을 도모하기 위해, 워크(W) 교환시에 정기적으로 행해지는 정기 메인터넌스와, 분할 헤드 유닛(71)의 헤드 플레이트(73)를 교환하는 헤드 교환이 포함되어 있고, 여기에서는, 정기 메인터넌스에 대한 제어 플로를 설명한 후, 헤드 교환의 제어 플로에 대해서 설명한다. 또한, 설명의 편의를 위해, 헤드 유닛(41)의 7 개의 분할 헤드 유닛(71)을, 도면상 좌측으로부터 제 1 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71a 내지 g)으로 했다. 마찬가지로, 흡인 유닛(232)의 7 개의 분할 흡인 유닛(251)도, 도면상 좌측으로부터 제 1 내지 제 7 분할 흡인 유닛(251a 내지 g)으로 했다.

정기 메인터넌스는 헤드 유닛(41)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)에 대하여, 흡인 유닛(232)을 이용하여 흡인한 후, 와이핑 유닛(233)을 이용하여 와이핑하는 것이다. 도 19의 (b)에 나타낸 바와 같이, 정기 메인터넌스의 제어 플로에서는, 우선, 헤드 이동 수단(43)이 구동되고, 헤드 유닛(41)을 구성하는 7 개의 분할 헤드 유닛(71) 모두를 메인터넌스 에리어(52)로 이동시키는 동시에, 이들을 분할 흡인 유닛(251)에 각각 면하게 한다. 다음으로, 7 개의 캡 승강 기구(254)를 구동하고, 7 개의 캡 유닛(252)을 제 1 위치까지 이동시켜, 헤드 유닛(41)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)에, 대응하는 캡(261)을 밀착시킨다. 이어서, 전체 분할 흡인 유닛(251)의 이젝터에 압축 에어를 공급하고, 헤드 유닛(41)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)를 흡인한다.

전체 기능 액적 토출 헤드(72)의 흡인이 종료되면, 제 1 분할 흡인 유닛(251a)의 캡 승강 기구(254)를 구동하고, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)의 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 캡(261)을 이간시킨다. 이어서, 헤드 이동 수단(43)을 구동하고, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)을 묘화 에리어(51)측으로 이동시키는 동시에, 와이핑 유닛(233)을 구동하여, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)의 전체 기능 액적 토출 헤드(72)에 와이핑을 행한다. 이동안, 제 2 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71b 내지 g)은, 제 2 내지 제 7 분할 흡인 유닛(251b 내지 g)의 캡(261)에 의해, 탑재한 기능 액적 토출 헤드(72)를 밀봉(캡핑)한 상태로 대기하고 있다. 이것에 의해, 대기 중의 기능 액적 토출 헤드(72)(의 토출 노즐(88))가 건조하여, 로딩하는 것을 방지할 수 있다.

제 1 분할 헤드 유닛(71a)에 대한 와이핑이 종료 직전이 되면, 제 2 분할 흡인 유닛(251b)의 캡 승강 기구(254)를 구동하고, 대기 중의 제 2 분할 헤드 유닛(71b)의 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 캡(261)을 이간시킨다. 그리고, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)의 와이핑이 종료되면, 헤드 이동 수단(43)의 구동을 제어하여, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)을 묘화 에리어(51)로 이동시키는 동시에, 와이핑 유닛(233)의 횡 이동 기구(283)를 구동하여, 와이핑 시트(281)를 X축 방향으로 이동시킨다. 이어서, 제 2 분할 헤드 유닛(71b)을 묘화 에리어(51)측으로 이동시켜, 제 2 분할 헤드 유닛(71b)의 와이핑을 행한다(도 19의 (c) 참조).

제 2 분할 헤드 유닛(71b)의 와이핑이 종료 직전에, 제 3 분할 흡인 유닛(251c)의 갭 승강 기구(254)를 구동하여, 대기 중인 제 3 분할 헤드 유닛(71c)에서 캡(261)을 이간시킨다. 제 2 분할 헤드 유닛(71b)의 와이핑이 종료되면, 헤드 이동 수단(43)의 구동을 제어하고, 제 2 분할 헤드 유닛(71b)을 묘화 에리어(51)로 이동시키는 동시에, 와이핑 유닛(233)의 시트 공급 유닛(291)(권취 모터(313))을 구동하고, 와이핑 시트(281)를 투입 송출하여, 세정액을 함침시킨 미사용 와이핑 시트(281)를 닦아내기 유닛(292)(닦아내기 롤러(321))에 공급한다.

그리고, 헤드 이동 수단(43)을 구동하여, 제 3 분할 헤드 유닛(71c)의 와이핑을 행한다. 이하, 대기 중인 제 4 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71d 내지 g)에 대하여서도 같은 동작이 반복되고, 와이핑과 묘화 에리어(51)로의 이동이, 제 4 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71c 내지 g)의 순서로 행해진다.

한편, 모든 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑이 종료될 때까지의 사이에, 묘화 에리어(51)에 송출된 (대기 중인) 분할 헤드 유닛(71)의 기능 액적 토출 헤드(72)는 소정의 간격에 의해 정기적으로 토출 구동되고, 플러싱 동작이 행해진다. 이 때, 세트 테이블(101)은, 워크 교환을 위해서 워크 반출입 에리어(53)에 면해 있고, 묘화 에리어(51)에 대기 중인 분할 헤드 유닛(71)은, 플러싱 박스(241)의 직상부에 면하여 플러싱을 행한다.

또한, 본 실시예에서는, 와이핑 전의 분할 헤드 유닛(71)을, 캡핑한 상태로 대기시키고 있지만, 캡(261)을 향해, 소정의 간격에 의해 정기적으로 플러싱시키면서(캡내 플러싱을 시키면서), 이를 대기시키도록 구성해도 좋다. 이 경우, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)에서 캡(261)을 이간시킬 때에, 제 2 내지 제 7 분할 흡인 유닛(251b 내지 g)의 캡 승강 기구(254)를 구동하여, 제 2 내지 제 7 분할 흡인 유닛(251b 내지 g)의 캡(261)을 제 2 위치로 이동시킨다.

또한, 지극히 휘발성이 낮은 기능액을 이용한 경우와 같이, 와이핑을 위한 대기 시간이, 기능 액적 토출 헤드(72)의 토출 성능에 거의 영향을 주고 있지 않은 경우에는, 대기 중인 캡핑이나 캡 내 플러싱은 필요하지 않다. 이 경우, 와이핑의 대기 중에, 캡핑이나 캡 내 플러싱를 행할 필요가 없기 때문에, 흡인 유닛(232)을, 7 개 미만의 분할 흡인 유닛(251)으로 구성해도 좋다. 특히, 정기 메인터넌스를 행하는 빈도가 적은 경우에는, 분할 흡인 유닛(251)의 감소가, 전체의 택트 타임에 주는 영향은 적고, 흡인 유닛(232)을, 단일한 분할 흡인 유닛(251)으로 구성할 수 있다. 반대로, 빈번하게 정기 메인터넌스를 행하는 경우에는, 와이핑을 위한 대기 시간이 전체 처리 시간에 영향을 주기 때문에, 이 대기 시간을 삭감하는, 복수의 와이핑 유닛(233)을 설치할 수도 있다.

또한, 도 19에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에서는, 와이핑 전의 분할 헤드 유닛(71)은 와이핑을 기다리는 동안 이동하지 않고, 흡인이 행해진 위치에 머물러 있지만, 앞서 행해지는 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑이 종료될 때마다, 묘화 에리어(51)측(와이핑 유닛(233)측)에 위치하여 인접하는 분할 흡인 유닛(251)의 캡 유닛(252)에 차례로 이동시킬 수도 있다.

도 20을 참조해 구체적으로 설명한다. 상기 도면(a)에 나타낸 바와 같이, (제 1 분할 흡인 유닛(251)에 면한) 제 1 분할 헤드 유닛(71a)이 와이핑 유닛(233)으로 이동하면, 제 2 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71b 내지 g)을, 제 1 내지 제 6 분할 흡인 유닛(251a 내지 f)까지 이동시킨다. 또한, 상기 도면(b)에 나타낸 바와 같이, 제 1 분할 헤드 유닛(71a)의 와이핑이 종료되고, 제 1 분할 흡인 유닛(251)에 면한 제 2 분할 헤드 유닛(71b)이 와이핑 유닛(233)으로 이동하면, 제 3 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71c 내지 g)을, 제 1 내지 제 5 분할 흡인 유닛(251a 내지 f)까지 이동시킨다. 또한, 이 경우에도, 와이핑이 종료된 분할 헤드 유닛(71)은 묘화 에리어(51)으로 이동한다. 이와 같이, (앞서 와이핑을 행하는) 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑 유닛(233)으로의 이동에 수반하여, 대기 중인 분할 헤드 유닛(71)을, 인접하는 와이핑 유닛(233)측의 분할 흡인 유닛으로 이동시킴으로써, 헤드 유닛(41)(전체 분할 헤드 유닛(71))의 와이핑에 필요한 시간을 단축할 수 있다.

또한, 본 실시예에서는, 1 개의 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑이 종료되면, 와이핑 시트(281)를 횡 이동시키고 있지만, 횡 이동의 타이밍은, 실정(기능액의 종류 등)에 따라 적절히 설정 가능하다. 예를 들면, 2개의 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑을 행한 후, 와이핑 시트(281)를 횡 이동시키고, 또한 2개의 분할 헤드 유닛(71)의 와이핑을 행한 후로부터, 와이핑 시트(281)를 풀어내도록 할 수도 있다. 또한, 각 분할 헤드 유닛(71)의 헤드 플레이트(73) 등에, 와이핑 시트(281)의 오염 상태를 검출하는 오염 검출 수단(도시 생략)을 설치하거나 하여, 와이핑 시트(281)의 오염 상태에 따라, 와이핑 시트(281)를 횡송(橫送)하는 것도 가능하다. 이 경우, 반사형 포토 센서나, 카메라 등으로 오염 검출 수단을 구성하면 된다.

또한, 정기 메인터넌스에서는, 헤드 유닛(41)을 구성하는 전체 분할 헤드 유닛(71)에 대하여, 흡인·와이핑을 행하고 있지만, 임의의 1 개 분할 헤드 유닛(71)에 대해서만 흡인·와이핑을 행할 수도 있다. 이 경우, 흡인·와이핑이 행해지는 분할 헤드 유닛(71)이 제 1 분할 흡인 유닛(251a)에 면하도록 헤드 이동 수단(43)을 구동하면 된다.

다음으로, 헤드 교환의 제어 플로에 대해서 설명한다. 본 실시예에서는, 와이핑 유닛(233) 상방, 즉, 가장 묘화 에리어(51)에 근접한 메인터넌스 에리어(52) 상방이, 헤드 교환을 행하기 위한 헤드 교환 에리어로 되어 있고, 우선, 헤드 이동 수단(43)을 구동하여, 헤드 교환을 행하는 분할 헤드 유닛(71)을, 와이핑 유닛(233)까지 이동시킨다. 그리고, 와이핑 유닛(233)을 지지하는 유닛 승강 기구(235)의 승강 기구(351)를 구동하고, 이것을 상기한 대피 위치까지 이동시킨다. 이것에 의해, 와이핑 유닛(233) 상방에 작업 스페이스가 생성되고, 효율적으로 헤드 교환을 행할 수 있게 된다. 헤드 교환이 종료되면, 상기한 승강 기구(351)가 재차 구동되고, 와이핑 유닛(233) 및 제 1 분할 흡인 유닛(251)을 메인터넌스 위치까지 상승시킨다. 또한, 보다 유효하게 작업 스페이스를 확보하기 위해, 와이핑 유닛(233)과 인접하는 제 1 분할 헤드 유닛(71)도 대피 위치까지 이동시키는 것이 바람직하다.

제 5 분할 헤드 유닛(71)의 헤드 플레이트(73)를 교환하는 경우를 예로 들어, 일련의 헤드 교환 플로에 대해서 구체적으로 설명한다. 도 21의 (b)에 나타낸 바와 같이, 우선, 헤드 이동 수단(43)을 구동하고, 제 5 내지 제 7 분할 헤드 유닛(71e 내지 g)을 메인터넌스 에리어(52)로 이동시키고, 제 5 분할 헤드 유닛(71e)을 와이핑 유닛(233)에 면하게 하는 동시에, 제 6·제 7 분할 헤드 유닛(71f 및 g)을 제 2·제 3 분할 흡인 유닛(251b 및 c)에 면하게 한다. 그리고, 도 21의 (c)에 나타낸 바와 같이, 승강 기구(351)를 구동하고, 와이핑 유닛(233) 및 제 1 분할 흡인 유닛(251)을 대피 위치까지 이동시킨다. 또한, 제 6·제 7 분할 헤드 유닛(71f 및 g)의 이동 위치는, 이것에 한정되는 것이 아니라, 예를 들면, 제 6·제 7 분할 흡인 유닛(251f 및 g)에 면하도록, 이들을 이동시킬 수도 있다(도 21의 (c') 참조).

헤드의 교환 작업 중에, 작업 외의 분할 헤드 유닛(71)의 기능 액적 토출 헤드(72)의 건조·로딩을 방지하기 위해, 작업 외의 분할 헤드 유닛(71)에는, 캡핑 또는 (정기적인) 플러싱이 행해진다. 즉, 제 6·제 7 분할 헤드 유닛(71f 및 g)이 면한 분할 흡인 유닛(251)(여기에서는 제 2·제 3 분할 흡인 유닛(251b 및 c)의 캡 승강 기구(254)가 구동되고, 캡 유닛(252)이 제 1 위치 또는 제 2 위치까지 이동한다. 그리고, 제 1 내지 제 4 분할 헤드 유닛(71a 내지 d)에서는, 플러싱 박스(241)에 면하여 플러싱이 행해지고, 한편, 제 6·제 7 분할 헤드 유닛(71f 및 g)에서는, 캡핑 또는 캡 내 플러싱이 행해진다.

헤드 교환 작업이 종료되면, 제 6·제 7 분할 헤드 유닛(71f 및 g)이 면한 분할 흡인 유닛(251)의 캡 승강 기구(254)가 구동되고, 제 1 위치 또는 제 2 위치에 있는 캡 유닛(252)을 하강 단부 위치까지 하강시키는 동시에, 상기 승강 기구(351)가 구동되고, 와이핑 유닛(233) 및 제 1 분할 흡인 유닛(251)이 메인터넌스 위치까지 상승한다.

또한, 본 실시예에서는, 헤드 교환시에, 일부 분할 헤드 유닛(71)을 묘화 에리어(51)에 남기고 있지만, 헤드 유닛(41)의 전체 분할 헤드 유닛(71)을 보수 에리어(52)로 이동시키는 구성으로 할 수도 있다. 이 경우, 7 개의 전체 분할 헤드 유닛(71)에 대응하는 분할 흡인 유닛(251)에 면하게 한다. 그리고, 작업을 행하는 분할 헤드 유닛(71)(여기에서는 제 5 분할 헤드 유닛(71e))을 제외한 6 개의 분할 헤드 유닛(71)에는, 캡핑을 행하거나, 캡 내 플러싱을 행하도록 한다.

또한, 흡인 유닛(232)의 각 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233)을 메인터넌스하는 경우에는, 메인터넌스를 행하는 유닛 자신의 대피는 행하지 않고, 이에 인접하는 유닛(각 분할 흡인 유닛(251) 또는 와이핑 유닛(233))을 대피 위치까지 이동시키게 된다. 특히, 제 1 내지 제 6 분할 흡인 유닛(251a 내지 f)의 메인터넌스를 행하는 경우에는, 메인터넌스를 행하는 분할 흡인 유닛(251)에 인접하는 양측의 유닛을 퇴피 위치까지 이동시킨다(도 22 참조).

이와 같이, 제어부(367)에서는, 각 수단을 통괄 제어함으로써, 이들을 협동시켜, 각종 처리를 행하게 되어 있다.

다음으로, 본 실시예의 액적 토출 장치(3)를 이용하여 제조되는 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이)로서, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이(PDP 장치), 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치), 또한 이들 표시 장치에 형성되는 액티브 매트릭스 기판 등을 예로, 이들의 구조 및 그 제조 방법에 대해서 설명한다. 또한, 액티브 매트릭스 기판은, 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터에 전기적으로 접속하는 소스선, 데이터선이 형성된 기판을 의미한다.

우선, 액정 표시 장치나 유기 EL 장치 등에 조직되는 컬러 필터의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 23은, 컬러 필터의 제조 공정을 나타내는 플로차트, 도 24는, 제조 공정 순서에 나타낸 본 실시예의 컬러 필터(600)(필터 기체(600A))의 모식 단면도이다.

우선, 블랙 매트릭스 형성 공정(S101)에서는, 도 24의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(W)(601) 위에 블랙 매트릭스(602)를 형성한다. 블랙 매트릭스(602)는, 금속 크롬, 금속 크롬과 산화 크롬의 적층체 또는 수지 블랙 등에 의해 형성된다. 금속 박막으로 이루어지는 블랙 매트릭스(602)를 형성하기 위해서는, 스팩터법이나 증착법 등을 사용할 수 있다. 또한, 수지 박막으로 이루어지는 블랙 매트릭스(602)를 형성하는 경우에는, 그라비아 인쇄법, 포토 레지스트법, 열전사법 등을 사용할 수 있다.

이어서, 뱅크 형성 공정(S102)에 있어서, 블랙 매트릭스(602) 위에 중첩하는 상태로 뱅크(603)를 형성한다. 즉, 우선 도 24의 (b)에 나타낸 바와 같이, 기판(601) 및 블랙 매트릭스(602)를 덮도록 필름형의 투명한 감광성 수지로 이루어진 레지스트층(604)을 형성한다. 그리고, 그 상면을 매트릭스 패턴 형상으로 형성된 마스크 필름(605)에 의해 피복한 상태에서 노광 처리를 행한다.

또한, 도 24의 (c)에 나타낸 바와 같이, 레지스트 층(604)의 미노광 부분을 에칭 처리함으로써 레지스트 층(604)을 패터닝 하여, 뱅크(603)를 형성한다. 또한, 수지 블랙에 의해 블랙 매트릭스를 형성하는 경우에는, 블랙 매트릭스와 뱅크를 겸용하는 것이 가능해진다.

이 뱅크(603)와 그 밑의 블랙 매트릭스(602)는, 각 화소 영역(607a)을 구획하는 구획 벽부(607b)로 되고, 후술하는 착색층 형성 공정에 있어서 기능 액적 토출 헤드(72)에 의해 착색층(성막부)(608R, 608G, 608B)을 형성할 때에 기능 액적의 착탄 영역을 규정한다.

이상의 블랙 형성 공정 및 뱅크 형성 공정을 거침으로써, 상기 필터 기체(600A)를 얻을 수 있다.

또한, 본 실시예에서는, 뱅크(603)의 재료로서, 도막 표면이 소액(소수)성이 되는 수지 재료를 이용하고 있다. 그리고, 기판(유리 기판)(601)의 표면이 친액(친수)성이므로, 후술하는 착색층 형성 공정에 있어서 뱅크(603)(구획 벽부(607b))에 둘러싸인 각 화소 영역(607a) 내로의 액적의 착탄 위치 정밀도가 향상된다.

다음으로, 착색층 형성 공정(S103)에서는, 도 24의 (d)에 나타낸 바와 같이, 기능 액적 토출 헤드(72)에 의해서 기능 액적을 토출하여 구획 벽부(607)에 의해 둘러싸인 각 화소 영역(607a) 내에 착탄된다. 이 경우, 기능 액적 토출 헤드(72)를 이용하여, R·G·B 3색의 기능액(필터 재료)을 도입하고, 기능 액적의 토출을 행한다. 또한, R·G·B 3색의 배열 패턴으로서는, 스트라이프 배열, 모자이크 배열 및 델타 배열 등이 있다.

그 후, 건조 처리(가열 등의 처리)를 거쳐 기능액을 정착시키고, 3색의 착색층(608R, 608G, 608B)을 형성한다. 착색층(608R, 608G, 608B)을 형성했다면, 보호막 형성 공정(S104)으로 이행하여, 도 24의 (e)에 나타낸 바와 같이, 기판(601), 구획 벽부(607b) 및 착색층(608R, 608G, 608B) 상면을 덮도록 보호막(609)을 형성한다.

즉, 기판(601)의 착색층(608R, 608G, 608B)이 형성된 면(面) 전체에 보호막용 도포액이 토출된 후, 건조 처리를 거쳐 보호막(609)이 형성된다.

그리고, 보호막(609)을 형성한 후, 컬러 필터(600)는 다음 공정의 투명 전극이 되는 IT0(indium tin oxide) 등의 막 부착 공정으로 이행한다.

도 25는, 상기 컬러 필터(600)를 이용한 액정 표시 장치의 일례로서 패시브 매트릭스형 액정 장치(액정 장치)의 개략 구성을 나타내는 주요부 단면도이다. 이 액정 장치(620)에, 액정 구동용 IC, 백 라이트, 지지체 등의 부대 요소를 장착함으로써, 최종 제품으로서의 투과형 액정 표시 장치를 얻을 수 있다. 또한, 컬러 필터(600)는 도 24에 나타낸 것과 동일한 것으로서, 대응하는 부위에는 동일한 부호를 첨부하고, 그 설명은 생략한다.

이 액정 장치(620)는, 컬러 필터(600), 유리 기판 등으로 이루어지는 대향 기판(621) 및 이들 사이에 삽입된 STN(super twisted nematic) 액정 조성물로 이루어지는 액정층(622)에 의해 개략 구성되어 있고, 컬러 필터(600)를 도면상의 상측(관측자 측)에 배치하고 있다.

또한, 도시를 생략했으나, 대향 기판(621) 및 컬러 필터(600)의 외면(액정층(622)측과는 반대측 면)에는 편광판이 각각 배열 설치되고, 또한 대향 기판(621)측에 위치하는 편광판의 외측에는, 백 라이트가 배열 설치되어 있다.

컬러 필터(600)의 보호막(609) 위(액정층 측)에는, 도 25에서의 좌우 방향으로 긴 단책(短冊) 형상의 제 1 전극(623)이 소정의 간격으로 복수 형성되어 있고, 이 제 1 전극(623)의 컬러 필터(600)측과는 반대측 면을 덮도록 제 1 배향막(624)이 형성되어 있다.

한편, 대향 기판(621)에서 컬러 필터(600)와 대향하는 면에는, 컬러 필터(600)의 제 1 전극(623)과 직교하는 방향으로 긴 단책 형상의 제 2 전극(626)이 소정의 간격으로 복수 형성되고, 이 제 2 전극(626)의 액정층(622)측의 면을 덮도록 제 2 배향막(627)이 형성되어 있다. 이들 제 1 전극(623) 및 제 2 전극(626)은, ITO 등의 투명 도전 재료에 의해 형성되어 있다.

액정층(622) 내에 설치된 스페이서(628)는, 액정층(622)의 두께(셀 갭)를 일정하게 유지하기 위한 부재이다. 그리고, 밀봉재(629)는 액정층(622) 내의 액정 조성물이 외부에 누출되는 것을 방지하기 위한 부재이다. 또한, 제 1 전극(623)의 일단부는 인회(引回) 배선(623a)으로서 밀봉재(629)의 외측까지 연재하고 있다.

그리고, 제 1 전극(623)과 제 2 전극(626)이 교차하는 부분이 화소로서, 이 화소가 되는 부분에, 컬러 필터(600)의 착색층(608R, 608G, 608B)이 위치하도록 구성되어 있다.

통상의 제조 공정에서는, 컬러 필터(600)에, 제 1 전극(623)의 패터닝 및 제 1 배향막(624)의 도포를 행하여 컬러 필터(600)측 부분을 작성하는 동시에, 이와는 별도로 대향 기판(621)에, 제 2 전극(626)의 패터닝 및 제 2 배향막(627)의 도포를 행하여 대향 기판(621)측 부분을 작성한다. 그 후, 대향 기판(621)측 부분에 스페이서(628) 및 밀봉재(629)를 만들어 넣고, 이 상태에서 컬러 필터(600)측 부분을 접합한다. 다음으로, 밀봉재(629)의 주입구로부터 액정층(622)을 구성하는 액정을 주입하고, 주입구를 폐지한다. 그 후, 양 편광판 및 백 라이트를 적층한다.

실시예의 액적 토출 장치(3)는, 예를 들면 상기 셀 갭을 구성하는 스페이서 재료(기능액)를 도포하는 동시에, 대향 기판(621)측 부분에 컬러 필터(600)측 부분을 접합하기 전에, 밀봉재(629)로 둘러싼 영역에 액정(기능액)을 균일하게 도포할 수 있다. 또한, 상기 밀봉재(629)의 인쇄를, 기능 액적 토출 헤드(72)에서 행하는 것도 가능하다. 또한, 제 1·제 2 양 배향막(624, 627)의 도포를 기능 액적 토출 헤드(72)에서 행하는 것도 가능하다.

도 26은, 본 실시예에 있어서 제조한 컬러 필터(600)를 이용한 액정 장치의 제 2 예의 개략 구성을 나타내는 주요부 단면도이다.

이 액정 장치(630)가 상기 액정 장치(620)와 크게 다른 점은, 컬러 필터(600)를 도면상의 하측(관측자 측과는 반대측)에 배치한 점이다.

이 액정 장치(630)는, 컬러 필터(600)와 유리 기판 등으로 이루어지는 대향 기판(631)의 사이에 STN 액정으로 이루어지는 액정층(632)이 삽입되어 개략 구성되어 있다. 또한, 도시되지 않았으나, 대향 기판(631) 및 컬러 필터(600)의 외면에는 편광판 등이 각각 배열 설치되어 있다.

컬러 필터(600)의 보호막(609) 위(액정층(632)측)에는, 도면상 깊이 방향으로 긴 단책 형상의 제 1 전극(633)이 소정의 간격으로 복수 형성되어 있고, 이 제 1 전극(633)의 액정층(632)측 면을 덮도록 제 1 배향막(634)이 형성되어 있다.

대향 기판(631)의 컬러 필터(600)와 대향하는 면에는, 컬러 필터(600)측의 제 1 전극(633)과 직교하는 방향으로 연재하는 복수의 단책 형상의 제 2 전극(636)이 소정의 간격으로 형성되고, 이 제 2 전극(636)의 액정층(632)측 면을 덮도록 제 2 배향막(637)이 형성되어 있다.

액정층(632)에는, 이 액정층(632)의 두께를 일정하게 유지하기 위한 스페이서(638)와, 액정층(632) 내의 액정 조성물이 외부에 누출되는 것을 방지하기 위한 밀봉재(639)가 설치되어 있다.

그리고, 상기한 액정 장치(620)와 마찬가지로, 제 1 전극(633)과 제 2 전극(636)의 교차하는 부분이 화소이며, 이 화소가 되는 부위에, 컬러 필터(600)의 착색층(608R, 608G, 608B)이 위치하도록 구성되어 있다.

도 27은, 본 발명을 적용한 컬러 필터(600)를 이용하여 액정 장치를 구성한 제 3 예를 나타낸 것으로서, 투과형의 TFT(thin film transistor)형 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 분해 사시도이다.

이 액정 장치(650)는, 컬러 필터(600)를 도면상 상측(관측자 측)에 배치한 것이다.

이 액정 장치(650)는, 컬러 필터(600)와, 이에 대향하도록 배치된 대향 기판(651)과, 이들 사이에 삽입된 도시되지 않은 액정층과, 컬러 필터(600) 상면측(관측자측)에 배치된 편광판(655)과, 대향 기판(651)의 하면측에 배열 설치된 편광판(도시되지 않음)에 의해 개략 구성되어 있다.

컬러 필터(600)의 보호막(609) 표면(대향 기판(651)측 면)에는 액정 구동용의 전극(656)이 형성되어 있다. 이 전극(656)은, ITO 등의 투명 도전 재료로 이루어지고, 후술하는 화소 전극(660)이 형성되는 영역 전체를 가리는 전면 전극으로 되어 있다. 또한, 이 전극(656)의 화소 전극(660)과는 반대측 면을 가린 상태로 배향막(657)이 설치되어 있다.

대향 기판(651)의 컬러 필터(600)와 대향하는 면에는 절연층(658)이 형성되어 있고, 이 절연층(658) 위에는, 주사선(661) 및 신호선(662)이 서로 직교하는 상태로 형성되어 있다. 그리고, 이들 주사선(661)과 신호선(662)에 둘러싸인 영역 내에는 화소 전극(660)이 형성되어 있다. 또한, 실제 액정 장치에서는, 화소 전극(660) 위에 배향막이 설치되어 있지만, 도시를 생략한다.

또한, 화소 전극(660)의 노치부와 주사선(661)과 신호선(662)에 둘러싸인 부분에는 소스 전극, 드레인 전극, 반도체 및 게이트 전극을 구비하는 박막 트랜지스터(663)가 조직되어 구성되어 있다. 그리고, 주사선(661)과 신호선(662)에 대한 신호의 인가에 의해서 박막 트랜지스터(663)를 온·오프하여 화소 전극(660)으로의 통전 제어를 행할 수 있도록 구성되어 있다.

또한, 상기 각 예의 액정 장치(620, 630, 650)는 투과형 구성으로 했지만, 반사층 또는 반투과 반사층을 설치하여, 반사형 액정 장치 또는 반투과 반사형 액정 장치로 할 수도 있다.

다음으로, 도 28은 유기 EL 장치의 표시 영역(이하, 단순히 표시 장치(700)로 칭함)의 주요부 단면도이다.

이 표시 장치(700)는 기판(W)(701) 위에, 회로 소자부(702), 발광 소자부(703) 및 음극(704)이 적층된 상태로 개략 구성되어 있다.

이 표시 장치(700)에서는 발광 소자부(703)로부터 기판(701)측에 발한 광(光)이, 회로 소자부(702) 및 기판(701)을 투과하여 관측자 측에 출사되는 동시에, 발광 소자부(703)로부터 기판(701)의 반대측에 발한 광(光)이 음극(704)에 의해 반사된 후, 회로 소자부(702) 및 기판(701)을 투과하여 관측자측에 출사되게 되어 있다.

회로 소자부(702)와 기판(701) 사이에는 실리콘 산화막으로 이루어진 하지(下地) 보호막(706)이 형성되고, 이 하지 보호막(706)의 위(발광 소자부(703)측)에 다결정 실리콘으로 이루어지는 섬 형상의 반도체막(707)이 형성되어 있다. 이 반도체막(707)의 좌우의 영역에는, 소스 영역(707a) 및 드레인 영역(707b)이 고농도 양이온 주입에 의해 각각 형성되어 있다. 그리고 양이온이 주입되지 않은 중앙부가 채널 영역(707c)으로 되어 있다.

또한, 회로 소자부(702)에는 하지 보호막(706) 및 반도체막(707)을 덮는 투명한 게이트 절연막(708)이 형성되고, 이 게이트 절연막(708) 위의 반도체막(707)의 채널 영역(707c)에 대응하는 위치에는, 예를 들면 Al, Mo, Ta, Ti, W 등으로 이루어지는 게이트 전극(709)이 형성되어 있다. 이 게이트 전극(709) 및 게이트 절연막(708) 위에는, 투명한 제 1 층간 절연막(711a)과 제 2 층간 절연막(711b)이 형성되어 있다. 또한, 제 1 및 제 2 층간 절연막(711a, 711b)을 관통하여, 반도체막(707)의 소스 영역(707a), 드레인 영역(707b)에 각각 연통하는 컨택트홀(712a, 712b)이 형성되어 있다.

그리고, 제 2 층간 절연막(711b) 위에는, ITO 등으로 이루어지는 투명한 화소 전극(713)이 소정의 형상에 패터닝되어 형성되고, 이 화소 전극(713)은, 컨택트홀(712a)을 통해서 소스 영역(707a)에 접속되어 있다.

또한, 제 1 층간 절연막(711a) 위에는 전원선(714)이 배열 설치되어 있고, 이 전원선(714)은, 컨택트홀(712b)을 통해서 드레인 영역(707b)에 접속되어 있다.

이와 같이, 회로 소자부(702)에는, 각 화소 전극(713)에 접속된 구동용 박막 트랜지스터(715)가 각각 형성되어 있다.

상기 발광 소자부(703)는, 복수의 화소 전극(713) 위의 각각에 적층된 기능층(717)과, 각 화소 전극(713) 및 기능층(717) 사이에 구비된 각 기능층(717)을 구획하는 뱅크부(718)에 의해 개략 구성되어 있다.

이들 화소 전극(713), 기능층(717) 및 기능층(717) 위에 배열 설치된 음극(704)에 의해서 발광 소자가 구성되어 있다. 또한, 화소 전극(713)은 평면으로 보았을때 대략 직사각형 모양으로 패터닝되어 형성되고, 각 화소 전극(713) 사이에 뱅크부(718)가 형성되어 있다.

뱅크부(718)는, 예를 들면 SiO, SiO₂, TiO₂ 등의 무기 재료에 의해 형성되는 무기물 뱅크층(718a)(제 1 뱅크층)과, 이 무기물 뱅크층(718a) 위에 적층되고, 아크릴 수지, 폴리이미드 수지 등의 내열성, 내용매성이 뛰어난 레지스트에 의해 형성되는 단면 사다리꼴 형상의 유기물 뱅크층(718b)(제 2 뱅크층)으로 구성되어 있다. 이 뱅크부(718)의 일부는, 화소 전극(713)의 주연부 위에 올려진 상태로 형성되어 있다.

그리고, 각 뱅크부(718) 사이에는, 화소 전극(713)에 대하여 상방을 향해 점차 확개한 개구부(719)가 형성되어 있다.

상기 기능층(717)은, 개구부(719) 내에서 화소 전극(713) 위에 적층 상태로 형성된 정공 주입/수송층(717a)과, 이 정공 주입/수송층(717a) 위에 형성된 발광층(717b)으로 구성되어 있다. 또한, 이 발광층(717b)에 인접해 기타 기능을 가지는 다른 기능층을 더 형성할 수도 있다. 예를 들면, 전자 수송층을 형성하는 것도 가능하다.

정공 주입/수송층(717a)은, 화소 전극(713)측에서 정공을 수송하여 발광층(717b)으로 주입하는 기능을 가진다. 이 정공 주입/수송층(717a)은, 정공 주입/수송층 형성 재료를 포함하는 제 1 조성물(기능액)을 토출함으로써 형성된다. 정공 주입/수송층 형성 재료로서는, 공지의 재료를 이용한다.

발광층(717b)은 적색(R), 녹색(G), 또는 청색(B)의 어느 색으로 발광하는 것으로서, 발광층 형성 재료(발광 재료)를 포함하는 제 2 조성물(기능액)을 토출함으로써 형성된다. 제 2 조성물의 용매(비극성 용매)로서는, 정공 주입/수송층(717a)에 대하여 불용(不容)인 공지의 재료를 이용하는 것이 바람직하고, 이러한 비극성 용매를 발광층(717b)의 제 2 조성물에 이용함으로써, 정공 주입/수송층(717a)을 재용해시키지 않고 발광층(717b)를 형성할 수 있다.

그리고, 발광층(717b)에서는, 정공 주입/수송층(717a)에서 주입된 정공과, 음극(704)에서 주입되는 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하도록 구성되어 있다.

음극(704)은, 발광 소자부(703)의 전면을 덮는 상태로 형성되어 있고, 화소 전극(713)과 한 쌍으로 되어 기능층(717)으로 전류를 흘리는 역할을 한다. 또한, 이 음극(704)의 상부에는 도시되지 않은 밀봉 부재가 배치된다.

다음으로, 상기 표시 장치(700)의 제조 공정을 도 29 내지 도 37을 참조하여 설명한다.

이 표시 장치(700)는, 도 29에 나타낸 바와 같이, 뱅크부 형성 공정(S111), 표면 처리 공정(S112), 정공 주입/수송층 형성 공정(S113), 발광층 형성 공정(S114) 및 대향 전극 형성 공정(S115)을 거쳐 제조된다. 또한, 제조 공정은 예시하는 것에 한정되는 것이 아니라, 필요에 따라서 기타의 공정이 제외되는 경우, 또한 추가되는 경우도 있다.

우선, 뱅크부 형성 공정(S111)에서는, 도 30에 나타낸 바와 같이, 제 2 층간 절연막(711b) 위에 무기물 뱅크층(718a)을 형성한다. 이 무기물 뱅크층(718a)은, 형성 위치에 무기물막을 형성한 후, 이 무기물막을 포토리소그래피 기술 등에 의해 패터닝함으로써 형성된다. 이 때, 무기물 뱅크층(718a)의 일부는 화소 전극(713)의 주연부와 겹치도록 형성된다.

무기물 뱅크층(718a)을 형성했다면, 도 31에 나타낸 바와 같이, 무기물 뱅크층(718a) 위에 유기물 뱅크층(718b)을 형성한다. 이 유기물 뱅크층(718b)도 무기물 뱅크층(718a)과 마찬가지로 포토리소그래피 기술 등에 의해 패터닝하여 형성된다.

이러한 방식으로 뱅크부(718)가 형성된다. 또한, 이에 수반하여, 각 뱅크부(718) 사이에는, 화소 전극(713)에 대하여 상측에 개구한 개구부(719)가 형성된다. 이 개구부(719)는, 화소 영역을 규정한다.

표면 처리 공정(S112)에서는, 친액화 처리 및 발액화 처리가 행해진다. 친액화 처리를 실시하는 영역은, 무기물 뱅크층(718a)의 제 1 적층부(718aa) 및 화소 전극(713)의 전극면(713a)이며, 이들 영역은, 예를 들면 산소를 처리 가스로 하는 플라즈마 처리에 의해서 친액성으로 표면 처리된다. 이 플라즈마 처리는, 화소 전극(713)인 ITO의 세정 등도 겸하고 있다.

그리고, 발액화 처리는 유기물 뱅크층(718b)의 벽면(718s) 및 유기물 뱅크층(718b) 상면(718t)에 실시되고, 예를 들면 4불화 메탄을 처리 가스로 하는 플라즈마 처리에 의해서 표면이 불화 처리(발액성으로 처리)된다.

이 표면 처리 공정을 행함으로써, 기능 액적 토출 헤드(72)를 이용하여 기능층(717)을 형성할 때에, 기능 액적을 화소 영역에, 보다 확실히 착탄시킬 수 있고, 또한, 화소 영역에 착탄한 기능 액적이 개구부(719)로부터 넘쳐 나오는 것을 방지하는 것이 가능해진다.

그리고, 이상의 공정을 거침으로써, 표시 장치 기체(700A)를 얻을 수 있다. 이 표시 장치 기체(700A)는, 도 1에 나타낸 액적 토출 장치(3)의 세트 테이블(101)에 재치되고, 이하의 정공 주입/수송층 형성 공정(S113) 및 발광층 형성 공정(S114)이 행해진다.

도 32에 나타낸 바와 같이, 정공 주입/수송층 형성 공정(S113)에서는, 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 정공 주입/수송층 형성 재료를 포함하는 제 1 조성물을 화소 영역인 각 개구부(719) 내에 토출한다. 그 후, 도 33에 나타낸 바와 같이, 건조 처리 및 열 처리를 행하여, 제 1 조성물에 포함되는 극성 용매를 증발시키고, 화소 전극(전극면(713a))(713) 위에 정공 주입/수송층(717a)을 형성한다.

다음으로 발광층 형성 공정(S114)에 대해서 설명한다. 이 발광층 형성 공정에서는, 상술한 바와 같이, 정공 주입/수송층(717a)의 재용해를 방지하기 위해서, 발광층 형성시에 사용하는 제 2 조성물의 용매로서, 정공 주입/수송층(717a)에 대하여 불용인 비극성 용매를 사용한다.

그러나 한편, 정공 주입/수송층(717a)은 비극성 용매에 대한 친화성이 낮기 때문에, 비극성 용매를 포함하는 제 2 조성물을 정공 주입/수송층(717a) 위에 토출하여도, 정공 주입/수송층(717a)과 발광층(717b)을 밀착시킬 수 없게 되거나, 또는 발광층(717b)을 균일하게 도포하지 못할 우려가 있다.

여기서, 비극성 용매 및 발광층 형성 재료에 대한 정공 주입/수송층(717a)의 표면 친화성을 높이기 위해서, 발광층 형성 전에 표면 처리(표면 개질 처리)를 행하는 것이 바람직하다. 이 표면 처리는, 발광층 형성시에 사용하는 제 2 조성물의 비극성 용매와 동일 용매 또는 같은 류의 용매인 표면 개질재를, 정공 주입/수송층(717a) 위에 도포하고, 이를 건조킴으로써 행한다.

이러한 처리를 실시함으로써, 정공 주입/수송층(717a)의 표면이 비극성 용매에 친화력이 양호해지고, 이 후의 공정에서, 발광층 형성 재료를 포함하는 제 2 조성물을 정공 주입/수송층(717a)에 균일하게 도포할 수 있다.

그리고 다음으로, 도 34에 나타낸 바와 같이, 각 색 중의 어느 색(도 35의 예에서는 청색(B))에 대응하는 발광층 형성 재료를 함유하는 제 2 조성물을 기능 액적로서 화소 영역(개구부(719)) 내에 소정량 주입한다. 화소 영역 내에 주입된 제 2 조성물은, 정공 주입/수송층(717a) 위에 퍼져서 개구부(719) 내에 채워진다. 또한, 만일, 제 2 조성물이 화소 영역에서 벗어나 뱅크부(718) 상면(718t) 위에 착탄한 경우라도, 이 표면(718t)은 상술한 바와 같이 발액 처리가 실시되어 있으므로, 제 2 조성물이 개구부(719) 내에 유입되기 쉽게 되어 있다.

그 후, 건조 공정 등을 행함으로써, 토출 후의 제 2 조성물을 건조 처리하고, 제 2 조성물에 포함되는 비극성 용매를 증발시켜, 도 35에 나타낸 바와 같이, 정공 주입/수송층(717a) 위에 발광층(717b)이 형성된다. 이 도면의 경우, 청색(B)에 대응하는 발광층(717b)이 형성되어 있다.

마찬가지로, 기능 액적 토출 헤드(72)를 이용하여, 도 36에 나타낸 바와 같이, 상기한 청색(B)에 대응하는 발광층(717b)의 경우와 같은 공정을 차례로 행하고, 다른 색(적색(R) 및 녹색(G))에 대응하는 발광층(717b)을 형성한다. 또한, 발광층(717b)의 형성 순서는, 예시한 순서에 한정되는 것이 아니라, 어떠한 차례로 형성해도 좋다. 예를 들면, 발광층 형성 재료에 따라 형성하는 차례를 결정하는 것도 가능하다. 또한, R·G·B 3색의 배열 패턴으로서는, 스트라이프 배열, 모자이크 배열 및 델타 배열 등이 있다.

이상과 같은 방식으로, 화소 전극(713) 위에 기능층(717), 즉, 정공 주입/수송층(717a) 및 발광층(717b)이 형성된다. 그리고, 대향 전극 형성 공정(S115)에 이행한다.

대향 전극 형성 공정(S115)에서는, 도 37에 나타낸 바와 같이, 발광층(717b) 및 유기물 뱅크층(718b)의 전면에 음극(704)(대향 전극)을, 예를 들면 증착법, 스팩터법, CVD법 등에 의해서 형성한다. 이 음극(704)은, 본 실시예에 있어서는, 예를 들면, 칼슘층과 알루미늄층이 적층되어 구성되어 있다.

이 음극(704)의 상부에는, 전극으로서의 Al막, Ag막이나, 그 산화 방지를 위한 SiO₂, SiN 등의 보호층이 적절히 설치되어 있다.

이와 같은 방식으로 음극(704)을 형성한 후, 이 음극(704)의 상부를 밀봉 부재에 의해 밀봉하는 밀봉 처리나 배선 처리 등의 기타 처리 등을 실시함으로써, 표시 장치(700)를 얻을 수 있다.

다음으로, 도 38은, 플라즈마형 표시 장치(PDP 장치:이하, 단순히 표시 장치(800)로 칭함)의 주요부 분해 사시도이다. 또한, 상기 도면에서는 표시 장치(800)를, 그 일부를 노치한 상태로 나타낸다.

이 표시 장치(800)는, 서로 대향하여 배치된 제 1 기판(801), 제 2 기판(802) 및 이들 사이에 형성되는 방전 표시부(803)를 포함하여 개략 구성된다. 방전 표시부(803)는 복수의 방전실(805)로 구성되어 있다. 이들 복수의 방전실(805) 중, 적색 방전실(805R), 녹색 방전실(805G), 청색 방전실(805B)의 3 개의 방전실(805)이 조(組)가 되어 1 개의 화소를 구성하도록 배치되어 있다.

제 1 기판(801) 상면에는 소정의 간격에 의해 줄무늬 형상으로 어드레스 전극(806)이 형성되고, 이 어드레스 전극(806)과 제 1 기판(801) 상면을 덮도록 유전체 층(807)이 형성되어 있다. 유전체 층(807) 위에는, 각 어드레스 전극(806)의 사이에 위치하고, 한편 각 어드레스 전극(806)을 따르도록 격벽(808)이 입설되어 있다. 이 격벽(808)은 도시된 바와 같이 어드레스 전극(806)의 폭 방향 양측으로 연장되는 것과, 어드레스 전극(806)과 직교하는 방향으로 연장되어 설치된 도시되지 않은 것을 포함한다.

그리고, 이 격벽(808)에 의해서 분리된 영역이 방전실(805)로 된다.

방전실(805) 내에는 형광체(809)가 배치되어 있다. 형광체(809)는, 빨강(R), 초록(G), 파랑(B)의 어느 한 색의 형광을 발광하는 것으로서, 적색 방전실(805R)의 바닥부에는 적색 형광체(809R)가, 녹색 방전실(805G)의 바닥부에는 녹색 형광체(809G)가, 청색 방전실(805B)의 바닥부에는 청색 형광체(809B)가 각각 배치되어 있다.

제 2 기판(802)의 도면상 하측 면에는, 상기 어드레스 전극(806)과 직교하는 방향으로 복수의 표시 전극(811)이 소정의 간격으로 줄무늬 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 이들을 덮도록 유전체층(812) 및 MgO 등으로 이루어지는 보호막(813)이 형성되어 있다.

제 1 기판(801)과 제 2 기판(802)은, 어드레스 전극(806)과 표시 전극(811)이 서로 직교하는 상태로 대향시켜 접합되어 있다. 또한, 상기 어드레스 전극(806)과 표시 전극(811)은 도시되지 않은 교류 전원에 접속되어 있다.

그리고, 각 전극(806, 811)에 흐르게 함으로써, 방전 표시부(803)에 있어서 형광체(809)가 여기(勵起) 발광하여, 컬러 표시가 가능해진다.

본 실시예에 있어서는, 상기 어드레스 전극(806), 표시 전극(811) 및 형광체(809)를, 도 1에 나타낸 액적 토출 장치(3)를 이용하여 형성할 수 있다. 이하, 제 1 기판(801)에서의 어드레스 전극(806)의 형성 공정을 예시한다.

이 경우, 제 1 기판(801)을 액적 토출 장치(3)의 세트 테이블(101)에 재치한 상태에서 이하의 공정이 행해진다.

우선, 기능 액적 토출 헤드(72)에 의해, 도전막 배선 형성용 재료를 함유하는 액체 재료(기능액)를 기능 액적로서 어드레스 전극 형성 영역에 착탄시킨다. 이 액체 재료는, 도전막 배선 형성용 재료로서, 금속 등의 도전성 미립자를 분산매에 분산한 것이다. 이 도전성 미립자로서는 금, 은, 동, 팔라듐 또는 니켈 등을 함유하는 금속 미립자나 도전성 폴리마 등이 이용된다.

보충 대상이 되는 전체 어드레스 전극 형성 영역에 대해서 액체 재료의 보충 이 종료되었다면, 토출 후의 액체 재료를 건조 처리하고, 액체 재료로 포함되는 분산매를 증발시킴으로써 어드레스 전극(806)이 형성된다.

그런데, 상기에서는 어드레스 전극(806)의 형성을 예시했지만, 상기 표시 전극(811) 및 형광체(809)에 대해서도 상기 각 공정을 거침으로써 형성할 수 있다.

표시 전극(811) 형성의 경우, 어드레스 전극(806)의 경우와 마찬가지로, 도전막 배선 형성용 재료를 함유하는 액체 재료(기능액)를 기능 액적로서 표시 전극 형성 영역에 착탄시킨다.

그리고, 형광체(809) 형성의 경우에는, 각 색(R, G, B)에 대응하는 형광 재료를 포함한 액체 재료(기능액)를 기능 액적 토출 헤드(72)로부터 액적로서 토출하고, 대응하는 색의 방전실(805) 내에 착탄시킨다.

다음으로, 도 39는, 전자 방출 장치(FED 장치 혹은 SED 장치라고도 함:이하, 단순히 표시 장치(900)로 칭함)의 주요부 단면도이다. 또한, 상기 도면에서는 표시 장치(900)를, 그 일부를 단면으로서 나타낸다.

이 표시 장치(900)는, 서로 대향하여 배치된 제 1 기판(901), 제 2 기판(902) 및 이들 사이에 형성되는 전계 방출 표시부(903)를 포함하여 개략 구성된다. 전계 방출 표시부(903)는, 매트릭스 형상으로 배치한 복수의 전자 방출부(905)으로 구성되어 있다.

제 1 기판(901) 상면에는, 음극 전극(906)을 구성하는 제 1 소자 전극(906a) 및 제 2 소자 전극(906b)이 서로 직교하도록 형성되어 있다. 그리고, 제 1 소자 전극(906a) 및 제 2 소자 전극(906b)에 의해 분리된 부분에는, 갭(908)을 형성한 도전성막(907)이 형성되어 있다. 즉, 제 1 소자 전극(906a), 제 2 소자 전극(906b) 및 도전성막(907)에 의해 복수의 전자 방출부(905)가 구성되어 있다. 도전성막(907)은, 예를 들면 산화 팔라듐(PdO) 등으로 구성되고, 또한 갭(908)은, 도전성막(907)을 성막한 후, 포밍 등에 의해 형성된다.

제 2 기판(902)의 하면에는, 음극 전극(906)에 대치하는 어노드 전극(909)이 형성되어 있다. 어노드 전극(909)의 하면에는, 격자 형상의 뱅크부(911)가 형성되고, 이 뱅크부(911)에 의해 둘러싸인 하향의 각 개구부(912)에, 전자 방출부(905)에 대응하도록 형광체(913)가 배치되어 있다. 형광체(913)는 빨강(R), 초록(G), 파랑(B) 중의 한 색의 형광을 발광하는 것으로서, 각 개구부(912)에는 적색 형광체(913R), 녹색 형광체(913G) 및 청색 형광체(913B)가 상술한 소정 패턴으로 배치되어 있다.

그리고, 이와 같이 구성한 제 1 기판(901)과 제 2 기판(902)은, 미소한 틈새를 두고 접합되어 있다. 이 표시 장치(900)에서는, 도전성 막(갭(908))(907)을 통하여, 음극인 제 1 소자 전극(906a) 또는 제 2 소자 전극(906b)에서 튀어나오는 전자를, 양극인 어노드 전극(909)에 형성한 형광체(913)에 접촉하여 여기 발광하여, 컬러 표시가 가능해진다.

이 경우도, 다른 실시예와 마찬가지로, 제 1 소자 전극(906a), 제 2 소자 전극(906b), 도전성막(907) 및 어노드 전극(909)을, 액적 토출 장치(3)를 이용하여 형성할 수 있는 동시에, 각 색의 형광체(913R, 913G, 913B)를, 액적 토출 장치(3)를 이용하여 형성할 수 있다.

제 1 소자 전극(906a), 제 2 소자 전극(906b) 및 도전성막(907)은 도 40의 (a)에 나타낸 평면 형상을 가지고 있고, 이들을 성막하는 경우에는, 도 40의 (b)에 나타낸 바와 같이 미리 제 1 소자 전극(906a), 제 2 소자 전극(906b) 및 도전성막(907)을 만드는 부분을 남기고, 뱅크부(BB)를 형성(포토리소그래피법)한다. 다음으로 뱅크부(BB)로 구성된 리세스[溝] 부분에, 제 1 소자 전극(906a) 및 제 2 소자 전극(906b)을 형성(액적 토출 장치(3)에 의한 잉크젯법)하고, 그 용제를 건조시켜 성막을 행한 후, 도전성막(907)을 형성(액적 토출 장치(3)에 의한 잉크젯법)한다. 그리고, 도전성막(907)을 성막한 후, 뱅크부(BB)를 제거하고(앗싱 박리 처리), 상기 포밍 처리에 이행한다. 또한, 상기 유기 EL 장치의 경우와 마찬가지로, 제 1 기판(901) 및 제 2 기판(902)에 대한 친액화 처리나, 뱅크부(911, BB)에 대한 발액화 처리를 행하는 것이 바람직하다.

또한, 다른 전기 광학 장치로서는, 금속 배선 형성, 렌즈 형성, 레지스트 형성 및 광 확산체 형성 등의 장치를 생각할 수 있다. 상술한 액적 토출 장치(3)를 각종 전기 광학 장치(디바이스)의 제조에 사용함에 따라, 각종 전기 광학 장치를 효율적으로 제조할 수 있다.

이상 본 발명에 따르면, 교환성 및 메인터넌스성을 손상시키지 않고, 대형 헤드 유닛을 구성할 수 있는 액적 토출 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기가 제공된다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 묘화 시스템의 평면 모식도.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액적 토출 장치의 외관 사시도.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액적 토출 장치의 평면도.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액적 토출 장치의 정면도.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액적 토출 장치의 측면도.

도 6은 헤드 유닛의 설명도로서, 헤드 유닛의 헤드 플레이트 회전을 나타낸 도면.

도 7은 기능 액적 토출 헤드의 외관 사시도.

도 8은 본 실시예의 헤드 플레이트의 설명도로서, (a)는 헤드 플레이트의 외관 사시도, (b)는 헤드 플레이트를 하측에서 본 도면.

도 9는 본 실시예의 헤드 플레이트의 변형예에 대해서 설명한 도면으로서, (a)는 헤드 플레이트의 외관 사시도, (b)는 헤드 플레이트를 하측에서 본 도면.

도 10은 기능액 공급 수단의 설명도로서, (a)는 압력 조정 밸브 회전의 설명도, (b)는 압력 조정 밸브의 단면도.

도 11은 앵글 가대 회전의 외관 사시도.

도 12는 앵글 가대 회전의 배면도.

도 13은 분할 흡인 유닛 회전의 외관 사시도.

도 14는 분할 흡인 유닛 회전의 측면도.

도 15는 와이핑 유닛 회전의 외관 사시도.

도 16은 와이핑 유닛 회전의 측면도.

도 17은 횡 이동 기구의 설명도로서, (a)는 기능 액적 토출 헤드와, 와이핑 후, 및 횡 이동 기구 구동 전의 와이핑 시트와의 위치 관계를 나타낸 도면이며, (b)는 기능 액적 토출 헤드와, 와이핑 후, 또한 횡 이동 기구 구동 후의 와이핑 시트와의 위치 관계를 나타낸 도면.

도 18은 묘화 장치의 주제어계에 대해서 설명한 블록도.

도 19는 정기 메인터넌스에서의 분할 헤드 유닛과, 분할 흡인 유닛과의 위치 관계를 설명한 도면.

도 20은 정기 메인터넌스에서의 본 실시예의 변형예에 대해서 설명한 도면으로서, (a)는 제 1 분할 헤드 유닛의 와이핑시, (b)는, 제 2 분할 헤드 유닛의 와이핑시, (c)는, 제 6 분할 헤드 유닛의 와이핑시에서 분할 흡인 유닛과의 위치 관계를 설명한 도면.

도 21은 헤드 교환에서의 분할 헤드 유닛과, 분할 흡인 유닛의 위치 관계를 설명한 도면.

도 22는 제 5 분할 헤드 유닛의 메인터넌스시에서 분할 흡인 유닛의 위치 관계를 나타낸 도면.

도 23은 컬러 필터 제조 공정을 설명하는 플로차트.

도 24의 (a) 내지 (e)는, 제조 공정순서에 나타낸 컬러 필터의 모식 단면도.

도 25는 본 발명을 적용한 컬러 필터를 이용한 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 주요부 단면도.

도 26은 본 발명을 적용한 컬러 필터를 이용한 제 2 예의 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 주요부 단면도.

도 27은 본 발명을 적용한 컬러 필터를 이용한 제 3 예의 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 주요부 단면도.

도 28은 유기 EL 장치인 표시 장치의 주요부 단면도.

도 29는 유기 EL 장치인 표시 장치의 제조 공정을 설명하는 플로차트.

도 30은 무기물 뱅크층의 형성을 설명하는 공정도.

도 31은 유기물 뱅크층의 형성을 설명하는 공정도.

도 32는 정공 주입/수송층을 형성하는 과정을 설명하는 공정도.

도 33은 정공 주입/수송층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 34는 청색의 발광층을 형성하는 과정을 설명하는 공정도.

도 35는 청색의 발광층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 36은 각 색의 발광층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 37은 음극의 형성을 설명하는 공정도.

도 38은 플라즈마형 표시 장치(PDP 장치)인 표시 장치의 주요부 분해 사시도.

도 39는 전자 방출 장치(FED 장치)인 표시 장치의 주요부 단면도.

도 40은 표시 장치의 전자 방출부 회전의 평면도(a) 및 그 형성 방법을 나타내는 평면도(b).

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

3 액적 토출 장치

5 제어장치

41 헤드 유닛

42 워크 이동 수단

43 헤드 이동 수단

46 메인터넌스 수단

51 묘화 에리어

52 메인터넌스 에리어

71 분할 헤드 유닛

72 기능 액적 토출 헤드

73 헤드 플레이트

75 캐리지

87 노즐면

88 토출 노즐

111 θ 테이블

112 흡착 테이블

121 θ 고정부

122 θ 회전부

131 테이블 본체

133 지지 베이스

201 기능액 탱크

232 흡인 유닛

233 와이핑 유닛

35 유닛 승강 기구

241 플러싱 박스

281 와이핑 시트

283 횡 이동 기구

291 시트 공급 유닛

293 세정액 공급 유닛

W 워크

Claims

묘화 에리어에 면한 워크에 대하여, 기능액을 도입한 기능 액적 토출 헤드를 상대적으로 이동시키면서 워크 위에 기능액을 토출하여 묘화를 행하는 묘화 수단과, 상기 묘화 수단에 병설(倂設)되고 메인터넌스 에리어에 면한 상기 기능 액적 토출 장치 헤드에 대하여 메인터넌스를 행하는 메인터넌스 수단을 구비한 액적 토출 장치에 있어서,

상기 묘화 수단은 워크를 탑재하는 동시에 워크를 주(主)주사 방향이 되는 X축 방향으로 이동시키는 X축 테이블과,

상기 기능 액적 토출 헤드를 캐리지에 탑재한 복수의 캐리지 유닛과,

상기 복수의 캐리지 유닛을 상기 묘화 에리어와 상기 메인터넌스 에리어 사이에서 이동시키는 Y축 테이블을 구비하며,

상기 Y축 테이블은 상기 복수의 캐리지 유닛을 개별적으로 이동 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 복수의 캐리지 유닛에 탑재되어 있는 복수의 상기 기능 액적 토출 헤드의 전체 토출 노즐에 의해, 상기 묘화 에리어의 묘화 폭에 대응하는 하나의 묘화 라인이 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 Y축 테이블의 구동원이 리니어 모터로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 각 캐리지 유닛은 상기 Y축 테이블의 슬라이더에 지지된 캐리지와,

상기 캐리지에 탈착 가능하게 유지되고, 상기 기능 액적 토출 헤드 및 이를 탑재한 헤드 플레이트로 이루어지는 헤드 유닛을 가지며,

상기 메인터넌스 에리어는 상기 캐리지에 대하여 상기 헤드 유닛을 탈착하는 교환 에리어를 겸하고 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 4 항에 있어서,

상기 각 헤드 플레이트에는 복수개의 상기 기능 액적 토출 헤드가 탑재되어 있으며,

상기 복수개의 기능 액적 토출 헤드는 그 전체 토출 노즐이 상기 묘화 라인의 일부가 되는 부분 묘화 라인을 구성하도록 소정의 배치 패턴으로 배치되어 있고,

상기 배치 패턴은 X축 방향 및 Y축 방향으로 각각 위치가 어긋난 계단 형상이며, 또한 단일열로 배치한 액적 토출 헤드 그룹으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 4 항에 있어서,

상기 각 헤드 플레이트에는 복수개의 상기 기능 액적 토출 헤드가 탑재되어 있고,

상기 복수개의 기능 액적 토출 헤드는 그 전체 토출 노즐이 상기 묘화 라인의 일부가 되는 부분 묘화 라인을 구성하도록 소정의 배치 패턴으로 배치되어 있고,

상기 배치 패턴은 X축 방향 및 Y축 방향으로 각각 위치가 어긋난 계단 형상이며, 또한 Y축 방향으로 복수열로 배치한 액적 토출 헤드 그룹으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 각 캐리지 유닛에는 상기 기능 액적 토출 헤드에 기능액을 공급하는 기능액 탱크가 각각 탑재되어 있는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 메인터넌스 수단은 상기 기능 액적 토출 헤드의 각 토출 노즐로부터 기능액을 흡인하는 흡인 유닛과,

흡인 후의 상기 기능 액적 토출 헤드의 노즐면을 와이핑 시트에 의해 불식(拂拭)하는 와이핑 유닛을 가지는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 기재된 액적 토출 장치를 이용하여 상기 워크 위에 기능 액적에 의한 성막부(成膜部)를 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
제 1 항에 기재된 액적 토출 장치를 이용하여 상기 워크 위에 기능 액적에 의한 성막부를 형성한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 9 항에 기재된 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조한 전기 광학 장치 또는 제 10 항에 기재된 전기 광학 장치를 탑재한 것을 특징으로 하는 전자 기기.