TWI237581B - Band-coating equipment with a vacuum chamber and a coating roller - Google Patents

Description

1237581 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種具有真空室之帶狀塗層用之設備，其在 一後壁和至少一可取下之密封板之間具有一包含平面外蓋 之框架，其中在真空室中配置至少一滑動滾筒和一塗層滾 筒（其具有一軸）和至少一塗層源。 箔（金屬或塑料），紙及/或複合材料適合用作導帶或基 板。蒸發益’灑鑛陰極（具有或未具有磁場強度），氣體源 等等適合用作塗層源，其中藉由供應中性氣體，鈍性氣體 及/或反應性氣體而可由多個層產生金屬層及/或氧化層和 層封包。傳統之方法包含：PVD (Physical vapor deposition) 方法，PCVD (Physical chemical vapor deposition)方法。導 帶之預處理和各層藉由已知之反應之再處理都是可能的。 各種產品在本說明書中有討論，但未詳細顯示出。 【先前技術】 由US 469223 3 A中已知一種導帶塗層設備，其中在該真 空室之圓柱形框架之二側配置多個具有密封壁之車架，其 中一個車架在軸承運彳了時承載一種捲繞系統，該捲繞系統 具有該待塗層（或已塗層）之導帶用之中央滾筒，下捲滾筒 和上捲滾筒且另具有無折疊式導帶導引用之多個滑動辕 筒。另一車架同樣在軸承運行時承載一種具有3個塗層源 之塗層系統。在水平之中央軸下方（其中存在著該塗層滚 筒之軸）存在著三個扇形之子室。於是可在該塗層滾筒之 周圍形成4個子室，其中每一個子室·連接至特定之真空 1237581 栗。在與該設備一起運行時，該捲繞系統由一側進入且該 塗層系統由相面對之另一側進入。 就上述之設備形式而言，基本上適用於下述情況··其必 須藉由相對應之導引件（例如，軌道）使各部份不只不會相 接觸，而且亦可準確地佔有預定之位置。因此，各子室之 間之隔離壁會造成一種問題，其一方面使各子室之間有良 好之密封作用，但其另一方面不可接觸該導帶。在US 469223 3A中吾人對此問題之解法是以三個部份由內向外 形成各隔離壁，使內部之部份固定在可運行之捲繞架上， 使外部之部份與真空室之框架相焊接且在內、外部份之間 配置彈性之滑動密封件。但相對於該塗層滾筒末端之密封 因此最不完美。真空室二側之空間需求由於各構件之運行 移動性而較該構造高度超過很多，這是因爲該下捲滾筒和 上捲滾筒位於該塗層滾筒之上方之故。此種設備之一般之 構造高度是在3.5 m至4 m(米）之間。因此’由於上部之 室中許多可移動之部份所造成之微粒之整個碎屑對塗層品 質而言是一種第一範圍之危險源。 由DE 4207525 C2中已知一種類似之設備，其中使塗層 系統固定在一種真空室中且以可運行之方式形成該捲繞系 統，即，該捲繞系統之一端懸掛在該真空室之外軌上且另 一端支撐在軌道車輛上。真空室中之外軌亦成爲所不期望 之碎屑之來源且構造高度上之問題是與先前者相同。 又，由 Langlois 之論文”Engineering Solutions Enabling a New Family of Expandable Multi-Process, Multi-Chamber 1237581

Vacuum Roll Coaters”，published 1999 by the Society of Vacuum Coaters, ISSN 0737- 5 92 1，Page 47 5 to 47 9 中已知 一種相反之解決方法，其中該捲繞系統固定地保持在一不 可移動之真空室中且以可運行之方式形成各塗層系統以易 於管理和淨化。爲了防止該捲繞系統之滾筒軸承發生運行 現象，則該軸承位置須定位在一支撐體之未端中，該支撐 體具有”Y”之形式，其在塗層滾筒之區域中具有圓形之凸 出部。該支撐體在其下端經由一種角件利用該真空室之底 部來栓緊且因此可封住一重要之部位以便安裝一種中央塗 層源。類似之情況適用於另一相面對之支撐體，其中當然 只有右方之栓鎖足部可被看見。由具有吊車橋件用之該運 行軌所顯示之全貌亦可得知：整個構造高度可輕易地超過 3.5至4 m之範圍。 DE 1 0 1 57 1 86cl揭示一種帶狀塗層設備，其具有一種中 央室，中央室中存在著一種具有二個塗層滾筒之程序滾筒 椅，其支撐在二個內壁上之橫樑上，但各橫樑只使該支撐 負載由下方傳送至底部，此乃因各內壁在其上部未端之區 域中具有該導帶材料用之稱爲”帶狀閥”之出口間隙。該出 口間隙幾乎佔據該設備之整個寬度，使該外蓋不適合作爲 該程序滾筒椅用之載體。該文件未提及其可移動性和整個 構造局度。 【發明內容】 本發明之目的是提供一種上述形式之具有多個室之帶狀 塗層設備，其具有儘可能小之構造高度，在導帶寬度已給 1237581 疋時亦具有一種儘可能小之寬度，其中該導帶運行路徑在 敞開狀態時（即’在該塗層源運行出來時）可良好地看淸楚 且可受到控制’該塗層滚筒上方存在一種數目儘可能少之 可移動之造成微粒之部件，其可良好地輸送且可用在尺寸 有限之無塵室中。最後，各室之間可互相達成一種儘可能 有效之鋪襯’其中此種流動所需之支路藉由該塗層滾筒之 正側而儘可能寬廣地被斷開。 微粒自由度特別是對以下之應用而言是必要的： a) 車人丨生電路板（FPCB，s，flexible printed circuit board) 之銅面：導電軌（其在塗層之後被蝕刻而成）之寬度 在積體密度增加時通常較小。因此，唯一之塵粒可 使導電軌中斷。 b) 軟性（flexible)IC’s :此期間有多種可在箔上產生印 刷電路之方法’其例如可直接用來在箔上配置螢幕 均墨輥，除了軟性之箔顯示件以外。該模組（其例如 由電晶體構成）之空間範圍亦較小，且對該製程之微 粒自由度之需求仍屬必要。 c) 顯示器（AR, ARAS)用之去反射層：在已去反射之顯 示器上在塗層期間由塵粒所造成之已蓋住-且因此未 去反射之區域具有很大之干擾性，例如，其會在螢 幕上其它較暗之區域上造成較小-且較亮之斑點。 依據本發明，在本文開頭所述之帶狀塗層用之設備中上 述目的以下述方式達成：至少一滑動滾筒和一塗層滾筒之 面向該密封板之末端經由具備軸承之承載元件而固定至外 1237581 蓋上且真空室中位於塗層滾筒下方之空間未設置該承載元 件。 於是上述目的能在整個範圍中達成。特別是在一種給定 之導帶寬度和導帶長度時可達成一種儘可能小之構造高度 且因此亦具有儘可能小之構造寬度。在敞開狀態中（即， 在塗層源已運行出來時）該導帶運行路徑可淸楚地被看到 且可被控制。該塗層滾筒上方存在著數目儘可能少之可移 動之造成微粒之部件。該設備可良好地輸送且亦可用在尺 寸有限之無塵室中。最後，各室之間可互相達成一種有效 之鋪襯，其中此種流動所需之支路藉由該塗層滾筒之正側 而儘可能寬廣地被斷開。 在以下各別條件下或各條件相組合時，則本發明之形式 特別有利： *至少一滑動滾筒和該塗層滾筒以其遠離該密封板之末 端定位在後壁上， *至少一滑動滾筒和該塗層滾筒以其遠離該密封板之末 端定位在後壁前之承載元件上且固定在該外蓋上， *該塗層滾筒之下方-和側面之空間藉由隔離壁而劃分 成至少二個子（part)室且當該隔離壁在其面向該塗層滾筒 之末端上具有密封元件時，則其彎曲度須依據該塗層滾筒 之半徑來調整，使各密封元件和該塗層滾筒之間形成弧形 之密封間隙， *各密封元件經由一設定機構而分別與所屬之隔離壁相 連接，使該密封間隙在徑向中可調整至儘可能小之値， -10- 1237581 *真空室內部中在塗層滾筒之周圍由各隔離壁形成至少 4個子室， *最上方之二個子室相對於該軸向下形成一種介於1 2 0 和1800之間之角度， *該框架之位於最上方之二個隔離壁下方之部分周邊以 一部分是圓柱形之形式來形成， *在位於最上方之二個隔離壁上方之子室中配置總共4 個滑動滾筒， *各隔離壁在其遠離後壁之末端上具有徑向延伸之密封 條’該密封板可針對各密封條而引導至該設備， *各密封條具有平行於其徑向之中線而延伸之彈性密封 邊緣，該密封板在真空室關閉時可針對各密封條而引導至 該設備， *該塗層滾筒具有一種面向該密封板之正側，該正側前 配置一種位置固定之環形區，其在一部份周圍上抓握在該 塗層滾筒用之承載元件之下端周圍。 *該塗層滾筒在各子室內部中在其末端上由條形之圓柱 共軸彎曲之遮蔽件所圍繞，各遮蔽件以狹窄之間隙抓握在 上述末端之周圍且該塗層滾筒針對一種塗層而遮蔽其未由 該導帶所覆蓋之表面部份。 *前側之遮蔽件具有一種彈性之密封邊緣，該密封板在 真空室關閉時可針對該密封邊緣而引導至該設備， *該環形區在周圍上延伸直至其位於前側之遮蔽件內部 中之末端邊緣， -11 - 1237581 *該設備之總高度由該設定面開始最大是2.5 Μ (米）， *該真空室在該塗層滾筒之二側分別具有一種側室，其 中分別配置一種用於下捲滾筒或上捲滾筒之捲線心軸且配 置所屬之用於該導帶之滑動滾筒。 *各側室形成真空室且經由該導帶之出口用之縫隙形式 之間隙而與該真空室之子室相連接， *該真空室之全部之子室和各側室分別連接至一狹窄之 真空泵，及/或當 *各側室之上側至少是與該真空室之外蓋處於相同之高 度時。 【實施方式】 本發明之各實施例和其作用方式及優點以下將依據第1 至5圖來詳述。 第1圖中顯示一種真空室1，其整體上是一種塗層室且 劃分成4個子室2，3，4和5。各子室2，3，4和5藉由 各隔離壁6而形成鋪襯以排除狹窄之弧形之間隙，其中此 處只可看到二個子室。軸A方向中之徑向之外形對應於破 折線所示者。各隔離壁6之徑向內端設有弧形之密封元件 7，其藉由該設定機構8可針對該塗層滾筒9而調整至一 種儘可能狹窄之間隙寬度。 最上方之子室2具有一平坦之外蓋10，其可另外藉由條 片11來強化。在該子室2中大約在該塗層滾筒9之上半 部之外存在4個滑動滾筒12，13，14和15，其與該塗層 滾筒9 一起決定該導帶運行路徑，這顯示在第4，5圖中。 -12- 1237581 各滑動滾筒1 2，1 3，1 4和1 5之前端定位在牢固之承載 件1 6和1 7中，各承載元件固定地與該外蓋丨〇相連（例如 以栓鎖方式來達成）。各滑動滾筒12，1 3，14和15之 端藉由相對應之軸承而直接定位在後壁1 8中，該後壁 向後封閉該真空室1。該軸承只在參考該滑動滾筒1 2和 時才可被看見。此種連接能以可拆卸之方式來形成，但 該導帶更換，維修和檢查時該後壁不必去除。 以類似之方式，該塗層滾筒9之軸A之前端定位在一 穩定之承載元件1 9中，其同樣與該外蓋1 〇固定地相連 (例如，以栓鎖方式來達成）。該塗層滾筒9之此處不可 見之後軸承亦定位在後壁1 8中。因此，在儘可能小之 造深度中可產生特別穩定之軸承和正確之導帶導引作用 其亦在密封元件7之狹窄之間隙中達成。但主要是該塗 滾筒9之下部周個除了所需之隔離壁6和其密封元件之 完全不具備阻礙性之支撐元件而被固定著。 真空室1由框架20所圍繞，外蓋1〇亦屬於該框架20 在該框架上一種密封凸緣2 1焊接至平行於後壁1 8之前 上，該密封凸緣2 1之多角形之周圍線段對應於該密封 22者（請參閱第2圖）。粗略來看，該框架20之下半部 圓柱形的且以與該軸A同心之方式而形成。於是各子室3 4和5及其隔離壁6可達成體積儘可能小之環形區之形 且具有儘可能大之強度（相對於上述之導帶寬度而言）。 爲了進一步改良各子室2，3，4和5之間之密封作用 則須在隔離壁6上設定各密封條2 3，其在該真空室1 元 ， 後 18 15 在 種 接 看 構 層 外 側 板 是 式 關 1237581 閉時藉由該密封板20上相對應而形成之縱向邊緣（其具有 未顯示之彈性之密封邊緣）而來到該設備。爲了使由該塗 層滾筒9之此處可看見之正側所造成之所謂電流短路現象 保持儘可能小，則可在該正側前配置一種第4，5圖中所 示之具有相對應之圓周角之環形區47。此處只以虛線來 表示該環形區47之二個位於上部之末端邊緣47a。 爲了固定該環形區47，則可在正側前配置多個角件24， 其平行於該軸而直立之未端承載著螺紋。相對應之已開孔 之環形區47能以此種方式固定在該承載元件1 9和該密封 條23之末端之間。只要該環形區設有冷卻通道，則各角 件24即能以冷水線構成且連接至相對應之未顯示之導線 上。爲了使該塗層滾筒9之未由該待塗層之導帶所覆蓋之 正側邊緣針對該塗層過程而受到保護，則各邊緣之前和之 後都須由遮蔽件52來保護，各遮蔽件在各末端邊緣47a 之間延伸至超過18(^之圓周角。在前方之遮蔽件52內部 中亦存在上述之環形區47。有一密封板22亦定位在該前 方之遮蔽件5 2上和該處可能存在之密封邊緣上，使該位 置上在各子室3，4和5之大氣之間亦不會發生電流短路 現象或使該現象減小。 在真空室1之上部區中，在該框架20之平坦之區段上 設定二個側室25，26，其在此種情況下形成閘室。前方 之密封壁爲了淸楚之故而省略。各側室25，26(其平坦之 外蓋大約與該外蓋10處於相同之高度）設有此處未顯示之 下捲-和上捲滾筒（其具有導帶）用之二個末端定位在中央之 !237581 捲線心軸27，28且設有導帶用之其它滑動滾筒29，30，31 和3 2。出入該真空室1之導帶出口藉由狹縫形式之間隙 33，34來達成。導帶運行路徑顯示在第4，5圖中。真空 室1之全部之子室2，3，4，5和各側室25，26都設有狹 窄之真空泵35，使得在每一子室中都可調整出一種對該 塗層是特定之大氣。整個配置涉及一種4腳之支架36。 門37，38用來推入或取出該下捲-和上捲滾筒。滑動滾筒 之至少一部份可以習知之薄板軋輥形式來構成，以防止該 運行之導帶中形成一種皺紋。 第2圖是一種密封壁2之透視圖，其已安裝之塗層系統 39由三個塗層源39a，39b，39c所構成，其中一個以較第1 圖還高之視角來顯示。各塗層源由各支件開始，各支件安 裝在所需之氣體-及/或電流供應器用之三個連接箱40中。 該密封壁由二個圓柱4 1所承·載，各圓柱固定在車架42上。 該車架可沿著進入底部中之軌道43而運行。各塗層源和 $九道在與該密封壁22垂直之方向中延伸且因此在該空間 之方向中對準，使各塗層源39a, 39b，39c正確地且與該軸 平行地運行至該真空室1之子室3，4，5中之一個位置中， &頌示在第4，5圖中。 以下之各圖中，若需要時目前所述之各部份可使用相同 之參考符號。 第3圖顯示第1，2圖中互相駛開之設備之垂直切面圖 之 部份，其顯示二個操作人員。左方顯不該真空室1， 當然除了該處之第一滑動滾筒1 2和其軸承之外其它全部 -15- 1237581 之構件均未顯示。可辨認的是：開口側上之該滑動滾筒i 2 藉由該承載元件16而固定至該外蓋1〇且藉由軸承16a而 定位在後壁18上。右方只顯示該密封板22和中央之塗層 源3 9b及二個車架42中之一個。可辨認的是：整個高度 幾乎不會較一個成人還高，此種構造形式對無塵室中之安 裝而言特別適合。但在無空間上之限制時可使用較大之構 造。 第4圖是已敞開之真空室丨之已大大地簡化之前視圖， 其包含一個塗層室和二個側室25，26且以下述方式顯示 該連續之外蓋10和該導帶運行軌道：該導帶45由下捲滾 筒44 (其起始直徑以虛線來表示）經由滑動滾筒29, 30和12 而延伸至該塗層滾筒9且由該處經由各塗層源39a, 39b， 39c而導引至該滑動滾筒13且由該處轉向至滑動滾筒14, 1 5，3 1和32且最後由上捲滾筒46所容納。此處所顯示的 是：第1圖所示之環形區47位於該塗層滾筒9之正側-或 前側之前，該環形區47圍繞該軸A且在一部份圓周上圍 繞該承載元件1 9之下端。 在相類似之第5圖所示之實施例中，對應於第1圖之各 側室25，26在相同之導帶運行路徑中相對於該塗層室而 形成閘室，這是藉由各隔離壁50，51之配置來達成，其 中配置如第1圖所示之狹縫形式之間隙33，34以使該導 帶45通過。 【圖式簡單說明】 第1圖 藉由該密封壁之駛出使該塗層系統移出之後一已 -16- 1237581 敞開之真空設備之透視圖，其具有一塗層室和二 個閘室，但圖中未顯示該導帶運行路徑。 第2圖 由較高之視角觀看時，一種密封壁之透視圖，其 具有由三個塗層源所構成之塗層系統。 第3圖 依據第1，2圖以二個操作人員來分開運行之設 備之垂直視圖之一部份。 第4圖 已敞開之真空設備之已大大地簡化之前視圖，其 具有容納各導帶用之下捲-或上捲滾筒所需之一 塗層室和側室且顯示導帶運行路徑，但未顯示該 密封壁。 第5圖 類似於第4圖之前視圖，但不同處是：各側室相 對於該塗層室而構成各閘室。 主要元件之符號表： 1 真空室 2，3，4，5 子室 6 隔離壁 7 密封元件 8 設定機構 9 塗層滾筒 10 外蓋 11 條片 12 ， 13 ， 14 ， 15 滑動滾筒 16 承載元件 16a 軸承 -17- 1237581 17 承載元件 18 後壁 19 承載元件 20 框架 21 密封凸緣 22 密封板 23 密封條 24 角件 25，26 側室 27，28 捲線心軸 29 〜32 滑動滾筒 33，34 間隙 35 真空泵 36 支架 37，38 門 39 塗層系統 39a，39b，39c 塗層源 40 連接箱 41 圓柱 42 車架 43 軌道 44 下捲滾筒 45 導帶 46 上捲滾筒 -18- 1237581 47 環形區 4 7a 末端邊緣 50，51 隔離壁 52 遮蔽件 A 軸 > 19-

Claims (1)

1. 蓴利範圍： 第93 1 07477號「具有真空室及塗層滾筒之帶狀塗層用之 設備」專利案 （94年4月修正） 1. 一種具有真空室（1)之帶狀塗層用之設備’其在一後壁（丨8) 和至少一可取下之密封板（22)之間具有一種包含一平坦 外蓋（10)之框架（20)，該真空室（1)中配置至少一滑動滾 筒（12，13，14，15)和一塗層滾筒（9)(其包含一軸（Α))以 及至少一塗層源（39a，39b，39c)，其特徵是：至少一滑動 滾筒（12，13，14，15)-和該塗層滾筒（9)之面向該密封板 (2 2)之末端經由各承載元件（1 6，1 7和1 9)利用軸承而固 定在該外蓋（10)上且該塗層滾筒（9)下方之真空室（1)中之 空間未具備該承載元件而固定著。 2. 如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備，其中至少 一滑動滾筒（12，13，14，15)和該塗層滾筒（9)以其遠離 該密封板（22)之末端而定位在該後壁（18)上。 3. 如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備，其中至少 一滑動滾筒（12，13，14，15)和該塗層滾筒（9)以其遠離 該密封板（22)之末端而定位在該後壁（18)前之承載元件 上且固定在該外蓋（10)上。 4 ·如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備，其中該塗 層滾筒（9)下方和側面之空間藉由隔離壁（6)而劃分成至 少二個子室（3，4，5)且該隔離壁（6)在其面向該塗層滾 筒（9)之末端具有密封元件（7)，其彎曲度須依據該塗層 滾筒（9)之半徑來調整，使各密封元件（7)和該塗層滾筒（9) I寥7581 : Γ θ' : 之間形成弧形之密封間隙。 5 ·如申請專利範圍第4項之帶狀塗層用之設備’其中各密 封元件（7)經由設定機構（8)而與各別所屬之隔離壁（6)相 連接，使各密封間隙在徑向中可調整至儘可能小之値。 6·如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備’其中在真 空室（1)內部中在該塗層滾筒（9)之周圍藉由隔離壁（6)而 形成至少4個子室（2，3，4，5)。 7 ·如申請專利範圍第4至6項中任一項之帶狀塗層用之設 備，其中該二個最上方之隔離壁（6)相對於該軸（Α)而向 下形成一種介於120和180G之間之角度。 8 ·如申請專利範圍第7項之帶狀塗層用之設備，其中該框 架（2 0)之位於該二個最上方之隔離壁（6)下方之周圍之一 部份是以部份圓柱之形式而形成。 9 ·如申請專利範圍第8項之帶狀塗層用之設備，其中位於 該二個最上方之隔離壁（6)之上方之子室（2)中配置總共4 個滑動滾筒（12，13，14，15)。 1 0 ·如申請專利範圍第4至6項中任一項之帶狀塗層用之設 備，其中各隔離壁（6)在其遠離該後壁（18)之末端上具有 徑向延伸之密封條（23)，該密封板（22)可針對各密封條 而被導引至該設備。 1 1 ·如申請專利範圍第1 〇項之帶狀塗層用之設備，其中各密 封條（2 3)具有平行於其徑向之中線而延伸之彈性之密封 邊緣，在該真空室（1)關閉時該密封板（22)可針對各密封 邊緣而被導引至該設備。 !1237#84 1 2 .如申請專利範圍第1 1項之帶狀塗層用之設備’其中該塗 層滾筒（9)具有一種面向該密封板（22)之正側’該正側前 配置一種位置固定之環形區（47)，該環形區抓握該部份 周長上之塗層滾筒（9)用之承載元件（19)之下端。 1 3 .如申請專利範圍第4至6項中任一項之帶狀塗層用之設 備，其中該塗層滾筒（9)在各子室（3，4，5)內部中在其 末端上由條形之圓柱共軸之彎曲遮蔽件（5 2)所圍繞’各 遮蔽件利用狹窄之間隙抓握在上述之末端上且該塗層滾 筒（9)針對該塗層而屏蔽其未由導帶（45)所覆蓋之表面部 份。 1 4.如申請專利範圍第1 3項之帶狀塗層用之設備，其中該前 方之遮蔽件（5 2)具有一彈性之密封邊緣，在該真空室（1) 關閉時該密封板（22)可針對各密封邊緣而被導引至該設 備。 1 5.如申請專利範圍第1 3項之帶狀塗層用之設備’其中環形 區（47)在周圍延伸至其在前方之遮蔽件（52)內部中之末 端邊緣（47a)爲止。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項之帶狀塗層用之設備’其中該 環形區（47)在周圍延伸至其在前方之遮蔽件（52)內部中 之末端邊緣（47a)爲止。 丄7 .如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備，其中該設 備之總高度由該設定面開始最大是2.5 Μ(米）° 1 8 .如申請專利範圍第1項之帶狀塗層用之設備’其中該真 空室（1)在該塗層滾筒（9)之二側分別具有一種側室（25 ’ _7謝 26)，其中分別配置下捲滾筒（44)和上捲滾筒（46)用之捲 線心軸（27或28)以及配置導帶（45)用之所屬之滑動滾筒 (29 ， 30 或 31 ， 32) ° 1 9.如申請專利範圍第1 8項之帶狀塗層用之設備，其中各側 室（25，26)以真空室構成且經由該導帶（45)之出口用之 狹縫形式之間隙（33，34)而與該真空室（1)之子室（2)相 連。 2〇.如申請專利範圍第18項之帶狀塗層用之設備，其中該真 空室（1)之全部之子室（2，3，4，5)和各側室（25，26)分 別連接至一狹窄之真空泵（35)中。 2 1.如申請專利範圍第1 8項之帶狀塗層用之設備，其中各側 室（25，26)之上側至少位於一與該真空室（1)之外蓋（10) 相同之高度處。 2 2.如申請專利範圍第19項之帶狀塗層用之設備，其中各側 室（25，26)之上側至少位於一與該真空室（1)之外蓋（10) 相同之高度處。 23.如申請專利範圍第20項之帶狀塗層用之設備，其中各側 室（25，26)之上側至少位於一與該真空室（1)之外蓋（10) 相同之高度處。