JP2005220434A - 真空室及び被覆ローラを備えた帯材被覆装置 - Google Patents

Abstract

【課題】真空室１を備えた帯材被覆装置であって、真空室が背壁１８と取り外し可能な少なくとも１つの閉鎖プレート２２との間に胴板２０及び平らなカバー１０を有しており、真空室内に少なくとも１つの案内ローラ１２，１３，１４，１５、１つの被覆ローラ９及び少なくとも１つの被覆源３９ａ，３９ｂ，３９ｃを配置してある形式のものにおいて、構成高さ及び構成幅を縮小し、かつ帯材走行経路を見易くかつコントロールし易くすると共に、被覆ローラの領域での粒子発生を避ける。
【解決手段】案内ローラ及び被覆ローラの、閉鎖プレートに向いた側の端部が、支持部材１６，１７，１９及び該支持部材に備えられた軸受を介してカバーに保持されており、真空室内の空間が被覆ローラの下側で支持部材によって制約されないようになっている。
【選択図】図１

Description

本発明は、真空室を備えた帯材被覆装置であって、真空室が背壁と取り外し可能な少なくとも１つの閉鎖プレートとの間に胴板及び平らなカバーを有しており、真空室内に少なくとも１つの案内ローラ、１つの被覆ローラ及び少なくとも１つの被覆源を配置してある形式のものに関する。

帯材（帯状材料）若しくは基板又はサブストレートとしては一例として、金属、プラスチック、紙及び／又は複合材料から成るシート、フォイル(foil)、フィルム或いはテープが用いられる。被覆源としては一例として例えば、蒸気発生器、磁場を発生させる噴霧陰極、或いはガス源等が用いられて、中性、不活性及び／又は反応性のガスの供給によって金属質及び／又は酸化物の単一層若しくは多重層が形成される。従来の方法としては、PVD・法(physical vapour deposition)やPCVD・法(physical-chemical vapour deposition)がある。公知の反応処理法による帯材の前処理及び層の後処理も可能である。

米国特許第４６９２２３３Ａ号明細書により公知の帯材被覆装置においては、真空室のシリンダー状の胴板（ボディー・ブランク）の両側に走行フレームを配置してあり、走行フレームに閉鎖壁を備えてある。一方の走行フレームは中央の１つの被覆ローラ、被覆すべき若しくは被覆された帯材の繰り出しロール及び巻き取りロールのための巻体軸ピン、並びに帯材のしわ発生のない案内のための複数の案内ローラから成る巻体装置を片持ち式に支承して支持している。他方の走行フレームは３つの被覆源（被覆ソース）から成る被覆装置を同じく片持ち式に支承して支持している。被覆室内で帯材を案内する被覆ローラの軸線によって規定された水平な中央平面の下側に、セクタ状の３つの部分室が配置されている。このようにして被覆ローラの周囲に４つの部分室を形成してあり、各部分室はそれぞれ固有の真空ポンプに接続されている。該装置の閉鎖に際しては、巻体装置と被覆装置とが互いに相対する側から互いに接近する方向に移動させられる。

前述のタイプの装置においては適切な案内部、例えばレールによって、構成部分に接触しないようにするだけではなく、正確に規定された位置を占めるように注意深い作業が行われなければならない。この場合には部分室間の仕切壁にとって、一面では部分室間の相互の良好なシール作用を生ぜしめかつ、他面では帯材に接触しないようにしなければならないという問題がある。この問題のために、米国特許第４６９２２３３Ａ号明細書により公知の帯材被覆装置においては、仕切壁を内側から外側へ三部構造で形成してあり、即ち内側に部分が走行可能な巻体フレームに取り付けられており、外側の部分が真空室の胴板に溶接結合されており、該両方の部分間にエラストマ状のスライドシールが配置されている。このような手段によっても、被覆ローラの端部に対するシールは極めて不充分である。この場合には、真空室の両側の所要スペースは構成部分を走行運動させるために著しく大きい。さらに、構成高さも著しく高く、それというのは繰り出しロール及び巻き取りロールを被覆ローラの上側に配置してあるからである。このような装置の通常の構成高さはほぼ３．５乃至４メートルである。さらに、上側の室内の多くの移動構成部分若しくは回転構成部分の摩耗粒子は、被覆層品質にとって最も危険な要因である。

ドイツ連邦共和国特許出願公告第４２０７５２５Ｃ２号明細書により公知の装置では、被覆機構は真空室内に位置不動に、即ち定位置に配置されており、巻体機構、即ち繰り出し及び巻き取り機構は、一方の端部を真空室の天井レールに懸架し、かつ他方の端部をレール走行台車に支えることによって走行移動可能に形成されている。この場合にも、天井レールは不都合な摩耗の原因になり、かつ構成高さも同様に問題である。

Langlois 氏の論文「Engineering Solutions Enabling a New Family of Expandable Multi-Process, Multi-Chamber Vacuum Roll Coaters」発表１９９９年、von der Society of Vacuum Coaters, ISSN 0737-5921, 475〜479ページ、により公知の逆の手段では、巻体機構を真空室内に位置不動に配置して、被覆機構を整備並びに清掃の目的で走行移動可能に形成してある。巻体機構のローラの片持ち式の支承を避けるために、ローラの一方の端部は支持部材によって支承されており、支持部材はＹ字形の形で被覆ローラの領域で外側へ強く膨らむように湾曲されている。支持部材は下側の端部でアングル片を介して真空室の床にねじ結合されていて、中央の被覆源の取り付け箇所をふさいでいる。クレーンブリッジ用のレールを含む全体図から明らかなように、この場合も全構成高さは３．５乃至４メートルである。

ドイツ連邦共和国特許出願公告第１０１５７１８６Ｃ１号明細書により公知の帯材被覆装置は、中央に１つの室を有しており、該室内に１つの処置ローラ支持台及び２つの被覆ローラを配置してある。支持台は桁材を介して２つの内壁に支えられており、内壁は支持荷重を床に伝達するようになっている。内壁は上側の端部の領域に帯状材料のための、帯材バルブと呼ばれる通過間隙を有している。通過間隙は装置のほぼ全幅にわたって延びており、従ってカバーは処置ローラ支持台のための支持体として用いられ得ない。該明細書では処置ローラ支持台の走行移動並びに全構成高さについては触れられていない。
米国特許第４６９２２３３Ａ号明細書 ドイツ連邦共和国特許出願公告第４２０７５２５Ｃ２号明細書 ドイツ連邦共和国特許出願公告第１０１５７１８６Ｃ１号明細書

本発明の課題は、冒頭に述べた形式の帯材被覆装置を改善して、帯材被覆装置ができるだけ低い高さ、並びに処理すべき帯材の幅に依存してできるだけ狭い幅を有しており、帯材被覆装置内の帯材走行経路が帯材被覆装置の開かれた状態で、即ち被覆源を走出移動させて取り出した状態で良好に目視してコントロール可能であり、被覆ローラの上側には、粒子発生の原因となる運動可能な構成部分はできるだけ少ない数しか配置せず、帯材被覆装置が搬送し易く、かつ寸法の制限されたクリーンルームでも使用できるようにすることである。さらに、個別の室（部分室）の相互間のできるだけ有効な遮断を達成して、被覆ローラの端面に沿った流れをできるだけ排除することである。

粒子排除は、特に次のような使用にとって不可欠である。即ち、
ａ）FPCB(“ flexible printed circuit boards”)のための銅表面：被覆の後にエッチング加工される導体路（パターン）の幅は、集積密度の増大に伴って次第に小さくなっている。これによって、１つのちり粒子でも１つの導体路を中断させてしまうことになる。
ｂ）フレキシブルなIC：プリント回路を基板若しくはシート上に形成する方法は、例えば映像駆動部をフレキシブルなシート型ディスプレーのほかに直接に基板に配置するために用いられる。この場合に構成要素、例えばトランジスターの三次元の寸法はさらに小さくなっており、製造プロセス中の粒子排除に対する要求はさらに高まっている。
ｃ）ディスプレー(AR, ARAS)のための反射防止層：反射防止処理されたディスプレーにおいては、被覆中に１つのちり粒子によって被われて反射防止処理されない領域は、極めて不都合に、例えば暗い画面中の明るい小さな斑点として作用することになる。

前記課題を解決するために本発明の構成では、冒頭に述べた形式の帯材被覆装置において、少なくとも１つの案内ローラ及び１つの被覆ローラの、閉鎖プレートに向いた側の端部が、支持部材及び該支持部材内に設けられた軸受を介してカバーに保持され、即ち取り付けられており、真空室内の空間若しくはスペースが被覆ローラの下側で支持部材によって制約されないようになっている、即ち支持部材によってふさがれないないようになっている。

前記構成によって、前記課題が完全に解決される。特に、処理すべき帯材の所定の幅及び長さに対応して、構成高さをできるだけ低くしかつ構成幅をできるだけ狭くすることができる。帯材走行経路は、装置の開かれた状態で、即ち被覆源を外側へ走行移動させた状態で視認でき、即ちのぞき見ることができかつ点検並びに整備することができる。被覆ローラの上側には、運動して粒子発生の原因になる構成部分はできるだけ少ない数しか設けられていない。本発明に基づく帯材被覆装置は搬送し易く、かつ寸法の制限されたクリーンルームでも使用できる。さらに、個別の室の相互間のできるだけ有効な遮断（密閉）も達成され、これによって被覆ローラの端面に沿った流れがほぼ排除される。即ち、被覆ローラの端面に沿った流れを生ぜしめてしまうような脇道が十分に防止される。

本発明のさらなる改善のために、次のような構成を個別に若しくは組み合わせて用いると特に有利である。即ち、
ａ）案内ローラ及び被覆ローラが、閉鎖プレートと逆の側の端部で背壁に支承されている。
ｂ）案内ローラ及び被覆ローラが、閉鎖プレートと逆の側の端部で背壁の前の支持部材に支承されて、かつカバーに保持されている。
ｃ）被覆ローラの下側及び側方のスペース（空間）が仕切壁によって少なくとも２つの部分室に仕切られており、仕切壁が被覆ローラに向いた側の端部にシール部材を備えており、シール部材の湾曲が被覆ローラの半径に適合されており、これによってシール部材と被覆ローラとの間に円弧状のシール間隙が形成されている。
ｄ）シール部材が調節機構を介して各所属の仕切壁に結合されており、調節機構によってシール間隙が半径方向で可能な最小の値に調節されるようになっている。
ｅ）真空室内に仕切壁によって被覆ローラの周囲（円周、即ち胴回り）に沿って少なくとも４つの部分室が形成されている。
ｆ）最上位の両方の仕切壁が互いに、被覆ローラの軸線を基準として下方に向かって１２０度と１８０度との間の角度を成している。
ｇ）胴板（周壁プレート）の、最上位の両方の仕切壁の下側を延在している周方向区分が、部分円筒の形状で形成されている。
ｈ）最上位の両方の仕切壁の上側に位置する部分室内に、全体で４つの案内ローラが配置されている。
ｉ）仕切壁が背壁と逆の側の端部に半径方向へ延びるシール条片を有しており、該シール条片に閉鎖プレートが接触されるようになっている。
ｊ）シール条片が該シール条片の半径方向の中心線に対して平行に延びるエラストマ性のシールエッジを有しており、該シールエッジに閉鎖プレートが真空室の閉鎖に際して接触されるようになっている。
ｋ）被覆ローラの、閉鎖プレートに向いた側の端面の前に、リングセクタ部材（円弧状に延びるプレート片）を不動に、即ち位置固定的に配置してあり、該リングセクタ部材が被覆ローラのための支持部材の下側の端部を円周の一部分にわたって取り囲んでいる。
ｌ）被覆ローラが部分室内で被覆ローラ自体の端部を、同軸的に円弧状に曲げられたストリップ状の遮蔽部材によって取り囲まれており、該遮蔽部材が前記端部を、狭い間隙を置いて覆っていて、これによって被覆ローラを該被覆ローラの、帯材で被われない表面部分が被覆されないように遮蔽している。
ｍ）前側の遮蔽部材がエラストマ性のシールエッジを有しており、該シールエッジに閉鎖プレートが真空室の閉鎖に際して接触されるようになっている
ｎ）リングセクタ部材が両方の端縁部間で前側の遮蔽部材内を周方向に延びている。
ｏ）帯材被覆装置の据え付け面からの全高さが最大で２．５メートルである。
ｐ）真空室が被覆ローラの両側にそれぞれ１つの側室を有しており、該側室内に繰り出しロール若しくは巻き取りロールのための巻体軸ピン（ロール支持軸）並びに帯材のための案内ローラが配置されている。
ｑ）側室が真空室として形成されていて、帯材の通過のためのスリット状の間隙を介して真空室の部分室に接続されている。
ｒ）真空室のすべての部分室及び側室がそれぞれ固有の真空ポンプ（３５）に接続されている。
ｓ）側室の上側が真空室のカバーと少なくともほぼ同じ高さである。

本発明の実施例を図１乃至図５に示して詳細に説明する。
図１は、１つの被覆室（被覆チャンバー）及び２つのロックゲート室を備えた真空装置を閉鎖壁が取り除かれて開いた状態で示す斜視図、図２は、３つの被覆源から成る被覆機構を組み付けられた閉鎖壁の概略的な斜視図、図３は、開かれた状態の帯材被覆装置の概略的な垂直断面図、図４は、１つの被覆室及び、帯材の繰り出しロール若しくは巻き取りロールの受容のための２つの側室を備えた真空装置の概略的な正面図であり、この場合、閉鎖壁は除いてあり、図５は、側室を被覆室に対してロックゲート室として形成してなる真空装置の概略的な正面図であり、この場合、閉鎖壁は除いてある。

図１に示す真空室１は１つの被覆室を成しており、該被覆室は４つの部分室２，３，４，５に区分けされている。部分室２，３，４，５は円弧状の狭い間隙を除いて仕切壁６によって互いに仕切られ、即ち遮断されており、図面には２つの仕切壁しか見えていない。軸線Ａを基準とした半径方向は鎖線で示してある。仕切壁６の半径方向内側の端部は湾曲形状若しくはアーチ形のシール部材７を備えており、該シール部材は調節機構８を用いて被覆ローラ９に対してできるだけ狭い間隙幅に調節可能である。

最上位の部分室２は平らなカバー１０を備えており、カバーはウエブ１１によって付加的に補強されている。部分室２内には、被覆ローラ９のほぼ上側半部の領域を除いて、４つの案内ローラ１２，１３，１４，１５を配置してあり、該案内ローラは被覆ローラ９と一緒に帯材走行路を規定しており、このことは図４及び図５に示してある。案内ローラ１２，１３，１４，１５の前側の端部は丈夫な支持部材１６，１７内に支承されており、該支持部材はカバー１０に堅く結合され、例えばねじ結合されている。案内ローラ１２，１３，１４，１５の後側の端部は、適切な軸受を用いて直接に背壁１８内に支承されており、該背壁は真空室１の後側を閉鎖している。背壁への支承部は案内ローラ１２，１５のもののみが見えている。背壁への支承部並びに背壁の結合部は取り外し可能に構成されていてよいものの、背壁は帯材交換並びに保守点検のために取り外されるものではない。

同様に、被覆ローラ９の軸Ａの前側の端部は安定した支持部材１９内に支承されており、該支持部材は同じくカバー１０と堅く結合され、例えばねじ結合されている。被覆ローラ９の、図面では見えない後側の軸受は同じく背壁１８内に保持されている。これによって、最小の構成高さで被覆ローラの著しく安定な支承が達成され、かつシール部材７の狭い間隙内でも帯材の正確な案内が達成される。さらに、被覆ローラ９の下側の周囲は、必要な仕切壁６並びに該仕切壁のシール部材を除いて、場所（所要スペース）を取るような支持部材によって全く制約（束縛）されない。換言すれば被覆ローラ９の下側の周囲は、支持部材から完全に解放されている。

真空室１は１つの胴板２０と該胴板に所属するカバー１０によって取り囲まれている。胴板の正面側に、背壁１８に対して平行にシールフランジ２１が溶接されており、シールフランジの多角形の周囲の辺は閉鎖壁２２（図２）の周囲の辺に相応している。大まかに見て、胴板２０の下側半部は軸Ａに対して同心的にかつ円筒状に形成されている。これによって、仕切壁６で仕切られた部分室３，４，５は断面で見て、容積の小さいかつ強度の大きなリングセクタの形状を成している。

部分室２，３，４，５間の相互のシール作用をさらに高めるために、仕切壁６にシール条片２３を装着してあり、該シール条片は真空室１の閉じられる際に、適切に形成された長手方向縁部に設けられたエラストマ状のシールエッジ（図示省略）で以て閉鎖プレート２２に接触（当接）するようになっている。被覆ローラ９の図面で見える端面を介した流れのいわゆる短絡をできるだけ小さく維持するために、該端面の前に、所定の周方向角度（円弧長さ）のリングセクタ部材４７（図４及び図５）が配置されていてよい。図１には、リングセクタ部材（円弧状プレート片とも称する）４７の両方の端部縁４７ａのみが破線で示してある。

リングセクタ部材４７の取り付けのために、端面の前に複数のアングル片２４を配置してあり、アングル片（Ｌ字形ボルト）の軸線平行に延びる端部区分はねじを備えている。このようにしてアングル片によって、リングセクタ部材４７は該リングセクタ部材に、アングル片に対応して設けられた孔を介して、シール条片２３の端部と支持部材１９との間に保持される。リングセクタ部材に冷却通路を設けてある場合には、アングル片２４は冷却水管路として形成されて、かつ適当な管路若しくは導管（図示省略）に接続されていてよい。被覆ローラ９の、図１には示してないものの被覆すべき帯材によって覆われない端面側の両方の縁部を被覆剤に対して防護するために、該縁部はそれぞれ遮蔽部材５２によって覆われており、該遮蔽部材（遮蔽板）はリングセクタ部材４７の両方の端部縁４７ａ間を円周の１８０度よりもわずかに大きい領域にわたって延びている。このように湾曲して延びる、即ちアーチ形の前側の遮蔽部材５２内にリングセクタ部材４７が位置している。前側の遮蔽部材５２と、若しくは該遮蔽部材に必要に応じて設けられたシールエッジと図２の閉鎖壁（閉鎖プレート）２２が接触するようになっており、これによって該箇所でも部分室３，４，５間のガス流の短絡は避けられ若しくは減少される。

真空室１の上側の領域で胴板２０の両方の平らな区分にそれぞれ側室２５，２６を接続してあり、該側室は図１ではロックゲート室として形成されている。前側の閉鎖壁は見易くするために取り除いてある。側室２５，２６（該側室の上側のカバーは真空室のカバー１０とほぼ同じ高さにある）は、帯材の図示してない繰り出しロール（巻体）若しくは巻き取りロールのために、両端で支承される中央の巻体支持軸ピン（巻体マンドレル）２７，２８、並びに帯材のための案内ローラ２９，３０，３１，３２を備えている。真空室１に対する帯材の出入りはスリット状の隙間３３，３４を通して行われる。帯材走行路は図４及び図５に示してある。真空室１のすべての部分室２，３，４，５並びに側室２５，２６はそれぞれ固有の真空ポンプ３５を備えており、これによって各部分室並びに各側室内に被覆のための特有の雰囲気若しくは環境が生ぜしめられる。装置全体は四脚式の架台（フレーム）３６に載せられている。ドア３７，３８は繰り出しロール若しくは巻き取りロールの装入及び取り出しのために役立っている。少なくとも一部分の案内ローラは公知の伸長ローラ若しくは幅出しローラとして形成されて、走行中の帯材のしわの発生を防止するようになっていてよい。

図２に、図１よりもさらに高い角度位置から斜視して概略的に示す閉鎖壁（閉鎖プレート）２２は、被覆装置３９を備えており、該被覆装置は３つの被覆源３９ａ，３９ｂ，３９ｃから構成されている。被覆源は保持部から延びており、保持部は必要なガス供給及び／又は電流供給のための接続ボックス４０に取り付けられている。閉鎖壁は２つの支柱４１に保持されており、支柱は走行台４２に固定されており、走行台は床に埋設されたレール４３に沿って走行可能である。被覆源３９ａ，３９ｂ，３９ｃ及びレール４３は閉鎖壁２２に対して垂直方向に延びており、しかも被覆源３９ａ，３９ｂ，３９ｃは図４及び図５に示してあるように、各部分室３，４，５内の所定の位置へ正確に互いに軸線平行に走入するようになっている。

図３は、図１及び図２の装置の、閉鎖壁を走出させた状態、即ち開いた状態で操作員によって保守若しくは整備作業中の垂直断面図である。左側に真空室１が、第１の案内ローラ１２及び該案内ローラの支承部のほかはすべての構成部分を除いて示してある。案内ローラ１２は開放側で支持部材１６を用いてカバー１０に取り付けられており、かつ逆の側では背壁１８内の軸受１６ａに支承されている。右側に並んで、閉鎖プレート２２が中央の被覆源３９ｂ及び走行台４２と一緒に示してある。装置の全高さは成人の操作員の身長とほぼ同じ寸法であり、従って該装置はクリーン室内への収容のために良好に適している。空間的な制限のない場合には装置を大きく形成することも可能である。

図４には、１つの被覆室及び２つの側室２５，２６から成る真空装置１の正面側を概略的に示してある。出発直径（繰り出し開始直径）を破線で示す繰り出しロール４４から、帯材４５は、案内ローラ２９，３０，１２を介して被覆ローラ９に導かれ、該被覆ローラによって被覆源３９ａ，３９ｂ，３９ｃ上を案内ローラ１３まで連行され、次いでそこから案内ローラ１４，１５，３１，３２を介して、最終的に巻き取りロール４６に巻き取られる。

図１の実施例の説明で述べたリングセクタ部材４７は被覆ローラ９の端面若しくは前面の前で被覆ローラの軸Ａ及び支持部材１９の下側の端部を部分的に円周にわたって取り巻いている、換言すれば、軸Ａを中心とした円弧に沿って支持部材１９の下側の端部を取り巻くように延びている。

図５に示す別の実施例では、側室２５，２６は被覆室若しくは真空室に対してロックゲート室として形成され、このために分離壁５０，５１を設けてあり、かつ分離壁に帯材４５の通過のためのスリット状の隙間３３，３４を配置してある。

本発明に基づく帯材被覆装置の実施例の斜視図 帯材被覆装置の閉鎖壁としての閉鎖プレートの概略的な斜視図 開かれた状態の帯材被覆装置の概略的な垂直断面図 被覆室及び、帯材の繰り出しロール若しくは巻き取りロールの受容のための２つの側室を備えた真空装置の概略的な正面図 側室を被覆室に対してロックゲート室として形成してなる真空装置の概略的な正面図

符号の説明

１ 真空室、 ２，３，４，５ 部分室、 ６ 仕切壁、 ７ シール部材、 ８ 調節機構、９ 被覆ローラ、 １０ カバー、 １１ ウエブ、 １２，１３，１４，１５ 案内ローラ、 １６ 支持部材、 １６ａ 軸受、 １７ 支持部材、 １８ 背壁、 １９ 支持部材、 ２０ 胴板、 ２２ 閉鎖壁、 ２３ シール条片、 ２４ アングル片、 ２５，２６ 側室、 ２７，２８ 巻体支持軸ピン、 ２９，３０，３１，３２ 案内ローラ、 ３３，３４ 隙間、 ３５ 真空ポンプ、 ３６ 架台、 ３７，３８ ドア、 ３９ 被覆装置、 ３９ａ，３９ｂ，３９ｃ 被覆源、 ４０ 接続ボックス、 １ 支柱、 ４２ 走行台、 ４３ レール、 ４４ 繰り出しロール、 ４５ 帯材、 ４６ 巻き取りロール、 ４７ リングセクタ部材、 ４７ａ 端部縁、 ５０，５１ 分離壁、 ５２ 遮蔽部材、 Ａ 軸

Claims (20)

1. 真空室（１）を備えた帯材被覆装置であって、真空室が背壁（１８）と取り外し可能な少なくとも１つの閉鎖プレート（２２）との間に胴板（２０）及び平らなカバー（１０）を有しており、真空室（１）内に少なくとも１つの案内ローラ（１２，１３，１４，１５）、１つの被覆ローラ（９）及び少なくとも１つの被覆源（３９ａ，３９ｂ，３９ｃ）を配置してある形式のものにおいて、少なくとも１つの案内ローラ（１２，１３，１４，１５）及び被覆ローラ（９）の、閉鎖プレート（２２）に向いた側の端部が、支持部材（１６，１７，１９）及び該支持部材に備えられた軸受を介してカバー（１０）に保持されており、真空室（１）内の空間が被覆ローラ（９）の下側で支持部材によって制約されないようになっていることを特徴とする、真空室及び被覆ローラを備えた帯材被覆装置。
2. 少なくとも１つの案内ローラ（１２，１３，１４，１５）及び被覆ローラ（９）が閉鎖プレート（２２）と逆の側の端部で背壁（１８）に支承されている請求項１記載の帯材被覆装置。
3. 少なくとも１つの案内ローラ（１２，１３，１４，１５）及び被覆ローラ（９）が閉鎖プレート（２２）と逆の側の端部で背壁（１８）の前の支持部材に支承されて、かつカバー（１０）に保持されている請求項１記載の帯材被覆装置。
4. 被覆ローラ（９）の下側及び側方の空間が仕切壁（６）によって少なくとも２つの部分室（３，４，５）に仕切られており、仕切壁（６）が被覆ローラ（９）に向いた側の端部にシール部材（７）を備えており、シール部材の湾曲が被覆ローラ（９）の半径に適合されており、シール部材（７）と被覆ローラ（９）との間に円弧状のシール間隙が形成されている請求項１記載の帯材被覆装置。
5. シール部材（７）が調節機構（８）を介して所属の仕切壁（６）に結合されており、調節機構によってシール間隙が半径方向で可能な最小の値に調節されるようになっている請求項４記載の帯材被覆装置。
6. 真空室（１）内に仕切壁（６）によって被覆ローラ（９）の周囲に沿って少なくとも４つの部分室（２，３，４，５）が形成されている請求項１記載の帯材被覆装置。
7. 最上位の両方の仕切壁（６）が互いに、被覆ローラ（９）の軸（Ａ）を基準として下方に向かって１２０度と１８０度との間の角度を成している請求項１から６のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
8. 胴板（２０）の、最上位の両方の仕切壁（６）の下側を延在している周方向区分が、部分円筒の形状で形成されている請求項１から７のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
9. 最上位の両方の仕切壁（６）の上側に位置する部分室（２）内に４つの案内ローラ（１２，１３，１４，１５）が配置されている請求項８記載の帯材被覆装置。
10. 仕切壁（６）が背壁（１８）と逆の側の端部に半径方向へ延びるシール条片（２３）を有しており、該シール条片に閉鎖プレート（２２）が接触されるようになっている請求項１から９のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
11. シール条片（２３）が該シール条片の半径方向の中心線に対して平行に延びるエラストマ性のシールエッジを有しており、該シールエッジに閉鎖プレート（２２）が真空室（１）の閉鎖に際して接触されるようになっている請求項１０記載の帯材被覆装置。
12. 被覆ローラ（９）の、閉鎖プレート（２２）に向いた側の端面の前に、リングセクタ部材（４７）を不動に配置してあり、該リングセクタ部材が被覆ローラ（９）のための支持部材（１９）の下側の端部を円周の一部分にわたって取り囲んでいる請求項１１記載の帯材被覆装置。
13. 被覆ローラ（９）が部分室（３，４，５）内で端部を、同軸的に部分円筒状に曲げられたストリップ状の遮蔽部材（５２）によって取り囲まれており、該遮蔽部材が前記端部を狭い間隙で覆っていて、被覆ローラ（９）を該被覆ローラの、帯材（４５）で覆われない表面部分の被覆に対して遮蔽している請求項１から１２のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
14. 前側の遮蔽部材（５２）がエラストマ性のシールエッジを有しており、該シールエッジに閉鎖プレート（２２）が真空室（１）の閉鎖に際して接触されるようになっている請求項１３記載の帯材被覆装置。
15. リングセクタ部材（４７）が両方の端端縁（４７ａ）間で前側の遮蔽部材（５２）内を周方向に延びている請求項１３又は１４記載の帯材被覆装置。
16. 帯材被覆装置の据え付け面からの全高さが最大で２．５メートルである請求項１から１５のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
17. 真空室（１）が被覆ローラ（９）の両側にそれぞれ側室（２５，２６）を有しており、該側室内に繰り出しロール（４４）若しくは巻き取りロール（４６）のための巻体支持軸ピン（２７，２８）並びに帯材（４５）のための案内ローラ（２９，３０，３１，３２）が配置されている請求項１から１６のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
18. 側室（２５，２６）が真空室として形成されていて、帯材（４５）の通過のためのスリット状の間隙（３３，３４）を介して真空室（１）の部分室（２）に接続されている請求項１１記載の帯材被覆装置。
19. 真空室（１）のすべての部分室（２，３，４，５）及び側室（２５，２６）がそれぞれ固有の真空ポンプ（３５）に接続されている請求項１から１２のいずれか１項記載の帯材被覆装置。
20. 側室（２５，２６）の上側が真空室（１）のカバー（１０）とほぼ同じ高さである請求項１７から１９のいずれか１項記載の帯材被覆装置。

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