RU2005102781A - Установка для нанесения покрытия на ленты - Google Patents

Установка для нанесения покрытия на ленты Download PDF

Info

Publication number
RU2005102781A
RU2005102781A RU2005102781/02A RU2005102781A RU2005102781A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A RU 2005102781/02 A RU2005102781/02 A RU 2005102781/02A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
installation according
roll
vacuum chamber
partitions
locking plate
Prior art date
Application number
RU2005102781/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2288296C2 (ru
Inventor
Стефан ХАЙН (DE)
Стефан ХАЙН
Петер СКУК (AT)
Петер СКУК
Original Assignee
Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг (De)
Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг (De), Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг filed Critical Аплайд Филмс Гмбх Унд Ко. Кг (De)
Publication of RU2005102781A publication Critical patent/RU2005102781A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2288296C2 publication Critical patent/RU2288296C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D17/00Radial-flow pumps, e.g. centrifugal pumps; Helico-centrifugal pumps
    • F04D17/08Centrifugal pumps
    • F04D17/16Centrifugal pumps for displacing without appreciable compression
    • F04D17/168Pumps specially adapted to produce a vacuum
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Claims (20)

1. Установка для нанесения покрытия на ленты, снабженная вакуумной камерой (1) и содержащая между задней стенкой (18) и, по меньшей мере, одной съемной запорной плитой (22) обечайку (20) с плоским потолком (10), причем в вакуумной камере (1) расположены, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) с осью (А) и, по меньшей мере, один источник (39а, 39b, 39с) покрытия, отличающаяся тем, что обращенные к запорной плите (22) концы, по меньшей мере, одного направляющего валка (12, 13, 14, 15) и покрывающего валка (9) закреплены посредством несущих элементов (16, 17, 19) с опорами на потолке (10), при этом пространство вакуумной камеры (1) под покрывающим валком (9) удерживается свободным от несущих элементов.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) и покрывающий валок (9) установлены своими обращенными от запорной плиты (22) концами на задней стенке (18).
3. Установка по п.1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) и покрывающий валок (9) установлены своими обращенными от запорной плиты (22) концами на несущих элементах перед задней стенкой (18) и удерживаются на потолке (10).
4. Установка по п.1, отличающаяся тем, что пространство под покрывающим валком (9) и с боков от него разделено перегородками (6), по меньшей мере, на два отсека (3, 4, 5), при этом перегородки (6) на своих обращенных к покрывающему валку (9) концах содержат уплотнительные элементы (7), кривизна которых соответствует радиусу покрывающего валка (9) с возможностью образования между уплотнительными элементами (7) и покрывающим валком (9) дугообразных уплотнительных щелей.
5. Установка по п.4, отличающаяся тем, что уплотнительные элементы (7) соединены механизмами (8) перемещения с соответствующей перегородкой (6) с возможностью настройки уплотнительных щелей в радиальном направлении на минимально возможные значения.
6. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внутри вакуумной камеры (1) на периферии покрывающего валка (9) за счет перегородок (6) образованы, по меньшей мере, четыре отсека (2, 3, 4, 5).
7. Установка по п.4, отличающаяся тем, что обе самые верхние перегородки (6) заключают по отношению к оси (А) вниз угол 120-180°.
8. Установка по п.4, отличающаяся тем, что лежащая под обеими самыми верхними перегородками (6) часть периферии обечайки (20) выполнена частично цилиндрической.
9. Установка по п.8, отличающаяся тем, что в лежащем над обеими самыми верхними перегородками (6) отсеке (2) расположены в общей сложности четыре направляющих валка (12, 13, 14, 15).
10. Установка по п.4, отличающаяся тем, что перегородки (6) содержат на своих обращенных от задней стенки (18) концах радиально проходящие уплотнительные планки (23), выполненные с возможностью прижатия к ним запорной плиты (22).
11. Установка по п.10, отличающаяся тем, что уплотнительные планки (23) имеют проходящие параллельно их радиальным средним линиям уплотнительные кромки, выполненные с возможностью прижатия к ним запорной плиты (22) при закрывании вакуумной камеры (1).
12. Установка по п.11, отличающаяся тем, что покрывающий валок (9) имеет обращенную к запорной плите (22) торцевую сторону, перед которой расположен неподвижный кольцевой сектор (47), охватывающий на части периферии нижний конец несущего элемента (19) для покрывающего валка (9).
13. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внутри вакуумной камеры (1) покрывающий валок (9) окружен на своих концах полосовидными, цилиндрически коаксиально согнутыми диафрагмами (52), которые с узкими щелями охватывают упомянутые концы и экранируют покрывающий валок (9) от покрытия его не закрытых лентой (45) частей поверхности.
14. Установка по п.13, отличающаяся тем, что передняя диафрагма (52) имеет эластомерную уплотнительную кромку, выполненную с возможностью прижатия к ней запорной плиты (22) при закрывании вакуумной камеры (1).
15. Установка по п.12, отличающаяся тем, что кольцевой сектор (47) проходит на периферии до своих концевых кромок (47а) внутри передней диафрагмы (52).
16. Установка по п.1, отличающаяся тем, что общая высота установки от поверхности опоры составляет максимум 2,5 м.
17. Установка по п.1, отличающаяся тем, что вакуумная камера (1) содержит с обеих сторон покрывающего валка (9) боковые камеры (25, 26), в каждой из которых расположены оправки (27; 28) для размоточного (44) и намоточного (45) валков и соответствующие направляющие валки (29, 30; 31, 32) для ленты (45).
18. Установка по п.17, отличающаяся тем, что боковые камеры (25, 26) выполнены в виде вакуумных камер и через шлицевидные щели (33,34) для прохождения ленты (45) связаны с отсеком (2) вакуумной камеры (1).
19. Установка по п.17, отличающаяся тем, что все отсеки (2,3.4.5) вакуумной камеры (1) и боковые камеры (25, 26) присоединены к собственному вакуумному насосу (35).
20. Установка по п.17, отличающаяся тем, что верхние стороны боковых камер (25, 26), по меньшей мере, в основном лежат на одной высоте с потолком (10) вакуумной камеры (1).
RU2005102781/02A 2004-02-07 2005-02-04 Установка для нанесения покрытия на ленты RU2288296C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004006131.9 2004-02-07
DE102004006131A DE102004006131B4 (de) 2004-02-07 2004-02-07 Bandbeschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer und einer Beschichtungswalze

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2005102781A true RU2005102781A (ru) 2006-07-10
RU2288296C2 RU2288296C2 (ru) 2006-11-27

Family

ID=32520383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005102781/02A RU2288296C2 (ru) 2004-02-07 2005-02-04 Установка для нанесения покрытия на ленты

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7594970B2 (ru)
EP (1) EP1561837B1 (ru)
JP (1) JP4221324B2 (ru)
KR (1) KR100629149B1 (ru)
CN (1) CN1332063C (ru)
AT (1) ATE336607T1 (ru)
DE (1) DE102004006131B4 (ru)
PL (1) PL372544A1 (ru)
RU (1) RU2288296C2 (ru)
TW (1) TWI237581B (ru)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2449050C1 (ru) * 2008-04-14 2012-04-27 Улвак, Инк. Установка вакуумного осаждения намоточного типа
US9249502B2 (en) * 2008-06-20 2016-02-02 Sakti3, Inc. Method for high volume manufacture of electrochemical cells using physical vapor deposition
JP5241383B2 (ja) * 2008-08-27 2013-07-17 株式会社神戸製鋼所 連続成膜装置
CN101684546B (zh) * 2008-09-25 2012-05-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 软性基板镀膜治具
CN104328391B (zh) * 2008-10-08 2018-02-23 Abcd技术有限公司 化学束薄膜沉积设备和使用该设备进行薄膜沉积的方法
EP2402481A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Applied Materials, Inc. Method and system for manufacturing a transparent body for use in a touch panel
JP6096195B2 (ja) 2011-09-07 2017-03-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム
KR20180132975A (ko) 2011-11-30 2018-12-12 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 폐쇄 루프 제어
JP5969953B2 (ja) * 2013-05-31 2016-08-17 株式会社神戸製鋼所 成膜装置
DE102014115386B4 (de) 2014-10-22 2018-08-23 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Vakuum-Substratbehandlungsanlage
JP6823392B2 (ja) * 2016-07-05 2021-02-03 東京エレクトロン株式会社 絶縁膜を形成する方法
WO2018160642A1 (en) * 2017-02-28 2018-09-07 Cidra Corporate Services Llc Processes for coating reticulated foams
CN110983285A (zh) * 2019-12-31 2020-04-10 广东腾胜科技创新有限公司 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备
CN113019788B (zh) * 2021-02-26 2022-06-28 机械工业第九设计研究院股份有限公司 一种可以在外部调节角度的风嘴
CN113441340B (zh) * 2021-06-29 2022-09-20 辽宁分子流科技有限公司 一种制备纳米银丝电极薄膜的卷对卷设备

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2925062A (en) * 1953-05-15 1960-02-16 Heraeus Gmbh W C Coating apparatus
EP0122092A3 (en) * 1983-04-06 1985-07-10 General Engineering Radcliffe Limited Vacuum coating apparatus
DE4207526C2 (de) 1992-03-10 1995-07-13 Leybold Ag Hochvakuum-Beschichtungsanlage
DE4207525C2 (de) * 1992-03-10 1999-12-16 Leybold Ag Hochvakuum-Beschichtungsanlage
DE4223568C1 (de) * 1992-07-17 1993-11-18 Leybold Ag Verfahren zum Herstellen einer eine Al-Zn-Schicht aufweisenden Folienbahn, Vorrichtung zu seiner Durchführung und Folienbahn
DE4308633C2 (de) * 1993-03-18 2001-07-19 Leybold Ag Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung unbeschichteter Kunststoff-Folien
SE509933C2 (sv) * 1996-09-16 1999-03-22 Scandinavian Solar Ab Sätt och anordning att framställa ett spektralselektivt absorberande skikt till solkollektorer samt framställt skikt
AU2710099A (en) * 1998-03-27 1999-10-18 Empa Eidgenossische Materialprufungs- Und Forschungsanstalt Vacuum strip coating installation
JP4245271B2 (ja) * 2000-02-03 2009-03-25 富士通コンポーネント株式会社 タッチパネル用導電膜付きフィルムの製造方法、製造装置、および製造されたフィルム
DE10157186C1 (de) * 2001-11-22 2003-01-16 Ardenne Anlagentech Gmbh Vakuumbeschichtungsanlage zum Beschichten von bandförmigen Material

Also Published As

Publication number Publication date
TW200526325A (en) 2005-08-16
KR20050079878A (ko) 2005-08-11
RU2288296C2 (ru) 2006-11-27
TWI237581B (en) 2005-08-11
KR100629149B1 (ko) 2006-09-27
DE102004006131A1 (de) 2004-07-22
US20050172898A1 (en) 2005-08-11
US7594970B2 (en) 2009-09-29
EP1561837B1 (de) 2006-08-16
CN1332063C (zh) 2007-08-15
JP2005220434A (ja) 2005-08-18
ATE336607T1 (de) 2006-09-15
EP1561837A1 (de) 2005-08-10
JP4221324B2 (ja) 2009-02-12
PL372544A1 (en) 2005-08-08
DE102004006131B4 (de) 2005-12-15
CN1651601A (zh) 2005-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2005102781A (ru) Установка для нанесения покрытия на ленты
CN102428224A (zh) 洗衣机
IT1002939B (it) Foglio di supporto poroso per mezzi assorbenti
CA2343908A1 (en) Draw roller for strip-like materials, in particular paper or cardboard strips, plastic or metal foils
WO2019242513A1 (zh) 滚筒洗衣机内外筒固定架结构及滚筒洗衣机
CA2885488C (en) Planar rotary filter with segmented cells operating in overpressure
CH649351A5 (it) Cuscinetto radente a tacchetti oscillanti.
TW200538572A (en) Band processing plant
CN102301059A (zh) 洗衣机
CN110252587A (zh) 一种组合式多功能试验涂布机
DE3868801D1 (de) Scheibeneindicker.
GB993408A (en) Vacuum support for a light-sensitive film in a photomechanical camera
CN216945533U (zh) 一种胶塞料带全自动上料机构
CN216376817U (zh) 一种带有双收卷机构的压花机
CN210369655U (zh) 一种再生装饰墙板
ITMI20010268A1 (it) Impianto di cristallizzazione
CN105948523A (zh) 玻璃溅射机构
JP2000516668A (ja) 特にペーパウェブ、ボール紙ウェブ又は繊維ウェブのような材料ウェブを形成又は処理するサクションローラ
CN218167607U (zh) 一种可快速换膜的钢带涂膜装置
CN113017298B (zh) 一种防潮型的医药品存储柜
CN216048224U (zh) 一种空调系统的出风过滤网组件
CN213205102U (zh) 一种具有温度和湿度控制功能的药品阴凉库
RU2312171C1 (ru) Установка для обработки ленточного материала
JPS58194046A (ja) 複写機のフレ−ム
KR960010880A (ko) 특히 가죽 또는 그 유사한 것을 엠보싱하거나 또는 윤내기하기 위한 평판 프레스

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20090205