RU2005102781A - Установка для нанесения покрытия на ленты - Google Patents
Установка для нанесения покрытия на ленты Download PDFInfo
- Publication number
- RU2005102781A RU2005102781A RU2005102781/02A RU2005102781A RU2005102781A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A RU 2005102781/02 A RU2005102781/02 A RU 2005102781/02A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A RU 2005102781 A RU2005102781 A RU 2005102781A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- installation according
- roll
- vacuum chamber
- partitions
- locking plate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D17/00—Radial-flow pumps, e.g. centrifugal pumps; Helico-centrifugal pumps
- F04D17/08—Centrifugal pumps
- F04D17/16—Centrifugal pumps for displacing without appreciable compression
- F04D17/168—Pumps specially adapted to produce a vacuum
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Claims (20)
1. Установка для нанесения покрытия на ленты, снабженная вакуумной камерой (1) и содержащая между задней стенкой (18) и, по меньшей мере, одной съемной запорной плитой (22) обечайку (20) с плоским потолком (10), причем в вакуумной камере (1) расположены, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) с осью (А) и, по меньшей мере, один источник (39а, 39b, 39с) покрытия, отличающаяся тем, что обращенные к запорной плите (22) концы, по меньшей мере, одного направляющего валка (12, 13, 14, 15) и покрывающего валка (9) закреплены посредством несущих элементов (16, 17, 19) с опорами на потолке (10), при этом пространство вакуумной камеры (1) под покрывающим валком (9) удерживается свободным от несущих элементов.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) и покрывающий валок (9) установлены своими обращенными от запорной плиты (22) концами на задней стенке (18).
3. Установка по п.1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере, один направляющий валок (12, 13, 14, 15) и покрывающий валок (9) установлены своими обращенными от запорной плиты (22) концами на несущих элементах перед задней стенкой (18) и удерживаются на потолке (10).
4. Установка по п.1, отличающаяся тем, что пространство под покрывающим валком (9) и с боков от него разделено перегородками (6), по меньшей мере, на два отсека (3, 4, 5), при этом перегородки (6) на своих обращенных к покрывающему валку (9) концах содержат уплотнительные элементы (7), кривизна которых соответствует радиусу покрывающего валка (9) с возможностью образования между уплотнительными элементами (7) и покрывающим валком (9) дугообразных уплотнительных щелей.
5. Установка по п.4, отличающаяся тем, что уплотнительные элементы (7) соединены механизмами (8) перемещения с соответствующей перегородкой (6) с возможностью настройки уплотнительных щелей в радиальном направлении на минимально возможные значения.
6. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внутри вакуумной камеры (1) на периферии покрывающего валка (9) за счет перегородок (6) образованы, по меньшей мере, четыре отсека (2, 3, 4, 5).
7. Установка по п.4, отличающаяся тем, что обе самые верхние перегородки (6) заключают по отношению к оси (А) вниз угол 120-180°.
8. Установка по п.4, отличающаяся тем, что лежащая под обеими самыми верхними перегородками (6) часть периферии обечайки (20) выполнена частично цилиндрической.
9. Установка по п.8, отличающаяся тем, что в лежащем над обеими самыми верхними перегородками (6) отсеке (2) расположены в общей сложности четыре направляющих валка (12, 13, 14, 15).
10. Установка по п.4, отличающаяся тем, что перегородки (6) содержат на своих обращенных от задней стенки (18) концах радиально проходящие уплотнительные планки (23), выполненные с возможностью прижатия к ним запорной плиты (22).
11. Установка по п.10, отличающаяся тем, что уплотнительные планки (23) имеют проходящие параллельно их радиальным средним линиям уплотнительные кромки, выполненные с возможностью прижатия к ним запорной плиты (22) при закрывании вакуумной камеры (1).
12. Установка по п.11, отличающаяся тем, что покрывающий валок (9) имеет обращенную к запорной плите (22) торцевую сторону, перед которой расположен неподвижный кольцевой сектор (47), охватывающий на части периферии нижний конец несущего элемента (19) для покрывающего валка (9).
13. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внутри вакуумной камеры (1) покрывающий валок (9) окружен на своих концах полосовидными, цилиндрически коаксиально согнутыми диафрагмами (52), которые с узкими щелями охватывают упомянутые концы и экранируют покрывающий валок (9) от покрытия его не закрытых лентой (45) частей поверхности.
14. Установка по п.13, отличающаяся тем, что передняя диафрагма (52) имеет эластомерную уплотнительную кромку, выполненную с возможностью прижатия к ней запорной плиты (22) при закрывании вакуумной камеры (1).
15. Установка по п.12, отличающаяся тем, что кольцевой сектор (47) проходит на периферии до своих концевых кромок (47а) внутри передней диафрагмы (52).
16. Установка по п.1, отличающаяся тем, что общая высота установки от поверхности опоры составляет максимум 2,5 м.
17. Установка по п.1, отличающаяся тем, что вакуумная камера (1) содержит с обеих сторон покрывающего валка (9) боковые камеры (25, 26), в каждой из которых расположены оправки (27; 28) для размоточного (44) и намоточного (45) валков и соответствующие направляющие валки (29, 30; 31, 32) для ленты (45).
18. Установка по п.17, отличающаяся тем, что боковые камеры (25, 26) выполнены в виде вакуумных камер и через шлицевидные щели (33,34) для прохождения ленты (45) связаны с отсеком (2) вакуумной камеры (1).
19. Установка по п.17, отличающаяся тем, что все отсеки (2,3.4.5) вакуумной камеры (1) и боковые камеры (25, 26) присоединены к собственному вакуумному насосу (35).
20. Установка по п.17, отличающаяся тем, что верхние стороны боковых камер (25, 26), по меньшей мере, в основном лежат на одной высоте с потолком (10) вакуумной камеры (1).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004006131.9 | 2004-02-07 | ||
DE102004006131A DE102004006131B4 (de) | 2004-02-07 | 2004-02-07 | Bandbeschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer und einer Beschichtungswalze |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2005102781A true RU2005102781A (ru) | 2006-07-10 |
RU2288296C2 RU2288296C2 (ru) | 2006-11-27 |
Family
ID=32520383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2005102781/02A RU2288296C2 (ru) | 2004-02-07 | 2005-02-04 | Установка для нанесения покрытия на ленты |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7594970B2 (ru) |
EP (1) | EP1561837B1 (ru) |
JP (1) | JP4221324B2 (ru) |
KR (1) | KR100629149B1 (ru) |
CN (1) | CN1332063C (ru) |
AT (1) | ATE336607T1 (ru) |
DE (1) | DE102004006131B4 (ru) |
PL (1) | PL372544A1 (ru) |
RU (1) | RU2288296C2 (ru) |
TW (1) | TWI237581B (ru) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2449050C1 (ru) * | 2008-04-14 | 2012-04-27 | Улвак, Инк. | Установка вакуумного осаждения намоточного типа |
US9249502B2 (en) * | 2008-06-20 | 2016-02-02 | Sakti3, Inc. | Method for high volume manufacture of electrochemical cells using physical vapor deposition |
JP5241383B2 (ja) * | 2008-08-27 | 2013-07-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 連続成膜装置 |
CN101684546B (zh) * | 2008-09-25 | 2012-05-23 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 软性基板镀膜治具 |
CN104328391B (zh) * | 2008-10-08 | 2018-02-23 | Abcd技术有限公司 | 化学束薄膜沉积设备和使用该设备进行薄膜沉积的方法 |
EP2402481A1 (en) | 2010-06-29 | 2012-01-04 | Applied Materials, Inc. | Method and system for manufacturing a transparent body for use in a touch panel |
JP6096195B2 (ja) | 2011-09-07 | 2017-03-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム |
KR20180132975A (ko) | 2011-11-30 | 2018-12-12 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 폐쇄 루프 제어 |
JP5969953B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2016-08-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜装置 |
DE102014115386B4 (de) | 2014-10-22 | 2018-08-23 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Vakuum-Substratbehandlungsanlage |
JP6823392B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2021-02-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 絶縁膜を形成する方法 |
WO2018160642A1 (en) * | 2017-02-28 | 2018-09-07 | Cidra Corporate Services Llc | Processes for coating reticulated foams |
CN110983285A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 可多卷基材同时镀膜的真空卷绕镀膜设备 |
CN113019788B (zh) * | 2021-02-26 | 2022-06-28 | 机械工业第九设计研究院股份有限公司 | 一种可以在外部调节角度的风嘴 |
CN113441340B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-09-20 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种制备纳米银丝电极薄膜的卷对卷设备 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2925062A (en) * | 1953-05-15 | 1960-02-16 | Heraeus Gmbh W C | Coating apparatus |
EP0122092A3 (en) * | 1983-04-06 | 1985-07-10 | General Engineering Radcliffe Limited | Vacuum coating apparatus |
DE4207526C2 (de) | 1992-03-10 | 1995-07-13 | Leybold Ag | Hochvakuum-Beschichtungsanlage |
DE4207525C2 (de) * | 1992-03-10 | 1999-12-16 | Leybold Ag | Hochvakuum-Beschichtungsanlage |
DE4223568C1 (de) * | 1992-07-17 | 1993-11-18 | Leybold Ag | Verfahren zum Herstellen einer eine Al-Zn-Schicht aufweisenden Folienbahn, Vorrichtung zu seiner Durchführung und Folienbahn |
DE4308633C2 (de) * | 1993-03-18 | 2001-07-19 | Leybold Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung unbeschichteter Kunststoff-Folien |
SE509933C2 (sv) * | 1996-09-16 | 1999-03-22 | Scandinavian Solar Ab | Sätt och anordning att framställa ett spektralselektivt absorberande skikt till solkollektorer samt framställt skikt |
AU2710099A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-18 | Empa Eidgenossische Materialprufungs- Und Forschungsanstalt | Vacuum strip coating installation |
JP4245271B2 (ja) * | 2000-02-03 | 2009-03-25 | 富士通コンポーネント株式会社 | タッチパネル用導電膜付きフィルムの製造方法、製造装置、および製造されたフィルム |
DE10157186C1 (de) * | 2001-11-22 | 2003-01-16 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage zum Beschichten von bandförmigen Material |
-
2004
- 2004-02-07 DE DE102004006131A patent/DE102004006131B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-18 EP EP04003574A patent/EP1561837B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-18 AT AT04003574T patent/ATE336607T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-02-23 US US10/784,477 patent/US7594970B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-19 TW TW093107477A patent/TWI237581B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-03-30 JP JP2004099840A patent/JP4221324B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-27 KR KR1020040028876A patent/KR100629149B1/ko active IP Right Grant
- 2004-06-14 CN CNB200410064063XA patent/CN1332063C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-02-01 PL PL05372544A patent/PL372544A1/xx unknown
- 2005-02-04 RU RU2005102781/02A patent/RU2288296C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200526325A (en) | 2005-08-16 |
KR20050079878A (ko) | 2005-08-11 |
RU2288296C2 (ru) | 2006-11-27 |
TWI237581B (en) | 2005-08-11 |
KR100629149B1 (ko) | 2006-09-27 |
DE102004006131A1 (de) | 2004-07-22 |
US20050172898A1 (en) | 2005-08-11 |
US7594970B2 (en) | 2009-09-29 |
EP1561837B1 (de) | 2006-08-16 |
CN1332063C (zh) | 2007-08-15 |
JP2005220434A (ja) | 2005-08-18 |
ATE336607T1 (de) | 2006-09-15 |
EP1561837A1 (de) | 2005-08-10 |
JP4221324B2 (ja) | 2009-02-12 |
PL372544A1 (en) | 2005-08-08 |
DE102004006131B4 (de) | 2005-12-15 |
CN1651601A (zh) | 2005-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2005102781A (ru) | Установка для нанесения покрытия на ленты | |
CN102428224A (zh) | 洗衣机 | |
IT1002939B (it) | Foglio di supporto poroso per mezzi assorbenti | |
CA2343908A1 (en) | Draw roller for strip-like materials, in particular paper or cardboard strips, plastic or metal foils | |
WO2019242513A1 (zh) | 滚筒洗衣机内外筒固定架结构及滚筒洗衣机 | |
CA2885488C (en) | Planar rotary filter with segmented cells operating in overpressure | |
CH649351A5 (it) | Cuscinetto radente a tacchetti oscillanti. | |
TW200538572A (en) | Band processing plant | |
CN102301059A (zh) | 洗衣机 | |
CN110252587A (zh) | 一种组合式多功能试验涂布机 | |
DE3868801D1 (de) | Scheibeneindicker. | |
GB993408A (en) | Vacuum support for a light-sensitive film in a photomechanical camera | |
CN216945533U (zh) | 一种胶塞料带全自动上料机构 | |
CN216376817U (zh) | 一种带有双收卷机构的压花机 | |
CN210369655U (zh) | 一种再生装饰墙板 | |
ITMI20010268A1 (it) | Impianto di cristallizzazione | |
CN105948523A (zh) | 玻璃溅射机构 | |
JP2000516668A (ja) | 特にペーパウェブ、ボール紙ウェブ又は繊維ウェブのような材料ウェブを形成又は処理するサクションローラ | |
CN218167607U (zh) | 一种可快速换膜的钢带涂膜装置 | |
CN113017298B (zh) | 一种防潮型的医药品存储柜 | |
CN216048224U (zh) | 一种空调系统的出风过滤网组件 | |
CN213205102U (zh) | 一种具有温度和湿度控制功能的药品阴凉库 | |
RU2312171C1 (ru) | Установка для обработки ленточного материала | |
JPS58194046A (ja) | 複写機のフレ−ム | |
KR960010880A (ko) | 특히 가죽 또는 그 유사한 것을 엠보싱하거나 또는 윤내기하기 위한 평판 프레스 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20090205 |