JPS60165377A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS60165377A JPS60165377A JP2311784A JP2311784A JPS60165377A JP S60165377 A JPS60165377 A JP S60165377A JP 2311784 A JP2311784 A JP 2311784A JP 2311784 A JP2311784 A JP 2311784A JP S60165377 A JPS60165377 A JP S60165377A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum
- vacuum chamber
- plate
- plates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は基板表面上に金属もしくは金属酸化物、有機物
などの薄膜を形成するための真空蒸着装置長尺の基板を
連続走行させながら基板表面に薄膜を形成する真空蒸着
装置を第１図に示す。長尺基板への連続蒸着装置は比較
的大型のものが多く基板着脱や、真空槽、基板搬送系の
整備、調整などを考慮した構成となっている。移動台車
５０に設けられているベースプレート６１と対峠する他
のプレート６２は支持体５３で連結されている０基板６
５はベースプレート６１と他のプレート６２間の軸６４
にセットされる。また蒸着ローラ６７も同様に軸５６の
両端がベースグレート６１と他のプレート６２でベアリ
ングなどを介して固定されている。図示されていない７
リーローラ、エキスパンダー等基板走行系構成物はほと
んどベースプレート６１と他のプレート６２間に設けら
れる。
などの薄膜を形成するための真空蒸着装置長尺の基板を
連続走行させながら基板表面に薄膜を形成する真空蒸着
装置を第１図に示す。長尺基板への連続蒸着装置は比較
的大型のものが多く基板着脱や、真空槽、基板搬送系の
整備、調整などを考慮した構成となっている。移動台車
５０に設けられているベースプレート６１と対峠する他
のプレート６２は支持体５３で連結されている０基板６
５はベースプレート６１と他のプレート６２間の軸６４
にセットされる。また蒸着ローラ６７も同様に軸５６の
両端がベースグレート６１と他のプレート６２でベアリ
ングなどを介して固定されている。図示されていない７
リーローラ、エキスパンダー等基板走行系構成物はほと
んどベースプレート６１と他のプレート６２間に設けら
れる。
これらのプレートを含む基板搬送系及び移動台車５ｏは
回転輪５８によりレース６９上を移動できるようにしで
ある。一方真空槽６０は固定されている。６１は排気管
、６２は蒸発源、６３はベースプレート６１との接触面
である。
回転輪５８によりレース６９上を移動できるようにしで
ある。一方真空槽６０は固定されている。６１は排気管
、６２は蒸発源、６３はベースプレート６１との接触面
である。
このような真空槽固定、フィルム搬送系移動型の真空蒸
着装置はベースプレート＋５１を基準にするため−わゆ
る片持ちとなってベースプレート６１、支持体６３など
の構成部品の強度確保及び移動台車６ｏの安定性などの
ため装置重量が大となることや、移動スペースによる装
置専有面積が大きくなることの問題があった。
着装置はベースプレート＋５１を基準にするため−わゆ
る片持ちとなってベースプレート６１、支持体６３など
の構成部品の強度確保及び移動台車６ｏの安定性などの
ため装置重量が大となることや、移動スペースによる装
置専有面積が大きくなることの問題があった。
発明の目的
本発明は上述の問題点を解決するもので、基板を連続に
走行させながら金属を基板表面に真空蒸着する装置で、
小型、軽量で装置専有面積が少ない真空蒸着装置を提供
するものである。
走行させながら金属を基板表面に真空蒸着する装置で、
小型、軽量で装置専有面積が少ない真空蒸着装置を提供
するものである。
発明の構成
本発明は真空槽内に設けられるプレートを含む基板搬走
系、真空槽外の駆動系と搬走系を結合する分離可能構造
の回転軸及び真空排気装置、加熱源、蒸着材料の蒸発源
とを備えたものである０実施例の説明 第２図は本発明の一実施例の真空蒸着装置である。直径
３０００ｍｍの真空槽１は基板巻取り室２と蒸発室３に
分かれてそれぞれ排気管４，５により真空排気がされて
いる。基板１４搬送系を支持するプレート８，９は真空
槽１内壁に用けられたプレート８，９を受けるためのベ
ース６．７部分でポル）１０．１１により固定されてい
る。またプレート８，９間は長さ１０００ｍの支持体３
１を設けである。
系、真空槽外の駆動系と搬走系を結合する分離可能構造
の回転軸及び真空排気装置、加熱源、蒸着材料の蒸発源
とを備えたものである０実施例の説明 第２図は本発明の一実施例の真空蒸着装置である。直径
３０００ｍｍの真空槽１は基板巻取り室２と蒸発室３に
分かれてそれぞれ排気管４，５により真空排気がされて
いる。基板１４搬送系を支持するプレート８，９は真空
槽１内壁に用けられたプレート８，９を受けるためのベ
ース６．７部分でポル）１０．１１により固定されてい
る。またプレート８，９間は長さ１０００ｍの支持体３
１を設けである。
基板１４の巻取軸１２はベアリング１７を介してプレー
ト８．９に固定され真空槽外の駆動モータ２０とはベア
リング、真空軸シール１９を通してフランジ１８で結合
されている。蒸着ローラ１６も同様に回転軸１６がベア
リング２１を介してプレート８，９で固定され、真空槽
外に設けられた駆動モータ２４とベアリング、真空槽シ
ール２３を通してフランジ２２で結合されている。
ト８．９に固定され真空槽外の駆動モータ２０とはベア
リング、真空軸シール１９を通してフランジ１８で結合
されている。蒸着ローラ１６も同様に回転軸１６がベア
リング２１を介してプレート８，９で固定され、真空槽
外に設けられた駆動モータ２４とベアリング、真空槽シ
ール２３を通してフランジ２２で結合されている。
蒸発源２７１′ｉ蒸着ローラ１６下方に設けられ耐火物
容器２６に収納されていて加熱源２８により加熱、溶解
される。蒸発ローラ１６と蒸発源間にはシャッター２６
が設けられていて基板１４への蒸着作業中にはシャッタ
ー２５が開状態となるよう構成されている。この真空蒸
着機の真空排気は円筒形の真空槽の両端に設けられた開
閉治具２９によシ開閉できる密封蓋３ｏを閉状態にする
ことで行なわれる。
容器２６に収納されていて加熱源２８により加熱、溶解
される。蒸発ローラ１６と蒸発源間にはシャッター２６
が設けられていて基板１４への蒸着作業中にはシャッタ
ー２５が開状態となるよう構成されている。この真空蒸
着機の真空排気は円筒形の真空槽の両端に設けられた開
閉治具２９によシ開閉できる密封蓋３ｏを閉状態にする
ことで行なわれる。
上記の真空蒸着装置の定常状態は、真空槽外駆動モニタ
と真空槽内回転軸はフランジによ多結合されている。さ
らに各回転軸を支持するだめの２枚のプレート８，９も
真空槽内壁に設けられたベース６．７部分でポル）１０
．１１によシ固定されている。真空蒸着はこの固定され
た系において長さ１０００７７１．幅３ｏｏｔ＋ｍのポ
リエステル基板をうに入れ再びフリーローラ、エキスパ
ンダーを経て巻取軸に捲回される基板搬送系で、強磁性
材料であるコバルトを電子ビーム加熱源によシ蒸発させ
て基板上に真空蒸着を行なった。
と真空槽内回転軸はフランジによ多結合されている。さ
らに各回転軸を支持するだめの２枚のプレート８，９も
真空槽内壁に設けられたベース６．７部分でポル）１０
．１１によシ固定されている。真空蒸着はこの固定され
た系において長さ１０００７７１．幅３ｏｏｔ＋ｍのポ
リエステル基板をうに入れ再びフリーローラ、エキスパ
ンダーを経て巻取軸に捲回される基板搬送系で、強磁性
材料であるコバルトを電子ビーム加熱源によシ蒸発させ
て基板上に真空蒸着を行なった。
また搬送系の整備、調整及び蒸着ローラの交換について
は、回転軸のフランジを分離するとともに、ベース部分
のボルトを取りはずすことによシ、密封蓋３０を開とし
図示されていない両プレートを受けるための台車に移動
させることで搬送系を真空槽外に取り出すことができ、
目的の作業を完了しだ後再び真空槽内に搬送系を複元す
ることができるように構成しである。
は、回転軸のフランジを分離するとともに、ベース部分
のボルトを取りはずすことによシ、密封蓋３０を開とし
図示されていない両プレートを受けるための台車に移動
させることで搬送系を真空槽外に取り出すことができ、
目的の作業を完了しだ後再び真空槽内に搬送系を複元す
ることができるように構成しである。
発明の効果
以上の実施例からも明らかなように、本発明によれば
（１ン 各回転軸を支持する両プレートが固定される両
持ちとなるため片持ち型に比べて各構成部材重量が低減
でき、従って真空装置全体が小型軽量になった。
持ちとなるため片持ち型に比べて各構成部材重量が低減
でき、従って真空装置全体が小型軽量になった。
（２）装置価格が安価になシ、製品コストが低減して製
品が安価に提供できる。
品が安価に提供できる。
（３）装置専有面積が少なくてすむ。
（４）基板搬送系は適宜真空槽外へ移動できる構成なの
で整備、点検が容易である。
で整備、点検が容易である。
などの効果がありその産業性は大である。
第１図は従来の真空蒸着装置の構成図、第２図は本発明
の一実施例の構成図である。 １・・・・・・ＴＣ空槽、６ ＋ ７・・・・・・ベー
ス、８，９・・・・・・プレート、１０．１１・・・・
・・ボルト、１４・・・・・・基板、１６・・・・・・
蒸着ローラ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
の一実施例の構成図である。 １・・・・・・ＴＣ空槽、６ ＋ ７・・・・・・ベー
ス、８，９・・・・・・プレート、１０．１１・・・・
・・ボルト、１４・・・・・・基板、１６・・・・・・
蒸着ローラ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
Claims (2)
- （１）０．ＩＰａ以上の真空度が得られる真空蒸着機で
、基板巻出、巻取軸、フリーローラ、エキスパンダ、蒸
着ローラ及び基板表面処理系を含む系が該第を支持する
２枚のプレートを介して真空槽内のベースに固定治具に
よシ固定され、該プレートは真空槽壁と共用しない構成
であることを特徴とする真空蒸着装置。 - （２）基板巻出、巻取軸及び蒸着ローラの駆動源は真空
槽外にあシ、基板巻出、巻取軸及び蒸着ローラと駆動源
は真空シール、ベアリングで固定された回転軸でフラン
ジを介して接続され、フランジの分離によシ回転軸が分
離できることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
真空蒸着装置。′（３）プレート及び基板搬送系は、フ
ランジの分離及びベースとプレートの固定治具を除くこ
とによシ真空槽外に移動可能であるように構成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空蒸着装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311784A JPS60165377A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311784A JPS60165377A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60165377A true JPS60165377A (ja) | 1985-08-28 |
| JPH0563550B2 JPH0563550B2 (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12101547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2311784A Granted JPS60165377A (ja) | 1984-02-09 | 1984-02-09 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60165377A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459966A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-26 | Kobe Steel Ltd | 蒸着めっき設備 |
| JP2008137389A (ja) * | 2007-12-27 | 2008-06-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層板の連続製造方法および装置 |
-
1984
- 1984-02-09 JP JP2311784A patent/JPS60165377A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459966A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-26 | Kobe Steel Ltd | 蒸着めっき設備 |
| JP2008137389A (ja) * | 2007-12-27 | 2008-06-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 積層板の連続製造方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0563550B2 (ja) | 1993-09-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |