JP3193764B2 - イオンプレーティング装置 - Google Patents
イオンプレーティング装置Info
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- jig
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- ion plating
- thin film
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、真空容器であるベル
ジャ内で蒸発材を蒸発させ、その蒸発物質をイオン化し
てその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形成するイ
オンプレーティング装置に関する。
ジャ内で蒸発材を蒸発させ、その蒸発物質をイオン化し
てその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形成するイ
オンプレーティング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】イオンプレーティング装置は、真空状態
にしたベルジャ内で蒸発物質をイオン化し、その蒸発物
質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応による化合物
を被処理物に付着させて薄膜を形成するものであり、一
般的にベルジャの容量が大きくなる程コストが高くな
り、そのベルジャ内の排気をする時間も長くなるので、
低コストで効率良く薄膜を形成するためには、限られた
容量のベルジャ内を有効に使用して一度にできるだけ多
くの被処理物を処理できるようにする必要がある。
にしたベルジャ内で蒸発物質をイオン化し、その蒸発物
質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応による化合物
を被処理物に付着させて薄膜を形成するものであり、一
般的にベルジャの容量が大きくなる程コストが高くな
り、そのベルジャ内の排気をする時間も長くなるので、
低コストで効率良く薄膜を形成するためには、限られた
容量のベルジャ内を有効に使用して一度にできるだけ多
くの被処理物を処理できるようにする必要がある。
【０００３】そのため、例えば被処理物を固定保持する
複数の取付具を無端状チェーンにそれぞれ取り付け、そ
の無端状チェーンをベルジャ内で回動させるようにした
治具をベルジャ内の所定の位置に固定して、一度に多数
の被処理物を薄膜形成処理できるようにしたものがあ
る。
複数の取付具を無端状チェーンにそれぞれ取り付け、そ
の無端状チェーンをベルジャ内で回動させるようにした
治具をベルジャ内の所定の位置に固定して、一度に多数
の被処理物を薄膜形成処理できるようにしたものがあ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに一度に多数の被処理物を固定保持可能な治具を備え
たイオンプレーティング装置は、例えば図１０に示すよ
うに蒸発源２０Ａ，２０Ｂのように蒸発源が２個あって
電子銃１４Ａ，１４Ｂが図示の位置にある場合に、取付
具５１や無端状チェーン５２，５２によって構成される
治具５０の配設方向を、取付具５１が無端状チェーン５
２によって矢示Ｄ方向に回動する向きに配置した場合に
は、蒸発物質の拡散領域が矢示Ａ方向に広く矢示Ｃ方向
に狭いので、治具５０上の被処理物１６に形成される薄
膜の膜厚や膜質の分布が均一になりにくいということが
あった。
うに一度に多数の被処理物を固定保持可能な治具を備え
たイオンプレーティング装置は、例えば図１０に示すよ
うに蒸発源２０Ａ，２０Ｂのように蒸発源が２個あって
電子銃１４Ａ，１４Ｂが図示の位置にある場合に、取付
具５１や無端状チェーン５２，５２によって構成される
治具５０の配設方向を、取付具５１が無端状チェーン５
２によって矢示Ｄ方向に回動する向きに配置した場合に
は、蒸発物質の拡散領域が矢示Ａ方向に広く矢示Ｃ方向
に狭いので、治具５０上の被処理物１６に形成される薄
膜の膜厚や膜質の分布が均一になりにくいということが
あった。
【０００５】そこで、このような位置に２つの蒸発源が
配置されるイオンプレーティング装置の場合には、図１
０に示した治具５０を図１１に示すような配設方向にし
て薄膜を形成する処理を行うようにすれば、膜厚や膜質
の均一化に関してより良い条件となる。しかしながら、
このようにすると今度はベルジャ１１の小窓２５に設け
られた小ドア２６を開放して、中の治具５０の取付具５
１に取り付けられている被処理物１６を取り出そうとす
ると、その小窓２５側には治具５０の一方の側板５３や
無端状チェーン５２の駆動系が位置するため、それを取
り出すことができない。
配置されるイオンプレーティング装置の場合には、図１
０に示した治具５０を図１１に示すような配設方向にし
て薄膜を形成する処理を行うようにすれば、膜厚や膜質
の均一化に関してより良い条件となる。しかしながら、
このようにすると今度はベルジャ１１の小窓２５に設け
られた小ドア２６を開放して、中の治具５０の取付具５
１に取り付けられている被処理物１６を取り出そうとす
ると、その小窓２５側には治具５０の一方の側板５３や
無端状チェーン５２の駆動系が位置するため、それを取
り出すことができない。
【０００６】また、このように従来の一度に多数の被処
理物を固定保持可能な治具の場合には、それがベルジャ
内の所定の位置に固定されている構成であったため、例
えばメンテナンス時にベルジャ内のプローブの外側に配
設されているフィラメントのうち、ベルジャの奥側に位
置するものを交換しようとすると、そのままでは治具が
邪魔になってフィラメントまで手が届かないため、結局
治具をベルジャ内から取り外してからでなければその作
業を行うことができなかったので、メンテナンス性が非
常に悪かった。
理物を固定保持可能な治具の場合には、それがベルジャ
内の所定の位置に固定されている構成であったため、例
えばメンテナンス時にベルジャ内のプローブの外側に配
設されているフィラメントのうち、ベルジャの奥側に位
置するものを交換しようとすると、そのままでは治具が
邪魔になってフィラメントまで手が届かないため、結局
治具をベルジャ内から取り外してからでなければその作
業を行うことができなかったので、メンテナンス性が非
常に悪かった。
【０００７】この発明は上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、一度にできるだけ多くの被処理物に膜厚や
膜質が均一な薄膜を形成することができ、メンテナンス
性にも優れたイオンプレーティング装置を提供すること
を目的とする。
ものであり、一度にできるだけ多くの被処理物に膜厚や
膜質が均一な薄膜を形成することができ、メンテナンス
性にも優れたイオンプレーティング装置を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するため、上述したようなイオンプレーティング
装置において、被処理物を固定保持するための複数の取
付具と、その取付具を回動させる無端状チェーンと、そ
のチェーンと取付具とを支持部材を介して共に載置する
テーブルとにより治具を構成すると共に、上記無端状チ
ェーンを回動させたときに取付具にそれぞれ取り付けら
れた被処理物の蒸発源に対する位置が順次変わるように
し、テーブルを真空容器内に固定した部材にその真空容
器の内周面に沿う方向に回転可能に取り付けたものであ
る。
を達成するため、上述したようなイオンプレーティング
装置において、被処理物を固定保持するための複数の取
付具と、その取付具を回動させる無端状チェーンと、そ
のチェーンと取付具とを支持部材を介して共に載置する
テーブルとにより治具を構成すると共に、上記無端状チ
ェーンを回動させたときに取付具にそれぞれ取り付けら
れた被処理物の蒸発源に対する位置が順次変わるように
し、テーブルを真空容器内に固定した部材にその真空容
器の内周面に沿う方向に回転可能に取り付けたものであ
る。
【０００９】
【作用】このように構成したイオンプレーティング装置
によれば、治具の無端状チェーンによって回動される複
数の取付具に被処理物をそれぞれ取り付けることによ
り、一度に多くの被処理物に薄膜を形成することができ
る。そして、その治具は真空容器の内周面に沿う方向に
回転可能であるため、それを薄膜形成に最適な回転位置
に回転させて薄膜を形成する処理を行うことができるの
で、被処理物に膜厚や膜質が均一な薄膜を形成すること
ができる。また、メンテナンス時にはその治具を回転さ
せるだけで、治具をベルジャから取り外したりせずに真
空容器の奥側に位置する部品の交換作業等を行うことが
できる。
によれば、治具の無端状チェーンによって回動される複
数の取付具に被処理物をそれぞれ取り付けることによ
り、一度に多くの被処理物に薄膜を形成することができ
る。そして、その治具は真空容器の内周面に沿う方向に
回転可能であるため、それを薄膜形成に最適な回転位置
に回転させて薄膜を形成する処理を行うことができるの
で、被処理物に膜厚や膜質が均一な薄膜を形成すること
ができる。また、メンテナンス時にはその治具を回転さ
せるだけで、治具をベルジャから取り外したりせずに真
空容器の奥側に位置する部品の交換作業等を行うことが
できる。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて具
体的に説明する。図１はこの発明の一実施例を示すイオ
ンプレーティング装置の要部を示す概略構成図、図２は
同じくそのイオンプレーティング装置の電源部も含めた
概略構成図、図３は図１の平面図である。
体的に説明する。図１はこの発明の一実施例を示すイオ
ンプレーティング装置の要部を示す概略構成図、図２は
同じくそのイオンプレーティング装置の電源部も含めた
概略構成図、図３は図１の平面図である。
【００１１】このイオンプレーティング装置は、図２に
示す真空容器であるベルジャ１１内の底部の所定の位置
にセットした蒸発源２０Ａ，２０Ｂ（図３も参照）によ
って、ルツボ１３Ａ，１３Ｂ上にセットした蒸発材１５
をそれぞれ蒸発させると共にその蒸発物質１５′をイオ
ン化し、その蒸発物質１５′又はその蒸発物質１５′と
雰囲気ガスとの反応による化合物を、図１に示す治具６
０の取付具６１に固定保持した被処理物１６に付着させ
て薄膜を形成する。
示す真空容器であるベルジャ１１内の底部の所定の位置
にセットした蒸発源２０Ａ，２０Ｂ（図３も参照）によ
って、ルツボ１３Ａ，１３Ｂ上にセットした蒸発材１５
をそれぞれ蒸発させると共にその蒸発物質１５′をイオ
ン化し、その蒸発物質１５′又はその蒸発物質１５′と
雰囲気ガスとの反応による化合物を、図１に示す治具６
０の取付具６１に固定保持した被処理物１６に付着させ
て薄膜を形成する。
【００１２】ベルジャ１１は、図２で上下の面が共に塞
がれた略円筒形状をしており、その一部に図３に示すよ
うに扉１８が矢示Ｂ方向に開閉可能に取り付けられてい
て、その扉１８に被処理物１６を出し入れするための小
窓２５を形成し、そこに開閉可能な小ドア２６を取り付
けている。
がれた略円筒形状をしており、その一部に図３に示すよ
うに扉１８が矢示Ｂ方向に開閉可能に取り付けられてい
て、その扉１８に被処理物１６を出し入れするための小
窓２５を形成し、そこに開閉可能な小ドア２６を取り付
けている。
【００１３】ベルジャ１１内の下方に設けられている蒸
発源２０Ａは、電子銃１４Ａとルツボ１３Ａを備えてお
り、そのルツボ１３Ａ上にセットした蒸発材１５に電子
銃１４Ａから電子ビームを照射して蒸発物質１５′（図
２）を蒸発させる。
発源２０Ａは、電子銃１４Ａとルツボ１３Ａを備えてお
り、そのルツボ１３Ａ上にセットした蒸発材１５に電子
銃１４Ａから電子ビームを照射して蒸発物質１５′（図
２）を蒸発させる。
【００１４】同様に、蒸発源２０Ｂは、電子銃１４Ｂに
よってルツボ１３Ｂ上の蒸発材１５を蒸発させる。その
蒸発源２０Ａ，２０Ｂの上方には、図２に示すようにプ
ラズマ状態を生成するプローブ１２を配設し、その上方
に薄膜を形成する被処理物１６をセットするための治具
６０（図１）を設けている。
よってルツボ１３Ｂ上の蒸発材１５を蒸発させる。その
蒸発源２０Ａ，２０Ｂの上方には、図２に示すようにプ
ラズマ状態を生成するプローブ１２を配設し、その上方
に薄膜を形成する被処理物１６をセットするための治具
６０（図１）を設けている。
【００１５】プローブ１２は、蒸発源２０Ａ，２０Ｂか
ら例えば７０〜２００mm上方に設けられていて、その位
置を蒸発源２０Ａ，２０Ｂによってそれぞれ蒸発された
蒸発物質１５′の通過を遮蔽しない位置に配置して、そ
の外側にフィラメント１７を配設している。なお、図２
で２１は蒸発用電源、２２はプローブ用直流電源、２３
は被処理物用直流電源、２４はフィラメント用交流電源
である。
ら例えば７０〜２００mm上方に設けられていて、その位
置を蒸発源２０Ａ，２０Ｂによってそれぞれ蒸発された
蒸発物質１５′の通過を遮蔽しない位置に配置して、そ
の外側にフィラメント１７を配設している。なお、図２
で２１は蒸発用電源、２２はプローブ用直流電源、２３
は被処理物用直流電源、２４はフィラメント用交流電源
である。
【００１６】治具６０は、図４に示すように被処理物１
６を固定保持するための複数の取付具６１と、その取付
具６１を回動させる無端状チェーン６２，７２（以下単
にチェーン６２，７２とも云う）と、そのチェーン６
２，７２と取付具６１とを支持部材である両側の側板６
３，６４を介して共に載置するテーブル６５とにより構
成されている。
６を固定保持するための複数の取付具６１と、その取付
具６１を回動させる無端状チェーン６２，７２（以下単
にチェーン６２，７２とも云う）と、そのチェーン６
２，７２と取付具６１とを支持部材である両側の側板６
３，６４を介して共に載置するテーブル６５とにより構
成されている。
【００１７】そして、そのチェーン６２を矢示Ｅ方向に
回動させたときに、取付具６１にそれぞれ取り付けられ
た被処理物１６の蒸発源２０Ａ及び２０Ｂ（図３）に対
する位置が順次変わるようにし、テーブル６５を図１に
示すようにベルジャ１１の内周面１１ａに支持部材６６
によって一体に取り付けた固定テーブル６７（固定した
部材）に、ベルジャ１１の内周面１１ａに沿う矢示Ｆ方
向（図３に明示）に回転可能に取り付けている。
回動させたときに、取付具６１にそれぞれ取り付けられ
た被処理物１６の蒸発源２０Ａ及び２０Ｂ（図３）に対
する位置が順次変わるようにし、テーブル６５を図１に
示すようにベルジャ１１の内周面１１ａに支持部材６６
によって一体に取り付けた固定テーブル６７（固定した
部材）に、ベルジャ１１の内周面１１ａに沿う矢示Ｆ方
向（図３に明示）に回転可能に取り付けている。
【００１８】無端状チェーン６２は、図４に示すように
一方の側板６３の内側に間隔を置いて回転自在に取付け
た４個のスプロケット６８ａ〜６８ｄにより張装されて
おり、もう一方の側板６４の内側には同様に４個のスプ
ロケット６９ａ〜６９ｄが回転自在に取付けられてい
て、そこに無端状チェーン７２が張装されている。そし
て、そのスプロケット６８ａと６９ａ及び６８ｂと６９
ｂは軸によってそれらが一体に連結されており、スプロ
ケット６８ｂには駆動スプロケット７１が一体に固定さ
れていて、その駆動スプロケット７１に回転力導入機構
７０（図１参照）から回転力が駆動チェーン７３等を介
して伝達される。
一方の側板６３の内側に間隔を置いて回転自在に取付け
た４個のスプロケット６８ａ〜６８ｄにより張装されて
おり、もう一方の側板６４の内側には同様に４個のスプ
ロケット６９ａ〜６９ｄが回転自在に取付けられてい
て、そこに無端状チェーン７２が張装されている。そし
て、そのスプロケット６８ａと６９ａ及び６８ｂと６９
ｂは軸によってそれらが一体に連結されており、スプロ
ケット６８ｂには駆動スプロケット７１が一体に固定さ
れていて、その駆動スプロケット７１に回転力導入機構
７０（図１参照）から回転力が駆動チェーン７３等を介
して伝達される。
【００１９】チェーン６２及び７２は同一のものであ
り、図５に示すようにそれぞれまゆ形をなす外側鎖片７
４，７４と内側鎖片７５，７５が中空状の連結ピン７６
によって回動自在に連結されていて、この連結ピン７６
のうちの所要の複数のものの中空孔７６ａに、図６に示
すように一端部がローラ８０にボールベアリング８１を
介して挿着された軸８２の他端部を挿入し、ストッパリ
ング８３とナット８４によって固定している。
り、図５に示すようにそれぞれまゆ形をなす外側鎖片７
４，７４と内側鎖片７５，７５が中空状の連結ピン７６
によって回動自在に連結されていて、この連結ピン７６
のうちの所要の複数のものの中空孔７６ａに、図６に示
すように一端部がローラ８０にボールベアリング８１を
介して挿着された軸８２の他端部を挿入し、ストッパリ
ング８３とナット８４によって固定している。
【００２０】そのローラ８０のチェーンと反対側（図６
で右方）に形成したボス部８０ａには切欠き溝８０ｂを
形成し、そこに板バネによるクリップ８６を固着してい
る。また、そのローラ８０の軸方向に沿ってクリップ８
６に支持軸８５を挿着し、それがローラ８０と一体的に
回転するようにして、この支持軸８５に、図４及び図５
に示すように複数個の被処理物１６を取り付けるための
取付具６１を間隔を置いて複数個固設する。
で右方）に形成したボス部８０ａには切欠き溝８０ｂを
形成し、そこに板バネによるクリップ８６を固着してい
る。また、そのローラ８０の軸方向に沿ってクリップ８
６に支持軸８５を挿着し、それがローラ８０と一体的に
回転するようにして、この支持軸８５に、図４及び図５
に示すように複数個の被処理物１６を取り付けるための
取付具６１を間隔を置いて複数個固設する。
【００２１】なお、支持軸８５のクリップ８６に挾持さ
れる端部は、両側に平行な平面部８５ａ（図５又は図６
参照）を形成し、ローラ８０との間で相対回転しないよ
うにしている。取付具６１は、支持軸８５に嵌挿される
円筒状の基部８７と、この基部８７の外周面から放射状
に延びる３本のロッド８８と、その各ロッドの先端に固
着された略三角形状の板バネからなる係止片８９からな
り、この係止片８９によって被処理物１６を点接触で支
持する。
れる端部は、両側に平行な平面部８５ａ（図５又は図６
参照）を形成し、ローラ８０との間で相対回転しないよ
うにしている。取付具６１は、支持軸８５に嵌挿される
円筒状の基部８７と、この基部８７の外周面から放射状
に延びる３本のロッド８８と、その各ロッドの先端に固
着された略三角形状の板バネからなる係止片８９からな
り、この係止片８９によって被処理物１６を点接触で支
持する。
【００２２】このようにして、複数の取付具６１と共に
移動するローラ８０が、チェーン６２及び７２の複数の
連結ピン７６に図４に示すようにそれぞれ回転自在に間
隔を置いて軸支されている。また、チェーン６２，７２
（図４参照）のそれぞれ水平に張装される上下の各走行
部のそれぞれ下側には、図７に示すように各ローラ８０
の下端を接触させることによって回転させながら移動さ
せるガイドレール９１，９２を所定領域に亘って固設し
ている。
移動するローラ８０が、チェーン６２及び７２の複数の
連結ピン７６に図４に示すようにそれぞれ回転自在に間
隔を置いて軸支されている。また、チェーン６２，７２
（図４参照）のそれぞれ水平に張装される上下の各走行
部のそれぞれ下側には、図７に示すように各ローラ８０
の下端を接触させることによって回転させながら移動さ
せるガイドレール９１，９２を所定領域に亘って固設し
ている。
【００２３】したがって、スプロケット６８ｂ，６９ｂ
（図４）を矢示Ｅ方向に回転させると、チェーン６２，
７２は上側走行部が矢示Ｅ1 方向に、下側走行部が矢示
Ｅ2方向にそれぞれ走行するため、各ローラ８０がガイ
ドレール９１，９２に転接することによって図７の矢示
方向にそれぞれ回転する。それによって、各支持軸８５
及び被処理物を固定保持する取付具６１もローラ８０と
共に回転しながら移動する。
（図４）を矢示Ｅ方向に回転させると、チェーン６２，
７２は上側走行部が矢示Ｅ1 方向に、下側走行部が矢示
Ｅ2方向にそれぞれ走行するため、各ローラ８０がガイ
ドレール９１，９２に転接することによって図７の矢示
方向にそれぞれ回転する。それによって、各支持軸８５
及び被処理物を固定保持する取付具６１もローラ８０と
共に回転しながら移動する。
【００２４】回転力導入機構７０は、図１に示すように
ベルジャ１１の外周面に固定した駆動モータ９３の回転
力を中間部分に設けたギャボックス９８内のかさ歯車９
４ａ，９４ｂを介して駆動ギヤ９５に伝達するものであ
り、その駆動ギヤ９５に治具側ギヤ９６が図示のように
かみ合い、それによってチェーン６２が図４に示す駆動
チェーン７３、駆動スプロケット７１、スプロケット６
８ｂを介して回動し、そのスプロケット６８ｂと軸を介
して一体のスプケット６９ｂが回転することにより反対
側のチェーン７２も同方向に回動する。
ベルジャ１１の外周面に固定した駆動モータ９３の回転
力を中間部分に設けたギャボックス９８内のかさ歯車９
４ａ，９４ｂを介して駆動ギヤ９５に伝達するものであ
り、その駆動ギヤ９５に治具側ギヤ９６が図示のように
かみ合い、それによってチェーン６２が図４に示す駆動
チェーン７３、駆動スプロケット７１、スプロケット６
８ｂを介して回動し、そのスプロケット６８ｂと軸を介
して一体のスプケット６９ｂが回転することにより反対
側のチェーン７２も同方向に回動する。
【００２５】なお、回転導入機構７０の駆動ギヤ９５と
治具側ギヤ９６は、図３に示す薄膜形成を行う処理位置
で互いにかみ合い、その位置から治具６０を矢示Ｆ方向
に回転させた時にそのかみ合いが解ける。また、ギャボ
ックス９８は外部との間で気密が保たれるようにシール
されているため、この部分からベルジャ１１内のガス等
が洩れることはない。
治具側ギヤ９６は、図３に示す薄膜形成を行う処理位置
で互いにかみ合い、その位置から治具６０を矢示Ｆ方向
に回転させた時にそのかみ合いが解ける。また、ギャボ
ックス９８は外部との間で気密が保たれるようにシール
されているため、この部分からベルジャ１１内のガス等
が洩れることはない。
【００２６】図８は治具６０を回転可能に支持する部分
の構造を示す断面図である。治具６０は、下部に固定し
たリング状のテーブル６５（図４に形状を明示）が、ベ
ルジャ１１側に支持部材６６を介して固定される固定テ
ーブル６７上を回転することにより、全体が回転できる
ようになっている。
の構造を示す断面図である。治具６０は、下部に固定し
たリング状のテーブル６５（図４に形状を明示）が、ベ
ルジャ１１側に支持部材６６を介して固定される固定テ
ーブル６７上を回転することにより、全体が回転できる
ようになっている。
【００２７】その固定テーブル６７は、テーブル６５と
同様にリング状のテーブルであり、その上面には全周に
亘ってＶ字溝６７ａを形成し、そこに多数のステンレス
製の鋼球５５を回転自在に配設し、その鋼球５５の上部
にテーブル６５の下面を載置して、治具６０全体がころ
がり接触により容易に回転できるようにしている。
同様にリング状のテーブルであり、その上面には全周に
亘ってＶ字溝６７ａを形成し、そこに多数のステンレス
製の鋼球５５を回転自在に配設し、その鋼球５５の上部
にテーブル６５の下面を載置して、治具６０全体がころ
がり接触により容易に回転できるようにしている。
【００２８】テーブル６５は、その外周面に横ずれ防止
用の回転自在なベアリング５６がベアリング保持部材５
８によって保持されることにより接しており、そのベア
リング５６は周方向に間隔を置いて複数個所設けられて
いる。それによって、治具６０が図３の矢示Ｆ方向にの
み回転可能になる。また、そのテーブル６５には、図８
に示すように貫通孔６５ａと、そこから周方向に約９０
°の位置に貫通孔６５ｂ（図３参照）を形成し、それに
対応させて固定テーブル６７に位置決め孔６７ｂを図３
（貫通孔６５ａの真下に位置決め孔６７ｂが位置してい
る）に示すように小窓２５の略中央に対応させて形成し
ている。
用の回転自在なベアリング５６がベアリング保持部材５
８によって保持されることにより接しており、そのベア
リング５６は周方向に間隔を置いて複数個所設けられて
いる。それによって、治具６０が図３の矢示Ｆ方向にの
み回転可能になる。また、そのテーブル６５には、図８
に示すように貫通孔６５ａと、そこから周方向に約９０
°の位置に貫通孔６５ｂ（図３参照）を形成し、それに
対応させて固定テーブル６７に位置決め孔６７ｂを図３
（貫通孔６５ａの真下に位置決め孔６７ｂが位置してい
る）に示すように小窓２５の略中央に対応させて形成し
ている。
【００２９】その位置決め孔６７ｂには、図８に示す固
定ピン５７のピン部５７ａが貫通孔６５ａ又は６５ｂを
貫通した状態で先端側が嵌入可能であり、貫通孔６５ａ
に嵌入させた固定ピン５７を位置決め孔６７ｂに嵌入さ
せた時に図３に示す位置になって治具６０の回転が規制
される。また、貫通孔６５ｂに嵌入させた固定ピン５７
を位置決め孔６７ａに嵌入させた時に、図９に示す位置
になって治具６０が図示の位置に位置決めされる。
定ピン５７のピン部５７ａが貫通孔６５ａ又は６５ｂを
貫通した状態で先端側が嵌入可能であり、貫通孔６５ａ
に嵌入させた固定ピン５７を位置決め孔６７ｂに嵌入さ
せた時に図３に示す位置になって治具６０の回転が規制
される。また、貫通孔６５ｂに嵌入させた固定ピン５７
を位置決め孔６７ａに嵌入させた時に、図９に示す位置
になって治具６０が図示の位置に位置決めされる。
【００３０】このイオンプレーティング装置により被処
理物に薄膜を形成するには、まず最初に図９に示す位置
に治具６０を回転させて、各取付具６１（数を大幅に間
引いて図示している）に被処理物１６を固定保持させ、
その後で治具６０を図３に示す位置まで回転させて図８
の固定ピン５７を貫通孔６５ａと位置決め孔６７ｂに嵌
入させて位置決めする。次に排気口５９等を使用してベ
ルジャ１１内の排気を十分に行った後で密閉し、ベルジ
ャ１１内に反応用のガス（例えばアルゴンガス）を導入
して室内を所定の圧力に保つ。
理物に薄膜を形成するには、まず最初に図９に示す位置
に治具６０を回転させて、各取付具６１（数を大幅に間
引いて図示している）に被処理物１６を固定保持させ、
その後で治具６０を図３に示す位置まで回転させて図８
の固定ピン５７を貫通孔６５ａと位置決め孔６７ｂに嵌
入させて位置決めする。次に排気口５９等を使用してベ
ルジャ１１内の排気を十分に行った後で密閉し、ベルジ
ャ１１内に反応用のガス（例えばアルゴンガス）を導入
して室内を所定の圧力に保つ。
【００３１】そして、図２の蒸発用電源２１によって電
子銃１４Ａ又は１４Ｂから電子ビームを放出させ、それ
をマグネットによって偏向して接地したルツボ１３Ａ又
は１３Ｂ上の蒸発材１５に照射してそれを蒸発させる一
方、被処理物用直流電源２３から、全てが金属製で形成
されているスプロケット６８ａ〜６８ｂ及び６９ａ〜６
９ｂ，チェーン６２及び７２，ローラ８０，支持軸８５
及び取付具６１を介して、被処理物１６に蒸発物質１
５′のイオン化極性と逆極性の電圧を印加する。
子銃１４Ａ又は１４Ｂから電子ビームを放出させ、それ
をマグネットによって偏向して接地したルツボ１３Ａ又
は１３Ｂ上の蒸発材１５に照射してそれを蒸発させる一
方、被処理物用直流電源２３から、全てが金属製で形成
されているスプロケット６８ａ〜６８ｂ及び６９ａ〜６
９ｂ，チェーン６２及び７２，ローラ８０，支持軸８５
及び取付具６１を介して、被処理物１６に蒸発物質１
５′のイオン化極性と逆極性の電圧を印加する。
【００３２】このようにすることによって、蒸発物質１
５′又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応による化合
物が、各取付具６１に固定保持されている被処理物１６
の表面に付着してそこに薄膜が形成される。この実施例
によれば、ベルジャ１１内に多数の被処理物１６を同時
にセットすることができ（被処理物の充填量アップ）、
しかもその被処理物１６がチェーン６２及び７２の回動
に伴なって、蒸発源２０Ａ，２０Ｂに対して左右，上下
の異なる条件の位置を入れ替わりながら回転するので、
全ての被処理物１６の全面に略均一な膜質及び膜厚の薄
膜を形成することができる。
５′又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応による化合
物が、各取付具６１に固定保持されている被処理物１６
の表面に付着してそこに薄膜が形成される。この実施例
によれば、ベルジャ１１内に多数の被処理物１６を同時
にセットすることができ（被処理物の充填量アップ）、
しかもその被処理物１６がチェーン６２及び７２の回動
に伴なって、蒸発源２０Ａ，２０Ｂに対して左右，上下
の異なる条件の位置を入れ替わりながら回転するので、
全ての被処理物１６の全面に略均一な膜質及び膜厚の薄
膜を形成することができる。
【００３３】また、例えばベルジャ１１の奥側に位置す
るフィラメント１７等の部品を交換する際には、治具６
０をベルジャ１１から取り外したりせずに図８の固定ピ
ン５７を抜いて治具６０を作業し易い位置に回転させれ
ば、その作業を容易に行うことができる。なお、この実
施例では、治具６０の回転は作業者が手動で行うが、そ
れをモータ等を使用して自動で回転させるようにしても
よい。
るフィラメント１７等の部品を交換する際には、治具６
０をベルジャ１１から取り外したりせずに図８の固定ピ
ン５７を抜いて治具６０を作業し易い位置に回転させれ
ば、その作業を容易に行うことができる。なお、この実
施例では、治具６０の回転は作業者が手動で行うが、そ
れをモータ等を使用して自動で回転させるようにしても
よい。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、治具の無端状チェーンによって回動される複数の取
付具に被処理物をそれぞれ取り付けることにより、一度
に多くの被処理物に薄膜を形成することができるので、
効率的な薄膜形成ができる。そして、その治具は真空容
器の内周面に沿う方向に回転可能であるため被処理物の
入替えが容易であり、治具を薄膜形成に最適な回転位置
に回転させて薄膜を形成する処理を行えば、被処理物に
膜厚や膜質が均一な薄膜を形成することができる。ま
た、メンテナンス時にはその治具を回転させるだけで、
治具をベルジャから取り外したりせずに真空容器の奥側
に位置する部品の交換作業等を行うことができるので保
守性が向上する。
ば、治具の無端状チェーンによって回動される複数の取
付具に被処理物をそれぞれ取り付けることにより、一度
に多くの被処理物に薄膜を形成することができるので、
効率的な薄膜形成ができる。そして、その治具は真空容
器の内周面に沿う方向に回転可能であるため被処理物の
入替えが容易であり、治具を薄膜形成に最適な回転位置
に回転させて薄膜を形成する処理を行えば、被処理物に
膜厚や膜質が均一な薄膜を形成することができる。ま
た、メンテナンス時にはその治具を回転させるだけで、
治具をベルジャから取り外したりせずに真空容器の奥側
に位置する部品の交換作業等を行うことができるので保
守性が向上する。
【図１】この発明の一実施例を示すイオンプレーティン
グ装置の要部を示す概略構成図である。
グ装置の要部を示す概略構成図である。
【図２】同じくその装置の電源部も含めた概略構成図で
ある。
ある。
【図３】図１の平面図である。
【図４】図１のイオンプレーティング装置内に設けられ
ている治具６０の構成を示す斜視図である。
ている治具６０の構成を示す斜視図である。
【図５】同じくその治具の無端状チェーン６２と取付具
６１を支持している支持軸８５との連結部付近を示す斜
視図である。
６１を支持している支持軸８５との連結部付近を示す斜
視図である。
【図６】同じくその縦断面図である。
【図７】図５の各ローラ８０を回転させながら移動させ
る機構を示す概略図である。
る機構を示す概略図である。
【図８】治具６０を回転可能に支持する部分の構造を示
す断面図である。
す断面図である。
【図９】被処理物をベルジャに対して出し入れする際の
治具６０の位置を示す平面図である。
治具６０の位置を示す平面図である。
【図１０】２つの蒸発源を有するイオンプレーティング
装置において治具の配置が均一な薄膜形成に適さない場
合の例を示す概略図である。
装置において治具の配置が均一な薄膜形成に適さない場
合の例を示す概略図である。
【図１１】同じくその治具の配置が均一な薄膜形成に適
した配置を示す概略図である。
した配置を示す概略図である。
１１ ベルジャ（真空容器） １１ａ 内周面 １５ 蒸発材 １５′ 蒸発物
質 １６ 被処理物 ２０Ａ，２０Ｂ
蒸発源 ６０ 治具 ６１ 取付具 ６２，７２ 無端状チェーン ６３，６４ 側
板（支持部材） ６５ テーブル ６７ 固定テー
ブル
質 １６ 被処理物 ２０Ａ，２０Ｂ
蒸発源 ６０ 治具 ６１ 取付具 ６２，７２ 無端状チェーン ６３，６４ 側
板（支持部材） ６５ テーブル ６７ 固定テー
ブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内の所定の位置にセットした蒸
発源によって蒸発材を蒸発させると共にその蒸発物質を
イオン化し、該蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガス
との反応による化合物を治具の取付具に固定保持した被
処理物に付着させて薄膜を形成するイオンプレーティン
グ装置において、 前記治具を、前記被処理物を固定保持するための複数の
取付具と、該取付具を回動させる無端状チェーンと、該
チェーンと前記取付具とを支持部材を介して共に載置す
るテーブルとにより構成すると共に、前記無端状チェー
ンを回動させたときに前記取付具にそれぞれ取り付けら
れた被処理物の前記蒸発源に対する位置が順次変わるよ
うにし、前記テーブルを前記真空容器内に固定した部材
に該真空容器の内周面に沿う方向に回転可能に取り付け
たことを特徴とするイオンプレーティング装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08253392A JP3193764B2 (ja) | 1992-04-04 | 1992-04-04 | イオンプレーティング装置 |
| KR1019930005223A KR100261205B1 (ko) | 1992-04-04 | 1993-03-31 | 이온 플레이팅 장치 |
| CN93104128A CN1043671C (zh) | 1992-04-04 | 1993-04-05 | 离子镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08253392A JP3193764B2 (ja) | 1992-04-04 | 1992-04-04 | イオンプレーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05287526A JPH05287526A (ja) | 1993-11-02 |
| JP3193764B2 true JP3193764B2 (ja) | 2001-07-30 |
Family
ID=13777147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08253392A Expired - Fee Related JP3193764B2 (ja) | 1992-04-04 | 1992-04-04 | イオンプレーティング装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3193764B2 (ja) |
| KR (1) | KR100261205B1 (ja) |
| CN (1) | CN1043671C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102659624B1 (ko) | 2021-09-23 | 2024-04-23 | 박규락 | 공작물의 내외경 양단 가공용 복합가공기 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105986229B (zh) * | 2016-06-27 | 2018-09-07 | 广东腾胜真空技术工程有限公司 | 一种均匀性的多弧离子镀膜设备 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1018270B (zh) * | 1988-09-29 | 1992-09-16 | 伊恩斯特·弗里尔 | 生产纱线的装置 |
| JPH0452273A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
-
1992
- 1992-04-04 JP JP08253392A patent/JP3193764B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-03-31 KR KR1019930005223A patent/KR100261205B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-04-05 CN CN93104128A patent/CN1043671C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102659624B1 (ko) | 2021-09-23 | 2024-04-23 | 박규락 | 공작물의 내외경 양단 가공용 복합가공기 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930021812A (ko) | 1993-11-23 |
| CN1043671C (zh) | 1999-06-16 |
| JPH05287526A (ja) | 1993-11-02 |
| CN1077995A (zh) | 1993-11-03 |
| KR100261205B1 (ko) | 2000-07-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |