JPH0542505B2 - - Google Patents

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JPH0542505B2
JPH0542505B2 JP9294984A JP9294984A JPH0542505B2 JP H0542505 B2 JPH0542505 B2 JP H0542505B2 JP 9294984 A JP9294984 A JP 9294984A JP 9294984 A JP9294984 A JP 9294984A JP H0542505 B2 JPH0542505 B2 JP H0542505B2
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JP
Japan
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workpiece
evaporation
ion plating
color tone
shutter plate
Prior art date
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Application number
JP9294984A
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English (en)
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JPS60238477A (ja
Inventor
Hideo Shinomya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
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Publication of JPS60238477A publication Critical patent/JPS60238477A/ja
Publication of JPH0542505B2 publication Critical patent/JPH0542505B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明はイオンプレーテイング方法に関し、
特に2つの蒸発源を用いて2種類の蒸発物質を同
時に蒸発させて、被加工物の表面に所望の色調の
被膜を形成する二元蒸発のイオンプレーテイング
方法に関する。
従来技術 イオンプレーテイングは、真空容器内に蒸発源
を設置し、その上方に被加工物(以下「ワーク」
という)を配設して、蒸発源で例えば金(Au)
のような物質を蒸発させてイオン化し、そのイオ
ン化極性と逆極性の電圧を印加したワークの表面
に付着させて被膜を形成する方法である。
このようなイオンプレーテイングによつて、例
えば時計の外装部品(ケースやバンド等)などに
所望の色調の被膜を形成して装飾性を高めること
が従来から行なわれている。
その場合、蒸発物質として例えば金(Au)の
みを用いたのでは、所望の色調を得ることができ
ないので、例えば金(Au)とチタン(Ti)の2
種類の蒸発物質を用いる場合がある。
その場合、この2種類の金属(例えばAuと
Ti)を合金にして、1つの蒸発源で蒸発させて
イオンプレーテイングすることも行なわれている
が、2種類の金属の蒸発温度が異なる場合にはそ
のような方法はとれないし、合金を作る設備が別
に必要になるため、少量生産には適さない。
そこで、同一の真空容器内で、2つの蒸発源を
用いて2種類の物質を別々に蒸発させ、その上方
で多数のワークを循環移動させながらイオンプレ
ーテイングを行なう方法がある。
従来のこのようなイオンプレーテイング方法で
は、2つの蒸発源をそれぞれ覆うシヤツタ板を同
時に開放してイオンプレーテイングを開始し、2
種類の蒸発物質による薄膜がワークの表面に順次
形成されて所望の色調が得られた時に、2つの蒸
発源を同時にシヤツタ板で覆つてイオンプレーテ
イングを終了していた。
しかしながら、このような従来のイオンプレー
テイング方法では、例ば前述のように時計の外装
部品にAuとTiによつて黄金色の被膜を形成する
ような場合、イオンプレーテイングを終了する直
前にAuの蒸発源の上方に位置していたワークと
Tiの蒸発源の上方に位置していたワークとでは
仕上りの色調が違つてしまい、前者の方が幾分濃
い金色になり、後者の方がそれに比べて淡い金色
になる。
これは、Auの蒸発源の上方ではAuの蒸発粒子
が多く付着し、Tiの蒸発源の上方ではTiの蒸発
粒子が多く付着するが、ワークの最終色調に寄与
する率が大きいのはAuであり、Tiは金色を薄め
る役目を果すためである。
目 的 この発明は、このような問題を解決するために
なされたもので、2つの蒸発源を用いて2種類の
蒸発物質によるイオンプレーテイングを一度に多
数のワークに対して行なつても、全てのワークの
仕上り色調が均一になるようにすることを目的と
する。
構 成 そのため、この発明によるイオンプレーテイン
グ方法は、イオンプレーテイングを終了する際
に、2つの蒸発源のうち、ワークの最終色調への
寄与率が小さい方の物質を蒸発させる蒸発源を先
にシヤツタ板で覆い、その後ワークの循環移動周
期の1/2〜1周期遅らせてワークの最終色調への
寄与率が大きい方の物質を蒸発させる蒸発源をシ
ヤツタ板で覆うようにする。
実施例 以下、この発明の実施例を添付図面を参照して
説明する。
第1図は、この発明を実施するためのイオンプ
レーテイング装置であり、真空容器であるベルジ
ヤ1内の下部に2つの蒸発源2,3が間隔を置い
て設置されており、その上方に被膜を形成すべき
多数のワーク4を自転させながら矢示方向に循環
移動させるワーク移動装置5が配置されている。
ベルジヤ1には、内部の空気を排出して真空に
するための排気口6と、必要に応じてアルゴン等
の不活性ガスを導入するためのガス導入口7が設
けられており、各蒸発源2,3の近くにはシヤツ
タ板8,9が図示のように各蒸発源2,3の上方
を開放する位置と覆う位置とに回動可能に設けら
れている。
このシヤツタ板8,9は、例えば第2図に示す
ように、ロータリソレノイド又はモータ等の駆動
源10のベルジヤ1内に延びる回転軸10aに略
水平に取付けられており、軸10aの回転により
矢示のように水平面内で90゜程度回動するように
なつている。
蒸発源2,3は、それぞれ蒸発用交流電源1
0,11によつて給電され、電子ビーム加熱や抵
抗加熱等によつて、るつぼ内に置かれた蒸発物質
(例えばTi、Au等)を蒸発させる。
ワーク4には、高圧直流電源12によつて蒸発
源2,3に対して負の高電圧がワーク移動装置5
を介して印加される。
それによつて、蒸発源2,3によつて蒸発され
る蒸発物質粒子が、ワーク4との間の電界あるい
は別に設けたイオン化電極(図示せず)によつて
イオン化され、ワーク4に引き付けられてその全
表面に略均一に付着して被膜を形成する。
このイオンプレーテイング装置において、例え
ば蒸発源2によつてチタン(Ti)を、蒸発源3
によつて金(Au)それぞれ蒸発させ、シヤツタ
板8,9を第1図に破線で示す遮蔽位置から実線
で示す開放位置へ回動させると、イオンプレーテ
イングが開始される。
そして、第1図にA,Bに示す範囲にはTiの
蒸発粒子が飛翔し、B,Cで示す範囲にはAuの
蒸発粒子が飛翔して(Bで示す範囲にはTiとAu
の両方の蒸発粒子が飛翔する)、それぞれワーク
移動装置5によつて矢示方向に循環移動される多
数のワーク4の表面に順次付着して被膜を形成す
る。
そのため、イオンプレーテイングを終了する際
に、従来のように両シヤツタ板8,9を同時に破
線で示す位置へ回動させて蒸発源2,3の上面を
覆うと、Aの範囲内で終了したワークには最後に
Tiの被膜が形成され、Bの範囲内で終了したワ
ークには最後にTiとAuの混合被膜が形成され、
Cの範囲内で終了したワークには最後にAuの被
膜が形成されているので、それぞれ色調が異な
り、A,B,Cの順で順次濃い金色になる。
この場合、ワークの最終色調に寄与する率が大
きいのはAuであり、Tiは最終色調に寄与する率
が小さい(色をうすくする役目をなす。)。
そこで、この発明によるイオンプレーテイング
方法では、イオンプレーテイングを終了する際
に、先ずシヤツタ板8を破線で示す位置へ回動さ
せてTiを蒸発させる蒸発源2の上面を覆い、そ
の後、ワーク移動装置5によるワーク4の循環移
動周期の1/2〜1周期(1/2周期より若干長い程度
が最適)だけ遅らせて、シヤツタ板9を破線で示
す位置へ回動させてAuを蒸発させる蒸発源3の
上面を覆うようにする。
このようにすれば、各ワーク4の表面に最後に
形成される被膜は全てAuになるので、全てのワ
ーク4の仕上り色調に殆んど差がなくなり、所望
の色調が得られる。
この発明によるイオンプレーテイングを行なう
のに適した蒸発物質の組合わせとしては、ワーク
の最終色調に寄与する率の大きい物質としてAu
を使用し、最終色調に寄与する率の小さい色調調
整用の物質としてTiのほかに、Ni、Pa、Cu、
Cr、Coなどが使用される。
また、いずれか一方が合金で他方が単体(例え
ばAuとTiの合金とTi)でもよいし、両方とも合
金でもよい。
次に、上記実施例におけるワーク移動装置5及
びそれにワークを取付ける取付具の具体例を、第
3図及び第4図によつて説明する。
第3図は、ワーク移動装置及びワーク取付具の
要部斜視図であり、図示しない一対のスプロケツ
トに無端状に張装したチエーン13の中空連結ピ
ン13aに挿着した軸(図示せず)にローラ14
を回転自在に軸支させ、このローラ14に形成し
たボス部14aに設けた切欠き溝14bに板バネ
によるクリツプ15を固着している。
このクリツプ15に、ローラ14の軸方向に沿
つて取付具20の支持軸21を挿着してローラ1
4と一体的に回転するようにし、この支持軸21
にそれぞれ3本のロツド23を放射状に設けた複
数個のボス部22を間隔を置いて固設している。
そして、この取付具20の各ロツド23の先端
部に固着した略三角形状の板バネからなる係止片
24によつて、各ワーク4を点接触で支持する。
このようにして多数のワーク取付具20を回転
自在に支持するワーク移動装置5のチエーン13
が、第1図におけるベルジヤ1内の蒸発源2,3
の上方に、第4図に示すように軸16a,17a
によつてそれぞれ回転可能に軸支された一対のス
プロケツト16,17に無端状に張装される。
そして、このチエーン13の上方走行部及び下
方走行部の下側に、それぞれローラ14を転接さ
せるように所定領域に亘つてガイドレール18,
19を固設している。
したがつて、スプロケツト16,17を矢示A
方向に回転させると、チエーン13の上方走行部
は矢示B方向に、下側走行部は矢示C方向に走行
し、各ローラ14はそれぞれチエーン13と同方
向に移動すると共に、ガイドレール18,19に
転接すると矢示のように回転する。
それによつて、各ワーク取付具20の支持軸2
1がローラ14に同動して循環移動しながら自転
する。
なお、第1図の高圧直流電源12からの電圧
は、全て金属製のスプロケツト16又は17、チ
エーン13、ローラ14、及び支持軸21を含む
取付具20を介して印加される。
効 果 以上、実施例について説明してきたように、こ
の発明による二元蒸発のイオンプレーテイング方
法は、イオンプレーテイングを終了する際に2つ
の蒸発源をシヤツタ板によつて遮蔽する時期を、
ワークの循環移動の1/2〜1周期ずらすだけであ
るが、それによつて、一度にイオンプレーテイン
グを行なう多数のワークの仕上り色調を略均一に
することができる。
しかも、特別な装置を必要としないので簡単に
実施でき、特に多品種少量生産に適する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明を実施するためのイオンプ
レーテイング装置の概略を示す模式的構成図、第
2図は、同じくそのシヤツタ板の取付例を示す斜
視図、第3図及び第4図は、同じくそのワーク移
動装置及び取付具の具体例を示す要部斜視図及び
ベルジヤ内の配置例を示す模式図である。 1…ベルジヤ(真空容器)、2,3…蒸発源、
4…ワーク(被加工物)、5…ワーク移動装置、
8,9…シヤツタ板、10,11…蒸発用交流電
源、12…高圧直流電源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空容器内に異なる物質を蒸発させる2つの
    蒸発源を間隔を置いて配置し、その上方で多数の
    被加工物を循環移動させながらイオンプレーテイ
    ングを行なう方法において、イオンプレーテイン
    グを終了する際に、前記2つの蒸発源のうち、被
    加工物の最終色調に寄与する率が小さい方の物質
    を蒸発させる蒸発源を先にシヤツタ板で覆い、そ
    の後前記被加工物の循環移動周期の1/2〜1周期
    遅らせて被加工物の最終色調に寄与する率が大き
    い方の蒸発物質を蒸発させる蒸発源をシヤツタ板
    で覆うことを特徴とするイオンプレーテイング方
    法。
JP9294984A 1984-05-11 1984-05-11 イオンプレ−テイング方法 Granted JPS60238477A (ja)

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JPH0762855A (ja) * 1993-08-26 1995-03-07 Japan Steels Internatl Kk 伸縮足場板

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JPH07122133B2 (ja) * 1986-08-19 1995-12-25 株式会社ト−ビ イオンプレ−テイング方法とその装置
DE4205017A1 (de) * 1992-02-19 1993-08-26 Leybold Ag Verfahren zur erzeugung einer dekorativen goldlegierungsschicht

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JPS60238477A (ja) 1985-11-27

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