JPH0288765A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は真空処理装置に係り、特に被処理物に薄膜を形
成する成膜処理または被処理物の薄膜を除去するエツチ
ング処理を行う真空処理装置に関する。

〔従来の技術〕

この種の真空処理装置は、従来から光学分野など種々の
分野で広く使用されている。近年は電子部品の小形化・
微細化及び軽量化の要求に伴い電子部品に薄膜加工が多
く施され、このため、電子部品の加工にも真空処理装置
が使用されるようになってきている。

この真空処理装置は一般に薄膜加工すべき電子部品等を
多数取付けたホルダーを真空容器内のホルダー取付用治
具に複数個装着し真空容器内を真空化した後、スパッタ
リング等の真空処理を行う。

この後に真空容器から処理されたホルダーを取出した後
に新たなホルダーを装着する。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、従来の真空処理装置ではホルダー取付用治具
へのホルダーの取付け・取外し作業は、複数のホルダー
を取付用治具から取外した後に新たな複数のホルダーを
取付用治具に取付けるという時系列作業であるため、多
くの時間を要し、真空処理作業の効率を低下させていた
。更に、ホルダー取付用治具が真空容器内にあるため、
真空処理装置の保守点検の作業性が非常に悪いという問
題も存在していた。

そこで、本発明の目的は被処理物を極めて迅速かつ容品
に真空容器に着脱できると共に保守点検作業が簡単であ
る真空処理装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

この目的を達成するために本発明は、一側部に開口部を
有する真空容器と；上記真空容器の開口部を閉塞した第
１位置とそこから離れた第２位置との間を往復移動され
る往復動支持台と；一対の平面部を有し、これらの一対
の宅面部が択一的に上記開口部に対向するように上記往
復動支持台に回転可能に支持され、上記往復動支持台が
上記第１位置の時に、上記開口部に対向している平面部
が上記開口部を接触遮蔽して上記真空容器を密閉し、上
記往復動支持台が上記第２位置の時には上記両手面部と
も上記開口部から離間する遮蔽部材と；上記遮蔽部材の
両手面部から夫々突出するようにかつ上記遮蔽部材と同
一回転中心でもってそれと一体に回転するように上記往
復動支持台に支持された一対の支持アームと二上記一対
の支持アームの各先端部に取付けられ、被処理物を保持
する一対の取付治具とを具備し、上記往復動支持台が上
記第１位置の時に、上記一対の取付治具はその一方が上
記真空容器内に位置し、他方が上記真空容器外に位置す
るものである。

また、上記構成にあっては上記取付治具が上記支持具に
対して自転−■能であり、上記往復動支持台がレール上
を往復走行することが好ましい。

更に、上記遮蔽部材が互いに離間しかつ平行に配置され
た一対の平板から構成されることが望ましい。

〔作　用〕

一対の取付具の一方に被処理物を取付けて往復動支持台
を第１位置に移動することによってこの一方の取付具を
真空容器内に収容すると共に遮蔽部材によって真空容器
を密閉する。この後に真空容器を真空化して所定の真空
処理を行う。この間に真空容器外の他方の取付具に被処
理物を取付けておき、上記真空処理が終了したら、往復
動支持台を第２位置に移動し次いで遮蔽部材と支持具と
を一体に回転して上記他方の取付具を真空容器の開口部
に対向させる。この後に往復動支持台を再び第１位置に
移動し、この他方の取付具を真空容器内に収容して上述
と全く同様に真空処理を行う。

この間に真空容器外の上記一方の取付具から処理済の被
処理物を取外すと共に新たな被処理物を取付ける。以上
の操作が繰返し行われる。

〔実施例〕

以下に本発明による真空処理装置の実施例を図面を参照
して説明する。

第１図及び第２図において、床１には制御器等を内蔵す
る載置部２が固定され、この載置部２には真空容器３が
固定的に載置されている。この真空容器３は一側部に開
口部４が穿設されており、この開口部４を形成する真空
容器３の外壁はフランジ３ａとして形成され、このフラ
ンジ３ａにはバッキング５が固着されている。また別の
側部にはポンプ接続用孔６が穿設され、このポンプ接続
用孔６は図示を省略した排気用のポンプに接続されてい
る。

真空容器３には一個以上のスパッター源７が取付けられ
、このスパッター源７は載置部２の制御器によって制御
される。また真空容器３にはガス導入管８が接続され、
このガス導入管８にはガス導入弁９及び流量調節器１０
が夫々取付けられている。

床１には一対のレール１１が設置され、この一対のレー
ル１１には車輪１２を介して往復動支持台１３が載置さ
れている。この往復動支持台１３はレール１１上を真空
容器３に接近した第１位置とそれから離れた第２位置と
の間で往復移動される。往復動支持台１３には、下部及
び上部フランジｌｉａ、１４ｂを具備する回転軸１４が
回転可能にかつ鉛直方向に取付けられ、この上部フラン
ジ１４ｂには一対の平板状の遮蔽板１５Ａ。

１５Ｂが固着されている。これらの遮蔽板１５Ａ。

１５Ｂは、一定の間隙を隔てて平行に対向しており、往
復動支持台１３が第１位置に移動した時にバッキング５
と当接して真空容器３の開口部４を遮蔽できるように定
められている。

各遮蔽板１５Ａ、１５Ｂの下部には支持アーム１６Ａ、
１６Ｂが遮蔽板の面に垂直に突設され、各支持アーム１
６Ａ、１６Ｂの先端部には被処理物取付治具１７Ａ、１
７Ｂが支持軸１８Ａ。

１８Ｂによって自転可能に支持されている。これらの取
付治具１７Ａ、１７Ｂは外形が円筒形であり、その外周
には処理すべき電子部品等の被処理物を多数保持するホ
ルダー１９が複数個取付けられる。取付治具１７Ａ及び
１７Ｂは、往復動支持台１３が第１位置に移動した時に
各スパッター源７からほぼ一定間隔隔てて位置するよう
に、その径と遮蔽板１５Ａ、１５Ｂからの突出量とが定
められている。

次にこの実施例の作用を説明する。

第１図及び第２図では往復動支持台１３が第１位置に位
置・し遮蔽板１５Ａがバッキング５と当接して真空容器
３の開口部４を遮蔽している。真空容器３内の取付治具
１７Ａの周囲には、電子部品等の被処理物を多数保持し
たホルダー１９が複数枚取付けられている。真空容器３
はポンプ接続用孔６を介して図示を省略した排気用のポ
ンプによって真空排気された後に、ガス導入管８からガ
ス導入弁９と流量調節器１０とを介してアルゴンガス等
の真空処理ガスが導入されている。この状態でスパッタ
ー源７が載置部２の制御器によって活性化され被処理物
にスパッタリングが行われる。

このスパッタリングの間、取付治具１７Ａは薄膜が被処
理物に均一に形成されるように自転されている。

スパッタリングが終了すると、往復動支持台１３が第２
位置に移動されて取付治具１７Ａが真空容器３の外に取
出され、次いで遮蔽板１５Ａ。

１５Ｂと支持具１６Ａ、１６Ｂと取付治具１７Ａ及び１
７Ｂとが１８０°回転される。この後直ちに、往復動支
持台１３が第１位置に移動されて、遮蔽板１５Ｂによっ
て真空容器３の開口部４を遮蔽すると同時に取付治具１
７Ｂを真空容器３内に収容する。この取付治具１７Ｂの
周囲には被処理物を多数保持したホルダー１９が、上述
のスパッタリング処理の間に取付けられている。この後
、真空容器３が真空排気されかつ真空処理ガスが導入さ
れて、スパッタリングが行われる。

この間に、真空容器３の外の取付治具１７Ａは処理済の
ホルダー１９が取外されると共に新たな被処理物を保持
したホルダー１９が取付けられる。

取付治具１７Ｂの被処理物についてスパッタリング処理
が終了すると、再び往復動支持台１３が第２位置に移動
されて取付治具１７Ｂが真空容器３の外に取出され、上
述の操作が繰返される。

こうして、一方の取付治具の被処理物が真空容“器内で
真空処理されている間に、他方の取付治具は真空容器外
において処理済の被処理物の取外し及び新たな被処理物
の取付けが行われるので、被処理物の取外し及び取付け
の時間を実質的に零にすることができる。

なお、取付治具１７Ａ、１７Ｂを自転させるモータは各
取付治具の内部自体または支持アーム１６Ａ、１６Ｂに
設置することができ、遮蔽板１５Ａと１５Ｂとの間の間
隙には取付治具１７Ａ及び１７Ｂの操作に使用する制御
装置等、例えば上記モータの制御器等を設置することが
できる。

また、往復動支持台１３の移動及び取付治具１７Ａ、１
７Ｂ等の１８０°の回転は手動駆動でもよいし、モータ
駆動によることもできる。更に、取付治具１７Ａ、１７
Ｂ等の回転量は上記実施例のように１８０°が操作性の
点で最適であるが、一方の取付治具が真空容器内に位置
する時に他方の取付治具が真空容器外に位置するような
位置関係を満足できるならば、必ずしも１８０°に限ら
れるものではない。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、一方の
取付治具の被処理物が真空容器内で真空処理されている
間に、真空容器外の他方の取付治具について処理済の被
処理物の取外し及び新たな被処理物の取付けが行われる
ので、被処理物の取外し及び取付けの時間を実質的に零
にすることができる。また、往復動支持台の往復移動に
よって真空容器への取付治具の収容と真空容器の遮蔽と
真空容器からの取付治具の取出しとが行われ、更に取付
治具の回転によって取付治具の交替が行われるため、真
空処理操作が簡便かつ迅速に行うことができる。

また、取付治具を真空容器外に取出すことができるため
、真空処理装置の保守点検が極めて容易となる。更に、
取付治具への被処理物の取付け・取外しは真空容器外の
所定位置、即ち往復動支持台の第２位置で行われるため
、作業性がよく、自動化も図り昌い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による真空処理装置の一実施例の一部断
面平面図、第２図は同正面図である。 ３・・・真空容器、４・・・開口部、１１・・・レール
、１３・・・往復動支持台、１５・・・遮蔽部材、１６
・・・支持アーム、１７・・・取付治具。 出願人代理人　　佐　　藤　　−雄

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一側部に開口部を有する真空容器と；上記真空容器
   の開口部を閉塞した第１位置とそこから離れた第２位置
   との間を往復移動される往復動支持台と；一対の平面部
   を有し、これらの一対の平面部が択一的に上記開口部に
   対向するように上記往復動支持台に回転可能に支持され
   、上記往復動支持台が上記第１位置の時に、上記開口部
   に対向している平面部が上記開口部を接触遮蔽して上記
   真空容器を密閉し、上記往復動支持台が上記第２位置の
   時には上記両平面部とも上記開口部から離間する遮蔽部
   材と；上記遮蔽部材の両平面部から夫々突出するように
   かつ上記遮蔽部材と同一回転中心でもってそれと一体に
   回転するように上記往復動支持台に支持された一対の支
   持アームと；上記一対の支持アームの各先端部に取付け
   られ、被処理物を保持する一対の取付治具とを具備し、
   上記往復動支持台が上記第１位置の時に、上記一対の取
   付治具はその一方が上記真空容器内に位置し、他方が上
   記真空容器外に位置することを特徴とする真空処理装置
   。 ２、上記取付治具は上記支持アームに対して自転可能で
   あり、上記往復動支持台はレール上を往復走行すること
   を特徴とする請求項１記載の真空処理装置。 ３、上記遮蔽部材は互いに離間しかつ平行に配置された
   一対の平板から構成されることを特徴とする請求項１記
   載の真空処理装置。