TWI236468B - Process for producing halogenated beta-lactam compound - Google Patents
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Description
l236468
i主灿本發明有關一種自化沒—内酿胺化人1 寺傲為使通彳门、一 B物之製造法,i 文通式Cl)所不之/3 -内隨胺系 ,、 牧糸私基化合物:
[式中,η為〇至2之整數;A為式(2) _ 相同式或相異且為氫原子、鹵原子—:不,R1及R2為 C2-4炔基、親核性基或CH R3基,其 二基、C2_4烯基、 基],在齒分子存在下,在酸性條件中為,乂子么親核性 酸塩在漿液分散狀態下反應,製得 ^广或亞硝 酿胺化合物: 于式(4)所不之函化厂内
[式中Α如前述定義,χ:為氫原子或齒原子,χ2為函原子]。 本發明基於安全性及環境污染觀點,避免使用較多問 題之有機溶劑’意欲建立僅使用水作為主溶劑之w便、低 價之製造方法’而對反應條件各種檢討結果,若現使通式 (2)所示之点-内醯胺系胺基化合物在水中以漿料分散狀態
C:\Program Files\Patent\310521. ptd 第7頁 1236468 五、發明說明(3) 〜 反應’可以大規模且有效率把製造通式(4)所示之鹵化沒〜 内醯胺化合物,因而完成本發明。 本發明之取代基R1、R2、R3中之由原子為氯、溴及 碘。又Ci_3烷基例如為甲基、乙基、丙基等,Q 4烯基例如 為乙烯基、丙烯基、烯丙基、丁烯基等,G 4炔基例如為 乙炔基、丙炔基、丁炔基等。 ^ 本發明之取代基R1、R2、R3中之親核性基為例如乙醯 氧基、丙醯氧基、3 -氧代丁醯氧基、羧基丙醯氧基、4一 羧基丁醯氧基等碳數2至4之脂族醯氧基、扁桃基氧基、2一 羧基节氧基等芳族醯氧基、胺甲醯氧基、羥基、巯基, 或該等親核性基可進一步經碳數1至3之烷基、碳數1至3之 脂族醢基等取代,取代基數通常宜為1至2個。 再者本發明之取代基R1、R2、R3中之親核性基含有例 如介由S結合之雜環,亦即雜環硫基。該等雜環為含有選 自0、S或N之1至4個雜原子之5至6員環。該等雜環為例如 吡啶基、嗒畊基、吡唑基、噻唑基、噻二唑基、三唑基、 四唑基等。又該雜環可具有例如碳數丨至3之低級烷基 代基。 本發明中通式(4)所示之鹵化召―内醯胺化合物之χι、 X2所示之鹵原子為氣、溴及碘。 本發明中之酸性條件係藉由加酸所得。可使用之酸為 例如硫酸、氫鹵酸、硝酸等。酸相對於通式(丨)所示化合 物之使用量通常為1至2〇當量,宜為丨· 5至6當量。本發二 中使用之函分子例如為溴、碘及氣。卣分子相對於通式
1236468
五、發明說明(4) (1)所示化合物之使用量通常為1至16當量,宜為2至6告 量。本發明中使用之亞頌酸塩可為亞硝酸鈉、亞硝酸^ f °亞硝酸式亞硝酸塩相對於通式(I)所示化合物之使用 量通常為1至12當量,宜為2至6當量。 本發明之反應通常在常壓進行,必要時可在加壓下進 行。又,反應溫度宜為-10至15°C,尤佳為—5至6〇c。 本發明中,通式(1)所示化合物與水之漿液或通式(1) 所示化合物之粉末宜以一段時間分批添加。反應時^係依 據反應溫度、基質濃度及試劑當量數而異,通常宜為6至 36小時,尤佳為12至24小時。 ’ 本發明中’可在密閉容器或非密閉容器内進行,反應 結束後,過濾所析出之結晶,可以高效率地得到高純度: 目的/3 -内醯胺化合物,通常亦可以再結晶等純化法純 化。 / [實施發明之最佳具體例] 以下列舉實施例更詳細說明本發明,但本發明不限於 該等實施例。
6,6-二溴青黴酸(4&)[人二(2)、以=(:113,尺2 = (:113,\1:^, X2 = Br,n = 0]之合成 於2升4頸瓶中混合水1 8 2毫升、氫漠酸(4 7 %水溶 液)100克,冷卻至1。(:以下。於所得混合物中添加3〇毫升 溴及調製成36%之亞硝酸鈉水溶液72毫升,各添加時溫度 保持在5 °C以下。另外,於另一容器中混合214毫升水m及
C:\Program Files\Patent\31052L ptd 第 9 頁 1236468 五、發明說明(5) 克6-胺基青黴酸(la)[A = (2),RLCH3、R2 = CH3,n = 〇],.得到 6- 胺基青黴酸漿液,予以冷卻。該漿液維持在6 t:以下之 滷度分批少量添加至上述混合物中,歷時1 2小時。 上述混合液在6 °C以下攪拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫納水溶液至漿液由褐 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以240毫升水洗淨, 得約61克之6,6-二溴青黴酸(4a)(收率92%)。 NMR, CDC13 (ppm) ; 1· 5 6 (3H, s)、1. 6 5 (3H, s), 4.5 8 (1H, s)、5. 7 8 (1H, s) I R (cm,1) ; 3 3 0 0 (b i:)、1 7 9 0、1 7 6 3、1 3 3 8 實施例2 7,7-二溴頭孢菌素酸(41))[八=(3)、以=(:1121?3、1?3 = 0(:0(:113, XLBr,X2 = Br,n = 0]之合成 於2升4頸瓶中混合水170毫升、氫溴酸(47%水溶 液)1 0 0克,冷卻至1 °C以下。於所得混合物中添加3 0毫升 溴及調製成36%之亞硝酸鉀水溶液88毫升,各添加時溫度 保持在5 t:以下。 另外,於另一容器中混合2 14毫升水及50克7-胺基頭 孢菌素酸(11))[八=(3),1^(:1121?3、1?3 = 0(:0(:113,11 = 0],得到 7- 胺基頭孢菌素酸漿液,予以冷卻。該漿液維持在6 °C以 下之滷度分批少量添加至上述混合物中,歷時1 4小時。 上述混合液在6 °C以下攪拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫鈉水溶液至漿液由褐 im irani C:\Program Files\Patent\31052L ptd 第 10 頁 1236468 五、發明說明(6) 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以2 4 〇毫升水洗淨, 得約66克之7,7-二溴頭孢菌素酸(4b)(收率86%)。 NMR, CDC13 (ppffl); 2.0 5 (3H, s). 3.6 2 (2H, d d), 4. 9 3 (2H, d d)、5· 0 4 (1H, s) I R (cnT1) ; 3 3 5 0 (br)、1 7 9 5、1 7 6 9、1740 實施例3 7,7-二溴脫乙醯基頭孢菌素酸(4〇)[入=(3),以=(^3, X1=Br,X2 = Br,n = 0]之合成 於2升4頸瓶中混合水182毫升、氫溴酸(47%水溶 液)100克,十卻至1 t以下。於所得混合物中添加3〇毫升 漠及調製成36%之亞硝酸鈉水溶液72毫升,各添加時溫度 保持在5 °C以下。另外,於另一容器中混合214毫升水及4〇 克7-胺基脫乙醯基頭孢菌素酸(lc)[A = (3),R1=CH3, n = 0 ]’得到7-胺基脫乙醯基頭孢菌素酸漿液,予以冷卻。 該漿液維持在6 °C以下之滷度分批少量添加至上述混合物 中,歷時1 2小時。
上述混合液在6 °C以下攪拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫鈉水溶液至漿液由褐 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以24〇毫升水洗淨, 得約58克之7, 7-二溴脫乙醯基頭孢菌素酸(收率87%)。 NMR, CDCI3 (ppm); 2.10 (3H, s), 3.7 5 (2H, dd), 5.0 9 (1H, s) IR (cm1); 3340 (br)、1780、1762
C:\ProgramFiles\Patent\31052Lptd 第 11 頁 1236468 五、發明說明(Ό 實施例4 7, 7 -二溴-3-(2-曱基-1,3, 4 -噻二唑—5—基)硫曱基一3〜頭抱 菌素-4-羧酸(4d)[A二(3),ί^(:Η2ί{3式(5)之基, X!=Br,X2 = Br,η二0]之合成 Ν-Ν (5) 於2升4頸瓶中混合水182毫升、氫溴酸(47%水溶 液)100克,冷卻至1 °C以下。於所得混合物中添加30亳升 漠及調製成36%之亞硝酸鈉水溶液72毫升,各添加時溫度 保持在5 °C以下。 另外,於另一容器中混合214毫升水及50克7-胺基 - 3-(2-甲基-1,3, 4 -噻二唑-5 -基)硫甲基—3-頭孢菌素-4-叛酸(ld)[A = (3) ’R1 = CH2R3、R3=式(5)之基,n = 0],而得7-胺基-3-(2-甲基-1,3, 4 -噻二唑—5-基)硫甲基-3 -頭孢菌素 -4-羧酸漿液,予以冷卻。該漿液維持在6以下之滷度分 批少量添加至上述混合物中,歷時丨4小時。 上述混合液在6 °C以下攪拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫鈉水溶液羑漿液由褐 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以240毫升水洗淨, 得約60克之7, 7 -二溴-3- (2-甲基-1,3, 4-噻二唑一5 —基)硫 甲基-3-頭孢菌素一 4 -羧酸(收率85%)。
Harm C:\ProgramFiles\Patent\310521.ptd 第 12 頁 1236468
五、發明說明(9) 2升4頸瓶中添加6,6-二溴青徽酸(43)[及=(2), R^CH3,R2 = CH3,Xi=Br,XkBr,n = 0]70 克及水5〇〇 毫升接 著於3 0分鐘内添加3N氫氧化鈉i〇5毫升。溶解66 —二漠青 黴酸’在ρΗ7· 〇下安定。該水溶液冷卻至—5它,添加過^ 酸鉀之預混合溶液(過錳酸鉀59· 3克,濃磷酸18毫升^水 600毫升所調製)至溶液呈粉紅色為止。添加結束後,添7加 500¾升乙酸乙酯,添加塩酸1Q5毫升使pjj降為1 23。 著,約l〇°C下,以6N塩酸維持pH在1.25至1.35間,於1〇2 15分鐘内添加硫酸氫鈉250毫升。水相以氯化鈉飽和。 分離有機層,水層再分別以乙酸乙酯1 5 〇毫升萃取2次。㉟ 合乙酸乙酯溶液,以硫酸鎮乾燥。溶液中含有克6,6、一 溴青黴酸-1,1-二氧化物(收率92%)。 NMR, DMS〇-d6 (ppm) ; 1. 3 8 (3H, s)、1. 4 8 (3 H, s)、4 6 9 (1Η, s)、6. 0 1 (1H, s) I R (cuT1) ;3400 (br)、1818、17 5 4 參考例2 青黴酸-1,1-二氧化物(sulbactam)之合成 含參考例1所得之6,6 -二溴青黴酸—1,1 —二氧化物 [A=(2),RLCHs,R2 = CH3,X1=Br,X2 = Br,n = 2]70 克之乙酸己 醋溶液中,添加7 Ο 5毫克飽和碳酸氫鈉溶液,再添加8 · 9克 之5%絶/活性碳觸媒。混合物在氣氣中約gkg/cin2壓力下搜 拌1小時。濾除觸媒,以6N塩酸調整濾液水相pH為1 · 2。水 相以氯化鈉飽和分離有機相,水相再分別以乙酸乙酯2 〇 〇
C:\Program Files\Patent\310521. ptd 第 14 頁 1236468 五、發明說明(10) 毫升萃取3次。合併之乙酸乙酯溶液以硫酸鎂乾燥,真空 蒸發得3 3 · 5克青黴酸—1,1 —二氧化物結晶(收率8 〇 % )。 NMR, DMS〇—d6 (ppn) ; 1. 3 6 (3H, s )、1 · 4 6 (3 H, s )、4 · 41 (2H, dd)、4.24 (1H, s)、5·17 (1H, dd) I R (cuT1) :3380 (br)、178 0、1600 生A例1(有機溶劊y 6, 6 -二溴青黴酸之合成 於2升4頸瓶中混合四氯化碳6 7毫升、水1 〇 7毫升、稀 硫酸(7 0%水溶液)44毫升,冷卻至1 °C以下。於所得混合物 中添加20毫升溴及調製成36%之亞硝酸鈉水溶液44毫升, 各添加時溫度保持在5 t以下。 另外’於另一容器中混合170毫升四氯化碳及40克6- 胺基青黴酸(la)[A=(2),π=(:Η3、R2 = CH3,n = 0],得到6 -胺 基青黴酸漿液,予以冷卻。該漿液維持在6。(:以下之滷度 分批少量添加至上述混合物中,歷時1 2小時。 上述混合液在6 °C以下攪拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫鈉水溶液至漿液由褐 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以4〇毫升四氣化碳再 以240毫升水洗淨,得約47克之6, 6-二溴青黴酸(收率 71%)。 6,6-二溴青黴酸之NMR及IR數據與實施例1相同。 比較例2 (有機溶劑法) 6, 6—二溴青黴酸之合成
C:\Program Files\Patent\31〇521ptd 第 15 頁 1236468 五、發明說明(11) ~ 於2升4頸瓶中混合二氯甲烷67毫升、水1 〇7毫升、稀 硫酸(7 0%水溶液)44毫升,冷卻至1 t:以下。於所得混合物 中添加20毫升溴及調製成36%之亞硝酸納水溶液44毫升, 各添加時溫度保持在5 t:以下。 另外,於另一容器中混合1 70毫升二氯甲烷及4〇克6一 胺基青黴酸(la)[A=(2),R1 二CH3、RLCh3,πο],得到6—胺 基青黴酸漿液,予以冷卻。該漿液維持在6。(:以下之滷度 分批少量添加至上述混合物中,歷時1 2小時。 上述混合液在6 °C以下擾拌1小時後,氣相以空氣置 換。漿液狀之反應液中添加亞硫酸氫鈉水溶液至漿液由褐 色變為微黃色為止。濾取生成物後,以4〇毫升二氯甲垸再 以240毫升水洗淨,得約4〇克之6, 6—二溴青黴酸(收率凡 60〇/〇)。 6,6—二漠青黴酸之NMR及IR數據與實施例i相同。 產業利用性 本發明不使用由安全性或環境污染之觀點而言具有 多問題點之有機溶劑,而提供一種使用水作為反應溶劑之 具工業價值、低價且安全之由化0 —内醯胺化合物高收 南效率之制造方法。
C:\Program Files\Patent\310521. ptd 第 16 頁
Claims (1)
123硕8—丨 :^ % /.,〆 女’ 88105263 年4月斗曰 :1¾¾^ ,g- r 申請專利範圍 •種ii化/?-内醯胺化合物之製法,其特徵為使通式 1 )所示之Θ -内醯胺係胺基化合物: (〇)n
(2) (3)
[式中,η為0至2之整數;Α為式(2 )或(3 )所示;R 1及R 2為 相同或相異且為C!_探基、或CH2R3基,其中R為碳數2至 4之脂族醯氧基、或雜環硫基],在鹵分子存在下,在酸 性條件中,與亞硝酸或亞硝酸塩在水中呈製液分散狀態 及-1 0°C至1 5°C之溫度下反應,製得式(4 )所示之鹵化/3 -内醯胺化合物:
(4) [式中A如前述定義,X1為氫原子或鹵原子,X2為鹵原子] 〇 2.如申請專利範圍第1項之製法,其中鹵分子為溴、碘或 氯。 3 .如申請專利範圍第1項之製法,其中雜環硫基之雜環為
310521.pic 第]I 2005.03. 18.018 1236468 _案號 88105263 六、申請專利範圍 f>年a月今曰 修正 含有選自0、S或N之1至4個雜原子之5至6員環。 4.如申請專利範圍第3項之製法,其中雜環為吡啶基、嗒 哄基、吼唑基、噻唑基、噻二唑基、三σ坐基或四唑基 者。
?]〇521.pic 第2頁 2005. 03. 18. 019
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