TWD202042S - 半導體製造裝置用密封材 - Google Patents

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TWD202042S TW108301850D03F TW108301850D03F TWD202042S TW D202042 S TWD202042 S TW D202042S TW 108301850D03 F TW108301850D03 F TW 108301850D03F TW 108301850D03 F TW108301850D03 F TW 108301850D03F TW D202042 S TWD202042 S TW D202042S
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吉田延
中川一平
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日商華爾卡股份有限公司
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【物品用途】;本物品係一種半導體製造裝置用密封材,適合使用於例如CVD或乾蝕刻裝置等半導體裝置。如顯示本物品之使用狀態的參考圖所示,本物品之半導體製造裝置用密封材係插入設於半導體製造裝置之第1構件的溝部內,而用以將第1構件與第2構件之間密封者。;【設計說明】;本設計係關於第108301850號專利申請案之衍生設計。;後視圖與前視圖相同,故省略之。左側視圖與右側視圖相同,故省略之。;A-A剖面圖係俯視圖中之A-A線處的剖面圖。;B-B放大剖面圖係將A-A剖面圖中之B-B線部分予以放大顯示的圖。

Description

半導體製造裝置用密封材
本物品係一種半導體製造裝置用密封材,適合使用於例如CVD或乾蝕刻裝置等半導體裝置。如顯示本物品之使用狀態的參考圖所示,本物品之半導體製造裝置用密封材係插入設於半導體製造裝置之第1構件的溝部內,而用以將第1構件與第2構件之間密封者。
本設計係關於第108301850號專利申請案之衍生設計。
後視圖與前視圖相同,故省略之。左側視圖與右側視圖相同,故省略之。
A-A剖面圖係俯視圖中之A-A線處的剖面圖。
B-B放大剖面圖係將A-A剖面圖中之B-B線部分予以放大顯示的圖。
TW108301850D03F 2018-10-12 2019-04-02 半導體製造裝置用密封材 TWD202042S (zh)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWM379164U (en) 2009-12-22 2010-04-21 Ying-Hsiang Chen Sealing ring for the wafer-plating jig

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWM379164U (en) 2009-12-22 2010-04-21 Ying-Hsiang Chen Sealing ring for the wafer-plating jig

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