TWD201830S - 半導體製造裝置用密封材 - Google Patents
半導體製造裝置用密封材 Download PDFInfo
- Publication number
- TWD201830S TWD201830S TW108301849F TW108301849F TWD201830S TW D201830 S TWD201830 S TW D201830S TW 108301849 F TW108301849 F TW 108301849F TW 108301849 F TW108301849 F TW 108301849F TW D201830 S TWD201830 S TW D201830S
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- view
- sectional
- article
- cross
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
【物品用途】;本物品係一種半導體製造裝置用密封材,適合使用於例如CVD或乾蝕刻裝置等半導體裝置。如顯示本物品之使用狀態的參考圖所示,本物品之半導體製造裝置用密封材係插入設於半導體製造裝置之第1構件的溝部內,而用以將第1構件與第2構件之間密封者。;【設計說明】;後視圖與前視圖相同,故省略之。左側視圖與右側視圖相同,故省略之。;A-A剖面圖係俯視圖中之A-A線處的剖面圖。;B-B放大剖面圖係將A-A剖面圖中之B-B線部分予以放大顯示的圖。
Description
本物品係一種半導體製造裝置用密封材,適合使用於例如CVD或乾蝕刻裝置等半導體裝置。如顯示本物品之使用狀態的參考圖所示,本物品之半導體製造裝置用密封材係插入設於半導體製造裝置之第1構件的溝部內,而用以將第1構件與第2構件之間密封者。
後視圖與前視圖相同,故省略之。左側視圖與右側視圖相同,故省略之。
A-A剖面圖係俯視圖中之A-A線處的剖面圖。
B-B放大剖面圖係將A-A剖面圖中之B-B線部分予以放大顯示的圖。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018-022470 | 2018-02-09 | ||
| JPD2018-22470F JP1639503S (zh) | 2018-10-12 | 2018-10-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD201830S true TWD201830S (zh) | 2020-01-01 |
Family
ID=67615107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW108301849F TWD201830S (zh) | 2018-10-12 | 2019-04-01 | 半導體製造裝置用密封材 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP1639503S (zh) |
| TW (1) | TWD201830S (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP1721756S (ja) | 2021-12-23 | 2022-08-05 | シール材 |
-
2018
- 2018-10-12 JP JPD2018-22470F patent/JP1639503S/ja active Active
-
2019
- 2019-04-01 TW TW108301849F patent/TWD201830S/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP1639503S (zh) | 2019-08-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWD208041S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD197465S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD197462S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD197825S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD196951S (zh) | 複合密封材 | |
| TWD208206S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| USD923159S1 (en) | Seal member for use in semiconductor production apparatus | |
| TWD208234S (zh) | 呼吸回路之插管接頭 | |
| TWD236458S (zh) | 連接器 | |
| TWD189708S (zh) | 複合密封材 | |
| TWD192693S (zh) | 真空吸塵器(五十四) | |
| TWD192695S (zh) | 真空吸塵器(五十六) | |
| TWD192472S (zh) | 真空吸塵器之部件(五) | |
| TWD192697S (zh) | 真空吸塵器(五十八) | |
| TWD189097S (zh) | 密封材 | |
| TWD202039S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD201830S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD202041S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD192467S (zh) | 真空吸塵器(十一) | |
| TWD202042S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD202040S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD202038S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD197110S (zh) | 複合密封材 | |
| TWD208207S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 | |
| TWD200032S (zh) | 半導體製造裝置用密封材 |