TW594304B - Liquid crystal display device - Google Patents

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TW594304B
TW594304B TW091114415A TW91114415A TW594304B TW 594304 B TW594304 B TW 594304B TW 091114415 A TW091114415 A TW 091114415A TW 91114415 A TW91114415 A TW 91114415A TW 594304 B TW594304 B TW 594304B
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Joun-Ho Lee
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Lg Philips Lcd Co Ltd
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Description

594304 1 號 911M415 五、發明說明(1) [發明領域] 本發明係有關於 是一種可以提昇晝像 月 曰 =晶 _ 示裝置(LCD device) 質的液晶顯示裝置。 特別 [發明背景] 近年來,一些關於平面。 顯干哭目女 L s 卞”、、員不為的研究已有許多。液3曰 ,不态具有一些優點,例如·古 從日日 r.tl· X ^ ^ 1 j 戈·问反襯比(high contrast 圭像,、功:;/肖耗,以及顯示特性適合於反襯及移動 液晶顯示目前正被使用於額外擴充的區: 々取代陰極射線官(cathode ray tube)以克服陰極射線 官的缺點。 該液晶顯示裝置包括有:一開關元件,一畫素電極 (pixel electrode),一陣列基層(array substrate),一
普通電極,一彩色濾光片層(colorfilter layer),一彩 色濾光片基層(c〇l〇r filter substrate),以及一液晶 層。該開關元件施加或中斷一電壓於該晝素電極上,該晝 素電極作動為一可穿透光經過之區域,且施加一訊號電壓 至該液晶層上。該陣列基層包括有一儲存電容、其乃為了 降低位準移動電壓及為了保持晝素訊息(P 1 xe 1 information)。該普通電極使用一來自畫素電極的電壓差 而在液晶層上形成一電場。該彩色慮光片層顯示出顏色以 及選擇性的傳導光,該彩色滤光片基層包括有一黑矩陣 (black matrix)其係用以防止光線進入一個其液晶排列不 可控制的區域。而該浪晶層被形成於陣列基層和彩色濾光 片基層之間。
第6頁
修正 4細地1兄’上述儲存電容乃是在薄膜電晶體的關閉期 =維持該電壓的儲存在一液體電容,係作為處理因寄生電 ^所引起的晝質降低。該儲存電容依照如何去形成其本身 電極’而被區々為儲存電容型式(st〇rage capacitance ype)以及補充電谷型式(suppiement capacitance type)。在該儲存電容型式中,儲存電容之任一電極係為 被分開地提供。在該補充電容型式中,一部份的第(n _ j ) 條掃描線被使用作為第η個晝素的儲存電容的電極。 -亥補充電谷型式具有一高孔徑比(aperture ratio), 此乃因其對4電谷沒有使用分離線之故,並且藉由信號線 及電容線之無交錯部份使其具有一高產率。然而,因為點 反轉(dot-inversion)和行反轉(c〇iumn inversi〇n)不能 完全被獲得,該畫質是相當地低劣。 另一方面而言,在該儲存電容型式中提供分離線 (separate 1 ines)給電容,該孔徑比被降得較低但是畫質 伸破提昇。因此,該儲存電容型式是更適合於一視訊顯示 兀件’假如該元件能夠克服低孔徑比的問題的話。 參閱所附之圖,一相關技藝之LCD裝置將被描述於如 下0 如圖1所示,其係描述LCD裝置相關技術之平面視圖及 图2所示其係為顯示一晝素之等效電路(equivaient c i r cu i t)圖。 ^ 補充電容型式的LCD裝置,一般而言包括有:形成於 第一基層上之掃描線Π,一絕緣膜(圖中並未顯示)形成於 t括有掃描線丨1之第一基層之全部表面上,信號線(data
第7頁 594304 -麵一腿415__年月 日 倐正_ 五、發明說明(3) 1 ines) 14其係與掃描線π交錯並定義為一畫素區域,一上 層電容器電極14C形成在掃描線丨丨上面之閘極絕緣膜(gate 1 n1 at 1 ng f 1 1 m )的預定部份、其形成時間與信號線被形 成相同,一開關元件被置於掃描線丨丨及信號線 lines)14 的交錯部位,一鈍化膜(passivati〇n Π1πι) (圖未顯示)被形成於包括有一開關元件之第一基層之全部 表面上、以一預定厚度形成之,及一具有由氧化銦錫 (IncHum Tm 〇X1de,ITO)製成的畫素電極19之陣列基層 (array substrate)、其係透過第一及第二接觸孔 (contact holes) 17和18而與開關元件及相鄰之上層電容 器電極1 4 C相互連接。 此時,該掃描線11的一預定部份提供作為一下層電容 器電極。 依據所述,該儲存電容器,其係包括有:該上層電容 器電極14C ,與。上層電容器電極並排之掃描線n,以及置 入於上層電容器電極1 4C與掃描線1 1間之閘極絕緣膜,在 液晶中用以保持電荷儲存。
苓照圖2,該寄生電容(parasitic capacitane幻〔以 通常是由問電極G與源/汲電極S/D交錯之部份所產生而來 的。此寄生電容引起直流電壓偏位AVp,此乃由一交流電 壓施加到液晶上所引起。該直流電壓偏位具有不良的 影響產生,例如畫面閃爍(flicker),影像黏著(image sticking),並且產生螢幕的不平坦的亮度,為了解決上 述該些問題,該儲存電容器係被設計為用來提供儲存電容 C s ΐ藉由降低△ V p的改變來提昇畫像品質。
第8頁 594304 案號 mn“]5 五、發明說明(4) 雖然該儲存電容Cst當儲存電 女日车奋p左#%々上的尺寸變仔車父 低。;:,;。=得太大時’該孔徑比會變得較 ^。以㈣存電容電極必須被維持在—種最適化的尺 0 ^卜丄由開關元件的閘電極1 la與源/汲電極⑷和14b 所开y成的父叉部份之尺寸,可能合 认崎圼i上、, J此θ由於照相平版印刷製程 計尺寸較大些。在此種情況下,該寄生電 谷會增大、而且不能獲致平坦的值。 當作參考’圖2中的其他元件將進_步加以說明。圖 2中’D.L表不信號線(data lines)14、其係被施加一雙 極信號電壓(bip〇lar Slgnal v〇ltage);而gl表示掃描 線11、其係被施加一掃猫信號(scanning Slgnal) 〇clc表 不一電何電容 '其係儲存於畫素電極和普通電極之間隔 中;而Cst表示一電荷電容、其係儲存於掃描線n的預定 部份及上層電容器電極14C之間隔中。 該開關元件係包括由掃描線丨丨分歧而產生的一閘電極 11 a,一閘極絕緣膜(圖中並未顯示)被形成於包括有掃描 線11之第一基層之全部表面上,一半導體層13被以遠端島 片形狀、於閘電極1 1 a之上的閘極絕緣膜上面形成之,源/ 汲電極14a及14b則分別被形成於半導體層13之二端。該半 導體層1 3主要由一非結晶矽為基底所製造的薄膜電晶體。
要完成一LCD裝置’上述形態的陣列基層必須和一具 有黑矩陣、紅、綠、藍彩色濾光片層之彩色濾光片基層相 連結’並須有一 I T0基材之普通電極被形成,以及在連結 的兩個基層之間、數um的空j内,注入液晶材料。 594304 —--------室號 9Π14415 年 月 五、發明說明(5) 題。然而’上述相關技藝之LCD裝置,具有如下所述的問 努力電ϊ的降低而來減少的變化,雖然此種 斗、貝^仃者,然而面板的Z\Vp值仍變得不均 、σ 電容的偏差所致。此種電容偏差是由於門Φ 4 源/ >及電極矣本ρ、、隹& ;閘電極和 电枝失去;k準所引起的,而其起因 ^ 臨界尺寸(critlVw · ,、、口又要知咎於整個 itical dimension, CD)和日3 相伞化亡 程誤差所致。 …、相千版印刷的製 w些問題在大螢幕、大尺寸元件會更加 其是造成書面卩4 ^ t > ”、、、出來。尤
裝r舌: 晝像壳度不均勻的問題,皆曰I 衣置取重要的問題點, 白疋顯不 性。 U而會大大減低顯示裝置的可靠 〔發明 上排除 本 地保持 裝置。 為 如具體 裝置包 並且定 份之電 溥膜電 概要〕 如所述,本發 相關技藝的限 發明之目的係 △ Vp值,進而 了達到上述本 實施例及在此 括有:形成於 義為一晝素區 容器電極,一 明 制 在 提 #旨在針對液晶 &缺點所引起的 藉由對寄生電容 $ 一具有提昇畫 明之目的、以及 做廣泛之敘述, ~基層上之掃描 ^號線,一形成 成4 ;^掃描線及信 域中之晝 顯示裝置,從本質 諸問題。 ' 偏差的補償、均勻 像品質的液晶顯示 其他一些優點, ^發明之液晶顯示 、’、,與掃描線相交 於掃描線之預定部 唬線所相交部份 t電極’及—被故 晶體,一 形成
第10頁 594304 案號 91Π4415 年 月 曰 修正 五、發明說明(6) 置於第一及第二基層相向之中間的液晶層。該掃描線具有 一或多個第一補償圖案及數據線,以及電容器電極具有一 或多個第二補償圖案。 在本發明中,須使用照相平版印刷製程以形成薄膜電 晶體的源/汲電極,而在照相平版印刷製程中會因為誤差 的發生而使寄生電容改變。為了補償寄生電容所改變的 值,該電容器電極必須與源/汲電極作相同程度的偏移。 一如所述,當閘電極和源/汲電極重疊的尺寸改變 時,則電容器電極之第二補償圖案和掃描線之第一補償圖 案重疊的尺寸也會隨之改變。亦即,該儲存電容會自動地 補償該寄生電容。 第一及第二補償圖案會依據薄膜電晶體的通道形狀而 改變。若該通道具有一 π Γ或n Ln字形狀,則該第一及第二 補償圖案具有一突起及凹陷的形狀。若該通道具有 一"ΙΓ字形狀,則該第一及第二補償圖案亦相同地具有 一 n D"字形狀。 在此必須聲明的是,有關本發明之前面所描述的、以 及隨後的詳細說明,都可看成是典範性的解說;而最後申 請專利範圍部份,則可作為本發明的進一步說明。
乃4川4 修正 曰 案號 911144Β 五、發明說明(7) =視圖。圖3所顯示的是一補充電容型式之液晶顯示裝 罝。 如圖3所不’該液晶顯示裝置係包括有陣列基層及彩 光片基層相對並排,並有一液晶層形成於該二者之 —用來阻止光滲漏的黑矩陣(black 、以及一 選擇性地穿透光線而顯示色彩的紅、綠、及藍色 ’ ,β)彩色濾光片層,此二者被形成於彩色濾光片基層 夕f ° 一由170作成的普通電極則被形成於彩色濾光片層 ^ JL ° 知描線被形成於陣列基層上,其並具有一或多個第一 y ^ Q圖案。一閘極絕緣膜(圖中未顯示)被形成於包含有掃 s . n 1的陣列基層的整個表面上,其乃藉由例如S i Nx及 I =的,機絕緣膜沉積而獲致的。信號線24被形成於與掃 :认相乂、且各交點定義為一畫素區。一薄膜電晶體被形 :由掃描線2 1及信號線24的交叉部份,其具有閘電極 及源/汲電極24a及24b。—上層電容器電極μ。具有一 夕個第一補彳貝圖案,其乃與信號線2 4以及薄膜電晶體的 及電極24a和24b同時間形成的,且被放置於掃描線21 預定部份。-鈍化膜(圖中未顯示)被形成於包含有薄 =電晶體的基層之整個表面上,其乃藉由例如bcb及壓克 =树知的有機絕緣膜、或藉由例如SiNx&Si〇x的無機絕緣 :二:預定厚度沉積而獲致的。-由氧化㈣(ιτο)
:薄膜;Ϊ電極29係猎由第一接觸孔27及第二接觸孔28而 體及相鄰的上層電1器電極24C遠接,而該第
594304
:第—接觸孔2 7、2 8係藉由選擇性地除去該鈍化膜而形 成的。 ^ 4 Ή日體包括冑:由掃描線2 1發散而來的-閘電 托ρ 一形成於包含有掃描線2 1的基層之整體表面的閘 则中並未顯示)、-形成於上層問電極…上之 :駚:、彖膜上的遠離島狀片的半導體層23、以及形成於半 V _曰23之一端的源/汲電極24a及。該由半導體層23 形成的通道,其具有一”丨,,字形狀。 掃描線2 1及化號線2 4係由例如銀、銅、鎢、鉬、鈦、 钽;及鋁的低電阻金屬,藉由一濺鍍程序的沉積而形成, 然後以照相平版印刷製程來形成圖案。 〇σ在本發明之液晶顯示裝置中,額外地提供一儲存電容 為用以阻止儲存於液晶中電壓的下降,該電壓的發生係由 $在閘電極21 a和源/汲電極24a及2 4b之交錯部份的寄生電 合所產生的。該儲存電容器包括有:由掃描線2丨的一部份 所構成的下層電容器電極、一上層電容器電極24C、及一 被置入於掃描線21及上層電容器電極24C之間的閘極絕緣 膜。 二個補償圖案係個別地被形成於掃描線2 1上面及上層 電容器電極24C上面,以補償寄生電容增加或減少的影響 而保持△ V p值在一均勻值;該寄生電容的增加或減少,乃 肇因於照相平版印刷製程時閘電極2 1 a和源/没電極2 4 a及 24b之失去校準(mis-aiignment)所引起的。換言之,當由 閘電極21 a和源/汲電極24a及24b重疊的尺寸改變時,由第 一補償圖案和第二補償圖案重疊的尺寸亦隨之改變。亦
第13頁 月 曰 案號 91114415 五、發明說明(9) 即,,儲存電容自動地隨著寄生電容作相 〜 乐—及第二補償圖案二者皆具有突出 ^的改變。 一一補償圖案比第一補償圖案較寬。又,凹形狀,但 弟—補償圖案有部份重疊。 弟二補償圖案與 第一及第二補償圖案結構 形狀的薄膜電晶體而策劃的,閘=21a^由考慮字 及24b的重疊尺寸並不會由垂直:電:,汲電極24a (=ls —allgnment)而發生改變,但卻會由去校準 引起的失去校準(· 射側的偏移所 又:2 llg_nt)而作-大幅度改變 容器=電容器包括掃描線21的-部份,-… Π C,及一被置入於他們之間的絕緣膜2?。〃'-電 之所以能儲存在儲存電容器,乃由於、:電荷 及由信號賴施加電壓至上層電容器電極之於^描線21 曰曰 的‘T=面Λ寄生電容…會大大影響液 而AVp又疋與面板特性及畫像品質有密切關係 1 △Vp = [Cgs/(Cgs + Cst + Clc)] AVg 變,丰若每一晝素的寄生電容Cgs不規則地改 伙1 p ΐ 一旦的直流電壓偏移AVp亦會改變並引發一些 ^ ρ碭、例如畫面閃爍及影像殘留。因此, U補彳員寄生電容Cgs的改變、並使得整個面 △ V P保持均勻。 、 對於補償圖案,若寄生電容Cgs增加,則儲存電容器 第14頁 594304 一 —__安虢 91114415_色月 曰_修正 五、發明說明(10) 電容增加;又若該寄生電容減少,則儲存電容器電容減 少。因此,吾人可得到下列公式(2 ) ·· △Vp (Cgs+Cgs)/[(Cgs+Cgs)+(Cst+Cst)+Clc;n AVg 使用掃描線2 1的一部份作為儲存電容器電極之方法被 稱為補充電容型式(Supplement capacitance type)。在 這型式中,因不需要另一分離的電極使用於儲存電容 器,故其製程可以簡化許多。 同時’本發明之技術特徵不僅可應用於促成上層電容 杰電極2 4 C電氣連接到晝素電極2 9之結構,亦可應用於促 成上層電容器電極24C及晝素電極29形成於同一單體之結 構。 圖4所 乃包括 一下層 補償圖 重疊, 線31與 的改變 均勻一 一及第 償圖案 管通常 示,依據 有:掃描 電容器電 案、而該 及一絕緣 上層電容 、與寄生 致。 二補償圖 比第一補 容器, 身作為 有第二 有部份 於掃描 存電容 被保持 第 第二補 儘 補償圖案 本發明之第二較佳實施例之儲存電 線3 1其係具有第一補償圖案、且本 極’一上層電容器電極39a其係具 第二補償圖案與上述第一補償圖案 膜(閘極絕緣膜及鈍化膜)其被置入 器電極39a之間。該儲存電容器儲 電容的改變程度相同,因此AVp可 案二者皆具有突出及凹陷形狀’但 償圖案較寬。 有如圖3及圖4所示,但仍有複數 594304 _ 案號 91114415 五、發明說明(11) 的補償圖案55可被應用於如圖5所顯示的第三較佳實施例 中,其乃利用較窄的線路會增加電阻的原理。 本發明可被應用於"L”或"U”字形狀之薄膜電晶體,也 可應用於"厂’字形狀薄膜電晶體。該” L"及” F字形狀薄膜 電晶體具有-改進結構可控制晝面閃燦或影像殘留,此係 在,相平版印刷製程中、藉由降低掃描線及源/没電極之 重豐尺寸而獲致的改良結構。特別是,在πϋ"字形狀 電晶f中其具有相當有效的結構改良,對於照相平版印刷 變化,可加以控制。的圖案失去校準而引起的… 在"L”或” U”字形狀薄膜電晶體中,鉦认 改變仍然會產生。故本笋明 …响如何,AVp的 △ VP變化均句,其乃藉:對於每:::乃是被應用於保持 變與寄生電f的改變,作相同程度^變使儲存電容的改 a宰在Ϊ::M該用來補償薄膜電晶體的寄生電容的補产 :爾不同的薄膜電晶體通道結構,而作改:Γ 換言之,如圖6中所一、 , 中,提供於掃描線41的二L”字形狀的薄膜電晶體 形狀;而提供於上層 。/彳員圖案、具有一突起及凹陷 -比第-補償圖案較;二電極44C的第二補償圖案具有 償圖案有部份重疊。的大起及凹陷形狀。第一及第二補 因此,若寄生電容卢 $ —補' 償圖案及第二補俨=:加,則儲存電容Cst亦隨著 -^1^_£重疊的尺寸增加而增加。
第16頁 電極44a及44b皆向左 π相平版印刷製程中由於源/汲 修正 皇號 91114415 五、發明說明(12) 償R = ^ ϋ"字形狀薄膜電晶體中,提供於掃描線的第一補 字形狀;並且,提供於上層電容器電極 有部份;ί亦具有一 υ"字形狀、其與第-補償圖案 電βΪ言ΐ:如圖7所示’具有45。通道的"U”字形狀薄膜 餅::、:生電容Cgs不會隨著源/汲電極74a及7仏的側 Κ π 改變,但卻會由於45。·移而有巨大的 起的改温此’-補償圖案被提供去補償那些45。偏移所引 電晶1發=可被應用於具有45。通道的,'U”字形狀薄膜 也可應用於具有。。或90。通道的"U"字形狀薄膜, 用掃:器結構是補充電容型式,其係使 平兩綠作為一下層電容器雷極去· 可應用於儲存電容型式、其下層容ς日月之技術特徵亦 的。 卜增%奋益電極乃分開被形成 層電:示裝置包括有:掃描線81,-下 薄膜電:體。妨介 4,—上層電容器電極84C,- 將电日日體,一鈍化膜(圖中未顯示), 该掃描線81被形成於基層上。該下層,—畫素電極89。 成於與掃描線81成平行,且具有一 ^夕&器電極81 C被形 仏號線84被安排與掃描線8丨交叉、且二,的補償圖案。該 素區域。該上層電容器電極8代被形成二又點定義為-畫 以之-預定部份 '且具有一或多個第二;^電容器電極 $電晶體被形成於掃描錄知往躲娩0 4補償圖案。該涛 594304
—___ 案號 9111441^ 五、發明說明(13) 1匕膜(圖中並未顯不)被形成於基層的整個表面,其包含 薄膜電晶體。該晝素電極89經由第—及第二接觸孔而連 ,每一個薄膜電晶體、以及該上層電容器電極84C,而 等接觸孔係經由選擇性的去除鈍化祺所形成的。 —,下層電容器電極81C被形成於與掃描線81及該上屏 電容器電極84C被形成的同_,也就是信號及源/沒9 極84a及84b被形成的同時。下層及上層電容器電極二者比 I由例如銀、銅、鶴、銦、鈦、组、及在呂的低電阻金/ 精由-濺鍍過程、沉積而形& ’接著再由照相平版 制 程使他們形成圖案。 衣 同時,該上層及下層電容器電極81C及84C具有一閘 絕緣膜置入於他們中間且該閘極絕 器、以保持儲存在液晶中的電荷。該提供:上層及子;; 容器電極8K及84C的第一及第二補償圖案,藉由補償每: 畫素的寄生電容的内偏差,而來保持每一畫素的值均 勻一致。如此,螢幕問題例如畫面閃爍及影像殘留,可被 該薄膜_電晶體包括有··一閘電極8丨a,一閘極絕緣膜 (圖“中未顯不),一半導體層83 ’及源/汲電極8“及8‘b。 該薄膜電晶體具有三種不同形狀(亦即,"〗,,字形狀薄膜電 晶體、"L”字形狀薄膜電晶體及"u,,字形狀薄膜電晶體), 其乃依據不同的通道結構、亦即問電極仏及源/沒電極 84a及84b的圖案之改變而有所不同。此時,μ補償圖 案,具^和薄膜電晶體通道圖案相同的形狀。 一_如前所述,本發明之液晶顯示裝置为苴制;告方法,具
594304 __案號 91114415_年月日__ 五、發明說明(14) 有如下述之種種優點。 第一,對於本發明之液晶顯示裝置,該補償圖案係被 用以補償寄生電容之内部偏差。據此,整個面板上之AVp 值能被維持均勻一致,因而晝面閃爍、影像殘留、以及螢 幕亮度不均勻的問題點皆已獲致解決,最終則導致晝像品 質的提昇。 第二,由於面板特性及影像特性的提昇,具有大面積 ~ 及大螢幕的液晶顯示裝置、其晝質的可靠性,也隨之增 · 加。 第三,關於晝像品質低劣問題,為了較好的晝質甚至 _ 將薄膜電晶體改型為n Lπ字形狀或n Uπ字形狀都未能解決 此問題,但經由本發明之補償寄生電容之改變,卻可由根 本將此問題排除之。 對於熟習此技術的人士,很顯然可以對本發明施予各 種修改與變化,而不偏離本發明的精神或範圍。因此,任 何對本發明的修改與變化,若是符合所附申請專利範圍與 其等義的界定範圍内,均為本發明所涵蓋。
第19頁 594304 案號 91114415 圖式簡單說明
年月 B 修正 太::t圖 <,乃在提供使進一步瞭解本發明、並構成 本务明申印文件之一部份。目式用以說明本發明之呈體J 施例及描述本發明之原理。在此等圖式中: 、 圖1所顯示為一相關技術之LCD平面視圖。 圖2所顯示為一晝素的對等電路圖。 圖3所顯示為本發明LCD裝置之第—較佳實施例平面視 圖 。 圖4所顯示為本發明LCD裝置之第二較佳實施例平面視 圖。 圖5所顯示為本發明LCD裝置之第三較佳實施例平面視 圖。 、 圖6所顯示為本發明LCD裝置之第四較佳實施例平面視 圖。 圖7所顯示為本發明LCD裝置之第五較佳實施例平面視 圖。 圖8所顯示為本發明LCD裝置之第六較佳實施例平面視 圖 。 圖號說明 掃描線 11 21 31 41 81 閘電極 1 la 21a 81a 半導體層 13 23 83 信號線 14 24 84
第20頁 594304 案號 91114415 年 月 曰 修正 圖式簡單說明 源電極 14a 24a 44a 74a 8 4a 汲電極 14b 24b 44b 74b 84b 上層電容器電極 14c 39a 44c 84c 接觸孔 17 1 8 2 7 28 下層電容器電極 24c 81c 晝素電極 3 9 8 9 參
第21頁

Claims (1)

  1. 594304 _案號91114415_年月曰 修正 六、申請專利範圍 一補償圖案與第二補償圖案係為部分重疊。 :接 第連 圍氣 範電 利以 專係 言 骨 申曰ΒΒ 如電 ).膜 6 薄 該 中 其 置 裝 示 顯 晶 液 之 述 所 項 極 ^6- 素 畫 =口 至 該償 若補 中二 其第 ,及 置一 裝第 示該 顯則 晶 5 液道。 之通h 述狀W m/形之 項二 11 " 第MI凹 圍一及 範有起 利具突 專體一 請晶有 申電具 如膜案 •薄圖 8.如申請專利範圍第7項所述之液晶顯示裝置,其中該第 二補償圖案具有一比第一補償圖案較寬的突起及凹陷之形 狀0 9.如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置,其中若該 薄膜電晶體具有一 n L”字形狀通道,則該第一及第二補償 圖案具有一突起及凹陷之形狀。 1 0.如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示裝置,其中該第 二補償圖案具有一比第一補償圖案較窄的突起及凹陷之形 狀。 Π .如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示裝置,其中若該 薄膜電晶體具有一 n U"字形狀通道,則該第一及第二補償 圖案亦具有一” U”字形狀。
    第23頁 594304 _案號9Π14415_年月日__ 六、申請專利範圍 1 2. —種液晶顯示裝置,其係包括: 掃描線及信號線,彼等被放置於第一基層上相互交叉、各 交叉處定義一晝素區域; 一下層電容器電極,其被形成於晝素區之預定部分,具有 一或多個第一補償圖案; 一上層電容器電極,其被形成於下層電容器電極之上、且 其和下層電容器電極之間置入一絕緣膜,具有一或多個第 二補償圖案; 一薄膜電晶體,其被形成於掃描線及信號線之交叉部分, 包括有一閘電極及源/汲電極; 一晝素電極,其被形成於晝素區域之中、且連接至該薄膜 電晶體和該上層電容器電極;及 一液晶層,其被形成於彼此相對並排之第一基層及第二基 層之間。 1 3.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中該 下層電容器電極平行於掃描線。 1 4.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中該 下層電容器電極和掃描線同時被形成。 1 5.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中該 上層電容器電極和薄膜電晶體之源/汲電極同時被形成。
    第24頁 594304 案號 91Π4415 曰 修正 申請專利範圍 1 6.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中該 第一補償圖案與第二補償圖案係為部分重疊。 1 7.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中若 該薄膜電晶體具有一 π IΜ字形狀通道,則該第一及第二補 償圖案具有一突起及凹陷之形狀。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述之液晶顯示裝置,其中該 第二補償圖案具有一比第一補償圖案較寬的突起及凹陷之 形狀。 1 9.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中若 該薄膜電晶體具有一"Ln字形狀通道,則該第一及第二補 償圖案具有一突起及凹陷之形狀。 2 0.如申請專利範圍第1 9項所述之液晶顯示裝置,其中該 第二補償圖案具有一比第一補償圖案較窄的突起及凹陷之 形狀。 2 1.如申請專利範圍第1 2項所述之液晶顯示裝置,其中若 該薄膜電晶體具有一"ΙΓ字形狀通道,則該第一及第二補 償圖案亦具有一” U”字形狀。
    第25頁
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