TW565749B - Chemically amplified positive resist compositions - Google Patents

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TW565749B TW085116031A TW85116031A TW565749B TW 565749 B TW565749 B TW 565749B TW 085116031 A TW085116031 A TW 085116031A TW 85116031 A TW85116031 A TW 85116031A TW 565749 B TW565749 B TW 565749B
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acid
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Jun Hatakeyama
Shigehiro Nagura
Toshinobu Ishihara
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Shinetsu Chemical Co
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565749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___B7五、發明説明（1 ) 本發明係有關一種對遠紫外線、電子線、X線等高能 量射線具有高靈敏度之，且能以鹼性水溶液顯像形成圖樣 之適用於微細加工技術的化學強化之正型抗蝕材料。 因抗蝕材料係使用於I C或L S I等半導體裝置之製 造過程中，而近年來隨著裝置之高集成化及高速度化，因 此常被要求圖樣規格能微細加工化。 目前利用遠紫外線蝕刻印刷術可加工至〇 . 3〜 0 · 4 μ m之程度，若使用光吸收低之抗蝕材料時·，可於 近乎垂直於基板之側壁上形成圖樣。 又，近年來有關利用高亮度之KrF准分子激光器作 爲遠紫外線之光源的技術係極受注目，但，爲了使此技術 能成爲量產技術則需開發出光吸收低之高靈敏度的抗蝕刻 材料。 而近年來所開發出的以酸爲觸媒之化學強化的正型抗 蝕材料（記載於特公平2 - 2 7 6 6 0號，特開昭 6 3 — 27829號公報中）因具有利用高亮度之Kr F 准分子激光器作爲遠紫外線光源，故具有能提升靈敏度、 解像性、耐乾式蝕刻性之優良特徵，故對遠紫外線蝕刻印 刷術而言爲一種特別有效之抗蝕刻材料。 但，此抗蝕刻材料亦有缺點，即，由曝光起至P E B (P 〇 s t E X ρ 〇 s u r e B a k e )之間的放置時間若過長，則形成 圖樣之際，圖樣容易成爲T冠狀，也就是造成圖樣上部太 粗之P E D問題（Post Exposure Delay)，或於鹼性基 板，特別是氮化矽、氮化鈦基板上於基板附近含有圖樣太 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 4 一 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 565749 A7 ____B7_ 五、發明説明（2 ) 粗即會產生邊緣捲曲現象之問題。而此T冠狀之現象會降 低抗蝕膜表面之溶解性，又，基板面之邊緣捲曲現象會降 低基板附近的溶解性。另外，由曝光起至P E B之間（ PED)會進行酸不安定基之脫離的暗反應，故會產生殘 存之 線尺寸縮小的問題。因此，實際使用此抗蝕刻材料 時將有所缺陷。 另外，因具有前述缺點，故目前的化學強化之正型抗 蝕刻材料於蝕刻印刷過程中，會有難於控制尺寸及，使用 乾式蝕刻加工基板時有難於控制尺寸的問題產生。請參考 C W. Hinsberg, e t. a 1. , J. Photop 1 ym. Sc i. Techno 1. ，6(4) ，535 〜546 (1993) * T. Kumada, e t a 1. , J . Photo-polym. Sc i. Techno 1. , 6(4)， 57 1 〜574(1993)〕。 於化學強化之正型抗蝕材料中，因P E B而形成T冠 狀或基板面的邊緣捲曲問題之原因，應與空氣中或基板面 的鹼性化合有極大物關係。即，曝光後所產生的抗蝕膜表 面之酸會與空氣中鹼性化合物反應而鈍化，因此，接長放 置至P E B時間會使鈍化之酸量增加，而使得酸不安定基 難於分解。故表面會形成難溶化層並使圖樣成爲 T冠狀。 特開昭6 3 — 1 4 9 6 4 0號公報揭示一種爲了使感 光平板印刷板之曝光的靈敏度安定化，而添加能捕捉因活 性光照射而產生之酸的胺化合物之提案。又，所使用的胺 化合物爲4 一二甲基胺基吡啶、p —苯撑二胺、p -胺基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'〆297公釐) ~ -5 - I ^ 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 565749 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 3 ) 1 安 息 香 酸 等 但 添 加 這 些 胺 化 合 物 仍 難 於 得 到 滿 意 的 高 1 1 解 像 度 化 〇 1 | 另 外 > 於 化 學 強 化 之 正 型 抗 蝕 材 料 中 亦 有 提 出 一 種 1 I 配 合 使 用 含 氮 之 鹼 性 化 合 物 以 緩 衝 因 環 境 所 帶 來 的 鹼 性 物 請 先 閱 1 1 質 污 染 之 影 響 以 控 制 抗 蝕 Γρ~1 圖 樣 產 生 表 面 難 溶 層 的 方 法 之 讀 背 面 1 1 提 案 但 此 方 法 則 有 降 低 解 像 性 能 之 問 題 存 在 0 之 注 | 意 又 雖 亦 有 以 含 氮 之 驗 性 化 合 物 的 方 式 > 以 捕 捉 能 擴 事 項 1 I 再 1 散 至 未 曝 光 部 分 之 酸 進 而 控 制 抗 蝕 圖 樣 之 尺 寸 變 動 的 方 填 舄 f 本 I 法 之 提 案 ( 特 開 平 5 — 1 2 7 3 6 9 號 同 頁 1 I 5 一 2 3 2 7 0 6 號 同 5 — 2 4 9 6 6 2 號 同 1 5 一 2 4 9 6 8 3 號 、 同 5 — 2 5 7 2 8 3 號 同 1 I 5 一 2 8 9 3 4 0 號 同 6 — 2 4 2 6 0 5 號 \ 同 1 訂 | 6 — 2 6 6 1 1 0 號 % 同 6 — 2 6 6 1 1 1 號 同 1 7 一 9 2 6 7 8 號 同 7 — 9 2 6 8 0 號 同 1 1 7 — 2 6 8 1 號 同 7 — 1 2 0 9 2 9 號 同 1 Φ 7 — 1 2 8 8 5 9 號 同 7 — 1 3 4 4 1 9 號 同 I 0 7 一 2 0 9 8 6 8 號 公 報 ) 1 但 y 巨 V I* 刖 仍 希 望 能 開 發 出 更 1 1 1 W 高 品 質 的 化 學 強 化 之 正 型 抗 蝕 材 料 〇 1 | 有 鑑 於 此 因 此 本 發 明 之 巨 的 爲 提 供 — 種 對 遠 紫 1 1 外 線 電 子 線 \ X 線 等 高 能 量 射 線 具 有 高 敏 度 及 高 解 像 1 1 性 之 且 能 以 鹼 性 水 溶 液 顯 像 而 形 成 圖 樣 之 適 用 於 微 細 加 1 1 工 的 化 學 強 化 之 正 型 抗 蝕 材 料 0 1 I 本 發 明 者 爲 了 達 成 此 的 而 經 專 心 檢 討 後 發 現 > 於 含 1 I 有 有 機 溶 劑 基 料 樹 脂 及 產 酸 劑 等 之 化 學 強 化 的 正 型 抗 蝕 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21 OX 297公釐） ^ -6 - 565749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7_五、發明说明（4 ) 刻材料中併用（1 ) P κ a值7以上之1 〇 〇 °C下蒸氣壓 低於2To r r的含氮有機化合物所選出至少一種之化合 物及，（2) pKa值7以上之10 0°C下蒸氣壓爲2〜 1 〇 〇To r r的含氮有機化合物中所選出至少一種之化 合物的結果可得到具有高解像性能之化學強化的正型抗蝕 刻材料。 即，本發明係以添加併用能均勻地分散於抗蝕膜中之 強鹼性含氮有機化合物及能使抗蝕膜上半部稀薄化之具有 支配濃度的強鹼性含氮有機化合物之方式，以得到具有高 解像性能之能消除因P E D而產生之圖樣T冠狀或基板面 邊緣捲曲的化學強化之正型抗蝕材料。 此情形下所添加P K a值7以上之強鹼性含氮有機化 合物之抗蝕材料具有未曝光部分能捕捉僅由衍射之光等 放射線所產生的酸而抑制未曝光部分之膜減少及提升解像 性的效果。此應爲相對於曝光量之增加而具有增大抗蝕曝 光部對顯像液之溶解速度的傾斜度（溶解度曲線）。但， 己知所提升之解像度程度會因p K a值7以上之強鹼性含 氮化合物的種類而有所不同，例如，添加1 0 0 °C下蒸氣 壓低於2 T 〇 r r之強鹼性含氮有機化合物的抗蝕刻材料 雖能提升解像性，但，易受環境中的氨氣或胺類污染之影 響，因此，易因P ED而使圖樣外型成爲T冠狀，進而使 解像性能不安定。又，添加1 0 0 °C下蒸氣壓2 T 〇 r r以上1 〇 〇 T 〇 r r以下之強鹼性含氮有機化合 物的抗蝕材料雖能提升解像性，但，其線圖樣之外型會成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 565749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7 __五、發明説明（5 ) 爲順式錐度而無法得到充分的解像性能。此結果則可由測 定抗蝕膜內之曝光部的溶解速度時，比起其他部位前者之 抗蝕膜內所產生的駐波之波節部分的最上部位之溶解速 度極端緩慢，而使得前者成爲易受外界影響之狀態及，後 者之靠近基板面部份的溶解速度慢，而使後者線圖樣之外 型成爲順式錐度，因而無法得到充分解像性能而得到證實 〇 爲了解決此間題，於分別併用1種以上含有上述2種 類之強鹼性含氮有機化合物之結果發現，（1 )能消除抗 蝕膜內所產生之駐波的波節部分之最上部位的溶解速度極 端緩慢之部分及，（2)能加速靠近基板面部分之溶解速 度，而得知此化學強化之正型抗蝕材料具有特別的解像特 性。至於其原因則可推斷爲，1 0 0 °C下蒸氣壓低於2 T 〇 r r之強鹼性含氮有機化合物於抗蝕塗布及預烤過程 中揮發抗蝕溶劑後，仍能比較均勻地公布於抗蝕膜中，又 1 00°C下蒸氣壓2To r r以上1 OOTo r r以下之 強鹼性含氮有機化合物能使抗蝕表層成爲低濃度之濃度分 布，因係併用2種不同之濃度分布狀態的化合物，故能於 抗蝕膜內形成適度的強鹼性含氮有機化合物之濃度分布的 結果。 因此，含有（1 ) pKa值7以上之1 00°C下蒸氣 壓低於2 T o r r之含氮有機化合物中所選出至少一種之 化合物及，（2)pKa值7以上之100°C下蒸氣壓2 To r r以上1 OOTo r r以下之含氮有機化合物中所 I I 衣 II · I ^ I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 8 - 565749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（6 ) ^~ 選出至少一種之化合物的化學強化之正型抗蝕材料除了具 有特別提升之解像特性外，還能消除因P E D而產生的圖 樣T冠狀及基板面之邊緣捲曲現象，而完成了本發明。 故本發明係提供一種化學強化之正型抗蝕材料，其 特徵係含有， (1 ) P K a值7以上之1 0 0 °C下蒸氣壓低於2 T 〇 r r之含氮有機化合物中所選出至少一種之化合物。 (2 ) p K a值7以上之1 0 〇 °C下蒸氣壓低於2 〜1 Ο Ο T 〇 r r之含氮有機化合物中所選出至少一種之 化合物。 又，本發明係提供一種化學強化之正型抗蝕材料，其 特徵係含有，（A)有機溶劑，（B)基料樹脂，（C) 產酸劑，（D )上述含氮有機化合物（1 )及（2 )之混 合物。 下面將更詳細說明本發明，即，本發明的化學強化之 正型抗蝕材料係含有，（1 ) pK a值7以上之1 〇 〇°C 下蒸氣壓低於2 To I* r之含氮有機化合物中所選出至少 一種之化合物及（2) pKa值7以上之1〇〇 °C下蒸氣 壓低於2T 〇 r r以上1 ooto r r以下的含氮有機化 合物中所選出至少一種之化合物。 此（1)成分爲，pKa值7以上，又以7. 5〜 1 3爲佳之1 〇 〇 °c下蒸氣壓低於2 T 〇 r r ，又以〇〜 1. 5T〇r r爲佳的含氮有機化合物。其例如，1 ，8 一二氮雜二環十一烯、三乙醇胺、1—某胺、2 一棻胺、 ：IT (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 565749 A7 A7 B7 _ 五、發明説明（7 ) 二苯胺、乙醯替苯胺、3，6 ，9 一三氮雜十一烯二胺、 4，4 / 一丙烷一 1 ，3 -二基雙嗎啉等1種以上，其中 又以1 ，8 —二氮雜二環十一烯、三乙醇胺爲佳。 其配合量較好爲後述所配合之產酸劑莫耳數的 0· 05〜0· 5倍，又以0.1〜〇. 5倍特別好，若 配合量低於0 . 0 5倍時，將無法得到充分的提升解像性 之效果，又，多於0. 5倍時會使靈敏度明顯惡化及增大 駐波。 又，此（2 )成分爲，p K a 7值以上，又以7 · 5 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 〜1 3爲佳之1 〇〇°C下蒸氣壓2To r r以上1 〇〇 To r r以下，又以2以上5 〇To r r以下爲佳的含氮 有機化合物。其例如，喹啉、甲基喹啉、二甲基喹啉 '三 甲基喹啉、三一 η - 丁基胺、三異丁基胺三己基胺、哌B定 甲醇、甲苯胺、1 ，5 —二氮雜二環壬烯、苯二胺、苯基 哌嗪、D引躲、苯炔吡啶、二甲基三唑、硝基苯酚、二甲醇 胺、乙基氨茴酸酯、二丁基乙撑二胺、二甲基苯撑二胺、 三乙撑四胺、亞氨基二甲醇、乙氧基苯胺、苯基丙基胼等 ，其中又以喹啉、哌啶二甲醇、三丁基胺特別合適。 此含氮有機化合物之配合量較好爲後述所配合之產酸 劑莫耳數的0. 01〜1倍，又以0· 05〜0. 5倍 爲更佳，若配合量低於0 . 〇 1倍時，將無法得到充分的 提升P E D安定性之效果，又，超過1倍時會使靈敏度惡 化情形加大及易使外形成爲順式錐度。 至於（1)之含氮有機化化合物（2)之含氮有機化 一 10 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公f ) 565749 A7 __ B7_ 五、發明説明（8 ) 合物的配合比則可依含氮有機化合物之性狀作適當選擇， 但，較好爲莫耳比1 : 0. 01〜1 : 5。 本發明的化學強化之正型抗蝕刻材料除了含有（A ) 有機溶劑、（B )基料樹脂、（C )產酸劑、（d )上述 之特定含氮有機化合物（1 )及（2 )之混合物外，必要 時還可配合使用（E)溶解控.制劑。 本發明所使用的有機溶劑可爲，能溶解基料樹脂、產 酸劑、（D )成分，溶解控制劑之有機溶劑。其例如，環 己酮、甲基一 2 — η —戊基甲酮等酮類，或3 -甲氧基丁 醇、3 —甲基一 3 —甲氧基丁醇、1 一甲氧基一 2 —丙醇 、1一乙氧基一2—丙醇等醇類，或丙二醇單甲醚、乙二 醇單甲醚、丙二醇單乙醚、乙二醇單乙醚、丙二醇二甲醚 、二乙二醇二甲醚等醚類，或丙二醇單甲醚乙酸鹽、丙二 醇單乙醚乙酸鹽、乳酸乙基、丙酮酸乙基、醋酸丁基、甲 基一 3 —甲氧基丙酸酯、乙基—3 —甲氧基丙酸酯等酯類 ，又，可單獨使用或2種以上混合使用，但，非限於此例 。其中，又以對抗蝕成分中之產酸劑的溶解性最優良之二 乙二醇二甲醚或1 一甲氧基一 2 —丙醇、丙二醇單甲醚乙 酸鹽爲佳。 此有機溶劑之使用量對基料樹脂1 0 0份（同下文 均爲重量份）較好爲2 00〜1 ，000份，又以 4 0 0〜8 0 0份更爲合適。若使用量低於2 0 0份 時會因相溶性差而使成膜性惡化，又，超過1 ，0 0 0 份時所形成的抗蝕膜會太薄。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ：297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 565749 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（9 ) 本發明所使用的基料樹脂較好具有下列一般式（1 ) 所示之重覆份的聚合物。 R1 R1 -^CH2-C)p- —(CH2-CV- -(CH2~C), — -(CH~C)r R4 R5 R丨
R'
(1) (〇R2)n (〇H)m (〇R3)K (其中，R1爲各別獨立的氫原子或甲基，R2爲氫原子或 酸不安定基，又，兩者至少有1個爲氫原子及至少有一個 爲酸不安定基，R3爲酸不安定基，R 4爲氫原子，R5爲 _ p6 一 COOX基（X爲氫原子或酸不安定基）或 (R6爲氫原子或甲基、乙基、丙基、丁基等碳數1〜6 之烷基），又，R 4及R 5可結合成 $ V一C一o—c— 。另外，前述份可分別由1種所構成或2種以上所構成。 η爲2或3，m及k分別爲1 ，2或3。p、q、r、s 爲0或正數，p + q关0，p + r#0，苯酚性羥基之氫 原子的受酸不安定基所部分取代率爲0. 05〜0. 8。 p + q + r + s爲使上述聚合物能成爲後述的重量平均分 子量之數）。 上述（1 )雖可選用各種不同之酸不安定基，但，以 使用下列式（2)或（3 )所示之基，或碳數1〜6的直 鏈、支鏈、或環狀之烷基、四氫吡喃基、四氫呋喃基、三 烷基甲矽烷基特別好。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -12 - 565749 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（10 ) R7 -C-0-R9 …（2) R8 〇 II -{CH2)rC-Ο-R丨0 …（3) (其中，R7，R8爲各別獨立之氫原子或碳數1〜6的直 鏈或分鏈烷基，R 9爲碳數1〜1 0的直鏈、支鏈或環狀 之烷基。又，R1Q爲碳數1〜6的直鏈、支鏈或環狀之烷 基，a爲0或1。） 至於直鏈、支鏈烷基例子有，甲基、乙基、丙基、異 丙基、η —丁基、iso - 丁基、tert — 丁基等，環 狀烷基之例子如環己基等。 上述式（2)所示之酸不安定基的具體例子有，甲氧 基基乙基、乙氧基乙基、n —丙氧基乙基、i so —丙氧 基乙基、η — 丁氧基乙基、i s 〇 — 丁氧基乙基、 t e r t — 丁氧基乙基、環己氧基乙基、甲氧基丙基、乙 氧基丙基、1 一甲氧基_2 —甲基一乙基、1—乙氧基一 1 -甲基一乙基等，上述式（3 )之酸不安定基的具體例 子有’ t e r t — 丁氧基羰基、t e r t - 丁氧基羰基甲 基等。 另外，三烷基甲矽烷基之例子有，三甲基甲矽烷基、 三一 t e r t — 丁基二甲基甲矽烷基等各烷基的碳數爲1 〜6之物。 其中，若考量因配合本發明之高分子化合物所構成的 基料樹脂而形成之抗蝕材料特性，則上述式（1 )所示之 本紙張尺度適用中周國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 13 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本. 訂 .参 565749 A7 B7 五、發明説明（11 ) 高分子化合物的2種類之酸不安定基較好爲，R2係上述 式（2)所示之烷氧基烷基及R3係t e r t -丁氧基羰 基之組合物。 又，式（1)中的η爲2或3。因η爲2或3時，於 分解酸不安定基後會產生羥基，且羥基數會高達2或3， 因此，其酸性度高，故可任意地控制鹼溶解速度。m及k 爲各別之1 ，2或3，但，就合成上的容易度及鹼溶解速 度之控制性而言較好爲1或2。 p、q、r 、s爲〇或正數，且較好爲〇$ρ/(ρ +Q+r+s)S〇. 9，又以OSp/(p+q+r+ s ) ^ Ο . 7 特別好及，7. OSq(p + q + r + s) $0. 9，又以OSq/(p+q+r+s)S〇. 7特 別好及，0$r/(p+q+r+s)S0. 8，又以 〇$r/(p+q+r+s)S〇. 5特別好及，OSs /(P+q+r+s)S〇. 5，又以0Ss/(p+q + r + s ) ^0. 3 特別好，又，p + q 关 0，p+r 关 0。至於苯酚性羥基之氫原子的受酸不安定基所部分取代 率較好爲0. 5〜0. 8，又以0.1〜0. 4特別合適 ，又’ P + q + r + s爲使上述聚合物能成爲後述之重量 平均分子量的數。若苯酚性羥基之氫原子的受酸不安定基 所部分取代率低於〇 . 〇 5時，會減少鹼溶解速度之對比 ，而使解像度惡化，又，超過0. 8時會降低樹脂成分之 玻璃轉化溫度，而使耐熱性惡化，並且，於鹼性顯像時會 造成膜厚變化或膜內應力或產生氣泡及，因親水基少而與 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21〇 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - 14 _ 565749 A7 B7 五、發明説明（12 ) 基板之密著性差。 就式（1 )之高分子化合物而言，上述酸不安定基之 含量會影響抗蝕膜之溶解速度的對比，故與圖樣大小的控 制，圖樣形狀等抗蝕材料的特性有關。 式（1 )之高分子化合物的重量平均分子量（測定法 如下文所述）爲3 ，000〜300，000，又以 3，000〜30，000特別好。若重量平均分子量低 於3，0 0 0時抗蝕材料之耐熱性差，又，超過 3 0 0，0 0 0時會降低鹼溶解性而易於圖樣或成型後產 生邊緣捲曲現象。 另外，當此高分子化合物的分子量分布（Mw/Mn )很廣時會存在低分子量或高分子量之聚合物，若低分子 量之聚合物較多數時其耐熱性差，又，高分子量之聚合物 較多時因含有難溶解於鹼之物，故會造成圖樣成型後邊緣 捲曲現象。因圖樣規格微細化過程深受此分子量，分子量 分布影響，因此，適於得到微細圖樣尺寸之抗蝕材料的此 高分化合物之分子量分布爲1. 0〜1. 5，又以1. 0 〜1. 3之單合散爲特別合適。 其次，（C )成分的能因放射線照射而產生酸不產酸 劑例子有，鐵鹽、磺化物、含鹵素化合物、三嗪化合物等 ，但，因本發明之基料樹脂中含有烷氧基烷基等基，故易 降低玻璃轉化溫度（T g )，而爲了防止此情形產生較好 使用產酸效率良好之，具有大的溶解阻止效果之鐵鹽。其 具體例子有，三氟甲烷磺酸三苯基鎏衍生物、P -甲苯磺 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -15 - 五、發明説明（l3 酸三苯基鎏衍 子有，烷基磺 限於此例。 本發明之 基料樹脂1 0 本發明的 )成分的上述 合物。 另外，本 ，其爲，重量 有2個以上苯 原子而言平均 體例子如下列
565749 A7 B7 生物等，但，非限於此例。又，磺化物之例 酸酯衍生物，選氮基磺酸衍生物等，但，非 產酸劑可單獨或複數混合使用，其添加量對 0份較好爲1〜2 0份，又以2〜1 0份更 化學強化之正型抗蝕材料中亦配合使用（D 特定之含氮有機化合物（1 )及（2)的混 發明之材料中可配合使用溶解控制劑（E ) 平均分子量100〜1 ，〇〇〇之分子內具 酚性羥基之化合物，且對此苯酚性羥基之氫 1 0〜1 0 0%爲酸不安定基所取代，其具 一般式（4)〜（1 4)所示之化合物。 (4) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
(5) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（14 )
(6)
(7)
(0H)n R"m， (8) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·
、1T (OH)
Rum: (9) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
(10) -CH-CH2
Rllm(〇H)n· / (11) p 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（15 )
(12) (13) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _#衣·
(14) 8的直鏈或 支鏈烷基或鏈烯基，R1 3爲氫原子或碳數1〜8的直鏈、 支鏈烷基或鏈烷基、或一（R17) t—COOH，R14， 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 R1 5爲各別之碳數1〜1 0 醯基、氧原子、硫原子，R 基、氫原子，各種羥基所取 1〜10的直鏈或支鏈烯烴 t爲0或1 ，m、n、m〆 + η = 8、m'+n' = 5 爲各苯基骨格中至少含有， 上述式中的R11，R12 、丙基、丁基、乙炔基、環 的烯烴基或丙炔基、羥基、擴 16爲碳數1〜8的烷基或鏈嫌 代之苯基或棻基，R17爲碳數 基。又，k爲〇〜3之整數， 、n/、m〃 、n〃分別爲m 、m〃 +11" = 4之數，並且 個羥基之數。） 例子有，氫原子、甲基、乙基 己基、R13之例子有，氫原子 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） - 18 - 565749 A7 B7 五、發明説明（16 ) 、甲基、乙基、丙基、丁基、環己基等或—COOH、 一 CH2C〇OH，R14、R15之例子如，亞甲基、乙烯 基、亞苯基、羰基、磺醯基、氧原子、硫原子等，R16之 例子有，甲基、乙基、丁基、丙基、乙炔基、環己基、氫 原子，各種羥基所取代之苯酚基、某基等。 至於作爲溶解控制劑之酸不安定基的一般式（2 )， 一般式（3)所示之基的例子有，ter t_ 丁基、四羥 基吡喃基、四羥基呋喃基、三烷基甲矽烷基、石-酮烷基 此部分苯酚性羥基爲酸不安定基所取代之化合物（溶 解控制劑）的配合量對基料樹脂1 0 0份較好爲0〜5 0 份，又以0〜3 0份更佳，最好係使用1份以上，又，可 單獨或2種以上混合使用。若配合量超過5 0份時會造成 圖樣之減膜現象而降低解像度。 這類的溶解控制劑則可利用同上述聚合物導入酸不安 定基之方法，使具有苯酚性羥基之化合物的此苯酚性羥基 進行酸不安定基之化學反應而合成製得。 本發明之抗蝕材料亦可以取代上述（E )成分之溶解 控制劑方式或另外添加方式配合使用（F )成分之另一溶 解控制劑，其爲，重量平均分子量1 ，000以上 3 ，0 0 0以下之分子內具有苯酚性羥基的化合物，且對 此苯酚性羥基之氫原子而言平均0%以上6 0%以下爲酸 不安定基所取代。 而這類的以酸不安定基部分取代苯酚性羥基之氫原子 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19 一 565749 A7 B7 五、發明説明（17 ) 的化合物較好爲’具有下列一般式（1 5 )所示之重覆 份的重量平均分子量爲1 ，0 0 0以上3 ，0 0 0以下之 化合物中所選出1種或2種以上的化合物。
(其中，R爲酸不安定基，b，c爲各別之〇<b (b + c ) S 0 . 6 之數。） 又，此溶解控制劑之酸不安定基可爲一般式（2 )所 示之烷氧基烷基、或一般式（3 )所示的具有羰基之基， 或t e r e -丁基、四羥基吡喃基、三烯丙基甲矽烷基、 /3 —酮烷基等。 其配合量於合計（E )溶解控制劑後之溶解控制劑全 量對基料樹脂1 0 0份較好爲〇〜5 0份，又以0〜3 0 份更佳，最好係使用1份以上。 至於此類的（F )另一溶解控制劑則可利用同基料樹 脂般於苯酚性羥基之化合物上進行酸不安定基的化學反應 而合成製得。 若抗蝕材料中配合使用溶解控制劑（E )及/或（F )時，將可提高抗蝕膜之溶解對比，尤其是能增大曝光後 之溶解速度。即，添加上述溶解控制劑的結果能使抗蝕材 料中的一般式（1 )之基料樹脂、產酸劑具有良好相溶性 而增加產酸劑之分散性，使矩陣高密度化，因此，藉由曝 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 、·1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20 - 565749 A7 B7 五、發明説明（18 ) 光後所產生之酸的移動均勻化可提升解像性、矩形性。又 ，於曝光、加熱、顯像之圖樣成型過程中，因能控制未曝 光部中的具有矩陣之鹼可溶性樹脂（基料樹脂）的溶解速 度及，曝光部可因具有矩陣之鹼可溶性樹脂的酸不安定基 之分解而促進其對鹼水溶液之溶解速度，進而增大鹼水溶 液對膜中的浸透作用，因溶解控制劑係急速溶解，故能由 鹼性水溶液中放出來完全溶解之鹼可溶性樹脂部分，因此 ，能明顯地急速提升鹼溶解。 尤其，併用溶解控制劑（E )及高分子量之溶解控制 劑（F )時，可因基料樹脂之細緻化而提高溶解對比及， 因控制曝光後所產生之酸的移動現象而提升圖樣後的解像 性、矩形性。 由上述得知，以一般式（1 )的高分子化合物爲基料 樹脂之配合使用溶解控制劑（E )及/或（F )的化學強 化之正型抗蝕材料除了極不可能發生目前所有的易形成T 冠狀、圖樣形狀太細，欠缺耐熱性等問題外，還得到具有 高靈敏度及高解像性之可利用組成而隨意控制圖樣尺寸及 形狀之生產過程適應性優良的化學強化之正型抗蝕材料。 除了上述成分外，本發明之抗蝕材料中亦可隨意添 加能提升塗布性之表面活性劑或減少基板之亂反射影響的 吸光性材料等。至於其添加量於不妨害本發明之效果下可 爲一般量。 此表面活性劑之例子如，全氟烷基聚羥乙烯乙醇、 氟化烷基酯、全氟烷基胺氧化物、全氟烷基E 0附加物等 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - 21 - 565749 A7 B7 五、發明説明（19 ) ’吸光性材料例子有，二芳基亞碼、二芳基碼、9，10 一二甲基Μ、9 —芴等。 使用本發明的化學強化之正型抗蝕材料以形成圖樣的 方法可爲已知的蝕刻印刷術，例如，先於矽板上旋轉塗布 〇. 5〜2· Oem厚度，再以80〜120°C預烤後， 以遠紫外線、電子線、X線等高能量射線照射使其曝光後 ’以7 0〜1 2 0 °C進行3 0〜2 0 0秒的P E B ,再以 鹼性水溶液顯像。又，本發明之材料最適合以高能量射線 中的2 5 4〜1 9 3 nm之遠紫外線及電子線形成微細圖 樣。 本發明之抗蝕材料除了對例如遠紫外線、電子線、X 線等高能量射線，尤其是K r F准分子激光器具有感應及 沒有P E D之不安定性缺點外，還能得到優良靈敏度、解 像性、耐等離子體浸蝕性及抗蝕圖樣之耐熱性，係一種適 合於微細加工技術的具有高解像性之材料，故其實用性非 常高。 下面將以實施例及比較例具體說明本發明，但，非限 於此例。 〔實施例，比較例〕 以具有下列構造之樹脂成分（Polym. 1 )至（Polym .9)爲基料樹脂，再將產酸劑（PAG. 1)至（ PAG. 9 )及，溶解控制劑（D R R . 1 )至（ DRR· 5)及(DRR. 1 ^ ) (DRR. 2〆)及， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2】〇χ：297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 、·ιτ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 565749 A7 __B7_ 五、發明説明（20 ) 表1所示的pKa 7以上之1 00°C下蒸氣壓低於2 Tor r的含氮有機化合物（a - 1)至（a - 3)及， PKa值7以上之1 00°C下蒸氣壓2To r r以上 1 OOTo r r以下的含氮有機化合物（b - 1 )至（ b — 5 ) —起溶解於表2，3所示之組成的丙二醇單曱基 醚乙酸鹽（PGMEA)、乳酸乙基（EL)/醋酸丁基 (BA)中，其後，將全添加量爲系〇. 05重量％之表 面活性劑加入抗蝕材料中使其調合，再以0 . 1 // m特氟 隆製薄膜過濾已調合之溶液，分別調製成抗蝕液。 爲了比較另外以單獨使用表4所示之P K a 7以上的 1 0 0°C下蒸氣壓低於2To r r之含氮有機化合物爲例 及，以單獨使用pK a 7以上之1 0 0°C下蒸氣壓2 To r r以上1 OOTo r 以下的含氮有機化合物爲例 及，以使用pKa值7以下之含氮有機化合物（c — 1 ) 至（c 一 3 )爲例，同上述般分別調製成抗蝕液。 其次，將所得抗蝕液旋轉塗布於矽板上，使其厚度爲 0 . 8 // m。接著，利用熱板以1 〇 〇 °C烘烤矽板1 2 0 秒，再利用准分子激光器（尼康公司製，N SR -2005，EX8A，NA=0. 5)進行曝光後，以 90 °C烘烤60秒，其後，以2. 38%之四甲基銨羥基 化合物的水溶液進行顯像，得正型之圖樣。再依下列方式 評估之，結果記載於表2〜4。 評估方法 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 565749 A7 B7 五、發明説明（21 ) 首先’先求取靈敏度（Eth)。其次，以能使 〇· 3 5 //m之線與空間以i ·· 1方式解像的曝光量爲最 適合曝光量（Ε ο p )再評估此曝光量所分離出的線與空 間之最小線幅’以作爲抗蝕解像度。至於解像之抗蝕圖樣 的形狀則利用掃描型電子顯微鏡觀察。 曝光後’將其放置於氨濃度2 0 p p b之環境中6 〇 分鐘，以觀察0. 2 6 //m之線與空間的圖樣形狀是否有 變化。 由上述內容得知，本發明的化學強化之正型抗蝕材料 除了具有良好靈敏度、高解像力外，其圖樣形狀良好，又 ，尺寸控制性、耐等離子體浸蝕性、抗蝕圖樣之耐熱性亦 優良。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） - 24 - 565749 A7 B7 五、發明説明（>叫
OEt 聚合物.1 EOE : 0H = 0.38 : 0.62 Mwl 1,000 Mw/Mn = 1.07 聚合物..2 EOP : 0Η = Mwl 1,〇〇〇 =0.30 : 0.70 0 ΟΗ Mw/Mn = 1.07 OEt
聚合物.3 EOE : t — Boc :〇H Mwl 1,500 Mw/Mn = 1.09 0.27 : 0.08 : 0.65 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) I#
、1T
OEt 0 °iotBu 0H 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Ό
聚合物.4 EOP : t - Boc : OH = 0.25 : 0.06 : 0.69
Mwll，300
Mw/Mn = 1.10 聚合物 TMP : t - Boc : OH = 0.25 : 0.06 : 0.69 Mwl 1,600 Mw/Mn = 1.11 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（>j )
聚合物.6 t - Bu : 0H = 0.32 : 0.68 Mwl2,000 Mw/Mn = 1.08
聚合物.7 t — Boc : OH = 0.15 : 0.85 Mwll,000 Mw/Mn = 1.08 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
0 聚合物.8 t — Bu — ester : OH = 0.15 : 0.85 Mwl 1,800 Mw/Mn = 1.09
、1T 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製
聚合物.9 EOE : OH = 0.35 : 0.65 Mwl2,000 Mw/Mn = 1.10 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（>+)
(CH3)3CO
~^Q^~~s〇3 PAG.l CF3-SO3 Ο OCH2COOC(CH3)3 PAG.2 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
(CHa)3CO
S03- PAG.3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
S03-
SO3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） PAG.4 PAG.5 565749 A7 B7 五、發明説明（< )
(CH3)2N
PAG.6
(CH3)3C
PAG.7 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 CHa
PAG.8 CHa 0 n2〇
OH-O PAG.9 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（乂）
CHa I I CIi CH3-f - - J：- O-f-QL· DRR.l 0¾ 〇 0¾ 〇 CHa ch3 I C-( I CHa CH(CH3)2 (CH3)3C〇C〇CH20vy/\vxCH3 rXANX〇CH2C〇2C(CH3)3.〇 ^ (CH3)2CH^ … 〇T ^cv CH3
DRR.2 — _Γ! — — —·! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
DRR.3 酸不安定基： t e i* t -丁氧基羰基 平均取代率5 0% 訂
HO^ ^X)H DRR.4 酸不安定基： 乙氧基乙基 平均取代率5 0 % 經濟部智態財產局員工消費合作社印製
DRR.5 酸不安越： t e r t-丁氧基羰基· 平均取代率5 0¾ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） 565749 A7 B7 五、發明説明（3)
\
OCH-OC2Hs CH3 〇c〇2c(ch3)3
DRR.r b/(b+c)=0.2 重量平均分子量2,500
\ b J OH DRR.2· b/(b+c)=0.09 重量平均分子量1,500 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 565749 B7 五、發明説明（>f ) 表 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 含氮有機化合物 pKa(25〇C ) 蒸氣壓（Torr) a- 1 1，8-二氮雜三環十一稀 11.2 1 a-2 三乙醇胺 7. 9 0. 06 a-3 1-棻基胺 9.5 0. 8 b-1 喹啉 9.5 9 b-2 吡啶乙醇 9. 5 26 b-3 三異丁基胺 10.3 45 b-4 甲苯胺 9. 5 25 b-5 1，5-二氮雜二環壬烯 11 8 c-1 吡啶 5. 2 470 c-2 N-甲基苯胺 4.6 30 c-3 苯胺 4. 6 45 清 W 漬 背 έ 之 '主 意 事 項 再 i 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 565749 A 7 B7 五、發明説明) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表2 施 例 抗蝕材料[括弧內爲逭进組成比 石印評估結果 樹脂 含氮有機化合物 產酸劑 制劑 溶解控 溶劑 姐敏度 (mJ/ cm2) 解像度 (β m ) 0. 26 M m 外型 a 對 PAG 克分子 b對 PAG 克分子 c 對 PAG 克分子 放置 0分 放迓 60分 1 Polym.1 (80) a-1 0. 10克分子 (0.12) b-1 0. 10克分子 (0.10) - PAG. 1 (4) - PGMEA (336) 40 0. 20 矩形 I 2 Polym.1 (80) a-1 0. 40克分子 (0.48) b-3 0. 15克分子 (0.22) - PAG. 1 (4) - PGMEA 85 0.20 矩形 I 3 Polym.1 (80) a-1 0. 05克分子 (0.06) b-5 0.06克分子 (0.06) - PAG. 1 DRR. 1 (10) PGMEA (336) 20 0.22 矩形 I 4 Polyn.1 (80) a-2 0. 13克分子 (0.12) b-2 0. 10克分子 (0. 10) - PAG. 1 (4) - PGMEA (336) 22 0. 20 矩形 I 5 Polym.1 (80) a-1 0.26克分子 (0. 12) b-2 0. 05克分子 (0.05) - PAG. 1 (2) DRR. Γ PGMEA (336) 35 0.22 矩形 I 6 Polym.2 (80) a-1 0. 05克分子 (0.06) b-2 0. 07克分子 (0.05)· - PAG. 1 (4) - PGMEA (336) 30 0.20 矩形 I 7 Polym.3 (80) a-1 0. 10克分子 (0. 12) b-1 0. 05克分子 (0.05) - PAG. 1 (4) - PGMEA (336) 33 0. 20 矩形 I 8 Polym.3 (80) a-2 0. 10克分子 (0. 18) b-2 0. 10克分子 (0.15) - PAG. 1 (6) - PGMEA (336) 23 0.20 矩形 1 9 Polym.3 (80) a-3 0. 30克分子 (0. 51) b-1 0. 10克分子 (0.15) - PAG.l (4) DRR. 2 (10) PGMEA (336) 70 0. 22 矩形 II 10 Polym.3 (80) a-2 0.30克分子 (0.33) b-4 0. 15克分子 (0.12) - PAG.l (4) DRR. 4 (8) PGMEA (336) 55 0. 20 矩形 11 11 Polym.3 (80) a-1 0. 05克分子 (0. 07) a-2 0. 05克分子 (0. 07) b-3 0.06克分子 (0.09) - PAG.l (6) - PGMEA (344) 27 0.22 矩形 11 12 Polym.4 (80) a-2 0. 10克分子 (0. 10) b-5 0. 10克分子 (0.08) - PAG.l (1) PAG. 1 (3) - PGMEA (344) 45 0. 20 矩形 11 13 Polym.4 (80) a-2 0. 10克分子 (0. 18) b-3 0. 05克分子 (0.11) - PAG. 1 (6) DRR. 2， (8) PGMEA (344) 40 0. 22 矩形 11 14 Polym.5 (80) a-3 0.20克分子 (0.25) b-4 0. 10克分子 (0.09) - PAG. 1 (6) - PGMEA (344) 33 0. 20 矩形 II 15 Polym.6 (80) a-2 0. 05克分子 (0.08) b-2 0.05克分子 (0.07) - PAG. 1 (6) - PGMEA (344) 51 0. 24 矩形 II 16 Polym.7 (80) a-1 0. 10克分子 (0.11) b-1 0. 05克分子 (0.05) - PAG. 1 (4) DRR. 2 (8) EL/BA (344) 63 0.22 矩形 11 17 Polym.7 (80) a-2 0. 10克分子 (0. 08) b-1 0.05克分子 (0.04) - PAG. 1 (4) 一 EL/BA (344) 48 0. 24 矩形 11 1 :矩形、尺寸S化5 %以下 I I :矩形、尺寸縮小5 % 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ___1____J#!(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 565749 A7 B7 五、發明説明Up ) 表3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 η 抗蝕材料[括弧內爲mm組成比 石印評估結果 施 樹脂 含氮有機化合物 產酸劑 溶解控 溶劑 娌敏度 解像度 0. 26 // m 制劑 (mJ/ (w m ) 外型 例 a 對 PAG b 對 PAG c 對 PAG cm2) 克分子 克分子 克分子 放置 放Μ 0分 60分 18 Polym. 7 a-2 b-2 PAG. 2 DRR.2* PGMEA (80) 0. 05克分子 0.05克分子 - (6) (24) (440) 48 0. 22 矩形 I (0. 08) (0. 07) 19 Polym. 8 a-2 b-3 PAG. 2 DRR. 3 EL/BA (80) 0. 10克分子 0. 05克分子 - (4) (16) (400) 51 0. 22 矩形 III (0.11) (0. 07) 20 Polym. 9 a-3 b-2 PAG. 2 DRR. 4 EL/BA (80) 0.10克分子 0. 05克分子 - (6) (16) (408) 42 0. 22 矩形 III (0. 16) (0. 07) 21 Polym.1 a-2 b-4 PAG. 8 EL/BA (80) 0.20克分子 0. 10克分子 - (4) - (336) 67 0. 22 矩形 I (0. 39) (0. 14) 22 Polym. 1 a-1 b-1 PAG. 7 PGMEA (40) 0. 10克分子 0. 10克分子 - (4) - (336) 43 0. 24 矩形 I Polym. 6 (0. 11) (0. 09) (40) 23 Polym.1 a-1 b-1 PAG. 1 DRR. 4 PGMEA (60) 0. 10克分子 0.10克分子 - (4) (16) (336) 44 0. 24 矩形 1 Polym.7 (0. 12) (0.10) (20) I :矩形、尺寸變化5 %以下 I I :矩形、尺寸縮小5 % I I I :矩形、尺寸擴大5 % 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） --------’^^衣--(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T ip 565749 A7 B7 五、發明説明（>7/ ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表4 比 抗蝕材料[括弧內爲重跫組成比 石印評估結果 較 樹脂 含氮有機化合物 產酸劑 溶解控 溶劑 銀敏度 解像度 0. 26 M m 制劑 (mJ/ (u m) 外型 例 a 對 PAG b 對 PAG c 對 PAG cm2) 克分子 克分子 克分子 放置 放置 0分 60分 1 Polym.1 a-1 PAG. 1 PGNEA (80) 0. 10克分子 - 一 (4) - (336) 8. 5 0. 22 矩形 VI (0. 12) 2 Polym.1 b-1 PAG. 1 PGNEA (80) - 0. 10克分子 - (4) - 7.5 0.26 IV VII (0. 10) 3 Polym.1 c-1 PAG. 1 PGMEA (80) 一 — 0. 10克分子 (4) - (336) 5. 0 0. 26 矩形 VI (0. 07) 4 Polym.1 c-2 PAG. 1 PGMEA (80) - - 0. 10克分子 (4) - (336) 6. 0 0. 26 矩形 VI (0. 08) 5 Polym.1 c-3 PAG. 1 PGMEA (80) - - 0. 10克分子 (4) - (336) 5· 5 0. 26 矩形 VI (0.07) 6 Polym.2 a-1 c-3 PAG. 1 PGMEA (80) 0. 10克分子 - 0. 10克分子 (4) - (336) 10.0 0. 22 矩形 VI (0. 12) (0.07) 7 Polym.3 a-1 b-1 PAG. 1 PGMEA (80) 0. 60克分子 0. 60克分子 - (4) - (336) 110 0. 24 V V (0.72) (0.60) I V :順錐度，線頂或圆狀 V :線頂細小 V I : T頂 VII:順錐度 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -----1#!(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 加 -34

Claims (1)

  1. 565749 AB1CD 申請專利範圍
    4 ch3 OH (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) P. 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）
    || |專利説明書（修正本) 中 文化學強化之正型抗蝕材料 發明 型 新 -
    姓 廣信 潤茂俊 山倉原 皇名石 (1)0(3) 名 國 籍 發明 創作/ 住、居所 (1)日本 （2)日本 （3) 日本 (1) 日本國新潟縣中頸城郡頸城村大字西福島二八 (2) 日本國新潟縣中頸城郡頸城村大字西福島二八 (3) 日本國新潟縣中頸城郡頸城村大字西福島二八 裝 訂 姓 名 (名稱） 國 籍 住、居所 (事務所） 代表人 姓 名 (1)信越化學工業股份有限公司 信越化学工業株式会社 (1)日本 (1)日本國東京都千代田區大手町二丁目六番一號 (1)金川千尋 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 線
    565749 六、申請專利範圍 ί 一 ^ 1 . 一種化學強化之正型抗蝕材料，其特 (A )有機溶劑 2 G 0〜1 〇 〇 〇份 (B)選自下式（1)— 1〜（1)一4所示之基料 樹脂 (C )產酸劑 1〜2 G份與 (D) (1) PKa值7以上之1〇〇。(：下蒸氣壓低 於2T 〇 r r的含氮有機化合物中所選出至少一種之化合 物（對產酸劑之莫耳數爲0. 05〜0. 5倍）及 (2 ) p K a值7以上之100°(：下蒸氣壓爲 2〜1 0 OTo r r的含氮有機化合物中所選出至少一種 之化合物（對產酸劑之莫耳數爲0· 〇1〜1倍）之混合 物； 丨丨一----if — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    及 .磬 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） —35 ~
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