TW552429B

TW552429B - Antireflection film and image display device

Info

Publication number: TW552429B
Application number: TW091105291A
Authority: TW
Inventors: Akihiro Ikeyama
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date: 2001-03-21
Filing date: 2002-03-20
Publication date: 2003-09-11
Also published as: US7212341B2; WO2002075373A1; JPWO2002075373A1; US20040156110A1

Description

552429 五、發明說明（1) 【技術領域】本發明係相關潔淨且表面白色較少，並經改良過干涉斑點之防止反射膜、及使用其之映像顯示裝置。【技術背景】一般防止反射膜在如陰極顯示裝置（CRT )、電漿顯示裝置面板（PDP )、或液晶顯示裝置（LCD )之類映像顯示裝置中，爲防止外界光的反射而造成對比降低或映入映像，而採用光學干涉原理降低反射率設置於顯示器的最外表面上。防止反射膜之形成法，一般已知有如在透明基板上塗布光學機能層而形成的方法。爲防止反射，便有利用在設有折射率低於透明基材折射率之層（低折射率層）的透明基材上，設置高折射率層，並在於其上設置低折射率層等等方法，便可降低反射率。此種經由塗布的防止反射膜，因爲連續生產因此可提昇大量生產。但是，僅在透明基板上設置折射率低於透明基材折射率之層（低折射率層）的防止反射膜，爲降低反射率，便產生必須將低折射率層充分的低折射率化。譬如以三乙醯纖維素爲支撐體，且將二季戊四醇六丙烯酸酯之UV硬化被覆膜設定爲低折射率硬塗層的防止反射膜，爲將從45Onm至 650nm中的平均反射率設定在1.6%以下，便必須設定在 1.40以下。折射率1.40以下材料，在無機物方面有如氟化鎂、氟化鈣，在有機物方面則有如含氟率較大的含氟化合物。該等氟化合物因爲無凝聚力，因此在當作配置於顯 552429 五、發明說明（2) 示器最外表面上的薄膜，便嫌耐傷性不足。所以’爲具有充分的耐傷性，便必須爲具1 · 43以上折射率的化合物。此類問題點，藉由提昇低折射率層下層的折射率即如前述在透明基板上，設置高折射率層，再於其上設置低折射率層的構造便可解決。譬如在日本專利特開平7- 287 1 02 號公報中，便有記載著在透明基材上，隔著硬塗層設置低折射率層的防止反射膜，乃記載著藉由增加硬塗層折射率，便可降低反射率。【發明揭示】惟，在此類層合高折射率層與低折射率層的防止反射膜中，隨高折射率層與其基材間的折射率差，將產生干涉斑點。此干涉斑點因爲屬於薄膜之可見色斑，因此將造成品質上的問題。本發明之目的在於提供一種反射率低、無干涉斑點之防止反射膜，或採用此防止反射膜的映像顯示裝置。本發明之上述目的係藉由下述手段而達成。 1 . 一種防止反射膜，係具有：透明基材；至少較該透明基材之折射率高出0 . 0 5以上1 . 5以下的一層高折射率層 :以及較該高折射率層之折射率低0.05以上2.0以下的低折射率層；的防止反射膜；其中，在該高折射率層中，含有平均粒徑〇.3//m以上20//m 以下之消光劑粒子，且薄膜濁度値在10%以下。 2.如上述1之防止反射膜，其中該高折射率層厚度係在 552429 五、發明說明（3) 消光劑粒子之平均粒徑的70%以上200%以下。 3.如上述1或2之防止反射膜，其中該消光劑粒子中，突出於該高折射率層上的粒子數係5000個/mm2以上 100000 個 /mm2 以下。 4 ·如上述3之防止反射膜，其中該消光劑粒子中，突出於該高折射率層上的粒子數係8000個/mm2以上40000個 /mm2以下。 5 ·如上述1至4中任一項之防止反射膜，其中相關消光劑粒子，依下式（I)所計算出表示粒徑分布的S値係在丨.5 以下；式（I ) : S=[D(0·9)-D(0·1)]/D(0·5) 上式（I)中，D(0.1)、D(0.5)及D(0.9)係依下述定義： D(0.1):體積換算粒徑乘積値之10%値 D(0.5):體積換算粒徑乘積値之50%値 D( 0.9):體積換算粒徑乘積値之90%値 6.如上述5之防止反射膜，其中表示該粒徑分布的S値係1 . 1以下。 7 .如上述6之防止反射膜，其中該高折射率層厚度係在消光劑粒子之平均粒徑的80%以上120%以下。 8.如上述1至7之防止反射膜，其中該防止反射膜之塗敷有高折射率層與低折射率層之表面的平均表面粗糙度R a 係0 . 003 // m以上0 · 1 // m以下。 9 .如上述1至8中任一項之防止反射膜’其中該消光劑 552429 五、發明說明（4) 粒子的折射率係高折射率層折射率的± 〇 · 0 5以內。 1 0 ·如上述1至8中任一項之防止反射膜，其中該高折射率層折射率係1 . 6以上2 . 0以下。 1 1 ·如上述1至1 0中任一項之防止反射膜，其中該高折射率層的內部濁度値係2%以下。 1 2 ·如上述1至1 1中任一項之防止反射膜，其中該透明基板係由三乙醯纖維素所構成。 1 3 · —種偏光板，係至少單面上設有如上述1至1 2中任一項之防止反射膜。 14.一種映像顯示裝置，係在映像顯示面上設置防止反射膜，而該防止反射膜係具有：透明基材、至少較該透明基材之折射率高出0.05以上1.5以下的一層高折射率層、以及較該高折射率層之折射率低0.05以上2.0以下的低折射率層；並在該高折射率層中，含有平均粒徑〇 . 3 # m 以上20// m以下之消光劑粒子，且薄膜濁度値在10%以下〇【圖式簡單說明】第1圖係構成防止反射膜主要層的剖面模式圖。第2圖係反射率波長依存性測量結果、與表示干涉大小之干涉幅度的圖。【實施發明較佳態樣】本發明之防止反射膜的基本構造，採用圖示進行說明。第1圖所示係構成防止反射膜主要層的剖面模式圖。 552429 五、發明說明（5) 第1圖中（a )所示態樣係依序具有透明基板1、高折射率層2、低折射率層3之層構造。此外，在高折射率層2中 ’含有消光劑粒子4。再者，透明基板1、高折射率層2、及低折射率層3係具有符合下述關係的折射率。高折射率層折射率 > 透明基板折射率高折射率層折射率 > 低折射率層折射率在如第1圖（a )所示防止反射膜中，因爲低折射率層若符合下式（1 )的話，便將增加防止反射效果，因此屬較佳狀況。 Γπλ /4X〇.7<n1d1<mA /4X1.3 …式（1) 式（1 )中，m係正奇數（一般爲1 )，ηι係低折射率層折射率，d i係低折射率層厚度（nm )。在本發明中，如第1圖（b )所示態樣亦屬較佳狀況。在第1圖（b)中，依序具有透明基板1、硬塗層5、高折射率層2、低折射率層3之層構造。此外，在高折射率層2中，含有消光劑粒子4。硬塗層5、高折射率層2、及低折射率層3係具有符合下述關係的折射率。高折射率層折射率 > 硬塗層折射率高折射率層折射率 > 低折射率層折射率本發明之高折射率層折射率最好非爲單一値，最好爲粒子分散於形成高折射率層之材料中的折射率不均勻層。此情況下，層之折射率係依基質部（在本發明中，係指由除 552429 五、發明說明 (6) 消光劑粒子以外的材料所構成的部分）的平折射率表示〇形成筒折射率層之材料的折射率最好爲1.50至2.80 < 在曰本專利特開平8 - 1 1 040 1號公報等之中所記載的高折射率材料，係當由具二個以上乙烯性不飽和基的單體、與由至少從鈦、鋁、銦、鋅、錫、及銻中選擇其中一者的金屬氧化物所構成粒徑100nm以下之微粒子所構成的情況時因爲微粒子粒徑充分小於光波長，因此將產生亂射而導致無法. 獲得光學均勻的物質。 [透明基材] 透明基板最好採用塑膠薄膜。形成塑膠薄膜的聚合物可舉例如 :纖維素酯（如：三乙醯纖維素、二乙醯纖維素）、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯（如：聚對苯二甲酸乙二醇酯聚乙烯萘酯）、聚苯乙烯、聚烯烴、聚原菠烷（商品名：安通、瑞歐耐克斯（音譯））等。其中尤以三乙醯纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯萘酯、聚原菠烷爲佳，更以三乙醯纖維素爲佳。使用於透明基材中之聚合物材料折射率最好在1 . 4 至 1 . 7 範圍內。譬如上述聚合物的折射率，若纖維素酯類的話便約1. ,4〜1 . 5，聚酯類的話，則約1 · 5〜1 · 7程度。本發明之防止反射膜最好採用於液晶顯示裝置中。當使用於液晶顯示裝置的情況時，在單面上設置黏著層等而配置於顯示器的最外表面上。當該透明基材爲三乙醯纖維素的情況時，因爲保護偏光板之偏光層的保護膜係採用 -8- 乙 552429 五、發明說明 ( 7：醯纖維素因此请:接採用具防眩性之本發明的防止反射膜當作保護膜的話 ’在成本上特別佳。上述二乙醯纖維素膜最好採用將三乙醯纖維素溶解於溶劑中而調整過的三乙醯纖維素摻質，利用單層澆延、複數層共澆延等任一澆延方法，進行澆延而製成的二乙醯纖維素膜〇特別就環保觀點，最好採用將三乙醯纖維素利用後述的低溫溶解法或高溫溶解法，溶解於實質未含二氯甲烷的溶劑中而調整過的三乙醯纖維素摻雜，所製成的三乙醯纖維素膜 0 單層三乙醯纖維素係利用日本專利特開平7 - 1 ] [055 號等中所揭示的輥澆延、或帶澆延等而製成。由複數層所構成的二乙醯纖維素則如日本專利特開昭6 1 - 94725 號、特公昭 62- 43846 號等所揭示之所謂「共澆延法」而製成。換句話說 5 將原料片利用鹵化碳氫類（二氯甲烷等 )、醇類（甲醇乙醇丁醇等）、酯類（乙酸甲酯、醋酸甲酯等） Λ 醚類 (二氧雜環己烷、二氧雜環戊烷、二乙醚等）等溶劑進行溶解 ’ 並配合需要添加可塑劑、紫外線吸收劑防止劣化劑滑劑剝離促進劑等各種添加劑的溶液（稱「摻雜 J ) ’將此溶液利用摻雜供應機構（稱「塑模」）澆延於由水平式環型金屬皮帶或旋轉輥所構成的支撐體上 y 若單層的話便單層澆延單一摻雜，若複數層的話則在高濃度纖維素酯摻雜二側上共澆延低濃度摻雜，並在支撐體上進行某種程度的乾燥後，再將被賦予剛性的膜從支撐體 -9 - 上剝落 552429 五、發明說明（8) 其次再利用各種搬送機構通過乾燥部而去除溶劑的方法。如上述，供溶解三乙醯纖維素用的溶劑，以二氯甲烷爲代表。但是，雖在技術上雖可毫無問題的使用如二氯甲烷之類的鹵化碳氫化合物，可是就地球環保或作業環保之觀點，溶劑最好採用實質未含二氯甲烷等鹵化碳氫化合物。所謂「實質未含」係指有機溶劑中，鹵化碳氫化合物比率低於5質量％(最好低於5質量％)。當採用實質未含二氯甲烷等溶劑，調整三乙醯纖維素的摻雜時，便必須施行下述的特殊溶解法。第一種溶解法稱之爲冷卻溶解法，說明如下。首先，在接近室溫的溫度（-10〜40°C )下，在溶劑中一邊攪拌一邊徐緩添加三乙醯纖維素。其次，將三乙醯纖維素與溶劑的混合物，冷卻至-100〜-10°C (最好-80〜-10 °C，尤以-50〜-20 °C爲佳，更以-50— 30 °C爲更佳）。冷卻可譬如在乾冰•甲醇浴（_ 7 5 °C )或經冷卻過的二乙二醇溶液（-30〜-2 0 °C )中實施。當經依此冷卻時，三乙醯纖維素與溶劑的混合物便將固化。若再將其加溫至0〜200°C (最好0〜15(TC ，尤以0〜12(TC爲佳，更以0〜50°C爲更佳）的話，溶劑中的三乙醯纖維素便將形成流動的溶液。昇溫可僅置放於室溫中，亦可在溫浴中進行加溫。第二方法稱之爲高溫溶解法，說明如下。首先，在接近室溫的溫度（-10〜4(TC )下，在溶劑中一邊攪拌一邊徐緩添加三乙醯纖維素。本發明之三乙醯纖維素 -10- 552429 五、發明說明（9) 溶液最好在含有各種溶劑的混合溶劑中，添加三乙醯纖維素而預先膨潤。在本法中，雖三乙醯纖維素的溶解濃度最好在30質量％以下，但就薄膜製膜時的乾燥效率觀點，最好儘可能的高濃度。其次，三乙醯纖維素與溶劑的混合液，係在0 . 2MPa〜30MPa加壓下，加熱至70〜240 °C (最好 80〜220°C，尤以100〜200°C爲佳，更以100〜190°C爲更佳）。其次，該等加熱溶液因爲無法直接進行塗布，因此必須冷卻至所使用溶劑的最低沸點以下。此情況下，一般均冷卻至_1〇〜5 0 °C並回復至常壓。冷卻係將內藏三乙醯纖維素溶液的高溫高壓容器或管路，僅置放於室溫下，最好採用冷卻水等冷煤冷卻該裝置。如上述所製得的三乙醯纖維素膜，相較於利用習知方法所製成的膜，前者在加工時較不易產生切削屑，屬於較佳狀況。透明基板的光穿透率最好在80%以上，尤以86%以上爲佳。透明基材的濁度値最好在2%以下，尤以在1.0%以下爲佳。透明基材的折射率，最好在1 . 4〜1 . 7範圍，本發明的透明基板厚度，最好在10# m以上300 // m以下，尤以30// m以上200 // m以下爲佳，更以30# m以上 1 20 // m以下爲更佳。特別係講求薄化的行動用映像顯示裝置用透明基材，最好在60 # m以下。在透明基材中，爲賦予機能性，最好設置下塗層、防止靜電層、消光層、滑層等等。 -11- 552429 五、發明說明（1〇) [硬塗層] 本發明之防止反射膜配合需要，在以提昇薄膜強度的目的之下，可在透明基材與低折射率層間設置硬塗層。硬塗層強度若以鉛筆硬度表示的話，最好在Η以上，尤以在2H 以上爲佳，更以在3Η以上爲更佳。此外，本發明之硬塗層折射率可配合上層或透明基材的折射率進行調整。此折射率最好在1.45至1.70範圍內。硬塗層之黏著劑中所採用的化合物最好具有以飽和碳氫或聚醚爲主鏈的聚合物，尤以具有以飽和碳氫爲主鏈的聚合物爲佳。黏著劑聚合物最好屬於交聯者。具有以飽和碳氫爲主鏈的聚合物，最好爲利用乙烯性不飽和單體的聚合反應而獲得者。爲獲得交聯的聯著劑聚合物，最好採用具二個以上乙烯性不飽和基的單體。當將硬塗層設定爲高折射率之情況時，最好此單體構造中，至少含有一個選擇自芳香族環、氟以外的鹵原子、硫、磷、氮等之中的原子。具二個以上乙烯性不飽和基的單體之例子，包括有：多元醇與（甲基）丙烯酸之酯（譬如：乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，4 -二氯己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇四 (甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、1，2, 3 -環己烷四（甲基）丙烯酸酯、聚氨基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯）、乙基苯 -12- 552429 五、發明說明（11) 及其衍生物（譬如：1，4-二乙烯基苯、4-乙烯基苯甲酸- 2-丙烯醯乙酯、1，4 -二乙烯基環己酮）、乙烯珮（譬如：二乙烯基楓）、丙烯酸醯胺（譬如甲撐基雙丙烯酸醯胺）及甲基丙烯酸醯胺等。高折射率單體的例子，包括有雙（4 -甲基丙烯醯基硫苯）硫醚、乙烯萘、乙烯苯硫醚、4 -氧化甲基丙烯苯- 4’-甲氧基苯基硫醚等。具以聚醚爲主鏈的聚合物，最好利用多官能基環氧化合物的開環聚合反應而合成者。具該等乙烯性不飽和基的單體係在塗布後，經利用電離放射線或熱的聚合反應而硬化。上述多官能基單體的聚合反應內，特別以採用光聚合起始劑爲佳。光聚合起始劑的例子係含有：苯乙酮類、二苯甲酮類、米希勒的苯醯苯甲酸酯、α -澱粉肟酯、四甲基聯二甲胺荒基單硫化物及噻噸酮。光聚合起始劑最好相對於多官能基單體100質量份，使用〇 . 1至1 5質量份範圍內，尤以使用1至1 0質量份範圍內者爲佳。此外，光聚合反應最好在硬塗層塗布及乾燥後，再實施紫外線照射。亦可取代具二個以上乙烯性不飽和基之單體，或此外更再利用交聯性基的反應，將交聯構造導入於聯著劑聚合物中。交聯性官能基之例子係包括有：異氰酸酯、環氧基、氮 -13- 552429 五、發明說明（12) 雜環丙烷、噁唑啉、醛基、羰基、肼基、羧基、羥基、羥甲基、活性甲撐基、及烷氧基矽烷基之類的金屬烷氧基等。爲導入交聯構造，亦可添加如乙烯基磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、三聚氰胺、醚化羥甲基、異氰酸酯化合物、四甲氧基矽烷之類金屬烷氧基等。亦可採用如塊狀異氰酸酯基之類反應結果顯示交聯性的官能基。此外，在本發明中，所謂交聯基並未僅限於上述化合物，亦可爲顯示分解上述官能基的結果反應性。該等具交聯基的化合物，必須利用塗布後熱等而進行交聯。再者，在硬塗層中，亦可添加爲提昇膜硬化強度的無機微粒子。無機微粒子的平均粒子大小最好在0 . 5 // m以下，尤以在0.2 // m以下爲更佳。無機微粒子可舉例如二氧化矽粒子、二氧化鈦粒子、二氧化銷粒子、氧化鋁粒子、氧化錫粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石、高嶺土及硫酸鈣等等，其中尤以二氧化矽粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子爲佳。該等微粒子爲強化在塗布液中的安定性、膜強度，最好施行表面處理。再者，亦可提高硬塗層的折射率。因此，最好含有至少由鈦、锆、鋁、銦、鋅、錫、銻之中選擇一個的金屬氧化物所構成之粒徑lOOnm以下（最好50nm以下）的微粒子。微粒子的例子，可舉例如Ti02、Zr02、Α 1 203、Ιη 203、Zn〇、Sn〇2、Sb 203、ITO 等。再者，硬塗層最好具導電性。爲此最好添加導電性無機 -14- 552429 五、發明說明（13) 微粒子。導電性無機微粒子的粒徑在500nm以下，最好在 lOOnm以下，尤以在5〇nm以下。導電性無機微粒子包括有氧化錫、氧化銦、氧化鋅及氮化鈦，特別以氧化錫及氧化銦爲佳。導電性無機微粒子係以該等金屬的氧化物或氮化物爲主成分，此外亦可含其他元素。所謂主成分係指構成粒子的成分之中，含量（質量％)最多的成分。其他元素的例子包括有：Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Μη、Pb、Cd、As 、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、V 及鹵原子。當採用氧化錫及氧化銦之情況時，爲提高導電性，最好添加Sb、P、S、B、Nb、In、V及鹵原子。導電性無機微粒子特別以含Sb之氧化錫（ΑΤΟ)及含Sn的氧化銦（ITO) 爲佳。ΑΤΟ中的Sb比率，最好在3至20質量％爲佳。IT0 中的Sn比率最好在5至20質量％。添加於硬塗層中的上述各種無機微粒子添加量，最好爲硬塗層總質量的10至90質量％，尤以20至80質量％爲佳，更以30至60質量％爲更佳。再者，硬塗層的厚度最好爲 1 至 1 5 // m。 [高折射率層] 在本發明中，爲降低反射率，在透明基材上、或賦予硬塗層的透明基材上，設置高折射率層。所以’本發明高折射率層的折射率便設定在較透明基材高出〇 · 〇 5以上1 · 5 以下。高折射率層的折射率最好在1.55至2.30，尤以在1.57 -15- 552429 五、發明說明（14) 至2.10爲佳，更以1.60至2.00爲更佳，特別以1.62至 1 .90爲最佳。高折射率層的厚度最好爲0.05至50// m，尤以0.1// m 至20//m爲佳，更以0.3//m至10//m爲更佳。本發明之高折射率層亦可具有硬塗層的機能。最好賦予等於硬塗層相同的強度。高折射率層的強度，若以鉛筆硬度表示，最好在HB以上，尤以在Η以上，更以在2H以上〇本發明之高折射率層最好含有無機微粒子與聚合物。高折射率層之黏著劑中所採用的化合物最好具有以飽和碳氫或聚醚爲主鏈的聚合物，尤以具有以飽和碳氫爲主鏈的聚合物爲佳。黏著劑聚合物最好屬於交聯者。具有以飽和碳氫爲主鏈的聚合物，最好爲利用乙烯性不飽和單體的聚合反應而獲得者。爲獲得交聯的聯著劑聚合物’最好採用具二個以上乙烯性不飽和基的單體。爲當作高折射率用，最好此單體構造中，至少含有一個選擇自芳香族環、氟以外的鹵原子、硫、磷、氮等之中的原具二個以上乙烯性不飽和基的單體之例子，包括有：多元醇與（甲基）丙烯酸之酯（譬如：乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，4-二氯己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇四 -16- 552429 五、發明說明（15) (甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、1，2, 3 -環己烷四（甲基）丙烯酸酯、聚氨基甲酸酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯）、乙基苯及其衍生物（譬如：1，4 -二乙烯基苯、4 -乙烯基苯甲酸- 2-丙烯醯乙酯、1，4 -二乙烯基環己酮）、乙烯楓（譬如：二乙烯基碾）、丙烯酸醯胺（譬如甲撐基雙丙烯酸醯胺）及甲基丙烯酸醯胺等。高折射率單體的例子，包括有雙（4 -甲基丙烯醯基硫苯）硫醚、乙烯萘、乙烯苯硫醚、4 -氧化甲基丙烯苯- 4’-甲氧基苯基硫醚等。具以聚醚爲主鏈的聚合物，最好利用多官能基環氧化合物的開環聚合反應而合成者。本發明之高折射率層最好將交聯的聚合物當作黏著劑使用。交聯構造係在聚合物上賦予皮膜形成能力，並具有強化層強度的機能。交聯聚合物之主鏈的例子，係包括有：聚烯烴（飽和碳氫）、聚醚、聚脲、聚氨基甲酸酯、聚酯、聚胺、聚醯胺及三聚氰胺樹脂。最好爲聚烯烴主鏈、聚醚主鏈及聚脲主鏈，尤以聚烯烴主鏈及聚醚主鏈爲佳，更以聚烯烴主鏈爲更佳。再者，交聯的聚合物中，最好具有羧酸基（羧基）、磺酸基（磺基）及磷酸基（膦基）等陰離子性基。其中陰離子性基最好爲磺酸基及磷酸基。此外，陰離子性基亦可爲 -17- 552429 五、發明說明（16) 鹼狀態。具陰離子性基的聚合物最好在主鏈內具有交聯的構造。陰離子性基具有維持無機微粒子分散狀態的機肯巨。在聚合物中，亦可含有其他重複單位（無陰離子性基的重複單位，亦無交聯構造的重複單位）。此其他的重複單位最好爲具胺基或第四級銨基的重複單位，以及具苯環的重複單位。氨基或第四級銨基係如同陰離子性基，具有維持無機微粒子分散狀態的機能。具有陰離子性基的單體、及具有胺基或第四級銨基的單體亦可採用市售的單體。適於使用之市售具有陰離子性基的單體，可舉例如 :KYAMAR PM-21、PM-2(日本化藥（股）產製）、Atox MS-60 、MS-2N、MS-NH4(日本乳化劑（股）產製）、阿洛尼克斯Μ-5 000 (商品名，音譯）、Μ- 60 00、Μ- 8000系列（東亞合成化學工業（股）產製）、畢仕柯德#2000(商品名，音譯）系列（大阪有機化學工業（股）產製）、新福隆德亞GX- 8289(商品名，音譯）（第一工業製藥（股）產製）、NK酯GB-1、A-SA( 新中村化學工業（股）產製）、AR_ 100、MR-100、MR- 200 ( 第八化學工業（股）產製）等。再者，較適於使用的市售具胺基或第四級銨基的單體，可舉例如DMAA(大阪有機化學工業（股）產製）、DMAEA、 DMA、PAA(興人（股）產製）、布雷馬QA(商品名，音譯）（曰本油脂（股）產製）等。 -18- 552429 五、發明說明（17) 具該等乙烯性不飽和基的單體係在塗布後，經利用電離放射線或熱的聚合反應而硬化。爲產生聚合物的聚合反應’可採用光聚合反應或熱聚合反應。特別以光聚合反應爲佳。爲聚合反應，最好使用聚合起始劑。譬如前述的熱聚合起始劑、及光聚合起始劑。上述多官能基單體的聚合反應內，特別以採用光聚合起始劑爲佳。光聚合起始劑的例子係含有：苯乙酮類、二苯甲酮類、米希勒的苯醯苯甲酸酯、α -澱粉肟酯、四甲基聯二甲胺荒基單硫化物及噻噸酮。亦可除光聚合起始劑之外，更採用光增感劑。光增感劑的例子係包括有：正丁胺、三乙胺、三正丁膦、米希勒酮及嗤噸酮。光聚合起始劑最好相對於多官能基單體100質量份，使用0 . 1至1 5質量份範圍內，尤以使用1至1 0質量份範圍內者爲佳。光聚合反應最好在高折射率層塗布及乾燥後，再實施紫外線照射。聚合起始劑可使用市售的聚合起始劑。亦可除聚合起始劑之外，再使用聚合促進劑。聚合起始劑與聚合促進劑的添加量，最好爲單體總量的0 . 2至1 0質量％範圍內。亦可加熱塗布液（含單體的無機微粒子分散液），而促進單體（或寡聚物）的聚合。再者，亦可在塗布後的光聚合反應之後再施行加熱，而對所形成的聚合物追加施行熱硬化 -19*· 552429 五、發明說明（18) 反應。亦可取代具二個以上乙烯性不飽和基之單體，或此外更再利用交聯性基的反應，將交聯構造導入於聯著劑聚合物中。交聯性官能基之例子係包括有：異氰酸酯、環氧基、氮雜環丙烷、噁唑啉、醛基、羰基、肼基、羧基、羥基、羥甲基、活性甲撐基、及烷氧基矽烷基之類的金屬烷氧基等。爲導入交聯構造，亦可添加如乙烯基磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、三聚氰胺、醚化羥甲基、異氰酸酯化合物、四甲氧基矽烷之類金屬烷氧基等。亦可採用如塊狀異氰酸酯基之類反應結果顯示交聯性的官能基。此外，在本發明中，所謂交聯基並未僅限於上述化合物，亦可爲顯示分解上述官能基的結果反應性。該等具交聯基的化合物，可在利用塗布後熱等而進行交聯。再者，在本發明的高折射率層中，於上述黏著劑中，爲調節折射率最好添加無機微粒子。爲此而所採用的粒子，最好採用金屬的氧化物或硫化物。金屬的氧化物或硫化物之粒子，可舉例如··二氧化鈦（如：金紅石、金紅石/銳鈦礦的混晶、銳鈦礦、非晶質構造）、氧化錫、氧化銦、氧化鋅、氧化锆、氧化鋁、氧化銻、I TO及硫化鋅等。其中尤以氧化鈦、氧化鍩、氧化錫及氧化銦爲佳。無機粒子可以該等金屬的氧化物或硫化物爲主成分，再含其他元素。所謂主成分係指構成粒子的成分之中，含量（質量％)最多的成分。其他兀素的例子包括有：Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe -20- 552429 五、發明說明（19) 、Mn 、 Pb 、 Cd 、 As 、 Cr 、 Hg 、 Zn 、 A1 、 Mg 、 Si 、 P 、及 S ° 高折射率層中所採用的無機微粒子最好折射率爲丨.50 至2.80，尤以1 .60至2.80爲佳。爲提昇層的強度及賦予防靜電機能，除上述之高折射率的無機微粒子之外，尙可添加其他微粒子。此類無機微粒子可舉例如：二氧化矽粒子、二氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化錫粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石、高嶺土及硫酸鈣等。在本發明中，亦可對上述無機微粒子施行表面處理。表面處理係採用無機化合物或有機化合物而實施。使用於表面處理之有機化合物的例子，包括有：聚醇、烷醇胺、有機磷酸及其鹽類、硬脂酸、矽烷偶合劑及鈦酸酯偶合劑。其中尤以矽烷偶合劑爲最佳。亦可組合實施二種以上的表面處理。亦可組合上述而進行處理。無機微粒子的形狀，最好如：米粒狀、球形狀、立方體狀、紡錘形狀或不定形狀。無機微粒子的一次粒子重量平均粒徑最好爲1至100nm ，尤以1至70nm爲佳，更以1至50nm爲更佳。塗布層中之無機微粒子亦可存在二次粒子。二次粒子的重量平均粒徑最好爲1至500ηΐΏ，尤以5至200nm爲佳，更以10至100nm爲更佳。無機微粒子的平均粒徑係利用光散亂法或電子顯微鏡照片而測得。無機微粒子的比表面積最好爲10至400m2/g，尤以20 -21 - 552429 五、發明說明（2〇) 至200m2/g爲佳，更以30至150m2/g爲更佳。無機微粒子的添加量，最好爲高折射率層總質量的1 0 至90質量％，尤以20至80質量％爲佳，更以30至70質量％爲更佳。在高折射率層內亦可合倂使用二種以上的無機微粒子。在高折射率層中最好採用折射率比較高的聚合物。折射率較高之聚合物的例子，包括有：聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、三聚氰胺樹脂、苯酚樹脂、利用環氧樹脂及環狀（脂環式或芳香族）異氰酸酯與聚醇的反應而所獲得的聚氨基甲酸酯。具有其他環狀（芳香族、複環式、脂環式）基的聚合物、或以氟以外的鹵原子爲取代基之聚合物的折射率亦較高。亦可導入雙鍵並利用可自由基硬化的單體聚合反應而形成聚合物。亦可從具被覆膜形成能力的有機化合物，形成高折射率層。有機金屬化合物最好分散於適當的溶劑中，或呈液狀。有機金屬化合物的例子，包括有金屬醇鹽（譬如：四乙氧基鈦鹽、四異丁氧基鈦鹽、四正丙氧基鈦鹽、四正丁氧基鈦鹽、四第二丁氧基鈦鹽、四第四丁氧基鈦鹽、三乙氧基鋁鹽、三異丙氧基鋁鹽、三丁氧基鋁鹽、三乙氧基銻鹽、三丁氧基銻鹽、四乙氧基鉻鹽、四異丁氧基鉻鹽、四正丁氧基鉻鹽、四正丁氧基鉻鹽、四第二丁氧基鉻鹽、四第四丁氧基锆鹽）、螯合物（二異丙氧基鈦鹽雙乙醯醋酸鹽、二丁氧基鈦鹽雙乙醯醋酸鹽、二乙氧基鈦鹽雙乙醯醋酸鹽、 -22- 552429 五、發明說明（21) 雙乙醯丙酮鉻鹽、乙醯醋酸鋁鹽、二正丁氧基單乙基乙醯醋酸鋁鹽、二異丁氧基單甲基乙醯醋酸鋁鹽、三正丁氧基锆鹽單乙基乙醯醋酸鹽）、有機酸鹽（碳酸銷銨鹽）、及以锆爲主成分的活性無機聚合物。在本發明之高折射率層中，利用在高折射率層中添加消光劑例子，將隨表面凹凸而產生散亂、內部散亂等效果，便可減少因高折射率層下方基材與高折射率層折射率差而在高折射率層內所產生的光學干涉影響。在未含粒子的高折射率層中，因爲隨高折射率層與透明基材間的折射率差而所產生的光學干涉，將可發現到根據反射率波長依存性之反射率的較大振幅，結果防止反射效果將惡化，同時亦將產生色斑。但是，本發明之防止反射膜，藉由添加消光劑粒子便可解決該等問題。此外，藉由添加粒子時的表面凹凸，亦可突顯出與其他物品間的接觸而所造成的刮痕。但是，本發明之防止反射膜，若經由粒子添加而使濁度値超過1 〇%的話，隨穿透、反射光的散亂，在強光下，將可觀看到白色，導致潔淨性降低。此外，因爲隨添加消光劑粒子而形成表面凹凸構造，因此當此薄膜設置在映像顯示裝置表面上時，利用表面凹凸構造的透鏡效果，將發現畫素被放大，且出現亮點。所以，濁度値在10%以下，最好在7%以下，尤以在5%以下爲佳，更以在3%以下爲更佳〇本發明中所採用消光劑粒子的粒子徑，平均粒徑在 -23- 552429 五、發明說明（22) 0.3//m以上20//m以下，尤以在0.3/ζιώ以上l〇/zm以下爲佳，更以在0 . 5 // m以上5 // m以下爲更佳。當本發明之高折射率層中添加消光劑粒子的情況時，因爲表面凹凸較小，且抑制濁度値，因此高折射率層厚度最好設定在消光劑粒子平均粒徑的70%以上200以下。若厚度大於消光劑粒子之平均粒徑的話，消光劑粒子的粒徑分布將擴大，最好設定爲未含粒徑較大的粒子。較佳的厚度係消光劑粒子平均粒徑的75%以上180%以下，尤以80%以上150%以下爲佳，特別以80%以上120以下爲更佳。本發明防止反射膜表面面內之中心線平均表面粗糙度Ra ，最好在0·00 3//ιώ以上0.10/zm以下，尤以在〇.〇〇5//m 以上0 · 08 // m以下爲佳，特別以在0 · 007 // m以上0.05 // m 以下爲佳，最佳則爲0.008//m以上0.04//m以下。此表面粗糙度可利用三維表面粗糙計、原子能顯微鏡、雷射干涉顯微鏡等方法進行測量。本發明之消光劑粒子利用露出於高折射率層表面上，而賦予該表面凹凸，俾抑制高折射率層內的干涉斑點，並可抑制色斑等。此時，若凹凸密度較少的話，隨表面凹凸之透鏡效果的亮點將惡化。反之，若消光劑粒子密度過高的話，隨表面散亂將轉爲白色。所以，露出表面上的消光劑粒子數目，最好在5000個/ mm2以上1 00000個/ mm2以下，尤以在7000個/mm2以上50000個/mm2以下爲佳，特別以在8 000個/ mm2以上40000個/ mm2以下爲更佳。此種露出 -24- 552429 五、發明說明（23) 表面上的消光劑粒子數目係利用光學顯微鏡、電子顯微鏡等拍攝表面後，再利用計數消光劑粒子凸部的數量，便可計算出。本發明之消光劑粒子的粒徑分布儘可能的狹窄，因爲可在表面上均勻且較密的形成消光劑粒子凹凸，因此署較佳狀況。在表示粒徑分布上，譬如依下式（I)所計算出的s値。此S値越小的話，便屬於粒徑分布較狹窄的粒子。式（I ):S=[D(0·9 ) -D(0.1 ) ] /D(0·5) 上式（I)中，D(O.l)、D(0.5)及D(0.9)係依下述定義： D( 0.1):體積換算粒徑乘積値之10%値 D( 0.5):體積換算粒徑乘積値之50%値 D( 0.9):體積換算粒徑乘積値之90%値本發明之消光劑粒子中，S値最好在1 . 5以下，尤以在 1 . 3以下爲佳，特別以在1 . 1以下爲更佳。再者，當屬於粒徑分布較狹窄之S= 1 . 1以下的消光劑粒子之情況時，高折射率層厚度在消光劑粒子平均粒徑的 80%以上120%以下者爲特別佳。粒徑分布可利用庫爾特計數器、離心沉澱法、雷射繞射 •散亂法、電子顯微鏡觀察法等進行測量。本發明之粒徑及粒徑分布係以體積換算粒徑（粒子體積與同體積之球直徑）。測量機則採用馬爾龐公司（公司名，音譯）產製的標準計數器、庫爾特公司（公司名，音譯）產製的庫爾特計數 -25- 552429 五、發明說明（24) 器N4等。本發明之消光劑粒子可採用樹脂或無機化合物的粒子。最好採用如：氧化矽粒子、T i 02粒子、氧化鋁粒子、鍩粒子、交聯聚丙烯酸粒子、交聯聚苯乙烯粒子、三聚氰胺樹脂粒子、苯並胍胺樹脂粒子、苯酚樹脂粒子、間苯二酚樹脂粒子、聚醯胺樹脂粒子、聚醯亞胺樹脂粒子等。再者，粒子形狀可爲正球狀、不定形等任何形狀。亦可合倂使用不同的二種以上粒子。本發明之消光劑粒子折射率最好在1 . 5以上2 . 7以下，尤以在1 · 5 5以上2 · 2以下爲佳，特別以在1 . 60以上2 · 0 以下爲更佳，最佳者在1 . 62以上1 . 90以下。爲降低消光劑粒子與黏著劑間的散亂，本發明消光劑粒子的折射率最好在高折射率層折射率的土〇.〇5以內，尤以在±0.03以下爲佳，特別以在±0.02以下爲更佳。另，本發明中所謂的高折射率層折射率係指構成高折射率層之材料（黏著劑聚合物、無機微粒子、消光劑粒子等）之中，由除消光劑粒子之外的材料所形成層的折射率。再者，隨黏著劑/消光劑粒子間之散亂的高折射率層內濁度値最好在2%以下，尤以在1.5以下爲佳，特別以在 1 %以下爲更佳。此種內部濁度値亦可預估由在含消光劑的高折射率層上，賦予相同折射率但未含消光劑粒子的層，便可使表面散亂消失。 [低折射率層] -26- 552429 五、發明說明（25) 本發明之低折射率層最好由利用熱或電離放射線而交聯的含氟化物、無機或有機微粒子、黏著劑等所形成，亦可採用粒子間或粒子內部具空隙的層，利用溶膠凝膠法而所形成的低折射率層。低折射率層的折射率雖越低的話，防止反射性能將越佳，但是就賦予低折射率層強度的觀點而言，則屬困難。若考量此平衡的話，低折射率層的折射率最好在1 . 30至 1 .50，尤以1 .35至1 .49爲佳。低折射率層折射率必須較高折射率層折射率低0.05以上2 . 0以下的範圍。低折射率層中所採用的交聯性氟高分子化合物，除含全氟烷基的矽烷化合物[(譬如：十七氟-1，1，2，2 -十四烷基）三乙氧基矽烷]等之外，尙可舉例如：以含氟單體與爲賦予交聯性基之單體爲構成單位的含氟共聚物。含氟聚合物最好由含氟原子的乙烯性不飽和單體之聚合反應而合成。含氟單體的具體例可舉例如：氟化烯烴類（譬如：全氟乙烯、亞乙烯氟化物、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2, 2 -二甲基-1，3 -二氧化物等）、（甲基）丙酸之部分或全部氟化的烷基酯衍生物類（譬如··畢仕柯德 6FM(商品名，音譯）（大阪有機化學產製）、或m_2020(大金產製）（公司名，音譯）等）、完全或部分氟化乙烯醚類、全氟聚醚及其衍生物等。該等之中，任意比率組合一個或複數單體，在依（共）聚合便可獲得目的之含氟聚合物。再者，亦可將上述含氟單體、與未含氟原子之單體的共 -27- 552429 五、發明說明（26) 聚合物，當作含氟聚合物使用。可合倂使用的單體並無特別限制，可舉例如：烯烴類（如：乙烯、丙烯、異丙烯、氯乙烯、氯亞乙烯等）、丙烯酸酯類（如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸-2-乙基己酯）、甲基丙烯酸酯類（如：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯等）、苯乙烯衍生物（苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯基甲苯、α -甲基苯乙烯等）、乙烯醚（如：甲基乙烯醚等）、乙烯酯類（如：醋酸乙烯、丙酸乙烯、桂皮酸乙烯等）、丙烯酸醯胺類（Ν-第四丁基丙烯酸醯胺、Ν-環己基丙烯酸醯胺等）、甲基丙烯酸醯胺類、丙烯腈等。再者，爲賦予滑性，最好將聚有機矽烷導入於含氟聚合物中。此譬如可利用將末端具有丙烯基、甲基丙烯基、乙烯醚基、苯乙烯基等的聚有機矽烷，與上述單體進行聚合而獲得。爲賦予交聯性基的單體，除如縮水甘油丙烯酸酯之類，在分子類預先具有交聯性官能基的（甲基）丙烯酸酯單體之外，尙可舉例如：具有羧基、羥基、胺基、磺酸基等的（甲基）丙烯酸單體（如：（甲基）丙烯酸、羥甲基（甲基）丙烯酸酯、羥基烷基（甲基）丙烯酸酯、烯丙基丙烯酸酯等）。後者在共聚合後’可導入父聯構造，此在日本專利特開平 10-25388號公報及特開平10-147739號公報中已爲已知。含氟聚合物可使用市售材料。市售之氟聚合物的例子，有如：賽德普（商品名，音譯）（旭硝子產製）、鐵氟龍AF (杜 -28- 552429 五、發明說明（27) 邦產製）、聚偏二氟乙烯、魯米氟龍（旭硝子產製）、奧普斯達（商品名，音譯）（j SR產製）等。氟材料的低折射率層最好動摩擦係數爲0.03至〇.15, 對水的接觸角在90至120〇。上述氟材料之低折射率層中採用無機微粒子，就改良強度的觀點頗有助益。無機微粒子最好採用非晶質，最好採用由金屬等的氧化物、氮化物、硫化物、或鹵化物所構成 ’其中特別以氧化物爲佳。構成該等無機化合物的金屬等原子’最好如：Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Zn、Fe、Cu、Ti 、Sn 、 In 、 W 、 Y 、 Sb 、 Mn 、 Ga 、 V 、 Nb 、 Ta 、 Ag 、 Si 、 B 、 Bi、Mo、Ce、Cd、Be、Pb 及 Ni，尤以 Mg、Ca、B、及 Si 爲佳。亦可使用二種含金屬等無機化合物。特別佳的無機化合物爲二氧化矽，即氧化矽。無機微粒子的平均粒徑最好在0.001至0.2// m範圍內，尤以〇 · 〇〇5至〇 . 〇5 // m範圍內者爲佳。微粒子的粒徑最好儘可能的均勻（單分散或實質上單分散）。該無機微粒子的添加量，最好爲低折射率層總質量的5 至90質量％，尤以10至70質量％爲佳，更以10至50質量％爲特別佳。該無機微粒子最好施行表面處理後再採用。表面處理法係有如電漿放電處理或電暈放電處理之類的物理表面處理，與使用偶合劑的化學表面處理，但是最好爲使用偶合劑的化學表面處理。偶合劑最好採用有機矽烷甲烷化合物（ -29- 552429 五、發明說明（28) 如：甲基偶合劑、矽烷偶合劑）。當該無機微粒子爲氧化矽的情況時，矽烷偶合劑處理特別有效。低折射率層最好採用無機或有機微粒子，在微粒子間或微粒子內形成微孔隙層的層。粒子間的微孔隙係可利用至少累積二個以上的微粒子而形成。另，若將粒徑相等（完全單分散）的球狀微粒子最密塡充的話，便可形成26體積％空隙率的微粒子間微孔隙。若粒徑相等的球狀微粒子單純立方塡充的話，便可形成40 體積％空隙率的微粒子間微孔隙。在實際的低折射率層中，因爲微粒子粒徑分布或粒子內存在微孔隙，因此空隙率便將相當的偏離上述理論値。藉由增加空隙率，便可降低低折射率層的折射率。再者，利用重疊微粒子而形成微孔隙，以及調整微粒子粒徑，亦可輕易將粒子間微孔隙大小調節至適當値（光未散亂，低折射率層的強度未產生問題）。此外，利用使微粒子粒徑均勻的話，便可獲得粒子間微孔隙大小亦均勻的光學均勻低折射率層。藉此低折射率層在微觀上屬於含微孔隙的多孔質膜，在光學上或巨觀上屬於均勻的薄膜。粒子間微孔隙最好利用微粒子與聚合物而封閉於低折射率層內。在封閉的空隙內，相較於低折射率層表面呈開放開口的情況下，前者具有在低折射率層表面的光散亂較少之優點。藉由形成微孔隙，低折射率層的巨觀折射率，將低於形 -30- 552429 五、發明說明（29) 成構成低折射率層之成分的折射率和値。層之折射率爲層構成要素之平均體積折射率的和。如微粒子或聚合物之類低折射率層構成成分的折射率屬於大於1的値，空氣折射率爲1. 〇〇。因此，利用形成微孔隙，便可獲得折射率非常低的低折射率層。微粒子之平均粒徑最好0.5至2 00nm，尤以1至lOOnm 爲佳，更以3至70ηηι爲更佳，更以5至40nm範圍內爲最佳。微粒子粒徑最好儘可能的均勻（單分散）。無機微粒子最好採用由金屬等的氧化物、氮化物、硫化物、或鹵化物所構成，其中特別以氧化物或鹵化物爲佳，尤以氧化物或氟化物爲最佳。構成該等無機化合物的金屬等原子，最好如：Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Zn、Fe、Cut、 Ti 、 Sn 、 In 、 W 、 Y 、 Sb 、 Mn 、 Ga 、 V 、 Nb 、 Ta 、 Ag 、 Si 、 B 、B i、Mo、Ce、Cd、Be、Pb 及 Ni，尤以 Mg、Ca、B、及 S i爲佳。此外，無機微粒子最好採用非晶質。亦可使用二種含金屬等無機化合物。特別佳的無機化合物爲二氧化矽，即氧化矽。無機微粒子內的微孔隙隙譬如利用使形成粒子的氧化砂分子產生交聯便可形成。使氧化矽分子交聯與縮小體積，而使粒子形成多孔質。具微孔隙的（多孔質）無機微粒子，可利用溶膠凝膠法（特開昭5 3 - 1 1 27 32號、特公昭57 - 905 1號各公報記載）、或析出法（APPLIED OPTICS、 27、 3356 頁（1988)記載） -31 - 552429 五、發明說明（3〇) ，當作分散物而直接合成。此外，亦可將利用乾燥、沉澱法所獲得的粉體，經機械粉碎而獲得分散物。亦可採用市售多孔質無機微粒子（如：二氧化矽溶膠）。具微孔隙的無機微粒子，爲形成低折射率層，最好用分散於是到溶劑中的狀態。分散溶劑最好爲水、醇類（如：甲醇、乙醇、異丙醇）、及酮類（如：甲乙酮、甲基異丁酮）。無機微粒子最好爲利用單體聚合反應（譬如乳化聚合法）而合成的聚合物微粒子。此無機微粒子亦最好爲非晶質。無機微粒子的聚合物最好含氟原子。聚合物中之氟原子比率，最好35至80質量％，更以45至75質量％爲佳。此外，最好在無機微粒子內，譬如使形成粒子的聚合物產生交聯，並縮小體積而形成微孔隙。爲使形成粒子的聚合物產生交聯，最好將供合成聚合物用之單體的20莫耳％以上形成多官能基單體。多官能基單體的比率，最好30至80莫耳％，尤以35至50莫耳％爲更佳。供利用上述無機微粒子合成中所採用的單體，合成含氟聚合物而所採用的含氟原子之單體的例子，包括有：氟化烯烴類（譬如：氟乙烯、亞乙烯氟化物、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2, 2 -二甲基-1,3 -二氧化物等）、丙烯酸或甲基丙烯酸之氟化烷基酯類及氟化乙烯醚類。亦可將上述含氟單體、與未含氟原子之單體的共聚合物〇未含氟原子之單體的例子，包括有：烯烴類（如：乙烯、 -32- 552429 五、發明說明（31) 丙烯、異丙烯、氯乙烯、氯亞乙烯）、丙烯酸酯類（如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸-2-乙基己酯）、甲基丙燒酸酯類（如：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯）、苯乙烯類（如：苯乙烯、乙烯基甲苯、α -甲基苯乙烯）、乙烯醚類（如：甲基乙烯醚）、乙烯酯類（如：醋酸乙烯、丙酸乙烯）、丙烯酸醯胺類（如：Ν-第四丁基丙烯酸醯胺、Ν-環己基丙烯酸醯胺等）、甲基丙烯酸醯胺類、丙烯腈寺。多官能基單體的例子，包括有：二烯類（如：丁二烯、戊二烯）、多元醇與丙烯酸的酯類（如：乙二醇二丙烯酸酯、 1,4 -環己烷二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯）、多元醇與甲基丙烯酸的酯類（如··乙二醇二甲基丙烯酸酯、 1，2,4 -環己烷四甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯）、二乙烯基化合物（如：二乙烯基環己烷、1，4 -二乙烯基苯）、二乙烯基碾、雙丙烯酸醯胺類（如：甲撐雙丙烯酸醯胺）及雙甲基丙烯酸醯胺類。在含有孔隙的低折射率層中，最好含有5至50質量％之量的聚合物。聚合物係黏著於微粒子，並具有維持含空隙之低折射率層構造的機能。聚合物之使用量’可調整爲不致塡充於空隙中且可維持低折射率層強度。聚合物的量最好爲低折射率層總量的1 〇至30質量％。使聚合物與微粒子黏著，係爲賦予低折射率層強度的較佳方式。此方法可舉例如： -33- 552429 五、發明說明（32) (1)使在微粒子的表面處理劑上，結合聚合物的方法； (2 )以微粒子爲核芯，在其周圍形成聚合物殼的方丨去；以及 (3 )微粒子間的黏著劑採用聚合物的方法。使結合於上述（1 )之表面處理劑上的聚合物，最好爲（2) 的殼聚合物或（3 )的黏著劑聚合物。上述（2 )之聚合物最好在調製低折射率層塗布液之前，便利用聚合反應形成於微粒子周圍。上述（3 )之聚合物，最好將單體添加於低折射率層的塗布液中，並在低折射率層塗布之同時或經塗布後，再利用聚合反應而形成。最好在（1 )〜（3 )之中組合二種或三種後再實施。特別以組合（1 )與（3 )二種，或組合（1 )〜（3 )三種後再實施。相關上述方法，以詳細記載於日本專利特開平1 1 - 6902 號通報中。再者’低折射率層的材料，最好爲有機矽烷等有機金屬化合物的加水分解部分縮合物（所謂溶膠凝膠膜）。其中尤以有機矽烷的加水分解部分縮合物之折射率較低，且膜強度最強，更以光硬化性有機矽烷的加水分解部分縮合物爲佳。有機矽烷的具體例可舉例如：四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙烯基三 -34- 552429 五、發明說明（33) 甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、CFfhCHJUOCHA、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3 、r -環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、r -環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、r-胺基丙基三甲氧基矽烷、r-三甲氧基矽烷丙基異氰酸酯、7 -氫硫基丙基三甲氧基矽烷、τ -甲基丙燃氧基丙基三甲氧基砂院、丙嫌氧基丙基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、r -縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、r -胺基丙基甲基三乙氧基矽烷、r-氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷等。本發明並不僅限於該等。再者，普通均採用混合不同二種以上的有機矽烷，最好配合硬度、脆性之調節、及導入官能基之目的，而進行適當的調整。有機矽烷的加水分解縮合反應，可在無溶劑下進行，亦可在溶劑中進行。溶劑最好採用有機溶劑，可舉例如：丙酮、甲乙酮、甲基異丙酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、甲苯、二甲苯、四氫呋喃、1，仁二噁烷等。加水分解縮合反應最好在觸媒存在下進行。觸媒可舉例如：鹽酸、硫酸、硝酸等無機酸類；草酸、醋酸、蟻酸、甲磺酸、甲苯磺酸等有機酸類；三乙胺、萝啶等有機鹼類 •，三異丙氧基鋁、四丁氧基銷等金屬烷氧基類；上述金屬 -35- 552429 五、發明說明（34) 院氧基類與乙醯醋酸乙酯、乙醯丙酮等的金屬螯合化合物類等。加水分解縮合反應最好相對於烷氧基1莫耳，添加0.3 至2.0莫耳的水，尤以添加〇·5至0.1莫耳爲佳。在上述溶劑與觸媒存在下，於25至10CTC下進行攪拌。觸媒添加量’相對於烷氧基最好添加0 · 0 1至1 0莫耳％，尤以〇 . 1 至5莫耳％爲佳。反應條件最好隨有機砂院的反應性而進行適當的調節。當將有機矽烷的加水分解物及/或其部分縮合物（所謂的溶膠凝膠部分，爾後以此稱呼）設定爲光硬化性時，最好在溶膠凝膠成分中含有利用光而產生反應促進劑的化合物。具體而言，最好爲光酸產生劑或光鹼產生劑，二者均可促進溶膠凝膠成分的縮合反應。具體而言，光酸產生劑可舉例如：苯偶姻對甲苯磺醯鹽、三（硝基苄基）磺酸鹽、二芳基碘鹽、三芳基鎏鹽等；光鹼產生劑可舉例如：硝基苄基環己基氨基甲酸鹽、二（甲氧基苄基）六甲撐二氨基甲酸鹽等。其中最好爲光酸產生劑，具體而言最好爲三芳基鎏鹽、二芳基碘鹽。最好與該等化合物合倂使用增感色素。本發明之隨光而產生反應促進劑的化合物添加量，相對於低折射率層塗布液總固形分，最好爲0 . 1至1 5%，尤以 0 . 5至5%爲佳。在本發明之溶膠凝膠成分的低折射率層中，在防污性及賦予滑性的目的下，最好合倂使用上述含氟聚合物。含氟 -36- 552429 五、發明說明（35) 聚合物中，最好爲將含氟乙烯單體進行聚合而獲得的聚合物’尤以就與溶膠凝膠成分間的相溶性及膜強度之觀點而言，最好爲具有可與溶膠凝膠成分形成共價鍵的官能基。 [防止反射膜之製造法、其他] 在防止反射膜的各層或其塗布液中，除上述成分（無機微粒子、聚合物、分散溶劑、聚合起始劑、聚合促進劑）之外，尙可添加聚合禁止劑、均塗劑、增黏劑、著色防止劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑、防止靜電劑或黏著劑。防止反射膜的各層可利用浸塗法、空氣刀塗布法、簾塗布法、輥塗法、線塗法、照相凸版塗布法、或膨脹塗布法 (美國專利第26 8 1 294號說明書）等，經由塗布而形成。亦可同時塗布二以上的層。同時相關塗布的方法，在美國專利第276 1 79 1號、第2941 898號、第3508947號、第 3526528號之各說明書及原崎勇次著的「塗布學」、253 頁、朝倉書店（ 1 973 )中有記載。在本發明中，干涉大小可利用反射率測量而預估。其中，反射率可利用波長450nm至650nm的鏡面、或積分球的平均反射率等測量而實施。本發明之防止反射膜可實施表面處理。此類表面處理可採用如：藥品處理、機械處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線處理、高周波處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理、臭氧氧化處理等。表面處理可在僅有透明基材時便實施，亦可在防止反射膜各層塗布後 -37- 552429 五、發明說明（36) 再實施。特別係爲將本發明之防止反射膜貼附於偏光板上，最好將防止反射膜施行親水化處理。爲此較佳的方法爲鹼處理。此處所執行的「鹼處理」已知當本發明之防眩性防止反射膜的透明基板採用三乙醯纖維素（TAC )，且使用於LCD用途之情況時，通常均施行「皂化處理」，可使 TAC與偏光基體具黏著性。鹼處理的方法，只要浸漬於鹼水溶液中的方法的話便可，其他並無特別的限制。鹼處理條件在防止反射膜表面形狀無太大變化的範圍下，可進行適當的調整。鹼水溶液可使用氫氧化鈉水溶液、氫氧化鉀水溶液、氨水溶液等。最好爲氫氧化鈉水溶液。鹼水溶液的濃度最好爲0 . 1〜25%，尤以0.5〜15%爲佳。鹼處理溫度最好爲10〜80°C，尤以 20〜60°C爲佳。鹼處理時間爲5秒〜5分鐘，尤以30秒〜3 分鐘爲佳。鹼處理後的薄膜利用酸性水中和後，最好充分的施行水洗。水洗處理後的薄膜在充分乾燥後，便進行如下程序。如上述皂化處理可在本發明防止反射膜形成後再實施，亦可在防止反射膜形成前的透明基材狀態下進行，亦可於防止反射膜形成中間階段下實施。再者’皂化方法可僅將形成防止反射膜之表面的背面施行鹼塗布而皂化的方法、或單面疊層而皂化的方法、僅皂化面施行鹼塗布而皂化的方法等等，藉此便不致產生防止反射膜剝落、或引起光學特性、物理特性的變化。 -38- 552429 五、發明說明（37) 防止反射膜可適用於液晶顯示裝置（LCD )、電漿顯示面板（PDP)、電致發光顯示器（ELD)或陰極管顯示裝置（CRT) 之類的映像顯示裝置。在CRT、PDP、ELD等之中具透明基材的防止反射膜，最好利用黏著劑將透明基材直接或隔著其他機能性薄膜等而黏著於映像顯示裝置的映像顯示面上〇再者，當LCD的情況時，最好將防止反射膜的透明基材，利用黏著劑層直接黏著於偏光板的保護膜上、或偏光板上，或者將防止反射膜的透明基材直接黏著於偏光板上，並將防止反射面配設於映像顯示面的最外層。該等之中，最好偏光層的二片保護膜中之至少其中一片採用本發明之防止反射膜。藉由將本發明之防止反射膜使用於最外層，便可防止外界光的映入等，並獲得耐傷性、防污性等均優越的偏光板。此外，本發明之偏光板中，藉由將防止反射膜兼具保護膜作用，便可降低致造成本。實施例爲詳細說明本發明，舉以下實施例進行說明。惟本發明並不僅限於此。 [實施例1] (消光劑粒子分散液A〜L的製作）相關表1所示消光劑粒子係在甲乙酮80質量份中’添加消光劑粒子20質量份，然後再利用多變均質機或磨沙機進行分散而製成如表中所示分散液A〜L。所製成分散液 -39- 552429 五、發明說明（38)的體積換算平均粒徑、表示粒徑分布的s値’利用馬爾龐公司（公司名，音譯）產製的標準計數器進行測量。其値如表1中所示。 (表1 ) (消光劑粒子分散液內容）粒子種類粒子折射率平均粒徑 (β m) 粒徑分布 S 分散液A SX-50H(交聯苯乙烯） 1.61 0.5 0.8 分散液B SX-130H(交聯苯乙烯） 1.61 1.3 1.0 分散液C SX-200H(交聯苯乙烯） 1.61 2.0 0.5 分散液D SX-350H(交聯苯乙烯） 1.61 3.5 0.8 分散液E SX-500H(交聯苯乙烯） 1.61 5.0 0.8 分散液F SGP-100G(交聯苯乙烯） 1.61 25 1.3 分散液G ΜΧ-150Η(ΡΜΜΑ) 1.45 1.5 0.5 分散液Η 愛保斯達-L15(商品名） (苯並胍胺） 1.68 13 1.4 分散液I 愛保斯達-MS(苯並胍胺） 1.68 1.5 1.5 分散液J 愛保斯達-S6(三聚氰胺） 1.68 0.4 1.1 分散液Κ 愛保斯達-S(三聚氰胺） 1.68 0.2 1.2 分散液L 愛保斯達-MS分級品 1.68 1.5 1.0 (高折射率層塗布液A之調製）將二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物（DPHA、日本化藥（股）產製）125g、雙（4 -甲基丙烯醯 -40- 552429 五、發明說明（39) 基硫苯）硫醚（MPSMA、住友精化（股）產製）125g，溶解於 43 9g的甲乙酮/環己酮=50 / 50質量％的混合溶劑中。在所獲得的溶液中，添加將光聚合起始劑（依爾加邱907 (商品名，音譯）、汽巴嘉基公司（公司名，音譯）產製）5.0g、及光增感劑（佳亞邱DETX (商品名，音譯）、日本化藥（股）產製）3 · 0g，溶解於49g的甲乙酮中的溶液。將此溶液進行塗布並經紫外線硬化後而所獲得的塗膜折射率爲1 . 60。再者，在此溶液中，添加如表1所示消光劑粒子分散液 A〜G，而形成如表2所示消光劑表面量，利用孔徑30 // m 的聚丙烯製過濾器進行過濾，而調製高折射率層用塗布液 A 〇 (高折射率層用塗布液B之調製）在甲基異丁酮104.lg、甲乙酮61.3g的混合溶劑中，一邊利用氣棒進行攪拌，一邊添加含有平均粒徑20nm之二氧化鉻粒子分散物的硬塗材料MIBK溶液（KZ-7114、〗SR( 股）產製）217.0g。在此溶液中，添加二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物（DPHA、日本化藥（股）產製），而將此溶液經塗布並經紫外線硬化後而獲得塗膜的折射率調整爲1 · 6 1。再者，在此溶液中，添加如表1所示消光劑粒子分散液 A〜G，而形成如表2所示消光劑表面量，利用孔徑30 // m 的聚丙烯製過濾器進行過濾，而調製高折射率層用塗布液 B。 -41 - 552429 五、發明說明（4〇) (比較用高折射率層用塗布液C的調製）將二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物（DPHA、日本化藥（股）產製）250g，溶解於甲基異丁酮 43 9g中。在所獲得的溶液中，添加將光聚合起始劑（依爾加邱907(商品名，音譯）、汽巴嘉基公司（公司名，音譯）產製）7.5g、及光增感劑（佳亞邱DETX(商品名，音譯）、日本化藥（股）產製）5 .Og，溶解於49g的甲基異丁酮中的溶液。將此溶液進行塗布並經紫外線硬化後而所獲得的塗膜折射率爲1 . 5 3。再者，在此溶液中，添加如表1所示消光劑粒子分散液 A〜G，而形成如表2所示消光劑表面量，利用孔徑30 /z m 的聚丙烯製過濾器進行過濾，而調製高折射率層用塗布液 Ο (低折射率層用塗布液D之調製）在折射率1.42之熱交聯性含氟聚合物（JN- 7228、固形分濃度6質量％、JSR (股）產製）210g中，添加氧化矽溶膠 (MEK-ST、平均粒徑10〜20nm、固形分濃度30質量％、日產化學產製）15.2g及甲乙酮174g，經攪拌後再利用孔徑 1 // m的的聚丙烯製過濾器進行過濾，而調製低折射率層用塗布液D。 (防止反射膜試料之製作）在80//m厚度的三乙醯纖維素膜（TAC-TD80U、富士膠片 (股）產製、折射率約1.49)上，將上述高折射率層用塗布 -42- 552429 五、發明說明（41) 液’依表2所示塗布量，利用棒塗機進行塗布，然後於 1 2 0 °C下進行乾燥後，再採用1 6 0 W / c m的氣冷金屬鹵素燈（愛克拉克斯（股）（公司名，音譯）產製），藉由氮迫淨時，在氧濃度2%以下的環境中，照射照度400mW/cm2、照射量 3 0 0rnJ/cni2的紫外線，使塗布層硬化，而形成高折射率層〇在其上採用棒塗機塗布上上述低折射率層用塗布液D，在80°C下進行乾燥後，在於i2〇°C下進行10分鐘的熱交聯’而形成厚度0 · 096 # πι的低折射率層。所製成防止反射膜試料1 - A〜1 - T的內容，如表2所示。 -43- 552429 五、發明說明（42) 表2實施例1試料內容高折射率層塗布液高折射率層折射率消光劑粒子分散物平均粒徑 (_ 高折射率層厚度/ 消光劑粒子粒徑比表面消光劑粒子數 (個/mm2) 低折射率層塗布液低折射率層折射率表面粗糙度 Ra( ^m) 本發明1-A A 1.60 A 0.5 0.85 9000 D 1.42 0.04 本發明1-B A 1.60 B 1.3 0.85 9000 D 1.42 0.05 本發明1-C A 1.60 C 2.0 0.85 9000 D 1.42 0.05 本發明1-D A 1.60 D 3.5 0.85 9000 D 1.42 0.04 本發明1-E A 1.60 E 5.0 0.85 9000 D 1.42 0.06 比較例1-F A 1.60 F 25 0.85 9000 一 — — 比較例1-G A 1.60 C 2.0 0.6 9000 D 1.42 0.18 本發明1-H A 1.60 C 2.0 0.75 9000 D 1.42 0.10 本發明1-1 A 1.60 C 2.0 0.9 9000 D 1.42 0.08 本發明1-J A 1.60 C 2.0 1.0 9000 D 1.42 0.01 本發明1-K A 1.60 G 1.5 0.85 9000 D 1.42 0.05 本發明1-L B 1.61 G 2.0 0.85 9000 D 1.42 0.05 比較例1-M B 1.61 無 Μ j\\\ 0.85 — D 1.42 0.001 本發明1_N B 1.61 C 2.0 0.85 4000 D 1.42 0.05 本發明1-0 B 1.61 C 2.0 0.85 6000 D 1.42 0.06 本發明1-P B 1.61 C 2.0 0.85 18000 D 1.42 0.04 本發明1-Q B 1.61 C 2.0 0.85 30000 D 1.42 0.03 本發明1-R B 1.61 C 2.0 0.85 60000 D 1.42 0.05 本發明1-S B 1.61 C 2.0 0.85 120000 D 1.42 0.04 比較例1-T C 1.53 C 2.0 0.85 9000 D 1.42 0.04 -44- 552429 五、發明說明（43) (防止反射膜試料的評估）針對所獲得防止反射膜試料，施行以下項目的評估。 (1 )平均反射率、干涉幅度採用分光光度計（日本分光（股）產製），在3 80〜780nm的波長區域中，測量入射角5。下的分光反射率。平均反射率係450〜650nm之反射率値的平均値。再者’干涉大小指標係如第2圖所示，取波長550nm下之干涉波的最大値與最小値之差値，並將此値設定爲干涉寬度。 (2 )各層之折射率各層之折射率係利用反射率的測量結果，根據菲涅爾反射的多波干涉，而利用擬合計算出折射率。 (3 )濁度値採用濁度値計MODEL 1001DP(日本電色工業（股）產製）測量所獲得薄膜的濁度値。 (4 )內部濁度値在高折射率層塗布樣本上，測量賦予未具有與高折射率層相同折射率之消光劑粒子的塗布液，而無表面凹凸時的濁度値。 (5 )色調將所製成的薄膜貼附於偏光板上，依目視判斷改變角度時所觀看到的反射光色調。〇：幾乎無色調 -45- 552429 五、發明說明（44) 〇△:稍微有色調 △ _·雖有色調但不明顯 X :色調變化明顯 (6)白色將所製成的薄膜貼附於偏光板上，依目視判斷表面的白色度。〇：潔淨透明度高〇△:稍微有白色 △:雖有白色但不明顯 X :白色、潔淨性差劣 (7 )穿透光亮點將所製成的薄膜貼附於約200ppi( 200像素/吋，1吋方塊中有200畫素）的高精細型液晶胞上，並依以下基準評估穿透光的亮點。〇：幾乎無亮點 △:稍微有亮點 X :有明顯的亮點 (8 )不銹鋼絨擦拭採用#0000的不銹鋼絨，在10元面積大小上附加400g 荷重，評估往返十次時的刮痕程度。〇：幾乎無刮痕 △:雖有少部分刮痕，但不易觀看到 X :有相當大的刮痕 -46- 552429 五、發明說明（45) (9 )鉛筆硬度將所製成的薄膜，在溫度25°C、相對溼度60%條件下，放置2小時後，採用根據HS S6006所規定的試驗用鉛筆，根據J IS K5400所規定的鉛筆硬度評估方法，將採用 5OOg錘並利用各硬度鉛筆重複刮拖5次時，完全無發現刮傷的鉛筆中’硬度最大的値設定爲薄膜的鉛筆硬度。表3 Φ所示係表2所示本發明試料及比較試料的評估結果。另’表2所示試料中，消光劑粒子的平均粒徑爲 25// m的比較試料1-F，因爲黏著劑厚度過厚，而產生曲捲、塗膜龜裂’而無法製成樣本，因此在表中便未記載評估結果。 -47- 552429 五、發明說明（46) (表3) 實施例1結果濁度値 (%) 內部濁度値 (%) 平均反射率 (%) 干涉寬度色調白色売點不鏽鋼絨擦拭鉛筆硬度本發明1-A 3.5 1.1 1.5 1.3 Δ 〇△ 〇〇 Η 本發明1-B 3.7 1.3 1.5 0.8 〇〇△ 〇〇 2Η 本發明1-C 3.2 1.2 1.6 0.5 〇〇△ 〇〇 2Η 本發明1-D 3.8 1.4 1.4 0.4 〇〇△ 〇〇 3Η 本發明卜E 3.6 1.3 1.5 0.3 〇〇△ 〇〇 3Η 比較例卜G 12.0 1.2 1.0 0 〇 X Δ 〇 2Η 本發明1-H 7.0 1.4 1.2 0.3 〇 Δ Δ 〇 2Η 本發明1 -1 2.5 1.3 1.6 0.8 〇〇〇〇 2Η 本發明1-J 1.5 1.1 1.8 1.0 〇△ 〇〇〇 2Η 本發明1-K 7.0 4.0 1.5 0.5 〇 Δ 〇〇 2Η 本發明1-L 2.3 0.4 1.5 0.5 〇〇〇〇 2Η 比較例1-M 0.3 0.1 1.8 1.5 X 〇〇 X 2Η 本發明卜N 1.5 0.3 1.6 0.6 〇〇 Δ Δ 2Η 本發明1-0 2.0 0.4 1.6 0.5 〇〇 Δ 〇 2Η 本發明1-P 2.5 0.5 1.5 0.5 〇〇〇〇 2Η 本發明1-Q 2.3 0,4 1.4 0.5 〇〇〇〇 2Η 本發明卜R 1.8 0.5 1.4 0.6 〇〇〇〇 Η 本發明卜S 1.5 0.4 1.4 0.5 〇〇〇〇 ΗΒ 比較例卜T 4.5 2.5 2.5 0.8 〇 Δ 〇〇 Η 由表3所示評估結果得知下述事項。相關本發明的試料，不論色調、白色均佳。 -48- 552429 五、發明說明（47) 相對於此，濁度値較高的比較試料白色較惡劣。此外，未含消光劑粒子的比較試料1-M則色調差，且不鏽鋼擦拭亦差。此外，高折射率層與基材之折射率差爲〇 . 〇4 之小於本發明所特定値的比較試料1 _ T，平均反射率偏高，防止映入性較差。再者，從試料1-G〜1-J得知，相對消光劑粒子平均粒徑的咼折射率層厚度在7 0%以上的本發明試料丨—H，白色已變佳’但是超過8 0 %的本發明試料I、1 _ 了則濁度値下降，且色調亦變佳。由試料1-N〜1-S得知，露出高折射率層上的消光劑粒子數量在8000個/mm2以下的本發明試料、！_〇，亮點將惡化’在5000個/ mm2以下的本發明試料ι_Ν中，不鏽鋼絨擦拭將惡化，消光劑粒子數量在4〇〇〇〇個/mm2以上的本發明試料1 -R、100000個/mm2以上的本發明試料卜s，鉛筆硬度將降低。再者，高折射率層與消光劑粒子之折射率差在0.5以上 ’且內部濁度値在4%高水準的本發明試料1 -κ中，白色將惡化。另外’本發明試料之塗設有高折射率層與低折射率層端的表面粗糙度Ra均在0.003 # m以上0.10# m以下的範圍內。 [實施例2] 在實施例1的高折射率層塗布液B中’依形成表4所示 -49- 552429 五、發明說明（48) 消光劑粒子表面量（露出高折射率層上的消光劑粒子數目）的方式，添加表1所示消光劑粒子分散液Η〜L。然後，利用孔徑3 0 // m的聚丙烯製過濾器進行過濾，而製成高折射率層用塗布液。除此之外均如同實施例1，製成表4所示防止反射膜試料。從試料2B至2G、從2-J至2-M，消光劑添加量爲一定。S=1 .5且消光劑粒徑分布較寬廣的2-B至2-G則隨高折射率層厚度的增加，減少露出表面上的消光粒子數量。相對於此，S=1 · 〇且粒徑分布較狹窄的2-】至2-M則隨高折射率層厚度的增加，露出表面上的消光粒子數量幾乎未減少。表5中所示係表4所示本發明試料及比較試料的評估結果0 -50- 552429 五、發明說明（49)(表4)實施例2試料內容（2 ) 高折射率層塗布液高折射率層折射率消光劑粒子分散物平均粒徑 (β m) 高折射率層厚度/消光劑粒子粒徑比表面消光劑粒子數 (個/mm2) 低折射率層塗布液低折射率層折射率本發明2-A B 1.68 Η 13 1.5 9000 D 1.42 本發明2-B B 1.68 I 1.5 0.9 18000 D 1.42 本發明2-C B 1.68 I 1.5 1.0 15000 D 1.42 本發明2-D B 1.68 I 1.5 1.1 12000 D 1.42 本發明2-E B 1.68 I 1.5 1.2 9000 D 1.42 本發明2-F B 1.68 I 1.5 1.5 4000 D 1.42 本發明2-G B 1.68 I 1.5 2.2 1000 D 1.42 本發明2-H B 1.68 J 0.4 1.1 9000 D 1.42 比較例2-1 B 1.68 Κ 0.2 1.1 9000 D 1.42 本發明2-J B 1.68 L 1.5 0.75 12000 D 1.42 本發明2-K B 1.68 L 1.5 0.85 12000 D 1.42 本發明2-L B 1.68 L 1.5 1.0 12000 D 1.42 本發明2-M B 1.68 L 1.5 1.1 12000 D 1.42 本發明2-N B 1.68 L 1.5 1.3 12000 D 1.42 -51 - 552429 五、發明說明（50) (表5) 實施例2之結果濁度値 (%) 內部濁度値(％) 平均反射率(％) 干涉寬度色調白色壳點不鏽鋼絨擦拭鉛筆硬度本發明2-A 4.0 0.6 1.5 0.4 〇〇△ 〇〇 3H 本發明2-B 8.0 0.5 1.5 0.1 〇 Δ 〇〇 2H 本發明2-C 6.0 0.7 1.6 0.3 〇〇△ 〇△ 〇 2H 本發明2-D 4.0 0.9 1.4 0.5 〇〇△ Δ 〇 2H 本發明2-E 2.5 0.8 1.5 0.8 〇〇 Δ 〇 2H 本發明2-F 1.5 0.6 1.0 1.0 〇〇 Δ 〇 3H 本發明2-G 0.6 0.5 1.2 1.3 Δ 〇 △ X 〇 3H 本發明2-H 3.0 0.7 1.6 1.2 〇〇〇〇 Η 比較例2-1 2.8 0.8 1.8 1.5 X 〇〇〇 ΗΒ 本發明2-J 6.0 0.7 1.5 0.1 〇〇△ 〇〇 2Η 本發明2-K 3.0 0.8 1.5 0.4 〇〇〇〇 2Η 本發明2-L 2.2 0.6 1.7 0.7 〇〇〇〇 2Η 本發明2-M 1.5 0.6 1.8 0.9 〇〇〇〇 3Η 本發明2-N 0.9 0.5 1.8 1.2 〇△ 〇〇〇 3Η 由表4及表5所示評估結果得知下述事項。相關本發明的試料，不論色調、白色均佳。相對於此，消光劑粒子的平均粒徑低於〇 . 3 # m以下的比較試料2 - I，因高折射率層厚度較薄而色調較差。再者’當S=1.5與消光劑粒子粒徑分布較大的情況時， -52- 552429 五、發明說明（51) 相對於消光劑粒子粒徑的高折射率層厚度必須增加，但是厚度超過消光劑粒子粒徑的200%以上之本發明試料2 - G，色調略差，亮點亦將惡化。此外，當S= 1 . 0與消光劑粒子粒徑分布較狹窄的本發明試料2 - J〜2 - N，色調、白色、亮點性能均佳，特別係高折射率層厚度在消光劑粒子平均粒徑的0.8〜1.2(80%〜120%)範圍內，顯示出較佳的性能。此外，消光劑粒子粒徑爲1 3 // m的本發明試料2 - A，曲捲較大。其次，將本發明試料1 - P、2 - L的防止反射膜施行鹼處理後，裁剪呈偏光板用，而獲得防止反射偏光板。採用此偏光板，製成將防止反射層（低折射率層）配置於最外表面的液晶顯示裝置。發現反射光的白色較少，且外界光的映入亦較少，在太陽光下無白色，可使用爲辨識性佳的液晶顯示裝置。再者，若在對應高精細（ 200ρρΠ的液晶顯示裝置中，貼附此偏光板的話，便可獲得無亮點且較佳的辨識性。【產業上可利用性】本發明之防止反射膜，反射率較低，干涉的色調較少，且可抑制白色與亮點。故，藉由採用此薄膜便可獲得改善色調、白色、亮點，同時外界光映入較少之辨識性佳的映像顯示裝置。符號說明 1 透明基板

-53- 552429 五、發明說明（52) 2 高折射率層 3 低折射率層 4 消光劑粒子 5 硬塗層 -54-

Claims

552429 年ι月7曰修正/私六、申請專利範圍第9 1 1 05 2 9 1號「防止反射之薄膜及映像顯示裝置」專利 (92年2月17日修正）六申請專利範圍： 1 . 一種防止反射膜，係具有：透明基材；和至少較該透明基材之折射率高出0.05以上1 .5以下的1層高折射率層；以及較該高折射率層之折射率低0 . 0 5以上 2 · 0以下的低折射率層之防止反射膜；其中，在該高折射率層中係含有平均粒徑0.3// m以上20// m 以下之消光劑粒子，且薄膜濁度値在1 0%以下。 2 ·如申請專利範圍第1項之防止反射膜，其中該高折射率層厚度係在消光劑粒子之平均粒徑的70%以上200% 以下。 3 .如申請專利範圍第1項之防止反射膜，其中該消光劑粒子中，突出於該高折射率層上的粒子數係5000個 /mm2以上1 00000個/_2以下。 4 ·如申請專利範圍第3項之防止反射膜，其中該消光劑粒子中，突出於該高折射率層上的粒子數係8000個 /_2以上40000個/mm2以下。 · 5 .如申請專利範圍第1項之防止反射膜，其中相關消光劑粒子，依下式（Π所計算出表不粒徑分布的；5値係在 1 . 5以下；式（I ) :S=[D(0.9)-D(0.1)]/D(0.5) 上式（I)中，D(0.1)、D(0.5)及D(0.9)係依下述定義： 552429 六、申請專利範圍 D(o.l):體積換算粒徑乘積値之1〇%値 D(0. 5):體積換算粒徑乘積値之50%値 D( 0.9):體積換算粒徑乘積値之90%値。 6 .如申請專利範圍第5項之防止反射膜，其中表示該粒徑分布的S値係1 . 1以下。 7 .如申請專利範圍第6項之防止反射膜’其中該高折射率層厚度係在消光劑粒子之平均粒徑的80%以上120% 以下。 . 8 .如申請專利範圍第1至7項中任一項之防止反射膜，其中該防止反射膜之塗敷有高折射率層與低折射率層之表面的平均表面粗縫度Ra係0.003// m以上0.1// in 以下。 9 ·如申請專利範圍第1至7項中任一項之防止反射膜，其中該消光劑粒子的折射率係高折射率層折射率的土〇.〇5以內。 1 0 ·如申請專利範圍第丨至7項中任一項之防止反射膜 ’其中該高折射率層折射率係1 . 6以上2 . 0以下。 1 1 .如申請專利範圍第1至7項中任一項之防止反射膜 ’其中該局折射率層的內部濁度値係2 %以下。 1 2 ·如申請專利範圍第1至7項中任一項之防止反射膜 ’其中該透明基板係由三乙醯纖維素所構成。種偏光板’係至少單面上設有如申請專利範圍第 1項至1 2項中任一項之防止反射膜。 13 552429 六、申請專利範圍 1 4 · 一種映像顯示裝置，係在映像顯示面上設置防止反射膜，而該防止反射膜係具有：透明基材、至少較該透明基材之折射率高出0 . 0 5以上的1層高折射率層、以及較該高折射率層之折射率低0 . 0 5以上的低折射率層；並在該高折射率層中，含有平均粒徑0 · 3 // m以上20 // πι以下之消光劑粒子，且薄膜濁度値在10%以下。