TW525027B - Color liquid-crystal panel and manufacturing process therefor - Google Patents

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TW525027B
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color liquid
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Mamoru Okamoto
Yuji Yamamoto
Michiaki Sakamoto
Shinichi Nakata
Hironori Kikkawa
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Nec Corp
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Description

525027
本發明係有關於彩色液晶 有關於在單一基板上包括薄膜 光片(color filter)、以及黑 彩色液晶面板。 面板及其製造方法,特別是 電晶體之開關元件、彩色淚 色矩陣(black matrix)等之 括:括諸如薄膜電晶體(包
請和6)等„元件之_第一基板丨、及於個J 未圖示)之交連層(均為層間層7所覆蓋)、及於個別 像素之象素電極(均為護層丨2所覆蓋)、一排列層 (oriented film)18a、以及兩以連接外部電路^端子13。 再者,尚具有一第二基板16,包含一黑色矩陣8、針 對個別顏色R、G和B之彩色濾光片1 〇 r、1 〇 Q及1 〇 b、諸如 IT0之透明共同電極1 7、以及一排列層1 gb。這些基板經由 一中間間隔物(intervening spacer)14結合,以確使其間 具有一特定間距(gap)。另外,尚有一封環(seaier)i5, 圍繞在每基板周圍,即如圖11所示。然而封環1 5會經過處 理’以確定兩極板間之間距,然後將液晶材料丨9灌入面板 内。
液晶可以是利用兩孔法(two-hoi e method)或真空注 入法(vacuum-injection method)被注入。兩孔法即在板 面上選擇形成兩個孔,液晶從其中一個孔灌注,在從另一 個孔抽吸,以利液晶的灌注。真空注入法即在一空的儲存 格設置一個入口(inlet) ’液晶以〇·〇1至0.0001 Torr的壓 力沈積於環繞入口處,此真空系統漸漸回復至大氣壓,由
第5頁 525027 五、發明說明(2) 於液晶格内、外壓力差,致使液晶得以引入儲存格内,此 法已被廣泛地應用。 當灌注液晶後,入口會被封住,然後偏極板 (polarizing plates)20a和20b會被附於基板外表面,而 形成一液晶面板。 為能提升液晶顯示板的解析度,必須提供較高的像素 密度。習知液晶面板中,具有彩色濾光片及黑色矩陣之基 板面,係面向一主動矩陣基板,在組合過程中必須設定位 錯誤(alignment error)的邊緣(margin),由於可能會發 生疋位錯誤’因此很難確定像素開口率(pixel opening ratio)的最大範圍° 因此,已有將彩色濾光片及黑色矩陣形成在包含諸如 TFT之開關裝置主動矩陣基板的方法(CF-〇n-TFT,在下文 簡稱n C0Tn )。 * 由於COT基板上形成彩色過濾層或黑色矩陣的製造過 程不需考慮組合邊緣,意即製造過程更加簡化,亦增加像 素開口比率。 然而’直接在TFT或交連處上形成彩色過濾層或黑色 矩陣的方法,會因彩色濾·光片或黑色矩陣内本素胃或離子進 入開關元件主要部份内,導致開關元件功能失常。因此 JP-A 1 0-3 9292提出將一保護層形成於開關元件和彩色濾 光片之間。 & 因此,本發明之一目的,在於提供適用於c〇T型彩色 液b日面板之特疋結構’而上述申请案(jp — \ — 3Q2g2)並
第6頁 525027 五、發明說明(3) 未揭示用於液晶 為能獲致上 面板之邊 述目的, 板,包 於像素 彩色濾 光片和 有透明 合,形 其中, 為 難易懂 細説明 括:一第一基板 緣結構 本發明 具有像 電極處做 光片和黑 黑色矩陣上 共同電極 為開關元件 色矩陣形 ;一封環 係提供 素電極 護層覆 層上、 成於護 二基板,相對 ,藉以將第一 成一空間 一框型黑 讓本發明 ’下文特 如下: 於其間;以及液晶材料 色矩陣覆於第一基板周 之上述和其他目的、特 舉一較佳實施例,並配 一種彩色液晶面 、薄膜電晶體形成 於薄膜電晶體上、 一外層覆於彩色濾 於第一基板之面具 電極與第二電極結 ,填充於空間内; 邊。 徵、和優點能更明 合所附圖式,作詳
_式簡單說明: =1圖係顯示本發明第一實施例之剖面示意圖; 2圖係顯不根據本發明第二實施例之液晶面板像素 和邊緣之平面圖; =3圖係顯示根據本發明第二實施例之全般液晶面板 率面圖; 第4圖係顯不根據第二實施例液晶面板一例的剖面
^ 5(a)-(g)圖係顯示根據本發明第二實施例液晶面板 製造 程中第一半部的剖面圖示; ^^0 rsj 一 、 β 、為根據第二貫施例液晶面板另一例的剖面
第7頁 525027 五、發明說明(4) 圖所示為根據第三實施例液 — p曰第8圖所示為框形黑色矩陣/封環重疊長/面圖; 間之關係圖示; 長度與剝離強度 =圖所示為根據第四實施例液晶面 及㈣圖所示為根據第五實施例液晶面板^剖面面圖圖;以 符號Ϊ1 日:圖所示為習知液晶面板結構剖面圖。 1〜第一基板; 1 〇〜彩色濾光片; 9〜框型黑色矩陣; 1 6〜弟二基板; 1 5〜封環; 實施例: 7〜一護層;
8〜黑色矩陣; 1 2〜外層; 1 7〜透明共同電極; 19〜液晶材料。 第一實施例
第1圖係顯示本發明第一實施例之剖面示;意圖。標號工 代表一第一基板,係由諸如玻璃基板之透明絕緣材料所製 成,其上形成有TFT做為開關元件。TFT包括閘極電極2 Λ 間極電極2上之一間極絕緣層3、*源極電極5、一汲極電 極6、以及源極和汲極電極間之一半導體層(例如非晶石夕 層)4。 開關元件業經一護層(例如氮化矽S i Νχ ) 7所覆蓋。在 半導體層4上方,則形成有黑色矩陣(ΒΜ)8和彩色濾光片 (CF ) 1 0,而彩色濾光片包含三原色者,分別是紅、藍、
第8頁 525027 五、發明說明⑸ 綠,對應於個別彳f | i _ “於護層上。雖::广基板周邊,框形黑色矩陣9係 者,為簡化製程者:,】:巧9二材質可同於或不同於βΜ8 RM^PF 兩者琅好疋能採周相同材質。 上,此像素電二外層12所覆蓋,使得像素電極11形成其 明導電物質;構成;^;二電極處,由諸如1τ〇之透 觸孔,與汲極電L連像接素成於外層12内之接 子13,肖以與外部電路連接。 ^ ^ 在相對之第一基板16上,諸如 係形成於全般顯示H八u毛擊η 列層",業經處理呈;有相對應表面上,具有排 =基板之間設置有一間隔物,以確保其間之間距。然 t些基板以透明電極相對,並經由封環丨5互為結合。 弗一貫施例 注上述實施例中,當框形BM形成於基板邊緣,而以真空 曲T法注入液晶,當真空系統轉換為常壓時,由於基板彎 二 對封環構成負載,假若BM並未適當地與護層結合的 ^ 可能會導致剝離現象。解決是項問題的方案將如下 述。 t 圖2〜4所示為解決剝離現象第一例,其中,圖2是一像 素之平面圖、圖3是全般相素之平面圖、圖4是沿圖2之 P P線所截之剖面圖。此面板係不同於圖1所示者,其 中’第一基板1周邊上之框形BM9,係形成於封環16區域 内’換句話說,第一基板1内封環1 5下,外層12係直接形 525027 五、發明說明(6) 得以優於 成在護層7上,以提昇封環區域内的接合程度 圖1所示實施例。
第5(a)-(g)圖係顯示根據本發明第二實施例液晶面板 製程剖面圖示。如圖5(a)所示,一TFT係形成於第一基板ι 上,此第一基板由諸如無鹼玻璃之透明絕緣玻璃所製成, 具有0· 7〜1.1mm厚度。TFT係由下列方式製得。首先,將諸 如A1、Mo、Cr等金屬物質沈積(例如以濺鍍法)於基板1 上’厚度約為100〜400nm,然後以光學微影術 (photolithography)定義成既定圖案。再沈積(例如CVD 法)閘極絕緣層3(例如Si〇x、SiNx)於閘極電極2和第一基板 1上,其厚度約為100〜200nffl。然後,沈積一非晶係層做為 半導體層4 ’其厚度約為4〇〇nm ’並經定義成既定形狀。 接著,沈積(例如以濺鍍法)諸如A1、M〇、Cr等金屬物 質於基板上,做為源極電極和汲極電極,直厚度約介於 100〜40〇nm之間,經過光學微影術定義成既定圖案。再以 護層7覆於其上,此護層可由諸如氮化石夕或透明樹脂 ^eSln,諸如環氧樹脂(ep〇xy resin)或丙烯酸樹脂 (acrylic resin))等無機材質所構成。 然後,如圖5(b)所示, 蔽半導體層4,並以框型bm9 邊處漏光。BM的形成,可以 C例如 OPTMER CR®系列、JSR) 阻’厚度約為1〜3 /z m ;以既
以BM8形成於打7上方,用以遮 形成於周邊,以避免自面板周 是施加一負光感丙烯酸光阻 或含碳(carbon-based)光 疋圖案曝光和顯影。BM所需之
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特性包括光密度(0D)至少為3、片阻至少為1〇1〇Ω/〇。 然後,如圖5(c)所示,在每一像素上形成以“,例 如,以旋轉塗佈方式在基板上施加由丙烯酸樹脂所製得之 負光感衫色光阻(其中,紅色素已被排除,諸如〇pTMER CRR系列、JSR),並調整旋轉率使得塗佈厚度約為丨· 〇〜ι 5 // m。然後,基板置於一熱板上於8 〇 i加熱約2分鐘,再經 曝光和以TMAH(tetr am ethyl ammonium hydroxide)溶液顯 影,而於相對應區域形成紅&CF(1〇R)。製程中,在後續 供汲極電極6和相素電極n連接接觸孔21處形成一開口 ',' 此開口尺寸需至少得以環繞接觸孔。然後,基板在乾淨烤 箱於220 °C加熱60分鐘,以燒結(cureht&CF1〇R。 綠色CF10G與藍色CF10B的形成,與紅色CF10R所述一 般。此等CF可以緊鄰順序形成,但其順序並非所限。圖3 中’對應於每一像素之開口,係以符號2 4表之。 然後,如圖5(d)所示,形成CF 10之後,在基板上施加 novolak型正感光光阻(0pTM£R pC®系列、JSR) ,將表面予 以平坦化,經曝光顯影後’定義圖案在接觸孔區域内具有 一開口,然後於2 2 0 °C下加熱燒結6 0分鐘,以形成一外' 12 。 乂 卜 a 然後’如圖5 ( e )所示,沈積(例如濺鍍法)一透明導電 層(如IT0)於外層12和經由接觸孔外露之汲極電極6上:, 業經定義圖案成像素電極11,製程中,此層厚度越^ 覆 蓋率越好,根據I TO膜的可行性言,較佳厚度約為 τ 60〜120nm 〇
525027 五、發明說明(8) 然後’以旋轉塗佈方式形成聚酰亞胺(p〇1yimide)排 列劑(諸如 SlINFH® 系列、N i ssan Kagaku、或 OPTMER AL®系列、JSR),在於20 0 t:或更低溫下加熱。排 列層18a經過擦蝕&―“。具有既定方向排列,獲致既定 傾斜角(pre-tilt angle)。擦蝕可以排列層18a在具有導 電B成纖維(纏繞有黏膠人造絲(v i s c 〇 s e r a y 〇 n ))之擦钱 滾筒(ro/1)上移動,藉由調整壓力、旋轉率、旋轉方向、 和角度等為之。如是,便製得c〇F基板。錢,如圖5(f) ,以,蔽印刷或分配劑將封環1 5置於基板周邊,此封 衣可以疋還養樹脂接合劑(例如STRUCTBOND®系列、 的接^ 2 ΐ a司)。封環寬度並無限制,只要能提供足夠 j、5口。一又避免所注入的液晶漏出即可,通常約為 示。後經處理“封環另:相f基板接合’即如圖5(g)所 式由=成為"〜hi職,其上形成(如㈣ΐ 叫。TG構成之共同電極1?,並如同上述,形成排列層 在將基板結合之 確保其間距。此間隔:u間隔物14施加於相對基板上,以 埽笨交聯(diVinylbent若置於顯示區域,可以是由二乙 微珠所構成,尺寸約為H ^〇SS-Hnked)聚合物製成之 可以玻璃纖維所製成:微奉5所5 : =置於基板周邊, 午所構成,尺寸約為5〜7/zm。 525027 五、發明說明(9) 然後,根據所需尺寸將基板切割成片, 電極17位同於圖3平面圖所不。# #由⑽所形成之透明乒同 電桎17位於切割道時,ίτ〇切割碎片 =子U處,而導致各端子間短路。因?附最於好第在-定基音 ;案:梦即便將透明共同電極17摒除於切 ^ ;内上:τ。層也可形成於封二 (ιη二為接…,最好形成於封環區域内側 因此,在將液晶材料經注入液晶格内。液晶可以 此rit法為《,其步驟包括:將液晶格置於真空室内, ISf所既,定真空程度;施加液晶於未封入口 二漸將真空系統調整為常壓。此實施例中,. 係自1x10〜丨入氮氣,而液晶材料為 各亂化合物(LU0N®系列、Chisso
Petrochemicals)。液晶注人夕接,λ ^ ^ St SI ^^UV ^ ^ W ^(acry! ate °t23 "P ^J^22( ^ curing resin))封閉。 圖4所最二偏曰光板,、2°b接合於基板外表面,以提供如 ^光板可以是含碘偏光板(如_系 列、或SUM1KAUN®系列)。 本較佳例中’外層12未形成如圖6所示封環區 ί外U料構成之外層12與無機材料構成之護層”目 車乂,卜層12及於封環之接合強度則約為8〇kgf,*護層7者
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周邊本如圖9所示’框型M25是形成於第二基板16 即如同板結構包括TFT、彩色濾光片、黑色矩陣, 基板16圖4〜6 一般,圖9之基板具有如圖4般之結構。第二 b"m9。制上,所形成之框型⑽25即如同第一基板上之框型 垂直。%程中,框型別25内周邊與第一基板1之框型BM9呈 膜剝i框型bm25外周邊若及於基板邊緣,易於導致薄 半間區見象’因此’除了自基板邊緣處到至少封環寬度一 ’曰品域以外,可以形成有ΒΜ25。雖然圖9結構ΒΜ25接觸 525027 五、發明說明(11) 封環15,BM25可以藉由適當材質改善與之 蔽特性之封環已— 第五實施例 圖10與圖1不同,其中,框型βΜ9係 成於護層7上,此搞合劑層26可提昇框咖=== =涛。而W劑層26可以已知的技術為之, 任何可接:,非列層時,施加耦合劑於透明電極上。雖麸 i 歼層與框型ΒΜ間接合度之任何耦合劑均可使…、 仍以經過矽甲烷(Si lane)表面處理者(Ap_4flG@
Toray)最為適用。而其厚度雖無限定,較佳者 , 2〇〜a5〇nm。耦合劑層必須自基板邊緣至封環區域”間形成, 命何寬度為之,只要能涵蓋顯示區域(用以形成 形色濾光片之區域)。 取 =上述,形成框型ΒΜ9於基板上,可避面自周邊漏 色液晶面板相當良好的視覺效果。再者,輕合 月"ό 口接合強度,避免液晶洩漏的問題。 ρρ - Ϊ t本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以 / ^ ® ^明任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神 =内,當可作更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當 視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (1)

  1. i ·—種彩色液晶面板,包括·· ι]·9 · 1 ^ 像辛雷f老基板’ *有像素電極、薄膜電晶體形成於該等 上、、以ί做為開關元#、一護層覆於該等薄膜電晶體 嗲等=ίί片和黑色矩陣形成於該護層i、-外層覆於 A寺形色濾光片和該等黑色矩陣上; 極;第一基板,相對於該第一基板之面具有透明共同電 办Μ Μ,%,藉以將該第一電極與第二電極結合,形成一 二間於其間;以及 =曰曰材料,填充於該空間内,其中一框型黑色矩陣覆 於該第一基板周邊; 其中在該第一基板周邊之封環區域内,除自基板邊緣 至該封環至少一半寬度之外,該框型黑色矩陣形成於該第 一基板上。 2 ·如申請專利範圍第丨項所述之彩色液晶面板,其 中,在該第一基板周邊之封環區域内,形成於該第一基板 上之該框型黑色矩陣,係形成於該框型黑色矩陣範圍内。 3 ·如申請專利範圍第2項所述之彩色液晶面板,其 中’該封環直接施加於該第一基板之該護層。 4 · 一種彩色液晶面板,包括·· 一第一基板’具有像素電極、薄膜電晶體形成於該等 像素電極處做為開關元件、一護層覆於該等薄膜電晶體 上、彩色濾光片和黑色矩陣形成於該護層上、一外層覆於 該等彩色濾、光片和該等黑色矩陣上; 一第二基板’相對於該第一基板之面具有透明共同電
    525027 申請專利範圍 ^^89103226 a 極; 空間於ΐ Ϊ:將該第一電極與第二電極結合,形成一 覆於:板於該空間内’其*,-框型黑色矩陣 中 中該框型黑色矩陣經由一耦合劑形成於該護層上。 如申請專利範圍第4項所述之彩色液晶面板,其 該麵合劑為矽甲烷表面處理劑。 ’、 6 ·如申請專利範圍第1項所述之彩色液晶面板,其 在切割該第二基板前,將該第一基板和該第二基板結 而該第二基板上之該透明共同電極係位於切割面範圍 7 ·如申請專利範圍第5項所述之彩色液晶面板,其 該第二基板上之該透明共同電極係位於該封環區域範 中 8 ·如申請專利範圍第2項所述之彩色液晶面板,其 一框型黑色矩陣至少接觸該第二基板之封環區域。 中 9 ·如申請專利範圍第3項所述之彩色液晶面板,其 一框型黑色矩陣至少接觸該第一基板之封環區域。 1 0 · —種彩色液晶面板的製造方法’包括下列步驟: 在一第一基板上形成複數薄膜電晶體和交連層; 該第一基板全般表面沈積〆護層’以覆蓋該等薄膜電 晶體和交連層; 在該等薄膜電晶體之半導髏層上方與該第一基板周邊 框型區處,形成一黑色矩陣;
    Η» 2138-3042-PF2.ptc 第17貢 2002. 09.12.018 525027
    形成一彩色濾光片層; 腹該該黑色 於邊第一基板全般表面上方形成一外芦 矩陣與該彩色濾光片層; θ 在ρ外層内形成接觸孔,以及形成像素電極; 在该第一基板薄膜電晶體側周邊施加封環;以及 =該第一基板與具有透明共同電極之一第二基板經由 該封環結合,使得該透明共同電極面對於該第一基板之該 薄膜電晶體側; •其中在該第一基板周邊之封環區域内,除自基板邊緣
    至該封環至少一半寬度之外,該框型黑色矩陣形成於該第 一基板上。 11 ·如申請專利範圍第1 〇項所述之彩色液晶面板的製 造方法,其中,在該第一基板周邊之封環區域内,形成於 該第一基板上之該框型黑色矩陣,係形成於該框型黑色矩 陣範圍内。 12 ·如申請專利範圍第11項所述之彩色液晶面板的製 造方法’其中,該封環直接施加於該第一基板之該護層。 13 · —種彩色液晶面板的製造方法,包括下列步驟: 在一第一基板上形成複數薄膜電Ba體和交連層;
    該第一基板全般表面沈積一護層’以覆蓋該等薄膜電 晶體和交連層; 在該等薄膜電晶體之半導體層上方與該第一基板周邊 框型區處,形成一黑色矩陣; 形成一彩色濾光片層; 於該第一基板全般表面上方形成一外層,腹該該黑色
    第 18 頁 2002· 09· 12. 〇19 525027 a 修正 六、申請專利範圍 矩陣與該彩色濾光片層; 在該外層内形成接觸孔,以及形成像素電極; 在該第一基板薄獏電晶體側周邊施加封環;以及 忒第一基板與具有透明共同電極之—第二基板經由 結合’使得該透明共同電極面對於該第一基板之該 膜電晶體側; 上。一中該框型黑色矩陣經由一麵合劑形成於該護層 造方14 ·如申請專利範圍第1 3項所述之彩色液晶面板的製 法’其中’該輕合劑為石夕甲炫表面處理劑。 造方15 ·如申請專利範圍第1〇項所述之彩色液晶面板的製 法’其中’在切割該第二基板前,將該第一基板和該 ^ =基板結合’而該第二基板上之該透明共同電極係位於 切割面範圍内。 造方丨、6 ·如申請專利範圍第1 5項所述之彩色液晶面板的製 =法’其中’該第二基板上之該透明共同電極係位於該 封%區域範圍内。 造方法 環區域 18 造方法 環區域 ^ 如申凊專利範圍第1 1項所述之彩色液晶面板的製 其中’ 一框型黑色矩陣至少接觸該第二基板之封 如申請專利範圍第1 2項所述之彩色液晶面板的製 其中,一框型黑色矩陣灵少接觸該第二基板之封 2138-3042-PF2.ptc 第19頁 2002. 09.12. 020
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109188764A (zh) * 2018-10-23 2019-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3017712B2 (ja) * 1998-05-15 2000-03-13 松下電送システム株式会社 インターネット・ファクシミリ
JP2002131740A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Nec Corp カラーフィルタ基板、その製造方法、アクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法
JP3690298B2 (ja) * 2001-02-23 2005-08-31 ソニーケミカル株式会社 液晶表示素子
KR100380142B1 (ko) * 2001-07-18 2003-04-11 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판
KR100408346B1 (ko) * 2001-07-18 2003-12-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
JP2003172946A (ja) * 2001-09-28 2003-06-20 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置用基板及びそれを用いた液晶表示装置
JP3939140B2 (ja) * 2001-12-03 2007-07-04 株式会社日立製作所 液晶表示装置
KR100652049B1 (ko) * 2001-12-29 2006-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치
JP2004004563A (ja) * 2002-03-27 2004-01-08 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置並びにその製造方法及び製造装置
KR100945347B1 (ko) * 2002-12-11 2010-03-08 엘지디스플레이 주식회사 횡전계모드 액정표시소자
KR20040080778A (ko) 2003-03-13 2004-09-20 삼성전자주식회사 4색 구동 액정 표시 장치 및 이에 사용하는 표시판
KR20040089921A (ko) * 2003-04-15 2004-10-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널
US7612860B2 (en) * 2003-12-01 2009-11-03 Lg Display Co., Ltd. Color filter on thin film transistor type liquid crystal display device and method of fabricating the same with an alignment key formed with the orientation layer
KR101003829B1 (ko) * 2004-04-30 2010-12-23 엘지디스플레이 주식회사 씨오티 구조 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR100942265B1 (ko) * 2004-05-31 2010-02-16 엘지디스플레이 주식회사 씨오티 구조 액정표시장치 및 제조방법
KR101100674B1 (ko) * 2004-06-30 2012-01-03 엘지디스플레이 주식회사 씨오티 구조 액정표시장치용 어레이 기판 제조방법
JP2006343728A (ja) * 2005-05-13 2006-12-21 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
KR20070002674A (ko) * 2005-06-30 2007-01-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
WO2007060901A1 (en) * 2005-11-24 2007-05-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing liquid crystal display device
KR101274022B1 (ko) * 2005-11-29 2013-06-12 삼성디스플레이 주식회사 표시기판, 이를 갖는 표시패널, 표시기판의 제조방법 및이를 이용한 표시패널의 제조방법
JP4207982B2 (ja) * 2006-06-15 2009-01-14 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶表示パネル
JP5505757B2 (ja) 2008-03-25 2014-05-28 Nltテクノロジー株式会社 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置
CN101833200B (zh) * 2009-03-13 2012-05-30 北京京东方光电科技有限公司 水平电场型液晶显示装置及制造方法
KR101581774B1 (ko) 2009-06-18 2016-01-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
TWI468794B (zh) * 2012-08-08 2015-01-11 Au Optronics Corp 顯示裝置
KR20140094916A (ko) * 2013-01-23 2014-07-31 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN103226272B (zh) * 2013-04-16 2015-07-22 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
JP5900823B2 (ja) * 2013-05-27 2016-04-06 Nltテクノロジー株式会社 液晶表示装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5327001A (en) * 1987-09-09 1994-07-05 Casio Computer Co., Ltd. Thin film transistor array having single light shield layer over transistors and gate and drain lines
JP2803786B2 (ja) 1989-05-11 1998-09-24 オプトレックス株式会社 液晶表示素子
JP3095254B2 (ja) 1991-05-20 2000-10-03 株式会社日立製作所 液晶表示装置
JPH0588189A (ja) 1991-09-26 1993-04-09 Rohm Co Ltd 液晶表示素子
JPH05249478A (ja) * 1991-12-25 1993-09-28 Toshiba Corp 液晶表示装置
JP3240858B2 (ja) * 1994-10-19 2001-12-25 ソニー株式会社 カラー表示装置
US5739880A (en) * 1995-12-01 1998-04-14 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device having a shielding film for shielding light from a light source
JP3582194B2 (ja) * 1995-12-08 2004-10-27 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
KR100209277B1 (ko) * 1996-04-25 1999-07-15 구자홍 박막트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조방법
JP2785808B2 (ja) * 1996-06-17 1998-08-13 セイコーエプソン株式会社 液晶パネル及び投射型表示装置
JPH1039292A (ja) 1996-07-24 1998-02-13 Toshiba Electron Eng Corp 液晶表示素子
US6038006A (en) * 1996-09-02 2000-03-14 Casio Computer Co., Ltd. Liquid crystal display device with light shield and color filter overlapping two edges of pixel electrode
JP3420675B2 (ja) * 1996-12-26 2003-06-30 シャープ株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
JP3264364B2 (ja) * 1997-01-21 2002-03-11 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH10325951A (ja) * 1997-05-26 1998-12-08 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JPH11133404A (ja) * 1997-10-27 1999-05-21 Canon Inc 液晶表示装置とこれらを用いた液晶プロジェクター
JPH11212045A (ja) * 1998-01-26 1999-08-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JPH11295744A (ja) * 1998-04-06 1999-10-29 Casio Comput Co Ltd 液晶表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109188764A (zh) * 2018-10-23 2019-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法
CN109188764B (zh) * 2018-10-23 2021-07-20 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000250066A (ja) 2000-09-14
US6429917B1 (en) 2002-08-06
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JP3512665B2 (ja) 2004-03-31
KR100367952B1 (ko) 2003-01-14

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