TW522096B - Liquid discharge method, liquid discharge head, liquid discharge apparatus, and method for manufacturing liquid discharge head - Google Patents

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522096 Α7 _ Β7 五、發明說明（1 ) 發明背景： 發明領域： 本發明係關於一種液體排出頭，藉著以熱能作用於液 體產生泡沬而排出液體，及其製造方法。本發明亦關於使 用此液體排出頭之液體排出設備。 本發明可應用於其記錄在一記錄媒體例如紙、線、纖 維、布、金屬、塑膠、玻璃、木材、陶瓷、拷貝機器、設 有通訊系統之傳真設備及具有列印單元之文字處理器上的 印表機。本發明進一步關於工業用記錄設備，與不同的處 理設備組合而成。 在此方面，本發明之說明書中的術語”記錄”不只意 指提供字元圖形及記錄媒體的其它有意義影像，亦意指提 供沒有意義的影像例如圖案。 相關背景技藝： 習知地，對於已知的所謂泡沫噴射記錄方法，其是用 於形成影像之噴墨記錄方法，在藉著施加熱能至例如印表 機之記錄設備的流動路徑中之液體墨以產生泡沫之後，根 據突然的體積改變之作用力，從排出埠排出墨，而將墨附 著至記錄媒體上。如揭示於美國專利4，7 2 3 ，1 2 9 之說明書中’使用此泡沫噴射記錄方法之記錄設備通常設 有排出ί阜以排出墨；與這些排出埠相通的流動路徑；及電 熱轉換元件，設在流動路徑中以作爲能量產生機構= 依據此種記錄方法，能以少量的雜音高速地記錄高品 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -I --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 B7 五、發明說明（2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 質影像，且同時對於使用此記錄方法之頭，以高密度擺設 用於排出墨之排出埠，良好的優點在於能以高解析度得到 記錄影像，即使是在較小的彩色設備中。所以，近年來泡 沫噴射記錄方法已被廣泛地使用於印表機、拷貝機器、傳 真設備及其它辦公室設備。此外，此方法已被使用於工業 系統，例如織物印刷設備。 隨著泡沫噴射技術廣泛地使用於不同領域的產品’在 許多方面增加更多的需求。例如，欲得到較高品質影像， 已提出驅動條件，以提供液體排出方法，其高速執行良好 的墨排出，根據泡沫之穩定產生，或考慮達到更高的記錄 ，已提出改良的流動路徑，以得到液體排出頭，具有使液 體流入液體已被排出的液體流動路徑之更高的再塡充速度 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這些提議之中，對於隨著產生於噴嘴之泡沬的成長與 收縮而排出液體之頭，已知排出能量之效率及液體之再塡 充特性，會由於與對應排出埠方向相反的泡沬成長而變得 不利。加強排出能量效率以及再塡充特性之構造的發明， 巳提出於歐洲專利公開申請案E P - 〇 4 3 6 0 4 了 A 1 中。 揭示於此歐洲公開申請案之說明書中的發明爲，切斷 排出埠附近的區域與泡沬產生區域之間的連接之第一閥， 及切斷泡沫產生區域與墨供給部份之間的連接之第二閥， 這些閥是交替地打開及關閉（參見E P 4 3 6 0 4 7 A 1 之圖4至圖9 )。例如，依據前述公開申請案之圖7所示 本紙張足度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱） 522096 A7 __ _______ B7 五、發明說明（3 ) ------------ HE -t--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的例子，熱產生元件1 1 〇被擺設在基板1 2 5上，墨桶 1 1 6與噴嘴1 1 5之間的墨流動路徑之中央，基板 1 2 5形成墨流動路徑1 1 2之內壁，如其圖3 7所示。 熱產生元件1 1 0位在部份1 2 〇，其關閉墨流動路徑 1 1 2之內部中的全部周圍。墨流動路徑1 1 2包含基板 125 ;薄膜123與126，其被直接疊置在基板 125上；及舌片113與130 ’作用爲關閉裝置。在 釋放狀態的舌片表示於圖3 7中的虛線。延伸在平行於基 板1 2 5的平面上且被停止件1 2 4終止之另一膜1 2 3 被設成覆蓋墨流動路徑1 1 2。當泡沬在墨中產生時，噴 嘴區域上舌片1 3 0的自由端，與其靜止狀態中的停止件 1 2 4接觸，被向上移位。於是，墨液體從部份1 2 0被 排出進入墨流動路徑1 1 2，且從噴嘴1 1 5被排出：此 時，設在墨桶1 1 6之區域中之舌片1 1 3與靜止狀態的 停止件1 2 4緊密接觸。所以，部份1 2 0中之墨液體不 可能向著墨層1 1 6。當墨中之泡沬消失，舌片1 3 0被 向下移位，且它再度與停止件1 2 4緊密接觸。然後，舌 片1 1 3向下掉入墨部份1 2 0中，於是允許墨液體流入 部份1 2 0。 發明節要： 然而，依據E P 4 3 6 0 4 7 A 1之說明書中敘述的 發明’排出ί阜’泡沫產生部份，墨供給部份附近區域的二 室各被分割爲二。所以，跟隨墨滴墨當排出時變成長尾巴 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（4 ) ’且衛星會不可避免地比執行泡沫之成長、縮小、消失之 排出方法更多（假設因爲由泡沬消失所產生之彎曲縮回效 果是沒有用的）。而且，泡沫之排出埠側上的閥容易引發 排出能量的大量損失。此外，在再塡充時（當墨被噴嘴裝 塡時），液體不會被供給至排出埠附近之區域，直到下一 個泡沫發生，雖然隨著泡沫之消失，液體被供給至泡沬產 生部份。結果，不僅被排出的液滴之波動更大，且排出響 應之頻率會變得更小，因此使方法不實用。 以本發明，欲提出根據新構想來加強排出效率，以發 現創紀元的方法及頭構造，藉著改善效率在與排出埠相反 方向上抑制泡沬成長成份，同時滿足再塡充特性之更高的 強化，在排出埠之相對側上，提供更多的抑制於成長泡沬 的成份。 由發明人苦心硏究的結果，發現可有效地利用在排出 埠側上向後的排出能量，藉由止回閥機構，特別地建造於 液體排出頭之噴嘴構造中，其隨著線性地形成之噴嘴中所 產生的泡沫之成長而排出液體。這裡，使用特殊的止回閥 機構’抑制向後的泡沬之成長成份，且同時再塡充特性變 得更大有效率。發現排出反應之頻率會明顯地變高。 換句話說，本發明之目的在於建立一種新的排出方法 (構is ) ’以得到能以局速得到局品質影像之頭5其是習 知技術所無法得到的，以使用新穎閥機構之噴嘴構造及排 出方法。 在液體排出頭之前述硏究的過程中得到本發明之液體 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . -麟· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 B7 五、發明說明（5 ) 排出方法’此液體排出頭設有：許多排出纟阜，用於排出液 體；許多液體流動路徑，總是與在一端的各排出埠相通， 各具有泡沫產生區域，用於在液體中產生泡沬；泡沫產生 機構，用於產生能量以產生並成長泡沬；許多液體供給璋 ’各設置給各液體流動路徑，以與共同的液體供給室相通 ;及可移動構件以小間隙被支撐至液體流動路徑側上的液 體供給埠，且設有自由端，至少被自由端部份及兩側包圍 的可移動構件之區域，被做成大於面向液體流動路徑之液 體供給埠的開口區域，此方法包含步驟：設定可移動構件 之周期，以關閉及主要切斷開口區域，於從施加驅動電壓 至泡沫產生機構至整個泡沫被泡沬產生機構之終止成長的 期間。 而且，對於前述液體排出方法，可移動構件關閉並主 要切斷開口區域之周期，至少繼繪直到整個泡沫被泡沫產 生機構終止成長。 此外，對於前述液體排出方法，在可移動構件關閉並 切斷開口區域的周期之後，於排出埠側上泡沬產生機構所 產生的泡沫之部份的成長周期，可移動構件開始從關閉並 切斷開口區域之位置移位至液體流動路徑中之泡沬產生機 構側，並使液體供給可以從共同的液體供給室至液體流動 路徑。 此外，在可移動構件開始從關閉並切斷開口區域之位 置被移位至液體流動路徑中之泡沫產生機構側之後，可移 動構件被進一步移位至泡沬產生機構，於可移動構件側上 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---^--------I ___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ___ B7 五、發明說明（6 ) 的泡沫之部份的縮小周期期間’以從共同的液體供給室供 給液體至液體流動路徑。 此外，泡沫成長的體積改變及泡沬產生區域上從泡沬 產生至消失的周期，大大不同於在排出埠側及液體供給埠 側。 本發明之液體排出頭包含：許多排出埠，用於排出液 體；許多液體流動路徑，總是與在一端之各排出埠相通， 各具有泡沫產生區域，用於產生能量以產生並成長泡沬； 許多液體供給埠，各設給各液體流動路徑’以與共同的液 體供給室相通；及可移動構件，以1 〇 μ m或更小之小間隙 被支撐至液體流動路徑側上的液體供給埠，並設有自由端 ，至少被自由端部份及兩側包圍的可移動構件之區域，被 做成大於面向液體流動路徑之液體供給埠的開口區域，且 排出ί阜與泡沬產生機構是在線性地相通狀態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ---^--------« %___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 而且，本發明之液體排出頭包含：一排出埠，用於排 出液體；一液體流動路徑，總是與在一端之排出埠相通， 具有泡沬產生區域，用於在液體中產生泡沬；泡沫產生機 構，用於產生能量以產生並成長泡沬；一液體供給埠，設 給各液體流動路徑，以與共同的液體供給室相通；及可移 動構件，以1 Ο μ m或更小之小間隙被支撐至液體流動路徑 側上的液體供給埠，並設有自由端，至少被自由端部份及 兩側包圍的可移動構件之區域，被做成大於面向液體流動 路徑之液體供給埠的開口區域，且排出埠與泡沬產生機構 是在線性地相通狀態。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7____ 五、發明說明（7 ) 對於這些液體排出頭，最好提供給可移動構件間隙， 以形成液體流動路徑。 « n ϋ ϋ ϋ n n ϋ ϋ I ϋ I · n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而且，本發明之液體排出頭包含：許多排出埠，用於 排出液體；許多液體流動路徑，總是與在一端的各排出埠 相通，各具有泡沫產生區域，用於在液體中產生泡沫；泡 沫產生機構，用於產生能量以產生並成長泡沫；許多液體 供給埠，各設給各液體流動路徑，以與共同的液體供給室 相通；及可移動構件，以小間隙被支撐至液體流動路徑上 的液體供給埠，且設有自由端，至少由自由端部份及兩側 包圍的可移動構件之區域，被做成大於面向液體流動路徑 之液體供給埠的開口區域，且具有可移動構件關閉並主要 切斷開口區域之周期，在施加驅動電壓至泡沬產生機構之 後，於藉排出埠側上之泡沫產生機構之整個泡沬的各向異 性成長期間，且可移動構件開始從關閉並切斷開口區域的 ί立置，被移位至液體流動路徑中的泡沫產生機構側，在相 同的可移動構件關閉並切斷開口區域的周期之後，於藉排 出埠側上之泡沬產生機構產生的泡沫之部份正被成長期間 ，使液體供給可以從共同的液體供給室至液體流動路徑。 對於此液體排出頭，給定成長於排出埠側上的泡沬產生區 域的泡沫之體積爲V f ，且給定成長於液體供給埠側上的 泡沫產生區域中之泡沬的最大體積爲V r ，在全部時間建 立V f > V r之關係。 在此情形中，給定成長於排出埠側上的泡沬產生區域 之泡沫的生命時間爲T f ，且給定成長於液體供給埠側上 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 — B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（8 ) 的泡沬產生區域之泡沫的生命時間爲T r ，在全部時間建 立T f > T r之關係。 然後，泡沫消失的點被定位在排出埠上，從泡沫產生 區域之中央部份。 而且，本發明之液體排出頭包含：許多排出埠，用於 排出液體；許多液體流動路徑，總是與在一端的各排出埠 相通，各具有泡沫產生區域，以在液體中產生泡沫；泡沬 產生機構，用於產生能量以產生並成長泡沫；許多液體供 給埠，各設給各液體流動路徑，以與共同的液體供給室相 通；及可移動構件，以小間隙被支撐至液體流動路徑側上 之液體供給埠，並設有自由端，至少由自由端部份及雨側 包圍的可移動構件之區域被做成大於面向液體流動路徑之 液體供給埠的區域，且可移動構件之自由端在泡沬產生之 啓始階段中被小小地移位於液體流動路徑中，且隨著泡沬 消失，可移動構件之自由端被大幅地移位於液體流動路徑 中至泡沫產生機構側，用於從共同的液體供給室供給液體 經由液體供給埠進入液體流動路徑。 在此情形中，可移動構件之自由端的移位量被界定爲 h 1 ，作爲在泡沬產生之啓始階段，於液體流動路徑中至 液體供給埠側之移位量，且當可移動構件之自由端在液體 流動路徑中隨著泡沬消失被移位至泡沫產生機構側時，其 移位迨被界定爲h 2 ，且在全部時間建立h 1 <h 2之關 係。 對於各前述的液體排出頭，非晶合金的薄膜被提供給 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) : . -麟- 本紙张尸、度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 _ 五、發明說明（9 ) 泡沫產生機構之最上表面。然後，可想到前述非晶合金是 選自鉅、鐵、鎳、鉻、鍺、釕的一個或以上金屬之合金。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外，對於前述液體排出頭，最好整體地形成具有可 移動構件之腳支撐構件，以支撐可移動構件之腳’並提供 此構件一步驟，藉一步驟將可移動構件之高度位置偏移至 腳支撐構件之固定位置，並使可移動構件之厚度大於此步 驟之量。 此外，最好安排液體流動路徑側上之液體供給璋的開 口邊緣與液體流供給埠側上之可移動構件的面之間的間隙 α，與和液體流動路徑側上之液體供給埠的開口邊緣在寬 度方向上重疊之可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲 W 3 > α。 此外，最好安排和液體流動路徑側上之液體供給埠的 開口邊緣在排出埠方向上重疊之可移動構件的重疊寬度 W 4，與在寬度方向之可移動構件的重疊寬度W 3之間的 關係爲W 3 > W 4。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明亦提供一液體排出設備，其包含上述構成之液 體排出頭，及記錄媒體載送機構，用於載送接收從液證排 出頭排出的液體之記錄媒體。以此液體排出設備，可想到 從液體排出頭排出墨，以藉由墨附著至記錄媒體來記錄。 而且，本發明用於製造液體排出頭之方法，此液體排 出頭設有：許多排出璋，用於排出液體；許多液體流動路 徑，總是與在一端的各排出埠相通，各具有泡沫產生區域 ，以在液體中產生泡沫；泡沫產生機構，用於產生能量以 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ___ _________ B7 五、發明說明（10 ) 產生並成長泡沫；許多液體供給埠，各設給各液體流動路 徑，以與共同的液體供給室相通；及可移動構件，以小間 隙被支撐至液體流動路徑側上之液體供給埠，且設有自由 端’至少被自由端部份及兩側包圍的可移動構件之區域被 做成大於面向液體流動路徑之液體供給埠的開口區域，此 方法包含以下步驟：形成並成型第一保護層，相對於覆蓋 設有泡沫產生機構之元件基板的部份之區域，變成液體流 動路徑；形成第一壁材料，使用於形成液體流動路徑於包 括第一保護層之元件基板的表面上；移除成爲液體流動路 徑之第一壁材料之部份；埋藏成爲移除後的液體流動路徑 之第一壁材料的部份；藉拋光平滑第一壁材料之整個表面 ;形成第二保護膜於平滑後的第一壁材料上，用於形或第 一壁材料與可移動構件之固定部份；藉成型而形成一爲可 移動構件之材料膜，寬度小於成爲液體流動路徑之部汾， 在對應成爲液體流動路徑之部份的位置上；在成爲可移動 構件之材料膜的周圍上形成一間隙形成構件，以形咬可移 動構件與液體供給埠之間的間隙；在第一壁材料上形玟第 二壁材料，用於形成液體供給埠於包括間隙形成構f牛之基 板上；形成成爲液體供給埠之第二壁材料的部份，以丨吏其 開口區域小於成爲可移動構件之材料膜；藉溶解使_於埋 藏間隙形成構件之第一保護層，移除第二保護層，且第一 键材料之部份成爲液體流動路徑；及結合設有共同的液體 供給室之天花板至在先前步驟中產生的基板。 而U ’本發明用於製造液體排出頭之方法，此液體排 本紙錶尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 x 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·- 522096 A7 ___B7____ 五、發明說明（11 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 出頭設有：許多排出埠，用於排出液體；許多液體流動路 徑，總是與在一端的各排出埠相通，各具有泡沫產生區域 ’以在液體中產生泡沬；泡沫產生機構，用於產生能量以 產生並成長泡沫；許多液體供給璋，各設給各液體流動路 徑，以與共同的液體供給室相通；及可移動構件，以小間 隙被支撐至液體流動路徑側上之液體供給埠，且設有自由 端，至少被自由端部份及兩側包圍的可移動構件之區域被 做成大於面向液體流動路徑之液體供給埠的開口區域，此 方法包含以下步驟：形成並成型第一保護層，相對於成爲 液體流動路徑之壁的天花板之部份；在不具有第一保護層 之天花板的部份上，形成一間隙形成構件，用於形成間隙 於可移動構件與液體供給埠之間；在第一保護層與間隙形 成構件之整個表面上，形成成爲可移動構件之材料膜；形 成成爲可移動構件之材料膜，具有圖案大於成爲液體供給 埠之部份的開口區域，且形成通孔於可移動構件上，以便 利流入液體以溶解間隙形成構件；藉乾蝕刻形成具有間隙 形成構件之共同的液體供給室作爲蝕刻停止層；移除間隙 形成構件；藉各向異性濕蝕刻不具有第一保護層之天花板 的部份’形成液體供給埠；以相同於成爲可移動構件之材 料膜的材料，埋藏可移動構件之通孔，並以膜塗覆蝕刻側 上之壁；結合用於形成液體流動路徑及泡沫產生機構之設 有壁構件的元件基板，至先前階段的步驟中產生的構件。 以上述構造，於從施加驅動電壓至泡沫產生機構到以 泡沬產生機構各向異性成長泡沫終止之周期期間，可移動 丨氏張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） — 522096 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（12 ) 構件立即切斷液體流動路徑與液體供給埠之間的相通狀態 。結果，由泡沫產生區域中成長的泡沫施加的壓力之波， 沒有傳播至液體供給埠側及共同的液體供給室側。大部份 的壓力是向著排出埠側。於是，排出動力被明顯地強化。 而且，即使當高黏度記錄液體使用於記錄片上之較高固定 ’或使用於消除黑與其它顏色之間的邊界上之展開，能以 良好狀態排出此液體，由於排出動力的明顯強化。而且， 在記錄時之環境改變，特別是在低溫及低濕度的環境下， 整個黏性墨區域會增加，且在某些情形中，當開始使用時 墨不會被正常地排出。然而，以本發明，能以良好狀態執 行排出。而且，以明顯改善的排出動力，作爲泡沬產生機 構之熱產生元件的尺寸可被做得更小，或者輸入能量可被 做得更小。 而且，隨著泡沬之縮小，可栘動構件被向下移位，以 使液體能從共同的液體供給室以快速流率大量經過液體供 給埠流入液體流動路徑。以此方式，將彎月帶入液體流動 路徑之流動在液滴排出之後被快速地減小，且彎月收縮之 量在排出埠變得更小。結果，彎月以非常短的時間周期回 到啓始狀態。換句話說，特定量的墨快速補充進入液體流 動路徑（再塡充），因此當執行高度精確的墨排出（以常 量）時，可明顯地提升排出頻率（驅動頻率）。 此外，在泡沫產生區域中，在排出埠側上之泡沬成長 是大的，當抑制其成長至液體供給埠側。所以，泡沫消失 點被定位在排出埠側上，從泡沫產生區域的中央部份。然 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -^1 I ϋ I i^i ϋ I ϋ ϋ ϋ 1 斗V、· ϋ n If n n I cl 一：0、« n i n ϋ n [ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 Α7 Β7 五、發明說明（13 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 後，當保持排出動力時，可減小泡沫消失之動力。此可以 保護熱產生元件免於被泡沫產生區域中泡沫消失機械地及 物理地破壞，且有助於明顯地改善其壽命。 而且，腳支撐構件與可移動構件一體成形以支撐可移 動構件之腳，其設有一步階使得可移動構件之尚度位置與 腳支撐構件之固定位置偏離一步階。以此擺設’當可移動 構件被移位時，集中在可移動構件之腳支撐構件的固定位 置上之應力被釋放。此外，可移動構件之厚度小於可移動 構件之腳支撐構件之步階量，因此可以強化可移動構件之 腳部份的持久性，因爲當可移動構件被移位’應力集中在 可移動構件之腳支撐構件的步階部份時，應力的集中被釋 放。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 此外，液體流動路徑側上之液體供給埠的開口邊緣與 液體供給埠側上之可移動構件的面之間的間隙α，在寬度 方向上的可移動構件之重疊W 3，和液體流動路徑側上的 液體供給埠之開口邊緣重疊，α與W 3之間的關係建立爲 W 3 > α。於是，與關係爲W 3 ^ α之情形相比，在從液 體流動路徑至液體供給埠側之流動中’流動阻力變大，以 有效地抑制在泡沬成長的泡沬啓始時’從液體流動路徑至 液體供給埠側之流動。此外，可以有效地抑制從液體流動 路徑至液體供給璋，經過可移動構件與液體供給埠的周圍 之間的間隙之流動。結果，可移動構件能可靠且快速地遮 蔽液體供給埠。以此操作，可更加強排出效率。 而且，和液體流動路徑側上之液體供給埠的開口邊緣 本纸β尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（μ ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 重疊，在排出埠方向上可移動構件的重疊W4，與可移動 構件之寬度方向上的重疊寬度W3之間的關係，建立爲 W 3 > W 4。以此擺設，當已被啓始泡沬向上移位至液體 供給埠側之可移動構件，在泡沬消失的過程中開始被向下 移位至泡沫產生機構側時，可移動構件之自由端尖與液體 供給埠的開口邊緣之間的接觸寬度變小。結果，在此時產 生的摩擦力被減小，以從可移動構件的自由端側釋放液體 供給埠。使得可移動構件可靠且快速地釋放液體供給埠。 因此，可更有效地執行再塡充進入液體流動路徑以穩定排 出特性。 而且，採用非晶合金之薄膜作爲泡沬產生機構之最上 表面層上的抗孔蝕膜，可使其壽命較長可抵抗機械及物理 破壞。 而且，在依據本發明之液體排出頭的製造方法中，採 用非晶合金可減小對於電線層之損害，此電線層擺設在下 層上，使得在移除步驟中可移除A 1膜，用於形成液體流 動路徑及液體供給埠。此明顯地有助於提升產量： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 從以下的各實施例之敘述，將可暸解本發明之其它效 果與優點。 在此方面，本發明之敘述所使用的術語”上游”與” 下游”是指液體流動的方向，從液體的供給源至排出埠經 過泡沫產生區域（或經過可移動構件），或者是指在其構 造方面的方向。 而且，泡沬本身之術語”下游側”意指在前述流動方 本纸仿:尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 522096 A7 _______ B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（15 ) 向或構造方向上，泡沬之中央的下游側，或者意指泡沬被 產生在熱產生元件之中央區域的下游側。 而且’術語”重疊寬度”表示從液體流動路徑側上之 液體供給埠的開口邊緣至可移動構件的邊緣部份之最小距 離。 而且，本發明所使用之術語”可移動構件關閉並切斷 液體供給埠”並非意指可移動構件需要與液體供給埠之周 圍緊密接觸，而是意指包括一狀態，可移動構件儘可能接 近液體供給埠。 圖形之簡要敘述： 圖1是一剖面圖’指出依據本發明之第一實施例的液 體排出頭，取自於一液體流動路徑之方向。 圖2是一剖面圖，取自沿著圖1中之線2 — 2 : 圖3是一剖面圖，取自沿著圖1中之線3 — 3 : 圖4是一剖面圖，指出一流動路徑之”線性相通狀態 〇 圖5 A與5 B是剖面圖，指出圖1 、2、3所示之液 體排出頭的排出操作，取自液體流動路徑之方向，同時表 示其特性現象。 圖6 A與6 B是剖面圖，指出圖5 A與5 B之表示中 的液體排出頭之排出操作繼續，取自液體流動路徑之方向 〇 圖7 A與7 B是剖面圖，指出圖6 A與6 B之表示中 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) % . · 訂· 本紙体尺度適用中國國家標準（CNS)A4規輅（210 X 297公釐） 522096 A7

五、發明說明（16 ) 的液體排出頭之排出操作繼續，取自液體流動路徑之方向 〇 圖8A、8B、8C、8D與8E是圖形，指出圖 5 B所示之泡沬正在各向異性成長時之狀態。 圖9是一圖形，指出在圖5Α、5Β、6Α、6Β、 7 A、7 Β所表示的區域中，泡沫成長的暫時改變與可移 動構件的行爲之間.的關係。 圖1 0Α與1 〇 Β爲圖形，指出具有與圖1所示之可 移動構件及熱產生元件的相對位置不同模式之液體排出頭 ’及泡沫成長的暫時改變與可移動構件的行爲之間的關係 〇 圖1 1 Α與1 1 Β爲圖形，指出具有與圖1所示之可 移動構件及熱產生元件的相對位置不同模式之液體排出頭 ’及泡沫成長的暫時改變與可移動構件的行爲之間的關係 0 圖1 2是一剖面圖，指出依據本發明之第二實施例的 第一改變例之液體排出頭，取自沿著一液體流動路徑之方 向。 圖1 3是一剖面圖，取自沿著圖1 2之線1 3 — 1 3 〇 圖1 4是一剖面圖，指出依據本發明之第二實施例的 第二改變例之液體排出頭，取自沿著一液體流動路徑之方 向。 圖1 5是一'剖面圖’取自沿奢圖1 4之線1 5 — 1 5 本纸张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — — — — — — — — — I! 兮又· I _ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -tT°J· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ----------B7__ 五、發明說明（17 ) 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖1 6是一剖面圖，指出圖1 2所示之頭構造中的可 移動構件之腳部份的周圍。 圖1 7是一剖面圖，指出圖1 6所示之可移動構件的 改變例。 圖1 8 A與1 8 B是剖面圖，指出當構造表現w 3 > ^之關係，在泡沬啓始時之液體流動，取自沿著液體供給 ί阜。

圖1 9 Α與1 9 Β是剖面圖，指出當構造表現W 3 S ^之關係，在泡沫啓始時之液體流動，取自沿著液體供給 ί阜。 圖2 0是一剖面圖，指出依據本發明之第五實施例的 改變例之液體排出頭。 圖2 1是一線性剖面，取自沿著圖2 0之線2 1 - 2 1 ，指出從排出埠之中央至在點Υ 1之天花板2的移位 0 圖22Α、22Β、22C、22D是圖形，指出依 據本發明之第六實施例之液體排出頭。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2 3是一剖面圖，指出依據各種實施例之液體排出 頭所使用之元件基板。 圖2 4是一剖面圖，指出兀件基板，其垂直地切割圖 2 3所示之元件基板的主要元件。 圖2 5 A、2 5 Β、2 5 C、2 5 D是圖形’指出依 據本發明之第五實施例的液體排出頭之製造方法。 本纸弘又度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 ---- B7 五、發明說明（18 ) 圖26A、26B、26C是圖形，指出圖25A、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 5 B、2 5 C、2 5 D所示之依據本發明之第五實施例 的液體排出頭之製造方法的繼續。 圖27A、27B、27C是圖形，指出圖26A、 2 6 B、2 6 C所示之依據本發明之第五實施例的液體排 出頭之製造方法的繼續。 圖28A、28B、28C、28D是圖形，指出依 據本發明之第六實施例的液體排出頭之製造方法。 圖29A與29B是圖形，指出圖28A、28B、 2 8 C、2 8 D所示之依據本發明第六實施例的液體排出 頭之製造方法的繼續。 圖3 0是一剖面圖5指出依據本發明之第六實施例的 液體排出頭之構造。 圖3 1是一圖形，指出側射型的頭之例子，可應用於 本發明之液體排出方法。 圖3 2是一圖形，指出熱產生元件的面積與墨排出的 量之間的關係。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖3 3 A與3 3 B是垂直剖面圖，指出本發明之液體 排出頭，圖3 3 A指出設有保護膜：圖3 3 B指出不設有 保護膜。 圖3 4是一圖形，指出使用於本發明驅動熱產生元件 之波形。 圖3 5是一圖形，指出液體排出設備之構造，具有本 發明之液體排出頭安裝於其上。' 本紙菸尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（19 ) 圖3 6是一方塊圖，指出設備之整體，其藉使用本發 明之液體排出方法及液體排出頭而執行液體排出記錄。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖3 7是一剖面圖，指出習知液體排出頭之可移動構 件的狀態。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 主要元件對照表 1 元 件 基 板 2 天 化 板 3 液 體 流 動 路 徑 4 熱 產 生 元 件 5 液 體 供 給 埠 δ A 供 給 單 元 形 成 構 件 6 共 同 的 液 體 供 給 室 7 排 出 璋 8 可 移 動 構 件 8 A 腳 部 份 8 B 端 部 份 8 C 腳 支 撐 構 件 9 固 定 構 件 1 〇 流 動 路 徑 側 壁 1 1 泡 沫 產 生 區 域 2 1 泡 沬 2 2 排 出 液 滴 2 5 A 1 膜 圖 案 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、 發明說明妁 ) 2 6 S i N 膜 2 7 A 1 膜 2 8 A 1 膜 2 9 S i N 膜 3 〇 間 隙 形 成構 件 3 1 環 氧 樹 脂 3 5 S i 〇 2膜 3 6 間 隙 形 成構 件 3 7 s i N 膜 3 7 a 可 移 動 部份 3 7 b 支 撐 構 件 3 ry c 狹 縫 3 8 s 1 N 膜 1 〇 3 保 護 膜 1 〇 4 電 極 1 〇 5 電 阻 層 1 1 〇 熱 產 生 元件 1 1 2 墨 流 動 路徑 1 1 3 舌 片 1 1 5 噴 嘴 1 1 6 墨 桶 1 2 〇 部 份 1 2 3 薄 膜 12 4 停止件 ------------ I %r--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · 本紙仿·尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明θ ) 12 5 基板 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 12 6 1 3〇 2〇1 2 0 2 2 0 3 2 0 4 2 0 5 2 0 6 2 0 7 2 0 8 3 0 0 3〇1 3 0 2 3 0 4 4 2 0 4 2 1 4 2 2 4 2 3 4 2 4 4 2 5 4 2 6 4 2 8 4 3 0 薄膜 舌片 矽基板 熱氧化膜 中間層膜 電阻層 電線 保護膜 抗孔蝕膜 熱活性部份 主電腦 輸入介面 中央處理單元 隨機存取記憶體 Ρ

Μ〇S Ν - Μ 0 S Ν型井區域 Ρ型井區域 氧化物膜分離區域 源區 汲區 閘絕緣膜 Ν — Μ〇S電晶體 本纸铱尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） *ϋ ί n n m n .ϋ ·ϋ ϋ n I · -1-= i n n In n n 一°J( n n m —i i n n I n ! .--i (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明說明私） 4 3 1 汲區 4 3 2 源區 4 3 3 閘電線 4 3 5 閘電線 4 3 6 中間層絕緣膜 4 3 7 A 1電極 4 3 8 中間層絕緣膜 6 0 0 噴墨記錄設備 6 0 1 頭匣 6 0 2 驅動馬達 6 0 3 傳動齒輪 6〇4 傳動齒輪 6 0 5 前螺絲 6 0 6 螺旋槽 6 0 7 載體 6 0 8 導引件 6 0 9 平板 6 1〇 片壓板 6 11 光耦合器 6 12 光耦合器 6 13 支撐構件 6 14 帽構件 6 15 吸墨機構 6 1 7 淸潔刀 ___________- I ___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂i 本紙体尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 522096 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 五、發明說明¢3 ) 6 1 8 可移動構件 6 1 9 主體支撐構件 6 2 〇 槓桿 6 2 1 凸輪 _ ί圭實施例之詳細敘述 現在，在下文中參見附圖，將敘述依據本發明之實施 例。 (第一實施例） 圖1是一剖面圖，指出依據本發明之第一實施例的液 體排出頭，取自一液體流動路徑之方向。圖2是一剖面圖 ’取自沿著圖1之線2 — 2。圖3是一剖面圖，取自沿著 圖1之線3 - 3 ’指出從排出埠的中央至在點γ 1的天花 板2之移位。 對於圖1至3所示的液體排出頭，其是在多液體路徑 模式，共同液體室、元件基板1與天花板2被固定在經由 液體路徑側壁1 0疊合的狀態。然後，在兩個板1與2之 間，形成一液體流動路徑3，其一端與排出埠7相通：此 流動路徑3對一頭而言有許多個。而且，在元件基板1上 ，對於各液體流動路徑3，設有例如電熱轉換元件之熱產 生元件4，其作用爲用於產生在各液體流動路徑3中補充 的液體中之泡沫的泡沫產生機構。在熱產生元件4接觸排 出液體之表面附近上，泡沫產生區域1 1存在，在這裡藉 本纸张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） • Γ _ Iwv · 1 mtt 1 n HI n ^^1 】截 Mam· a···· I m·· mm mm· 8 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 A7 ---- B7 五、發明說明¢4 ) 熱產生元件4之快速加熱而在排出液體中產生泡沬。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 對於各許多液體流動路徑3，設置液體供給埠5，用 於供給單元形成構件5 A。然後，大容量的共同的液體供 給室6擺設成與各液體供給埠5相通。換句話說，造形係 擺設成許多液體流動路徑3從單一共同的液體供給室6被 分支，且墨從此共同的液體供給室6被供給，其量對應已 從與各液體流動路徑3相通的排出埠7排出之液體。 於液體供給埠5與液體流動路徑3之間，擺設一可移 動構件8，以小間隙α (例如1 〇 μ m或更小）與液體供給 埠5之開口區域S平行。可移動構件8被定位至元件基板 1 ，且亦與元件基板1平行。然後排出埠7側上的可移動 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 構件8之端部份8 B，被做成元件基板1之熱產生元件4 側上的自由端。支撐可移動構件8之腳的腳支撐構件8 C 是與可移動構件一體成型。腳支撐構件8 C是連接並共同 地支撐許多液體流動路徑相交的方向上之可移動構件8的 構件。圖1與圖3中之參考數字8 A代表由前述腳支撐構 件8 C支撐的許多可移動構件之腳部份。此部份成爲在被 移位時各可移動構件8之支點。可移動構件8之腳支撐構 件8 C被接合並固定至固定構件9。而且，與排出埠7相 對的側面上之液體流動路徑3的尾端被此固定構件9關閉 。此外，先前敘述之可移動構件8的一部份腳支撐構件 8 C沒有被接合（固定）至固定構件9。此非固定部份設 有一步階，可藉著從腳支撐構件8 C之固定部份至固定構 件9之步階而移位可移動構件8之高度位置。以此構造， 本紙分..尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 522096 A7 ---B7 五、發明說明¢5 ) 當可移動構件8被移位時，可釋放固定構件9與可移動構 件8的腳支撐構件8 C之結合界面上的應力集中。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 n I I n I I I ϋ n I I'Ϋχ· I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外’對於本實施例，至少由自由端部份及可移動構 件8的側部份包圍之區域，大於液體供給埠5之開口區域 S (參見圖3 )，且小間隙/3擺設在兩側上的流動路徑壁 1 0與可移動構件8的側部份之間（參見圖2 )。前述供 給單元形成構件5 A如圖2所示與可移動構件8具有間隙 r °雖然視流動路徑之間距而定間隙卢與τ會不同，與可 移動構件是以間隙α被定位之穩定狀態相比，較大的間隙 r ’可移動構件8能容易地遮蔽開口區域S，且較大的間 隙/3 ’可移動構件8較容易移位至元件基板1側。對於本 實施例’間隙α爲2μιη ;間隙/3爲3μηι ;且間隙7爲4 μ m。而且，可移動構件8具有寬度W 1 ，大於前述在流動 路徑側壁1 0之間的寬度方向上之開口區域S的寬度W 2 ，其是有效地關閉開口區域S之寬度。依據本實施例，接 著供給單元形成構件5 A的可移動構件8之部份的厚度小 於液體流動路徑壁1 〇本身的厚度，如圖2與圖3所示， 且供給單兀形成構件5 A被疊合在液體流動路徑壁1 〇上 。在此方面，如圖3所示，從可移動構件的自由端8 B， 排出埠7側上的供給單元形成構件5 A之厚度，被設定成 與液體路徑側壁1 0相同厚度。以此擺設，可移動構件8 可移動於液體流動路徑3而沒有摩擦阻力，可以調整可移 動構件至開口區域S的周圍部份上之開口區域s側的移位 。結果’可移動構件8可關閉開口區域S，以避免從液體 本紙体尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 _ B7 五、發明說明¢6 ) 流動路徑3至共同的液體供給室6的液體流動，同時可移 動構件8隨著泡沫的消失可從關閉狀態移位至可再塡充狀 能〇 這裡所指的開口區域S是液體從液體供給璋5被供給 至液體流動路徑3之區域，且對於本實施例，此開口區域 是由液體供給埠5的三側及固定構件9的邊緣部份9 A所 包圍，如圖1與圖3所示。 而且，如圖4所示，在作用爲電熱轉換構件的熱產生 元件4與排出埠7之間沒有例如閥之障礙物，因此保持” 線性相通狀態”，其是相對於液體流動的線性流動路徑構 造。此外，最好形成閒置狀態，例如排出液滴之排出方向 及速度之排出條件被穩定在高位準，藉著配合在產生泡沬 時所產生的壓力波之傳播方向。依據本發明，爲了達到此 閒置狀態，最好是只擺設構造，使得排出埠7與熱產生元 件4，特別是熱產生元件之排出埠側（下游側），其對於 排出埠側上的泡沬具有影響力，被直線直接連接。此狀態 可以觀察熱產生元件，其下游側，特別是從排出埠之外側 ，如果沒有液體在流動路徑（參見圖4 )。

現在，將詳細敘述依據本實施例之液體排出頭的排出 操作。圖5A、5B、6A、6B、7A、7B是剖面圖 ，指出圖1至3所不構造之液體排出頭的排出操作，取自 沿著液體流動路徑之方向。同時，特性現象表示於圖5 a 、5B、6A、6B、7A、7B之六個步驟中。而且在 圖 5A、5B、6A、6B、了 A、7B 中，參考符號M 本紙焐尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） • 4W Γ I / I iM· 1 UBi 11 ΛΜΚ§ tmt ^ ^ f n n tmmmm tmt i n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 A7 _ B7 五、發明說明π ) 表示由排出液體形成彎月。 圖5 Α指出能量例如電能被施加至熱產生元件之前的 狀態，沒有熱由熱產生元件產生。在此狀態中，微小間隙 (1 Ο μ m或更小）存在於安裝在液體供給埠5與流動路徑 3間的可移動構件8與液體供給埠5的形成表面之間。 圖5 B指出一狀態，液體流動路徑3中塡入的一部份 液體被熱產生元件4加熱，且膜沸騰發生在熱產生元件4 上以使泡沬2 1各向異性成長。這裡，”泡沫之各向異性 ’’意指一狀態，各泡沬成長速度大致等於向著泡沬表面的 垂直線之泡沫的表面之任意位置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 .I — — — — — — —--- *Ϋ，i f (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在泡沫啓始之泡沫2 1的各向異性成長步驟中，可移 動構件8藉著緊密地與液體供給埠5的周圍接觸而關閉液 體供給埠5 ，且液體流動路徑3之內部主要是關閉的，除 了排出埠7之外。此關閉狀態保持在泡沬2 1的各向異性 或長步驟中某周期中。這裡，於關閉狀態被保持的周期可 以是從施加驅動電壓到熱產生元件4至泡沫2 1的各向異 性成長步驟之終止。而且，在此關閉狀態中，從液體流動 路徑3中的熱產生元件4之中央，液體供給璋側上的慣性 (液體從其靜止狀態移動時移動之果難度）變成無限大。 此時，從熱產生元件4至液體供給埠側之慣性較接近無限 大，如果熱產生元件4與可移動構件8之間的距離變大。 而且這裡，對於被移位至液體供給埠5側之可移動構件8 的自由端，最大量被定義爲h 1 。 圖6 A指出泡沫2 1繼續成長的狀態。在此狀態中， 本紙释尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明¢8 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 由於液體流動路徑3的內部主要是關閉的，如上所述除了 排出埠7之外，液體不會流至液體供給埠5側。所以，泡 沬可被大幅地發展至排出埠7側，但不允許發展至液體供 給埠5側。然後，泡沬被繼續成長在泡沬產生區域1 1的 排出埠7側上。然而，相反地泡沫成長被抑制在泡沬產生 區域1 1的液體供給埠5側上。換句話說，泡沬成長之此 暫停狀態表現泡沫產生區域1 1之液體供給埠5側上的最 大泡沫狀態。此時之泡沫體積界定爲V r。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這裡，連同圖8A至8E，將詳細敘述圖5A、5B 、6 A中之泡沫的成長步驟。如圖8 A所示，啓始沸騰發 生在熱產生元件上，當熱產生元件被加熱。隨後，如圖 8 B所示，此沸騰改變成爲膜沸騰，膜泡沬覆蓋熱產生元 件。然後，如圖8 B與8 C所示，膜沸騰之形狀的泡沬繼 續各向異性成長（泡沫各向異性成長之狀態稱爲”半範圍 狀態”）。然而，如圖5 B所示，當液體流動路徑3之內 部主要是關閉的，除了排出埠7之外，上游側上的液體不 再能移動。結果，上游側上的一部份泡沫（液體供給埠側 匕）無法在半範圍狀態中成長爲泡沫。下游側（排出埠側 )上的餘留部份被大大地成長。圖6 A、8 D與8 E表現 此狀態。 U裡，當熱產生元件4正被加熱時，在熱產生元件4 匕沒彳ί成長泡沫之區域，爲了方便敘述被界定爲區域B， 1丄排出埠7上成長泡沬之區域被界定爲區域Α。在此方面 ，泡沫體積在圖8 E所示的區域B中爲最大。在此時之泡 本紙涔尺度適用中國®家標準（CNS)A4規格（210x 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明p ) 沫體積被界定爲V r。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 現在，圖6 B指出一狀態，泡沬繼續在區域A中成長 ，且泡沬在區域B中開始縮小。在此狀態中，泡沫大幅地 長成至區域A中的排出淖側，泡沫體積在區域B中開始減 小。然後，可移動構件之自由端開始被向下移位至正常位 置，由於區域B中泡沬的去泡沬動力及其剛性的恢復力。 結果，液體供給埠5打開以使共同的液體供給室6與液體 流動路徑3可以相通。 圖7 A指出一狀態，泡沫2 1已成長幾乎至最大。在 此狀態中，泡沬已成長至區域A中的最大，且伴隨此，幾 乎沒有泡沬存在於區域B中。然後區域A中的最大泡沬體 漬被界定爲V f 。而且，正從排出璋7被排出的排出液滴 2 2是在一狀態，拖曳其長尾巴並仍與彎月Μ連接： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖7 Β指出一步驟，其中泡沬2 1之成長暫停，且只 有去泡沫處理發生，並指出一狀態，排出液滴2 2與彎月 Μ已被切掉。在泡沬成長改變成區域Α中的去泡沬之後’ 泡沫2 1之縮小能量作用爲使排出埠7附近的液體能移位 矜上游方向作爲保持整體平衡之動力。所以’然後彎月Μ 從排出埠7被拉入液體流動路徑3，且與排出液滴2 2連 接之液體行，以一強力被快速地切掉。另一方面，隨著泡 沬之縮小，可移動構件8被向下移位，然後允許液體流入 :夜體流動路徑3 ，成爲從共同的液體供給室6經過液體供 给埠5之快速且大的流動。以此方式，將彎月Μ快速拉入 夜體流動路徑3之流動變得更慢，且彎月“之量減小，同 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210x 297公釐〉 -32- 522096 A7 ----— __ B7 ___ 五、發明說明¢0 ) 時彎月Μ開始回到以非常慢的速度起泡之前的位置。因此 ’與沒有提供本發明之可移動構件的液體排出方法相比， 關於彎月Μ之震動，收斂能力變得非常好。在此方面，可 移動構件8的自由端被移位，在此時泡沫產生區域1 1的 最大被界定爲h 2。 最後，當泡沫2 1完全消失時，可移動構件8亦回到 圖5 A所示之正常位置。可移動構件8被向上移位至此狀 態，藉著其彈力（由圖7 B之實線箭頭符號所示之方向） 。而且，在此狀態中，彎月Μ已回到排出埠7的附近： 現在，參見圖9 ，將敘述圖5Α、5Β、6Α、6Β 、7 A、7 Β中區域Α與區域Β中的可移動構件之行爲及 泡沫體積的暫時改變。圖9是一圖形，指出相關性♦且曲 線A表示區域A中泡沬體積的暫時改變，且曲線B表示區 域B中泡沫體積的暫時改變。 如圖9所示，區域A中泡沫成長體積的暫時改變拉具 有最大値的拋物線。換句話說，於從泡沬啓始至其消失的 周期，隨著時間泡沫體積增加以達到在某點的最大値.然 後減小。另一方面，在區域B中，泡沫啓始至其消失听需 的時間比區域A之情形短，而且泡沫成長之最大體積較小 。亦花較短的周期以達到其成長的最大體積。亦即，對於 泡沬啓始與消失所需的時間以及泡沫的成長値之改變，在 區域A與區域B之間有很大的差異°它們在區域B中較小 特別是，在圖9中，在泡沫成長的啓始階段中，泡沫 本衫Ji·尺度適用中國國家標準（(：1^)焱4規格（210乂 297公釐） -ϋ ·ϋ n 1 an n in ic n fc I 0 n El (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂- # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 _______B7 ___ 五、發明說明（3彳） 體積以相同的暫時改變增加。所以’曲線A與曲線B重疊 ’亦即周期發生於在泡沬成長的啓始階段泡沫各向異性成 長期間（表現半範圍狀態）。隨後，曲線A拉出一曲線， 到達最大點，但在某一點，曲線B從曲線A分支出去以拉 出一曲線，泡沫體積在區域B中減小（表現部份縮小發生 於成長部份期間之周期），雖然泡沫體積在區域A中增加 〇 現在，依據上述泡沬成長，可移動構件表現以下之行 爲，·一部份的熱產生元件被如圖1所示的可移動構件之自 由端覆蓋。換句話說，於圖9中的周期（1 )，可移動構 ί牛被向上移位至液體供給埠。於圖9中的周期（2 )，可 移動構件緊密地與液體供給埠接觸，且液體流動路徑之內 部主要是關閉的，除了排出埠之外。在此關閉狀態中，開 始泡沬各向異性成長的周期◦然後，於圖9中的周期（3 )，可移動構件被向下移位至正常狀態的位置：由此可移 動構件釋放液體供給埠，在一段特定時間過去之後，開始 成長部份的部份縮小。然後，於圖9中的周期（4 )，可 移動構件從正常狀態進一步向下移位。然後，於圖9中的 周期（5 )，可移動構件的向下移位幾乎被暫停，以使可 移動構件在釋放位置的平衡狀態。最後，於圖9中的周期 (6 )，可移動構件被向下移位至正常狀態的位置： 由可移動構件與熱產生元件的相對位置影響可移動構 件的行爲與泡沫成長之間的關係。這裡，參見圖1 0Α、 1〇Β、1 1 A、1 1 β，將敘述設有相對位置與本實施 本紙分·尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --I-------I ___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ------E______ 五、發明說明（32 ) (列不同的可移動構件與熱產生元件之液體排出頭的可移動 構件的行爲與泡沬成長之間的關係。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖1 0 A、1 〇 B是圖形指出可移動構件之自由端覆 蓋整體的熱產生元件之模式中，可移動構件的行爲與泡沫 成長之間的關係。圖1 0 A指出其模式。圖1 〇 B是一圖 f杉指出其間的關係。如果熱產生元件與可移動構件重疊的 k域是和圖1 0 A所不的模式一樣大，圖1 0 B中的周期 (1 )變成比圖1所示的模式之情形短，且關閉狀態表現 較短周期的時間，由於熱產生元件被加熱，因此可以更強 化排出效率。在此方面，各周期（1 )至（6 )中可移動 _件的對應行爲是與圖9所敘述相同。而且以圖10A的 漠式，可移動構件容易被泡沫體積的減小影響=然後，由 圖1 0 B中周期（3 )的啓始可明顯看出，在泡沬的成長 部份之部份縮小之後，立即發生由可移動構件釋放液體供 給埠。換句話說，可移動構件的釋放時間變得比圖1所示 之模‘式快。爲了相同理由，可移動構件8之振幅變大： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖1 1 A與1 1 B爲圖形，指出熱產生元件與可移動 構件彼此分開的模式中可移動構件的泡沫成長與行爵。圖 1 1 A指出此模式，圖1 1 B是一圖形，指出其間的關係 。如果熱產生元件是與可移動構件分開，如同圖1 1 A所 示的模式，可移動構件不會容易受泡沬體積的減小影響： 所以，由圖1 1 B的周期之啓始點可明顯看出，由可移動 構件開始釋放液體供給埠，從成長部份之部份縮小的啓始 周期被延遲。換句話說，可移動構件之釋放時間比圖1所 本紙分尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2]0 x 297公釐） 522096 A7

五、發明說明@3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 不的模式慢。爲了相同理由，可移動構件之振幅變得更小 。在此方面，圖11B中從各周期（χ)至（6)中之可 移動構件的行爲是與圖9所述者相同。 在此方面，對於可移動構件8與熱產生元件4之間的 位置關係已敘述一般操作，且各別的操作視可移動構件的 自由端之位置及可移動構件之剛性而有所不同。

而且，可從圖 9 、l〇A、10B、11A、11B 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之表示瞭解，對於本發明之頭總是建立V f > V r之關係 ’其中成長在泡沫產生區域1 1的排出埠7側上的泡沬（ 區域A中之泡沫）的最大體積被給定爲V f ，且成長在泡 沫產生區域1 1之液體供給埠5側上的泡沫（區域B中之 泡沫）的最大體積被給定爲V r 。此外，對於本發明之頭 總是建立Τ ί > T r之關係，其中從成長在泡沫產生區域 1 1之排出埠7側上的泡沬（區域A中之泡沫）的產生至 其消失之時間被給定爲T f ，且從成長在泡沫產生區域 丄1之攸體供給璋5側上的泡沫（區域B中之泡；禾）產 生至其消失之時間被給定爲T r 。然後欲建立前述關係， 泡沫消失點被定位在排出埠7上，從泡沫產生區域1 1之 中央部份。 此外，由圖5 B與7 B可瞭解，以頭之構造，伴隨著 泡沫消失，可移動構件8的自由端被移位至泡沫產生機構 4，最大移位量h 2大於最大移位量h 1 ，其中於泡沬產 生的啓始期間，可移動構件8之自由端被移位至液體供給 埠5側，亦即表現（h 1 < h 2 )之關係。例如’ h 1是 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210^ 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（?4 ) (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 2 μ m ’且h 2是1 〇 μ m。以上述建立的關係，能抑制泡 沫成長至熱產生元件的後側（與排出埠相反的方向），同 時提供泡沬成長至熱產生元件的前側（向著排出埠之方向 )。以此關係的建立，能加強將熱產生元件產生的泡沫動 力轉換成動能之效率，以從排出埠飛出液體成爲液滴。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本實施例之頭構造及其液體排出已被敘述如上：依據 實施例，至下游側之泡沫的成長分量與至上游側的成長分 量不是均勻的，至上游側之成長分量幾乎沒有，因此抑制 液體移位至上游側。以此抑制液體流動至上游側，幾乎沒 有損失會發生在上游側上的泡沫之成長分量。大部份的分 量是向著排出埠，因此明顯地強化排出動力。此外，伴隨 泡沫的縮小，可移動構件被向下移位，以使液體流入液體 流動路徑，作爲從共同的液體供給室經過液體供給璋之快 速且大的液體流動。結果，會將彎月Μ快速拉入液體流動 路徑3之流動馬上變小。然後，在排出之後彎月的縮回量 被減小，且欲從孔表面射出的彎月之程度在再塡充時亦被 減小。此有助於抑制彎月的振動，於是在從較低至較高的 驅動頻率可穩定液體排出。 (第二實施例） 對於第一實施例之頭構造，如圖1至3所示，沒有與 固定構件9接觸之可移動構件8的腳支撐構件8 C的位置 ’是與固定構件9之邊緣部份9 Α相同。所以，開口區域 s成爲由液體供給埠5的三邊及固定構件9的邊緣部份 本··尺度適用中國國家標屢（CNSM.4規格（21G X 29?公爱） 522096 A7

_ ’其中從固定構件9被彎曲以上升之可移動構件8的腳 支撐構件8 C之位置，被設定在固定構件9之邊緣部份 9 A。在此模式的情形中，開口區域S成爲由液體供給淳 5的三邊及可移動構件8的支點8 A包圍之區域，如圖 1 2與1 3所示。 而且’如圖3所示’液體供給埠5被擺設成爲依據第 一實施例之頭構造，由四壁面所包圍的開口。然而，如圖 丄4與1 5所示，可採用一模以釋放液體供給室6側上的 洪給單兀形成構件5 A (爹見圖1 )之壁面，其是與排出 埠7側相對。在此模式的情形中，開口區域S成爲，如圖 1 4與1 5所示，由液體供給埠5的三邊及固定構件9的 邊緣部份9 A包圍的區域，如同第一實施例。 在此方面，圖1 2中之2 - 2線性剖面圖與圖1 4中 之2 — 2線性剖面圖是與圖2相同。 (:第三實施例） 此外，對於上述的各實施例，最好使可移動構件8的 厚度t大於可移動構件8之腳支撐構件8 C的步階量然而 ，例如如圖1 、12或14所示。這裡，例如設定 μ m IL h = 2μιη。以此安排，可以釋放當可移動構件8被 侈位時，被集中在可移動構件8的腳支撐構件8 C之步階 部份上的應力集中，因此改善可移動構件8的腳部份之持 久性。 本纸张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297么、釐） I I I I I I____!^w— I ___ C請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ------B7____ 五、發明說明@6 ) 而且5圖1 6是一放大剖面圖，其指出依據表示於圖 1 2之頭構造的可移動構件之腳部份的周圍。圖丨7指出 圖16所示的變化例子。 如圖1 6所表示，上述各實施例之可移動構件8的高 度位置被偏離一步階至液體供給埠5側，相對於固定構件 9與可移動構件8的腳支撐構件8 C之間的固定部份：然 而相反地，可採用一模式，其中此高度被偏移至熱產生元 件（未示）側，如圖1 7所示。在此模式中，亦可以改善 可移動構件8的腳部份之持久性，藉著使可移動構件8的 學度t大於可移動構件8的腳支撐構件8 C之步階量h。 (第四實施例） 此外，如圖2所示，藉著例如安排液體流動路徑3側 1二之液體供給埠5的開口邊緣與液體供給埠5側上的可移 動構件8之間的間隙α ，及寬度方向上可移動構件8的重 疊寬度W3 ，其液體流動路徑3側上之液體供給埠5的開 口邊緣重疊，成爲W 3 > α之關係，可以提升上述各實施 例之排出效率。這裡，例如使間隙α爲2 μ m ’且前述重疊 寬度W 3設定爲3 μ m。

在此方面，連同圖18A、18B、19A、19B ，將敘述在前述關係爲W 3 > α及W 3 $ ^之情形中於泡 沫啓始時之液體流動：圖18Α、 18Β、 19Α、 1 9 Β爲剖面圖，其指出通過液體供給埠之流動路徑。首 先，在圖1 8 Α所示的W 3 > α之關係中，由箭頭Α所不 本紙汴尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------I %___ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· _ ·»· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 Α7 Β7 五、發明說明（37 ) •___I______I 甘又.1 I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) @流動被產生在可移動構件8的側面上，當可移動構件8 被圖1 8 B所示的泡沫啓始所施加的壓力向上移位。而且 ’由箭頭B所示的流動被產生在液體供給埠5的開口邊緣 與可移動構件8之間的間隙中。此時，由於由箭頭B所示 的流動夠大，能以由箭頭B所示的流動來抑制由箭頭A所 示的流動。以此方式，液體流動p至液體供給埠5側可被 充分地抑制，因此更加提升排出效率。 #. 另一方面，在圖1 9 A所示的W 3 ^ α之關係中，當 可移動構件8被圖1 9 Β所示泡沫啓始施加的壓力向上移 位時’由箭頭A ’所示的流動產生在可移動構件8的側面 上’而且由箭頭B ’所示的流動產生在液體供給埠的開口 邊緣與可移動構件8之間的間隙中。此時，由於由箭頭B ’所示的流動不夠大，由箭頭B ’所示的流動無法抑制由 箭頭A’所示的流動，如同W3>a之情形。結果，液體 流動P ’至液體供給埠5側變成比W 3 > α之情形大： 經濟郎智慧財產局員工消費合作社印製 所以，如果關係爲如上所述之W3 > α，從液體流動 路徑3至液體供給埠5側之流動阻力變成大於前述關係爲 W3 $ α之情形，因此在泡沫成長之泡沫啓始時，可以有 效地抑制從液體流動路徑3至液體供給埠5之流動：而且 ，可以有效地抑制從液體流動路徑3至液體供給埠5，經 過液體供給埠5的周圍與可移動構件8之間的間隙之流動 。結果，液體供給埠5可被可移動構件8可靠且快速地遮 蔽。由於這些事件的發生，可更提升排出效率。 本紙涔灵度適用中國國家標準（CNSM4規格（210 x 297公釐） 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明@8 ) (第五實施例） 此外，對於上述各實施例，最好如圖3所示，例如安 排向著排出埠7之方向上的可移動構件8之重疊寬度W 4 ’其與液體流動路徑3側上的液體供給埠5之開口邊緣重 疊’及可移動構件8的寬度方向上之重疊寬度W 3成爲 W 3 > W 4。這裡，例如使 W 3 = 3 μ m 且 W 4 二 2 μ m。 以上述安排的關係，當被泡沫啓始向上移位至液體供 給埠5之可移動構件8，開始被向下移位時，可移動構件 8之自由端的前緣與液體供給埠6的開口邊緣之間的接觸 寬度變小。然後，其間所產生的摩擦力亦減小，使得從可 移動構件的自由端側，液體供給埠被事先釋放=以此方式 ，液體供給埠被可移動構件可靠且快速地釋放：結杲，更 有效地執行再塡充以更穩定排出特性。 而且，圖2 0是一剖面圖，其指出本實施例之改變例 ，取自液體排出頭的液體流動路徑之方向。圖2 1是一剖 而圖，取自沿著圖20中的線21-21 ，其從排出埠之 中央移位至在點Y 1的天花板2側。這裡，圖2 0中的2 - 2線性剖面是與圖2相同。 圖2 0與圖2 1所示之液體排出頭爲第一實施例的一 郃份液體排出頭被修改。如圖2 0所示，並非第一實施例 ，壁面部份5 B，其與排出埠7側可移動構件8之前緣設 有一特定間隙，被做爲一部份的供給單元形成構件5 A : 以此方式，液體流動路徑3上之液體供給埠5的開口邊緣 ，與液體供給埠5側上之可移動構件8的自由端8 B的面 本紙錶尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格mo X 297公釐） ---------ft--------訂--------0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 A7 --—B7 五、發明說明（39 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨間之間隙α，被明顯地由壁面部份5 B覆蓋，當從排出埠 7向著可移動構件8來看。所以，在泡沫啓始時，可以有 效地抑制從液體流動路徑3至液體供給埠5之流動，其是 與排出方向相反。於是，排出效率被進一步提升。然後， 在此構造例子中，亦可以藉可移動構件8可靠且快速地釋 放液體供給埠，如果如圖2 1所示，排出埠7方向上之可 移動構件8的重疊寬度W 4，其與液體流動路徑3側上之 液體供給埠5的開口邊緣重疊，及寬度方向上的可移動構 件8之重疊寬度W 3 ，被安排於W 3 > W 4之關係：以此 方式，再塡充被更有效率地執行至液體流動路徑3，以更 簡定排出特性。 (第六貫施例） 圖2 2 Α至2 2 D是圖形，其指出依據本發明之第六 實施例的液體排出頭= 對於圖2 2 A至2 2 D所示的液體排出頭，元件基卞5 1與天花板2被結合，且於兩板1與2之間形成流動路徑 3 ，其一端與排出埠7相通。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 擺設液體供給埠5用於液體流動路徑3 ，且共同的液 體供給室6是與液體供給埠5相通。 於液體供給埠5與液體流動路徑3之間，擺設可移動 構件8與液體供給埠5之開口區域平行，具有一小間隙α (例如1 Ο μ m或更小）：可移動構件8被至少自由端部份 及兩側包圍之區域，大於面向液體流動路徑之液體流動路 本紙涔尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210^ 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ______ B7 五、發明說明（40 ) 涇的開口區域S，且小間隙/3擺設於液體流動路徑的側面 與可移動構件8的側部份之間。以此方式，可移動構件8 可移動於液體流動路徑3而沒有摩擦阻力，其移位至開口 區域側被調整在開口區域S的周圍上，因此主要關閉液體 供給埠5 ，以避免液流從液體流動路徑3流至共同的液體 供給室6。而且，依據本實施例，可移動構件8被定位成 面元件基板1。然後，可移動構件8的一端被安排成自由 端，可被移位至元件基板1之熱產生元件4側，且另一端 被支撐構件9 B所支撐。 而且，如同第四實施例中，最好安排液體流動路徑3 上之液體供給埠5的開口邊緣與液體供給埠5側上之可 移動構件8的表面之間的間隙α，及寬度方向上可移動構 吁8的重疊寬度Wb ，其與液體流動路徑3側上之液體供 給埠5的開·口邊緣重疊，成爲Wb > α之關係，以提升排 出效率。 此外，如同第五實施例中，最好安排排出埠了方向上 可移動構件8的重疊寬度W a ，其與液體流動路徑3側上 之液體供給埠5的開口邊緣重疊，及其寬度方向上可移動 溝件8的重疊寬度w b ，成爲W b > W a之關係，以穩定 俳出特性。 (第七實施例） 現在將敘述使闬於頭之基板，最好採用各上述方法， 及用於製造液體排出頭之方法。 本紙语尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -I I I I _____I I I ^ --- \ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) . 522096 A7 __B7____ 五、發明說明（41 ) 依據應執行的功能，對於元件基板1或天花板2，提 供驅動上述液體排出頭之熱產生元件4及控制其驅動之電 路及元件◦而且由於對於電路及元件，以矽材料做成元件 基板1及天花板2，可以藉著使用半導體晶圓處理技術而 容易且精確地形成。 現在以下將敘述藉由使用半導體晶圓處理技術而做成 的元件基板1之構造- 圖2 3是一剖面圖，其指出使用於各上述實施例之元 (牛基板1。對於圖2 3所示的元件基板1 ，在矽基板 2〇1之表面上，疊置一熱氧化膜2 0 2 ，作爲熱累積層 ，及一中間層膜2 0 3 ，其作用爲一熱累積層。對於中間 層膜2 0 3 ，使用S i〇2膜或S i 3 N .1膜。然後’部份 地在中間層膜2 0 3的表面上’形成一電阻層2 0 4 :在 電阻層204上，部份地形成電線205。作爲電線罾 2〇5 ，採用A1或Al— Si 、A1— Cu或其它A1 合金電線。在電線2 0 5、電阻層2 0 4及中間警獏 2〇3之表面上，以31〇2膜或313~_1膜形《保護獏 2 0 6。在對應電阻層2 0 4及其周圍的保護膜2 0 6之 表面上，形成一抗孔蝕膜2 0 7以保護保護膜2 0 6免於 在加熱電阻層2 0 4之後的化學及物理震動。電阻看 204之表面上的區域，沒有形成電線205 ’被擺設成 爲熱活性部份2 0 8 ，其上可作用電阻層2 0 4之加熱。 元件撻板1上的膜被形成在矽基板2 0 1之表面上’ 籍著使用半導體製造技術。然後，熱活性部份2 0 8被提 本纸分尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------I %,___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2 4是一剖面圖，其指出藉垂直切割表示於圖2 3 中之元件基板1之主要部份的元件基板1。

如圖2 4所示，在是p導體之矽基板2 0 1的表面層 上’局部地提供N型井區域4 2 2及P型井區域4 2 3。 然後’藉由使用一般MOS處理，P— MOS 4 2 〇藉雜 質之離子植入及分散而提供給N型井區域4 2 2，且Μ 一 M〇S 4 2 1被提供給Ρ型井區域4 2 3。Ρ -Μ 〇 S 4 2 0包含源區4 2 5及汲區4 2 6 ，藉由導入X 型或Ρ型雜質局部地在Ν型井區域4 2 2的表面層上而做 戍’且閘電線4 3 5被沈積在Ν型井區域4 2 2之表面上 ，除了源域4 2 5與汲區域4 2 6之外，經過形成以數百 涘之厚度形成的絕緣膜428。而且Ν — MOS42 1包 含源區4 2 5及汲區4 2 6 ，藉由導入Ν型或Ρ型雜質局 部地在Ρ型井區域4 2 3之表面層上而做成，且閘電線 4 3 5沈積Ρ型井區域4 2 3之表面上，除了源區』2 3 與汲區4 2 6之外，經過以數百埃之厚度形成的閘絕緣_ 428 。閘電線435是以4〇〇0埃至5〇〇〇埃之攀 嗖藉使用CVD方法而藉多晶沈積而做成。然後’ c 一 VI〇S邏輯是藉Ρ — Μ〇S 4 2〇與Ν — Μ〇S 4 2 1而 做成。 與Ν — M〇S 4 2 1不同之Ρ型井區域4 2 3的部份 ，被設有Ν - Μ〇S電晶體4 3 0 ，用於驅動電熱轉換元 件之使用。Ν - Μ〇S電晶體4 3 0亦包含源區4 3 2及 本紙分尺度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（2ΐ〇χ 297公釐） i _________· 又 ί I mmmmme tmt f I n 一 口V f n n flu i ϋ n —i ϋ ϋ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522096 A7 B7 五、發明說明（43 ) '汲區4 3 1 ’其被局部設在p型井區域4 2 3之表面層上 ’藉著雜質植入及擴散處理等等，及被沈積在p型井區域 4 2 3之表面部份上之閘電線4 3 3，除了通過閘絕緣膜 4 2 8的源區4 3 2與汲區4 3 1之外。 依據本實施例，N - Μ〇S電晶體4 3 0被使用作爲 明於驅動電熱轉換元件的使用之電晶體。然而，電晶體並 不需限定爲此種，只要電晶體能夠各別地驅動許多電熱轉 換元件，而且能夠得到如上所述的細微構造。 介於各元件之間，例如Ρ — Μ〇S 4 2 0與X — Μ〇S 4 2 1之間或Ν — Μ〇S 4 2 1與1\’一 Μ〇S 4 3 0之間，藉由場氧化而形成厚度爲5 0 0 〇埃 及1 0 0 0 0埃之氧化物膜分離區域4 2 4。然後·藉著 設有此氧化物膜分離區域424，元件分別彼此分難：氧 化物膜分離區域4 2 4對應熱活性部份2 0 8的部份，被 做成功能爲熱累積層4 3 4，其是第一層，當從矽基板 2〇1之表面側來看。 在 P— M〇S42〇、N — MOS42 1 及 X — Μ〇S 4 3 0元件之各表面上，藉C V D方法形成3 P S G膜、B P S G膜等等做成之厚度爲7 0 0 0埃的中 間層絕緣膜4 3 6。在藉加熱處理使中間層絕緣膜4 3 6 平滑化之後，使用藉由中間層絕緣膜4 3 6與閘絕緣膜 4 2 8之接觸通孔成爲第一電線之Α 1電極4 3 了來擺設 電線。在中間層絕緣膜436與A 1電極437的表面上 ，藉由電漿CVD方法形成Si〇2的中間層絕緣膜4 3 8 本紙依又度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） ----------I % ___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 ____Έ.--- 五、發明說明（44 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ’厚度爲1 0 0 0 0埃至1 5 0 0 0埃。在中間層絕緣膜 4 3 8的表面對應熱活性部份2 0 8與Ν - Μ〇S電晶體 4 3 〇之部份上，藉由D C濺射方法以τ a Ν 〇 . 8 · h ν X形 吹電阻層204，厚度約爲1000埃。在汲區43 1附 近’藉由形成在中間層絕緣膜4 3 8上的通孔，電阻層 2 〇 4是與A 1電極4 3 7電氣地連接。在電阻層2〇4 的袠面上，形成A 1電線2 0 5以成爲各電熱轉換元件之 ^二電線。 電線2 0 5 、電阻層2 0 4與中間層絕緣膜4 3 8之 庚面上的保護膜2 0 6 ，是藉電漿CVD方法以S i 3N; 漠做成，厚度爲1 0 0 0 0埃。沈積在保護膜2 0 6之表 部」：的抗孔蝕膜是藉由至少一或多非晶合金之薄膜做成， $度約爲2500埃，選自Ta (鉅）、Fe (鐵）、 X 1 (鎳）、（：r (鉻）、G e (鍺）、R u (釕」等等 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 現在，參見圖25A至25D、圖26A至26C及 叫2 7A至2 7 C，將敘述製造如圖1至3所示在元件基 以1上之可移動構件8、流動路徑側壁1 0、液體供給埠 5之方法的一個例子：在此方面，圖2 5 A至2 5 D、圖 2 6 A至2 6 C及圖2 7 A至2 7 C是剖面圖，取自與形 咴在元件基板上的液體流動路徑的方向正交之方向： 首先，在圖2 5 A中，藉濺射方法在熱產生元件4側 的元件基板1之表面上形成A 1膜，厚度約爲2μηι。藉 S知光石印方法成型所形成的A 1膜，以在對應各熱產生 本紙K度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（45 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 元件2之位置中形成許多a丨膜圖案。各a 1膜圖案2 5 延伸出現至蝕刻S i N膜2 6之區域，其是材料膜以在敘 述於後的圖2 5 C之步驟中形成一部份的固定構件9及流 動路徑側壁1〇。 A 1 fe圖案2 5作用爲鈾刻停止層，當藉由使用欽述 於後的乾蝕刻而形成液體流動路徑3時。此擺設是需要的 ’因爲薄膜例如T a ，其作爲元件基板1上之抗孔蝕膜 2 0 7 ’及S 1 N膜’其作爲抗蝕元件上之保護層，容易 藉著用於形成液體流動路徑3之蝕刻氣體而被鈾刻：A 1 丨丨吳圖案2 5避免這些層或膜被蝕刻。所以，欲不允許當液 體流動路徑3被乾蝕刻時，熱產生元件4上的元件基忮1 表面被暴露，在與液體流動路徑3之流動路徑方向正交 的方向上’各A 1膜圖案2 5之寬度被做成大於最後形晈 的液體流動路徑之寬度： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，在乾蝕刻時，藉C F ;、C x F γ、S F :氣體之 分解而產生離子籽晶及原子團，且元件基板1上的熱產生 元件4及功能元件在某些情形會受損。然而，a 1摸圖案 2 5接收此離子籽晶及原子團，以保護元件基板1上的熱 產生元件及功能元件免於受損。 然後，在圖2 5 B中，在A 1膜圖案2 5側上的元件 板1之表面及A 1膜圖案25之表面上，s 1 X膜26 ，其作爲材料膜以形成一部份的流動路徑側壁1 0，藉使 用II漿CVD方法被形成，厚度約爲2 〇 . 〇μ1Ώ，以覆蓋 Α丨膜圖案2 5。 本纸详尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A7 _ B7 五、發明說明（46 ) 然後，在圖2 5 C中’在A丨膜形成在S 1 N膜2 6 的整個表面上之後，所形成的A 1膜藉使用習知方法例如 光石印被成型，以在S 1 N膜2 6的表面上形成a丨膜（ 未示），除了形成液體流動路徑3的部份之外。然後， s 1 N[膜2 6使用介電耦合電漿藉蝕刻裝置被蝕刻，以形 或一部份的流動路徑側_ 1 〇。對於蝕刻裝置，使用C F 1 、〇2、S F 6之混合氣體以作爲蝕刻停止層之A 1膜圖案 2 5用於蝕刻S 1 N膜2 6。 然後，在圖2 5 D中，藉使用濺射方法，在S 1 X膜 2 6之表面上形成A 1膜2 7，厚度爲2 0 · Ο μ m，以 A 1埋藏藉蝕刻S 1 N膜2 6而產生的孔，作爲在預處理 步驟中形成液體流動路徑3之部份。 現在，圖2 6A中，圖2 5D所示的基板1上之 S iN膜26與A1膜27之表面，藉由CMP U匕學機 喊拋光）被平坦地拋光= 然後，圖2 6 B中，藉由C Μ P被拋光的S 1 X獏 2 6與A 1膜2 7之表面上，藉濺射方法形成A 1獏2 8 ，厚度爲2 · Ομηι。隨後，所形成的A 1膜28藉習知光 fi印方法被成型。A 1膜2 8的圖案被延伸至S 1 X獏被 齡[刻的區域，其成爲在敘述於後的圖2 6 C之處理步驟中 弔於形成可移動構件8的材料膜。如將敘述於後，A 1膜 2 8作用爲蝕刻停止層，當藉由乾飩刻形成可移動構件8 時。換句話說，成爲一部份液體流動路徑3之S 1 N膜 2 6免於被形成可移動構件8所使用的蝕刻氣體蝕刻。 本紙分尺度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公楚） ·-变 訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印$衣 522096 A7 ----------B7_ 五、發明說明（47 ) 然後，在圖2 6 C中，使用電漿C V D方法，在A 1 膜2 8之表面上形成S i N膜，厚度約爲3 · 0 μ m，其成 爲用於形成可移動構件8之材料膜。所形成的S 1 N膜使 _介電耦合電漿藉蝕刻裝置被乾蝕刻，使得S 1 N膜2 9 完整的保持在對應成爲一部份的液體流動路徑3之A 1膜 2 8的位置。藉由此裝置之蝕刻方法是與圖2 5 C中採用 的處理步驟相同。此S 1 N膜2 9最後成爲可移動構件8 所以，在與液體流動路徑3的流動路徑方向正交的方向 i: Z S 1 N膜2 9圖案的寬度，小於最後形成的液體流動 路徑3之寬度。 然後’在圖2 7 A中，使用濺射方法，成爲材料獏以 和成間隙形成構件3 0之A 1膜，被形成在a 1膜2 8的 犮面上，厚度爲3 · 0 μ m，以覆蓋S 1 N膜2 9 :在預處 邱驟中形成用於A 1 3吴2 8之A 1膜藉使用習知的夺石 印處理被成型，於是形成間隙形成構件3 〇於S : X獲 2 9的表面及側面上，以形成間隙α於液體供給埠5舆可 侈_構件8的上面之間，間隙/S於圖2所示的液體路響側 哦]0與可移動構件8的兩側之間。 然後，在圖27B中，於S iN膜26上，藉以X表 1所給的材料而形成的負型光感環氧樹脂，被旋轉塗覆在 浈述基板上，其包含由A 1膜形成厚度爲3 〇 · 〇μηι之間 隙肜成構件30。這裡，藉由前述旋轉塗覆處理，可以平 :竹地塗覆環氧樹脂，其成爲上面接合天花板2的一部份流 勒路徑側壁1 0。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -Fin - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ^-Γ.σ，* „ 522096

五、發明說明（48 ) Μ 1 ^----- SU-8-5CK 由 Microchemical 公司製造） 度 50μηι 90 °C ;5分鐘；熱板 曼農^置 MPA600(佳能微投影對準器） 量 2[J/cm2] PEB 9 0 °C ; 5分鐘；熱板 顯影劑 丙二醇1-單甲醚乙酸酯（由Kishida Kagaku 製造） 焙 200 t ;1小時 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 繼續，如上表1所示，使用熱板’環氧樹脂3 1在 9 〇 t之條件下被預烘焙5分鐘。隨後’使用暴光裝置（ 洼能：Μ P A 6〇0 )，環氧樹脂3 1以2 〔 J / c m 2 之暴光量被暴光成一特定圖案°負型環氧樹脂的暴光部份 被硬化，而沒有被暴光的部份沒有被硬化3於是，在前述 暴光步驟中，只有成爲液體供給埠δ以外的部份被暴光： 然後，使用前述顯影劑，形成成爲液體供給埠5之孔部份 。隨後，在2 0 0 °C之條件下正常烘焙1小時。成爲液體 供給埠5的孔部份之開口的區域小於成爲可移動構件8的 S ! N膜2 9之區域。 最後，在圖2 7 C中，使用乙酸、磷酸、硝酸之混合 酸，A 1膜2 5、2 7、2 8、3 0被熱蝕刻以移除。然 $1^張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐1 522096 Α7 ____ Β7 五、發明說明（49 ) 後’液體供給埠5、可移動構件8、固定構件9、流動路 徑側壁1 〇被製造於基板1上。這裡，無增益非晶合金採 闬於設有熱產生元件（泡沫產生機構）4之元件基板1的 最上表面層。所以，當以前述混合酸執行熱蝕刻時，可避 免下層上的電線層被出現在薄膜上或經過其晶粒邊界區域 的銷孔腐蝕。 如前面已敘述，設有大容量的共同的液體供給室6之 天花板2，其與各液體供給埠5相通，被接合至具有可移 動構件8、流動路徑側壁1 0、液體供給埠5之元件基板 1 ，因此製造圖1至圖3所示的液體排出頭。 f第八實施例） 對於上述第七實施例之製造方法，已敘述製造步驟， 弔於提供元件基板1之可移動構件8、流動路徑側壁1 〇 、液體供給埠5。然而，方法並不限於此。可以採弔一方 .去，其中具有可移動構件8與液體供給埠5之天花杈2被 接合至具有流動路徑側壁10之元件基板1。 以F，現在參見圖2 8 A至2 8 D、圖1 9 A、

2 9 B 、3 0 ，將敘述此製造方法的一個例子。圖2 8 A 节2 8 D及圖2 9A與2 9 B是剖面圖，指出處理步驟' 取自與形成在元件基板上的液體流動路徑正交的方向上： 趨3 0足一剖面圖，其指出使用圖2 8A至圖2 9 B所示 的步驟製造之天花板的液體排出頭之構造。而且’敘述中 對於與出現在第一實施例中相同的構成，使用相同的參考 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------t___ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -52 - 522096 A7 B7 五、發明說明（5〇 ) 符號。首先，在圖28A中，氧化物膜（Si〇2) 35被形 成在天花板2的-面上，其是以3,材料做成厚度約 1 . 〇_。然後’所形成的Sl0,35藉使用習知的 印方法被成型，以移除在圖3 〇所示形成液體供給堤 5的對應位置上之s 1〇2膜。 然後，在圖2 8 B中，天花板2的1上之s i 3 5的部份，此膜被移除，且其周圍被A丨膜所形吱「享度 約3 . 〇卩爪之間隙形成構件3 6覆蓋=間隙形咬_泮^\ 培用於形成液體供給埠5與可移動構件8間的間隙呵需要 件 構 動 移 可 1 成 SB 在於 ’ 闬 中 是 C ’ 8 上 2 面 圖表 在個 ’ 整 後的 然 6 3 /h丨 〇 膜 構 1τ< 形 ¾ 間 與 5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

膜 N 漿 電 用 使 藉 之

S 學 成 形 被 法 方 D 件 構 成 形 隙 間 蓋 覆 以 m 後股 然.\ * n n »ϋ I n I I—^-r°J« 〇〇 ·»· <· a.... I 瞧 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 JI:r! 多 MH IE5 ¾一J!l: 〇/ ¾HP 6 法 作 ί 方以板 印，花 石後天 光隨.i 的 : S 知 8 於 習件對 用構 ， 吏 動 牛 /—- 33 — 藉移構 ， 可成 D 成形 8 形隙 2 以間 圖 7 述 ， 3 前 .作酸動 , 硝移 後、可 隨酸露 : 磷成 室、在 給酸 ， 供乙中 體吊型 液使成 的藉述 同 ， 前 共膜在 成 .__-形 A 除 以之移 ’ 6 以 刻 3 刻 蝕件飩 透構熱 穿成被 ir形酸 執隙人|1 ;問:Μα·ι: ίίΛ Π yl 的之的 8 後 件 7//: Ώ fl, S 2 中 與爲驟 a 定步 7 設的 3 被示 份 Θ 所 部隙 A 動間 9 移的 2 支f 勺 々， 逢 白 匕 ：板 上&狹大” UuJ 一三口膜⑺成 件 構 % 將 在 適 度尸、 ¾ I紙 I本

Jt 129 X 10 2 I格 規 -4 )A S N (C 準 標 國 國 -53 - 522096 A7 __B7__ 五、發明說明（51 ) Η:從表面穿透至S i N膜3 7上的可移動部份3 7 a之背 側，各最好是1 μ m或更小的寬度，以形成對應可移動構件 8之液體供給埠5。然後，可移動部份3 7 a的突出區域 .尺於成爲液體供給埠的部份之開口區域（S 1〇2膜3 5之 移除區域）。 然後，在圖29A中，S i〇2膜35被移除之S 1天 花板2的一面之部份，被各向異性濕蝕刻，經過可移動部 份3 7 a的狹縫，於是形成液體供給埠5。 最後，在圖2 9 B中，藉使用L P C V D方法，在目 前步驟所產生的部份上，形成S i N膜3 8，厚度約 〇· 5 μ m。以S 1 N膜3 8 ，埋藏在可移動構件8上打開 的狹縫3 7 c。此時，各狹縫3 7 c之間隙被設定爲1 μ m 或更小’使得狹縫3 7 c被埋藏，但可移動部份3 7 a與 支撐部份3 7 b之間的間隙/3被設爲2μηι或更大：結果. 間隙/3無法被S 1 Ν膜3 8埋藏。而且由前述L P C Υ D Λ 形成的S i N i吴錯各向異性触刻以及砂天花板之穿透 蝕刻，被塗覆在所形成的矽側壁上，於是避被墨水腐蝕： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) #· 對於設有擺設在天花板2側上的液體供給埠5與可移 動構件8之構件，進一步提供大容量的共同的液體供給室 6 ，其與各液體供給埠5相通。然後，此構造被接合至具 冇液體流動路徑之元件基板1 ，其形成一端與各排出埠7 相迎的各液體流動路徑3 ，因此製造圖3 0所示的液體排 Ηί如ϋ此模式的液體排出頭亦司展現與圖1至3所示的構 造之液體排出頭相同的效果。 本纸》尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 Α7 Β7 五、發明說明（52 ) (其它實施例） 下文中’將敘述最適於使用本發明之液體排出之原理 的頭之許多實施例。 (側射型） 圖3 1是一剖面圖，其指出所謂側射型之液體排岀頭 爲了敘述’相同的參考符號應用於出現在第一實施例中 <相同構成。此模式的液體排出頭不同於第一及其它實施 ⑼J所示’如圖3 1所示，熱產生元件4及排出埠7被擺設 %在平行的平面上彼此相向，且液體流動路徑3是與和液 體排出之軸方向成直角的排出埠7相通。此種液體排出頭 &吋展現根據第--及其它實施例所述的相同排出原理之效 果。而且，依據第七與第八實施例所述之製造方法可容易 地應用。 I -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) !· 訂-- 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 ("ί移動構件） 對於上述各實施例，形成可移動構件之材料要 U要它不會溶解且具有彈性可便利良好情況的可移 之操作。 作爲可移動構件之材料，最好使用高持久性金 /川銀、鎳、金、鐵、鈦、鋁、鉑、鋁、不銹鋼、磷 认η金；或腈基樹脂，例如丙烯腈，丁二烯，苯乙 胺站樹脂，例如聚醯胺；羧基樹脂，例如聚碳酸酯 動搆件 屬，例 青銅及 烯：醯 :醛基 十、氏度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210χ 297公爱 522096 A7

五、發明說明（53 ) n ϋ n ϋ ·ϋ >ϋ H ϋ It I W ^ n I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) W S曰例如聚縮醒；硕基樹脂，例如聚砸；及液晶聚合物 或其它樹脂及其化合物；高墨電阻金屬，例如金，鎢，鉅 ，鎳5不銹鋼，鈦；及其合金，具有其中一之塗覆在表面 ’或例如聚醯胺之醯胺基樹脂，醛基樹脂，例如聚縮醛， 酮基樹脂’例如聚醚醚酮’醯亞胺基樹脂，例如聚醯亞胺 ’ ®基，例如酚樹脂，乙基樹脂，例如聚乙烯，烷基樹脂 ’例如聚丙烯’環氧基樹脂，例如環氧樹脂，胺基樹脂， 例如蜜胺樹脂，甲醇基樹脂，例如二甲苯樹脂，及其化合 物；此外，二氧化矽、矽氮化物等等做成之陶瓷，及其化 合物。這裡本發明之可移動構件的目標厚度爲μ ηΊ級。 現在將敘述熱產生元件與可移動構件之間的擺設關係 •以熱產生元件與可移動構件之最佳擺設，可以適當地控 制並利用液體流動，當使弔熱產生元件而作用泡沬： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對於所謂泡沬噴射記錄方法之習知技術，亦即噴墨記 錄方法以施加熱或其它能量至墨水而產生狀態的改變，其 伴隨突然的體積改變（產生泡沬），然後使用根據此狀態 改變的作用力，墨水從排出埠被排出至記錄媒體，以藉由 所排出的墨水之附著而形成影像，熱產生元件的區域與墨 水的排出量保持正比關係，如圖3 2之斜線所不：然而， 4瞭解存在區域S，其沒有產生泡沫，其不會有助於排出 墨水。而且從熱產生元件上的燃燒情況’其中沒有作用泡 沫之此區域S存在於熱產生元件的周圍上。以這些結果， 假設寬度約爲4 μ m之熱奎生元件的周圍不會參與產生泡沬 〃另一方面，對於本發明之液體排出頭’包括泡沬產生機 ^纸5f尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（54 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 構之液體流動路徑主要被排出埠以外的部份覆蓋，使得最 大的排出量被調整。所以，如圖3 2之實線所示，有區域 即使當對於熱產生元件的區域及泡沫動力之波動很大不會 ο11起排出量改變。使用此區域，可以穩定排出量。 (元件基板） 以下將敘述設有用於給熱至液體的熱產生元件之元件 基板1的構造。 圖3 3 A與3 3 B是側剖面圖，其指出依據本發明之 液體排出設備的主要部份。圖3 3 A指出一頭，具有將敘 述於後的保護膜。圖3 3 B指出沒有保護膜的頭。 在元件基板1上，擺設天花板2，且在元件基板1與 天花板2之間形成液體流動路徑3。 對於元件基板1 ，矽氧化物膜或矽氮化物膜1 0 6在 矽基體1 0 7上形成，爲了絕緣及熱累積。在此膜上·成 兜如圖3 3 A所示，構成熱產生元件1 0之由硼化給（ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Η ί B 2 )、氮化鉅（T a Ν )、鋁化鉅（T a A 1 )做成 的電阻層105 (厚度爲0 · 0 1至0 · 2μηι)，及鋁做 成的電線電極（厚度爲〇 · 2至1 · 0 μ m )。電壓被施加 ft!阻層1 〇 5經過電線電極1 0 4以使電流流經電阻層 ].〇 5以產生熱。在電線電極1 〇 4之間的電阻層1 0 5 卜形成由矽氧化物、矽氮化物做成的保護層1 0 3，厚 度爲〇 · 1至2 . 0 μ m。此外在此層上，形成由鉬做成的 本紙张又度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 A7 B7 五、發明說明（55 ) 抗孔蝕層1 0 2 (厚度爲0 . 1至〇 · 6 μ m )，因此保護 電阻層1 0 5免於墨水或不同的其它液體。 丨气II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在產生泡沬或泡沬消失時會加強壓力與震動波，特別 是會明顯地降低硬且脆的氧化物膜之持久性。欲補償此， 使用例如鉅（T a )之金屬材料作爲抗孔蝕層1 〇 2。 而且’藉結合液體、流動路徑構造與電阻材料，可以 擺設一構造，對於電阻層1 〇 5不需要保護膜1 0 3 :此 溝造的例子表示於圖3 3 B。可引用銥-鉅-鋁之合金作 爲電阻層1 0 5之材料，其不需要保護膜1 〇 3。 如上所述，可以只擺設電阻層1 〇 5 (熱產生部份） 於電極1 0 4之間，以形熱產生元件4之構造。這裡，亦 可以擺設構造，使得包括保護膜1 〇 3以保護電阻層 10 5。 -痛· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對於各實施例，構造擺設有由電阻層1 0 5形成的熱 產生部份，其產生熱如同依據電信號之熱產生元件4，但 熱產生元件並不限於此：可採用任何熱產生元件，只要如 果它能在泡沬液體中充分地產生泡沫以排出液體。例如， 此元件可以是光熱轉換元件，其當接收雷射或其它光時會 產生熱，或者是構件，其設有當接收高頻時會產生熱之熱 產生部份。 在此方面，於前述元件基板1上，功能裝置例如電晶 體、二極體、閃鎖、移位暫存器及其它，其爲驅動熱產生 元件4 (電熱轉換元件）所需，可使用半導體製造方法被 集積地倂入，除了構成熱產生部份之電阻層1 〇 5之外， 本紙0尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明怀） 藉由電線電極1 〇 4形成各熱產生元件4以供給電信號至 電阻層1〇5 。 而且’欲藉著驅動安裝在前述元件基板1上的各熱產 生元件4之熱產生部份以排出液體，如圖3 4所示的矩形 脈衝被施加至電阻層1 〇 5經過電線電極1 〇 4，以使電 線電極1 0 4之間的電阻層1 0 5能被突然地加熱。對於 先前所述的各實施例之頭，藉施在6 k Η z之電信號而驅 動熱產生元件，電信號各具有1 5 m Α之電流7 μ s e c脈 寬及2 4 V的電壓。以上述操作，是液體的墨水從各排出 埠7被排出。然而，驅動信號之情況並不限於此，亦可採 弔任何驅動信號，只要泡沬液體可以適當地產生泡沬。 (排出液體） 先前所述的液體之中，可使用具有與習知泡沬噴射裝 置相同成份的墨水作爲可用於記錄之液體（記錄液體）： 然而，作爲排出液體之特性，最好使用不會阻礙排出 、泡沫化或可移動構件本身的操作。 作爲用於記錄之排出液體，亦可使用高黏度墨水： 此外，對於本發明，使用以下組成的墨水作爲可採弔 爲排出液體之記錄液體：然而，使用會使墨排出速度加快 之強化的排出動力，可改善液滴之移位精確性’以得到非 常細品質的記錄影像：w t % 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） - — — — III — — — I .1 I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 522096 ^-- 、發明說明@7 ) A7 --—一―___ 染料墨黏度2Cp -^====^-------------- (C.I.食物黑2)染料3wt% 二乙二醇 1 0 w t % 氯二醇（chiodiglycc)1)5wt% 乙醇3wt% ^=============-- 水 7 7 w t % (液體排出設備） 經濟部智慧財產局員工消費\ I H ϋ I i H ϋ I n I 0 I I * (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -# 圖3 5是一圖形，指出能夠在其上安裝依據各實施例 ’乙液體排出頭的噴墨記錄設備的一個例子之構造。安裝在 圖3 5所示的噴墨記錄設備6 0 〇上之頭匣6 0 1設有如 上所述的液體排出頭，及含有欲供給至液體排出頭的液體 之液體容器。如圖3 5所示，頭匣6 0 1被安裝在卡匣 6〇7上，其與則螺絲6 0 5之螺旋槽嚙合，前螺絲 6 0 5旋轉經過驅動馬達6 0 2之正常及反向旋轉互鎖的 驅動動力傳動齒輪。頭匣6 0 1藉著連同卡匣6 0 7的驅 動馬達6 0 2之驅動動力，沿著箭頭a與b所示的方向之 導引件6 0 8往伋移動：噴墨記錄設備6 0 0設有記錄媒 體載送機構（未示），用於載送作爲記錄媒體之印刷片P ，其接收從頭匣6 0 1排出之液體例如墨。然後，使弔於 印刷片P被記錄媒體載送機構載送在平板6 0 9上之片壓 板6 1 0 ，被擺設成將印刷片P壓全平板6 0 9 ，在卡匣 6〇7的移動方向上： 光耦合器6 1 1與6 1 2被擺設在前螺絲6 0 5的 .適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明㊁8 ) 端附近。光耦合器6 1 1與6 1 2是機構，用於偵家位置 ’其藉著辨識在光耦合器6 1 1與6 1 2的有效區域中之 卡E 6 0 7的槓桿6 0 7 a之存在而切換驅動馬達6〇2 之旋轉方向。在平板6 0 9的一端附近，支撐構件6 1 3 被擺設用於支撐帽構件6 1 4，其覆蓋具有頭匣6 1 5之 排出埠的前端。而且擺設有吸墨機構6 1 5，當頭匣 6 0 1閒置排出時，其吸收帽構件6 1 4的內部之墨。使 用吸墨機構6 1 5 ，經由帽構件6 1 4之開口部份，執行 頭匣6 0 1之吸收恢復。 對於噴墨記錄設備6 0 0，提供一主體支撐構件 6 1 9。對於此主體支撐構件6 1 9，一可移動構件 6 1 8被可移動地支撐在前與後方向上，亦即與卡匣 6 0 7的移動方向成直角之方向。在可移動構件6 1 8上 ，安裝一淸潔刀6 1 7。淸潔刀6 1 7之模式並不限於此 -可應用其它模式的任何習知淸潔刀。此外，提供槓桿 6 2 0，其當吸墨機構6 1 5操作其吸收恢復時啓始吸收 。槓桿6 2 0沿著與卡匣6 0 7嚙合的凸輪6 2 1之移動 而移動。其移動是由習知的傳動機構控制，例如開關驅動 馬達6 0 2的驅動動大之離合器。對於記錄設備主體側， 圖3 5中未示，提供一噴墨記錄控制器，其處理信號供給 至頭匣6 0 1之熱產生元件，以及前述各機構之驅動控制 對於前述構造的噴墨記錄設備6 0 0，前述記錄媒體 戦送機構載送平板6 〇 9上之印刷片特別是’且頭匣 本紙汝尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇χ 297公釐） — Ml — — — —— — I — — — — — — I— « — — — — — II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 522〇96 A7 ______B7 ____ 五、發明說明鉍） 6 〇 1在印刷片ρ的整個寬度上往復移動。於此往復期間 ’當驅動信號從驅動信號供給機構（未示）被供給至頭® 6 〇 1時，墨（記錄液體）從液體排出頭單元被排出至言己 錄媒體，依據用於記錄之驅動信號。 圖3 6是一方塊圖，其指出藉著使用本發明之液體@ 出設備，用於執行墨噴射之記錄設備的整體。 記錄設備從主電腦3 0 0接收印刷資訊作爲控制信_ 。印刷資料被儲存在印刷設備的內部中之輸入介面3 〇 1 上，同時被轉換成可在記錄設備中處理的資料’於是被@ 入至C P U (中央處理單元）3 0 2，其作用爲頭驅動信 號供給機構。依據儲存在ROM (僅讀記億體）上之控制 程式，C P U 3 0 2使用R A Μ (隨機存取記憶體） 3〇4及其它週邊單元處理由C P U 3 0 2接收的資料* ’ 並將它們轉換成用於印刷之資料（影像資料）； 而且，c P U 3 0 2產生驅動資料，其被使弔於_動 載送記錄片及卡匣6 0 7的驅動馬達6 0 2 ，以與影像胃 料同步，連同安裝其上的頭匣6 0 1移動，以記錄影1象_ 料於記錄片上的適當位置。影像資料及馬達驅動資料被_ 送至頭匣6 0 1及驅動馬達6 0 2 ，分別經過頭驅動器 3 〇 7與馬達驅動器3 0 5。這些分別在控制時間被_ @ 以形成影像。 對於使用於例如墨之液體附著的種類之記錄設備的 錄媒體1 5 0 ，可以使用不同種類的紙及〇HP片；丨吏用 於光碟之塑膠材料；布；例如鋁，銅之金屬材料：例如牛 本纸沒尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） —.--------^ ..— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 Α7 Β7 五、發明說明柙） 皮’豬皮及人造皮之皮革材料；例如木材，合板之木質材 料；竹材料；例如磁碍之陶瓷材料；及例如海綿之三維材 料，作爲物體媒體。 而且，作爲記錄設備，包括：一印刷設備，用於記錄 不同種類的紙，〇Η P片等等；使用於在光碟及其它塑膠 材料上記錄之塑膠材料的記錄設備；使用於在金屬板上記 錄之金屬材料的記錄設備；使用於在皮革上記錄之皮革材 料的記錄設備；使用於在木材上記錄的木材材料之記錄設 備；使用於在陶瓷材料記錄之陶瓷的記錄設備·’及使用於 記錄例如海綿之三維編織構造的記錄設備。而且在包含於 其中的布上記錄的織布印刷設備。 而且，作爲可使用於任意液體排出設備之排出 '液體’ 只要此液體可被使用配合各別的記錄媒體及記錄條件即可 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本反沒尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐）

Claims (1)

1. 522096 A8 B8 C8 ______ 08 六、申請專利範圍 1、 一種用於液體排出頭之液體排出方法，液體排出 頭設有Z 許多排出埠，用於排出液體； 許多液體流動路徑，總是與在一端的各該排出埠相通 ，各具有泡沬產生區域，用於在液體中產生泡沫； 泡沫產生機構，用於產生能量以產生並成長該泡沫； 許多液體供給埠，各設置給各該液體流動路徑，以與 共同的液體供給室相通；及 可移動構件以小間隙被支撐至該液體流動路徑側上的 該液體供給埠，且設有自由端， 至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 ，被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的開口區 域，此方法包含步驟： 設定該可移動構件之周期，以關閉及主要切斷該開口 區域，於從施加驅動電壓至該泡沫產生機構至整個泡沬被 泡沫產生機構之終止成長的期間。 2、 如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中對 於該可移動構件關閉並主要切斷該開口區域之周期，至少 繼續直到整個泡沫被該泡沫產生機構終止成長。 3、 如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中在 該可移動構件關閉並切斷開口區域的周期之後，於該排出 埠側上該泡沫產生機構所產生的泡沫之部份的成長周期， 該可移動構件開始從關閉並切斷該開口區域之位置移位至 該液體流動路徑中之該泡沫產生機構側，並使液體供給可 ·張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規袼(210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -^a - ----- I —1 l ---- I—11 si I J - -- -- is mi 0¾ 、v5. 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 以從該共同的液體供給室至該液體流動路徑。 4、 如申請專利範圍第3項之液體排出方法，其中在 5亥可移動構件開始從關閉並切斷該開口區域之位置被移位 至該液體流動路徑中之該泡沫產生機構側之後，該可移動 構件被進一步移位至該泡沫產生機構，於該可移動構件側 上的該泡沫之部份的縮小周期期間，以從該共同的液體供 給室供給液體至該液體流動路徑。 5、 如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中泡 沫成長的體積改變及該泡沫產生區域上從泡沫產生至消失 的周期，大大不同於在該排出埠側及該液體供給埠側。 6、 如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中該 泡沬產生區域沒有被釋放至空氣外側。 7、 如申請專利範圍第1或5項之液體排出方法，其 中給定在該排出埠側上該泡沬產生區域中成長的泡沫之最 大體積爲V f ，且給定在該液體供給垾側上之該泡沬產生 區域中成長的泡沬之最大體積爲V r ，在全部時間建立 V f > V r之關係。 8、 如申.請專利範圍第1項之液體排出方法，其中給 定在該排出埠側上該泡沬產生區域中成長的泡沬之壽命時 間爲T f ，且給定在該液體供給垾側上該泡沬產生區域中 成長的泡沫之壽命時間爲T r ，在全部時間建立T f > T r之關係。 9、 如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中形 成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐構件 太终張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） —~ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝 訂 經滴部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 設有一步階，以相對於該腳支撐構件的固定位置，偏移該 可移動構件的高度位置一步階，且該可移動構件的厚度大 於該步階之量。 1 0、如申請專利範圍第1項之液體排出方法，其中 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液體 流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙α，與和該 液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方向 上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > a 。 1 1 、如申請專利範圍第1 〇項之液體排出方法，其 中和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該 排出埠方向上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 4，與在 寬度方向之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲 W 3 > W 4。 1 2、一種用於液體排出頭之液體排出方法，液體排 出頭設有： 許多排出痺，用於排出液體； 許多液體流動路徑，總是與在一端的各該排出埠相通 ’各具有泡沫產生區域，用於在液體中產生泡沬： 泡沫產生機構，用於產生能量以產生並成長該泡沬； 許多液體供給埠，各設置給各該液體流動路徑、以與 共同的液體供給室相通；及 可移動構件以小間隙被支撐至該液體流動路徑側上的 該液體供給埠，且設有自由端， 木味張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

   522096 A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 ，被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的開口區 域，此方法包含步驟： 該可移動構件開始從關閉並切斷該開口區域的位置， 被移位至該液體流動路徑中的該泡沫產生機構側，在該可 移動構件關閉並切斷該開口區域的周期之後，於藉該排出 埠側上之該泡沫產生機構產生的泡沫之部份的成長期間， 使液體供給可以從該共同的液體供給室至該液體流動路徑 〇 1 3、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法，其 中在該可移動構件開始從關閉並切斷該開口區域之位置被 移位至該液體流動路徑中之該泡沫產生機構側之後，該可 移動構件被進一步移位至該泡沬產生機構，於該可移動構 件側上的該泡沫之部份的縮小周期期間，以從該共同的液 體供給室供給液體至該液體流動路徑。 1 4、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法’其 中泡沬成長的體積改變及該泡沬產生區域上從泡沬產生至 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 消失的周期，大大不同於在該排出埠側及該液體供給埠_ 〇 1 5、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法’其 中該泡沫產生區域沒有被釋放至空氣外側。 1 6、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法’其 中給定在該排出埠側上該泡沫產生區域中成長的泡沫之最 大體積爲V f ，且給定在該液體供給埠側上之該泡沬產生 本好·張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4現格（210X 297公釐） 522096 A8 B8 C8 D8 _ 六、申請專利範圍 區域中成長的泡沫之最大體積爲v r ，在全部時間建立 V f > V r之關係。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 1 7、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法’其 中給定在該排出埠側上該泡沫產生區域中成長的泡沬之壽 命時間爲T f ，且給定在該液體供給埠側上該泡沫產生區 域中成長的泡沬之壽命時間爲τ r ’在全部時間建立T f > 丁 r之關係。 1 8、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法，其 中形成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐 構件設有一步階’以相對於該腳支撐構件的固定位置，偏 移該可移動構件的高度位置一步階’且該可移動構件的厚 度大於該步階之量。 1 9 、如申請專利範圍第1 2項之液體排出方法，其 中該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液 體流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙α'，與和 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方 向上重疊之該可移動構件的重疊寬度w 3之間的關係爲 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 W 3 > α。 2〇、如申請專利範圍第1 9項之液體排出方法，其 中和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該 排出埠方向上重疊之該可移動搆件的重疊寬度W 4，與在 從度方向之該可移動構件的重疊寬度w 3之間的關係爲 W 3 > W 4。 2 1 、一種液體排出頭包含： 本成張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 許多排出埠，用於排出液體； 許多液體流動路徑，總是與在一端之各該排出埠相通 ，各具有泡沫產生區域，用於產生液體的泡沬； 泡沫產生機構，用於產生能量以產生並成長該泡沫； 許多液體供給埠，各設給各該液體流動路徑，以與共 同的液體供給室相通；及 可移動構件，以1 〇 μ m或更小之小間隙被支撐至該液 體流動路徑側上的該液體供給埠，並設有自由端， 至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 ，被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的開口區 域，且 排出埠與泡沬產生機構是在線性地相通狀態= 2 2、如申請專利範圍第2 1項之液體排出頭，其中 該可移動構件與形成該液體流動路徑之流動路徑壁亦具有 間隙。 2 3、如申請專利範圍第2 1或2 2項之液體排出頭 ，其中對於該泡沫產生機構的最上表面，提供非晶合金做 成的薄膜。 2 4、如申請專利範圍第2 3項之液體排出頭，其中 該非晶合金是選自鉬、鐵、鎳、鉻、鍺、釕的至少一金屬 或更多所做成的合金； 2 5、如申請專利範圍第2 1项之液體排出頭，其中 形成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐構 件設有一步階，以相對於該腳支撐構件的固定位置，徧移 本奸.〔長尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公ϋ " —-------ei — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 ·_線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 ABCD 六、申請專利範圍 該可移動構件的局度位置一步階，且該可移動構件的厚度 大於該步階之量。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 6、如申請專利範圍第2 1項之液體排出頭，其中 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液體 流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙α，與和該 液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方向 上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > a 。 2 7、如申請專利範圍第2 6項之液體排出頭，其中 和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該排 出埠方向上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 4，與在寬 度方向之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 〉W 4。 2 8、一種液體排出設備，包含： 如申請專利範圍第2 1項之液體排出頭；及 記錄媒體載送機構，用於載送接收從該液體排出頭排 出的液體之記錄媒體。 經滴部智慧財產局員工消骨合作社卬製 2 9、如申請專利範圍第2 8項之液體排出設備、其 中從該ί仪體排出頭排出墨，以藉由該墨附著至該記錄媒體 來記錄。 3〇、一種液體排出頭包含： 一排出埠，用於排出液體； --液體流動路徑，總是與在一細·之3亥排出璋相通，具 有泡沬產生區域，用於在液體中產生泡沫； 尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格(210X 297公釐） 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 泡沫產生機構5用於產生能量以產生並成長泡沫； 一液體供給埠，設給該液體流動路徑，以與共同的液 體供給室相通；及 司移動構件，以1 〇 μ m或更小之小間隙被支撑至該液 體流動路徑側上的該液體供給埠，並設有自由端’ 至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 ，被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的開口區 域，且 排出埠與泡沫產生機構是在線性地相通狀態。 3 1 、如申請專利範圍第3 0項之液體排出頭’其中 該可移動構件與形成該液體流動路徑之流動路徑壁亦具有 間隙。 3 2、如申請專利範圍第3 0項之液體排出頭，其中 對於該泡沫產生機構的最上表面，提供非晶合金做成的薄 膜。 3 3、如申請專利範圍第3 1項之液體排出頭，其中 該非晶合金是選自鉅、鐵、鎳、鉻、鍺、釕的至少一金屬 或更多所做成的合金。 3 4、如申請專利範圍第3 0項之液體排出頭，其中 形成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐構 件設有一步階，以相對於該腳支撐構件的固定位置，ί扁移 該可移動構件的高度位置一步階，且該可移動構件的學度 大於該步階之量。 3 5、如申請專利範圍第3 0項之液體排出頭’其中 本奸.¾尺度適用中國國家標準（cns〉Α4規格（2丨0>〔 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本買) 裝- 、ν〆" 線 522096 ABCD 六、申請專利範圍 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液體 流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙α，與和該 液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方向 上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > a 〇 3 6、如申請專利範圍第3 5項之液體排出頭，其中 和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該排 出埠方向上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 4，與在寬 度方向之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > W 4。 3 7、一種液體排出設備，包含： 如申請專利範圍第3 0項之液體排出頭；及 記錄媒體載送機構，用於載送接收從該液體排出頭排 出的液體之記錄媒體： 3 8、如申請專利範圍第3 7項之液體排出設備，其 中從該液體排出頭排出墨，以藉由該墨附著至該記錄媒體 t 來記錄。 3 9、一種液體排出頭包含： 許多排出埠，用於排出液體； 許多液體流動路徑，總是與在一端的各該排出埠相通 ’各具有泡沫產生區域，用於在液體中產生泡沬； 泡沬產生機構，用於產生能量以產生並成長該泡沬； 許多液體供給埠，各設給各該液體流動路徑，以與共 同的液體供給室相通；及 本烀·張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規袼（2iOX 297公ϋ ~" — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本買) •裝· 、1Τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 可移動構件，以小間隙被支撐至該液體流動路徑上的 該液體供給埠，且設有自由端’ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 至少由自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 ，被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的開口區 域，且 具有該可移動構件關閉並主要切斷該開口區域之周期 ，在施加驅動電壓至該泡沬產生機構之後’於藉該排出埠 側上之該泡沫產生機構之整個泡沫的各向異性成長期間’ 且 該可移動構件開始從關閉並切斷該開口區域的位置’ 被移位至該液體流動路徑中的該泡沫產生機構側’在相同 的可移動構件關閉並切斷該開口區域的周期之後’於藉該 排出埠側上之該泡沫產生機構產生的泡沫之部份正被晈長 期間，使液體供給可以從該共同的液體供給室至該液體流 動路徑，其中 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 給定成長於該排出埠側上的該泡沫產生區域的泡沫之 最大體積爲v f ，且給定成長於該液體供給埠側上的該泡 沫產生區域中之泡沬的最大體積爲v r ，在全部時間建立 V f > V r之關係。 4〇、如申請專利朝圍第3 9項之液體排出頭’其中 給定在該排出埠側上該泡沬產生區域中成長的泡沫之壽命 時間爲T f ，且給定在該液體供給埠側上該泡沬產生區域 中成長的泡沬之壽命時間爲τ r ，在全部時間建立T f > T r之關係。 木好尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 1、如申請專利範圍第3 9項之液體排出頭，其中 該泡沬消失的點被定位在該排出埠上，從該泡沬產生區域 之中央部份。 4 2、如申請專利範圍第3 9項之液體排出頭，其中 對於該泡沫產生機構的最上表面，提供非晶合金做成的薄 膜。 4 3、如申請專利範圍第4 2項之液體排出頭，其中 該非晶合金是選自鉬、鐵、鎳、鉻、鍺、釕的至少一金屬 或更多所做成的合金。 4 4、如申請專利範圍第3 9項之液體排出頭，其中 形成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐構 件設有一步階，以相對於該腳支撐構件的固定位置，偏移 該可移動構件的高度位置一步階，且該可移動構件的厚度 大於該步階之量。 4 5、如申請專利範圍第3 9項之液體排出頭，其中 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液 流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙^，與和該 液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方向 上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > a 〇 4 6 、如申請專利範圍第4 5項之液體排出頭，其中 和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該讲 出埠方向上重疊之該可移動構件的重疊寬度胃4 ’與在輿 度方向之該可移動構件的重疊寬度w 3之間的關係爲^ 3 ______ _____^ 木吃展尺度適用中國國家摞準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 > W 4。 4 7、一種液體排出設備，包含： (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如申請專利範圍第3 9項之液體排出頭；及 記錄媒體載送機構，用於載送接收從該液體排出頭排 出的液體之記錄媒體。 4 8、如申請專利範圍第4 7項之液體排出設備，其 中從該液體排出頭排出墨，以藉由該墨附著至該記錄媒體 來記錄。 4 9、一種液體排出頭包含： 許多排出ί阜，用於排出液體； 許多液體流動路徑，總是與在一端的各該排出埠相通 ，各具有泡沬產生區域，以在液體中產生泡沬； 泡沬產生機構，用於產生能量以產生並成長該泡沫； 許多液體供給埠，各設給各該液體流動路徑·以與共 同的液體供給室相通；及 可移動構件，以小間隙被支撐至該液體流動路徑_上 之該液體供給垾，並設有自由端， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至少由自由端部份及兩側包圍的該可移動構件之區域 被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的區域，且 該可移動構件之自由端在該泡沬產生之啓始階段中被 小小地移位於該液體流動路徑中，且 隨著泡沬消失，該可移動構件之自由端被大幅地移位 於該液體流動路徑中至該泡沫產生機構側，用於從該共同 的液體供給室供給液體經由該液體供給埠進入該液體流動 本碎.伕尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） 522096 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 路徑。 5 0、如申請專利範圍第4 9項之液體排出頭，其中 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 該可移動構件之自由端的移位量被界定爲h 1 ，作爲在該 泡沫產生之啓始階段，於液體流動路徑中至該液體供給堤 側之移位量，且 當該可移動構件之自由端在該液體流動路徑中隨著該 泡沫消失被移位至該泡沫產生機構側時，其移位量被界定 爲h 2，然後在全部時間建立h 1 < h 2之關係： 5 1 、如申請專利範圍第4 9項之液體排出頭，其中 對於該泡沫產生機構的最上表面，提供非晶合金做成的薄 膜。 5 2、如申請專利範圍第5 1項之液體排出頭，其ψ 該非晶合金是選自鉅、鐵、鎳、鉻、鍺、釕的至少一金_ 或更多所做成的合金。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 3、如申請專利範圍第4 9項之液體排出頭，其ψ 形成有該可移動構件以支撐該可移動構件的腳之腳支撐_ 件設有一步階，以相對於該腳支撐構件的固定位置、觸移 該可移動構件的高度位置一步階，且該可移動構件的Ϊ g 大於該步階之量。 5 4、如申請專利範圍第4 9項之液體排出頭，其中 該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣與該液體 流供給埠側上之該可移動構件的面之間的間隙^ ，與和該 液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在寬度方向 上重疊之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 本紙泽尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規路（210Χ 297公釐） 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 > a 〇 5 5、如申請專利範圍第5 4項之液體排出頭，其中 和該液體流動路徑側上之該液體供給埠的開口邊緣在該排 出埠方向上重疊之該可移動構件的重疊寬度W4，與在寬 度方向之該可移動構件的重疊寬度W 3之間的關係爲W 3 > W 4。 5 6、一種液體排出設備，包含： 如申請專利範圍第4 9項之液體排出頭；及 記錄媒體載送機構，吊於載送接收從該液體排出頭排 出的液體之記錄媒體。 5 7、如申請專利範圍第5 6項之液體排出設備·其 中從該液體排出頭排出墨，以藉由該墨附著至該記錄媒體 來記錄。 5 8、一種用於製造液體排出頭之方法，此液體排出 頭設有：許多排出埠，用於排出液體；許多液體流動路徑 ，總是與在一端的各該排出ί阜相通，各具有泡沬產生區域 ，以在液體中產生泡沫；泡沫產生機構，用於產生能量以 產生並成長該泡沬；許多液體供給埠，各設給各該液護流 動路徑，以與共同的液體供給室相通；及可移動搆件，以 小間隙被支撐至該液體流動路徑側上之該液體供給埠，且 設有自由端，至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構 件之區域被做成大於面向液體流動路徑之該液體保給痺的 開口區域，此方法包含以下步驟： 形成並成型第一保護罾，相對於覆蓋設有該泡沫產生 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2丨0Χ 297公釐） -----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Ρ. 經滴部智慧財產局員工消費合作社印製 -77 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 機構之元件基板的部份之區域，變成液體流動路徑； 形成第一壁材料，使用於形成該液體流動路徑於包括 該第一保護層之元件基板的表面上； 移除成爲該液體流動路徑之該第一壁材料之部份； 埋藏成爲該移除後的液體流動路徑之該第一壁材料的 部份； 藉拋光平滑該第一壁材料之整個表面； 形成第二保護膜於該平滑後的第一壁材料上，韦於形 成該第一壁材料與該可移動構件之固定部份； 藉成型而形成成爲該可移動構件之材料膜，寬度小於 成爲該液體流動路徑之部份，在對應成爲該液體流動路徑 之部份的位置上； 在成爲該可移動構泮之材料膜的周圍上形成一間壤形 成構件，以形成該可移動構件與該液體供給埠之間的間隙 在該第一壁材料上形或第二壁材料，用於形_該液體 供給埠於包括該間隙形成溝件之該基板上； 开夕成成爲該液體供宿ί阜之該第二壁材料的部^ ·以使 其開口區域小於成_該可移動構件之材料膜； 藉溶解使用於埋藏該間隙形成構件之該第一保誇隱， 移除該第二保護層，且該第一壁材料之部份成爲該液體流 動路徑；及 結合設有共同的液體供給室之天花板至在先前步驟中 產生的基板： 本紙.¾尺度適用中國國家榡準（CNS ) A<4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 、1Τ 522096 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 5 9、一種用於製造液體排出頭之方法，此液體排出 頭設有：許多排出埠’用於排出液體；許多液體流動路徑 ，總是與在一端的各該排出埠相通，各具有泡沬產生區域 ，以在液體中產生泡沫；泡沬產生機構，用於產生能量以 產生並成長該泡沫；許多液體供給埠，各設給各該液體流 動路徑，以與共同的液體供給室相通；及可移動構件，以 小間隙被支撐至該液體流動路徑側上之該液體供給埠，且 設有自由端，至少被自由端部份及兩側包圍的該可移動構 ί牛之區域被做成大於面向液體流動路徑之該液體供給埠的 開口區域，此方法包含以下步驟： 形成並成型第一保護層，相對於成爲該液體流動路徑 之壁的該天花板之部份； 在不具有該第一保護層之該天花板的部份上，形戎一 間隙形成構件，用於形成間·隙於該可移動構件與該液體供 給埠之間； 在該第一保護層與該間隙形成構件之整個表面上，形 成成爲該可移動構件之材料膜； 形成成爲該可移動構件之材料膜，具有圖案大於戎爲 j矣液體供給掉之部份的開口區域，且形成通孔於該可移重力 構件上，以便利流入液體以溶解該間隙形成構件： 藉乾飩刻形成具有該間隙形成構件之該共同的液體供 給室作爲_麪停止層； 移除該間隙形成構件； 藉各向異性濕蝕刻不具有該第一保護層之該天花板的 本紙绎尺度適用中國國家榡準（CNS ) A4规格（210 X 297公慶） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 、v$ 線 522096 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 部份，形成該液體供給埠； 以相同於成爲該可移動構件之材料膜的材料，埋藏該 可移動構件之通孔，並以該膜塗覆蝕刻側上之壁； 結合用於形成該液體流動路徑及該泡沫產生機構之設 有壁構件的元件基板，至先前階段的步驟中產生的構件。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝—.— 訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本 一準 一榡 -國 國 中 用一適 一度 尺 一格 一讀