TW514960B - Method and apparatus for manufacturing image displaying apparatus - Google Patents

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514960 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（1) 發明背景： 發明領域： 本發明是關於電子射出以矩陣建構之影像顯示設備， 更特別地對製造具以矩陣建構之電子射出裝置設置之背面 板（R P )上與磷被建構在相對位置設置之正面板（F P )分別地當作第一影像形成構件與當作第二構件之顯示面 板之影像顯示設備之設備以及方法。 習知地，電子射出裝置被粗略地分成兩已知型式，即 ’熱電子射出裝置與冷電子射出裝置。冷電子射出裝置包 括場射出式（下文稱爲F E式），金屬/絕緣層/金屬式 (下文稱爲MIMS)，表面導電式電子射出裝置，與其 類似。 一在 W. P. Dyke & W· W· Dolan，、、場射出，，，電子 物理進階 ’ 8，8 9 ( 1 9 5 6 ) ，C. A. spindt， '、具鉬 錐體之薄膜場射出陰極的物理特性〃 ，JL Appl. Phys.， 4 7，5 2 4 8 ( 1 9 7 6 )，或其類似公開之電子射出 裝置是已知當作F E式的範例。 C. A· Mead ’ ''遂道射出裝置的操作"，Appl. Phys.，3 2，6 4 6 ( 1 9 6 1 )或其類似公開之電子射 出裝置是已知當作Μ I Μ式的範例。 Μ. I. Elinson，Radio Eng. Electron Phys.，1 〇， 1 2 9 0 ( 1 9 6 5 )或其類似公開之電子射出裝置是已 知當作表面導電式電子射出裝置式的範例。 表面導電式電子射出裝置將利用由電子流流至具與膜 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ------II---------線一 ^- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 4 - 514960 A7 B7 五、發明說明（2) 的表面平行在基底上形成之小區之薄膜而產生電子射出之 現象 使用由上述之Elinson等之S η〇2薄膜 使用 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A u 薄膜〔G· Dittmer :薄固膜，〃 9 ’ 3 1 7 ( 1 9 7 2 )]，一使用 1112〇3/311〇2薄膜〔]\/1· Hratwell 與 C. G. Fonstad:"IEEE Trans. ED Conf."，5 1 9 (1 9 7 5 )〕，一使用碳薄膜〔Araki Hisashi 等：Shinku， Vol. 2 6，N ο · 1，page 2 2 ( 1 9 8 3 )〕與其 類似是已知當作表面導電式電子射出裝置。 對使用上述電子射出裝置之影像顯示設備的製造，被 使用製造顯示面板之處理包含步驟：製造以矩陣建構在這 樣的電子射出裝置上當作R P之電子源基底與製造做爲由 於由電子光束激發而發光之磷設置之F P之磷基底；由配 置提供外殼之間隔與抗大氣壓力結構而使電子射出元件與 磷將在內部而配置F P與R P在相對位置以及、由使用如 熔塊玻璃，銦或其類似之低熔點材料當作密封材料而密封 內部；與在自真空排氣管之內部排氣之真空後預先設置真 空排氣管。 根據上述之習知技藝之製造方法需要相當長時間製造 一顯示面板，因此不適於製造需要1 X 1 〇- 6P a或更多 的真空程度的顯示面板內部。 r ^ ^ 此習知技藝的缺點是由，例如，日本專利公開案號 No · 1 1 — 135018描述之方法解決。曰本專利公開案號Ν ο · 1 i〜1 3 5 1 8描述之 方法中’因爲在單一真空室中定位F p與R]p之後僅密封 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •農衣 ^14 n n 兮口 丨線一 本紙張尺度適用中國國豕標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） -5- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7_ 五、發明說明（3) 兩基底的步驟被使用，對製造需要被應用分別地在單一真 空室中之顯示面板而言，如烘烤製程，吸收劑製程，電子 光束淸除製程與其類似之上述其它步驟是需要的。此外， 因爲真空室間之F P與R P的移動根據鬆散排空狀態變成 非真空狀態而執行，當F P與R P被運送在其中，各真空 室每次被排空。由於這些理由，製造處理時間冗長。所以 ，製造處理時間的大量減少已是需要的，且同時，在短時 間內在最後製造步驟期間顯示面板中達成1 X 1 0 _ 6 P a 或更多高真空程度已是需要的。 發明的節要 本發明的目的是在製造影像顯示設備中能夠輕易地達 成真空排氣時間的減少與高真空程度。由此改進製造的效 率。 ‘ 根據本發明的一觀點，製造影像顯示設備的方法包含 的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之 第二基底； b :在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之吸收劑製程室，且提交吸收劑製程一運送 之基底或其中之一或兩運送之基底；以及 c:在真空氣壓下真空氣壓之密封製程室中運送第一 與第二基底，且以相對的狀態提供熱密封該基底。 !.2---------·衣--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -6- 514960 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 -----------------B7_______ 五、發明說明（4) 根據本發明的另一觀點，製造影像顯示設備的方法包 含的步驟· a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之 第二基底； b :在真空氣壓下運送第一與第二基底/進入真空氣壓 之烘烤製程室，且在預定的溫度提交兩基底至烘烤製程； 以及 c :在真空氣壓下真空氣壓之密封製程室中運送第一 與第二基底’且以相對的狀態提供熱密封該基底。 根據本發明尙有另一觀點，製造影像顯示設備之設備 包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬ί機構； b :其中之一或兩第一與第二基底可以由搬運機構在 真空氣壓下而運送之第一真空室； c :建構在第一真空室中具吸收劑先驅（precursor ) 與活化吸收劑先驅之吸收劑活化機構之吸收劑給予機構； d :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第二真空室； e :向內部建構在第二真空室中，由向內部導向影像 顯示設備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於彼此 相對位置之基底建構機構；以及 f :建構在第二真空室中，在預定溫度中由基底建構 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 」· —V-----------------訂·--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 514960 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（5) 機構在相對位置建構之第一與第二基底提供熱密封之密封 機構。 根據本發明進一步的觀點，製造影像顯示設備之設備 包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第一真空室； c :建構在第一真空室中，由加熱第一與第二基底烘 烤處理該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第二真空室； e :建構在第二真空室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於‘彼此相對位 置之基底建構機構；以及 ί :建構在第二真空室中，在預定溫度中由基底建構 機構在相對位置建構之第一與第二基底提供熱密封之密封 機構。 圖形的簡要描述 圖1 A，1 Β與1 C是根據本發明的一範例之設備的 槪要的橫截面圖； 圖2是根據本發明的一範例之設備的槪要的計畫圖； 以及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — IU----I----詹衣--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -8 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7_ 五、發明說明（6) 圖3是根據本發明的方法與設備製造之影像顯示設備 的橫截面圖。 主要元件對照表 10 1 前室 102 烘烤製程室 10 3 第一步驟吸收劑製程室 104 電子光束淸除製程室 10 5 第二吸收劑製程室 106 密封製程室 107 冷卻室 111 背面板 112 正面板 _ 1 2 7 箭頭 ‘ 128 熱屏障構件 129 負載鎖 13 0 真空排氣系統 13 1 真空排氣系統 11〇 運入埠 113 外殼 114 密封材料 116 加熱板 一 118 支架 12 0 吸收劑閃光 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------丨線- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -9 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 __B7 五、發明說明（7) 117 提升裝置 119 吸收劑閃光設備 115 間隔 123 吸收劑閃光設備 12 4 吸收劑閃光 121 電子光束振動器 1 2 6 運出埠 ^ 2 0 1 前室 202 烘烤製程室 203 第一步驟吸收劑製程室 2 0 4 電子光束淸除製程室' 205 第二吸收劑製程室 206 密封製程室 207 冷卻室 208 中央真空室 209 負載鎖 210 熱屏障材料 211 運送桿 213 運送頻帶 2 14 箭頭 3 11 主體 308 金屬膜 309 高阻抗膜 3 10 金屬膜 ---?----------»衣--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -10- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 ___B7_ 五、發明說明（8) 3 0 6 接線 307 低熔點黏劑 3 0 4 透通基底 305 襯底膜 312 電子光束射出裝置 301 透通基底 302 磷光體層 ' 303 金屬膜 較佳實施例的詳細描述 首先，本發明是製造影像顯示設備的方法，其特徵包 含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發""光於其上之 第二基底； ' b :在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之吸收劑製程室，且提交吸收劑製程一運送 之基底或其中之一或兩運送之基底；以及 c :在真空氣壓下真空氣壓之密封製程室中運送第一 與第二基底，且以相對的狀態熱密封該基底。 第二，本發明是製造影像顯示設備的方法，其特徵包 含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐)‘ ~y\Z ---ί-----------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7_ 五、發明說明（9) 第二基底； b:在真空氣壓下運送第一與第二基底進入真空氣壓 之烘烤製程室，且在預定的溫度提交兩基底至烘烤製程； 以及 c :在真空氣壓下真空氣壓之密封製程室中運送第一 與第二基底，且以相對的狀態熱密封該基底。 第三，本發明是製造影像顯示設備的方法，其特徵包 含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之 第二基底； b:在真空氣壓下運送第一與第二基底進入真空氣壓 之烘烤製程室，且在預定的溫度提交烘烤製程兩基底； c :在真空氣壓下運送第一與第二基底進"X真空氣壓 之吸收劑製程室，與提交吸收劑製程該一運送之基底或其 中之一或兩該運送之基底； d :在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 壓之密封製程室中，且熱密封該基底在相對的狀態。 第四，本發明是製造影像顯示設備的方法，其特徵包 含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之 第二基底； b :在真空氣壓下運送第一與第二基底進入真空氣壓 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線‘ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -12- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7_ 五、發明說明（Θ 之烘烤製程室，且在預定的溫度提交烘烤製程兩基底； C :在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之第一吸收劑製程室，且第一吸收劑製程該 一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底； d:在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之電子光束淸除製程室，且電子光束淸除製 程該一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底； e:在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之第二吸收劑製程室，且第二吸收劑製程該 一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底；以及 f :在真空氣壓下運送第一與第二基底進入真空氣壓 之密封製程室，且以相對的狀態熱密封該基底。 第五，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵包 含： 7 a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :其中之一或兩第一與第二基底可以由搬運機構在 真空氣壓下運送之第一真空室； c :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第一真空室中之吸收劑給予機構； d :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下運 送之第二真空室； e :建構在該第二真空室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構第一與第二 — IU----I----#--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）_ -13- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7 五、發明說明（1) 基底之基底建構機構；以及 f :建構在第二真空室中，在預定溫度中熱密封由基 底建構機構在相對位置建構之弟一與弟一'基底之密封機構 〇 第六，本發明是製造影像顯示設備之設備’其特徵包 含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第一真空室； c :建構在第一真空室中，由加熱第一與第二基底烘 烤處理該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第二真空室； ‘ e :建構在第二真空室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於彼此相對位 置之基底建構機構，以及 f :建構在第二真空室中，在預定溫度中熱密封由基 底建構機構在相對位置建構之第一與第二基底之密封機構 〇 第七，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵包 含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； ---?-----------------訂---------線 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱) -14: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7___ 五、發明說明（θ b :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第一真空室； C :建構在第一真空室中，由加熱第一與第二基底烘 烤處理該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第二真空室； e :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第二真空室中之吸收劑給予機構； f :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第三真空室； g :建構在第三真空室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於彼此相對位 置之基底建構機構；以及 h :建構在第三真空室中，在預定溫度中7熱密封由基 底建構機構在相對位置建構之第一與第二基底之密封機構 〇 第八，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵包 含·· a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第一真空室； c :建構在第一真空室中，由加熱第一與第二基底烘 烤處理該經運送的第一與第•基底之供烤機構， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -15- —LW-----------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 514960 A7 B7 五、發明說明（Θ d:第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下而 運送之第二真空室； e :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第二真空室中之吸收劑給予機構； f :其中之一或兩第一與第二基底可以由搬運機構在 真空氣壓下而運送之第三真空室； g:建構在第三真空室中由放射電子光束應用電子光 束淸除製程之電子光束淸除機.構； h :其中之一或兩第一與第二基底可以由搬運機構在 真空氣壓下而運送之第四真空室； 1 :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第四真空室中之第二吸收劑給予機構； j :其中之一或兩第一與第二基底可以由搬運機構在 真空氣壓下而運送之第五真空室； / k :建構在第五真空室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件以彼此相對位置建構第一與第二基底 之基底建構機構；以及 1 :建構在第五真空室中，在預定溫度中熱密封由基 底建構機構在相對位置建構之第一與第二基底之密封機構 〇 第九，本發明是製造影像顯示設備之設備.，其特徵包 含·· a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線一 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7 ___ 五、發明說明（Μ b·由搬運機構運送之第一基底可以被運送不需被曝 光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) c :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第一解壓室中之吸收劑給予機構； d:第一與第二基底可以被運送不需被曝光至大氣而 給予吸收劑之第二解壓室； e :建構在第二解壓室中 '由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件以彼此相對位置建構第一與第二基底 之基底建構機構；以及 ί :建構在第二解壓室中，在預定溫度中密封由加熱 第一與第二基底由基底建構機構在相對位置建構之第一與 第二基底之密封機構。 第十，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵包 含： 7 a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :由搬運機構運送之第一與第二基底可以被運送不 需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 c :建構在具吸收劑先驅與活化吸收劑先驅之吸收劑 活化機構之第一解壓室中之吸收劑給予機構； d :第一解壓室之第一與第二基底可以被運送不需被 曝光至大氣之第二解壓室； e :建構在第二解壓室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件以彼此相對位置建構第一與第二基底 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7 ___ 五、發明說明（4 之基底建構機構；以及 f :建構在第二解壓室中，在預定溫度中密封由加熱 第一與第二基底之基底建構機構以相對位置建構之第一與 第二基底之密封機構。 第十一，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵 包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :由搬運機構運送之第一與第二基底可以被運送不 需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c :建構在第一解壓室中，由加熱該基底烘烤處理經 運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :建構在第一與第二基底可自第一解壓室運送不需 被曝光至大氣之第一解壓室或第二解壓室中，‘具吸收劑先 驅與活化吸收劑先驅之吸收劑活化機構之第一吸收劑給予 機構； e :第一與第二基底可自第一或第二解壓室運送不需 被曝光至大氣之第三解壓室； ί :建構在第三解壓室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於彼此相對位 置之基底建構機構；以及 g :建構在第三解壓室中，密封在預定溫度中由加熱 第一與第二基底由基底建構機構在相對位置建構之第一與 第二基底之密封機構。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線* 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -18- 514960 A7 B7 五、發明說明（1今 第十二，本發明是製造影像顯示設備之設備，其特徵 包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :由搬運機構運送之第一與第二基底可以被運送不 需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c :建構在第一解壓室中，由加熱該基底烘烤處理經 運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :建構在第一與第二基底可自第一解壓室運送不需 被曝光至大氣之第一解壓室或第二解壓室中，具吸收劑先 驅與活化吸收劑先驅之吸收劑活化機構之第一吸收劑給予 機構； e :第一與第二基底可自第一或第二解壓室運送不需 被曝光至大氣之第三解壓室； ί :建構在第三解壓室中，由放射電子光束至第一與 第二基底淸除第一與第二基底之電子光束淸除機構； g :第一與第二基底可自第三解壓室運送不需被曝光 至大氣中之第四解壓室； h :建構在第二解壓室中，具吸收劑先驅與活化吸收 劑先驅之吸收劑活化機構之第二吸收劑給予機構； i :第一與第二基底可自第四解壓室運送不需被曝光 至大氣中之第五解壓室； j :建構在第五解壓室中，由向內部導向影像顯示設 備之第一與第二構件而建構第一與第二基底於彼此相對位 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -19 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨衣 1T--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7 五、發明說明（1 置之基底建構機構；以及 k :建構在第五解壓室中，密封在預定溫度中由加熱 第一與第二基底之基底建構機構在相對位置建構之第一與 第二基底之密封機構。 此外，本發明包括下列特性當作它的較佳的觀點： 在上述的第一與第二觀點，步驟a ，b ，與c是在一 線上之步驟組，且反射屬或其類似形成的熱屏障構件被配 置在吸收劑製程室與密封製程室之間； 在上述的第一與第二觀點，步驟a ，b ，與c是在一 線上之步驟組，且負載鎖被配置在吸收劑製程室與密封製 程室之間； 在上述的第一與第二觀點，步驟a ，b ，與c是在星 狀建構上之步驟組，且吸收劑製程室與密封製程室由獨立 的室分開； 在上述的第三觀點，步驟a ，b，與c是在一線上之 步驟組，且反射屬或其類似形成的熱屏障構件分別地被配 置在烘烤製程室與吸收劑製程室之間，在烘烤製程室與密 封製程室之間，或烘烤製程室，吸收劑製程室與密封製程 室之間； 在上述的第三觀點，步驟a ，b，與c是在一線上之 步驟組，且負載鎖分別地被配置在烘烤製程室.與吸收劑製 程室之間，在烘烤製程室與密封製程室之間，或烘烤製程 室，吸收劑製程室與密封製程室之間； 在上述的第三觀點，步驟a ，b，c與d被建構在星 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) n ίβ m n i 一口、I n I m Bn n _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7_ 五、發明說明（β 狀建構上，且烘烤製程室，吸收劑製程室與密封製程室由 獨立的室分開； 在上述的第四觀點，步驟a ，b ，c ，d，e與f是 在一線上之步驟組，且反射屬或其類似形成的熱屏障構件 被配置在烘烤製程室與第一吸收劑製程室之間，在第一吸 收劑製程室與電子光束淸除製程室之間，在第二吸收劑製 程室之間，或在第二吸收劑製程室與密封製程室之間； 在上述的第四觀點，步驟a ，b ，c ，d，e與f是 在一線上之步驟組，且負載鎖被配置在烘烤製程室與第一 吸收劑製程室之間，在第一吸收劑製程室與電子光束淸除 製程室之間，在第二吸收劑製程室之間，或在第二吸收劑 製程室與密封製程室之間； 在上述的第五觀點，步驟a ，b，c ，d，e與f被 設在星狀建構上，且烘烤製程室，第一吸收劑製程室，電 子光束淸除製程室，第二吸收劑製程室與密封製程室由獨 立的室分開； 在上述第五與第六觀點中，第一真空室與第二真空室 被建構在一線上； 在上述第五與第六觀點中，第一真空室與第二真空室 被建構在一線上，且各室由反射金屬形成的熱屏障構件分 開； 在上述第七觀點中，第一真空室，第一真空室與第三 真空室被建構在一線上，且各室由反射金屬或其類似形成 的熱屏障構件分開； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 — — — — — — ·1!11111- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -21 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 ___B7__ 五、發明說明（1 在上述第七觀點中，第一真空室，第一真空室與第三 真空室被建構在一線上，且各室由負載鎖分開； 在上述第七觀點中，第一真空室，第一真空室與第三 真空室被設在星狀建構上，且各室由獨立的室分開； 在上述第八觀點中，第一真空室，第二真空室，第三 真空室，第四真空室與第五真空室被建構在一線上，且各 室由反射金屬或其類似形成的熱屏障構件分開； 在上述第八觀點中，第一真空室，第二真空室，第三 真空室，第四真空室與第五真空室被建構在一線上，且各 室由負載鎖分開；以及 在上述第八觀點中，第一真空室，第二真空室，第三 真空室，第四真空室與第五真空室被設在星狀建構上，且 各室由獨立的室分開。 因此，在上述第九至第十二觀點中，第一至第五解壓 室包含如氬氣體，氖氣體或其類似之惰性氣體，或在解壓 下之氫氣體。此外，在上述第九至第十二觀點中，影像顯 示設備之第一構件是電漿生成裝置，且影像顯示設備之第 二構件是磷光體或彩色濾光器。 圖1 A槪要地舉例說明根據本發明之製造設備，圖 1 B顯示處理溫度被標示在垂直軸上與關於水平軸之時間 之溫度履歷，且圖1 C顯示真空程度被標示在垂直軸上與 關於水平軸之時間之真空程度履歷。根據本發明之製造方 法與製造設備的範例將參考下文這些圖形而描述。 圖1 A舉例說明之設備，一前室1 0 1 ，一烘烤製程 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ---------訂·-------- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -22- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 __B7__ 五、發明說明（ 室1 0 2，第一步驟吸收劑製程室1 〇 3，一電子光束淸 除製程室1 0 4，一第二吸收劑製程室1 〇 5 ，一密封製 程室1 0 6與冷卻室1 〇 7被連續地以運送方向（圖Ια 箭頭127)而建構’且RR 111與FP 112由 驅動運送滾筒1 0 9與運送帶1 0 8以箭頭1 2 7方向連 續地通過各室且在通過期間被應用各種製程。也就是，在 前室1 0 1在真空大氣下之製造的步驟，烘烤製程室 1 0 2中之烘烤製程’第一吸收劑製程室1 0 3中之第一 吸收劑製程，在電子光束淸除製程室1 0 5中由電子光束 放射淸除，第二步驟吸收劑製程室1 0 5中之第二吸收劑 製程，密封製程室1 〇 6中之熱密封與冷卻室1 〇 7中之 冷卻製程分別地在一連續的線上執行。 最好是，如鋁，鉻與不銹鋼之反射幅射熱與之紅外線 之反射金屬形成的熱屏障構件1 2 8 (以板型式，膜型式 等）被配置在各室之間。熱屏障構件1 2 8也許被配置在 具不同溫度履歷之室之間，例如，不是在烘烤製程室 1〇2與第一步驟吸收劑製程室1 〇 3之間就是在第二吸 收劑製程室1 0 5與密封製程室1 0 6之間或最理想是兩 者，但也許被配置在各室間。此外，當它們在各室間移動 時，熱屏障構件1 2 8被配置而使它不妨礙裝配在運送帶 108上之FP 112與固定在高層裝置上之RP 111° 負載鎖1 2 9被配置在前室1 0 1與圖1 A舉例說明 之烘烤製程室1 0 2之間。負載鎖1 2 9將在前室1 0 1 -------------^^衣--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -23- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 ________^B7___ 五、發明說明（2!> 與烘烤製程室1 〇 2之間開啓且關閉。此外，真空排氣系 統1 3 0被連接至前室1 0 1與如果連接至烘烤製程室 102時之真空排氣室131。 在運送前室1〇1之RP 111與FP 112之 後，運入埠1 1 0被屏障且，同時，負載鎖1 2 9被屏障 ，由於在前室1 0 1內部由真空排氣系統1 3 0真空排氣 。在此操作期間，所有烘烤製程室1 0 2的內部，第一步 驟吸收劑製程室1 0 3，電子光束淸除製程室1 〇 4，第 二步驟吸收劑製程室1 0 5，密封製程室1 0 6與冷卻室 1〇7由真空排氣系統1 3 1真空排氣以在真空排氣狀態 中帶出它們。 當前室1 0 1與其它前室1 0 1隨後之室已達到真空 排氣狀態時，負載鎖1 2 9被打開，R P 1 1 1與F P 1 1 2被運出前室1 0 1之外且運入烘烤製程室1 0 2 ，負載鎖129在完成運入RP 111與FP 112 之後被屏障，然後運入埠1 1 〇被打開，且另一 r P 1 1 1與FP 1 12被運入前室101 ，由此由真空排 氣系統1 3 0重覆真空排氣前室1 0 1的內部。 在本發明中，最好是配置與負載1 2 9 —致之負載鎖 (未顯示）。啷筒（排氣系統）以各由負載鎖分開之室而 建構。負載鎖也許被配置在個別的室中，但最.好是配置負 載鎖在與圖1 C所示之真空程度履歷不同的真空程度之室 之間，例如，不是在烘烤製程室1 0 2與第一步驟吸收劑 製程室1 0 3之間就是在電子光束淸除製程室1 〇 4與第 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A^規格（210 X 297公釐） 7^ " " (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 訂------- 514960 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（2? 二步驟吸收劑製程室1 0 5之間或最理想是兩者皆是。 在本發明中，最好是固定地提供外殼密封一真空結構 與在前室1 0 1中運送間隔之前預先在RP 1 1 1上形 成抗大氣結構之間隔1 1 5。在對應於F P 1 1 2的外 殼1 1 3之位置，使用如熔塊玻璃之低熔點材料或如銦之 低ί谷點材料之密封材料1 1 4，或其合金也許被提供。此 外’如舉例說明，密封材料1 1 4也許被設在外殼1 1 3 中〇 在烘烤製程室1 1 2中由加熱板1 1 6之熱製程（烘 烤製程）被應用至在烘烤製程室1 〇 2運送之RP 1 1 1與F Ρ 1 1 2不需被曝露至大氣。由此烘烤製程 ，如氫氣體之雜質氣體，在RP 111與FP 1 1 2 -中所含之蒸氣與氧可以被取代。在此點烘烤製程溫度通常 是300 °C至40〇°C ，最好是3 5〇°C至3‘80°C。在 此點真空程度接近1 X 1 〇 - 4 p a。 完成烘烤製程之RP 111與FP 112被運入 第一步驟吸收劑製程室1 〇 3，RP 1 1 1被固定在支 架上且移動室1 0 3的較上部，有關F Ρ 1 1 2之在吸 收劑閃光設備1 1 9中所含之可蒸發的吸收劑材料的吸收 劑閃光1 2 0 (如，鋇等製成的吸收劑材料）被產生且活 化’由此配置鋇膜或其類似在F Ρ 1 1 2的表面上組成 吸收劑膜（未顯示）。在此點第一步驟吸收劑的膜厚度通 常是5 nm至5〇〇nm ，最好是1〇nm至1〇〇nm ，2 0 n m至5 0 n m更佳。此外，在本發明中，吸收劑 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ir----一----0^--------訂---------S. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -25- 514960 A7 B7 五、發明說明（2弓 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 膜或鈦材料組成的吸收劑材料，N E G材料或其類似也許 預先被設在R P 1 1 1或F P 1 1 2而非上述的吸收 劑材料。 例如，可以由外力充分地固定R p 1 1 1而不掉落 之器具，利用靜電夾盤法或機械夾盤法也許被使用做支架 118。 固定在支架1 18之RP 1 1 1由提升裝置1 17 在運送滾筒1 0 8上被提升至離FP 1 1 2相當遠之位 置。在提升RP 111中，在RP 111與FP 1 1 2間之間距最好是足以加大兩基底間之導電性之間距 ，雖然它根據使用的真空室的大小而定。如果間距是5 〇 n m或更大，兩基底間之間距通常是足夠的。 此外，在上述的步驟中，如果鋇吸收劑被使用，第一 步驟吸收劑製程室的處理溫度被設定接近1 〇 ‘〇 〇c。然後 真空程度是1x10— 5Pa。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雖然僅F P 1 1 2被顯示當作被舉例說明之圖1 a 之吸收劑閃光’在本發明中，由放射類似上述之吸收劑閃 光僅供吸收劑僅至R P 1 1 1或至R p 1 1 1與F P 1 1 2兩者也是可能的。此外，第一吸收劑閃光也許在 烘烤製程室1 0 2內執行以增加烘烤製程室丄〇 2中在烘 烤製程期間與之後真空大氣的真空程度。 隨後’當RP 111與FP 112被運入電子光 束淸除製程室1 04中不需被曝光至大氣，Rp χ χ 與/或FP 1 12在電子光束淸除製程室1〇4中由電 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 B7__ 五、發明說明（2今 子光束振動器1 2 1以電子光束1 2 2被掃描，特別是當 在FP 1 1 2的磷光體（未顯示）之雜質氣體在運入 R P 111與FP 112中而被取代時，當作留在提 升裝置1 1 7上之RP 1 1 1與留在運送帶1 08上之 F P 1 1 2間之間距，在前面的第一步驟吸收劑製程步 驟中之間距最好是保持不需改變。 雖然僅F P 1 1 2被顯示當作被應用電子光束淸除 製程，應用類似上述電子光束淸除製程之電子光束淸除製 程僅至RP 111或至RP 111與FP 112兩 者也是可能的。 在上述電子光束淸除製程之後，R P 1 1 1與F P 1 1 2被運入第二步驟吸收劑製程室1 0 5不需被曝光 至大氣，由此由類似第一步驟吸收劑製程室1 0 3的方法 之方法自吸收劑閃光設備1 2 3產生吸收劑閃光1 2 4且 供吸收劑至F P 1 1 2。在供吸收劑至F P 1 1 2中 ，第二步驟吸收劑的膜厚度通常是5 n m至5 0 0 n m， 最好是l〇nm至l〇〇nm，2〇nm至50nm更佳 。在運入RP 111與FP 112中，當作留在提升 裝置1 17上之RP 1 1 1與留在運送帶108上之 F P 1 1 2間之間距，在前面的第一步驟吸收劑製程步 驟中之間距最好是保持不需改變。此外，第二吸收劑也許 以類似方式僅被供至R P 1 1 1或也許被供至F P 1 1 2與RP 1 1 1兩者當作第一步驟吸收劑。 供至第二步驟吸收劑之F P 1 1 2與位於第二步驟 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） „ 27^ " ' " (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) an a··— n n n m n 一口，I 1· n· n n I— n· n· I 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 514960 A7 _-__ B7 _ 五、發明說明（2弓 吸收劑製程室1 〇 5之RP 1 1 1由提升裝置1 1 7降 低’由此運送FP 112與RP 111在下一密封製 程室1 06不需被曝光至大氣。在運入FP 1 1 2與 R P 1 1 1中，提升裝置1 1 7被操作而使間隔1 1 5 與外殼1 1 3被建構在相對位置直至間隔1 1 5與外殼 1 1 3彼此接觸，同時導電子光束射出裝置且以矩陣建構 在個別基底上之磷光體之PR 111與FP 112向 內部。 加熱板1 2 5在建構在密封製程室1 0 6之相對位置 之RP 111與FP 112上起作用，且如果預先設 置之密封材料1 1 4由如銦之低熔點金屬製成，密封材料 1 1 4被加熱直到低熔點金屬熔化，或如果密封材料 1 1 4由如熔塊玻璃之非金屬低熔點材料製成，密封材料 1 1 4被加熱至低熔點材料被影響之溫度且附在黏膠劑上 。在圖1 B中，溫度被設在1 8 0 °C當作銦被使用作密封 材料1 1 4之範例。 密封製程室1 0 6之真空程度也許被設在1 X 1 0— 6 或更多之高點。因此，由R P 1 1 1密封之顯示面板的 真空程度，FP 1 1 2與外殼1 1 3也許也被設在1 X 1〇/ 6或更多之高點。 在密封製程室1 0 6產生之顯示面板被運送至下一冷 卻室1 0 7之外且慢慢地冷卻。 本發明的設備設有類似於密封室1 〇 6與冷卻室 1〇7間之負載鎖1 2 9之負載鎖（未顯示）’且當負載 ---------------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -28 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 514960 A7 B7___ 五、發明說明（％ 鎖被打開時，顯示面板被運出密封製程室1 0 6之外，負 載鎖在運入冷卻室1 0 7之後被屏障，載出埠1 2 6在緩 冷卻後被打開，顯示面板自冷卻室1 0 7運出，且最後運 出埠1 2 6被屏障以完成所有製程。此外，在開始下一製 程之前，冷卻室1 0 7的內部最好是由無關地配置之真空 排氣系統設在真空狀態。 進一步，根據本發明，如氬氣體或氖氣體之惰性氣體 ，或氫氣體也許在經解壓的條件下透過1 〇 7被包含在各 室1〇1中。 雖然上述範例是最佳模式，在使室被連載以致於處理 在前室10 1，第一步驟吸收劑製程室之第一吸收劑製程 ’密封製程室1 0 6之熱密封與冷卻室1 〇 7之冷卻製程 中真空大氣下以製造的順序而進行之範例中當作第一變化 (variation ) 〇 在使室被連載以致於處理在前室1 〇 1 ，烘烤製程室 1 0 2之烘烤製程，密封製程室1 〇 6之熱密封，與冷卻 室1 0 7之冷卻製程中真空大氣下以製造的順序而進行之 範例中當作第二變化。 在使室被連載以致於處理在前室1 〇 1 ，烘烤製程室 1 0< 2之烘烤製程，第一步驟吸收劑製程室之第一吸收劑 製程，密封製程室1 〇 6之熱密封，與冷卻室1 0 7之冷 卻製程中真空大氣下以製造的順序而進行之範例中當作第 三變化。 在RP 111與FP 112由個別的運送機構運 IL---------•裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -29- 514960 A7 -------B7 _ 五、發明說明（ 送之範例中當作第四變化。 圖2是前室2 0 1 ，烘烤製程室2 0 2，第一步驟吸 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 收劑製程室203，電子光束淸除製程室204，第二步 驟吸收劑製程室2 0 5，密封製程室2 0 6與冷卻室 2 0 7圍者中央真空室2 0 8以星狀建構而設置之設備的 槪要計畫圖。該室2 0 1至2 0 7由個自獨立的室分開。 圖2的設備中，雖然負載鎖2 0 9被設在前室2 0 1 與中央真空室2 0 8之間，類似的負載鎖也許被使用作爲 其它室2 0 2至2 0 7以致於所有室2 0 1至2〇7與中 央真空室2 0 8可以由負載鎖分開。此外，取代設在烘烤 製程室2 0 2與中央真空室2 0 8間之負載鎖，熱屏障材 料2 1 0也許也被使用。進一步，類似地，分別地取代設 在其它室2 0 3至2 0 7與中央真空室2 0 8間之負載鎖 ，熱屏障材料2 1 0也許也被使用。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在中央真空室2 0 8中，運送桿2 1 1被設置，在其 兩端上，有由靜電夾盤法或機械夾盤法使RP 1 1 1與 FP 1 12固定之運送頻帶213。運送頻帶213分 別地以箭頭2 1 4的方向被設在可使R P 1 1 1與F P 1 1 2旋轉之運送桿2 1 1上。 /根據運送頻帶2 1 3的移動由重覆對各室2 0 1至 2〇72RP ill與FP 112的運入與運出，各 製程步驟被應用。在應用各製程步驟中，雖然所有製程步 驟也許對RP 111與FP 112上之兩基底而應用 ，最好是對RP 111與FP 112上之兩基底其中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） _ 3〇 - 514960

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（2今 之一處理預定的步驟。例如，取代所有如上述R p 1 1 1與1?]? 1 12上之兩基底之步驟之製程，僅運入 第一步驟吸收劑製程室2 0 3與第二吸收劑製程室2 〇 5 之F P 1 1 2也是可能的，吸收劑製程僅對f p 1 1 2應用之處，與在製程期間，使r p 1 1 1在中央 真空室2 0 8中等待，且省略R p 1 1 1之吸收劑製程 〇 此外’根據本發明，如氬氣體或氖氣體之惰性氣體， 或氫氣體也許在經解壓的條件下被包含在各室2 0 i至 2〇7與中央真空室208中。 Η 3疋使用本發明的設備與方法產生之影像顯示設備 的橫截面圖。 圖中’那些與圖1 Α與2相同的符號爲相同的零件。 在根據設備與方法產生之影像顯示設備中，真空容器與解 壓容器由RP 111 ，FP 112與外殼113形成 °如氬氣體或氖氣體之惰性氣體，或氫氣體也許在經解壓 的條件下被包含在解壓容器中。 此外’在真空容器的案例中，真空程度也許被設在1 X 1 0— 5P a或更多之高點，最好是1 X 1 〇-5p a或更 多。 在真i谷益與解壓容器中，間隔1 1 5被設置以形成 抗大氣結構。在本發明使用之間隔1 1 5有如非鹼玻璃， 設在由配置高阻抗材料形成之高阻抗膜3 〇 9的兩側上之 金屬（鎢’銅，銀，金，組，這些金屬的合金或其類似） 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵〇 X 297公爱) ~ 讎 " --.------------------訂---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 514960 A7 ______B7^_ 五、發明說明（θ 膜3 0 8與3 1 0之非驗絕緣材料覆蓋主體3 1 1的表面 製成的主體3 1 1 ’且經由導電的黏劑係電子連接且黏至 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接線3〇6 。如果間隔1 1 5被運入前室1〇1或2〇1 ’間隔1 1 5在它的一末端上預先由如熔塊玻璃之低熔點 黏劑3 0 7而黏附地固定至R P 1 1 1 ，且當製程在密 封製程室1 0 6或2 0 6中完成時，間隔1 1 5的其它末 端與FP 112係電子連接且接觸地配置。 在RP 1 1 1中，玻璃或其類似製成的透通基底 3 0 4 ，避免如鈉之鹼入侵之襯底膜（S i〇2，S η〇2 等），與多個以χγ矩陣建構之電子光束射出裝置3 12 。接線3 0 6在與電子光束射出裝置連接之陰極側上之 X Υ矩陣接線的一陰極側上形成接線。 在本發明中，取代使用作磷光體激發機構或影像顯示 裝置構件之電子光束射出裝置3 1 2，電漿生成裝置也許 被使用。在使用電漿生成裝置中，如氬氣體或氖氣體之惰 性氣體，或氫氣體在解壓條件下被包含在容器中。 在F Ρ 1 1 1中，玻璃或其類似製成的透通基底 30 1 ，磷光體層302與連接至陽極源（未顯示）之陽 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 極金屬（鋁，銀，銅等）膜3 0 3被配置。 此外，在本發明中，當電漿生成裝置被使用時，彩色 濾光器可以被使用取代當作影像顯示構成使用之磷光體。 當運送外殻1 1 3入前室1 〇 1或20 1時’外殻 1 1 3由如熔塊玻璃之低熔點黏劑3 0 _ 3預先黏附地固定 至RP 1 1 1 ，且在密封製程室106或206之製程 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 514960 A7 B7 五、發明說明（ 步驟中由使用銦或熔塊玻璃之密封材料 貼。 根據本發明，當在X γ方向以如1億像素或 量而提供電子射出裝置或電漿生成裝置，且製造 被設在具3 0吋或更大的對角尺寸之大螢幕上之 設備時，製造處理時間可以被實質地縮短且，同 1 0 - 6 P a或更高的高真空程度可以在形成影像 之真空容器中達成。 因此，製造影像顯示設備之方法與設備被提 的。熟知此技藝之人將體會本發明可以由除了爲 明而非限制的目的而呈現之較佳實施例實行’且 限於以下申請專利範圍。 4而固定地黏 更多之大 大量像素 影像顯示 時，1 X 顯不設備 供是可見 了舉例說 本發明僅 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) II裝 1T---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公爱） -33-

Claims (1)

1. 514960 8 8 8 8 ABCD 六、申請專利範圍 1 . 一種製造影像顯示設備的方法，包含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由該磷光體激發機構配置磷光體發光於其上 之第二基底； b:在真空氣壓下運送其中之一或兩該第一與第二基 底進入真空氣壓之吸收劑製程室，且提交吸收劑製程該一 運送之基底，或其中之一或兩該運送之基底；以及 c:在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 壓之密封製程室中，且以相對的狀態熱密封該基底。 2 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法，其中該步驟a，b與c是:一線上之步驟組。 3 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法，其中該步驟a ，b與c是一線上之步驟組，且熱屏障 構件被配置在該吸收劑製程室與該密封製程室之7間。 4 .根據申請專利範圍第3項製造影像顯示設備的方 法，其中該熱屏障構件是反射金屬形成的。 5 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法，其中該步驟a ，b與c是一線上之步驟組，且負載鎖 被配置在該吸收劑製程室與該密封製程室之間。 6 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法，其中該步驟a，b與c是星狀建構上之步驟組。 7 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法，其中該步驟a ，b與c是星狀建構上之步驟組，且該 吸收劑製程室與該密封製程室由獨立的室分開。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） (請先閱讀背νιίυ之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -34 - 514960 Λ 8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 8 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法’其中該磷光體激發機構有電子光束發射機構。 (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 9 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的方 法’其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配置之 外殼。 1 0 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法’其中該第一基底有預先在該第一基底內部固定地配 置之間隔。 1 1 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法’其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配置 之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 1 2 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法’其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配置 之外殼.。 7 1 3 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法’其中該第二基底有預先在該第二基底內部固定地配 置之間隔。 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 1 4 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配置 之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 1 5 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法，其中該在步驟b使用之吸收劑是蒸發式吸收劑。 1 6 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 方法，其中該蒸發式吸收劑是鋇吸收劑。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） -35- 514960 Λ 8 Β8 C8 D8 i '~1 I六、申請專利範圍 i * 1 7 .根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 |方法，其中該在步驟c使用之密封材料是低熔點材料。 * (請先間讀背而之注意事項再填寫本頁) j 1 8 ·根據申請專利範圍第1項製造影像顯示設備的 |方法，其中該低熔點材料是低熔點金屬或這種金屬的合金 ! i I 〇 1 9 .根據申請專利範圍第1 8項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點金屬是銦或銦的合金。 2 0 .根據申請專利範圍第1 7項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點材料是熔塊玻璃。 2 1 . —種製造影像顯示設備的方法，包含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由該磷光體激發機構配置磷光體發光於其上 之第二基底； b :在真空氣壓下運送其中之一或兩該第‘一與第二基 底進入真空氣壓之烘烤製程室，且以預定的溫度提交烘烤 製程兩該基底；以及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 c :在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 壓之密封製程室中，且以相對的狀態熱密封該基底。 2 2 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a，b與c是一線上之步驟組。 2 3 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b與c是一線上之步驟組，且熱 屏障構件被配置在該烘烤製程室與該密封製程室之間。 2 4 .根據申請專利範圍第2 3項製造影像顯示設備 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -36 - 514960 Vo 8 S 8 ABC D 六、甲請專利範圍 的方法，其中該熱屏障構件是反射金屬形成的。 (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) 2 5 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b與c是一線上之步驟組，且負 載鎖被配置在該烘烤製程室與該密封製程室之間。 2 6 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a，b與c是星狀建構上之步驟組。 2 7 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b與c是星狀建構上之步驟組， 且該烘烤製程室與該密封製程室由獨立的室分開。 2 8 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該磷光體激發機構有電子光束發射機構。 2 9 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼。 7 3 0 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先在該第一基底內部固定地 配置之間隔。 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 3 1 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 3 2 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配 置之外殼。 3 3 .根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯示設備 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210XZ97公釐） -37- 514960 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 的方法，其中該第二基底有預先在該第二基底內部向 丨固定地 配置之間隔。 3 4 ·根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯系％ 一 a爪§又備 r請先間讀背而之a意事項再填寫本頁j 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固 疋地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 3 5 ·根據申請專利範圍第2 1項製造影像顯系& 的方法，其中該在步驟c使用之密封材料是低熔點衬料。® 3 6 ·根據申請專利範圍第3 5項製造影像顯齐1 • 、不設備 的方法，其中該低熔點材料是低熔點金屬或這種金屬的^ 金。 3 7 ·根據申g靑專利範圍第3 6項製造影像顯示設^ 的方法，其中該低熔點金屬是銦或銦的合金。 3 8 ·根據申請專利範圍第3 5項製造影像顯示設_ 的方法，其中該低熔點材料是熔塊玻璃。 / 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 3 9 · —種製造影像顯示設備的方法，包含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由該磷光體激發機構配置磷光體發光於其上 之第二基底； b :在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 壓之烘烤製程室且以預定的溫度提交烘烤製程兩該基底； c :在真空氣壓下運送其中之一或兩該第一與第二基 底進入真空氣壓之吸收劑製程室，與提交吸收劑製程該一 運迭之基底或其中之一或雨該運送之基底， d :在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -38- 514960 ABC D 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 壓之密封製程室中，且以相對的狀態熱密封該基底。 4 ◦.根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a，b，c與d是一線上之步驟組。 4 1 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b ，c與d是一線上之步驟組， 且熱屏障構件分別地被配置在該烘烤製程室與該吸收劑製 程室之間，在該烘烤製程室與義密封製程室之間，或在該 烘烤製程室，該吸收劑製程室與該密封製程室之間。 4 2 ·根據申請專利範圍第4 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該熱屏障構件是反射金屬形成的。 4 3 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b，c與d是一線上之步驟組， 且負載鎖分別地被配置在該烘烤製程室與該吸收劑製程室 之間，在該烘烤製程室與該密封製程室之間，在該烘烤 製程室，該吸收劑製程室與該密封製程室之間。 4 4 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b，c與d是星狀建構上之步驟 組。 4 5 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該步驟a ，b，c與d是星狀建構上之步驟 組，且該烘烤製程室，該吸收劑製程室與該密封製程室由 獨立的室分開。 4 6 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該磷光體激發機構有電子光束發射機構。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (諸先¾讀背1¾之注意事項再填寫本頁)

   -39- 514960 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Ab B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 7 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼。 4 8 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先在該第一基底內部固定地 配置之間隔。 4 9 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 5 0 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配 置之外殼。 5 1 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先在該第二基底τ内部固定地 配置之間隔。 5 2 .根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 5 3 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該在步驟b使用之吸收劑是蒸發式吸收劑。 5 4 根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該蒸發式吸收劑是鋇吸收劑。 5 5 ·根據申請專利範圍第3 9項製造影像顯示設備 的方法’其中該在步驟c使用之密封材料是低熔點材 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

   -40- 514960 Λ B c D 六、申請專利範圍 5 6 .根據申請專利範圍第5 5項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點材料是低熔點金屬或這種金屬的合 (請先間讀背西之注意事項再填寫本頁) 金。 5 7 ·根據申請專利範圍第5 6項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點金屬是銦或銦的合金。 5 8 .根據申請專利範圍第5 5項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點材料是熔塊玻璃。 5 9 . —種製造影像顯示設備的方法，包含的步驟： a :製造配置磷光體激發機構於其上之第一基底與在 真空氣壓下藉由磷光體激發機構配置磷光體發光於其上之 第二基底； b:在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 壓之烘烤製程室，且以預定的溫度提交烘烤製程兩該基底 . 7 J C :在真空氣壓下運送其中之一或兩該第一與第二基 底進入真空氣壓之第一吸收劑製程室，且第一吸收劑製程 該一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 d:在真空氣壓下運送其中之一或兩該第一與第二基 底進入真空氣壓之電子光束淸除製程室，且電子光束淸除 製程該一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底； e :在真空氣壓下運送其中之一或兩第一與第二基底 進入真空氣壓之第二吸收劑製程室，且第二吸收劑製程該 一運送之基底或其中之一或兩該運送之基底；以及 f :在真空氣壓下運送該第一與第二基底進入真空氣 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） -41 - 514960 A BCD 申請專利範圍 壓之密封製程室，且以相對的狀態熱密封該基底。 (請先闆讀背西之注意事項再填寫本頁) 6 0 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中步驟a ，b ，c ，d ，e與f是一線上之步 驟組。 6 1 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中步驟a ，b ，c ，d ，e與f是一線上之步 驟組，且熱屏障構件被配置在該烘烤製程室與該第一吸收 劑製程室之間，在該第一吸收劑製程室與該電子光束淸除 製程室之間，在該電子光束淸除製程室與第二吸收劑製程 室之間，或在該第二吸收劑製程室與該密封製程室之間。 6 2 .根據申請專利範圍第6 1項製造影像顯示設備 的方法，其中該熱屏障構件是反射金屬形成的。 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 6 3 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中步驟a ，b，c ，d，e與f是‘一線上之步 驟組，且負載鎖被配置在該烘烤製程室與該第一吸收劑製 程室之間，在該第一吸收劑製程室與該電子光束淸除製程 室之間，在該電子光束淸除製程室與第二吸收劑製程室之 間，或在該第二吸收劑製程室與該密封製程室之間。 6 4 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中步驟a ，b，c ，d，e與f是星狀建構上 之步驟組。 6 5 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中步驟a ，b，c ，d，e與f是星狀建構上 之步驟組，且該烘烤製程室，該第一吸收劑製程室，該電 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21 OX 297公釐） -42- 514960 Λ B c D 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 子光束淸除製程室，該第二吸收劑製程室由獨立的室分開 〇 6 6 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法’其中該磷光體激發機構有電子光束發射機構。 6 7 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法’其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼。 1 6 8 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先在該第一基底內部固定地 配置之間隔。 6 9 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第一基底有預先繞著該第一基底固定地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 7 0 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影i顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配 置之外殼。 7 1 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先在該第二基底內部固定地 配置之間隔。 7 2 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該第二基底有預先繞著該第二基底固定地配 置之外殼與在該第一基底內部固定地配置之間隔。 7 3 .根據申請專利範製造影像顯示設備 的方法，其中該在步驟b與d使^劑是蒸發式吸收 請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言· T 峄. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公瘦） -43- 514960 Λ BCD 六'申請專利範圍 劑。 7 4 ·根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該蒸發式吸收劑是鋇吸收劑。 7 5 .根據申請專利範圍第5 9項製造影像顯示設備 的方法，其中該在步驟e使用之密封材料是低熔點材料。 7 6 ·根據申請專利範圍第7 5項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點材料是低熔點金屬或這種金屬的合 金。 7 7 ·根據申請專利範圍第7 6項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點金屬是銦或銦的合金。 7 8 ·根據申請專利範圍第7 5項製造影像顯示設備 的方法，其中該低熔點材料是熔塊玻璃。 7 9 · 一種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之‘第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b :其中之一或雨該第一與第二基底可以由搬運機構 在真空氣壓下運送之第一真空室； c :建構在具該吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸 收劑活化機構之該第一真空室中之吸收劑給予機構； d :該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第二真空室； e :建構在該第二真空室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構第一與第二 基底之基底建構機構；以及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) --訂---- 4. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -44- 514960 X- 8 8 8 Λ BCD 六、申請專利範圍 (請先閱讀背1¾之注意事項再填寫本頁) f :建構在該第二真空室中，在預定溫度中熱密封由 該基底建構機構在相對位置建構之該第一與第二基底之密 封機構。 8 0 .根據申請專利範圍第7 9項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上。 8 1 .根據申請專利範圍第7 9項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上，且各室由 熱屏障構件分開。 8 2 .根據申請專利範圍第7 9項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上，且各室由 負載鎖分開。 8 3 .根據申請專利範圍第7 9項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在星狀建構上，且各 室由獨立的室分開。 1 8 4 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 b :該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第一真空室； c :建構在該第一真空室中，由加熱該第一與第二基 底烘烤製程該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d :該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第二真空室； e :建構在該第二真空室中，由向內部導向影像顯示 本纸張尺度適用中國國家標準（ CNS ) Α4規格（210X 297公釐） -45- 514960 A BCD 六、申請專利範圍 設備之該第一與第二構件以於彼此相對位置建構該第一與 第二基底之基底建構機構；以及 (請先闊讀背而之注意事項再填寫本頁) f :建構在該第二真空室中，在預定溫度中熱密封由 基底建構機構在相對位置建構之該第一與第二基底之密封 機構。 8 5 .根據申請專利範圍第8 4項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上。 8 6 ·根據申請專利範圍第8 5項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上，且各室由 熱屏障構件分開。 8 7 ·根據申請專利範圍第8 5項之製造設備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在一線上，且各室由 負載鎖分開。 8 8 ·根據申請專利範圍第8 5項之製造_備，其中 該第一真空室與該第二真空室被建構在星狀建構上，且各 室由獨立的室分開。 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 8 9 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b:該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第一真空室； c :建構在該第一真空室中，由加熱第一與第二基底 烘烤處理該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d:該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -46- 514960 AS B8 C：8 D8 六、申請專利範圍 運送之第二真空室； e :建構在具吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收 劑活化機構之該第二真空室中之吸收劑給予機構； f :該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第三真空室； g :建構在該第三真空室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 h :建構在該第三真空室中，在預定溫度中熱密封由 基底建構機構在相對位置建構之該第一與第二基底之密封 機構。 9〇·根據申請專利範圍第8 9項之製造設備，其中 該第一真空室，該第二真空室與該第三真空室被建構在一 線上。 了 9 1 .根據申請專利範圍第8 9項之製造設備，其中 該第一真空室，該第二真空室與該第三真空室被建構在一 線上，且各室由熱屏障構件分開。 9 2 ·根據申請專利範圍第8 9項之製造設備，其中 該第一真空室，該第二真空室與該第三真空室被建構在一 線上，且各室由負載鎖分開。 9 3 .根據申請專利範圍第8 9項之製造設備，其中 該第一真空室，該第二真空室與該第三真空室被建構在一 線上，且各室由獨立的室分開。 9 4 . 一種製造影像顯示設備之設備，包含： 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 蟬· 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 -47- 514960 Λ 8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b:該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 而運送之第一真空室； c :建構在該第一真空室中，由加熱該第一與第二基 底烘烤製程該經運送的第一與第二基底之烘烤機構； d:該第一與第二基底可以由搬運機構在真空氣壓下 運送之第二真空室； e :建構在具吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收 劑活化機構之該第二真空室中之吸收劑給予機構； f :其中之一或兩該第一與第二基底可以由搬運機構 在真空氣壓下運送之第三真空室； g :建構在該第三真空室中，由放射電子光束應用電 子光束淸除製程之電子光束淸除機構； 7 h:其中之一或兩該第一與第二基底可以由搬運機構 在真空氣壓下運送之第四真空室； 1 :建構在具吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收 劑活化機構之該第四真空室中之第二吸收劑給予機構； j :其中之一或兩該第一與第二基底可以由搬運機構 在真空氣壓下運送之第五真空室； k :建構在該第五真空室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 1 :建構在第該五真空室中，在預定溫度中熱密封由 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公犛） (請先閱讀背InJ之注意事項再填寫本頁) 訂 蟬. 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 -48- 514960 ABCD 申請專利範圍 基底建構機構以相對位置建構之該第一與第二基底之密封 機構。 9 5 .根據申請專利範圍第9 4項 該第一真空室，該第二真空室，該第三 空室與該第五真空室被建構在一線上。 之製造設備，其中 真空室，該第四真 根據申請專利範圍第9 4項之製造設備，其中 真空室，該第四真 且各室由熱屏障構 該第一真空室，該第二真空室，該第三 空室與該第五真空室被建構在一線上， 件分開 該第 空室 開。 該第 空室 分開 9 7 .根據申請專利範圍第9 4項之製造設備，其中 一真空室，該第二真空室，該第三真空室，該第四真 與該第五真空室被建構在一線上，且各室由負載鎖分 9 8 .根據申請專利範圍第9 4項 一真空室，該第二真空室，該第三 與該第五真空室被建構在一線上， (請先間讀背而之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

   申請專利範圍第7 之製造設備，其中 真空室，該第四真 且各室由獨立的室 9 ， 8 4 ， 8 9 與 :¾¾¾¾備，其中影像顯示設備之該第一構件是電 束射出裝置，且影像顯示設備之該第二構件是磷光體 1 0 0 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -49- 514960 A 8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 b:由該搬運機構運入之該第一基底可以被運送不需 被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c ··建構在具吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收 劑活化機構之該第一解壓室中之吸收劑給予機構； d:該第一與第二基底可以被運送不需被曝光至大氣 而給予吸收劑之第二解壓室； e :建構在該第二解壓室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 f :建携在該第二解壓室中，在預定溫度中密封由加 熱該第一與第二基底之基底建構機構以相對位置建構之該 第一與第二基底之密封機構。 1 0 1 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之餐一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b:由搬運機構運入之該第一與第二基底可以被運送 不需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c :建構在具吸收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收 劑活化機構之該第一解壓室中之吸收劑給予機構； d:該第一解壓室之該第一與第二基底可以被運送不 需被曝光至大氣之第二解壓室； e :建構在該第二解壓室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 「先間讀背面之注意事項再填寫本頁) ______丁___ 4. 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 -50- 514960 Λ 8 B8 C8 DS 六、申請專利範圍 (請先閱讀背而之注意事項再填寫本頁) f :建構在該第二解壓室中，在預定溫度中密封由加 熱該第一與第二基底之該基底建構機構以相對位置建構之 該第一與第二基底之密封機構。 1 〇 2 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b:由該搬運機構運入之会第一與第二基底可以被運 送不需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c :建構在該第一解壓室中，由加熱該基底烘烤處理 經運送的該第一與第二基底之烘烤機構·， d:建構在該第一與第二基底可自該第一解壓室運送 不需被曝光至大氣之該第一解壓室或第二解壓室中，具吸 收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收劑活化機構之第一吸 收劑給予機構； 7 e:該第一與第二基底可自該第一或第二解壓室運送 不需被曝光至大氣之第三解壓室； 經濟部智慧財.4局員工消費合作社印製 f :建構在該第三解壓室中，由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 g :建構在該第三解壓室中，在預定溫度中密封由加 熱該第一與第二基底之基底建構機構以相對位置建構之該 第一與第二基底之密封機構。 1〇3 · —種製造影像顯示設備之設備，包含： a :搬運影像顯示設備之第一構件設置之第一基底與 本紙張尺度適用中國國家標準( CNS ) A4規格（210X297公釐） -51 - 514960 A 8 Βδ C8 D8 六、申請專利範圍 影像顯示設備之第二構件設置之第二基底之搬運機構； b:由搬運機構運入之該第一與第二基底可以被運送 不需被曝光至大氣同時維持解壓的狀態之第一解壓室； c :建構在該第一解壓室中，由加熱該基底烘烤處理 經運送的該第一與第二基底之烘烤機構； d:建構在該第一與第二基底可自該第一解壓室運送 不需被曝光至大氣之該第一解壓室或第二解壓室中，具吸 收劑先驅與活化該吸收劑先驅之吸收劑活化機構之第一吸 收劑給予機構； e:該第一與第二基底可自該第一或第二解壓室運送 不需被曝光至大氣之第三解壓室； f :建構在該第三解壓室中，由放射電子光束至該第 一與第二基底淸除該第一與該第二基底之電子光束淸除機 構； 7 g :該第一與第二基底可自該第三解壓室運送不需被 曝光至大氣中之第四解壓室； h :建構在該第二解壓室中，具吸收劑先驅與活化該 吸收劑先驅之吸收劑活化機構之第二吸收劑給予機構； 1 :該第一與第二基底可自該第四解壓室運送不需被 曝光至大氣中之第五解壓室； j :建構在該第五解壓室中’由向內部導向影像顯示 設備之該第一與第二構件以彼此相對位置建構該第一與第 二基底之基底建構機構；以及 k:建構在該第五解壓室中’在預定溫度中密封由加 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇乂297公瘦） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 辦· 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 -52- 514960 ABCD 六、申請專利範圍 ^ f亥帛—與第二基底之基底建構機構以相對位置建構之第 一與第二基底之密封機構。 V : V\:義 1〇4 製造設備 i _氣體。，·Α 1 〇=sl 乏製造設備 氫氣體。 0 6 t製造設備 圈 g氣體。 1 〇 7 f製造設備 氫氣體。 〇8 製造設備

   替 經 11® 犧氣體 麵； 金i 1 根據 其中

   申請專利範圍第1 〇 〇至1 〇 3項 解壓室在解壓下包含惰性氣體或 根據申請專利範圍第1 0 0至1 0 3項 其中該第二解壓室在解壓下包含惰性氣體或 根據_ $ _胃 其中三解壓 利範圍第1〇0至1 0 3項 室在解壓下包含惰性氣體或 P^D| mm 根據 &申請專利範圍第1 〇 〇至1 〇 3項 其中該第四解壓室在解壓下包含惰性氣體或 部 智 慧 財 消 費 合 社 印 製

   10 9 製造設備 根據申請專 其中五解壓 麵 丨_ 根據_申請專 其中影像顯示設 裝置，且影像顯不設備之，該桌 器二、 利範圍第1〇0至1〇3項 室在解壓下包含惰性氣體或 利範圍第1 0 0至1 0 3項 備之該第一構件是電漿生成 二構件是磷光體或彩色濾光 請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T. 瓣. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -53-