TW508616B - Electron beam lithography method and electron-optical lithography system - Google Patents

Description

立 赞叨說明（u 有兩種不同、 、 子束寫入及雷，方法可以應用於電子束平版印刷，即電 電子束投影—平版印刷。 在這種方法中7疋以一聚焦電子束對基板進行順序照射。 並經過相應的電電子束係以行掃瞄方式掃瞄過整個製品， 上；或是^聚焦=束選析將吾人所欲的圖案寫在標的物 部分。由於雷^ ΐ子束向量掃瞄方法一樣僅通過待照射的 變，因此電子身宜形係射存在電腦中，而且可以任意改 性。另外-個優點ί使用上具有很大的彈 的電子-光學成彳疋"1達到很南的解析度，光是以簡單 焦。電子束寫糸^先即可獲致直徑小於1 〇Onm的電子聚 因此非常=用順序點狀寫入的方式， 平版印刷所需的光罩。別 束寫入主要被用在製造投影 單彳ρ，I i寫入機通常是安裝在構造比透射電子顯^ β 早很多的掃猫電子顯微鏡上。為 ：：：：微鏡間 上加裝-個所謂的電子束媳滅 2顯微鏡 以將電子束轉向至一片遮光罩二種裝置可 射部分的電子束"熄滅"掉。 ，射在口人不希望照 電子束投影平版印刷類似於光學 部分面積同時受到電子束照射，罩的大 於晶圓上。由於電子束投影平版印刷是同：二小成像 成像，因此所能達到的通過率明顯高於電二束；個場域上 於其電子-光學系統無法修正的透鏡誤差，σ有、入。但由 X 1·的光罩分區可以同時被縮小成像在晶圓、1大^約1日mm 了照 616 五、發明說明（2) 射到整個電路，這些光罩分區必須經由電子-光學移動或 機械移動（或是電子-光學移動加上機械移動）被彼此緊鄰 設置。 專利編號US 3 876 883的專利提出一種上述之電子束 技〜平版印刷系統。該專利同時提及，為了校正光罩及晶 圓的相互關係，可以調整光罩之前的聚光器的激勵，使電 =束聚焦在光罩上。接著位於光罩之後的投影系統就將在 光罩面上形成的電子束聚焦成像在晶圓上。 其他類似之電子束投影平版印刷系統亦見於專利編號 us 4 1 40 9 1 3 及EP 〇 367496 的專利。 的si ^ ί電子束投影平版印刷系、统的缺.點是每一個要照射 古]^ μ而要一個專屬的光罩。由於光罩的製作費用非常 於電子於訂單S小的客戶而言相當不經濟。有一種介

Hi:入及電子束投影平版印刷之間的混合方式是以 一戚型的電子击赍λ 取代聚隹雷早由，。這種方式是以經光闌成型的電子束 開口且有、浐m i ’並將光闌投影在待照射的基板上。光闌 由這：iC形狀，結板上形成的綜合圖案都是 特別製;:形狀：組成。這種混合方式雖然不需要 平版印刷，〇 #但匕的寫入速度明顯低於電子束投影 本=s /匕聚焦電子束快一點點。 刷系統，讓即禅的在於提出一種方法及電子束投影平版印 低的價格就達製作a少數量電路的客戶也可以用很 本七明提出之具有巾請專利範圍第」項之特徵的

第5頁 發明說明（3) ________ 電子束4又衫平版印刷糸統及具有申故 徵的方法即可達到此目i申項：： 發明之各種有利實施方式具有的特徵。/、項目為本 本發明是以一部單一的機器來執行由雷早 印刷及電子束寫入組成的製作步1::=投影平版 :步是經由-投影系統以電子-光學的作V將"么方法第 在待照射的基板上。此光罩具有待、光罩成像 或是經由-個光閑在光罩面之前使電子束在先罩面上聚焦 :上聚焦形成的進一步成像或是設】將在光罩 =型光闌在待照射之基板上的圖 一偏棘^ =將基板面上電子聚焦的偏轉或成型電子走r ^ “偏轉糸統將光罩上尚未具備但為吾人所！子束經由 圖案寫在基板上 客户㈣要求之印刷導線和其他 在本發明的第一種實施方式中，雷 基板面上聚焦的電子束來^ 電子束寫入是由一在 式中，電子束寫入是鬧的第二種實施方 且這個光闌含有一可讓電子 古2子束來完成，而 、如果要在基板上照射較J的區域：基本圖案的範圍。 以多次交替進行。由’时2 ¥ ’以上兩個步驟可 =進行，因此在更換；驟：：： = ::機器中多次 予軸之間的關係。 新技正基板與機器光 本發明的電子—伞風τ 予平版印刷系、、统具有一個電子源、 508616

一個最好是多段式的聚光器、一個設置在聚光器之後 罩面、以及-個緊接在光罩面之後的投影系統。這個投影 系統可以將光罩縮小成像在待照射的基板上。經由一個^ 制裝置可以切聚光器激勵或是轉向至另一個光闌，以選 讓電子束同時照射在大範圍的光罩面上、聚焦在光罩面 上、或是在光罩面上投射一小的成型電子束橫戴面。此 外，投影系統内或投影系統前面還設有一個可控制的偏 轉，可=將聚焦電子束或成型電子束在基板内沿著事先貯 存或計异出來的路線移動。不同於專利編號us 3 876 883

之專利提出的平版印刷系統，本發明之平版印刷系統之聚 焦在光罩面上的電子束係以投影掃瞄器掃瞄，而且此投影 掃瞄器連接一可產生待寫入圖案之圖案產生器。在這種寫 入模式中，聚光器-偏轉系統會保持穩定的控制，讓電子 束能夠通過光罩内的一個通孔。

。本發明的一種有利實施方式的多段式聚光器具有一聚 ^器光闌。沿著照射方向看過去，此聚光器光闌的位置在 2罩面之前的最後一個聚光器透鏡之前。聚光器光闌所在 虑=應與在投影模式下（即光罩面受到均勻照射的模式）形 下子源之圖形的面重合。因此這個聚光器光闌在投影模 H t無任何作用，而在寫入模式下則同時作為照明光闌 的ς場掃瞄光闌。在寫入模式下，在不要受到照射的位置 、“子束會經由一聚光器偏轉系統被偏轉至光闌上。 個供^，了步的有利方式是在聚光器透鏡之間設置另外一 、又衫模式用的視場光闌。這個視場光闌係設置在相當

第7頁 508616 五、發明說明（5) 於最後一個聚光器透鏡的電子源侧的目標面上，因此可以 被最後一個聚光器透鏡十分清晰的成像在光罩面上。 在此要特別說明的一點是，寫入模式及投影模式之間 的切是經由改變電子源侧第一個聚光器透鏡的激勵來進 行’或是經由電子束在聚光器的一個光闌上的特定掃瞄是 進行；設置在光罩面之前的最後一個聚光器透鏡在寫入模 式及投影模式均受到固定不變的激勳，因此最後一個聚光 器透鏡的焦平面、進口侧像平面、以及出口側像平面在寫 入模式及投影模式中均可被癌定。

、在本發明另外一種有利實施方式中，最後一個聚光器 $鏡及第一個投影透鏡係由單--個所謂的聚光器-物鏡一 單視場透鏡所構成，且光罩面位於聚光器—物鏡-單視場透 鏡的。。狹縫中心。這種配置方式可以充分利用到聚光器一物 鏡-单視場透鏡低軸向誤差係數（尤其是色差係數）的特 模式和投 ’故投影 場透鏡， 的成像利 有入口側 尺寸過大 用上雖然 兩面聚光 單視場透 影模式之間的 糸統的最後一 這樣這面透鏡 用到。由於此 的部分被利用 ，但這樣作亦 具有很大的彈 器-物鏡-單視 鏡除了相應於

由於本發明的系統在進行寫入 切換時投影系統的激勵並未被改變 個透鏡可以作為聚光器—物鏡—單視 就只有入口侧視場的作用被電子束 第一個聚光器-物鏡—單視場透鏡口 到，因此整個系統給人的感覺似^ 有其好處。本發明的整個系統在使 性，卻僅需具備兩面聚光器透鏡和 场透鏡’而且這兩面聚光器—物鏡一

第8頁 508616 五、發明說明（6) 光罩面及基板面之間的成像比例的線性比例係數不同外其 他的構造幾乎完全相同，這對於簡化製造的複雜性有很大 的幫助。由於兩面聚光器-物鏡-單視場透鏡的幾何形狀很 相似，因此兩面投影透鏡的磁場也具有相似的幾何形狀， 這樣兩面投影透鏡的軸外誤差（如各向同性失真及各向異 性失真）就可以彼此抵消。為了達到這種誤差抵消的效 果，兩面聚光器-物鏡-單視場透鏡應被極性彼此相反的聚 焦磁場驅動。

由於基板係设置在聚光器-物鏡-單視場透鏡的聚焦磁 場内，而且二次電子會以已知的方式被這個聚焦磁場收 集，因此使用第二個聚光器-物鏡—單視場透鏡的另外一個 好處是可以準確的檢測出從待照射基板射出的二次電子。 本發明的方法及系統所使用的光罩最好具有若干分隔 板，以便將光罩分為數個子區域。電子束經由聚光器二 偏轉系統的偏轉，可以依序對光罩上不同的子區域進泊 勻的照明，並依序經由被偏轉系統偏轉回去的 _ 影系統内被投影。 在投 刀一悝頁料万式是光罩的分隔板上設置若干 ^ 些通孔的直徑大於經聚光器聚焦之電子束的直徑。宜沒 模式下電子束會被引導至這些通孔，因此電子牡馬入 干擾的通過光罩。將這些通孔作適當的配置還可二==， 罩對電子束的至少是初步校正的作用。 光 除了順序照射出細部圖案及/或客 圖案之外，在光罩面聚焦的電子束(或是在光罩

第9頁 五、發明說明（7) =的電子束）亦可用於光罩的子區域相對於待照射基板的 校正，這一點在前面提及之專利編號us 3 876 的專利 中已2提及。此外，在光罩面聚焦的電子束（或是在光罩 面之前成型的電子束亦可用於有缺陷之光罩圖案的再昭 或是用於修理因電子束對光罩上通孔造成金屬切割而 ^ ^的光罩。綜合以上的說明可知本發明的系統在應用上 具有很大的彈性及多種可能性。 一本以下以實際的實施方式配合圖式對本發明的細節作進 一步的說明。各圖式之内容如下： 皆圖：本發明之電子-光學平版印刷系統的第-種 實施方式示意圖。 用之Ϊ:f ·與第一圖之電子—光學平版印刷系統搭配使 用之j於光罩面内的光罩的一種實施方式示意圖。 成的組案第二圖之光罩經過順序投影之後在基板面形 實施:本發明之電子—光學平版印刷系統的第二種 貫靶方式之照明側部分的示意圖。 第五圖：第四圖之雷孚—土 ^ 場光闌的上視圖。 子、’版印刷系統使用之視 ⑴，第例如圖一的广子—光學平版印刷系統具有-個電子源 在带子。一固aB6陰極之類的熱發射極、以及一個設置 式聚光器系、统。在電子源所在 面積發射的签1锸ί作杈式之間作切換，即流量很大之大 、、喿作模式（投影模式）及比率電子流很大 观616 五、發明說明（8) 的第-種操作模式（寫入模式）。多段式聚光器系統具有兩 面電子源側磁透鏡（2a，2b)及位於其後之聚光器—物鏡-單 視場透鏡（7，12)的電子源側前視場（7)。聚光器—物鏡—單 視場透鏡（7 ’ 12)前視場（7)的電子源側物面設有一視場光 ^(3)，而在聚光器-物鏡-單視場透鏡（7，12)的電子源側 焦平面則設有-孔徑光闌⑸。在這兩個光闌之間設有一 快速靜電偏轉系統⑷’即斷謂的電子束熄滅裝置 用是將射至孔徑光闌（5)上電子無法透過之部位的電^ 偏轉，以便關閉電子束。聚光器-物鏡_單視場透鏡（？， 12)的電子源側焦平面還設有—個聚光器_偏轉系統（ 將電子束自光學軸偏轉，讓電子束的前進方向盘 先子軸平订，使電子束在光罩面（8)内可以照射至光上、 1不同子區域⑻。光罩面本身位於聚光器-物鏡_日 1鏡（7 ’12)的中央，亦即聚光器—物鏡—單視場透鏡（广 2)的極秘裂縫。在此光罩面内設有一第一圖中未 光f工作台，其作用是將置於其上的光罩在彼曰雨 個與光學軸垂直的方向上移動。 生且的兩 第-圖中所示的聚光器、偏轉系統⑹為 糸統。在實務上這種偏轉系絲一 早的偏轉 這種雙重偏轉系統可以⑯電子束以^ ς。轉系統。 視場透鏡（7，12)的電子源側隹 入的、/、器'物鏡~單 心向兩個相互垂直的方向偏轉重S的虛极轉折點為中 位於投影侧之聚光器-物鏡—單視場透鏡（7， 離電子源⑴的後視場(12)之後設有-投影器-偏』系之統背

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(14)及 是一種 兩個彼 聚光器 像比例 場透鏡 岣相同 磁場方 的磁場 被相互 第 在兩種 係。 —最後投影 雙重偏轉系 此垂直的方 一物鏡-單視 的線性比例 的構造與第 。第二個聚 向與第一個 方向相反， 抵消。 一圖中電子 不同的操作 階段（5)。投影器—偏轉系統（14)也可以 統，其作用是將電子束自光學軸偏轉至 向。最後投影段（5)以可以作為第二個 場透鏡的前視場。除了相應於電子束成 係數不同外，第二個聚光器-物鏡—單視 一個t光器-物鏡—單視場透鏡（了，12) 光器-物鏡-單視場透鏡（15)在前視場的 聚光器-物鏡-單視場透鏡在後視場（丨2 ) 因此兩個透鏡的部分軸外誤差係數可以 束的行進顯示電子-光學平版印刷系統 模式下（寫入模式及投影模式）的成像關 2Μ &使用-投影模式時’電子源側的兩個聚光器透鏡（2a ’ 9 /到同樣到激勵，將電子源的一個圖像（更精確的說應 =也子源電子束交迭點的一個圖像）成像在最後一個聚光 一器透鏡(j)的電子源侧焦平面上（亦即成像在第一個聚光器 物鏡-單視場透鏡（7，12)的焦平面上）。這樣就可以在光 $面（8)獲致一平行的照明。在這種模式下，光罩面（8)會 經1第二個聚光器-物鏡-單視場透鏡的後視場（1 2 )與第二 個聚光器—物鏡—單視場透鏡的前視楊（1 5) —起縮小成像於 基f面（1 6 ) °待照射的晶圓係設置在基板面（1 6 )的晶圓χ 作台上（在第一圖中未繪出）。晶圓工作台可以使晶圓在垂 直於電子-光學平版印刷系統之光學軸的方向上移動，以

第12頁 508616 五、發明說明（ίο) 便加大晶圓被照射的面積。構成投影系統之聚光器-物鏡— 單視場透鏡的兩個子區域（1 2，1 5 )構成一遠心系統。此遠 心系統的前焦平面與光罩面（8 )重合，後焦平面則與基板 面（1 6 )重合。 光罩面（8 )上照明區域的大小由視場光闌（3 )的孔徑大 小決定。在此照明模式下，經由改變共同構成一變焦透鏡 系統之第一個聚光器透鏡（2a，2b)的單激勵即可調整照明 孔徑的大小。改變照明孔徑即可造成單激勵的改變，使兩 個聚光器透鏡（2a，2b)在聚光器-物鏡—單視場透鏡（7， 1 2 )之前視場（7 )的電子源側焦平面均可保持電子源（1 )的 成像及/或電子源電子束交迭點的成像。 在切換至寫入模式時只是改變兩個電子源側聚光器透 鏡（2a ’2b)的激勵，使聚光器透鏡在視場光闌面（3)上共 同形成電子源（1 )的圖像。位於聚光器透鏡（2a，2b)之後 的聚光器透鏡（7 )及投影系統的成像階段均不會因為切換 至寫入模式而改變。這樣就可以確保聚光器—物鏡—單視場 透鏡（7 ’ 1 2 )之前視場（7 )可以將形成於視場光闌面（3 )的 電子聚焦成像在光罩面（8)，以及位於其後的投影系統將 這個電子束聚焦縮小成像在基板面上。 第一圖右半邊為電子-光學平版印刷系統的控制系统 不意圖。電子-光學元件及其所後屬的控制單元的控制 是^二部主電腦（20)負責。主電腦（2〇)控制電子源侧聚光 器透鏡（2a，2b)的控制系統（21)。此外，主電腦⑽還= 制聚光器-偏轉系統（6)的控制系統（22)、第一圖中示给^

第13頁 508616 五、發明說明（π) -- 的遮蔽罩工作台的控制系統（2 4 )、投影-偏轉系統（1 4 )的 控制系統（26)、投影系統（12，15)的控制系統（27)、由第 一個聚光器-物鏡-單視場透鏡的前視場（7)構成的最後一 個聚光器透鏡、以及第一圖中示繪出的晶圓工作台的控制 系統（28)。主電腦（20)還控制負責切換操作模式（寫入模 式及投影模式）的切換裝置（23)，以及一個圖案產生器、 (25) 。 ^ σ 圖案產生器（2 5 )在投影模式下沒有任何作用。電子一 光學元件的控制單元會產生各單一電流供給裝置及電壓供 給裝置（即負責為各種電子-光學元件，如透鏡及偏轉哭， 供應電流及電壓的裝置）的控制信號及調節信號。光罩^ 作台及晶圓工作台的移動及定位控制由工作台控制元 (24 ， 28)負責。 工 依據本發明的方法，晶圓的照明分成兩個步驟。當光 罩及晶圓完成定位後，首先經由平行投影將光罩的一 ^或 數個子區域成像在晶圓上，且晶圓受到相應的照明，此時 經由調整兩個電子源側聚光器透鏡（2a，2b)的調節信號可 以確保光罩面（8 ) ^:到一平行於光學軸的照明。光罩照明 結束後’由主電腦（2 0 )發出的控制信號會調整兩個電子 側聚光器透鏡（2a，2b)的控制單元（21)及聚光器—偏轉系〃 統（6)的控制系統（22)，以便在光罩的一個自由開口處妒 成電子源（1)的一個圖像，同時圖案產生器（25)及切 置（2 3 )也會開始作用。切換裝置（2 3)作用可使在寫入^

下，聚光器内快速偏轉系統（4)的控制（即電子束熄滅U

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的 經 束 裝 罩 域 控制）及投影器-偏轉系統（14)之控制單元（2 由圖案產生器（25)來進行。投影偏轉系統可將 1引丄至用基板上f照射的位i，同時暫停電子“減 置（4 )的作用，以進行照射動作。照射工作完成後，光 和晶圓彼此會分得更開，接著就進行光罩上下一個子 的照射及/或成像工作。 〇σ

第二圖所示為一光罩樣品。在第二圖的實施例中，光 罩具有6 X 6個正方形的子區域（9)。光罩上有若干分隔板 (10)將這些子區域（9)隔開。各子區域（9)分具具有待照射 圖案的一個片段。分隔板（10)在每4個子區域（9)之間具有 /個通孔（11)，其直徑大於光罩面（8)上聚焦電子束的直 徑。在電子束-投影-平版印刷中，兩個電子源側聚光器透 鏡（2a ’2b)會在最後一個聚光器透鏡（7)的前焦平面產生 電子源之電子束交迭點的一個圖像，這樣就可以確保光罩 (8 )的軸向平行照明在每一個子區域上均可獲得實現。照 明偏轉系統（6)可以將視場光闌（3)的圖像偏轉至各個待照 射的子區域（9)上。投影透鏡系統（12，15)會將依序被照 射的子區域（9 )縮小成像在光罩面（1 6 )及晶圓上。投影偏 轉系統（1 4 )會將各子區域彼此緊接在一起的排列投影在基 板面上，第三圖所示即為此種排列結果。 但是當在寫入模式下，子源之電子束交迭點經由兩個 電子源侧聚光器透鏡（2a，2b)的改變的激勵成像在光罩面 (8) ’這樣投影透鏡（12，15)就會在基板面（16)形成一聚 焦、電子束’此聚焦電子束可經由聚光器-偏轉系統（14)被

第15頁 508616 五、發明說明（13) 導引至子區域（9 )的特定位置，以進行細 :1聚光器-偏轉系統(6)會使電子束偏轉/讓電子么 ，，面上的通孔⑴）。*果光罩⑻上的通束 比聚，電子束的直徑大一點點’或是通孔的配置適二;； 如以頒似於條形編碼的方式作為通孔碼），則通過通孔 信號（例如經由掃瞄通孔周緣）亦可供校正光罩斑電 學軸之間的關係之用。 、 在第二圖及第三圖中每4個相鄰的子區域中間就設有 個通孔（1 1 )，且4個相鄰的子區域均具有相同的陰影 線。每4個一組具有相同的陰影線的子區域依序經:^個 偏轉系統（6，1 4 )造成的純電子-光學相對移動被成像，此 種移動係純純電子-光學式的移動，而非光罩或晶圓的機 械或移動。當4個具有相同的陰影線的子區域（9a — 9d)被 投影後，接著就是以電子束寫入形成細部圖案，亦即電子 束被聚焦在位於4個子區域中間的通孔（1 1)。然後光罩及 晶圓會向彼此靠攏移動，讓下一組4個子區域可以被順序 投影。 第四圖之實施例的構造與第一圖之實施例十分相似。 第四圖及第一圖之實施例中相應的元件亦均使用相同的標 號。第四圖之實施例與第一圖之實施例的最主要區別在 於，因採用一 4段式聚光器，因此在第一圖的實施例中， 雨個電子源側聚光器透鏡（2a，2b)及由聚光器—物鏡-單視 場透鏡（7，12)之前視場構成的最後一個聚光器透（7)之間 還有一個聚光器透（2c)。在聚光器透（2c)的主平面上設有

第16頁 508616 五、發明說明（14) 一個經修改的視場光闌（3)。視場光闌（3)除了具有界定待 照射之子區域（9)的光罩投影範圍的中心開口外，還具有 分散開口結構（17a，17b，17c，l7d)。經由一個適當的前 光闌（2 0 )可以對視場光闌（3 )處的照明加以限制，使只比 視場光闌（3 )的中心範圍（1 8 )大一點點的部分會受到照 明。 只要將聚光器透（2 c)沿著電子-光學平版印刷系統光 學轴的定位予以適當的配置，即可使聚光器透（2c)的主平 面與最後一個聚光器透鏡（7)的電子源侧目標面及/或聚光 器-物鏡-單視場透鏡（7，1 2 )前視場（7 )的電子源侧的目標 面重合。這樣視場光闌（3 )就會在投影模式下被成像於光 罩面（8)。另有一點與第一圖之實施例不同的是，在投影 模式下兩個電子源側聚光器透鏡（2a，2b)會同時被激勵， 使在靜電偏轉系統（4)的面上會形成一電子源的圖像，接 著這個圖像會經由聚光器透（2 c )以大約1 : 1的成像比例 (最好是以0 · 5 : 1至2 : 1之間的成像比例）被成像於最後一 個聚光器透鏡（7 )的電子源侧焦平面。 在第四圖的實施例中，在投影照明結束之後，電子束 可經由快速靜電偏轉系統（4)被偏轉至視場光闌（3)的一個 軸外開口。經由聚光器透（2c)及一雙重偏轉系統（6a，6b) 的屈光作用，可以將通過軸外開口的電子束再度偏轉回光 學軸，並沿著光學轴的方向行進。接習經由轴外開口 (17a，17b，17 c)塑造成吾人所欲之形狀的成型電子束可 以不受阻礙的通過光罩（8 )上的一個通孔（11 )。類似於投

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影照明的過程’經上述方式形成的成 後的一個投影系統（在第四圖中 :束也會經由隨 經由投影偏轉系統被引導至待照射曰的位置。於基板面，並 從投 2b) 電子 :同於第-圖的實施例’在第四圖的實施例中， 影模式切換至寫人模式時包括第—個聚光器透鏡 在内的所有透鏡的激勵均維持不變。在寫入模式(下， 广截面的形狀是由二場光闌(3)之被選出的軸外通孔 17^，17几二的形狀來決定。由於軸外通孔（17a , ，17c)在光罩面上的圖像夠小，因此經過一個軸外通 =型的電子束接著可以不受阻礙的通過光罩⑻上的通 孔 C1 1 ) 〇 在視場光闌（3)上也可以設置一沒有開口的位置 :1 :’自需要電子束消隱/熄滅時，可經由靜電偏轉系統 ()電子束將電子束引至此位置，我們已透過以上的實施 例對本發明提出的以最後一個聚光器透鏡（7 )及第一個投 ^透鏡(j 2)共同構成聚光器—物鏡—單視場透鏡的情況加以 虎明。這些實施例均為有利的實施方式。當然我們也可以 將最後一個聚光器透鏡（7)及投影系統（1 2)的第一個透鏡 做成可以獨立調整的單視場透鏡。但分別調整兩個透鏡不 但在操作上比較複雜，而且會降低成像效率。

第18頁 508616 圖式簡單說明 1 :電子源 2 a、2 b :電子源側磁透鏡 2c :聚光器透 3 :視場光闌 4 :快速靜電偏轉系統 5 :孔徑光闌 6 :聚光器-偏轉系統 7 :電子源侧前視場 7、1 2 :聚光器-物鏡-單視場透鏡

8 :光罩面 9 :子區域 10 分 隔 板 11 通 孔 12 後 視 場、投影 14 投 影 器-偏轉系 統 15 第 二 個聚光器- 物鏡-單視場透鏡 16 基 板 面 17a，17b，17c，17d分散開口結構置

1 9 :沒有開口的位置 2 0 :主電腦 21 、 22 、 24 、 26 、 27 、 28 :控制系統 23 :切換裝置 24、28 :工作台控制單元 2 5 :圖案產生器

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Claims (1)

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   修正 心月％ gf mJC 取、種電子—光學平版印刷系統，具有一電子源（1)、一 κ光器系統（2 a，2 b，7 )、一位於聚光器系統之後的光罩 = 以及一位於光罩面（8)之後的投影系統（12，15); 二心系統（1 2，1 5 )可受到適當的激動，以便將光罩面（8 ) 成像於一基板面（16)，且經由一控制裝置可以切換聚 的：激勵及/或偏轉元件’使光罩面⑻内形成一小型剖面 肉二焦j成型電子束，並可操縱一位於投影系統（12，15) 形:ί f偏轉系統（14)，使具有一小型剖面的聚焦或成 &始#束能夠在基板面（16)内沿著事先貯存或計算出來的 路線移動。 2特1如^請專利範圍第1項的電子-光學平版印刷系統，其 源1:工在背向電子源之最後一個聚光器透鏡（7)的電子 ，、側焦平面内設有一聚光器孔徑光闌（5)。 特η如^申明專利範圍差丄遵的電子—光學平版印刷系統，其 特欲為：聚光器具有一偏轉系統。 特种專利範圍的電子—光學平版印刷系、統，其 (3) 在與光罩面（8)共軛的平面内設有一視場透鏡 特徼^申專利範圍差丄屋的電子—光學平版印刷系統，其 係ώ一個聚光器透鏡（7)及第一個投影透鏡（12) 光哭一私聚光器—物鏡—單視場透鏡所構成，且光罩面位於聚 元时〜物鏡-單視場透鏡開口裂縫的中央。 刷系^^ 11差_1-星s項中^的電子-光學平版印 ”、、、，/、特徵為：具有一構成最後一個投影透鏡（15)的

   第20頁 2002. 06. 04. 006 508616 修正 Af虎9011編 六、申請專利範圍 第二個聚光器—物鏡—單視場透鏡 •如申請專利範圍第1項的電子-光學平版印刷系統，其 特徵為··投影透鏡（1 2，1 5 )係以一遠心系統的方式被操 作’其電子源側焦平面與光罩面重合，且其背向電子源的 焦平面與基板面（16)重合。 8 ·如申请專利範圍第1項的電子-光學平版印刷系統，其 特徵為：在切換聚光器激勵方式時，最後一個聚光器透鏡 (7 )及投影系統（i 2，1 5 )的激勵方式保持不變。 9 ·如申請專利範圍第1項的電子-光學平版印刷系統，其 特徵為：在光罩面（8)聚焦或在光罩面（8)之前成型的電子 束僅經由投影器—偏轉系統（14)被偏轉，且聚光器—偏轉系 統（6)受到固定激勵。 ’、 10·如申請專利範圍第丄項的電子-光學平版印刷系統，其 特徵為··視場光闌（3 )具有不同形狀、可使電子束通過並 形成不同剖面形狀的軸外部分。 Π·二复有缺陷来覃（8)之方法，係應用申 員中任一頊的電子-光學平版印刷系絲 焦或成型雷子東經由一偏轉糸統祜傯 的待倐漶付罟。 12· 一種電子束平版印刷方法，其第一個步驟是經由一投 影系統（12，15)以電子-光學方式將一光罩（8)成像於_ ^ 照射的基板（16);第二個步驟是經由電子束在光罩面 的聚焦或電子束在光罩面（8)之前的成型，以及 击去/ 田一偏 轉糸統（14)使聚焦或成型的電子束引導至設置在基板面

   U^16 ^__案號 9011^t_ 年 ----- 六、申請專利範圍 (1 6)内的基板上。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項的方法，其特徵為：光罩上具 有由分隔板（10)分開的子區城（9，9a，9b，9c，9d)，且 =同的子區域（9，9a ’9b，9C，9d)依序受到被設於聚光 态糸統（2a，2b，7)内的偏轉系統偏轉的電子” 依序被投影。 々射，、’ 分隔板 14·如申請專利範圍第1 3項的方法，其特徵為 (1 0 )上具有通孔。 ^ 15·如申請專利範圍第1 4項的方法，其特徵 徑大於經聚光器聚焦之電子束的直徑。$為：通孔的直 16·如申請專利範圍第1 4項的方法，其特 徑大於光罩面（8)内電子束剖面的最大尺寸。、、·通孔的直

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