DE2702445C3

DE2702445C3 - Korpuskularstrahloptisches Gerät zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat

Info

Publication number: DE2702445C3
Application number: DE2702445A
Authority: DE
Inventors: Klaus Dipl.-Ing. Anger; Burkhard Dr.-Ing. Lischke; Karl-Heinz Dr.Rer.Nat. Mueller; Andreas Dr.-Ing. Oelmann
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1977-01-20
Filing date: 1977-01-20
Publication date: 1980-10-09
Also published as: NL7713743A; FR2378349A1; FR2378349B1; GB1598735A; JPS5392671A; DE2702445B2; DE2702445A1; US4140913A

Description

Gerät der eingangs genannten Art die in der Umstellung der Kondensorerregung liegende Fehlerquelle zu beseitigen, bei der Justierung die Abbildung einer Prüföffnung der Maske auf das Präparat zu verbessern und eine flexible Anpassung der Abbildungsbedingungen zur Verringerung der Abbildungsfehler insbesondere hinsichtlich Auflösung oder Verzeichnung, zu ermöglichen.

Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Sonde ein aus mindestens annähernd parallelen Strahlen bestehendes Strahlbündel ist, das einen flächenhaften Teilbereich der Maske, dessen Fläche klein ist gegen die gesamte abzubildende Fläche der Maske, der jedoch noch getrennt abzubildende Einzelheiten enthält, gleichzeitig erfaßt

Das Flächenverhältnis von Teilbereich und gesamter abzubildender Fläche der Maske kann etwa in den Größenordnungen t :10² bis 1 rlO⁶ liegen; bei einem Durchmesser der Maske von 10 cm bedeutet das, daß der Durchmesser der Sonde etwa in den Größenordnungen 100 μπι bis 1 cm liegen kann.

Die Erfindung ermöglicht es, bei der relativen Justierung von Maske und Präparat einerseits und bei der Abbildung der gesamten Maske andererseits die gleiche Kondensoreinstellung zu verwenden; die Abbildung der Maske kann z. B. dadurch geschehen, daß die Maske durch entsprechende Erregung des Ablenksystems in der üblichen Weise zellenförmig abgerastert wird. Das Bild der Prüföffnung wie auch der übrigen Maskenbereiche ist scharf und enthält eine hohe Strahlintensität.

Die Erfindung erlaubt es weiterhin, den öffnungsfehler der letzten Kondensorlinse dynamisch derart zu kompensieren, daß das Strahlbündel abhängig von der Erregung des Ablenksystems mit vorgegebenen Winkeln, z. B. auch stets parallel zur optischen Achse des Gerätes auf die Maske auftrifft; dadurch kann u. a. der Verzeichnungsfehler vollständig beseitigt werden.

Die Erfindung gestattet es ferner, durch eine von der Erregung des Ablenksystems abhängige zusätzliche Erregung der Abbildungslinse die Bildfeldwölbung dynamisch zu kompensieren; ebenso kann ein der Abbildungslinse zugeordneter Stigmator dynamisch so erregt werden, daß ein von der Ablenkung abhängiger Astigmatismus optimal korrigiert wird.

Nach einer Ausgestaltung der Erfindung kann die Maske divergent beleuchtet sein, derart, daß jeweils ein im Abstand R von der optischen Achse auf die Maske auftreffender Strahl des Strahlbündels einen Winkel β (im Bogenmaß) mit der optischen Achse bildet, der zumindest annähernd der Bedingung

R -Si

sr

für |>3

genügt. Wie später erläutert werden wird, lassen sich durch diese Art der Beleuchtung die Seideischen Fehler des Proiektionslinsensystems herabsetzen, so daß die nutzbare Bildpunktzahl wesentlich erhöht ist. Die divergente Beleuchtung kann z. B. dadurch hergestellt werden, daß das Ablenksystem in Strahlrichtung hinter der vorderen Brennebene der letzten Kondensorlinse angebracht wird. Eine andere Möglichkeit besteht darin, das Ablenksystem aus zwei entgegengesetzt erregten Teilsystemen zusammenzusetzen, wobei also das erste Teilsystem den Strahl aus der Achse herauslenkt und das zweite den Strahl wieder zur Achse zurücklenkt.

Bei beiden vorgenannten Ausführungsformen ist es möglich, den öffnungsfehler der letzten Kondensorlinse dynamiscn zu kompensieren, indem die letzte Kondensorlinse bzw. der erste Teil des Ablenksystems eine zusätzliche Erregung erhält Legt man auf Verzeichnungsfreiheit größeren Wert als auf die Autlösung des Bildes, so kann man durch eine Zusatzerregung dieser Art einen streng achsparallelen Verlauf des Strahlbündels bei jeder Erregung des Ablenksystems erzielen.

Mit Vorteil kann zwischen Maske und Präparat ein weiteres Ablenksystem angeordnet sein, durch dessen Erregung ein Teilbereich des Präparats, auf den der beleuchtete Teilbereich der Maske abzubilden ist, wählbar ist. Das weitere Ablenksystem ermöglicht es, komplizierte Schaltungsmuster auf dem Präparat bausteinartig aus Standardmustern, die durch Teilbereiche der Maske vorgegeben sind, zusammenzusetzen. Bei dem bekannten Gerät nach Heritage ist zwischen Maske und Präparat ebenfalls ein Ablenksystem vorgesehen; es hat jedoch nur die Aufgabe, zur Feinjustierung von Maske und Präparat das Bild der Maske gegenüber dem Präparat zu verschieben. Diese Aufgabe kann das weitere Ablenksystem bei dem vorliegenden Gerät zusätzlich erfüllen. Es kann ferner dazu dienen, die Verzeichnung, die bei divergenter Beleucntung der Maske in Kauf genommen wird, zu beseitigen.

Die F i g. 1, 2 und 4 zeigen Ausführungsbeispiele der Erfindung; anhand von F i g. 3 wird das Prinzip der divergenten Beleuchtung erläutert

Das in F i g. 1 dargestellte Gerät 1 besteht aus einer Elektronenquelle 2, einem dreistufigen Kondensorlinsensystem 3 mit den Linsen 3a, 3b und 3c und einem Projektionslinsensystem 6, das aus einer langbrennweitigen Zwischenlinse 7 und einer kurzbrennweitigen Abbildungslinse 8 zusammengesetzt ist Der Strahlengang des Projektionslinsensystems 6 ist telezentrisch; die hintere Brennebene der Zwischenlinse 7 und die vordere Brennebene der Abbildungslinse 8 fallen in der Ebene 12 zusammen. Die Linsen 7 und 8 sind als magnetische Linsen ausgebildet Sie sind vorzugsweise entgegengesetzt gleich erregt; das bedeutet, daß sie dieselbe Amperewindungszahl besitzen und daß die Richtungen ihrer Magnetfelder zueinander entgegengesetzt sind. Durch diese Art der Erregung in Verbindung mit dem telezentrischen Strahlengang wird erreicht, daß im Projektionslinsensystem der Verdrehungsfarbfehler, der Vergrößerungsfarbfehler und die isotrope Verzeichnung zu Null werden und die verbleibenden Fehler zumindest teilweise aufgehoben sind.

Mit 4 ist eine Maske bezeichnet, die verkleinert auf ein Präparat 11, z. B. ein Halbleiterplättchen, abgebild;t wird. Die Maske 4 liegt in der vorderen Brennebene 10 der Zwischenlinse 7 und das Präparat 11 liegt in der hinteren Brennebene 9 der Abbildungslinse 8.

Vor der letzten Kondensorlinse 3c (Brennweite f_c) befinden sich ein erstes Ablenksystem 13 und eine Blende 14. Die Blende 14 blendet aus dem Elektronenstrahl ein Bündel IS aus und bestimmt dessen Form; die Blendenöffnung kann beispielsweise kreisförmig oder quadratisch sein. Das Ablenksystem 13 besteht z. B. aus zwei senkrecht zueinander gerichteten Paaren von Magnetspulen; es kann jedoch auch durch zwei Paare von elektrostatischen Ablenkplatten gebildet sein. Es liegt in der vorder?n Brennebene der Kondensorlinse 3c, in die auch die Quelle 2 durch die Kondensorlinsen 3a und 3b abgebildet wird. Infolgedessen besteht das die Sonde bildende Bündel 15 nach Durchtritt durch die

letzte Kondensorlinse 3c aus parallelen Strahlen, die auch bei Ablenkung des Bündels durch das Ablenksystem 13 parallel zur optischen Achse 5 verlaufen.

Das Strahlbündel 15 beleuchtet die Maske 4 in einem ilüchenhaflen Bereich B, der durch entsprechende Erregung des Ablenksystems 13 wählbar ist. Der Bereich B wird in der dargestellten Weise durch die Linsen 7 und 8 auf einen Bereich b des Präparats ti abgebildet. Wird das Ablenksystem 13 durch einen Rastergenerator derart erregt, daß das Strahlbündel 15 die Makse 4 zellenförmig abrastert, so wird die gesamte Fläche der Maske 4 auf das Präparat 11 abgebildet.

Zur gegenseitigen Justierung (Positionierung) von Maske 4 und Präparat 11 besitzt die Maske 4 eine Prüföffnung, die mit einer Justiermarke 11a auf dem Präparat 11 korrespondiert. Es sei angenommen, daß der in Fig. I dargestellte Bereich B der Maske 4 eine solche Prüföffnung enthält, z. B. einen senkrecht zur Zeichenebene verlaufenden S"a!i. Diese Prüföffnun" wirkt mit der Justiermarke lla des Präparats 11 zusammen, die ebenfalls die Form einer senkrecht zur Zeichenebene verlaufenden Linie haben kann. Die Justiermarke lla kann beispielsweise ein gegenüber ihrer Umgebung erhöhtes Sekundärelektronen-Emissionsvermögen aufweisen; die von ihr ausgehenden Sekundärelektronen werden durch einen Detektor 17 registriert und nach Verstärkung einem Meßinstrument oder Sichtgerät zugeführt. Die Maske 4 und das Präparat 11 werden nun relativ zueinander so lange verschoben, bis das Bild der Prüföffnung zur Deckung mit der Justiermarke lla kommt, was durch ein Maximum der Sekundärelektronenemission feststellbar ist. Statt dessen kann auch der über das Präparat U fließende Strom gemessen werden, der durch die Sekundärelektronenemission vermindert wird.

In der gemeinsamen Brennebene 12 der Linsen 7 und 8 ist ein weiteres Ablenksystem 16 angeordnet. Dieses Ablenksystem ermöglicht es, das Bild b des Maskenbereiches B auf dem Präparat 11 z. B. durch Wobbein zu verschieben; es erleichtert dadurch bei der Justierung das Auffinden der Justiermarke lla.

Wie aus der vorstehenden Beschreibung hervorgeht, ist die Erregung des Kondensorlinsensystems 3 bei der Justierung die gleiche wie bei der Abbildung der Maske; Schwierigkeiten durch Umstellung der Kondensorerregung beim Übergang von Justierung zu Abbildung treten daher nicht auf.

Das dargestellte Gerät ermöglicht es ferner, komplizierte Schaltungsmuster auf dem Präparat 11 durch typenartiges Aneinanderfügen von Elementarmustern zusammenzustellen. Es sei angenommen, daß der Bereich B das vollständige Muster für eine auf dem Präparat 11 zu erzeugende Elementarschaltung, beispielsweise einen Verstärker, enthält Dieses Muster, das an sich auf einen Bereich b des Präparats 11 abgebildet wird, kann nun durch entsprechende Erregung des weiteren Ablenksystems 16 an eine beliebige Stelle des Präparats 11 verlegt werden, beispielsweise durch den in Fig. 1 gestrichelt dargestellten Strahlengang in die Lage b' Die Obereinstimmung des Bildes b mit seiner vorgesehenen Lage b' kann wiederum in bekannter Weise dadurch hergestellt werden, daß das Bild von Prüföffnungen der Maske mit Justiermarken, die auf dem Präparat vorgesehen sind, zur Deckung gebracht wird. Muster für weitere Elementarschaltungen, die in der Maske 4 enthalten sind, können durch entsprechende Erregung des Ablenksystems 13 ausgewählt und durch entsprechende Erregung des weiteren Ablenksy

stems 16 auf einen ebenfalls wählbaren Teilbereich des Präparats abgebildet werden.

Ein Strahlengang nach F i g. 1. bei dem das Strahlbün del 15 unabhängig von seinem Achsabstand stet: parallel zur Achse 5 verläuft, ist nur bei einer idealen Kondensorlinsc 3c möglich. Der Einfluß des Öffnungsfehlers der Linse 3c wird später diskutiert.

Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel des Gerätes nach der Erfindung mit divergenter Beleuchtung der Maske, wobei Teile mit gleicher Funktion mit denselben Be2ugszeichen versehen sind wie in Fig. I. Das Ablenksystem 13 liegt hier innerhalb der Brennweite i_L der letzten Kondensorlinse 3c, sein Abstand von der Brennebene, d. h. die Defokussierung, ist mit A? bezeichnet. Infolgedessen tritt das Strahlbündel 15a divergent aus der Kondensorlinse 3c aus und trifft mil einem Winkel β gegen die optische Achse auf die Maske 4.

flor U/inlrpI R icl opmäli Rp^iphiino M) apwähll- Ha«;

—' - ·-- r O O \-r o-

hat, wie anhand von Fig. 3 erläutert werden wird, zur Folge, daß sämtliche Strahlen des Bündels 15a durch die Mitte der Abbildungslinse 8 verlaufen. Auch bei der Anordnung nach Fig. 2 wird ein Bereich B der Maske im Bereich b des Präparats 11 abgebildet. Das weitere Ablenksystem 16 liegt hier in der Mittelebene der Linse 8, so daß das Bild b auf dem Präparat 11 verschoben werden kann, während die Strahlen des Bündels 15a nach w> vor durch die Mitte der Linse 8 verlaufen.

Das Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 kann ebenfalls zur Abbildung der gesamten Maske 4 verwendet werden, wobei die Maske mit Hilfe des Ablenksystems 13 zellenförmig abgerastert wird und das weitere Ablenksystem 16 untätig ist. Durch die divergente Beleuchtung der Maske hat das Bild, wie gezeigt werden wird, eine hohe Auflösung; dafür wird jedoch gegenüber einem Strahlengang mit paralleler Beleuchtung der Maske eine gewisse Verzeichnung in Kauf genommen Diese Verzeichnung kann prinzipiell durch eine von der Ablenkung des Strahlbündels 15a abhängige Erregung des weiteren Ablenksystems 16 kompensiert werden Das Ausführungsbeispiel nach F i g. 2 kann jedoch auch zur typenartigen Zusammensetzung von Elementarmustern dienen, wobei der abzubildende bereich U durch statische Erregung des Ablenksystems 13 ausgewählt und die vorgesehene Lage b' des Bildes b durch entsprechende statische Erregung des Ablenksystems 16 hergestellt wird. Die Lage b' kann in der bereits erläuterten Weise durch Prüföffnungen und Justiermarken kontrolliert werden. Hierbei wird ohne weiteres auch die Verzeichnung des Projektionslinsensystems 7/8 ausgeglichen, die durch den divergenten Ein VJI des Strahlbündels 15a verursacht ist.

Die Wirkungsweise der divergenten Beleuchtung gemäß F i g. 2 ist im Prinzip folgende:

Ein Strahl, der von einem Punkt der Maske ausgeht, durchsetzt bei divergenter Beleuchtung die Mittelebene der langbrennweitigen Zwischenlinse in einem Punkt, der weiter von der Achse entfernt ist als bei paralleler Beleuchtung. Die durch die Zwischenlinse verursachten Seideischen Fehler werden also größer. Der gleiche Strahl durchsetzt die Abbildungslinse in einem Punkt, der achsnäher ist als bei paralleler Beleuchtung; hier werden also die Fehler geringer. Die Vergrößerung des Achsabstandes in der Zwischenlinse und die Verringerung des Achsabstandes in der Abbildungslinse haben den gleichen Betrag; da aber die Abstandsänderung relativ zum Linsendurchmesser bei der Abbildungslinse größer ist als bei der Zwischenlinse, ergibt sich

insgesamt eine Abnahme der Fehler und damit eine Erhöhung der nutzbaren Bildpunktzahl um etwa den Faktor 2.

In Fig. 3 sind die beiden .Strahlengänge nach den Fig. I und 2 nochmals vergleichend dargestellt. Es wird ein Punkt Pder Maske 4 betrachtet, der den Abstand R von Her optischen Achse 5 hat. Der parallel einfallende Strahl 15 durchsetzt die Mittelebene der Zwischenlinse 7 ebenfalls mit dem Aehsabstand R, schneidet die Achse 5 in dem gemeinsamen Brennpunkt Fi, F> der Linsen 7 und 8 und verläßt die Linse 8 dann wieder parallel zur Achse 5. In Fig. sind ferner die Brennweiten /Ί und fi der Linsen 7 und 8 eingezeichnet; das Verhältnis f/f₂ ist (.!er VerkleinerungsmaBstab. mit dem die Maske 4 auf dem Präparat 11 abgebildet wird.

Wie oben bereits ausgeführt wurde, bewirkt eine divergente Beleuchtung der Maske 4 zwar etwas größere Abbildungsfehler in der Zwischenlinse 7. jedoch wesentlich geringere Abbildungsfehler in der Abbildungslinse 8, so daß insgesamt eine Abbildungsverbesserung durch das Projektionslinsensystem 6 verbleibt. Der folgenden Abschätzung des optimalen Divergenzwinkels β liegt die Überlegung zugrunde, daß bei einem großen Verkleinerungsmaßstab die durch die Abbildungslinse 8 verursachten Fehler weit überwiegen und daß daher die Abbildungseigenschaften des Projektionslinsensystems 6 dann am günstigsten sind, wenn die Strahlen die Abbildungslinse 8 in der Mitte, also in der optischen Achse 5, durchsetzen. Der Strahl 15a in F i g. 3 hai diesen Verlauf. Er durchsetzt ebenfalls den Punkt P der Maske 4 und erreicht die Mittelebene der Zwischenlinse 7 mit dem Aehsabstand R + AR. Wegen der telezentrischen Optik verlaufen die Strahlen 15 und 15a zwischen den Linsen 7 und 8 parallel zueinander; daher ist die Strecke, um die der Strahl 15s gegenüber dem Strahl 15 in der Mittelebene der Linse 8 nach links gerückt ist. ebenfalls gleich AR. Man erkennt aus F i g. 3

1 R
unmittelbar, daß β - --^- ist. Da andererseits AR das

Jl

verkleinerte Bild von R ist. gilt

I R ■=

κ h

Demnach ergibt sich die oben genannte Beziehung

Rt_:

in

R Ir

(3)

Diese Überlegungen gelten fur eine ideale Kondensorlinse 3c Durch den Öffnungsfehler einer realen Kondensorlinse 3c entsteht jedoch eine zusätzliche Neigung insbesondere der achsfernen Strahlen

wobei C,. die Öffnungsfehlerkonstante der Kondensorlinse 3c ist. Durch den öffnungsfehler wird also der beabsichtigte Winkel β nach Gleichung (1) vermindert. Dieser Fehler kann dadurch korrigiert werden, daß Az etwas größer gewählt wird als in Gleichung (2) angegeben.

Im folgenden ist Az, wie bisher, diejenige Defokussierung, die ohne Berücksichtigung des Öffnungsfehlers zur Erfüllung von (I) erforderlich ist, und Az' die Defokussierung bei Kompensierung des Öffnungsfehlers. Die Neigungswinkel, die sich ohne öffnungsfehler bei den Defokussierungen Az und zlz'ergeben. sind mit ^. pzi/bezeichnet. Demnach ist

Aus F i g. 1 und elementaren Beziehungen der geometrischen Optik läßt sich leicht ableiten, daß zur Erzielung dieses optimalen Divergenzwinkels β eine Defokussierung

(2)

erforder.ich ist, wobei f_c die Brennweite der letzten m Kondensorlinse 3c ist.
Aus (1) und (2) ergibt sich

woraus nach 131. (I I und (4) ΓοΙμί:

R Ir

Demnach ist die opliniale

C₁, «'

ff

Man erkennt aus (7), daß mit den bisher beschriebenen Mitteln der Fig. 2 eine exakte Kompensation des Öffnungsfehlers nur für ein R. also nur für eine Ringzone des Bildes möglich ist; zur optimalen Korrektur wählt man Az'mn Vorteil für ein R, das etwa dem Radius der Maske entspricht.

Eine Kompensation des Öffnungsfehlers für alle R ist jedoch dadurch möglich, daß der l.insenstrom de^r Kondensorlinse 3c abhängig vom Ablenkwinkel λ «/orSnHori u/irH InFio ? ist dip I .!ΓΚρηςΙι-ηπινρΓςηΓΡίιηΐ?

■--—-- — --- ο — —

der Kondensorlinse 3c mit 20 bezeichnet; sie gibt einen Strom /j,-an die Wicklung der Linse ab. Der Strom /j_t. ist konstant und so bemessen, daß sich für kleine Ablenkwinkel λ eine Defokussierung Az nach Gleichung (2) ergibt. Das Ablenksystem 13 wird durch den Ablenkgenerator 21 mit dem Strom ;'n erregt. Der Ablenkgenerator 21 steuert ferner einen Verstärker 22. der einen vom Ablenkwinkel α abhängigen Zusatzstrom Ai_ic an die Wicklung der Linse 3c abgibt. Der Zusatzstrom Aii_c ist negativ, so daß die Erregung der Linse 3c bei Vergrößerung von <x vermindert und damit die Defokussierung Az vergrößert wird. Da Az' gemäß Gleichung (7) von R¹ abhängt, ist der Verstärker 22 vorzugsweise so ausgelegt, daß, wie in F i g. 2 angedeutet A hc etwa quadratisch von /Ί 3 abhängig ist.

Die Erregung des Ablenksystems 13 ist in Fig.2 vereinfacht nur ein für Ablenkspulenpaar dargestellt. Wird das Strahlbündel 15a gleichzeitig durch beide Ablenkspulenpaare in x- und y-Richtung abgelenkt so tritt für die Steuerung des Verstärkers 22 an die Stelle von /π die Wurzel aus der Summe der Quadrate von ;, und /,,

Wenn die Kondensorlinse 3c, wie in Fig.2 dargestellt, einen Eisenmantel aufweist, kann es schwierig sein, ihre Erregung exakt entsprechend der veränderlichen Komponente Ai\_c einzustellen. In diesem Falle ist

es von Vorfeil, im Inneren der Linse 3c eine in Fig. 2 gestrichelt angedeutete eisenfreie Hilfslinse 3c' anzuordnen, die den Strom Δί\, führt.

In bestimmten Fällen kann es angezeigt sein, auf eine hohe Auflösung des Bildes zu verzichten und statt dessen VerzeichTjngsfreiheit anzustreben. Zu diesem Zweck kann das Ausführungsbeispifil nach F i g. 2 so abgewandelt werden, daß das Strahlbündel 15a unabhängig vom Ablenkwinkel λ stets parallel zur optischen Achse 5 verläuft. Hierzu wird das Ablenksystem 13 in die vordere Brennebene der Kondensorlinse 3c gelegt, so daß die Defokussierung Az bei ex. = 0 ebenfalls gleich Null ist. Die Kondensorlinse 3c erhält, wie bereits beschrieben, eine Zusatzeiregung Ai^ die etwa quadratisch von /n abhängt. Das entspricht dem Fortfall der ersten Komponente von zlz'nach Gleichung (7), so daß nur noch eine von <x abhängige Defokussierung zur Korrektur des Öffnungsfehlers der Linse 3c üHricrKlptKt ——· ·ο— ·-·— ··

Das Projektionslinsensystcm 7/8, insbesondere die Abbildungslinse 8, verursacht eine Bildfeldwölbung, die ebenfalls durch eine Zusatzerregung dynamisch kompensiert werden kann. Diese Zusatzerregung muß so Wii ken, daß sie bei großen Werten des Winkels, den das auf das Präparat Il auftreffende Strahlbündel mit der Achse bildet, die Erregung der Linse 8 vermindert und damit die Brennweite erhöht. Hierzu kann in ähnlicher Weise wie bei der Kondensorlinse 3c eine eisenfreie Zusatzlinse 8a vorgesehen sein, die abhängig von dem Ablenkwinkel λ und dem durch das Ablenksystem 16 bewirkten Ablenkwinkel δ entgegengesetzt zur Hauptwicklung der Linse 8 erregt ist. Ein der Abbildungslinse 8 zugeordneter (nicht dargestellter) Stigmator kann in entsprechender Weise abhängig von λ und δ erregt sein, so daß der von diesen Winkeln abhängige Astigmatismus optimal korrigiert ist.

Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 wird der divergente Einfall des die Sonde bildenden Bündels dadurch erzeugt, daß das erste Ablenksystem gegenüber der letzten Kondensorlinse defokussiert ist. Statt dessen kann man auch zur Erzielung der Divergenz das erste Ablenksystem aus z»«ei entgegengesetzt erregten Teilsystemen zusammensetzen.

Den beleuchtenden Teil eines derartigen Gerätes zeigt F i g. 4. Das erste Ablenksystem besteht hier aus zwei Teilsystemen 13a und 136. Das Teilsystem 13a liegt in der vorderen Brennebene der letzten Kondensorlinse 3c; die Strahlquelle 2 wird durch die Linsen 3a und 36 ebenfalls in diese Ebene abgebildet. Das Strahlbündel 17 tritt daher aus der Linse 3c als Parallelstrahlbündel aus und bildet auf der Maske 4 eine flächenhafte Sonde. Form und Größe dieser Sonde werden durch die Blende 14 bestimmt. Der abbildende Teil ist der gleiche wie in Fi g. 2; das Bündel 17 vereinigt sich in einem Punkt der Brennebene der Linse 7 und sein Zentralstrahl verläuft durch die Mitte der Linse 8.

In der vorderen Brennebene der Kondensorlinse 36 ist das weitere Teil-Ablenksystem 136 angeordnet, das entgegengesetzt zum Teilsystem 13a erregt ist und das Strahlbündel 17 um den Winkel γ aus der Achse herauslenkt. Das Strahlbündel 17 verläuft daher nach Durchtritt durch die Linse 36 gegenüber der Achse 5 seitlich versetzt und parallel zu ihr. Der Abstand des Zentralstrahls von der Achse ist in Fig.4 mit r bezeichnet. Aus tier Fi,jur ist ersichtlich, daß infolge des Versatzes r eine Ablenkung des Strahlbündels um den Winkel <x einen divergenten Austritt des Bündels aus der Linse 3c mit einem Winkel β bewirkt, da der Punkt, um den das Bündel gekippt wird, nicht in der Achse liegt.

Die Teil-Ablenksysteme 13a und 136 werden durch einen gemeinsamen Ablenkgenerator A G versorgt, der an das Teilsystem 13a den Strom in., und an das Teilsystem 136 den Strom inii = - P- /ii.i abgibt, wobei der Faktor P zunächst als konstant betrachtet werden soll.

Der Faktor P läßt sich wie folgt berechnen, wobei vorausgesetzt ist, daß die Maske 4 in der Brennebene der Linse 3c liegt und die Teilsysteme 13a und 136 gleich ausgelegt sind, d. h. bei gleicher Erregung um gleich^ Winkel ablenken.

Für die Winkel .χ, β und γ ergibt sich aus Fi g. 4:

Aus (9) ti ml (K)) erhalt man:

aus U ) und (S)

Demnach ist

• /, ■ Ii If '

(ID

(12)

(14)

Diese Berechnung gilt wiederum nur für eine ideale Kondensorlinse 3c. Will man deren Öffnungsfehler berücksichtigen, so kann man zur Erregung des Teilsystems 136 dem Strom - P ■ /ι _la einen gleichgerichteten Zusatzstrom überlagern, der überproportional mit /ι ι., ansteigt und vorzugsweise von ιΊ j₃ ² abhängt.

Soll zur Beseitigung der Verzeichnung das Ausführungsbeispiel nach F i g. 4 so abgewandelt werden, daß das Strahlbündel 17 unabhängig von R stets parallel auf die Maske 4 auftrifft, so wird man das Teilsystem 136 ausschließlich mit dem genannten Zusatzstrom erregen.

Die Erfindung ist nicht auf Geräte mit magnetischen Linsen beschränkt; es können vielmehr auch elektrostatische Linsen verwendet werden. Sie ist auch unabhängig von der Art der zur Abbildung verwendeten Korpuskeln; sie kommt sowohl für elektronen- wie für ionenoptische Geräte in Betracht

Hierzu -t Blatt Zvichnurmen

Claims

Patentansprüche:

1. Korpuskularstrahloptisches Gerät zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, mit einer die Maske beleuchtenden Strahlquelle, einem Kondensorlinsensystem, das ein als Sonde auf die Maske fallendes Strahlbündel erzeugt, einem in Strahlrichtung vor der letzten Kondensorlinse liegenden Ablenksystem, ι ο ferner mit einem Projektionslinsensystem aus einer langbrennweitigen Zwischenlinse (Brennweite f\) und einer kurzbrennweitigen Abbildungslinse (Brennweite /2), deren Abstand gleich der Summe ihrer Brennweiten ist, bei dem die Maske in der π vorderen Brennebene der Zwischenlinse liegt, dadurch gekennzeichnet, daß die Sonde ein aus mindestens annähernd parallelen Strahlen bestehendes Strahlbündel (15, 15a, 17) ist, das einen flächenhaften Teilbereich (B) der Maske (4), dessen Fläche Mein ist gegen die gesamte abzubildende Fläche der Maske (4), der jedoch noch getrennt abzubildende Einzelheiten enthält, gleichzeitig erfaßt

Z Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Maske (4) divergent beleuchtet ist, derart, daß jeweils ein im Abstand R von der optischen Achse (5) auf die Maske (4) auftreffender Strahl des Strahlbündels (i5a) einen Winkel β (im Bogenmaß) mit der optischen Achse bildet, der zumindest annähernd der Bedingung

,, - ^Rll~- für A. > 3
' /Γ /ι

35

genügt (F ig. 2).

3. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Strahlbündel unter Kompensation des Öffnungsfehlers der letzten Kondensorlinse (3c) bei jeder Erregung des Ablenksystems (13,13^ parallel zur optischen Achse (5) auf die Maske (4) auftrifft.

4. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Ablenksystem (13) in Strahlrichtuiig hinter der vorderen Brennebene der letzten Kondensorlinse (3C_x) liegt. 4-,

5. Gerät nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung der letzten Kondensorlinse (3c) von der Erregung des Ablenksystems (13, 136J abhängig ist.

6. Gerät nach Anspruch 2 oder 3, dadurch -,n gekennzeichnet, daß das Ablenksystem aus zwei entgegengesetzt erregten Teilsystemen (13a, 13b) besteht.

7. Gerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung des in Strahlrichtung ersten -,-, Teilsystems (13b) überproportional von der des zweiten Teilsystems (13aJ abhängt.

8. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen Maske (4) und Präparat (11) ein weiteres Ablenksystem (16) angeordnet ist, durch h) dessen Erregung ein Teilbereich (b) des Präparats, auf den der beleuchtete Teilbereich (B) der Maske abzubilden ist, wählbar ist.

9. Gerät nach den Ansprüchen 2 und 8, dadurch gekennzeichnet, daß das weitere Ablenksystem (16) _h5 in der Mittelebene der Abbildungslinse (8) oder hinter dieser liegt.

Die Erfindung bezieht sich auf ein korpuskularstrahloptisches Gerät zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, mit einer die Maske beleuchtenden Strahlquelle, einem Kondensorlinsensystem, das ein als Sonde auf die Maske fallendes Strahlbündel erzeugt, einem in Strahlrichtung vor der letzten Kondensorlinse liegenden Ablenksystem, ferner mit einem Projektionslinsensystem aus einer langbrennweitigen Zwischenlinse und einer kurzbrent-weitigen Abbildungslinse, deren Abstand gleich der Summe ihrer Brennweiten ist, bei dem die Maske in der vorderen Brennebene der Zwischenlinse liegt

Ein derartiges Gerät ist z. B. aus einer Arbeit von Heritage, J. Vac. Sei. TcchnoL, 12, 1975, Seiten 1135 bis 1140, bekannt. Es dient insbesondere zur Erzeugung von Mustern auf Halbleiterplättchen (Wafern) bei der Herstellung von integrierten Schaltungen. Der Abbildungsmaßstab beträgt etwa 10:1.

Bei dem bekannten Gerät wird das Bild der Maske in der Weise auf das Präparat projiziert, daß die gesamte abzubildende Maskenfläche gleichzeitig beleuchtet wird und alle Maskenpunkte gleichzeitig durch das Projektionslinsensystem abgebildet werden. Zur relativen Justierung von Maske und Präparat wird jedoch die Erregung des Kondensorlinsensystems derart erhöht, daß die Strahlquelle — ideale Linsen vorausgesetzt — punktförmig in die Maskenebene und damit durch das anschließende Projektionslinsensystem ebenfalls punktförmig in die Präparatebene abgebildet wird. Das oberhalb der Maske liegende Ablenksystem wird so erregt, daß die durch den Strahl gebildete punktförmige Sonde eine Prüföffnung in der Maskenebene abrasterL Dadurch entsteht in der Präparatebene ein Bild der Pirüföffnung. In der Nähe des Präparats befindet sich ein Detektor, der am Wafer ausgelöste Sekundärelektronen registriert; das Detektorsignal wird einem Monitor zugeführt Auf dem Bildschirm des Monitors erscheint dann ein Bild, das sowohl eine auf dem Präparat angeordnete Justiermarke wie das Bild der Prüföffnung enthält Zur Justierung wird die Maske oder das Präparat so lange verschoben, bis das Bild der Prüföffnung und die Justiermarke sich decken. Nach der Justierung muß die Erregung des Kondensorlinsensystems wieder so verstellt werden, daß die Maske zur Abbildung ihrer gesamten Fläche auf das Präparat integral beleuchtet ist. Eine exakte Rückstellung der Kondensorlinsenerregung ist jedoch nur mit Schwierigkeiten möglich, wenn die zu verstellende Kondensorlinse, wie es in der Regel der Fall ist, einen Eisenmantel aufweist.

Da das Kondensorlinsensystem nicht aus idealen Linsen besteht, sondern Fehler aufweist, ist das Bild der Jtrahlquelle in der Maskenebene nicht punktförmig; das hat zur Folge, daß die Prüföffnung mit einer unvermeidlichen Unscharfe in die Präparatebene abgebildet wird. Dementsprechend ist auch die Genauigkeit der Justierung beschränkt.

Bei der integralen Beleuchtung der Maske nach Heritage verlaufen die Strahlen grundsätzlich achsparalle). Wegen des Öffnungsfehlers der letzten Kondensorlinse ist das jedoch nicht exakt möglich; Heritage sieht daher bei der integralen Beleuchtung eine Defokussierung der letzten Kondensorlinse vor, durch die deren öffnungsfehler für den äußeren Rand der Maske kompensiert und die Verzeichnung des Bildes vermindert wird. Eine Verzeichnungskorrektur ist also auf diese Weise nur näherungsweise möglich.

Die Erfindung befaßt sich mit der Aufgabe, bei einem