DE19915572A1 - Immersionslinse und Elektronenstrahl-Projektionssystem zu deren Anwendung - Google Patents
Immersionslinse und Elektronenstrahl-Projektionssystem zu deren AnwendungInfo
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Abstract
Es wird eine Immersionslinse angegeben, die eine erste magnetische Linseneinheit zur Erzeugung eines ersten magnetischen Feldes und eine zweite magnetische Linseneinheit zur Erzeugung eines zweiten magnetischen Feldes offenbart. Das kombinierte Magnetfeld aus dem ersten und dem zweiten magnetischen Feld bündelt den Elektronenstrahl zwischen der ersten magnetischen Linseneinheit und der zweiten magnetischen Linseneinheit. Durch die Ausbildung der zweiten magnetischen Linse aus einem Permanentmagnet wird die Immersionslinse in der Größe reduziert.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl-
Projektionssystem, wie zum Beispiel eine
Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung oder ein
Elektronenmikroskop zum Konvergieren und Projizieren
eines Elektronenstrahls, und bezieht sich auf für diese
Vorrichtungen verwendete Linsen und insbesondere auf eine
Immersionslinse mit zwei magnetischen Linsen, die an den
Seiten einer Probenfläche, auf die der Elektronenstrahl
konvergiert wird, angeordnet sind.
Das Elektronenmikroskop findet zur Zeit breite Anwendung
zur Untersuchung sehr kleiner Gegenstände. Es gibt zwei
Arten von Elektronenmikroskopen, das Durchstrahlungs-
Elektronenmikroskop und das Raster-Elektronenmikroskop
(Abtast-Elektronenmikroskop). Bei dem Durchstrahlungs-
Elektronenmikroskop, bei dem der Elektronenstrahl von
einer Seite einer Probe aufgebracht wird und das durch
die Probe gestrahlte Bild erfaßt wird, wird die Auflösung
durch die Bildgebungsleistung der magnetischen Linse, die
als eine Objektivlinse wirkt, bestimmt. Auf der anderen
Seite ist das Raster-Elektronenmikroskop, bei dem eine
Probe von einem auf einen sehr kleinen Punkt gebündelten
Elektronenstrahl abgetastet wird und die durchgestrahlten
oder von der Probe reflektierten Elektronen erfaßt
werden, von der Art, daß die Auflösung durch die Größe
des Elektronenstrahl-Spots bestimmt wird, der wiederum
durch die Bildformierungsleistung der als eine
Sammellinse wirkenden magnetischen Linse bestimmt wird.
In den letzten Jahren wurde eine Vorrichtung zum
Ausbringen von Elektronenstrahlen mit hoher Auslösung und
die ein Muster ausbilden kann, das kleiner als die
Photolithograpie ist, als ein Lithographiegerät zur
Herstellung eines kleinen Musters für ein Halbleitergerät
usw. beobachtet. Eine Elektronenstrahl-
Expositionsvorrichtung kann durch verschiedene Bauarten
gebildet sein. Bei der einen Art, wie zum Beispiel dem
Raster-Elektronenmikroskop, wird durch den auf einen sehr
kleinen Punkt gebündelten Elektronenstrahl ein Muster auf
eine Abdeckung aufgebracht, die auf ein Substrat
geschichtet ist. Bei einer anderen Art wird der
Elektronenstrahl durch eine Maske auf einer Probe zu dem
gewünschten Muster geformt. Bei beiden Arten wird die
Auflösung durch die Bildformierungsleistung der
magnetischen Linse, die als Sammellinse fungiert,
bestimmt. Wie oben beschrieben, wird die Auflösung des
Elektronenmikroskops und des Elektronenstrahl-
Expositionsgerätes durch die als Sammellinse oder als
Objektivlinse wirkende magnetische Linse bestimmt, und
die Bildformierungsleistung der magnetischen Linse muß
sehr hoch sein, um eine hohe Auflösung zu erzielen.
Die magnetische Linse umfaßt eine Spule, ein Joch und
Polschuhe. Das durch die Spule und das Joch geschaffene
magnetische Feld wird durch die Polschuhe in die
gewünschte Form gebracht. Es können zwei oder mehrere
Linsen miteinander kombiniert sein, um eine magnetische
Linse mit der geforderten Leistung auszubilden. Bei dem
Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop sind die Polschuhe im
allgemeinen an den Seiten der Probe angeordnet, und das
gewünschte magnetische Feld wird oberhalb und unterhalb
der Probe als eine magnetische Linse ausgebildet. Eine
magnetische Linse mit solchen Mitteln als Pole, die auf
beiden Seiten der Oberfläche der Probe (Ziel, Target) zur
Steuerung des magnetischen Feldes angeordnet ist, wird
als Immersionslinse bezeichnet. Bei der Anwendung der
Immersionslinse wird eine hohe Auflösung erreicht, da das
gewünschte magnetische Feld auch auf der Probe
ausgebildet wird.
Bei dem Raster-Elektronenmikroskop und dem
Elektronenstrahl-Expositionsgerät ist es im Gegensatz
dazu allgemeine Praxis, nur auf einer Seite der Probe
eine magnetische Linse anzuordnen, so daß das gewünschte
magnetische Feld nicht leicht auf der Probenoberfläche
ausgebildet werden kann und eine ausreichende
Bildformierungsleistung nicht erzielt werden kann. Ein
zur Verbesserung dieser Situation denkbares Verfahren
besteht in der Anwendung einer Immersionsart mit sehr
guter Charakteristik in bezug auf die Abweichung durch
Ausbildung eines magnetischen Feldes auch auf der
Oberfläche der Probe. In einem derartigen Fall kann der
Objekttisch zur Abstützung des Bildes nicht aus Metall
sein, sondern muß aus Keramik bestehen. Das US-Patent Nr. 4 544 846
beschreibt ein Elektronenstrahl-
Projizierungssystem, das eine Immersionslinse umfaßt, die
einen oberen Polschuh mit einer von Null abweichenden
Bohrung und einen unteren Polschuh, der einen Abschnitt
mit einer Nullbohrung einschließt, aufweist.
Wie oben beschrieben, umfaßt die bei dem Durchstrahlungs-
Elektronenmikroskop verwendete Immersionslinse zusätzlich
zu der Spule und dem Joch zwei Polschuhe, die auf beiden
Seiten der Probe angeordnet sind. Es ist gleichermaßen
möglich, eine Immersionslinse durch eine Kombination aus
zwei oder mehreren magnetischen Linsen auszubilden. In
dieser Beschreibung wird das das Magnetfeld bildenden
Mittel, das in bezug auf die Probe auf der Einfallseite
des Elektronenstrahls angeordnet ist, als die erste
magnetische Linse bezeichnet, und das das Magnetfeld
bildende Mittel, das auf der gegenüberliegenden Seite
angeordnet ist, wird zweite magnetische Linse genannt.
Die erste und die zweite magnetische Linse der für das
Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop verwendeten
Immersionslinse sind elektromagnetische Linsen, die aus
einer Spule, einem Joch und Polschuhen gebildet sind. Das
gilt auch für die erste und zweite magnetische Linse der
in dem US-Patent Nr. 4 544 846 offenbarten
Immersionslinse, die elektromagnetische Linsen sind.
Bei dem Elektronenstrahl-Expositionsgerät wird zum
Beispiel von der zweiten magnetischen Linse die Erzeugung
eines starken aufwärtsgerichteten (steigenden)
magnetischen Feldes von etwa 0.1 Tesla (100 Gauß)
verlangt. Die elektromagnetische Linse, die ein derart
starkes elektrisches Feld erzeugen kann, erhöht
unvermeidbar ihre Größe. Die zweite elektromagnetische
Linse ist unter den Objekttisch angeordnet. Eine große
elektromagnetische Linse, die sich in einer derartigen
Position befindet, verringert die Gestaltungsfreiheit des
Objekttisches, so daß es somit nicht möglich ist, die
gewünschte Ausbildung des Objekttisches zu erreichen.
Ein anderes Problem besteht darin, daß die elektro
magnetische Linse Spulen aufweist, die mit Strom versorgt
werden. Wenn eine große magnetische Flußdichte
(Induktion) erzeugt werden soll, wird daher ein großer
Strom zugeführt, so daß die Wärmeerzeugung erhöht wird.
Die in dem umgebenden Bereich zu verzeichnende
Wärmeausbreitung deformiert den Objekttisch, und das hat
eine geringere Projektionsgenauigkeit zur Folge.
Zur Lösung dieser Probleme besteht das Ziel der
vorliegenden Erfindung darin, eine Immersionslinse zu
schaffen, die eine kompakte zweite magnetische Linse
umfaßt.
Um das oben beschriebene Ziel zu erreichen, wird gemäß
einem Aspekt der Erfindung eine Immersionslinse
bereitgestellt, die eine einen Permanentmagnet
aufweisende zweite magnetische Linse einschließt.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine
Immersionslinse angegeben, bei der eine Hilfsspule und
ein Joch um den Permanentmagnet der zweiten magnetischen
Linse herum angeordnet sind, so daß das durch die zweite
magnetische Linse erzeugte magnetische Feld fein
eingestellt werden kann.
Gemäß der Erfindung schließt die zweite magnetische Linse
einen Permanentmagnet ein und ist daher bezüglich der
Größe kleiner als wenn sie nur aus einer
elektromagnetischen Linse mit einer Spule und einem Joch
gebildet ist.
Bei einer Immersionsspule, die für eine Elektronenstrahl-
Expositionsvorrichtung oder ein Raster-Elektronen
mikroskop verwendet wird, hat der Permanentmagnet der
zweiten magnetischen Linse vorzugsweise die Form eines
Zylinderkörpers. Der Grund dafür besteht in der Tatsache,
daß ein Vollzylinder im Vergleich zu einem Hohlzylinder
einen großen magnetischen Kraftfluß in axialer Richtung
erzeugen kann. In einer derartigen Vorrichtung kann die
zweite magnetische Linse hinter der Probe angeordnet sein
und kann eine vollzylindrische Form aufweisen, da kein
Elektronenstrahl hindurchgeht.
Die vorliegende Erfindung wird anhand der nachfolgenden
Beschreibung und mit Bezug auf die zugehörigen
Zeichnungen näher erläutert.
Fig. 1 ist eine Darstellung, die den Aufbau einer
herkömmlichen Immersionslinse, die bei einem
Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop angewendet
wird, zeigt;
Fig. 2 ist ein Kurven-Schaubild, das ein Beispiel für
die Verteilung der Magnetflußdichte
(Kraftlinienverteilung) der in Fig. 1
gezeigten Linse, und zwar in der Umgebung der
Oberfläche des Probestücks, zeigt;
Fig. 3 ist ein Schaubild, das den allgemeinen Aufbau
einer Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung
gemäß einer Ausführungsform der Erfindung
wiedergibt;
Fig. 4 ist ein Schaubild, das die Ausbildung einer
Immersionslinse einer Elektronenstrahl-
Expositionsvorrichtung entsprechend einem
Ausführungsbeispiel zeigt; und
Fig. 5 ist ein Kurvenschaubild, das die
Kraftlinienenverteilung einer Elektronen
strahl-Expositionsvorrichtung entsprechend
einem Ausführungsbeispiel zeigt.
Bevor mit der detaillierten Beschreibung des bevorzugten
Ausführungsbeispiels fortgefahren wird, soll zum besseren
Verständnis der Unterschiede zwischen dem Stand der
Technik und der vorliegenden Erfindung eine bereits
bekannte Immersionslinse anhand der zugehörigen
Zeichnungen beschrieben werden.
Fig. 1 ist ein Schaubild, das eine Ausführungsform einer
Immersionslinse zeigt, die in einer Objektivlinse eines
herkömmlichen Durchstrahlungs-Elektronenmikroskops
verwendet wird. Fig. 2 ist eine graphische Darstellung
der Verteilung des durch die Immersionslinse nach Fig. 1
ausgebildeten magnetischen Kraftflusses des Magnetfeldes
in der Umgebung der Probe.
Mit der in Fig. 1 gezeigten Immersionslinse wird ein
gleichmäßiges, nach oben gerichtetes magnetisches Feld,
das durch das Anlegen eines elektrischen Stroms an eine
um ein Joch 2 gewickelte Spule 1 erzeugt wird, durch
einen ersten Polschuh 3 und einen zweiten Polschuh 4
verformt, um, wie dargestellt, in der Umgebung eines
Ziels ein magnetisches Feld auszubilden. Die magnetische
Flußdichte des magnetischen Feldes ist beispielhaft in
Fig. 2 dargestellt. Das Joch 2 und die Polschuhe 3, 4 sind
symmetrisch um die Achse angeordnet und erzeugen
symmetrisch um die Achse ein magnetisches Feld. Der in
dieses magnetische Feld eintretende Elektronenstrahl wird
aufgrund des schrägen magnetisches Feldes einer Kraft in
einer Richtung senkrecht zur Achse unterworfen, und läuft
während des Drehens auf der Zielfläche zusammen. Da ein
konvergierendes Magnetfeld auch auf der Zielfläche
gebildet wird, wird der Elektronenstrahl weiterhin der
Konvergenzkraft unterworfen, und zwar bis er die
Zielfläche erreicht. Dadurch wird eine ausgezeichnete
Bilderzeugungsfunktion erzielt.
Bei dem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop trifft der
aus einer Richtung eintretende Elektronenstrahl auf die
auf der Zielfläche angeordnete Probe und wird nach dem
Durchgehen durch die Probe durch die Immersionslinse und
das bilderzeugende Linsensystem auf die Beobachtungs
fläche projiziert. Von der ersten und zweiten
magnetischen Linse, die die Immersionslinse bilden, wird
daher gefordert, daß sie eine Bohrung aufweisen, um den
Elektronenstrahl durch diese hindurch zu übertragen. Wie
aus Fig. 1 deutlich wird, sind die erste und zweite
magnetische Linse der für das Durchstrahlungs-
Elektronenmikroskop verwendeten Immersionslinse
elektromagnetische Linsen, die eine Spule, ein Joch und
Polschuhe umfassen.
Im folgenden soll eine Anwendung der Erfindung bei einer
Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung erläutert werden.
Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Anwendung
begrenzt, sondern ist bei anderen Elektronenstrahl-
Projektionssystemen, wie zum Beispiel einem Raster-
Elektronenmikroskop, mit der gleichen Wirkung anwendbar.
Fig. 3 ist ein Schaubild, das den Aufbau eines
Strahlprojektionssystems einer Elektronenstrahl-
Expositionsvorrichtung in Block-Expositionsbauart gemäß
einer Ausführungsform der Erfindung zeigt. In Fig. 3
bezeichnet das Bezugszeichen 11 einen Elektronenstrahl
erzeuger (Elektronenschleuder, Elektronenkanone) zur
Erzeugung eines Elektronenstrahls, das Bezugszeichen 12
eine erste Sammellinse zum Zusammenführen des
Elektronenstrahls vom Elektronenstrahlerzeuger 11 zu
einem Parallelstrahl, das Bezugszeichen 13 eine Öffnung
zur Formgebung des Parallelstrahls, der durch diese
hindurchgeht, in eine vorbestimmte Form, das
Bezugszeichen 14 eine zweite Sammellinse zur Reduzierung
des so gebildeten Strahls, das Bezugszeichen 15 einen
Formgebungs-Deflektor (Masken-Ablenker), das
Bezugszeichen 16 einen Blenden-Deflektor, das
Bezugszeichen 17 einen Deflektor zur dynamischen
Korrektur des Astigmatismus aufgrund einer Blende, das
Bezugszeichen 18 einen zweiten Blenden-Deflektor, das
Bezugszeichen 19 eine Blenden-Konvergenzspule, das
Bezugszeichen 20 eine erste Formgebungslinse, das
Bezugszeichen 21 eine auf einem Objekttisch bewegte
Blockblende, das Bezugszeichen 23 einen dritten Blenden-
Deflektor, das Bezugszeichen 24 einen Strahlaustastungs-
Deflektor zum Einblenden/Ausblenden des Strahls, das
Bezugszeichen 25 einen vierten Blenden-Deflektor, das
Bezugszeichen 26 eine dritte Linse, das Bezugszeichen 27
eine kreisförmige Öffnung, das Bezugszeichen 28 eine
Reduktionslinse, das Bezugszeichen 29 eine
Fokussierspule, das Bezugszeichen 30 eine Projektions
linse, das Bezugszeichen 31 einen elektromagnetischen
Hauptdeflektor und das Bezugszeichen 32 einen
elektrostatischen Unterdeflektor. Diese Bauteile werden
in ihrer Gesamtheit als elektronen-optischer Objektiv
tubus (Objektivfassung) (Säule) bezeichnet. Der
Elektronenstrahl 10 wird zusammengeführt (konvergiert,
gebündelt) und auf eine Probe 100 projiziert, die sich
auf einem Objekttisch 33 befindet. Der Objekttisch 33
besteht aus Keramik oder einem ähnlichen Material zum
zweidimensionalen Bewegen der Probe 100 in einer zum
Elektronenstrahl 10 senkrechten Ebene. Der Teil der Säule
(Objektivtubus), durch den der Elektronenstrahl
hindurchgeführt wird, und der erfaßte Bereich des
Objekttisches 33 sind von der Umgebung durch eine
Vakuumkammer oder einen Vakuumabschluß getrennt und sind
im Innern unter Vakuum gehalten. Der Elektronenstrahl-
Expositionsapparat zum Exponieren eines gewünschten
Musters schließt weiterhin eine Expositions-
Steuereinrichtung zur Steuerung der Teile der Säule ein.
Diese Bestandteile beziehen sich jedoch nicht auf die
Erfindung und werden daher nicht beschrieben.
Wie in Fig. 3 dargestellt ist, umfaßt die Elektronen
strahl-Expositionsvorrichtung gemäß diesem Ausführungs
beispiel eine zweite magnetische Linse unterhalb des
Objekttisches 33. Die Projektionslinse 30 entspricht der
ersten magnetischen Linse.
Fig. 4 ist eine Darstellung, die den Aufbau des Teils
wiedergibt, das die für das Elektronenstrahl-
Projektionssystem gemäß einer Ausführungsform der
Erfindung benutzte Immersionslinse bildet. Der
Hauptdeflektor 31 und der Unterdeflektor 32 sind in
diesem Bild nicht gezeigt. Die erste magnetische Linse 30
ist eine elektromagnetische Linse, die eine Spule 51, ein
Joch 52 und Polschuhe 53, 54 einschließt und die einen
der herkömmlichen magnetischen Linse ähnlichen Aufbau
aufweist.
Die zweite magnetische Linse 35 umfaßt einen
vollzylindrischen Permanentmagneten 71, einen über dem
Permanentmagneten 71 angeordneten vollzylindrischen
Polschuh, eine Hilfsspule 73 und ein Joch 74. Der
Permanentmagnet 71 ist in der Mittelachse des Joches 74
(Mittelachse des Systems) angeordnet, an deren beiden
Seiten sich eine Hilfsspule 73 befindet. Das
Bezugszeichen 61 bezeichnet eine Vakuumabdichtung für den
Objektivtubus (Säule), das Bezugszeichen 81 ist eine
Vakuumabdichtung für die zweite magnetische Linse und das
Bezugszeichen 82 bezeichnet die untere Fläche der
Vakuumkammer. Der Permanentmagnet 71 kann, obgleich er
in der Größe kleiner als die elektromagnetische Linse
ist, einen magnetischen Kraftfluß in der gleichen Stärke
wie die elektromagnetische Linse erzeugen.
Die durch Anlegen eines Stroms an die Hilfsspule
erzeugten magnetischen Kraftflüsse bilden, indem sie auf
die magnetischen Kraftflüsse des Permanentmagneten
aufgelagert werden, ein magnetisches Feld. Die Hilfsspule
73 ist, wie oben beschrieben, zusätzlich zum
Permanentmagnet 71 vorgesehen, und zwar aufgrund der
Tatsache, daß die durch den Permanentmagnet erzeugten
magnetischen Kraftflüsse wegen der Veränderungen der Form
des Materials und des Magnetisierungsprozesses verändert
werden, und da das magnetische Feld in diesem Teil eine
Kombination aus den durch die erste magnetische Linse
(Projektionslinse) 30 und die zweite magnetische Linse 35
erzeugten magnetischen Feldern ist, kann das gewünschte
magnetische Feld nicht ausgebildet werden, wenn das durch
die zweite magnetische Linse erzeugte Magnetfeld
verändert wird. Unter diesem Gesichtspunkt wird das
gewünschte magnetische Feld gemäß diesem Ausführungs
beispiel durch Einstellen des Stroms, der in die um den
Permanentmagnet 71 herum angeordnete Spule 73 fließt,
erzielt. Die Hilfsspule 73 und das Joch 74 sind zum
Einstellen der Veränderungen des Permanentmagneten 71
vorgesehen und müssen nicht groß sein, solange dieser
magnetische Kraftflüsse erzeugen kann, die geringfügig
größer als der Bereich der Veränderungen des
Permanentmagneten 71 sind. Daher kann die zweite
magnetische Linse 35 kompakter ausgebildet sein, als wenn
sie nur aus einer elektromagnetischen Linse, und zwar
ohne Verwendung eines Permanentmagneten, bestünde.
Fig. 5 ist eine graphische Darstellung, die die
Verteilung der magnetischen Flußdichte gemäß der
vorliegenden Erfindung in der Umgebung der Probe zeigt.
In Fig. 5 bezeichnet das Bezugszeichen 91 die Position
der Probenoberfläche, das Bezugszeichen 92 gibt die Lage
der oberen Fläche des Polschuhs 72 an, das Bezugszeichen
93 bezeichnet die Verteilung der Magnetflußdichte des
magnetischen Feldes aufgrund der ersten magnetischen
Linse und das Bezugszeichen 95 gibt die Verteilung der
Magnetflußdichte des magnetischen Feldes der
Immersionslinse an, das aus den magnetischen Feldern der
miteinander kombinierten ersten und zweiten magnetischen.
Linse gebildet ist. Zum Beispiel erzeugt die zweite
magnetische Linse ein magnetisches Feld von etwa 1000 Gauß
auf der oberen Fläche des Polschuhs 72 und von etwa
800 Gauß in einer Position auf der Oberfläche der Probe.
Bei der Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung steht das
magnetische Feld unter der Oberfläche der Probe (auf der
Seite der zweiten magnetischen Linse) in keiner Beziehung
zu der bildgebenden Funktion des Elektronenstrahls und
kann irgendeinen Zustand annehmen.
Die Hilfsspule 73 und das Joch 74, die um den
Permanentmagnet ausgebildet sind, können zur Einstellung
von dessen Veränderungen in dem oben beschriebenen
Ausführungsbeispiel eingesetzt werden, außer in dem Fall,
in dem die Veränderungen der Magnetflüsse des
Permanentmagneten 71 ausreichend klein sind.
Des weiteren kann das gewünschte magnetische Feld in dem
Falle, daß die Veränderungen des Permanentmagneten klein
sind, durch Einstellung der vertikalen Lage des
Permanentmagneten 71 ausgebildet werden.
Wie oben beschrieben, kann man eine zum Stand der Technik
gleichwertige Funktion erreichen, selbst wenn die zweite
magnetische Linse in der Größe reduziert ist. Folglich
wird bei einer Vorrichtung wie dem Elektronenstrahl-
Projektionssysstem, das einen über der zweiten
magnetischen Linse ausgebildeten Objekttisch einschließt,
die Gestaltungsfreiheit des Objekttisches verbessert.
Dadurch ist es möglich, die Größe zu verringern und die
Genauigkeit des Elektronenstrahl-Projektionssystems als
Ganzes zu erhöhen.
Zur Benutzung des Permanentmagneten muß auch kein Strom
zugeführt werden und es wird auch keine Wärme erzeugt. Da
in den Randbereichen (des Permanentmagneten) keine
Wärmeverteilung erzeugt wird, wird die Projektions
genauigkeit verbessert.
Claims (5)
1. Immersionslinse, umfassend:
ein erstes magnetisches Linsenmittel, das eine Bohrung zum Durchgang des auftreffenden Elektronenstrahls hat und das ein erstes magnetisches Feld erzeugt;
ein zweites magnetisches Linsenmittel zur Erzeugung eines zweiten magnetischen Feldes, um den Elektronen strahl zu konvergieren;
wobei das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und dem zweiten magnetischen Feld den Elektronenstrahl zwischen dem ersten magnetischen Linsenmittel und dem zweiten magnetischen Linsenmittel konvergiert, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite magnetische Linsenmittel einen Permanentmagnet einschließt.
ein erstes magnetisches Linsenmittel, das eine Bohrung zum Durchgang des auftreffenden Elektronenstrahls hat und das ein erstes magnetisches Feld erzeugt;
ein zweites magnetisches Linsenmittel zur Erzeugung eines zweiten magnetischen Feldes, um den Elektronen strahl zu konvergieren;
wobei das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und dem zweiten magnetischen Feld den Elektronenstrahl zwischen dem ersten magnetischen Linsenmittel und dem zweiten magnetischen Linsenmittel konvergiert, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite magnetische Linsenmittel einen Permanentmagnet einschließt.
2. Immersionslinse nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Permanentmagnet auf der Achse
des zweiten magnetischen Linsenmittels angeordnet ist.
3. Elektronenstrahl-Projektionssystem nach Anspruch 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite
magnetische Linsenmittel eine Hilfsspule und ein Joch
umfaßt, die um den Permanentmagnet herum angeordnet
sind.
4. Elektronenstrahl-Projektionssystem, umfassend eine
Elektronenkanone zur Erzeugung eines Elektronenstrahls
und Konvergenzmittel zum Bündeln des von der
Elektronenkanone erzeugten Elektronenstrahls, wobei
eine Probe mit dem von dem Konvergenzmittel
gebündelten Elektronenstrahl bestrahlt wird; bei dem
das Konvergenzmittel einschließt:
ein erstes magnetisches Linsenmittel, das in einer Position angeordnet ist, die näher zur Elektronen kanone als zur Probe liegt, und das eine Bohrung aufweist, durch die der Elektronenstrahl hindurch geführt wird, wobei das Konvergenzmittel ein erstes magnetisches Feld zum Bündeln des Elektronenstrahls erzeugt; und
ein zweites magnetisches Linsenmittel zur Erzeugung eines zweiten Magnetfeldes zum Bündeln des Elektronenstrahls, wobei das Konvergenzmittel eine Immersionslinse zum Bündeln des Elektronenstrahls zwischen dem ersten magnetischen Linsenmittel und dem zweiten magnetischen Linsenmittel durch das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und zweiten magnetischen Feld ist, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite magnetische Linsenmittel einen Permanentmagnet einschließt.
ein erstes magnetisches Linsenmittel, das in einer Position angeordnet ist, die näher zur Elektronen kanone als zur Probe liegt, und das eine Bohrung aufweist, durch die der Elektronenstrahl hindurch geführt wird, wobei das Konvergenzmittel ein erstes magnetisches Feld zum Bündeln des Elektronenstrahls erzeugt; und
ein zweites magnetisches Linsenmittel zur Erzeugung eines zweiten Magnetfeldes zum Bündeln des Elektronenstrahls, wobei das Konvergenzmittel eine Immersionslinse zum Bündeln des Elektronenstrahls zwischen dem ersten magnetischen Linsenmittel und dem zweiten magnetischen Linsenmittel durch das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und zweiten magnetischen Feld ist, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite magnetische Linsenmittel einen Permanentmagnet einschließt.
5. Elektronenstrahl-Projektionssystem nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß das zweite magnetische
Linsenmittel eine Hilfsspule und ein Joch einschließt,
die um den Permanentmagnet herum angeordnet sind.
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