DE19915572C2

DE19915572C2 - Immersionslinse und Elektronenstrahl-Projektionssystem zu deren Anwendung

Info

Publication number: DE19915572C2
Application number: DE19915572A
Authority: DE
Inventors: Hitoshi Tanaka
Original assignee: Advantest Corp
Current assignee: Advantest Corp
Priority date: 1998-03-31
Filing date: 1999-03-30
Publication date: 2003-07-03
Anticipated expiration: 2019-03-31
Also published as: JPH11283544A; DE19915572A1; US6307312B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl- Projektionssystem, wie zum Beispiel eine Elektronen strahl-Expositionsvorrichtung oder ein Elektronenmikro skop zum Konvergieren und Projizieren eines Elektronen strahls, und bezieht sich auf für diese Vorrichtungen verwendete Linsen und insbesondere auf eine Immersions linse mit zwei magnetischen Linsen, die an den Seiten einer Probenfläche, auf die der Elektronenstrahl konver giert wird, angeordnet sind.

Das Elektronenmikroskop findet zur Zeit breite Anwendung zur Untersuchung sehr kleiner Gegenstände. Es gibt zwei Arten von Elektronenmikroskopen, das Durchstrahlungs- Elektronenmikroskop und das Raster-Elektronenmikroskop (Abtast-Elektronenmikroskop). Bei dem Durchstrahlungs- Elektronenmikroskop, bei dem der Elektronenstrahl von einer Seite einer Probe aufgebracht wird und das durch die Probe gestrahlte Bild erfaßt wird, wird die Auflösung durch die Bildgebungsleistung der magnetischen Linse, die als eine Objektivlinse wirkt, bestimmt. Auf der anderen Seite ist das Raster-Elektronenmikroskop, bei dem eine Probe von einem auf einen sehr kleinen Punkt gebündelten Elektronenstrahl abgetastet wird und die durchgestrahlten oder von der Probe reflektierten Elektronen erfaßt wer den, von der Art, dass die Auflösung durch die Größe des Elektronenstrahl-Spots bestimmt wird, der wiederum durch die Abbildungsqualität der als Sammellinse wirkenden magnetischen Linse bestimmt wird.

In den letzten Jahren wurde eine Vorrichtung zur Erzeu gung von Elektronenstrahlen mit hoher Auslösung entwickelt, die kleinere Muster als die Photolithographie erzeugen kann und die als Lithographievorrichtung zur Herstellung kleiner Muster auf Halbleitern geeignet ist.

Eine Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung kann durch verschiedene Bauarten gebildet sein. Bei der einen Art, wie zum Beispiel dem Raster-Elektronenmikroskop, wird durch den auf einen sehr kleinen Punkt gebündelten Elekt ronenstrahl ein Muster auf eine Abdeckung aufgebracht, die auf ein Substrat geschichtet ist. Bei einer anderen Art wird der Elektronenstrahl durch eine Maske auf einer Probe zu dem gewünschten Muster geformt. Bei beiden Arten wird die Auflösung durch die Abbildungsqualität der mag netischen Linse, die als Sammellinse fungiert, bestimmt. Wie oben beschrieben, wird die Auflösung des Elektronen mikroskops und des Elektronenstrahl-Expositionsgerätes durch die als Sammellinse oder als Objektivlinse wirkende magnetische Linse bestimmt, und die Abbildungsqualität der magnetischen Linse muß sehr hoch sein, um eine hohe Auflösung zu erzielen.

Die magnetische Linse umfaßt eine Spule, ein Joch und Polschuhe. Das durch die Spule und das Joch geschaffene magnetische Feld wird durch die Polschuhe in die ge wünschte Form gebracht. Es können zwei oder mehrere Lin sen miteinander kombiniert sein, um eine magnetische Linse mit der geforderten Leistung auszubilden. Bei dem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop sind die Polschuhe im allgemeinen an den Seiten der Probe angeordnet, und das gewünschte magnetische Feld wird oberhalb und unterhalb der Probe als eine magnetische Linse ausgebildet. Eine magnetische Linse mit solchen Mitteln als Pole, die auf beiden Seiten der Oberfläche der Probe (Ziel, Target) zur Steuerung des magnetischen Feldes angeordnet ist, wird als Immersionslinse bezeichnet. Bei der Anwendung der Immersionslinse wird eine hohe Auflösung erreicht, da das gewünschte magnetische Feld auch auf der Probe ausgebil det wird.

In US 34 17 224 wird ein magnetisches Linsensystem be schrieben, bei dem der Elektronenstrahl mit Hilfe eines Zapfens auf einen Punkt auf der Probe fokussiert wird. DE 901 325 C beschreibt eine permanentmagnetische Elektro nenlinse, bei der besonders kleine Magnete in möglichst großer Nähe des Linsenfeldes selbst angeordnet sind, wodurch die Magnete sehr effektiv genutzt werden. US 56 33 507 A enthält eine magnetische Fokussierungseinrich tung zur Abbildung eines Elektronenstahls auf einem Wa fer. In WO 96/41362 A1 wird eine magnetische Linsenvor richtung beschrieben, bei der ein Elektronenstrahl mit Hilfe eines Magnetfeldes fokussiert wird, wobei sich die Linsenvorrichtung hinter der Probenposition befindet.

Bei dem Raster-Elektronenmikroskop und dem Elektronen strahl-Expositionsgerät ist es im Gegensatz dazu allge meine Praxis, nur auf einer Seite der Probe eine magneti sche Linse anzuordnen, so dass das gewünschte magnetische Feld nicht gut auf der Probenoberfläche ausgebildet wer den kann und eine ausreichende Abbildungsqualität nicht erzielt werden kann.

Ein zur Verbesserung dieser Situation denkbares Verfahren besteht in der Verwendung einer Immersionslinse, die auch auf der Oberfläche der Probe ein magnetisches Feld aus bildet und dadurch eine sehr gute Charakteristik in der Vermeidung von Abbildungsfehlern besitzt.

In einem derartigen Fall kann der Objekttisch zum Auf bringen der Probe nicht aus Metall sein, sondern muß aus Keramik bestehen. Das US-Patent Nr. 4 544 846 beschreibt ein Elektronenstrahl-Projizierungssystem, das eine Immer sionslinse umfaßt, die einen oberen Polschuh mit einer von Null abweichenden Bohrung und einen unteren Polschuh, der einen Abschnitt mit einer Nullbohrung einschließt, aufweist.

Wie oben beschrieben, umfaßt die bei dem Durchstrahlungs- Elektronenmikroskop verwendete Immersionslinse zusätzlich zu der Spule und dem Joch zwei Polschuhe, die auf beiden Seiten der Probe angeordnet sind. Es ist gleichermaßen möglich, eine Immersionslinse durch eine Kombination aus zwei oder mehreren magnetischen Linsen auszubilden. In dieser Beschreibung wird die magnetische Linse, die in bezug auf die Probe auf der Einfallseite des Elektronen strahls angeordnet ist, als die erste magnetische Linse bezeichnet, und die magnetische Linse, die auf der gege nüberliegenden Seite angeordnet ist, wird zweite magneti sche Linse genannt. Die erste und die zweite magnetische Linse der für das Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop verwendeten Immersionslinse sind elektromagnetische Lin sen, die aus einer Spule, einem Joch und Polschuhen ge bildet sind. Das gilt auch für die erste und zweite mag netische Linse der in dem US-Patent Nr. 4 544 846 offen barten Immersionslinse, die elektromagnetische Linsen sind.

Bei dem Elektronenstrahl-Expositionsgerät wird zum Bei spiel von der zweiten magnetischen Linse die Erzeugung eines starken aufwärtsgerichteten (steigenden) magneti schen Feldes von etwa 0.1 Tesla (100 Gauß) verlangt. Eine elektromagnetische Linse, die ein derart starkes elektrisches Feld erzeugen kann, besitzt zwangsläufig große Abmessungen. Die zweite elektromagnetische Linse ist unter den Objekttisch angeordnet. Eine große elektromag netische Linse, die sich in einer derartigen Position befindet, verringert die Gestaltungsfreiheit des Objekt tisches, so dass es somit nicht möglich ist, die ge wünschte Ausbildung des Objekttisches zu erreichen.

Ein anderes Problem besteht darin, dass die elektro magnetische Linse Spulen aufweist, die mit Strom versorgt werden. Wenn eine große magnetische Flußdichte (Indukti on) erzeugt werden soll, wird daher ein großer Strom zugeführt, so dass die Wärmeerzeugung erhöht wird. Die in dem umgebenden Bereich zu verzeichnende Wärmeausbreitung deformiert den Objekttisch, und das hat eine geringere Projektionsgenauigkeit zur Folge.

Zur Lösung dieser Probleme besteht das Ziel der vorlie genden Erfindung darin, eine Immersionslinse zu schaffen, die eine kompakte zweite magnetische Linse umfaßt.

Um das oben beschriebene Ziel zu erreichen, wird gemäß einem Aspekt der Erfindung eine Immersionslinse bereitge stellt, die eine einen Permanentmagnet aufweisende zweite magnetische Linse einschließt.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Im mersionslinse angegeben, bei der eine Hilfsspule und ein Joch um den Permanentmagnet der zweiten magnetischen Linse herum angeordnet sind, so dass das durch die zweite magnetische Linse erzeugte magnetische Feld fein einge stellt werden kann.

Gemäß der Erfindung schließt die zweite magnetische Linse einen Permanentmagnet ein und ist daher bezüglich der Größe kleiner, als wenn sie nur aus einer elektromagneti schen Linse mit einer Spule und einem Joch gebildet ist.

Bei einer Immersionsspule, die für eine Elektronenstrahl- Expositionsvorrichtung oder ein Raster-Elektronen mikroskop verwendet wird, hat der Permanentmagnet der zweiten magnetischen Linse vorzugsweise die Form eines Zylinderkörpers. Der Grund dafür besteht in der Tatsache, dass ein Vollzylinder im Vergleich zu einem Hohlzylinder einen großen magnetischen Kraftfluß in axialer Richtung erzeugen kann. In einer derartigen Vorrichtung kann die zweite magnetische Linse hinter der Probe angeordnet sein und kann eine vollzylindrische Form aufweisen, da kein Elektronenstrahl hindurchgeht.

Die vorliegende Erfindung wird anhand der nachfolgenden Beschreibung und mit Bezug auf die zugehörigen Zeichnun gen näher erläutert.

Fig. 1 ist eine Darstellung, die den Aufbau einer herkömmlichen Immersionslinse, die bei einem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop angewendet wird, zeigt;

Fig. 2 ist ein Kurven-Schaubild, das ein Beispiel für die Verteilung der Magnetflußdichte (Kraftli nienverteilung) der in Fig. 1 gezeigten Linse, und zwar in der Umgebung der Oberfläche des Probestücks, zeigt;

Fig. 3 ist ein Schaubild, das den allgemeinen Aufbau einer Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wie dergibt;

Fig. 4 ist ein Schaubild, das die Ausbildung einer Immersionslinse einer Elektronenstrahl- Expositionsvorrichtung entsprechend einem Aus führungsbeispiel zeigt; und

Fig. 5 ist ein Kurvenschaubild, das die Kraftlinie nenverteilung einer Elektronenstrahl- Expositionsvorrichtung entsprechend einem Aus führungsbeispiel zeigt.

Bevor mit der detaillierten Beschreibung des bevorzugten Ausführungsbeispiels fortgefahren wird, soll zum besseren Verständnis der Unterschiede zwischen dem Stand der Tech nik und der vorliegenden Erfindung eine bereits bekannte Immersionslinse anhand der zugehörigen Zeichnungen be schrieben werden.

Fig. 1 ist ein Schaubild, das eine Ausführungsform einer Immersionslinse zeigt, die in einer Objektivlinse eines herkömmlichen Durchstrahlungs-Elektronenmikroskops ver wendet wird. Fig. 2 ist eine graphische Darstellung der Verteilung des durch die Immersionslinse nach Fig. 1 ausgebildeten magnetischen Kraftflusses des Magnetfeldes in der Umgebung der Probe.

Mit der in Fig. 1 gezeigten Immersionslinse wird ein gleichmäßiges, nach oben gerichtetes magnetisches Feld, das durch das Anlegen eines elektrischen Stroms an eine um ein Joch 2 gewickelte Spule 1 erzeugt wird, durch einen ersten Polschuh 3 und einen zweiten Polschuh 4 verformt, um, wie dargestellt, in der Umgebung eines Ziels ein magnetisches Feld auszubilden. Die magnetische Flußdichte des magnetischen Feldes ist beispielhaft in Fig. 2 dargestellt. Das Joch 2 und die Polschuhe 3, 4 sind symmetrisch um die Achse angeordnet und erzeugen symmet risch um die Achse ein magnetisches Feld. Der in dieses magnetische Feld eintretende Elektronenstrahl wird auf grund des schrägen magnetisches Feldes einer Kraft in einer Richtung senkrecht zur Achse unterworfen, und läuft während des Drehens auf der Zielfläche zusammen. Da ein konvergierendes Magnetfeld auch auf der Zielfläche gebil det wird, wird der Elektronenstrahl weiterhin der Konver genzkraft unterworfen, und zwar bis er die Zielfläche erreicht. Dadurch wird eine ausgezeichnete Bilderzeu gungsfunktion erzielt.

Bei dem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop trifft der aus einer Richtung eintretende Elektronenstrahl auf die auf der Zielfläche angeordnete Probe und wird nach dem Durchgehen durch die Probe durch die Immersionslinse und das bilderzeugende Linsensystem auf die Beobachtungs fläche projiziert. Von der ersten und zweiten magneti schen Linse, die die Immersionslinse bilden, wird daher gefordert, dass sie eine Bohrung aufweisen, um den Elekt ronenstrahl durch diese hindurch zu übertragen. Wie aus Fig. 1 deutlich wird, sind die erste und zweite magneti sche Linse der für das Durchstrahlungs- Elektronenmikroskop verwendeten Immersionslinse elektro magnetische Linsen, die eine Spule, ein Joch und Polschu he umfassen.

Im folgenden soll eine Anwendung der Erfindung bei einer Elektronenstrahl-Expositionsvorrichtung erläutert werden. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Anwendung begrenzt, sondern ist bei anderen Elektronenstrahl- Projektionssystemen, wie zum Beispiel einem Raster- Elektronenmikroskop, mit der gleichen Wirkung anwendbar.

Fig. 3 ist ein Schaubild, das den Aufbau eines Strahlpro jektionssystems einer Elektronenstrahl- Expositionsvorrichtung in Block-Expositionsbauart gemäß einer Ausführungsform der Erfindung zeigt. In Fig. 3 bezeichnet das Bezugszeichen 11 einen Elektronenstrahl erzeuger (Elektronenschleuder, Elektronenkanone) zur Erzeugung eines Elektronenstrahls, das Bezugszeichen 12 eine erste Sammellinse zum Zusammenführen des Elektronen strahls vom Elektronenstrahlerzeuger 11 zu einem Paral lelstrahl, das Bezugszeichen 13 eine Öffnung zur Formge bung des Parallelstrahls, der durch diese hindurchgeht, in eine vorbestimmte Form, das Bezugszeichen 14 eine zweite Sammellinse zur Reduzierung des so gebildeten Strahls, das Bezugszeichen 15 einen Formgebungs-Deflektor (Masken-Ablenker), das Bezugszeichen 16 einen Blenden- Deflektor, das Bezugszeichen 17 einen Deflektor zur dyna mischen Korrektur des Astigmatismus aufgrund einer Blen de, das Bezugszeichen 18 einen zweiten Blenden-Deflektor, das Bezugszeichen 19 eine Blenden-Konvergenzspule, das Bezugszeichen 20 eine erste Formgebungslinse, das Bezugs zeichen 21 eine auf einem Objekttisch bewegte Blockblen de, das Bezugszeichen 23 einen dritten Blenden-Deflektor, das Bezugszeichen 24 einen Strahlaustastungs-Deflektor zum Einblenden/Ausblenden des Strahls, das Bezugszeichen 25 einen vierten Blenden-Deflektor, das Bezugszeichen 26 eine dritte Linse, das Bezugszeichen 27 eine kreisförmige Öffnung, das Bezugszeichen 28 eine Reduktionslinse, das Bezugszeichen 29 eine Fokussierspule, das Bezugszeichen 30 eine Projektionslinse, das Bezugszeichen 31 einen elektromagnetischen Hauptdeflektor und das Bezugszeichen 32 einen elektrostatischen Unterdeflektor. Diese Bauteile werden in ihrer Gesamtheit als elektronen-optischer Ob jektivtubus (Objektivfassung) (Säule) bezeichnet. Der Elektronenstrahl 10 wird zusammengeführt (konvergiert, gebündelt) und auf eine Probe 100 projiziert, die sich auf einem Objekttisch 33 befindet. Der Objekttisch 33 besteht aus Keramik oder einem ähnlichen Material zum zweidimensionalen Bewegen der Probe 100 in einer zum Elektronenstrahl 10 senkrechten Ebene. Der Teil der Säule (Objektivtubus), durch den der Elektronenstrahl hindurch geführt wird, und der erfaßte Bereich des Objekttisches 33 sind von der Umgebung durch eine Vakuumkammer oder einen Vakuumabschluß getrennt und sind im Innern unter Vakuum gehalten. Der Elektronenstrahl-Expositionsapparat zum Exponieren eines gewünschten Musters schließt weiter hin eine Expositions-Steuereinrichtung zur Steuerung der Teile der Säule ein. Diese Bestandteile beziehen sich jedoch nicht auf die Erfindung und werden daher nicht beschrieben.

Wie in Fig. 3 dargestellt ist, umfaßt die Elektronen strahl-Expositionsvorrichtung gemäß diesem Ausführungs beispiel eine zweite magnetische Linse unterhalb des Objekttisches 33. Die Projektionslinse 30 entspricht der ersten magnetischen Linse.

Fig. 4 ist eine Darstellung, die den Aufbau des Teils wiedergibt, das die für das Elektronenstrahl- Projektionssystem gemäß einer Ausführungsform der Erfin dung benutzte Immersionslinse bildet. Der Hauptdeflektor 31 und der Unterdeflektor 32 sind in diesem Bild nicht gezeigt. Die erste magnetische Linse 30 ist eine elektro magnetische Linse, die eine Spule 51, ein Joch 52 und Polschuhe 53, 54 einschließt und die einen der herkömmli chen magnetischen Linse ähnlichen Aufbau aufweist.

Die zweite magnetische Linse 35 umfaßt einen vollzylind rischen Permanentmagneten 71, einen über dem Permanent magneten 71 angeordneten vollzylindrischen Polschuh, eine Hilfsspule 73 und ein Joch 74. Der Permanentmagnet 71 ist in der Mittelachse des Joches 74 (Mittelachse des Sys tems) angeordnet, an deren beiden Seiten sich eine Hilfs spule 73 befindet. Das Bezugszeichen 61 bezeichnet eine Vakuumabdichtung für den Objektivtubus (Säule), das Be zugszeichen 81 ist eine Vakuumabdichtung für die zweite magnetische Linse und das Bezugszeichen 82 bezeichnet die untere Fläche der Vakuumkammer. Der Permanentmagnet 71 kann, obgleich er in der Größe kleiner als die elektro magnetische Linse ist, einen magnetischen Kraftfluß in der gleichen Stärke wie die elektromagnetische Linse erzeugen.

Die durch Anlegen eines Stroms an die Hilfsspule erzeug ten magnetischen Kraftflüsse bilden, indem sie auf die magnetischen Kraftflüsse des Permanentmagneten aufgela gert werden, ein magnetisches Feld. Die Hilfsspule 73 ist, wie oben beschrieben, zusätzlich zum Permanentmagnet 71 vorgesehen, und zwar aufgrund der Tatsache, dass die durch den Permanentmagnet erzeugten magnetischen Kraft flüsse wegen der Veränderungen der Form des Materials und des Magnetisierungsprozesses verändert werden, und da das magnetische Feld in diesem Teil eine Kombination aus den durch die erste magnetische Linse (Projektionslinse) 30 und die zweite magnetische Linse 35 erzeugten magneti schen Feldern ist, kann das gewünschte magnetische Feld nicht ausgebildet werden, wenn das durch die zweite mag netische Linse erzeugte Magnetfeld verändert wird. Unter diesem Gesichtspunkt wird das gewünschte magnetische Feld gemäß diesem Ausführungsbeispiel durch Einstellen des Stroms, der in die um den Permanentmagnet 71 herum ange ordnete Spule 73 fließt, erzielt. Die Hilfsspule 73 und das Joch 74 sind zum Einstellen der Veränderungen des Permanentmagneten 71 vorgesehen und müssen nicht groß sein, solange dieser magnetische Kraftflüsse erzeugen kann, die geringfügig größer als der Bereich der Verände rungen des Permanentmagneten 71 sind. Daher kann die zweite magnetische Linse 35 kompakter ausgebildet sein, als wenn sie nur aus einer elektromagnetischen Linse, und zwar ohne Verwendung eines Permanentmagneten, bestünde.

Fig. 5 ist eine graphische Darstellung, die die Vertei lung der magnetischen Flußdichte gemäß der vorliegenden Erfindung in der Umgebung der Probe zeigt. In Fig. 5 bezeichnet das Bezugszeichen 91 die Position der Proben oberfläche, das Bezugszeichen 92 gibt die Lage der oberen Fläche des Polschuhs 72 an, das Bezugszeichen 93 bezeich net die Verteilung der Magnetflußdichte des magnetischen Feldes aufgrund der ersten magnetischen Linse und das Bezugszeichen 95 gibt die Verteilung der Magnetflußdichte des magnetischen Feldes der Immersionslinse an, das aus den magnetischen Feldern der miteinander kombinierten ersten und zweiten magnetischen Linse gebildet ist. Zum Beispiel erzeugt die zweite magnetische Linse ein magne tisches Feld von etwa 1000 Gauß auf der oberen Fläche des Polschuhs 72 und von etwa 800 Gauß in einer Position auf der Oberfläche der Probe. Bei der Elektronenstrahl- Expositionsvorrichtung steht das magnetische Feld unter der Oberfläche der Probe (auf der Seite der zweiten mag netischen Linse) in keiner Beziehung zu der bildgebenden Funktion des Elektronenstrahls und kann irgendeinen Zu stand annehmen.

Die Hilfsspule 73 und das Joch 74, die um den Permanent magnet ausgebildet sind, können zur Einstellung von des sen Veränderungen in dem oben beschriebenen Ausführungs beispiel eingesetzt werden, außer in dem Fall, in dem die Veränderungen der Magnetflüsse des Permanentmagneten 71 ausreichend klein sind.

Des weiteren kann das gewünschte magnetische Feld in dem Falle, dass die Veränderungen des Permanentmagneten klein sind, durch Einstellung der vertikalen Lage des Perma nentmagneten 71 ausgebildet werden.

Wie oben beschrieben, kann man eine zum Stand der Technik gleichwertige Funktion erreichen, selbst wenn die zweite magnetische Linse in der Größe reduziert ist. Folglich wird bei einer Vorrichtung wie dem Elektronenstrahl- Projektionssysstem, das einen über der zweiten magneti schen Linse ausgebildeten Objekttisch einschließt, die Gestaltungsfreiheit des Objekttisches verbessert. Dadurch ist es möglich, die Größe zu verringern und die Genauig keit des Elektronenstrahl-Projektionssystems als Ganzes zu erhöhen.

Zur Benutzung des Permanentmagneten muß auch kein Strom zugeführt werden und es wird auch keine Wärme erzeugt. Da in den Randbereichen (des Permanentmagneten) keine Wärme verteilung erzeugt wird, wird die Projektionsgenauigkeit verbessert.

Claims

1. Immersionslinse, umfassend
eine erste magnetische Linse, die eine Bohrung zum Durchgang des auftreffenden Elektronenstrahls hat und die ein erstes magnetisches Feld erzeugt;
eine zweite magnetische Linse zur Erzeugung eines zweiten magnetischen Feldes, um den Elektronenstrahl zu konvergieren;
wobei das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und dem zweiten magnetischen Feld den Elektronenstrahl zwischen der ersten magnetischen Linse (30) und der zweiten magnetischen Linse (35) konvergiert, wobei die zweite mag netische Linse einen Permanentmagneten (71) einschließt, und eine Hilfsspule (73) und ein Joch (74) umfaßt, die um den Perma nentmagneten (71) herum angeordnet sind.

2. Immersionslinse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, dass der Permanentmagnet (71) auf der Achse der zwei ten magnetischen Linse (35) angeordnet ist.

3. Elektronenstrahl-Projektionssystem, umfassend eine Elektronenkanone zur Erzeugung eines Elektronenstrahls und eine Immersionslinse zum Bündeln des von der E lektronenkanone erzeugten Elektronenstrahls, wobei ei ne Probe mit dem von der Immersionslinse gebündelten Elektronenstrahl bestrahlt wird; bei dem die Immersi onslinse einschließt:
eine erste magnetische Linse (30) zur Erzeugung eines ers ten magnetischen Feldes, die zwischen der Elektronen kanone und der Probenoberfläche angeordnet ist, und die eine Bohrung zum Durchgang des auftreffenden Elektronenstrahls hat, und
eine zweite magnetische Linse (35) zur Erzeugung eines zweiten magnetischen Feldes, die unterhalb der Probe, auf der entgegengesetzten Seite zu der ersten magneti schen Linse (30) angeordnet ist, einen Permanentmagneten (71) einschließt und eine Hilfsspule (73) und ein Joch (74) zur Ein stellung des Magnetfeldes des Permanentmagneten (71) um fasst, die um den Permanentmagneten herum angeordnet sind,
wobei das kombinierte magnetische Feld aus dem ersten und dem zweiten Magnetfeld den Elektronenstrahl zwi schen der ersten magnetischen Linse (30) und der zweiten magnetischen Linse (35) konvergiert.