TW499696B - Processing apparatus and processing method - Google Patents

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A7 A7 B7 五、發明說明（ 發明背景 發明之技術領域 本發明係關於一種經由供 定處理於基材，例如w …夜至基材而外加預 "如+導體晶圓之處理裝置及處理方法。 相關技術之說明 概各而3 ’於半導體裝置之製造 裝置可清潔半導俨曰有夕禋β冻 + ¥體曰曰0(後文稱做「晶圓」），!清潔方式係 用預疋u液去除黏附於晶圓表面之多種污染例如粒子 二有機污染物、金屬雜質等。此等裝置中，廣泛使用清潔 裝置可使用清潔劑清潔而由複數晶圓去除粒子等。此種裝 置中’晶圓係容納於清潔槽，槽内供給清潔液。 至於習知此種清潔及乾燥裝置，已知一種清潔與乾 蚝衣置包a·—處理腔室於一邊設有一裝載/卸載晶圓等 的開口及一門用以關閉前述開口；一轉子設置於腔室俾朝 向水平軸以傾斜方向旋轉容納晶圓等的載具；液體供給裝 置用以1、、’’e液體至曰曰圓荨，以及氣體供給裝置用以供給氣 體至晶圓等（參考美國專利第43〇〇581號）。也已知一種裝 置包括可用以維修的可卸式處理腔室（參考美國專利第 5221360號）。進一步此種清潔與乾燥裝置有一種結構，此 處馬達及噴嘴係連同前述處理腔室共同附接於附接板（參 考美國專利第5022419號）。也於與處理腔室連通的卸放/ 排氣管線設置氣/液分離裝置，其分離處理液成為液體及 氣體供排放（參考美國專利第5095927號）。就此方面而言 ，也已知一種氣/液分離裝置配備有感測器之結構（參考美 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·裝--------訂---- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 '---^----B7 _ 五、發明說明（2 ) ^ _ 國專利弟5154199號）。於清潔與乾燥裝置，當關閉處理腔 =其中容納複數晶圓等的卡£載於轉子，進行旋轉轉子及 7函同時供給清潔液至晶圓等。清潔處理完成後，於乾燥 矛中乾燥氣體朝向連同轉子而旋轉的晶圓等。於 改例中’有—裝置其直接載負晶圓等通過其正面而未使 用此種卡E (參考美國專利第5678320及5784797號）。 於另處理裝置，單一晶圓旋轉裝置也設置複數 处I至(杯)向上開口 (日本新型公告案第4_3彻2號)。 主1於則述π >糸與乾燥裝置中，由於清潔過程使用殘 餘清潔液而於乾燥過程不僅有妨礙同時也有氣氛擾動問題 原因在於凊潔處理以及隨後的乾燥處理係於單一處理腔 ^進仃故。當然’此等問題係由於使用單一清潔液所致。 特別於使用不同種處理液體進行清潔處理案例，例如抗蚀 劏去除劑化學品及聚合物去除劑，此等化學品之溶劑（例 .、丙醇），清洗.液之處理液（例如純水）等；使用處 理机體之清潔/乾燥過程，例如乾氣體（惰性氣體（如氮氣） 及新”’羊工氣），或循序供給酸清潔液（例如spM)，純水，強 鹼性清潔液（例如APM)之清潔處理，然後此等化學品彼此 反應，引起對晶圓等的交叉污染。 為了解決前述問題，根據不同種處理液體使用同處 理腔至。但此種辦法造成處理效率低劣，此外，需要大量 底面積造成裝置本身的尺寸變大。 注意’雖然前述日本新型公告案第‘349〇2號揭示的 單曰曰圓紋轉裝置可略為防土處理液體例如不同種化學品 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----^-----I--ti! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 五、發明說明（3 ) t 彼此反應，原因在於有數個處理腔室（杯），但有杯開口向 上造成無法完美防止晶圓等被污染的問題。 發明概述 如此，本發明之目的係提供一種處理裝置及處理方 法，藉此可防止由於不同種處理液體反應污染物件，同時 也可貫現處理效率的改良及裝置的微型化。 、 、本發明之第一特點在於處理裝置包含複數容器可活 動式排列因而占據環繞至少一待處理物件周圍位置及一未 %繞该物件等待位置，移動裝置用以移動數個容器中之一 指定容器因而定位指定容器於周圍位置，以及處理裝置用 以外加指定處理於周圍位置之物件。 因此，當使用複數處理流體應用指定處理時，可根 據處理流體種類移動不同處理腔室至物件周邊。如此，即 使各處理流體殘留於處理腔室，但不同處理流體不可能出 見於同脸至。如此可防止物件受到不同處理流體反應的 污染。 本發明之第二特點在於設置複數腔室同時彼此接合 ，也適合各別移動至物件，當外加指定處理於複數容器之 一指定容器的物件時，移動裝置移動指定容器内側的另一 容器至等待位置。 員 訂 此種情況下，可容易移動複數容器介於周圍位置及 ^ 置也可使谷器緊密堆疊。如此，整個處理腔室尺 寸可縮小。 本發明之第三特點在於處理裝置包會一對第一及第 499696 A7 五、發明說明（ 二壁配置成彼此相對且彼此分開· 刀闻，一栽具設置於第一壁上 ，用以載運至少一物件介於第一壁 土與弟二壁間；以及複數 I---------^ --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 周圍壁’各自由第一壁伸展至第一 乐一壁，如此界定一處理空 間用以連同第-及第二壁處理物件；其中複數周圍壁重疊 同時彼此交互插入且各別適應因而可於連同第一及第二壁 界定處理空間的關位置與未包圍物件的等待位置間移動 ，移動裝置用以移動複數周圍邊壁至—指定周邊壁，如此 設置指定胃邊壁於周圍位置；同時移動另—周邊壁於該指 定周邊壁内側藉此設置另-周邊壁於等待位置；以及處理 裝置用以供給一指定處理於周圍位置的物件。 因此，當使用複數處理流體應用指定處理時，可根 據處理流體種類移動不同處理腔室至勿件周邊。如此，即 使各處理流體係保留於各處理腔室β，不彳能有*同處理 流體於相同腔室。如此可防止物件受不同處理流體反應的 污染。 ^ •線. 此外，可緊密容納複數容器因而可使整體處理裝置 縮小。 本發明之第四特點在於周邊壁係呈圓柱形。· 經 濟二 部 智' 慧- 財 產， 局- 員 X 消 費 合 作 社 印 製 本發明之第五特點在於周邊壁自適應於第一壁與第 二壁間之方向於周圍位置與等待位置間移動。 本發明之第六特點在於各容器於其内部設置有一處 理流鵠供給埠口 ’該埠口可供給處理流體對物件進行指定 處理。 此例中’可供給對應周邊壁之處理流體，因而防止 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐 499696 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（5 ) 流體混合。 本發明之第七特點在於處理流體為液體或氣體。如 此，不#可進行化學處理，同時也可乾燥，容納一系列處 理於同一裝置内部。 本卷月之第八特點在於各容器設置排放口用以排放 U於處理物件的處理流體。如此，可各別排放對應各 周邊壁的處理流體，因此可防止同一容器存在有不同流體 本發明之第九特點在於容器之外輪廓係以朝向排放 口而局部直徑遞增之方式推拔。如此，可將容器内處理流 體以及沾黏於容器内壁的處理流體有效導入排放口。特別 ’因處理流體係由來自物件旋轉之流自轉而被導引至排放 口’故可實現有效排放。 本發明之第十特點在於載劑設置有傳動單元用以旋 轉物件。如此，可使處理流體與物件迅速接觸。此外，可 將用過的處理流體吹離物件用以戌放，改良裝置的處理效 率〇 本發明之第十一特點在於物件被載於載具，故物件 表面係沿上下方向，以及物件係藉傳動單元旋轉，故轉軸 係於處理裝置之水平方向伸展。此種情況下，可免除處理 流體容易沾黏至物件表面。 本發明之第十二特點在於複數物件係沿轉軸緊鄰併 置，處理流體供給埠口具有喷嘴孔口及數目係等於或大於 物件數.目。換言之，因相同處理流體供給複數物件，故物 本紙張ϋ用中國國冢標準（CNS)A4規格⑵〇 χ挪公餐）

Μ ·-------訂---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 五、 B7 發明說明（ 件的處理可相等化。 务月之弟十二特點在·於容器可包圍物件因而使物 件密封於容器内部。 本發明之第十四特點在於即使當容器係於等待位置 谷裔可隔離其内部氣氛與外部氣氛。 本發明之第十五特點在於容器中之至少一容器可隔 離其内部氣氛與其它容器的外部氣氛。 本發明之第十六特點在於第二壁係設置於第一壁上 方，周邊壁係排列成其軸係上下伸展。則可儲存液體於周 邊土内°卩’允許物件浸泡於液體。本發明之第十七特點在於周邊壁及第一壁之構造允 許液體儲存於由周邊壁及第一壁定義的空間。此種情況下 ，可使化學品、清潔液等與物件做充份接觸，完成適當反 應及隨後的清潔。 胃 本發明之第十八特點在於第二壁設有一蓋其可開閉 壁裝載物件至處理裝置内料及由處理裝置卸載物件。 此，物件可經由容器上部裝載及卸載。 本發明之第十九特點在於處理裝置包含一固定容 牢固固定於周圍位置，其中固定容器包圍預處理物件； 及-或多活動容器可移動且設置於包圍物件的活動容器 周圍位置與未包圍物件之活動容器的等待位置間；其^ 物件係於固定容器包圍物件狀態處理時，一或多活動容 係設置於等待位置。' 谷 則可改良固定容器的耐.用性，同時也免除固定容器 如 器 以 之 當 器 --------^--------— ^-------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱— A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ 的傳動單元。 ^月之弟—十特點在於-種處理至少-待處理物 、-理方法，係經由使用一處理裝置包括一或多容器係 以可移動方式設置因而占據包圍物件的周圍位置以及未包 圍物件的等待位置，該方法包含下列步驟： 指定钱容器之―指定容器周圍位置而對物件外加 移動指定容器至等待位置；以及 設置於周圍位置之複數容器之另一容器而外加指定 處理於物件。 用於本例’當經由使用複數流體外加指定處理時， 可根據處理*體種類移動不同處理腔室至物件周邊。如此 ，即使各別處理流體係維持於各別處理腔室，不同處理流 體不可能存在於同-腔室。因而可防止物件被不同種處理 流體反應污染。 本發明之第二十一特點在於處理裝^包括一夾持器 用乂夾持物件’複數容器排列成彼此接合，當設置複數容 器之指定容器於包圍位置時，物件接受指定處理，同時設 置其它容器存在於等待位置的指定容器内側。 此例中可谷易移動複數容器介於包圍位置與等待 位置間’同％也可緊密容納容器。如此，可使整體處理容 器尺寸縮小。 本1¾明之第_十二特點在於物件之指定處理係將處 理液體朝向指定容器的物件喷設。則可使處理液體與物件 I--I — — — IAV ·11111!1 ^ » — — 1111 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

五、發明說明（8 ) 做有效接觸。 本叙明之第二十三特點在於物件於指定之處理過浐 旋轉。心旋轉，故可進行供給的處理流體與物件接觸，王 以及即刻去除用過的處理液。 本务明之第_十四特點在於物件之指定處理包含一 化學處理而供給化學品至第_容器的物件及—乾燥處理而 供給乾燥流體至第二容器的物件。然後，化學處理及乾燥 處理可以連續處理進行而實現改良的處理效率。 <本發明之第二十五特點在於物件之指定處理包含化 學品處理，供給化學品至位於包圍位置的指定容器内部之 物件；以及隨後化學品去除處理而供給化學品之溶劑至物 件。如此，可確切去除容器内殘留的化學品，也可於同一 容器内進行二項處理，因而改良處理效率。 本發明之第二十六特點在於物件的指定處理包含一 外加處理於内側容器物件之步驟以及隨後外加另一處理於 外側容器物件之步驟。換言之，即使處理液由内側容器射 出，外側容器也可接納如此滲漏的液體。因此可防止液體 滲漏至裝置外側，避免污染外界氣氛。 本發明之第一十七特點在於物件之指定處理包含一 儲存處理液於指定容器之步驟以及一隨後浸沒物件於處理 液之步驟。此種情況下，可使化學品、清潔液等與物件做 充份接觸因而完成足夠化學反應以及隨後的清潔處理。 本發明之第一十八特點在於物件之指定處理進一步 包括一噴射處理流體至指定容器内部物件之步驟。如， A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ 行儘沒處理同時也可進行噴淋處理因而完成多種 處理。 月ίι述及其它本發明之特色及優點由後文說明及隨附 之申明專利範圍參照附圖顯示本發明之較佳具體實施例將 更加明瞭。 圖式之簡單說明 第Ϊ圖為全剖面圖顯示根據本發明之一具體實施例之 清潔裝置之内部結構； 第2圖為仰視剖面圖顯示安裝於第1圖之清潔裝置之 外清潔槽内部結構； 第3圖為側視剖面圖顯示安裝於第1圖之清潔裝置之 外清潔槽内部結構； 第4圖為全剖面圖顯示第1圖之清潔裝置之内部結構 仁内m >糸槽係進入外清潔槽内部； 第5圖為仰視剖面圖顯示安裝於第1圖之清潔裝置之 外清潔槽内部結構，但内清潔槽係進入外清潔槽内部； 第6圖為乾氣體供給管路之線路圖； 第7圖為側視剖面圖顯示安裝於第1圖之清潔裝置之 外清潔槽之内部結構但傾斜晶圓係容納於外清潔腔室内部 第8圖為全剖面圖顯示第二具體實施例之清潔裝置之 内部結構； 第9圖為全剖面圖顯示第8圖之清潔，聚置之内部結構 但内清潔槽係進入外清潔槽内部； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵G χ 297公楚） 12 —l—-----裝——^訂-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明說明（10 ) - 第10圖為全剖面圖顯示第三具體實施例之清潔裝置 之内部結構； 第11圖為應用於本發明之處理裝置之清潔與乾燥裝置 之示意平面圖； 第12圖示思結構圖顯示本發明之第四具體實施例之 處理裝置； 第13圖為第12圖之處理裝置之主要部件之剖面圖； 第14圖為第13圖之處理裝置之示意剖面圖，顯示其 接納晶圓之條件； 第15圖為第13圖之處理裝置之示意剖面圖，顯示其 輸送晶圓至一轉子之條件； 第16圖為第13圖之處理裝置之示意剖面圖，顯示其 於内部腔室之化學品處理及化學品去除處理； 第17圖為第13圖之處理裝置之示意剖面圖，顯示其 於外部腔室之清潔處理及乾燥處理； 第18圖為示意管路圖顯示第12圖之處理裝置之管路 系統； 第19圖為透視圖顯示第13圖之處理裝置之内缸及外 缸； 第20圖分解透視圖顯示第19圖之内缸及外缸； 第21圖為第20圖之氣/液分離裝置之透視圖； 第2 2圖為透視圖顯示於本發明之另一具體實施例之 缸體分解條件； 第23圖為透視圖顯示第2_2圖組裝後之缸體；以及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 13 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（n i第24圖為剖面圖顯示本發明之另一具體實施例。 較佳具體實施例之說明 ::參第1至22圖說明本發明之較佳具體實施例。 第1圖顯示本發明之第一具體實施例。 為了》兒明肩具體貫施例，該圖也顯示由正面觀視清 潔褒置1之内部結構。如第1圖所示，清潔裝置W含-外 清潔槽3,-内清潔槽5及—升降機構6。詳言之，外清潔 槽3具有可容納25片晶’之外清潔腔室2。外清潔腔室2 於本說明書也稱做「第-清潔腔室」。内清潔槽5具有-内 至4 ’其構造允許進人及離開外清潔腔室2，也可包 圍存在於外清潔腔室2之晶圓w。同理，内清潔腔室罐做 「弟二清潔腔室」。升降機構6可實現裝置丨之兩種條件如 下：一種條件其中内清潔槽5移動至外清潔槽3，故晶_ 係由内清潔腔室4包圍；以及另_條件其中内清潔腔室5由 外清潔腔室3撤離，因此晶圓輝、由外清潔腔室2包圍。 為了由晶圓W表面去除無機污染物（例如金屬雜質卜 如此組成的清潔裝置！並未進行清潔操作，清潔操作循序 包含-「SPM」清潔處理’一使用純水的清潔處理，一「 SCI」清潔處理’另-使用純水的清潔處理及—乾燥處理 〇 SPM清潔處料於㈣5進行。spM清潔處理中，使 用主要為硫酸成份之稱做「SPM」(硫酸/過氧化氫混 之清潔液。 口 雖然SCI清潔處理係於外清潔槽3進行 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公髮 值於SCI清潔 ----一丨--------裝·丨丨丨丨丨丨丨訂i丨_ _ _ ί (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 14 499696 A7 經乾部%-1-財產^-員工消費合作社印製 各 其 17 五、發明說明（丨 用另，種主要由氨氣成份組成的稱做「綱」(氯氧 化鉍/過氧化氫/水混合物）之另一 冰、主初 種π /糸液。乾燥處理係於 卜/月你槽3進行。乾燥處理時，1 一 ^ ^ ^ ^ (/、丙醇）蒸氣及熱氮氣 之^合乾氣體供給至外清潔槽3。 外清潔槽3於上壁設置一鬥〇 2 ^ 開3a。知作時，晶圓W係 經由開口 3a裝載入清潔裝置1内 鬥口P也經由開口 3a由裝置1 排出。開口3a可藉活動蓋10開閉。蓋10之構造可於垂直或 水平方向移動至外清潔槽3,圖中’實現蓋1〇表示開啟 上盍3a之操作’而雙點線蓋本體10,表示關閉開口 3a之另 一操作。機殼"岐於外清潔槽3下部。於附圖之機殼" 内部設置-内清潔槽5’内清潔槽係由外清潔槽3遮蔽。開 口 3b也形成於外清潔槽3下壁。所示例中，内清潔槽5自適 應於向上及向下通過開口 3b。清潔裝置旧一步包括一缸 體12。缸體12穿過機殼及内清潔槽5内部中心而到達外清 潔槽3下方中心。缸12内部設置—支持轴13其上端係連結 至一平臺14。 第2圖顯示外清潔槽3内部結構之頂視圖。第3圖顯示 於與第1圖不同方向之外清潔槽3之側視圖。如第2及3圖所 不，一對左及右夾持器16a，16b設置於平臺14頂面上 夾持器16a(l6b)於其周邊設置有複數（例如25)切槽π於 中可插入晶圓W周邊。如此，當裝載25片晶圓w進入清潔 裝置1時’晶圓W1周邊分別插入夾持器16a，16b的切槽 。結果’晶圓W可於直立狀態容納於外清潔腔室2内部。 於外清潔腔室2上方設置四個水平噴射器（喷嘴）21 ,其各 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ! I*-------------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（13 ) - 自有多個噴射孔口 2〇用以喷射清潔液（亦即ApM及純水）。 因此’當清潔外清潔槽3的晶圓w時，晶圓W首先設定於 平臺14上的各位置，其次清潔液由晶圓…噴射因而均勻清 潔25晶圓W表面。注意孔口 2〇也組構成可噴射化學液朝向 晶圓W。如第丨圖所示，外清潔槽3於其底部設置一洩放口 22，洩放口連結一配備有關閉閥23的洩放管。閥門的開 啟可使外清潔腔室2之化學液（APM及純水）排放入外側。 左思，於本修改例中，外清潔槽3於底部周邊設置複數洩 放口，經此，可收集化學液且排放至外側。 於升降機構6，升降軸連結於内清潔槽5之最底面。 如此升降機構6係由缸體單元、馬達等組成。由於升降 機構6的垂直操作，内清潔槽可向上移動進人外清潔槽3， 也可向下移動而經由外清潔槽3的下方開口讣有外清潔槽3 撤出。詳言之，經由使内清潔槽5進入外清潔槽3内部，如 第4圖所示，可達成内清潔腔室4包圍晶圓w，故晶圓*可 合納於内清潔腔室4内部。第5圖顯示外清潔槽3内部結構 之此種情況之頂視圖。當藉操作升降機構6而將内清潔槽 由外清潔槽3撤出時可達成第旧之情況，此處晶圓輝、^ 納於外清潔槽3内部。 如第4圖所示，當内清潔槽5進入外清潔槽3内部時， 内清潔槽5頂面上的密封物件緊密接觸外清潔腔室2的頂面 。同時’於紅體12頂端周邊之另—密封部件31也接觸内清 潔槽5頂面。藉此方式’可防止内清潔腔室4内部氣氛渗漏 至外清潔腔室2。環繞内清潔腔室4上側，設置四水平喷嘴 本紙張尺度·中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱） I------tl!單 I! t !應馨 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 16 499696 A7 B7 經 濟 部 智-· 慧： 財 產' 局_ 消 費 合 作 社 印 製 丙 了 五、發明說明（1 33其各自有多個設置孔口 32用以類似噴嘴21由外側噴射化 學液（SPM，純水）朝向晶圓w。進一步，内清潔槽$之底 部設置一洩放口 34，洩放口連結插至有一關閉閥3 5的洩放 管36。 如第6圖所示，噴嘴21(圖中僅顯示一喷嘴）也連結至 乾氣體供給管路40之出口，乾氣體供給管路異丙醇蒸氣及 熱氮氣之混合氣體至外清潔腔室2内部（第1圖）。同時，乾 氣體供給管路40之入口係連結至氮氣源41。介於管路4〇之 入口與出口間插置多數元件：三向閥42，空氣單元43儲存 異丙醇液，過濾器44其僅允許氣體通過，以及三向閥45其 決定是否進給乾氣體至噴嘴21。進一步，連結管線私設置 用於連結於二向閥42與三向閥45間。由於三向閥42的開關 操作’熱氮氣由氮氣源41以100-200升/分鐘流速進給通氣 單元43，如此於通氣單元43實現高度通氣條件。於單元^ 氮氣藉單元4 3的網眼板4 7轉成小氣泡，故有助於異丙醇 液的蒸發。 於異丙醇蒸氣及熱氮氣產生且流至通氣單元43之外 後，水份藉過濾器44去除，隨後經由三向閥45的開關操作 中介而進給噴嘴21。另外，僅有熱氮氣係藉操控三向閥“ ，54進給。雖然前述本發明之具體實施例已經以供給異 醇洛氣與熱氮氣之混合物（或僅熱氮氣）舉例說明，但須 解也可根據乾燥處理種類供給異丙醇液至晶圓W。 現在說明於前述構造之清潔裝置1執行的晶圓w之清 潔處理。例如’為了由晶圓w表面有效去除無機污染物^ -----------I I ^ i——— — — — — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 17 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499696 五、發明說明（ 雜質’清潔裝置m下述順序進行清潔操作：咖 =處理，清洗處理，SCI清潔處理，清洗處理及乾燥處 如第1圖所示，利用圖中未顯示的移送臂將晶圓W(未 m 25片）經由上開口3a裝栽入外清潔槽3内部，其條 件為内清潔槽5已經藉升降機構42由外清潔槽3内部撤出。 於外清潔槽3中’晶圓W周邊插入夾持器16&，⑽的切槽 …旦晶圓w已直立容納於外清潔腔室2,則移開蓋⑺而 關閉外清潔槽3的上開口 3a。 同時須注意SPM清潔使用的化學品spM(硫酸/過氧化 氫混合物）屬於酸性清潔液，而SCI清潔使用的化學品ApM( 氫氧化銨/過氧化氫/水混合物）屬於強鹼液。因此，於前述 ’月溧過程中，重要地係防止SPM與ApM化學品發生交又污 染（例如生成鹽類）。 根據本具體實施例之清潔裝置1，當使用化學品SPM 、純水及化學品APM進行指定清潔處理時，升降機構6操 作而對應清潔液種類移動内清潔腔室4至晶圓W周邊。然 後’ ^供給化學品SPM及純水至晶圓w時，可容納晶圓w 於内清潔腔室4，藉此進行SPM清潔及隨後的清洗。他方 面，當供給化學品APM及純水至晶圓W時，可容納晶圓w 於外清潔腔室2，藉此進行SCI清潔及乾燥。因此，即使 化學品SPM殘留於内清潔腔室4及化學品APM殘留於外清 潔腔室2，此等化學品SPM，APM不會同時存在於同一槽 内。原因在於當交換使用化學品SPM，APM時容納晶圓w ‘紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 18 .------------^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 B7 經^-部%-(€:財1.^-員工消費合作社印製 五、發明說明（16 之清潔腔室改變。如此，可防止發生交叉污染，例如鹽類 〇 詳言之，當首先於外清潔腔室2進行SPM之清潔時， 升降機構6允許内清潔槽5進入外清潔槽3，如第4圖所示。 如此，内清潔腔室4移動至晶圓W周邊，因而實現容納晶 圓W於内清潔腔室4之條件。此種情況下，可經孔口 32將 化學品SPM噴射至25片晶圓W之各別表面上。如此，進行 SPM清潔俾由晶圓W表面去除粒子。於SPM清潔完成後， 清洗用純水通過孔口 32供給晶圓W而使晶圓W變清潔且完 全去除化學品SPM。 如第1圖所示，當於外清潔槽3循序進行SCI清潔時， 升降機構6允許内清潔槽5離開外清潔槽3，因而實現容納 晶圓W於外清潔腔室2之條件。類似SPM清潔，經由孔口 20 將化學品APM注入晶圓W之各別表面俾由晶圓W表面去除 顆粒及無機污染物（例如金屬物質）。於SCI清潔完成後， 經孔口 20供給清洗用純水至晶圓W俾使晶圓W清潔且完全 、去除化學品APM。如此，可分別供給不同種化學品SPM， APM至内清潔腔室4及外清潔腔室2。 最終，乾氣體由孔口 20射出而乾燥晶圓W。如第6圖 所示，首先供給熱的氮氣至存放異丙醇之通氣單元43俾產 生異丙醇蒸氣與熱氮氣之混合氣體。若為乾燥氣體，所得 混合物經由乾氣體供給管線40進給喷嘴21。由於供給氮氣 ，乾燥處理可於惰性氣氛下完成。此外，對晶圓表面供給 異丙醇蒸氣允許晶圓W表面的殘餘水滴被置換，因而可有 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 19 -------II--I 1 ·!11111 ^-1111111 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 五、 發明說明（i 放由曰曰圓表面去除純水。如此，由於IpA蒸氣及熱氮氣體 混合物供給外清潔腔室2,可加速晶圓w之乾燥因而防止 Η如於乾燥處理時出現水潰。如此’比較自然乾燥可進行 短而適當的乾燥處理。於以前述方式完成指定的乾燥處理 後:開啟上開口3&允許晶圓W由清潔裝置！排放。注意， 除刖述乾燥方法外，有一種處理可於異丙醇蒸氣及熱氮氣 混合物供給完成時僅供給熱氮氣至晶圓W，-種處理係於 異丙醇液體供給完成時僅供給熱氮氣至晶圓w等。 藉此方式，根據具體實施例的清潔裝置丨，由於内清 潔腔室4係相對於外清潔槽3内部移動用於晶圓w之清潔操 作，同時使用酸性SPM及強鹼APM兩種化學品，故可實現 不同的/月 >糸條件’其中晶圓w係容納於不同的清潔腔室内 ，因此’即使化學品SPM係殘留於内清潔腔室4，以及化 學品APM係殘留於外清潔腔室2，化學品㈣與A·間不 可能產生反應而防止發生交叉污染，例如鹽類。 羲 注意’前述具體實施例中，晶圓w係直立容納於外清 潔腔室2。於變化例中，如第7圖所示，晶圓w可於傾斜狀 態容納於外清潔腔室2。又，本例中使用前述本發明之配 置可均勻一致洗滌25片晶圓W。 其次，參照第8及9圖，根據本發明之第二具體實施 例說明清潔裝置50。雖然先前清潔裝置】係藉孔口2〇, 32 進行_清潔及SCI清潔，但本具體實施例之清潔裝置％ 之構造係經由將晶圓w浸沒於裝填化學品s p M之内清潔腔 至4進行SPM清潔’以及將晶圓黯沒於裝填化學品 本紙張尺度細+關家鮮(CNS)A4雜（21G X 297^^ 499696 A7 B7 五、發明說明（丨 --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之外清潔腔室2進行SCI清潔。清潔裝置50之細節構造說 明如後。注意’本清潔裝置50中，就功能及組成而言，類 似前述清潔裝置1及元件係以相同的參考編號表示，因而 免除其重覆說明。 •線· 第8圖顯示類似第1圖，内清潔槽5離開外清潔槽3之 條件。第9圖顯示類似第4圖内清潔槽5進入外清潔槽3之條 件。如第8及9圖所示，外清潔腔室2於其底部設置一沒放/ 供給口 5 1，該口連結一洩放/供給管52。又，洩放/供給管 52連結洩放管55，用以經由三向閥53，54將清潔液由外清 潔腔室2洩放。三向閥53也連結APM供給管57用以供給化 學品APM，APM已經由APM供給源56進給入外清潔腔室2 内部。同時，三向閥54也連結供給純水的純水供給管59， 純水已經由純水（DIW)供給源58供給入外清潔腔室2内部 。因此，使用三向閥53，53之切換操作，洩放/供給管與APM 供給管57或純水供給管59連通，允許化學品APM或純水 供給入外清潔腔室2。同時，洩放/供給管52與洩放管55連 通’允許清潔液由外清潔腔室2排放。 經 濟： 部 智、 慧： 財 i- 員 工 消 費 合 作 社 印 製 此外，於外清潔腔室2，洩放管60係設置呈沿腔室2 之側面豎立。洩放管60開口於外清潔腔室2上側。因此， 當進給的清潔液超過預定高度時，過量液體可經由洩放管 60由腔室2内部洩放出。換言之，洩放管60連結插置有關 閉閥61之洩放管62，因此，關閉閥61的解除允許液體溢流 而經由洩放管62排放出外側。進一步，外清潔腔室2於其 頂面設置出氣口 63用以釋放乾氣體。 21 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499696 A7 _____B7___ 五、發明說明（19 ) ' 類似外清潔腔室2，内清潔腔室4於底部也設置洩放/ 供給口 65，於該口連結一洩放/供給管66。又，洩放/供給 管66經由三向閥67，68連結一洩放管69。三向閥67也連結 SPM供給管71用以供給已經由SPM供給來源70進給的化學 品SPM至内清潔腔室4内部。同時，三向閥68連結純水供 給管73供給已經由純水（DIW)供給源72進給的純水至内清 潔腔室4内部。因此，由於三向閥67，68的切換操作，可 供給化學品SPM或純水至内清潔腔室4，也可由腔室4排放 清潔液。此外，於内清潔腔室4，設置一洩放管74也係沿 腔室4之内侧面豎立。洩放管74連結插置有一關閉閥75之 洩放管76，故關閉閥75的解除允許液體溢流至腔室4，但 經由洩放管76排放至外側。 發明人現在說明藉前述清潔裝置50進行的晶圓w之清 潔操作。如第8圖所示，於25片（未經清潔的）直立晶圓w 已經容納於外清潔腔室2後，作動升降機構而移動内清潔 腔室4至晶圓W周邊進行SPM清潔，如第9圖所示。然後， 三向閥67切換至SPM供給管71該側，化學品SPM供給内清 潔腔室4而浸沒晶圓W於化學品S P Μ。同時，解除關閉闊7 5 ’由晶圓表面去除的顆粒經洩放管74及洩放管76連同溢流 的化學品SPM排放至外側。藉此方式進行SPM清潔。 SPM清潔完成後，三向閥67 ’ 68共同轉動至浅放管69 側邊而排放來自内清潔腔室4之化學品SPM。隨後，三向 閥6 8轉至純水供給管7 3該側而進給純水至内清潔腔室4内 部。藉此方式，晶圓W浸沒於純水，進行清洗作業。又， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 22 --l·---一-----裝 —丨訂----I I I I I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 B7 經 濟： 部 智〜 慧： 財 產％ My 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（2 本例中’過量純水係由内清潔腔室4之上方排放。注意， 三向閥68適當轉至洩放管69該側，可以修改方式重覆進行 浸沒及洩放。 如第8圖所示，當於外清潔腔室2循序進行SCI清潔時 ，升降機構6作動而使内清潔槽5由外清潔槽3移開，使晶 圓W容納於外清潔腔室2。然後，三向閥53切換至八？1^供 給管57該側，化學品APM供給入外清潔腔室2内部而浸沒 晶圓W於化學品APM。同時，解除關閉閥61，由晶圓表面 移開的顆粒及無機物質例如金屬連同溢流的化學品Αρμ 通過洩放管60及洩放管62，由外清潔腔室2外側排放。以 前述方式進行APM清潔。 於S CI清潔完成後’三向閥5 3 ’ 5 4共同轉至汽放管5 5 該側而由外清潔腔室2排放化學品APM。隨後，三向闊54 轉至純水供給管5 9該側而進給純水至外清潔腔室2内部。 藉此方式，晶圓W浸沒於純水，進行清洗操作。又本例中 ’過量純水由外清潔腔室2上方排放。同理，三向闕54適 田轉至）¾放管5 5該側’可以修改方式重覆進行浸沒及泡放 。最後，IPA蒸氣及熱氮氣之混合氣體經出氣口 63供給而 乾燥晶圓W。藉此方式，浸沒晶圓W於清潔液的清潔裝置 5〇也可適當進行指定的清潔處理。 參照第10圖，本發明之第三具體實施例說明如後。 如第10圖所示，具體實施例之清潔裝置8〇之構造可藉喷射 清潔液進行「射出」清潔以及對晶圓w進行「DIp」清潔 。如此，外清潔腔室2設置有·喷嘴21，内清潔腔室4設置有 ---!!·裝！—訂·！ •線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 23 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（2 1 ) . 噴觜33如此允許化學品SPM、APM朝向晶圓W向下噴射 進步’外清潔腔室2設置有前述組件例如洩放/供給口 Λ文供、6 g 52，洩放官60等。内清潔腔室4設置有前述 、、且件例如洩放/供給口 60，洩放/供給管66，洩放管74等 允。午曰曰圓w次沒於化學品SPM，APM及純水。使用前述 構造，由於經由自由組合射出清潔與mp清潔可達成多種 清潔操作，可對裝置提供高度應用性。 進一步，待處理物件非限於前述晶圓w，因此本發明 也適用於清潔LCD機板、破璃機板、CD機板、光罩、印 刷電路板、陶究機板等。此外，本發明不僅可應用於清潔 同時也可應用於外加指定處理液於機板裝置之方法，供給 含指定反應性成份之處理氣體至處理腔室内部之裝置，藉 此於物理、化學反應處理機板及其方法，例如電漿姓職 置、電漿CVD裝置，真空處理裝置等。 其次，本發明之第四具體實施例之說明如後。本且 體實施例中，敘述應用本發明於半導體晶圓之清潔及乾燥 裝置之案例。 第11圖為示意平面圖顯示應用本發明之處理裝置之清 潔與乾燥系統之一例。 前述清潔與乾燥系統主要包含裝載/卸栽區段2〇2用以 裝載及卸載載具2(H ’載具2()1内部水平容納例如25片半導 體晶圓w做為待處理物件，一處理區段2〇3用以施加液體 處理於晶圓w及隨後乾燥，及一界面驅動2〇4設置於裝載/ 卸載區段2G2與處理區段2〇3間而進行晶圓w之輸送、位置 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 1t illllt———I—I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 24 A7 B7 五、發明說明（22 ) 調整、位態改變等。注意，除裝载/卸載區段2〇2及界面區 ^204外’有栽具存放架2〇5各自暫時容納空載具加以及 載具清潔206用以清潔載具2〇1。 前述裝載/卸載區段202係設置於清潔與乾燥裝置一邊 ’包括載具裝載部件2G2a及載具卸載部件脑彼此此鄰設 置。 、界面區段204設置有一載具架207。於載具架207與裝 載/卸載區段202間設置-載具轉運單元扇，載具轉運單 —轉運載具2〇1由載具裝載部件2仏至載具架浙或載具存 木2〇5，也輸送於載具架2〇7上的載具2〇1至載具卸載部 件2〇2b或載具存放架2〇5。進一步，界面區段2〇4設置一輸 迖路彳二209其伸展至處理區段2〇3，於晶圓輸送單元上，例 如活動式架設晶圓轉運夾頭21()。晶圓轉運夾頭㈣之構造 =可轉運已經由載具201攜帶至載具架2〇7上的晶圓w(未 I處理）至處理區段2〇3，也裝載藉處理區段2〇3處理後的 晶圓W至載具2〇1。 同犄，岫述處理區段204設置本發明之處理裝置220 ，其可由晶圓W去除抗蝕劑、聚合物等。本發明之處理裝 置220說明如後。 如第12圖所示，前述處理裝置22〇主要由下列元件組 成·疑轉式晶圓載運單元例如轉子221 ;旋轉轉子221之傳1 動單元例如馬達222 ;於轉子221上環繞晶圓W之複數處理 腔室（例如第一及第二腔室）之内腔室223 ;外腔室224 ;供 給單元250用以供給處理流體例如抗蝕劑去除劑、聚合物 25 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21G X 297公爱）

五、發明說明（2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 去除劑等化學品至容納於内腔室223及外腔室224之晶圓w ;另一供給單元260用以對溶液供給的化學品例如異丙醇 (IPA);清洗液供給單元27〇用以供給清洗液（例如純水）， 或乾炼流體供給單元280用以供給乾氣體（流體），如惰性 氣體（如氮氣）、新鮮空氣等（供給單元25〇，28〇顯示於第11 圖），移動單元（例如第一及第二缸227，228)用以移動組 成内腔室223的内〜鱼225及組成外腔室J24的外缸226至晶圓 包圍位置以及與晶圓包圍位置隔開的等待位置；及一物件 輸送單元（例如晶圓輸送液229)用以接納來自晶圓轉運夾 頭210之晶圓W以及輸送至轉子221，反之易然。 如上構造之處理裝置220之馬達222，供給單元250， 260 ’ 270 ’ 280(第11圖顯示供給單元250，280)，晶圓輸 送液229等係由控制單元例如中央處理單元23〇(後文稱做 CPU 230)控制。 如第13圖所示’轉子22 1係以旋臂式連結至水平排列 馬達222之傳動軸222a。轉子211載運晶圓W，故其待處理 表面係垂直豎立且自適應於以水平軸為軸旋轉。轉子22 j 包括一第一轉子圓盤22 la具有一轉子軸221A經由聯軸劑 222b連結至馬達222之傳動軸222a，第二轉子圓盤22lb係 與第一轉子圓盤22 1 a相對，數根（例如4根）固定桿23 1跨置 於第一轉子圓盤221a與第二轉子圓盤221b間，及一對推桿 232，可藉圖中未顯示鎖定及鎖定解除單元（二者圖中皆位 顯示）介於其推進位置及非推進位置間移動，用以夾持晶 圓W上部固定於固定溝231 a(參考第20圖）。第一固定臂234 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 26 II II t i I ! I — I t II — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 五、 發明說明（7 經由軸承233旋轉式支持轉子221的轉軸221A。進一步， 由於於第一固定臂234該側於軸承233之後設置迷宮峰23 5 ’故構成轉子2 11可防止由馬達222產生的顆粒等侵入處理 腔室（參考第13圖）。注意，馬達222係容納於缸236内接續 連結至第一固定臂234。馬達222係控制呈可根據事先儲存 於中央處理單元230之程序而於預定高轉速，例如100-3000 rPm及低轉速例如uoo rpm重覆選擇性。注意，雖然以上 說明的高轉速與低轉速範圍部份重疊，但低速範圍或高速 範圍通常係就化學液濃度建立，因此於有相同化學液之例 ’類似後文說明’高及低轉速範圍不會彼此重疊。此處， 低速轉動表示以轉數比較速度較低，允許黏附於晶圓表面 的化學品藉轉子離心力去除，而高轉速表示就轉數比較速 度較高’允許供給的化學液接觸晶圓W因而執行充份反應 --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· 經 濟： 部智、 慧: 財 產' 局- 員 工 消 費 合 作 社 印 製 因此’由於重覆尚速轉動及低速轉動故馬達222可能 過熱’馬達222設置有冷卻單元237用以限制馬達的過熱。 如第12圖所示’冷卻單元237係由循環冷卻管237a環繞馬 達222以及熱交換器237c含有部份冷卻管237a及部份冷媒 供給管23 7b用以冷卻容納於冷卻管237a内部的冷媒。採用 的冷媒為電絕緣及導熱液體，其儘管由液體滲漏例如乙二 醇苓漏也不會造成馬達222短路。進一步，冷卻單元237係 由CPU 230控制因而根據由（圖中未顯示）之溫度感測器檢 測之資訊操作。注意，冷卻單元237並非經常設置前述構 造，因此使用者可任意選擇氣冷單元、電力冷卻單元附有

--線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499696 A7 " ........................... 丨丨 B7 五、發明說明（25 ) - 派啼爾（Peltier)元件等。 處理腔室，例如内腔室223(第一處理腔室）係由第一 固疋臂2M界定’相對之第二固定臂238及内缸225分別經 由第一及第一密封構件24〇a，240b接合第一及第二固定臂 234，238。換言之，隨著第一缸227的膨脹，内缸225連同 轉子221移動至包圍晶圓W之位置而界定内腔室223(第一 處理腔室）經由第一密封件24〇a密封至第一固定臂234，也 經由第二密封件240b密封至第二固定臂238(參考第13及16 圖）。再度’内缸225自適應於具有第一缸227的收縮（參考 第14，15及16圖）移動至缸236(等待位置）外側。然後，内 缸225之前端開口經由第一密封件24〇a密封至第一固定臂 248 ’及缸底部經由形成環繞缸236中間部份的第三密封件 240c密封至缸236 ’如此防止殘留於内腔室223的化學品氣 氛泡漏。 外腔室224(第二處理腔室）係由下列界定：第一固定 壁234插置於密封件240b介於移動至等待位置的内缸225與 固定壁234間’第二固定壁238，以及外缸226經由第四密 封件240(1及第五密封件24(^分別接合第二固定壁238及内 缸225。如此，隨著第二缸228呈移動單元膨脹，外缸226 連同轉子221移動至包圍晶圓w之位置，以及經由第四密 封件240d及第五密封件240e密封至第二固定壁238及内缸 225，形成外腔室224(第二處理腔室；參考第17圖）。又， 外缸226自適應於隨著第二缸228的收縮而移動至固定缸 236外側等待位置（第14及15圖）。此例中，第五密封件24〇e 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 28 1— ί ---—Aw · II I I I I I — — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 經_赛部^,€:財1处員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（26 ) — 係插置於外缸226與内缸225之底端間。因此，因内腔室223 之内部氣氛與外腔室224之内部氣氛彼此以流體緊密方式 分開，故外腔室223，224氣氛不可能混合，可避免由於不 同的處理液反應造成的交叉污染。 注意’前述第一至第五密封件240a至240e係由密封機 構組成，各自將壓縮空氣包圍入真空包裝（例如橡皮塾）可 , 脹大嵌合至接受密封物件的一邊。 如上彼此接觸的内缸及外缸225，226共同推拔而逐 漸朝向其梢端膨大。如第19及20圖所示，缸225，226適合 沿複數平行滑動執239A(所示具體實施例為三軌）滑動，執 係於第一固定壁234、第二固定壁238及側壁239伸展，各 壁皆於同一水平線彼此交叉。結果，隨著第一及第二缸227 ’ 2 2 8的膨大及收縮’缸2 2 5 ’ 2 2 6可彼此同轴凸起、縮回 及重疊。由於内及外缸225，226之推拔形成，當於内缸225 或外缸226轉動轉子22 1時，產生氣流其以螺旋方式流向缸 的膨大側，因此輔助内部化學品排放至膨大側。此外，由 於缸225 ’ 226的同軸重疊結構’可減少内缸及外缸225，226 以及内腔室及外腔室223，224的架設空間因而達成裝置的 縮小。 内缸及外缸225 ’ 226為不鏽鋼製成。此外，内缸225 於外周邊設置例如聚四氟乙烯（商品名··鐵弗龍）製成的絕 熱層，可防止供給於内腔室223跟處理用的化學品冷卻。 前述處理液之供給單元中，如第12，π及18圖所示 ’化學品（例如聚合物去除劑）之供給單元250包括化學品 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） I------一 11!! til——! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 29 499696 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（27 ) ' 供給喷嘴251附接於内缸225,化學品供給部件252,泵浦254 設置於化學品管線259連結噴嘴25 1於部件252，過濾器255 ，溫度控制器256及化學品供給閥257。此例中，化學品供 給部件252係由化學品來源258、儲存來源258供給的新化 學品之化學品槽252a以及儲存供給用於處理的化學品循環 槽252b組成。内腔室223於其下部的膨大部份設置有第一 洩放口 241，連結第一洩放管242。第一洩放管242也經由 開關閥（圖中未顯示）連結至循環管線290。注意，内腔室223 於其上部之膨大側’設置有第一排氣口 243，排氣口連結 第一排氣管244同時插置一關閉閥（圖中未顯示）。於供給 槽252a’ 252b外側，設置溫度控制加熱器252c而維持槽252a ’ 252b化學品於指定溫度。為了均勻一致供給化學液至載 於轉子22 1的全部複數（例如25片）晶圓W，前述化學品供 給噴嘴251係以「噴淋」噴嘴銜式設置，於最外晶圓w外 側以及各晶圓W間設置2 6個孔口（圖中未顯示）。此外，喷 嘴25 1之構造也可經由孔口以大致扇形射出化學品。如此 ，化學品經噴嘴25 1孔口對隨著轉子221旋轉的晶圓w供應 ，可供給化學品至一致載運於轉子221的複數（例如25片） 晶圓W。注意，於僅供給化學品至晶圓w正面之例，噴嘴 251僅舄具有25個孔口。注意，前述配置中，每片晶圓w 載運轉子之間隔係等於先前25片晶圓容納於載具2〇丨之配 置間隔。但於修改例中，轉子221可以一半間隔載運例如5〇 片晶圓w。此種情況下，喷嘴251設置50或51個噴嘴孔口 - τ n I emMB i n I ·1- n ϋ Mmmmmmw mmmmmm · mammm ϋ n ϋ ϋ ϋ ϋ ^ ^ · 1· ϋ n 1 «1 ί I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

A7 B7 五、 發明說明（ 經濟部替歎財1.展員工消費合作社印製 圖所示’供給化學品溶液，例如異丙醇的供 Γ疋細’包括供給噴嘴251也操作為前述化學品供給噴 切著於内飯225(後文以「化學品供給喷嘴251」表示），、 溶劑供給部件261，泵浦ΝΑ設置於連結供給嘴嘴251與 化學品供給部件252的異丙醇管線262，過濾器2说及心 ί…閥263。此處’化學品溶劑表示不會與化學品反應的 液體’也表㈣於隨後處理的清洗液，但僅可洗掉沾黏於 晶圓w及腔室的化學品。此種情況下，溶劑供給部件261 係由溶劑（例如異丙醇）來源2 6 4、儲存異丙醇來源2 6 4供給 的新鮮異丙醇之異丙醇供給槽2613以及儲存用於處理的循 環供給槽261b組成。循環管線29〇也經由切換閥（切換裝置 )(圖中未顯示）連結異丙醇供給槽2 6丨a，2 6丨b。循環管線2 9 〇 也連 '纟Q第一洩放官242，洩放管連結形成於内腔室223膨大 側下部的第一汽放口 2 41。 如第12，13，1 8圖所示，清洗液（例如純水）之清洗液 供給單元270包括純水供給喷嘴271附著於第二固定壁238 ，純水源272，供給泵浦274及純水供給閥275設置於純水 管線273連結噴嘴271與來源272。此例中，純水供給噴嘴271 係設置於内腔室223外側及外腔室224内側。使用此種配置 ，當内缸225移動返回等待位置而外缸226移動至包圍轉子 221及晶圓因而界定外腔室224的位置時，喷嘴271係設至 於外腔室224而供給純水給晶圓W。 外腔室224於膨大側下部也設置第二洩放口 245，其 經由關閉閥（圖中未顯示）連結第二洩效管246。注意，线 請 先 閱 讀 背 Sj 之 注 意 事 項 再 頁 訂 線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 31 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 499696 A7 B7_ 五、發明說明（ 29 ) 放管246於管路上設置有比電阻表247，其偵測供給用於清 洗的純水的比電阻且傳送偵測得的比電阻給CPU 230。如 此，由於表247，可連續間控預設的清洗處理，故可於判 定適當清洗處理條件下完成處理。 再度，外腔室224也於膨大側上部設置第二洩放口 248 ，經關閉閥（圖中未顯示）連結第二洩放管249。 如第12，13及18圖所示，乾流體供給單元280包括乾 流體供給噴嘴281固定於第二固定壁238，乾流體源（例如 氮氣）282，關閉閥284插置於連結喷嘴281與來源282的乾 流體管線283，過濾器285及氮氣溫度控制器286。於控制 器286的下游端，管線283也經切換閥287連結分支管線288 。分支管線288係由異丙醇管線262分歧。此種情況下，類 似純水供給噴嘴27 1，乾流體供給噴嘴28 1係設置於内腔室 223外側以及外腔室224内側。内缸225退回等待位置以及 外缸226移動至包圍轉子221及晶圓W位置，乾流體供給喷 嘴281設置於外腔室224而喷灑氮氣及異丙醇混合物至晶圓 W。然後使用氮氣及異丙醇混合物乾燥晶圓W後，進一步 僅以氮氣進行乾燥。注意，於修改例中，氮氣與異丙醇混 合物可僅以氮氣置換。 注意，化學品供給單元250、異丙醇供給單元260、 純水供給單元270及乾流體供給單元280之泵浦254，254A 、溫度控制器256、氮氣溫度控制器286、化學品供給闊257 、異丙醇供給闊262及切換閥287的全部操作係由CPU 230 控制（參考第12圖）。 . 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 32 —：—*-----裝 i———訂ί -------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 B7 經 濟: 部 智' 慧: 財 產' 局· 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明（30 注意，如上組成之處理裝置220係設置於處理空間， 其上方設置有過濾單元（圖中未顯示）可經常向下供給新鮮 空氣。 其次，說明本發明之清潔與乾燥裝置之操作。首先 ’載具轉運單元208轉運容納未經處理晶圓w的載具201， 載具裝載於裝載/卸載區段202的裝載部件202a且裝載於載 具架207上。其次’晶圓轉運夾頭21〇移動至載具架207而 由載具201卸載晶圓W，隨後移轉晶圓w至處理區段203之 處理裝置220上方’亦即，於内缸225及外缸226撤退回等 待位置之條件下移轉至轉子221上方位置。然後，如第14 圖所示，晶圓輸送臂229升高而接納由晶圓轉運夾頭21〇轉 運來的晶圓W，接著下降而輸送晶圓w至轉子221的固定 桿231，隨後臂229返回最初位置。於輸送晶圓w至桿231 後，由於鎖定裝置（圖中未顯示）的作動，推桿232移動至 晶圓w上緣俾夾持晶圓（參考第15圖）。 一旦晶圓w以前述方式設置於轉子221上，如第16圖 所不，内缸225及外缸226移動至包圍轉子211及晶圓|位 置，故可容納於内腔室223。此種情況下，進行化學處理 同時供給化學品至晶圓貿。於化學品處理時，轉子221及 晶圓w以低速，例如1至500 rpm旋轉，化學品首先供給一 段預定時間，例如數十秒及然後停止供給化學品。接著轉 子221及晶1JW以高速，例如1()()至3_卿旋轉數秒俾將 沾黏於晶圓表面的化學品吹@。4匕學品處理係經由重複前 述化學品供給處理及化學品吹開處理數次至數千次完成。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------1·裝------- 訂------- --線 <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（3 注意’如第18圖之雙點鏈線顯示，若氮氣刀噴嘴则係排 列於内缸225來進-步於吹開化學品期間噴射线至晶圓 w’則可迅速去除化學品。此例中，t氣刀噴嘴則可經 關閉閥（圖中未顯示）連結至乾流體供給單元“Ο之乾流體 供給喷嘴281。 首先供給用於前述化學品處理者為儲存於循環槽 252b的化學品。使用後’首次用過的化學品經第一洩放管 282被拋開。隨後處理中，化學品也儲存於循環槽^几供 給供循環使用。化學品處理結束時，已經由來源258供給 化學品槽252a的新化學品用來完成化學處理。 >主意，於化學處理過程中，供給用於此處理過程之 化學品係收集於第一洩放管241，藉切換閥（圖中未顯示） 的作動排放至化學品供給部件252的循環管線245或第一线 放管242，源自化學品的氣體則經第一排氣口 243由第一排 氣管244排放。 元成化學處理後，晶圓W容納於内腔室223内部執行 化學品去除（亦即清洗）處理。此種處理過程中，轉子22 i 及晶圓W以低速，例如1至5〇〇 rpm旋轉時，化學品異丙醇 首先經由異丙醇供給單元260之化學品供給噴嘴251供給一 段預定時間，例如數十秒’以及隨後停止供給化學品異丙 醇。接著轉子221及晶圓W以高速，例如1〇〇至3〇〇〇印⑺旋 轉數秒俾將沾黏於晶圓表面的化學品異丙醇吹離。化學品 去除處理係經由重複化學品異丙醇供給處理及化學品異丙 醇吹開處理數次至數千次完成。類似先前化學品處理過程 ---：---------裝 ---— — I 訂—--I —^_AW (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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•五、發明說明（32 ) 經藏部tt:財員工消費合作社印製 ，首先供給用於前述化學品處理的化學品異丙醇儲存於循 環槽261b。使用後，首次用過的化學品異丙醇藉第一洩放 官242被拋開。隨後處理中，儲存於循環槽26^的化學品 異丙醇也供給供循環。於化學品去除處理結束時，由異丙 醇來源264供給供給槽26la的新化學品異丙醇用來完成化 學品去除處理。 注意，於化學品去除過程中，供應用於此項過程的 化學品異丙醇係收集於第一洩放口241且藉作動切換閥（圖 中未顯示）而排放於溶劑供給部件261的循環管線29〇或第 一洩放管242，同時異丙醇氣體係通過第一排氣口 243由第 一排氣管244排放。 於化學品處理及隨後的清洗完成後，如第丨7圖所示 ，内缸225移動為等待位置。結果，轉子221及晶圓w由外 缸226包圍，換言之，容納於外腔室224内部。因此，即使 液體由於内腔室223處理的晶圓W滴落，例如小液滴可由 外腔室224接收。此種情況下，清洗液，例如純水係經由 清洗液供給單元之純水供給喷嘴27丨供給旋轉中的晶圓w 。於清洗處理供給的純水以及被去除的化學品異丙醇經第 一 ’贫放口 245由第二 放口 246汽放。進一步，外腔室224 產生的氣體由第二排氣管249經第二排氣口 248排放至外側 〇 於進行清洗處理經歷一段預定時間後，執行氮氣與 異丙醇混合物由氣體來源285及異丙醇來源264供給旋轉中 的晶圓W，同時晶圓容納於外腔室224内部泌去除沾黏於 本紙張尺度過用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 35 ----I---I I I I I ·1111111 ^ — — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7

I $ 項 再 填 寫 本 頁 請 先 、 閱卜 讀 背 面I-: 之 r

注 I

意 I

事I

使用前述配置，若於内腔室223進行高溫化學處理， 則可防止熱由内缸225等分散。因此，於重覆高溫化學處 理例，可再度加熱内缸223而減少熱耗損。 經聲部知tl:財產·1員工消費合作社印製 同理’也可採用第22及23圖之缸做為減少熱耗損之 紅。第22圖顯示缸之分解圖，第23圖顯示組裝後之缸。缸 5〇1包括紅部件503，缸部件係由氟化樹脂例如聚四I乙烯 ’ PFA(四氟乙稀.全氟烧基乙烯基喊共聚物）等製成。缸部 件503於其底部&置茂放槽505,其深度係由軸端朝向另L 軸端遞增。環形加強環507，508附接於缸部件5〇3之二軸 端。加強環507 ’ 508亦由l化樹脂’例如聚四氟乙稀，Μ 等製成且熔接至缸部件503。加強環5〇8設置有洩放口 5〇9 ，其係連結於整合缸部件503之茂放槽5〇5用以茂放處理液 。介於缸部件505之加強環5〇7，5〇8間設置一對不鏽鋼、 鋁等製成的加強桿511而在期間架橋。各桿兩端5〇7d,5〇8d 利用螺絲固定於加強環507，508。 又前述缸501中，因聚四氟乙烯製成的缸部件具有絕 熱效果，故於進行高溫化學處理之例可再度減少熱耗損。 雖然前述具體實施例之處理裝置，包括内腔室223(第 一腔室）及外腔室224(第二腔室）做為處理空間，但可由三 個或更多個處理腔室，例如類似内缸225及外缸226之缸組 成。 第24圖顯示第13圖處理裝置之另一項修改。修改裝 置具有四重結構形式之缸，第13圖之處理腔室建構成具有 内缸225及外缸226的雙重結構。於處理裝置中，類似 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — — — — — — — — — — — I* · I I I I I I I — — — — — — 議 I* (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 37 499696 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（35 ) 圖内缸22 5之第一缸401設置成遮蓋第一固定壁234及第二 固定壁238間界定的空間。第一缸4〇1也配置成離開馬達222 漸進膨大。此外，第一缸4〇1之二軸向端係以氣密方式經 由密封件240a，240b密封於第一及第二固定壁234，238。 於第一缸401中，第一噴嘴4〇3係設置成可於軸向方向由馬 達222旁的軸向端伸展。進一步，第二缸4〇5係嵌合至第一 缸401外側。第二紅405之軸向端係藉密封件407a，407b密 封於第一缸401的軸向端。又於第二缸405，第二喷嘴409 也5又置成可於軸向方向由馬達222旁的軸向端伸出。此外 ，第三缸411嵌合至第二缸4〇5外側，第四缸413嵌合至第 三缸411外側。第三及第四缸4丨1，41 3之軸向端藉密封件 407a ’ 407b密封於内缸之軸向端。噴嘴415，417也設置於 缸411 ， 413 。 第二固定壁238係於徑向方向伸展，於外周邊也設置 有密封件407c ’密封件用來密封第二固定壁238外端與第 四缸413前端周邊。 第一、第二、第三及第四缸4〇1、405、411、413之下 端各別設置第一、第二、第三及第四洩放口 419，421，423 ，425。洩放口 419，421，423，425係設置成可以滑動方 式穿過第二固定壁238。來自洩放口 419，421，423，425 的用過的液體由液體盛接器427，429，431，433分別盛接 ，且進一步經由洩放管435合併排放至外侧。 至於廢氣，第一、第二、第三及第四缸401，405，411 ，413分別具有第一、第二、第三及第四排氣口 437，439 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 38 —.--------裝---------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 499696 A7 B7 五、發明說明（3 經 濟： 部 智- 慧": 財‘ 產· 局-· 員 工 消 費 合 作 社 印 製 ’ 441 ’ 443形成於其上端。排氣口 437，439，441，443設 置成可以滑動方式穿透第二固定壁238。廢氣係經排氣管 由排氣口 437，439，441，443之梢端排放。 為了讓前述構成的處理裝置進行化學品處理程序、 異丙醇處理程序、純水處理程序及乾燥程序，首先晶圓W 係由固定桿231及推桿232載運。然後當旋轉如此被載運的 晶圓w時，清潔用化學品於第一缸4〇1由第一喷嘴4〇3噴射 。其次’將第一缸401回縮至馬達222旁，由第二缸405的 第二喷嘴409供給化學品異丙醇進行異丙醇清潔。異丙醇 清潔完成後，回縮第二缸4〇5，以及於第三缸4π由第三噴 嘴415噴射進行純水清潔。隨後，第三缸411向後移動，然 後乾氣體’例如氮氣經由第四缸* 13的第四噴嘴41 7進給 乾爍晶圓W。前述處理過程中，用過的液體經第一至第 洩放口 419，421，423，425洩放，而廢氣係由第一至第 排氣口 437 ’ 439 ’ 441，443排放。 藉此方式，根據具體實施例之處理裝置，各程序， 亦即化學處理程序、異丙醇程序、純水程序及乾燥程序可 於不同紅分開進行而無需移動晶圓w。如此，可有效進行 全體清潔過程，進一步防止清潔介質的混合，換言之，防 止發生交叉污染。 當然，前述裝置也適用於化學處理程序、異丙醇程 序、純水程序及乾燥程序外的其它處理程序。 再度於前述裝置，化學品喷嘴251(也做為異丙醇喷嘴） 係設置於内缸225，純水喷嘴271及乾氣體喷嘴281係附接 而 四 四

•-------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·- --線. 499696 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _________ 五、發明說明（37 ) - 於内缸225與外缸226間的第二固定壁238。於修改後，可 採用另一種配置’化學品喷嘴251 (也做為異丙醇噴嘴）附 接至内缸225及外缸226外側的第二固定壁238，同時純水 喷嘴271及乾氣體喷嘴281設置於外缸226。另外，化學品 喷嘴25 1 (也做為異丙醇喷嘴）、純水喷嘴271及乾氣體噴嘴 281也設置於内缸225及外缸226。 前述具體實施例中，化學品處理以及隨後化學品去 除程序係於内腔室223(第一處理腔室）進行，而清洗程序 及乾燥程序係於外腔室224(第二處理腔室）進行。但本發 明之處理方法非僅限於前述處理方法。例如，可使用不同 種化學品於内腔室223(第一處理腔室）及外腔室224(第二 處理腔室）進行化學處理。藉此方式，經由於不同腔室， 亦即内腔室223(第一處理腔室）及外腔室224(第二處理腔 室）同時使用不同種化學品分別處理晶圓，可防止由於不 同種化學ασ非期望地混合所造成的交叉污染。 注意，前述具體實施例係針對於轉子221處理最大量 晶圓W之例。雖言如此，若有所需，處理裝置可進行比轉 子221所能容納的最大量晶圓更少數的晶圓之清潔/乾燥， 即使單一晶圓亦可處理。 此外，雖然本發明係應用於前述具體實施例之半導 體晶圓之清潔/乾燥裝置，但當然本發明也可應用於半導 體晶圓以外的基材，例如LCD玻璃基板等。 如别述’根據本發明，由於設置複數處理腔室以及 移動至少一腔室至基板周邊之裝置，當應用指定處理於基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4_規格（210>< 297公釐）--—-- • Λ Π _ I I illllll^in (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 可移動不同腔室至基板周邊 即使處理液係留在各腔室内 體不會於同一腔室内混合。

經 濟： 部 智一 慧:· 財、 產· 局-， 員 X 消 費 合 作 社 印 製 反應，因而防止交叉污染，例如鹽類。 五、發明說明（38 ) 板同時使用複數處理流體時， 對應同組處理液位置。如此， 部，更換腔室仍可防止不同液 ^進一步’根據本發明，複數處理腔室包括第一處理 腔室及第二處理腔室，移動裝置移動至第―及第二腔室中 =至少-者。因此’後文處理可依序進行：容納基板於第 -處理腔室；供給處理流體至第一處理腔室做第一指定處 2,移動第二處理腔室延續第二處理腔室進入第一處理腔 ^,故基板係容納於第二處理腔室；以及供給處理流體至 第一指定處理的第二處理腔室。 本毛月之私動裝置之構造允許複數處理腔室根據使 用處理*體種類而移動至晶圓周邊。例如，使用酸處理流 體及強鹼處理流體來處理基板時，於供給酸流體及強鹼流 體之情況下，不同的處理腔室移動至基板周邊。結果，極 使處理流體殘留於腔室，也不可能發生酸流體與強驗流體 進一步根據本發明，處理氣體可供給複數處理腔室 至> 一者。此種情況下，例如惰性氣體（例如氮氣）、有機 洛氣例如異丙醇蒸氣、氮氣與異丙醇蒸氣之混合物等可用 做處理氣體。若氮氣供給處理腔室，則可於惰性氣氛下達 成處理。另外，供給異丙醇蒸氣或氮氣與異丙醇蒸氣混合 物可促進處理的乾燥因而防止乾燥時出現例如水潰。 因本發明之處理裝置包括旋轉式載運裝置用以載運 待處理的複數物件，旋轉載運裝置之傳動裝置，複數處理 本紙張尺度義中國國家標準以似4規格⑽x 297公髮了 41 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 -—--— B7__ 五、發明說明（3 9 ) 月工至可％繞由載運裝置载運的物件’以及供給處理流體至 物件的處理流體供給裝置，故可旋轉由載運裝置載運的複 數物件，同日讀給的處理流體至複數處理腔室。如此，可 防止物件又不同種流體反應的污染。就此方面而言，較佳 、、且構可以岔封方式包圍物件的各處理腔室。然後，可防止 物件接觸外界氣氛，如此確定避免物件的污染。 根據本發明，因載運裝置載運物件而其表面係垂直 设置且可以水平軸為軸旋轉，故容易去除沾黏於物件上的 處理液。 根據本發明，因裝置進一步配備有移動裝置，用以 相對移動複數處理腔室之至少一腔室之物件，故可減少整 體處理過程中由一位置移轉物件至另一位置的次數，減少 對物件的損傷等。 根據本發明，因傳動裝置設置有冷卻裝置以防過熱 ，故可防止驅動裝置的操作效率由於過熱引起熱疲乏而劣 化如此，可改良傳動裝置之效率及壽命，換言之，實現 裝置可靠性及壽命的改善。 根據本發明，因處理腔室係形成為即使於環繞未接 受處理物件的條件下分開内部氣氛與外部氣氛，可防止内 部氣氛於裝置鈍化條件下洩漏出。如此，可避免污染外界 大氣而確保操作員的安全。 根據本發明，因複數腔室中之至少一處理腔室係形 成為内部氣氛與其它腔室的内部氣氛分開，故可防止由於 腔室内部氣氛交互混合發生不同種處理氣體反應造成的交 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21Q x 297公髮） ·-------1--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 42 A7

經 濟： 部 智- 慧:· 財， 產- 局·， 員 工 消 費 合 作 社 印 製 、發明說明（4〇 又污染。 、根據本發明，因複數腔室中之至少—處理腔室係以 活動方式組構’因而可包圍另一腔室，可減小腔室的架設 空間而實現縮小裝置。 根據本發明，處理流體供給裝置包括可供給化學品 化本。口 ’谷劑、清洗液及乾燥流體中之至少一者之流體供 給噴嘴中-或多流體供給噴嘴係設置於各處理腔室。 此由於共通喷鳴可供給複數處理流體，故可減少喷嘴 數目以及縮小處理腔室，也可縮小整體處理裝置的尺寸。 進一步，根據本發明，流體處理過程包括至少一供 給化學液之步驟，而乾燥程序包括至少一供給乾燥流體之 步驟。此外，於化學液供給步驟後，供給化學品溶劑之物 件俾由物件去除化學品。因此，對物件應用乾燥處理，可 使物件纟交清潔而伴隨著產率的改良。此例中，因化學品處 理程序完成後之化學品去除處理允許物件上的殘餘化學品 或處理L至殘餘化學品被確切去除，因此，可進一步改良 處理效率。此外，可防止化學品造成處理腔室的腐蝕。 根據本發明，乾燥流體供給外處理腔室而乾燥其中 所含物件。因此，即使供給内處理腔室之處理液落出物件 之外’也可防止由於由外腔室接納，故可防止處理液滲漏 出裝置外時污染外界氣氛。此例中，當乾燥流體供給外處 理腔室而乾燥其中所含物件時，故可完美地蒸發去除處理 液而乾燥外處理腔室。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（㈣χ挪公爱） 43 499696 A7 B7_ 五、發明說明（41 ) 元件標號對照 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1...清潔裝置 2...外清潔腔室 3...外清潔槽 3 a...上開口 3b…下開口 4...内清潔腔室 5...内清潔槽 6...升降裝置 10...活動蓋 10’…蓋本體 11…機殼 12···缸 13...支持軸 14…平台 16a-b…夾持器 17…切槽 20…孑L 口 21…喷嘴 22…洩放口 23…關閉閥 24...洩放管 30-1...密封部件 32…射出孔口 33...水平喷嘴 34...洩放口 35...關閉閥 36...洩放管 40...乾氣體供給管 41...氮氣源 4 2…三向閥 43…通氣單元 44...過濾器 4 5…三向閥 46...連結管線 47...網眼板 50...清潔裝置 51…洩放/供給口 52…洩放/供給管 5 3 - 4...三向闊 55...洩放管 56...APM供給源 57...APM供給管 58...純水供給源 .59...純水供給管 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 44 499696 A7 B7 五、發明說明（42 ) 經it:部知Lt:財產-^-員工消費合作社印製 60... 洩放管 61...關閉閥 62... 沒放管 63...出氣口 65… 洩放/供給口 66...洩放/供給管 67-8 …三向閥 69...洩放管 70... SPM供給源 71...SPM供給管 72... 純水供給源 73...純水供給管 74... 洩放管 75...關閉閥 76... 洩放管 80...清潔裝置 201. ..載具 202…裝載/卸載區段 202a ....載具裝載部件 202b··.載具卸載部件 203. ..處理區段 204…界面區段 205. ..載具存放架 206…載具清潔器 207. ..載具架 208…載具轉運單元 209. ..輸送路徑 210...晶圓轉運失頭 220. ..處理裝置 221...轉子 221a-b…轉子圓盤 222...馬達 222a 1...傳動軸 222b...聯軸節 223. ..内腔室 224…夕卜腔室 225. ..内缸 226."夕卜缸 227- 8···缸 229…晶圓輸送臂 230. ..中央處理單元 231…固定桿 231a...固定槽 232...推桿 233. ..軸承 234...固定壁 235. ..迷宮封 236···缸 -------------裝-------訂----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 45 499696 A7 B7 五、發明說明（43 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 237…循環單元 237a…循環冷卻管 237b...冷媒供給管 237c…熱交換器 238...固定壁 239…側壁 239A...平行導軌 240a-e...密封部件 241...洩放口 242...洩放管 243.··排氣口 244…排氣管 245···洩放口 246...洩放管 247…表計 248···排氣口 249…排氣管 250…化學品供給單元 251…化學品噴嘴 252…化學品供給部件 252a...化學品槽 252b...循環槽 252c...溫度控制加熱器 254，254A...幫浦 255，255A...過濾器 256…溫度控制器 257...化學品供給閥 258…化學品源 260...異丙醇供給單元 261...溶劑供給部件 261a...異丙醇供給槽 261b...循環槽 263...異丙醇供給閥 264…異丙醇源 270...純水供給單元 271...純水供給喷嘴 2 7 2...純水源 273…純水管線 275...純水供給閥 280…乾流體供給單元 281…乾流體喷嘴 282...氣體源 283...乾流體管線 284…關閉閥 285…過濾器 286…氮氣溫度控制器 287...切換閥 _288...分支管線 I--^---一-----裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 46 499696 A7 B7 五、發明說明（44 290...循環管線 300…氮氣噴嘴 401…缸 403·.·噴嘴 405…缸 407a-b...密封件 409...喷嘴 411-3···缸 415-7…喷嘴 419-425··.洩放口 427-33…液體盛接器 435...洩放管 437-443...排氣口 501···缸 503...筒形部件 505...洩放槽 507-9...加強環 509...洩放口 511…加強桿 W...晶圓 --------------裝------ 訂 - - ---I---線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經 部 智-慧:’ 財· L· 員 工 消 費 合 社 印 製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 47

Claims (1)

1. 499696 申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 第89107891號專利申請案申請專利範圍修正本 修正日期·· 91年5月 1· 一種加工裝置，其包含： 夾持裔’其用以夾持待處理之物件；及 稷數容器，該等容器係以可移動之方式設置，藉此佔 據-包圍該物件之包圍位置以及非包圍該物件之等待 位置兩者。 ’ 其中該等容器係適應於可各自移動至該物件，且 其中當該物件在該等複數個容器中的一指定容器中被 處理時，該指定的容器係位於該包圍位置，而該指定 容器内的其他容器係位於準備位置，然後該物件受到 處理。 2·如申請專利範圍第〗項之加工裝置，其中該等數個容器 係設置成彼此接合。 3· —種加工裝置，包含： 一對第一及第二壁，其等設置成彼此相對也彼此分 開； 夾持益，其用以夾持物件於第一壁與第二壁間； (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ··· 丨、ΤΓ---------- 以及 複數周邊壁，其等各自由第一壁伸展至第二壁，藉 此界定一處理空間，該空間連同第一及第二壁一起供處 理物件之用； 其中該等複數周邊壁彼此重疊且交互套置，以及各 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21〇χ29ρΑν^) 48 A8 B8 C8 D8

   、申請專利範圍 別適應於介於包圍位置（連同第一及第二壁界定處理空 間）以及等待位置（未包圍任何物件）間移動，該待處理 物件之所在狀況為：該等複數周邊壁之一指定周邊壁， 係设置於包圍位置，同時另一周邊壁係設置於指定周邊 壁内部的等待位置。 4·如申請專利範圍第3項之加工裝置，其中該等周邊壁之 一係呈柱體形式。 5·如申請專利範圍第3項之加工裝置，其中該等周邊壁自 適應於可在介於第一壁與第二壁間之方向上的該包圍 位置與該等待位置間移動。 6·如申請專利範圍第i項之加工裝置，其中各容器於其内 部设置一處理流體供給埠口，該埠口可供給處理流體而 對物件進行處理。 7·如申請專利範圍第6項之加工裝置，其中該處理流體為 液體或氣體。 8·如申請專利範圍第丨項之加工裝置，其中各容器設置一 排放口，該排放口用以排放供給用於處理物件的處理流 體。 9·如申請專利範圍第8項之加卫裝置，其中該等容器各別 的外廓係以離開排放口局部直徑遞減之方式逐漸變小。 !〇·如申請專利範圍第2項之加工裝置，其中該灸持器設置 旋轉物件之傳動單元。 η.如申請專利範圍第10項之加工裝置，其中該物件係夾持 於失持器，藉此該物件表面係沿上下方向移動，以及該 本紙張尺度翻巾國國家標準（CNS) Μ規格（21()χ297公⑹ ......................:裝.................#..................緣 (請先閲讀背面之注意事项再填窝本頁) 49 A8 B8 C8 ____1)8 中 ~^ 物件被旋轉，藉此一轉軸係於加工裝置水平方向伸展。 12·如申請專利範圍第1G項之加卫裝置，其中該等複數物件 係沿著該轉軸併置，該處理流體供給埠口具有噴嘴孔口 ，而該等孔口數目係等於或大於該等物件數目。 如申明專利範圍第1項之加工裝置，其中該等容器可包 圍该等物件因而使物件密封於該等容器内部。 14’如申請專利範圍第1項之加工裝置，其中即使該等容器 係於等待位置，該等容器仍可隔絕其内部氣氛不接觸外 部氣氛。 15·如申請專利範圍第丨項之加工裝置，其中於該等複數容 态中至少一容器内部氣氛，可與該等容器中另一容器内 部的氣氛隔離。 16·如申請專利範圍第3項之加工裝置，其中該第二壁係設 置於該第一壁上方，以及該等周邊壁係設置成其軸係上 下伸展。 如申响專利範圍第16項之加工裝置，其中該等周邊壁及 4第一壁之構造允許液體儲存於由該等周邊壁及該第 一壁所界定的空間。 18·如申請專利範圍第16項之加工裝置，其中該第二壁設置 蓋’該蓋可開閉一裝載物件於處理腔室以及由腔室内 卸載物件。 19· 一種加工裝置，包含： 一固定容器，該容器係固定設置於包圍位置，其中 固定容器包圍待處理物件； 本紙張尺度適财_家標準（CNS) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ••訂.............. 50

   A8B8C8D8 一或多個活動容器，該等容器可介於其中活動容聚 包圍物件之包園位置與其令活動容器不包圍物件的; 待位置間移動以及定位； ±其中當該物件係於固定容器包圍物件的狀態處理 蚪，一或多個活動容器係位於等待位置。 20:種加工—待加工物件之加工方法，該方法係經由使用 一種加工裝置，該加工裝置包括-或多個可移動式設置 的容器因而占有包圍物件的包圍位置以及未包圍物件 的等待位置，該方法包含下列步驟： °又置複數容器之-指定容器於包圍位置而對物件 進行處理； 移動該指定容器至等待位置；以及 設置該等複數容器之另-容器於包圍位置而對物 件施加處理。 21. 如申請專利範圍第2〇項之加工方法，其中該加工裝置包 括一用以夾持物件之夾持器，設置成彼此接合之複數容 器’當複數容器之-衫容^位於包圍位置時，該物 件接受處理’同時定位另—存在於指定容器内部的容器 於等待位置。 22. 如申請專利範圍第21項之加工方法，其中該物件之處理 係將處理液朝向指定容器内部的物件噴射。 23. 如申請專利範圍第22項之加工方法，其中該物件於處理 過程中旋轉。 24. 如申請專利範圍第22項之加工方法，其中該物件之處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉M規格（21〇χ297公楚）

   51 499696 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 包含供給化學品至第一容器之物件之化學處理，以及供 給乾燥流體至於第二容器之該物件之乾燥處理。 25·如申請專利範圍第22項之加工方法，其中該物件之處理 包含一化學處理以供給化學品至該物件，以及隨後化學 品去除處理以供給化學品用之溶劑至位在包圍位置的 同一指定容器内部的物件。 26·如申請專利範圍第22項之加工方法，其中物件之處理包 含下列步驟··施加一種處理於内側容器之物件上，以及 施加另一處理於外側容器之物件。 27·如申請專利範圍第21項之加工方法，其中該物件之處理 A 包含儲存處理液於指定容器以及浸沒物件於處理液之 步驟。 28·如申請專利範圍第27項之加工方法，其中該物件之處理 進一步包含喷块處理流體至於指¥容器之物件之步驟。 …… …：·………IV"可.................Φ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) v 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公釐） 52