TW475914B - Light transmittable electromagnetic wave-shielding member and method of manufacturing the same - Google Patents

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TW475914B
TW475914B TW088114738A TW88114738A TW475914B TW 475914 B TW475914 B TW 475914B TW 088114738 A TW088114738 A TW 088114738A TW 88114738 A TW88114738 A TW 88114738A TW 475914 B TW475914 B TW 475914B
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Shuzo Okumura
Masahiro Nishida
Tatsuo Ishibashi
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Description

475914 A7 __ B7 五、發明說明(1 ) 本發明係有關於一種透光性電磁波屏蔽材料及其製造 方法,係具用以遮蔽電磁波之作用,且可用以透視微波爐 及測量裝置等之内部,或CRT及電漿顯示面板等之顯示面 者。 習知透光性電梃波屏蔽材料,諸如日本發明第2717734 號所揭露者,其構成為:在透明基體31上積層有親水性透 明樹脂層32,在該親水性透明樹脂層32積層有一呈圖案狀 之無電解電鍍層34,並在該無電解電鍍層34下之親水性透 明樹脂層32形成有一黑色圖案部36者(參考第1圖)。前述 無電解電鍍層34係於微細觀察時,可看到細微網狀等之黑 色圖案。 惟-,前述透光性電磁波屏蔽材料尚有後述之缺點。 即,無電解電鍍層之下面係呈黑色,但該無電解電鍍 層之上面仍保持有金屬光澤。因此,將該透明性電磁波屏 蔽材料裝設於顯示器之前面時,例如在顯示器前面設置一 屏蔽過濾器之同時,在過濾器前面(觀察者側)或過濾器裏 面(顯示器側)設置一地線接續部,可確保顯示器殼體與過 濾器之電氣連接(接地)時,則形成前述呈現黑色之面與觀 察者相對,而前述呈現金屬光澤之面則與顯示器相面對。 此時’由顯示器放出之幅射線係於前述無電解電鍍層 呈現金屬光澤之面反射,再次回照到顯示器表面,使觀察 者觀察顯示器影像時之辨認性變差。 用以解決該缺點,換言之,抑制金屬之表面反射則可 提南視覺辨認性’諸如有下列經各種處理而可呈現金屬光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) 丨碓 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 發明說明(2 ) 澤之面的方法。 (1) 使用噴砂等使該面粗糙化,形成凹凸之方法。 (2) 用以氧化處理而可形成黑色被膜之方法。 (3) 藉以印刷凹凸膜等之塗層方法。 (4) 藉以印刷黑*色膜等之塗層方法。 惟,依前述(1)〜(4)項中任一方法,都對親水性透明樹 脂層或無電解電鍍層造成物理衝擊及化學變化,而使親水 性透明樹脂層之透明度降低,或因無電解電鍍層之損傷, 而使電磁波屏蔽效果降低。又,無電解電鏡層之導電性一 降低’則衍生難以接地之問題點。 又’依前述(1)、(3)、(4)項之方法,要將無電解電鍍 層34之餺面39之面粗糙化,或塗層凹凸膜等是非常困難, 因此無法抑制由無電解電鍍層34之側面39之光的反射,所 以不能改善視覺辨認性’尤其是由斜向觀察時之視覺辨認 性。 又’特別是根據前述⑶、(4)項之方法時,·是很難在 存有無電解電鍍層之部分塗層凹凸膜或黑色膜(即所謂圖 案化)。進而在這情況下,用以接地時,要在無電解電鍍 層中只有接地部位不要形成前述凹凸膜等,則需要電阻形 成步驟等程序,使生產性差。 是故,本發明之目的在於提供一種透光性電磁波屏蔽 材料及其製造方法,係用以展現良好的透明度、電磁波屏 蔽效果以及視覺辨認性等機能,並使接地容易者。 本發明係用以完成前述目的而可如下構成。 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(3 ) 。依本發明之第1態樣係提供一種透光性電磁波屏蔽材 料’其構成係n明基體上積層有—親水性透明樹脂 層, 於前述親水性透明樹脂層上積層有一可呈圖案狀之無 電解電鍍層, · 在前述親水性透明樹脂層之内部且於前述無電解電鑛 層正下方之部位形成一黑色圖案部,並 積層有一可覆蓋前述無電解電鍍層之黑色電鍍層者。 依本發明之第2態樣係提供一種透光性電磁波屏蔽材 料,其構成係:於-透明基體上積層冑一親水性透明樹脂 層, 於别述親水性透明樹脂層上積層有一可呈圖案狀之無 電解電鍍層, 在前述親水性透明樹脂層之内部且於前述無電解電鍍 層正下方之部位形成一黑色圖案部,並 於前述無電解電鍍層上積層有一電鍍層,且· 積層有一可覆盖前述無電解電链層與前述電鑛層之黑 色電鍍層者。 依本發明之第3態樣係提供一種如第丨態樣之透光性電 磁波屏蔽材料,其中前述黑色電鍍層係可覆蓋於前述無電 解電錢層中與形成有前述黑色圖案部之面相對之對面側之 裸露的上面,與前述無電解電鍍層之側面。 、依本發明之第4態樣係提供一種如第2態樣之透光性電 磁波屏蔽材料,其中前述黑色電鍍層係可覆蓋於前述 -----:—^· I------訂--------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
475914 A7 B7 五、發明說明(4 ) 層中與形成有前述無電解電鍍層之面相對之對面側之裸露 的上面,並可覆蓋前述無電解電鍍層以及前述電鍍層之各 側面。 依本發明之第5態樣係提供一種如第丨態樣之透光性電 磁波屏蔽材料,其♦中前述黑色電鍍層係可覆蓋於前述無電 - 解電鍍層中與形成有前述黑色圖案部之面相對之對面側之 裸露的上面。 依本發明之第6態樣係提供一種如第2態樣之透光性電 磁波屏蔽材料,前述黑色電鍍層係可覆蓋於前述電鐘層中 與形成有前述無電解電鍍層之面相對之對面側之裸露的上 面。 依本-發明之第7態樣係提供一種如第1至6態樣中任一 態樣之透光性電磁波屏蔽材料,其中前述黑色電鍍層係由 鎳系、鉻系 '錫系、铑系,或釕系之金屬,或者是,該等 金屬中任意組合而成之合金所構成者。 依本發明之第8態樣係提供一種製造透光性電磁波屏 蔽材料之方法,係包含有下列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍍層 ,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電艘層上形成一所定圖案之電阻部 (D)藉電鍍去除在前述無電解電鍍層上沒有形成前述 電阻部之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解電鍍 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 線· 475914 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( 層下之前述親水性透.明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案化 (E) 將前述無電解電鍍層之前述電阻部自前述無電解 電鍍層剝離; (F) 形成一可覆·蓋前述無電解電鍍層之黑色電鍍層。 依本發明之第9態樣係提供一種製造透光性電磁波屏 蔽材料之方法,係包含有下列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍍層 ’使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電鍍層形成一電鍍層; (D) 在前述電鍍層上形成一所定圖案之電阻部; (E) 藉電鍍去除在前述電鍍層上沒有形成前述電阻部 之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解電鍍層下之 前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案化; (F) 將前述電鍍層上之前述電阻部自前述電-鍍層剝離 (G)形成一可覆蓋前述電艘層與前述無電解電錢層之 黑色電鍍層。 依本發明之第10態樣係提供一種製造透光性電磁波屏 蔽材料之方法,係包含有下列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍍層 ,使前述親水性透明樹脂層由裏侧觀察時呈黑色化; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -----7 —: —--------訂---------線泰 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(6) (C) 在前述無電解電鍍層上形成一所定圖案之電阻部 1 、 (D) 藉電鍍去除在前述無電解電鍍層上沒有形成前述 電阻部之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解電鍍 層下之則述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案化 9 (E) 將前述無電解電鍍層上之前述電阻部自前述無電 B 解電鍍層剝離; (F) 在前述無電解電鍍層形成一電鍍層; (G) 形成一可覆蓋前述電鑛層與前述無電解電鍵層之 - 黑色電鍍層。 - 依本-發明之第11態樣係提供一種透光性電磁波屏蔽材 料之製造方法,係包含有下列步驟: (A)在一透明基體上之全面形成一親水性透明樹脂層 | (B)在别述親水性透明樹脂層上之全面形成·一無電解 電鍵層’使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化 (C) 在刖述無電解電鍛層上形成一所定圖案之電阻部 ㈠ * j (D) 在前述無電解電鍍層沒有形成前述電阻部之非電 阻部形成一電鍍層; (E) 將前述無電解電鍍層上之前述電阻部自前述無電 解電鑛層剝離; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝--------訂---------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 9
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (F) 藉電鍍去除沒有電鍍層之前述無電解電鍍層,並 使刚述無電解電鍍層下之前述親水性透明樹脂層由裏側觀 察時呈黑色圖案化; (G) 形成一可覆蓋前述電艘層及前述無電解電鍍層表 面之黑色電鍍層。· 依本發明之第12悲樣係提供一種製造透光性電磁波屏 蔽材料之方法,係包含有下列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍵層 ’使前述親水性透明樹脂層由裏侧觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電鍍層上形成一黑色電鍍層; (¢))在刖述黑色電鐘層上形成一所定圖案之電阻部; (E)藉電鍍去除在前述黑色電鍍層上沒有形成前述電 阻部之非電阻部之黑色電鍍層,並使前述無電解電鍍層下 之前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案化後, 將則述黑色電鍍層上之前达電阻部自前述黑色電鍍層剝離 〇 依本發明之第13態樣係提供一種透光性電磁波屏蔽材 料之製造方法,係包含有下列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層·, (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍍層 ,使前述親水性透明樹脂層由裏侧觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電錄層上形成一電鏡層; (D) 在别述電鐘層上形成一黑色電錢層; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐 —·—*—--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 10 475914 經濟部智慧財產局員X消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(8 ) (E) 在前述黑色電鍍層上形成一所定圖案之電阻部; (F) 藉電鍍去除在前述黑色電鍍層上沒有形成前“電 阻部之非電阻部,並使前述無電解電鍍層下之前述親水性 透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案化後,將前述黑色電 ’ 鍛層上之前述電阻部自前述黑色電鍍層剝離。 ^ 依本發明之第丨4態樣係提供一種製造透光性電磁波屏 蔽材料之方法,其係使於如第8至13態樣中任一態樣之黑 | 色電鍍層由鎳系、鉻系、錫系、铑系,或釕系之金屬,或 者是該等金屬任意組合而成之合金所構成者。 依本發明之第15態樣係提供一種透光性電磁波屏蔽材 - 料’係由第8至13態樣中任一項之製造透光性電磁波屏蔽 . 材料之方法所製造者。 圖式簡單說明 本發明之該等及其他目的與特徵係由針對所附圖式之 最佳實施形態關連之記載而可知曉。該等圖式為: g 第1圖係顯示習知透光丨生電磁波屏蔽材料之·一例之截 面圖; 第2圖係顯示由本發明之第1實施形態的製造透光性電 磁波屏蔽材料之方法所製造之透光性電磁波屏蔽材料之截 一 面圖; 第3圖係顯示由本發明之第2〜4實施形態之製造透光性 電磁波屏敗材料之方法所製造之透光性電磁波屏蔽材料之 截面圖; 第4A、4B、4C、4D、4E、4F圖係用以顯示本發明之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 11 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(9 ) 第1實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法的製造 步驟之截面圖; ' 第5A、5B、5C、5D、5E、5F、5G圖係用以顯示本發 明之第2實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法之 製造步驟之截面圖、 第6A、6B、6C、6D、6E、6F、6G®係用以顯示本發 明之第3實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法之 製造步驟之截面圖。 第7A、7B、7C、7D、7E、7F、7G圖係用以顯示本發 明之第4實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法之 製造步驟之截面圖。 第S圖係顯示用以前述第_1實施形態之一實施例之透& 性電磁波屏蔽材料之平面圖。 第9A、9B、9C、9D、9E圖係用以顯示本發明之第5 實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法之製造步驟 之截面圖。 · 第10A、10B、IOC、10D、10E、10F圖係用以顯示本 發明之第6實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法 之製造步驟之截面圖。 圖中元件符號說明 1 ................透明基體 2 ................親水性透明樹脂層 4 ................無電解電鍍層 5 ................電阻部 ------··----_------------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
475914 A7 _B7五、發明說明(10) 6 ................黑色圖像部 7 ................電鍍層 8 ................黑色電鍍層 9 ................侧面 用以實施本發明之最佳態樣 在繼續本發明之記述前,在圖式中針對同一零件附上 同一符號。 接著’參考圖式,詳細說明本發明之實施形態。 第2圖係顯示用以本發明之第1實施形態構成之透光性 電磁波屏敗材料之截面圖。第3圖係顯示用以本發明之第 2〜4實施形態構成之透光性電磁波屏蔽材料之截面圖。而 第4A〜4F圖、第5A〜5G圖、第6A〜6G圖、第7A〜7G圖係各 顯示本發明之第1〜4實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材 料之方法之各步驟的截面圖。又,第9A〜9E圖以及第 10A〜10F圖則各顯示本發明之第5及6實施形態之製造透光 性電磁波屏蔽材料之方法之各步驟的截面圖。在該圖中, 1表示透明基體,2表示親水性透明樹脂層,4為無電解電 鍍層,5為電阻層,6為黑色圖像部,7為電鍍層,8為黑色 電鍍層,9則表示側面。 其次,概略說明本發明之第1〜6實施形態之製造透光 性電磁波屏蔽材料之方法以及藉該製造方法所製造之透光 性電磁波屏蔽材料。 首先,在一透明基體1上之全面形成一親水性透明樹 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) --------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 13 475914 五、發明說明(11 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 脂層2(參考第4A圖、第5A圖、第6A圖、第7A圖)。 可作為透明基體1者,諸如有由玻璃、丙烯系樹脂、 聚碳酸酯樹脂、聚乙烯樹脂、AS樹脂、乙酸乙烯樹脂、 聚苯乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂、乙酸纖維素樹脂 、聚楓樹脂、聚醚楓樹脂,或聚氣乙烯樹脂等構成之板狀 或薄膜狀基體者。透明基體1之形狀未必一定是平面狀, 呈曲面狀亦可。 可作為親水性透明樹脂層2者只要在後述之無電解電 鍍層步驟中可黑色化者都可以,諸如乙烯醇系樹脂、丙烯 系樹脂、或纖維素系樹脂等都可以。例如,乙烯醇系樹脂 中使用諸如乙烯一乙烯醇共聚合體,或乙酸乙烯—乙烯醇 共聚合激為佳。又,丙烯系樹脂中宜使用諸如聚羥乙基丙 婦酸醋、聚羥丙基丙烯酸酯、聚羥乙基甲基丙烯酸酯、聚 羥丙基甲基丙烯酸酯、聚丙烯醯胺、或聚羥甲基丙烯酿胺 ’或者是該等之共聚合體等。又,纖維素系樹脂中宜使用 确化纖維素、乙醯纖維素、乙醯丙基纖維素、或者是乙醯 丁基纖維素等《可作為形成親水性透明樹脂層2之方法諸 如有旋轉塗層、輥式塗層、沖模塗層、浸鍍式,或桿式塗 層法等。 接著’在親水性透明樹脂層2上之全面形成一無電解 電錢層4(參考第4B圖、第5B圖、第6B囷、第7B圖)。 藉該步驟使親水性透明樹脂層2可黑色化。具體而言 ’在纪觸媒液等之化學電鍍用之觸媒溶液内將親水性透明 樹脂層2浸入。或者是事先在親水性透明樹脂層2内將成
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 475914 、 A7 ____ B7 五、發明說明(12 ) 無電解電鍍之電鍍核之纪化合物或銀化合物等分散或使之 含有者皆可。這時候,不需要將親水性透明樹脂層2‘入 於化學電鍍用觸媒溶液内。 其次,將形成有無電解電鍍核之親水性透明樹脂層2 浸入於無電解電鍍·液中而形成無電解電鍍層4。藉該無電 解電鍵處理使親水性透明樹脂層2黑色化β無電解電鑛之 種類宜使用銅或鎳。使用高導電性之銅時,無電解電鑛層 4之膜厚宜為〇·2# m〜5 者。這是因為小於〇·2#ιη時, 則使電磁波屏蔽效果降低,而大於5 /z m時,則使藉姓刻 所進行之細線圖案作業變得困難。 又,如第5E圖所示,為提高電鍍成膜速度時,可在無 電解電鍍層4之表面上進而形成一電鍍層若並用電錢層 7時,可迅速形成一電磁波屏蔽效果高之屏蔽材料。在並 用電鍍層7時,無電解電鍍層4之膜厚宜小於〇.5/zm。此 時,無電解電鍍層4之作用為,使無電解電鍍層4之下面呈 黑色形成,以及形成一用以〆乍為電鍍層7之基礎導電層。 本發明之前述第1〜6形態之製造透光性電磁波屏蔽材 料之方法,係適用於形成無電解電鍍層4、及可覆蓋無電 解電鍍層4及電鍍層7兩者之黑色電鍍層8之方法。該理由 為:在無電解電鍍層4,或在無電解電鍍層4與電鍍層7之 金屬光澤面上形成一黑色電鍍層8時,可使由形成有黑色 電鍍層8之面之視覺辨認性提高,可將該面面對觀察者而 使用,並可將接地之面朝向觀察者侧或面板側,擴大使用 的自由度。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 15 I--裝· ---II I 訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 475914 A7 B7 五、發明說明(13) 又,黑色電鍍層為鎳系或鉻系之黑色電鍍層時,基於 耐蝕性、黑色度、電鍍被膜均一性等觀點來看更為適宜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本發明之前述第1〜6形態之製造透光性電磁波屏蔽材 料之方法,實用上係至少如顯示於第4A〜4F圖、第5A〜5G 圖、第6A〜6G圖、第7A〜7G圖、第9A〜9E圖,及第l〇A〜1()F 圖之6種方式,但在本發明中所揭露之内容並不限於該等 方式。 經由前述第1形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方 法所製造之透光性電磁波屏蔽材料如第2圖所示,其構成 係:在一透明基體1上之全面積層有一親水性透明樹脂層2 ’接著在該親水性透明樹脂層2上積層有一呈圖案狀之無 電解電簸層4,在前述親水性透明樹脂層2内之前述無電解 電鍍層4之正下方的部位形成一黑色圖案部6,又積層一可 覆蓋前述無電解電鍍層4之上面與側面之黑色電鍍層8。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,經由前述第2〜4形態之製造透光性電磁波屏蔽材 料之方法所製造之透光性電磁波屏蔽材料如第3圖所示, 其構成係:在一透明基體1上之全面積層有一親水性透明 樹脂層2,接著在該親水性透明樹脂層2上積層有一呈圖案 狀之無電解電鍍層4,在前述親水性透明樹脂層2内之前述 無電解電鍍層4之正下方的部位形成一黑色圖案部6 ,在前 述無電解電鍍層4上積層有一電鍍層7,進而,積層一可覆 蓋前述無電解電鍍層4與前述電鍍層7之黑色電鍍層8。 接著’ 一面根據圖式,一面說明前述各實施形態之製 造透光性電磁波屏蔽材料之方法。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐^ 16 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(14 ) 根據第4A〜4F圖之步驟(A)〜(F),說明本發明之前述第 1實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法。將由第i 實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法所製造之透 光性電磁波屏蔽材料示於第2圖。 首先’如第4 A圖所示’在透明基體1上之全面形成一 — 親水性透明樹脂2(步驟(A))。 接著’如第4B圖所示’在親水性透明樹脂2上之全面 形成一無電解電鍍層4,使親水性透明樹脂層2由裏側(即 第4B圖之下側)觀察時呈黑色化(步驟(B》。 接著’如第4C圖所示’將所定圖案之電阻部5形成在 無電解電鑛層4上(步驟(C)) ^電阻部5係一在後述步驟中 將電鍍層-除去時不可同時除去者,並由聚肉桂酸乙烯酸系 樹脂、聚異戊二烯系樹脂、醌二疊氮系樹脂等所構成者為 佳。該電阻部5之圖案係設計成可確保藉本發明之第1形態 之製造方法所製造之電磁波屏蔽材料的透視性與導電性者 _ 。該電阻部5係可藉印刷法或攝影刻印術而形成於無電解 電鍍層4上。 其次,如第4D圖所示,藉钱刻去除在無電解電鑛層4 中;又有形成電阻部5之非電阻部,並將無電解電鍍層4之電 阻載置部之下方之親水性透明樹脂層2之非除去部圖案化( 步驟(D)),使位於因形成有電阻部5而沒有除去之電阻載 置部之下方的親水性透明樹脂層2之非除去部由裏側(即, 第4D圖之下側)觀察時呈黑色之狀態。如前述,將親水性 透明樹脂層2之前述非除去部黑色化之結果,則在前述圖 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) -I I---1! — — — -裝·!--II 訂 ----II -線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 17 475914
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案化之無電解電鍵層4之下方形成有-與之相當之黑色圊 案部6。X ’將無電解電鍍層4除去之部分,即將黑色除去 之部分的親水性透日續脂層2係顯示__透光性。使用於前 述蝕刻之蝕刻液係根據構成無電解電鍍層4之金屬的種類 而可適當選擇。例.如,構成無電解電鍍層4之金屬為鎳或 銅以及錫時,作為蝕刻液者可使用氣化第二鐵水溶液,而 構成無電解電鍍層4之金屬為鉻系時,則使作為蝕刻液者 也可使用硝酸第二鈽及铵與過氯酸與水之混合溶液。 接著,如第4E圖所示,經由鹼性水溶液或有機溶劑之 溶解剝離,將電阻部5自無電解電鍍層4剝離後(步驟(E)) ,如第4F圖所示,藉用諸如後述之黑色鎳電鍍液之電鍍 而可在_無電解電鍍層4之裸露的表面上形成黑色電鍍層8( 步驟(F)),可藉黑色電鍍層8覆蓋無電解電鍍層4之裸露的 表面’即上面與側面之狀態。藉此,可實現一如第2圖所 示之透光性電磁波屏蔽材料。 又,因為黑色電鍍層8尽形成在無電解電鍍層4之上面 與側面,所以不需要將黑色電鍍層8圖案化之步驟。這是 因為黑色電鍍層8係藉電氣作用而可積層於具有導電性之 無電解電鍍層4上,換言之,黑色電鍍液中之金屬離子等 藉由電子之還原反應形成黑色化合物(硫化物等),在無電 解電鍍層4析出而可積層,但在不具導電性之親水性透明 樹脂層2上不起電氣作用,所以無法積層。 下列顯示前述黑色鏡電鑛液之一例。 <黑色鎳電鍍液>
1· Γ --------^---------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^914 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1、發明說明(16) 硫酸鎳 100g/l 硫酸鎳銨 30g/l 硫酸鋅 15g/l 硫代氰酸鈉 l〇g/l 猎黑色鎳電鍍液電鍍時之電鍍溫度宜於30°C〜701:之 範圍内,若小於30°C時,則使前述反應難以進行,若超過 7〇°C時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 度宜於Ο.ΙΑ/dm2〜5A/dm2之範圍内,因若小於Ο.ΙΑ/dm2時 ’則使成膜困難,若大於5 A/dm2時,則使黑色電鍍層8變 脆,故在前述範圍内為佳。 依前述第1實施形態,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解電鍍層4, 因此不會對親水性透明樹脂層2及無電解電鍍層4造成物理 衝擊或化學變化。是故,親水性透明樹脂層2之透明度不 會降低,且也不會使電磁波屏蔽效果因無電解電鍍層4之 損傷而降低。又,無電解電鍍層4之導電性也不致降低, 也不會形成難以接地之狀況。 又,無電解電鍍層4之側面可用以黑色電鍍層8覆蓋, 故可抑制光在無電解電鍍層4之側面處之反射,可大幅改 善其視覺辨認性’尤其是斜向觀察時之辨認性。 又,將無電解電鍍層4圖案化後,在形成有無電解電 錢層4之部分全面上形成黑色電鍍層8,因此與習知之第(3) 與第(4)方法不同,可使黑色電鍍層8之形成變得容易,且 ^--------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
475914 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(17) ,不必要在無電解電鍍層4内接地之部分形成凹凸膜等, 可提高生產性。' 其次’根據第5A〜5G圖之步驟(A)〜(G),說明本發明 前述第2實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法。 將由第2實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法所 製造之透光性電磁波屏蔽材料示於第3圖。 首先,如第5A圖所示,在透明基體1上之全面形成一 親水性透明樹脂2(步驟(A))。 接著,如第5B圖所示,在親水性透明樹脂2上之全面 形成一無電解電鍍層4,使親水性透明樹脂層2由裏側(即 第5B圖之下侧)觀察時呈黑色化(步驟(B))。 接奪’如第5C圖所示’將電艘層7形成於無電解電鍵 層4上之全面(步驟(〇) ^此時,無電解電鍵層4之膜厚宜 小於0.5# m,且導電性主要藉電鍍層7所附與。 接著’如第5D圖所示,將所定圖案之電阻部5形成在 電鍍層7上(步驟(D))。電阻部5係一在後述步驟中將電鍍 層除去時不可同時除去者,並由聚肉桂酸乙烯系樹脂、聚 異戊二烯系樹脂、醌二疊氮系樹脂等所構成者為佳。該電 阻邛5之圖案係設計成可確保藉本發明之第〕形態之製造方 法所製造之電磁波屏蔽材料的透視性與導電性者。該電阻 部5係可藉印刷法或攝影刻印術而形成於電鍍層7上。 其-人,如第5E圖所不,藉蝕刻去除在電鍍層7上沒有 形成電阻部5之非電阻部,與位於該電制7之非電阻部的 下方之無電解電鍍層4之除去部,並將因形成有電阻部5而 丨, ^ ^---------II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 /又有去除之電鍍層7之電阻載置部與該電阻載置部之下方 的無電解電鍍層4之非除去部之下方的親水性透明樹脂層2 之非除去部圖案化(步驟(E)),使由裏側(即第沾圖之下側) 觀察時呈黑色之狀態。如前述,將親水性透明樹脂層2之 前述非除去部黑色.圖案化之結果,則在前述圖案化之電鍍 層7之前述電阻載置部與無電解電鍍層4之前述非除去部之 下方形成有一與之相當之黑色圖案部6。又,將電鍍層7與 無電解電鍍層4除去之部分,即將黑色除去之部分的親水 I*生透明樹知層2係呈一透光性。使用於前述姓刻之钱刻液 係根據構成電鍍層7與無電解電鍍層4之金屬的種類而可適 當選擇。例如構成電鍍層7與無電解電鍍層4之金屬為鎳或 銅以及錫-時,作為蝕刻液者可使用氣化第二鐵水溶液,而 構成電鍍層7與無電解電鍍層4之金屬為鉻系時,作為蝕刻 液者則可使用硝酸第二鈽及銨與過氣酸與水之混合溶液。 接著’如第5F圖所示,經由鹼性水溶液或有機溶劑之 溶解剝離,將電阻部5自電鏢層7剝離後(步驟(F)),如第5(5 圖所示,藉用諸如後述之黑色鎳電鍍液之電鍍,在電鍍層 7與無電解電鍍層4之裸露的面上,形成黑色電鍍層8(步驟 (G)) ’可藉黑色電鍍層8將電鍍層與無電解電鍍層4之裸露 的面覆蓋,即,形成將電鍍層7之上面與側面9以及無電解 電鍍層4之側面9覆蓋之狀態。藉此,可實現一如第3圖所 示之透光性電磁波屏蔽材料。 又,因為黑色電鍍層8只形成在電鍍層7之上面與側面 9以及無電解電鍍層4之側面9,所以不需要將黑色電鍍層8
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五、發明說明(19) 圖案化之步驟。這是因為:黑色電鍍層8係藉電氣作用而 可積層於具有導電性之電鍍層7與無電解電鍍層4上,換言 之’黑色電鍍液中之金屬離子等藉由電子之還原反應而可 形成黑色化合物(硫化物等),在電鍍層7與無電解電鍍層4 處析出而可積層,·但在不具導電性之親水性透明樹脂層2 上不起電氣作用,所以無法積層。 下列顯示前述黑色鎳電鍍液之一例。 〈黑色鎳電錢液> 硫酸鎳 80g/l 硫酸鎳錄 50g/l 硫酸鋅 30g/l 硫代氛酸鈉 20g/l 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藉黑色鎳電鍍液電鍍時之電鍍溫度宜於30°C〜70°C之 範圍内,若小於30°C時,則使前述反應難以進行,若超過 7〇°C時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 度宜於Ο.ΙΑ/dm2〜5A/dm2之範圍内,因若小於Ο.ΙΑ/dm2時 ,則使成膜困難,若大於5A/dm2時,則使黑色電鍍層8變 脆,故在前述範圍内者為佳。 依前述第2實施形態,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解電鍍層4及 電鍍層7,因此不會對親水性透明樹脂層2及無電解電鍍層 4與電鍍層7造成物理衝擊或化學變化。是故,親水性透明 樹脂層2之透明度不會降低,且使電磁波屏蔽效果也不會 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 22 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ‘""" — B7 五、發明說明(20) 因無電解電鍍層4之損傷而降低。又,無電解電鍍層々之導 電性也不致降低,且不會有難以接地之狀況。 又,無電解電鍍層4之側面9可用以黑色電鍍層8覆蓋 • ,故可抑制光對無電解電鍍層4之側面9與電鍍層7之側面9 • * 處之反射,可大幅改善視覺辨認性,尤其是斜向觀察時之 ~ 視覺辨認性。 又,將無電解電鍍層4以及電鍍層7圖案化後,在形成 有無電解電鍍層4與電鍍層之部分的全面上形成黑色電鍍 層8,因此與習知之第(3)與第(4)方法不同,可使黑色電鍍 層8之形成變得容易,且,不必要在無電解電鍍層4内接地 之部分形成凹凸膜等,可提高生產性。 其次-’根據第6A〜6G圖之步驟(A)〜,說明本發明 前述第3實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法。 將由第3實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法所 製造之透光性電磁波屏蔽材料示於第3圖。 首先’如第6A圖所示,在透明基體1上之全·面形成一 親水性透明樹脂2(步驟(A))。 接著’如第6B圖所示,與電鍍並用,將膜厚小於ο」 之無電解電鍍層4形成於親水性透明樹脂2上之全面, 使親水性透明樹脂層2由裏側(即第6B圖之下側)觀察時呈 黑色化(步驟(B))。 接著’如第6C圖所示,將所定圖案之電阻部5形成於 無電解電鍍層4上(步驟(〇)。電阻部5係一在後述步驟中 將電鍵層除去時不可同時除去者,並由聚肉桂酸乙烯系樹 本紙張尺度適《 +關家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) II - I ----II ^» — — — — — — 1 1^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 23 A7 五、發明說明(21 ) -- 脂、聚異戊二烯系樹脂、鲲二叠氮系樹脂等所構成者為佳 製= 且部5之圈案係設計成可確保由本發明之: 所製造之電磁波屏蔽材料的透視性與導電性者。 該電阻部5係可藉印刷法或攝影刻印術而形成在無 鍍層4上。 · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接者,如第6D圖所示,藉钱刻去除在無電解電鑛層# 上沒有形成電阻部5之非電阻部,並將因形成有電阻部5而 沒有去除之無電解電錢層4之電阻載置部的下方之親水性 透明樹月旨層2之非除去部圖案化(步驟_,使由裏側(即第 圖之下側)觀察時呈黑色之狀態。如前述,將親水性透 明樹脂層2之前述非除去部黑色圖案化之結果,則在前述 圖案化-之無電解電鍍層4之瑯述電阻載置部之下方形成有 一與之相當之黑色圖案部6。又,將無電解電鍍層4除去之 部分,即將黑色除去之部分的親水性透明樹脂層2係顯示 一透光性。使用於前述蝕刻之蝕刻液係根據構成無電解電 鍍層4之金屬的種類而可適當選擇。例如,構成無電解電 鑛層4之金屬為鐵或銅以及錫時,作為姓刻液者可使用氣 化第二鐵水溶液,而構成無電解電鍍層4之金屬為鉻系時 ’則作為姓刻液者可使用確酸第二姉及錄與過氣酸與水之 混合溶液。 接著,如第6E圖所示,將電阻部5自無電解電鍍層4剝 離後(步驟(E)),如第6F圖所示,藉由鹼性水溶液或有機 溶劑之溶解剝離,將電鍍層7形成於圖案化之無電解電鍍 層4之上面(步驟(F))。此時,因為無電解電鍍層4之膜厚很 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 475914 ' A7 _ B7 五、發明說明(22) 薄,所以使經蝕刻進行之細線加工變得簡易。 又’電鍍層7只覆蓋於無電解電鍍層4之上面,因此不 須將電鍍層7圖案化。這是因為:電鍍層7係藉電氣作用而 可積層於具有導電性之無電解電鍍層4上,換言之,黑色 電鐘液中之金屬離子等藉由電子之還原反應而可形成黑色 化合物(硫化物等),在無電解電鍍層4處析出而可積層, 但在不具導電性之親水性透明樹脂層2上不起電氣作用, 所以無法積層。 又’如第6G圖所示,例如藉用諸如後述之黑色絡電 鍍液之電鍍而可在電鍍層7與無電解電鍍層4之裸露的表面 上形成黑色電鍍層8(步驟(G)),藉該黑色電鍍層8可將覆 電鍍層7與無電解電鍍層4之裸露的表面覆蓋,也就是將電 鍍層7之上面與側面9以及無電解電鍍層4之側面9覆蓋。因 此可藉黑色電鍍層8將電鍍層7之上面與側面9以及無電解 電鍍層4之側面9之全部覆蓋。藉此,可實現一如第3圖所 示之透光性電磁波屏蔽材料。 * 又’因為黑色電鍍層8只形成在電鍍層7之上面與側面 9以及無電解電鍍層4之側面9,所以不需要黑色電鍍層8圖 案化之步驟。這是因為:黑色電鍍層8係藉電氣作用而可 積層於具有導電性之電鍍層7與無電解電鍍層4上,但在不 具導電性之親水性透明樹脂層2上不起電氣作用,所以無 法積層。 下列顯示前述黑色鉻電鍍液之一例。 <黑色鉻電鍍液> 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 25 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 475914 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(23 ) 三氧化鉻 400g/l 冰醋酸 2g/l 尿素 3g/l 藉黑色鉻電鍍液電鍍時之電鍍溫度宜於10°c〜30 °c之 範圍内,若小於10°C時,則使前述反應難以進行,若超過 30°C時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 度宜於30A/dm2〜70A/dm2之範圍内。 依前述第3實施形樣,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解電鍍層4及 電鍍層7,而不會對親水性透明樹脂層2及無電解電鍍層4 與電鍍_層7造成物理衝擊或化學變化。因此,親水性透明 樹脂層2之透明度不會降低,且使電磁波屏蔽效果也不會 因無電解電鍍層4之損傷而降低。又,無電解電鍍層4之導 電性也不致降低,且不會有難以接地之狀況。 又,無電解電鍍層4之娜面9與電鍍層7之側面9可用以 黑色電鍍層8覆蓋,故可抑制光在無電解電鍍層4之側面9 與電錢層7之側面9處之反射,可大幅改善視覺辨認性,尤 其是斜向觀察時之視覺辨認性。 又,將無電解電鍍層4圖案化後,形成電鍍層7且在形 成有無電解電鍍層4與電鍍層7之部分的全部形成黑色電鍍 層8,因此與習知之第(3)與第(4)方法不同,可使黑色電鍍 層8之形成變得容易,且,不必要只在無電解電鑛層4内接 地之部分形成凹凸膜等,可提高生產性。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) 26 475914 A7 B7 五、發明說明(24 經濟部智慧財產局員工消費合作社印 其次,根據第7A〜7G圖之步驟(A)〜(G),說明本發明 前述第4實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方&。 將由第3實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法所 製造之透光性電磁波屏蔽材料示於第3圖。 首先,如第7 A·圖所示,在透明基體1上之全面形成一 親水性透明樹脂2(步驟(A))。 接著,如第7B圖所示,與電鍍並用,將膜厚小於〇5 之無電解電鍍層4形成於親水性透明樹脂2上之全面, 使親水性透明樹脂層2由裏側(即第7B圖之下側)觀察時呈 黑色化(步驟(B))。 接著,如第7C圖所示,將具所定圖案之負片圖案之電 阻部5形成於無電解電鍍層4上(步驟(c))。電阻部5係一在 後述步驟中將電鍍層除去時不可同時除去者,並由聚肉桂 酉文乙婦系樹月曰、聚異戊二婦系樹脂、g昆二疊氮系樹脂等所 構成者為佳。該電阻部5之圖案係設計成可確保由本發明 之第3形態之製造方法所製璋之電磁波屏蔽材幹的透視性 與導電十生者。It t阻部5係可藉印縣或攝影刻印術而形 成在無電解電鍍層4上。 接著,如第7D圖所示,在非電阻部,即,在沒有形 成電阻部5之部分的無電解電鍍層4之上面形成一電鍍層 步驟(D)) ^此時,電鍍層7之膜厚係形成與電阻層5之膜厚 同等程度或比它小。這是基於下列理由。gp,為了電鐘成 電阻層5之電阻圖案(負片)一# ’所以利用圖案化之電阻 層5之壁部,作成可限制形成電鑛層7之電鍍膜朝水平 --------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· · -線· n n n
本纸張尺度適用令國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) n If ϋ - 27 A7
475914 五、發明說明(25) 之成長。因此,若電鍍層7之電鍍膜厚形成比電阻層(部)5 之電阻膜厚還大之厚度時,則使藉電阻層(部)5之限制不 能作用’而造成電鍍膜朝水平方向形成(即形成全面電錄) ,且不能圖案化,同時在電阻層5之剝離時,使電鍍層7會 被拉引’造成電鍍層7也有部分剝離,另外,電阻層5之一 部被電鍍層7所覆蓋,也會使電阻層5之溶解不夠之可能性 發生。 接著’如第7E圖所示,藉由鹼性水溶液或有機溶劑之 溶解剝離,將電阻部5自無電解電鍍層4剝離後(步驟(E)) 如第7F圖所示,藉蝕刻去除電鍍層不存在部之無電解電 鍍層4,並將該無電解電鍍層4之電鍍層存在部,即,使非 除去部_之下方的親水性透明樹脂層2之非除去部由裏側(即 第7F圖之下側)觀察時呈圖案化(步驟(F))。如前述,將親 水性透明樹脂層2之前述非除去部黑色圖案化之結果,則 是在前述圖案化之電鍍層7與無電解電鍍層4之前述非除去 部形成有一與之相當之黑色圖案部6。但,此時,用以電 鑛層7作為電阻使用,因此在姓刻時使電錢層7之一部除去 。因此’電鍍層7之膜厚必須大於將黑色除去之部 为的親水性透明樹脂層2係呈一透光性。使用於前述姓刻 之姓刻液係根據構成無電解電鍍層4之金屬的種類而可適 當選擇。例如,構成無電解電鍍層4之金屬為鎳或銅以及 錫時,作為蝕刻液者可使用氣化第二鐵水溶液,而構成無 電解電鍍層4之金屬為鉻系時,則作為蝕刻液者可使用硝 酸第二鈽及銨與過氯酸與水之混合溶液。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I丨巍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 28 475914 A7 B7 五、發明說明(26) 接著,如第7G圖所示,例如藉用諸如後述之黑色鉻 電鍍液之電鍍,在電鍍層7與無電解電鍍層4之裸露的表面 上形成黑色電鍍層8(步驟(G)),藉由黑色電鍍層8將電鍍 層7與無電解電鍍層4之裸露的表面,也就是將電鍍層7之 上面與側面9以及無電解電鍍層4之侧面9覆蓋。由此,可 藉黑色電錢層8將電鑛層7之上面與側面9以及無電解電鑛 層4之側面9之全部覆蓋,可實現一如第3圖所示之透光性 電磁波屏蔽材料。
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又’因為黑色電鍍層8只形成在電鍍層7之上面與側面 9以及無電解電鍍層4之侧面9,所以不需要黑色電鍍層8圖 案化之步驟。這是因為:黑色電鍍層8係藉電氣作用而可 積層於具-有導電性之電鍍層7與無電解電鍍層4上,即,黑 色電鍍液中之金屬離子等藉以電子之還原反應形成黑色化 合物(硫化物等),可在電鍍層7以及無電解電鍍層4析出而 積層’但在不具導電性之親水性透明樹脂層2上不起電氣 作用,所以無法積層。 - 下列顯示前述黑色鉻電錄液之一例。 <黑色鉻電鍍液> 三氧化鉻 400g/l 冰醋酸 50g/l 藉黑色鉻電鑛液電錢時之電鏡溫度宜於10 °C〜20 °C之 範圍内,若小於10°C時,則使前述反應難以進行,若超過 20。(:時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 裝i I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) i-a. 線· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 29 ★75914
$、發明說明(27 度宜於30A/dm2〜l〇〇A/dm2之範圍内。 又’將無電解電鍍層4與在該下方之親水性透明樹脂 層2之黑色形成所定圖案時,以其他方法而不經钱刻處理 形成也可。例如,也可將親水性透明樹脂層2形成在透明 基體1上之導電部乏形成預定部分,接著施以無電解電鑛 處理。 依前述第4實施形態,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解電鍍層4及 電鍍層7,而不會對親水性透明樹脂層2及無電解電錢層4 與電鍍層7造成物理衝擊或化學變化。因此,使親水性透 明樹脂層2之透明度不會降低,且使電磁波屏蔽效果也不 會因無!解電鍍層4之損傷而降低。又,無電解電錢層4之 導電性也不致降低,且不會有難以接地之狀況。 又’無電解電鍵層4之側面9與電錢層7之側面9可用以 黑色電鍍層8覆蓋,故可抑制光在無電解電鍍層4之側面9 與電鍍層7之側面9處之反射·,可大幅改善視覺辨認性,尤 其是斜向觀察時之視覺辨認性。 又,將無電解電鍍層4與電鍍層7圖案化後,在形成有 無電解電鍍層4與電鍍層7之部分的全部形成黑色電鑛層8 ,因此與習知之第(3)與第(4)方法不同,可使黑色電鑛層8 之形成變得容易,且,不必要在無電解電鍍層4内接地之 部分形成凹凸膜等’可提高生產性。 其次,根據第9A〜9E圖之步驟(A)〜(E),說明本發明之 前述第5實施形態之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 30 475914 ^ A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(28) 首先’如第9A圖所示,在透明基體.1上之全面形成一 親水性透明樹脂2(步驟(A))。 、 接著’如第9B圖所示,在親水性透明樹脂2上之全面 形成無電解電鍍層4,使親水性透明樹脂層2由裏側(即第9B 圖之下側)觀察時呈黑色化(步驟(B))。 接著’如第9C圖所示,藉用諸如後述之黑色鎳電鍍液 之電錢在無電解電鍍層4上之全面形成一黑色電鍍層8(步 驟(C)) 〇 下列顯示前述黑色鎳電鍍液之一例。 <黑色鎳電鍍液> 硫酸鎳 硫酸藥錢 硫酸鋅 硫代氛酸納 l〇〇g/l 3〇g/l 15g/l 10g/l 藉黑色鏡電鍍液電鍍時之電鍍溫度宜於3(rc〜7(rc之 範圍内,若小於30°c時,則使前述反應難以進行,若超退 7〇°C時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 度宜於O.lA/dm2〜5A/dm2之範圍内,因若小於〇 1A/dm2時 ’使膜之形成困難’而大於5 A/dm2時,則使黑色電鏡層丨 變脆,故在前述範圍内者為佳。 接著,如第9(D)圖所示,將具所定圖案之電阻部5死 成於黑色電鍍層8上(步驟(D))。電阻部5係一在後述步觸 中將電錢層除去時不可同時除去者,並由聚肉桂酸乙烤系 -------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 31 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
接著,如第9E圖所示,藉蝕刻去除黑色電鍍層8中沒 有形成電阻部5之非電阻部,並將因形成有電阻部5而沒有 去除之該黑色電鍍層8之電阻載置部之下方的親水性透明 樹脂層2之非除去部由裏側(即第9£圖之下侧)觀察時呈圖 案化(步驟(E))。如前述,將親水性透明樹脂層2之前述非 除去部黑色化之結果,則在前述圖案化之黑色電鍍層8之 下方形-成有一與之相當之黑色圖案部6。又,將黑色電鍍 層8除去之部分,即,將黑色除去之部分的親水性透明樹 脂層2係顯示一透光性。使用於前述蝕刻之蝕刻液係根據 構成黑色電鍍層8之金屬的種類而可適當選擇。例如,構 成黑色電鍍層8之金屬為鎳或銅以及錫時,作為·蝕刻液者 可使用氣化第二鐵水溶液,而構成黑色電鍍層8之金屬為 路系時’則作為姓刻液者可使用硝酸第二鈽及銨與過氣酸 與水之混合溶液。 接著’如第9E圖所示,藉由鹼性水溶液或有機溶劑之 办解剝離,將電阻部5自黑色電鍍層8剝離。藉此,可實現 一如第9E圖所示之透光性電磁波屏蔽材料。 依前述第5實施形態,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解鐘層4, I I I I I I — I I I I I I I I I I I I — _/ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(〇^規格“ X 297公釐) -32 五、發明說明(30) A7 B7 因此不會對親水性透明樹脂層2及無電解電鍍層4造成物理 衝擊或化學變化◊因此,使親水性透明樹脂層2之透a月度 不會降低,且使電磁波屏蔽效果也不會因無電解電鍍層4 之損傷而降低。又,無電解電鍍層4之導電性也不致降低 ’且不會有難以接地之狀況。 又’在前述製造方法中,黑色電鍍層8係只覆蓋於圖 案化之無電解(或電氣)電鍍層4之上面,因此具有下列效 果。即,此時,因為在無電解(或電氣)電鍍層4之側面9處 沒有黑色電鍍層8,所以圖案線寬不致過粗,且不會有因 黑色電鍍層8之形成而使穿透率降低之情況發生。尤其是 無電解(或電氣)電鍍層4之厚度很薄等,諸如斜向觀察時 ’特別走因該等層面之側面的裸露而使視覺辨認性降低之 情況都沒有發生時,藉該製造方法更可製造出一明亮的透 光性電磁波屏蔽材料。 其次,根據第10A〜10F圖之步驟(A)〜(F),說明本發明 之前述第6實施形態之製造疼光性電磁波屏蔽计料之方法 〇 首先,如第10A圖所示,在透明基體1上之全面形成 一親水性透明樹脂2(步驟(A))。 接著,如第10B圖所示,在親水性透明樹脂2上之全面 形成無電解電鍍層4,將親水性透明樹脂層2由裏側(即第 10B圖之下側)觀察時呈黑色化(步驟(B))。 接著,如第10C圖所示,在無電解電鍍層4上之全面形 成電鍍層7(步驟(C))。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---------!-裝-----II 訂·----I--•線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 33 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
475914 A7 . ____B7 ____ 五、發明說明(31) 接著,如第10D圖所示,藉用諸如後述之黑色鎳電鍍 液之電鍍在電鍍層7上之全面形成一黑色電鍍層8(步驟、(D)) 1 ° 下列顯示前述黑色鎳電錢液之一例。 <黑色鎳電鍍液> 硫酸鎳 80g/l 硫酸鎳銨 50g/l 硫酸鋅 30g/l 硫代氰酸納 20g/l 藉黑色鎳電鍍液電鍍時之電鍍溫度宜於3〇°c〜7(TC之 範圍内,若小於30eC時,則使前述反應難以進行,若超過 70°C時,則電鍍液之管理困難。進行前述電鍍時之電流密 度宜於Ο.ΙΑ/dm2〜5A/dm2之範圍内,因若小於01A/dm2時 ’使膜之形成困難,而大於5 A/dm2時,則使黑色電鑛層8 變脆’故在前述範圍内者為佳。 · 接著,如第10(E)圖所示,將具所定圖案之電阻部5形 成於黑色電鍍層8上(步驟(E))。電阻部5係一在後述步驟 中將電鍍層除去時不可同時除去者,並由聚肉桂酸乙烯系 樹脂、聚異戊二烯系樹脂、醌二疊氮系樹脂等所構成者為 佳。該電阻部5之圖案係設計成可確保由本發明之第$形雜 之製造方法所製造之電磁波屏蔽材料的透視性與導電性者 。該電阻部5係可藉印刷法或攝影刻印術而形成在黑色電 鍍層8上。 ------;—·—--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 475914 A7 B7 經濟_部智慧財產局員工消費合作社印製
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 五、發明說明(32) 接著,如第10F圖所示,藉蝕刻去除黑色電鍍層8中沒 有形成電阻部5之非電阻部、黑色電鍍層8之前述非電缸部 之下方的電鍍層7之黑色電鍍層不存在部,以及前述黑色 電鍍層不存在部之下方之無電解電鍍層4之電鍍層不存在 部即除去部,並將.因形成有電阻部5而沒有去除之無電解 電鍍層4之電阻載置部之下方的親水性透明樹脂層2之非除 去部由裏側(即第10F圖之下側)觀察時呈圖案化(步驟(F)) 。如前述,將親水性透明樹脂層2之前述非除去部黑色化 之結果’則在前述圖案化之無電解電鍍層4之前述非除去 部的下方形成有一與之相當之黑色圖案部6。又,使無電 解電鍍·層4之前述除去部去除之部分,即,將黑色除去之 分的輯水性透明樹脂層2係呈一透光性。使用於前述姓 刻之钱刻液係根據構成黑色電鍍層8、電鍍層7,以及無電 解電鍍層4之金屬的種類而可適當選擇。例如,構成黑色 電鍍層8、電鍍層7,以及無電解電鍍層4之金屬為鎳或銅 以及錫時’作為姓刻液者可使用氣化第二鐵水溶液,而構 成黑色電鍍層8、電艘層7,以及無電解電鍍層4之金屬為 鉻系時,則作為蝕刻液者可使用硝酸第二鈽及銨與過氣酸 與水之混合溶液。 然後’又’如第1 OF圖所示,藉由驗性水溶液或有機 溶劑之溶解剝離’將電阻部5自黑色電鍍層8剝離。藉此, 可實現一如第10F圖所示之透光性電磁波屏蔽材料。 依前述第6實施形態,黑色電鍍層8係藉電氣作用,只 選擇在有導電性之部分,即,只積層在無電解電艘層4, 35 I I i — — — — — — ^» — — 1 —--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(33) 因此不會對親水性透明樹脂層2及無電解電鍍層4造成物理 衝擊或化學變化。因此,使親水性透明樹脂層2之透έ月度 不會降低,且使電磁波屏蔽效果也不會因無電解電鍍層4 之損傷而降低。又,無電解電鍍層4之導電性也不致降低 ,且不會有難以接地之狀況。 又,在前述製造方法中,黑色電鍍層8係只覆蓋於圖 案化之無電解(或電氣)電鍍層4之上面,因此具有下列效 果。即,此時,因為在無電解(或電氣)電鍍層4之側面9上 沒有黑色電鍍層8,所以圖案線寬不致過粗,且不會有因 黑色電鍍層8之形成而使穿透率降低之情況發生。尤其無 電解(或電氣)電鍍層4之厚度很薄等,諸如斜向觀察時, 特別是因該等層面之側面的裸露而使視覺辨認性降低之情 況等都沒有發生時,藉該製造方法更可製造出一明亮的透 光性電磁波屏蔽材料。 又,前述第1〜6形態之製造方法係可因應需要而可適 當選用。 . 進而’在前述各實施形態中,前述黑色電鍍層8係可 由錄系、鉻系、錫系、铑系,或釕系之金屬,或者由該等 金屬任意組合之合金所構成。 以下揭露依前述第1〜4實施形態之更具體之實施例。 <實施例1> (參考與第1實施態樣相關連之第4Α〜4F圖) 首先,如第4Α圖所示,在厚度loo^m之PET薄膜上塗 抹聚經丙基丙烯酸及鈀觸媒之甲醇溶液,以7〇。〇之溫度乾 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 36 ----------.-----------訂---------線4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ' 475914 ^ A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(34) 燥15分鐘(步驟(A))。 接著,如第4B圖所示,以40°C進行無電解銅電鍍k理 後,經水洗,再乾燥之(步驟(B))。 其次,如第4C圖所示,將具線寬20//m、間距200 #m 之格子圖案之電阻部5藉攝影刻印術形成(步驟(C))。 接著,如第4D圖所示,用以氣化第二鐵水溶液蝕刻( 步驟(D)),經水洗、乾燥後,如第4E圖所示,將電阻剝離 (步驟(E))。 再如第4F圖所示,使用下列之黑色錄電鍍液,在無電 解電鍍層4之表面上形成黑色電鍍層8(步驟(F))。 <黑色鎳電鍍液> 硫酸鎳 硫酸鎳銨 硫酸鋅 硫代氰酸鈉 7〇g/l 40g/l 20g/l 15g/l 用以電鍍溫度30°C,電流密度ΙΑ/dm2進行。所得到之 透光性電磁波屏蔽材料係一視覺辨認性極高者,黑色電鍍 層8之光反射率為8%。 〈實施例2> (參考與第2實施形態相關連之第5A〜5G圖) 首先,如第5 A、5B圖所示,用以與前述實施例1同樣 方法,得到一厚度〇.5/zm之無電解電鍍層4(步驟(A)(B)) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 37 -------------裝.--— II--訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 475914 A7 --------- B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(35) 其次’如第5C圖所示,藉銅電鍍在無電解電鍍層4上 形成一厚度之電鍍層7(步驟(C))。 、 接著’如第5D圖所示,·與實施例1同樣,形成電阻部 5(步驟(D)),如第5Ε圖所示,用以氯化第二鐵水溶液蝕刻 (步驟(Ε)) ’如第5F·圖所示,去除電阻部5(步驟(F))。 再如第5G圖所示,使用下列之黑色鐮電鍵液,在電 鍵層7與無電解電鍍層4之表面上形成黑色電鍍層8(步驟 (G))。 <黑色鎳電錢液> 硫酸鎳 硫酸鎳錢 30g/l 硫蟑鋅 i5g/l 硫代氰酸鈉 20g/l 用以電鍍溫度50°C,電流密度〇.5A/dm2進行。所得到 之透光性電磁波屏蔽材料係一視覺辨認性極高者,黑色電 鍍層8之光反射率為12〇/〇。 <實施例3> (參考與第3實施形態相關連之第6A〜6G圖) 首先,如第6A圖所示,在厚度l〇〇#m之PET薄膜上塗 抹乙酸纖維素及鈀觸媒之二氣甲烷一乙醇溶媒混合溶液, 以70°C之溫度乾燥20分鐘(步驟(A))。 接著,如第6B圖所示,以45°C進行無電解銅電鍍處理 後,得到一膜厚〇.3#m之無電解電鍍層4(步驟(B))。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 38 _!1· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線秦 Μ14 Α7 Β7 五、發明說明(36 接著’如第6C圖所示,經水洗、乾燥後,藉攝影刻印 術形成具線寬15# m、間距150// m之格子圖案之電阻部5 ( 步驟(C))。 接著’如第6D圖所示,用以氣化第二鐵水溶液蝕刻( 步驟(D)) ’經水洗.、乾燥後,如第6E圖所示,將電阻剝離 (步驟(E))。 接著’如第6F圖所示,藉電鍍在圖案化之無電解電鑛 層4之表面上形成一2# m之銅電鍍層7(步驟(F))。 再如第6G圖所示,使用下列之黑色鉻電鍍液,在電 鍍層7與無電解電鍍層4之表面上形成黑色電鍍層8(步驟(G))。 <黑色鉻電鍍液> 三氧化鉻 350g" 冰醋酸 3g/l 尿素 3g/l (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂: -線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 用以電鍵溫度20°C,電流密度30A/dm2進行。所得到 之透光性電磁波屏蔽材料係一視覺辨認性極高者,黑色電 鐘層8之光反射率為ι〇〇/0。 〈實施例4> (參考與第4實施形態相關連之第7A〜7G圖) 首先’如第7A圖所示,在厚度300 ym之乙婦薄膜上 塗抹乙酸纖維素及鈀觸媒之二氯曱烷一乙醇溶媒混合溶液 ’以60 C之溫度乾燥30分鐘(步驟(A))。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 39 475914 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(37) 接著,如第7B圖所示,以42°C進行無電解銅電鍍處理 後’得到一膜厚〇·2# m2無電解電鍍層4(步驟(B))。、 接著’如第7 C圖所示,經水洗、乾燥後’藉攝影刻印 術形成具線寬25/zm、間距150/zm之逆格子圖案且膜厚2 # m之電阻部5(步驟(c))。 接著,如第7D圖所示,藉電鍍在非電阻部之無電解 電鍍層4之表面上形成一膜厚^之銅電鍍層7(步驟(D)) 〇 接著,如第7E圖所示,將電阻部5剝離後(步驟(E)), 如第7F圖所示,用以氣化第二鐵水溶液蝕刻電鍍層不存 在部後,水洗,再加以乾燥(步驟(F))。 又却第7G圖所示,使用下列之黑色鉻電鍍液,在電 鍍層7與無電解電鍍層4之表面上形成黑色電鍍層8(步驟 ⑹)。 <黑色鉻電鍍液> 三氧化鉻 400g/l · 冰醋酸 5g/l 尿素 2g/l 用以電鍍溫度25°C,電流密度50A/dm2進行。所得到 之透光性電磁波屏蔽材料係一視覺辨認性極高者,黑色電 鏡層8之光反射率為9°/〇。 <實施例5> (參考與第1實施形態相關連之第2、8圖) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I ·ϋ I ϋ an n 1 n I 1 ϋ ϋ φ I I n ϋ I i I J ,I aBH 1_1 ·1 an tat n ϋ I t矣邊 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 40 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 475914 、 A7 B7 五、發明說明(38) 首先,在厚度3# m之玻璃板上塗抹聚羥丙基丙烯酸 及鈀觸媒之甲醇溶液,以9(TC之溫度乾燥45分鐘(步驟,(A)) 〇 接著,以40°C進行無電解鋼電鍍處理後,經水洗,再 ‘ 乾燥之(步驟(B))。· ^ 其次,藉攝影刻印術形成一具線寬20 # m、間距200 # m之格子圖案之電阻部5(步驟(c))。又,電阻部5係為了 I 在格子圖案之周圍設接地部,在玻璃板之外框設置貝它‘ (參考第8圖)。 、η 接著,用以氯化第二鐵水溶液蝕刻(步驟(D)),經水洗 、乾燥後,將電阻剝離(步驟(Ε))。 再使-用下列之黑色鎳電鍍液,在無電解電鍍層4之表 面上形成黑色電鍍層8(步驟(F),參考第2、8圖)。 <黑色鎳電鍍液> 硫酸錄 70g/l 硫酸錄敍 40g/l
硫酸鋅 20gA 硫代氛酸納 15g/l 用以電鍍溫度30°C,電流密度lA/dm2進行。所得到之 透光性電磁波屏蔽材料係一視覺辨認性極高者,黑色電鍍 層8之光反射率為8〇/0。 <實施例6> (參考與第6實施形態相關連之第10A〜10F圖) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 41 裝·-----II訂--------·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 475914 A7 ---- B7 五、發明說明(39) 首先’在厚度188# m之PET薄膜上塗抹含有乙酸纖維 素及含有銀觸媒之二氣甲烷一二甲基曱醯胺混合溶液、,以 l〇〇°C之溫度乾燥30分鐘。 接著’以55°C進行無電解鎳電鍍處理後,得到一膜厚 0.3# m之無電解電.鍍層4,同時在親水性透明樹脂中形成 黑色。 接著’藉銅電鍍在無電解電鍍層4上之表面形成一膜 厚2/z m之銅電鍍層。 再以下列條件施以電鍍,在銅電鍍層上之全面上形成 黑色電鍍層。 氣化亞錫 19g/l 氯化鐵 40g/l 焦罐酸銅 3g/l 焦罐酸卸 215g/l 添加劑 5g/l 又電流密度為0.5A/dm2,時間90秒,溫度為37°C。 接著,在此藉攝影刻印術形成一具線寬20#^、間距 280 # m之格子圖案之電阻部。 再將電阻部用以氣化第二鐵水溶液蝕刻,經水洗、乾 燥後,使電阻剝離所得到之透光性電磁波屏蔽材料係一 視覺辨認性極高者,由黑色電鍍層側觀察之光反射率為 100/〇〇 用以該發明之透光性電磁波屏蔽材料及其製造方法, 黑色電鍍層係藉電氣作用,只選在具導電性之部分(無電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) — — — — — — — — — — I — I ·11111--« — — — — — — I— j (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 42 475914 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(40) 解電鍍層、或無電解電鍍層與電鍍層)上積層,因此可展 現以下各效果。 、 (1) 不會對親水性透明樹脂層及無電解電鍍層,或親 水性透明電鍍層、無電解電鍍層與電鍍層造成物理衝擊或 ^ 化學變化,因此不.會使親水性透明樹脂層2之透明度降低 - ,且使電磁波屏蔽效果因無電解電鍍層之損傷而降低之情 況發生。又,無電解電鍍層之導電性不會降低,因此也不 會有難以接地之問題。 (2) 又,也可簡單地在無電解電鍍層及電鍍層之各側 面處積層,也可抑制光在前述各側面之反射,因此可改善 視覺辨認性’尤其是斜向觀察時之視覺辨認性,故使全視 野角方向之視覺辨認性良好。 (3) 進而,在形成黑色電鐘層之前,將無電解電錢層 等圖案化時,可使黑色電鍍層不必圖案化,且也不需用以 接地之電阻步驟,可簡化製造透光性電磁波屏蔽效果之步 驟,提高生產性。 . 又,在金屬光澤面上形成黑色電鍍層,因此也可改善 該金屬光澤面之視覺辨認性。是故,也可將該金屬光澤面 面對觀察者而使用,也可使接地之面朝向觀察者側或面板 側,可擴展使用之自由度。 又’黑色電鍵層只覆蓋在圖案化之無電解(或電氣)電 鐘層之之上面,具有下列效果《即,此時,因為無電解( 或電氣)電鍍層之侧面處沒有黑色電鍍層,所以圖案線寬 不致過粗,且不會有因黑色電鍍層8之形成而使穿透率降 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ---1---111!·裝--— II---訂---I I! I -線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 43
低之情況發生。尤其是無電解(或電氣)電鍍層4之厚度復 薄之情況等,因該等之層面之裸露而使視覺辨認性降低一 尤其是諸如斜向觀察時之視覺辨認性等之問題都沒有發生 時’藉該製造方法更可製造出一明亮的透光性電磁波屏蔽 材料。 . 本發明係參考所附圖式,充分記載有關最佳實施形態 ’對熟悉該技藝人士而言可知曉各種改變及修正。這些改 變及修正在不超出所附之申請專利範圍之範疇外時,均理 應包含在内。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .·-------*|訂 --------線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 44 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 六、申請專利範圍 ' "~ 第88114738號專利中請”請專利範圍修正本 修正曰期:90年6月 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1· 種透光性電磁波屏蔽材料,其構成係: 於一透明基體±積層有一親水性透明樹脂層, 於前述親水性透明樹脂層上積層有一可呈圖案狀 之無電解電鍍層, 在前述親水性透明樹脂層中之前述無電解電鍍層 正下方之部位形成有一黑色圖案部,並 積層有一可覆蓋前述無電解電鍍層之黑色電鍍層 者。 2· —種透光性電磁波屏蔽材料,其構成係: 於一透明基體上積層有一親水性透明樹脂層, 於前述親水性透明樹脂層上積層有一可呈圖案狀 之無電解電鍍層, 在前述親水性透明樹脂層中之前述無電解電鍍層 正下方之部位形成有一黑色圖案部,且 於前述無電解電鍍層上積層有一電鍍層,並 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 積層有一可覆蓋前述無電解電鍍層及前述電鍍層 之黑色電鍍層者。 3·如申請專利範圍第1項之透光性電磁波屏蔽材料,其中 前述黑色電鍍層係可覆蓋於前述無電解電鍍層中與形 成有前述黑色圖案部之面相對之對面側之裸露的上面 ,以及前述無電解電鍍層之側面。 4·如申請專利範圍第2項之透光性電磁波屏蔽材料,其中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 36 475914 A8 B8 C8 D8 11 8. 申請專利範圍 月1J述黑色電鍍層係可覆蓋於前述電鍍層中與形成有前 述無電解電鍍層之面相對之對面側之裸露的上面,並可 覆蓋前述無電解電鍍層與前述電鍍層之各側面。 5·如申請專利範圍第1項之透光性電磁波屏蔽材料,其中 月y述黑色電鍍層係可覆蓋於前述無電解電鍍層中與形 成有别述黑色圖案部之面相對之對面側之裸露的上面。 6·如申請專利範圍第2項之透光性電磁波屏蔽材料,前述 黑色電鍍層係可覆蓋於前述電鍍層中與形成有前述無 電解電鍍層之面相對之對面側之裸露的上面。 7.如申請專利範圍第1至6項中任一項之透光性電磁波屏 蔽材料,其中前述黑色電鍍層係由鋅、銅、鎳系、鉻系 、錫系、錢系,或釕系之金屬,或者是由該等金屬任意 組合而成之合金構成者。 一種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,係包含有下列 步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電鍍 層,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電鍍層上形成一所定圖案之電阻 部; (D) 藉姓刻去除在前述無電解電鍍層上沒有形成前 述電阻部之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解 電鍍層下之前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑 色圖案化; 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公董) 裝 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 37 - 475914 XI A8 B8 C8* D8 六 、中請專利範圍 (E) 將前述無電解電鍍層上之前述電阻部自前述無 電解電鍍層剝離; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (F) 形成一可覆蓋前述無電解電鍍層之黑色電鍵; 9· /種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,其係包含有下 列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電錢 層,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電鍍層上形成一電鍍層; (D) 在前述電鍍層上形成一所定圖案之電阻部; (E) 藉蝕刻去除在前述電鍍層上沒有形成前述電阻 部之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解電錢層 下之前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色圖案 化; (F) 將前述電鍍層上之前述電阻部自前述電錢層剝 離, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (G) 形成一可覆蓋前述電鍍層與前述無電解電錢層 之黑色電鍍層。 10. —種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,其係包含有下 列步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電# 層,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈募色 38 475914 A8 B8 C8* D8
    (C)在前述無電解電鍍層上形成一所定圖案之電 部; 脅 訂 (D) 藉姓刻去除在前述無電解電鍍層上沒有形成前 述電阻部之非電阻部之無電解電鍍層,並使前述無電解 電鍍層下之前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑 色圖案化; (E) 將前述無電解電鍍層上之前述電阻部自前述無 電解電鍍層剝離; (F) 在前述無電解電鍍層形成一電鍍層; (G) 形成一可覆蓋前述電鍍層與前述無電解電鍍層 之黑色電鍵層。 11· 一種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,係包含有下列 步驟: (A) 在一透明基體上之全面形成一親水性透明樹脂 層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上之全面形成一無電 解電鍍層,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑 色化; (C) 在前述無電解電鍍層上形成一所定圖案之電阻 部; - (D) 在沒有形成前述電阻部之非電阻部之前述無.電 解電鑛層上形成一電鍍層; (E) 將前述無電解電鍍層上之前述電阻部自前述無 電解電鍍層剝離; 氏張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝* 、言. 線 39 475914
    六、申請專利範圍 (F) 藉蝕刻去除不存在有電鍍層之前述無電解電鍍 層,並使前述無電解電鍍層下之前述親水性透明樹脂層 由裏側觀察時呈黑色圖案化; (G) 形成一可覆蓋前述電鍍層與前述無電解電鍍層 之表面之黑色電鍍層。 12· —種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,係包含有下列 步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電錢 層’使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈黑色化; (C) 在前述無電解電鍍層上形成一黑色電鏡層; (D) 在前述黑色電鍍層上形成一所定圖案之電阻部 (E)糟餘刻去除在刖述黑色電錢層上沒有形成前述 電阻部之非電阻部之前述黑色電鍍層及前述無電解電 鍍層’並使別述無電解電鍍層下之前述親水性透明樹脂 層由裏侧觀察時呈黑色圖案化後,再將前述黑色電鍍層 上之前述電阻部自前述黑色電錢層剝離。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    13· —種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,係包含有下列 步驟: (A) 在一透明基體上形成一親水性透明樹脂層; (B) 在前述親水性透明樹脂層上形成一無電解電錢 層,使前述親水性透明樹脂層由裏側觀察時呈零色化· (C) 在前述無電解電鍍層上形成一電錢層·, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210x297公釐) 40 475914 A8 B8 C8 ________D8 六、申請專利範圍 (D) 在前述電鍍層上形成一黑色電鍍層; (E) 在刖述黑色電鍍層上形成一所定圖案之電阻部 (F) 藉蝕刻去除在前述黑色電鍍層上沒有形成前述 電阻σ卩之非電阻部之黑色電鍵層、電鑛層以及無電解電 鍍層,並使前述無電解電鍍層下之前述親水性透明樹脂 層由裏側觀察時呈黑色圖案化後,再將前述黑色電鍍層 上之前述電阻部自前述黑色電鍍層剝離。 14· 一種透光性電磁波屏蔽材料之製造方法,其係使於如申 請專利範圍第8至13項中任一項之黑色電鍍層由鎳系、 鉻系、錫系、铑系,或釕系之金屬,或者是由該等金屬 任忍組合而成之合金所構成者。 15.—種透光性電磁波屏蔽材料,係由申請專利範圍第容至 13項中任一項之製造透光性電磁波屏蔽材料之方法所 製造者。 / ---------裝------訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 41
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