TW473434B - Layered product and its manufacture - Google Patents
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- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
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- C03C17/3634—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing carbon, a carbide or oxycarbide
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- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3668—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties
- C03C17/3676—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties specially adapted for use as electromagnetic shield
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
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- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
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- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
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- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
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- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/341—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one carbide layer
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- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
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>> σ I U Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(彳) 本發明係有關具有鈦氧化物層之層合體及其製造方法 者。 先行技術中,於玻璃等之透明基體上層合金屬層之層 合體(以下稱「含鈦金屬層合體」)係控制熱線之放射以 減輕冷暖房之負荷等爲目的,被廣泛利用於建築物、汽車 等之玻璃窗等。又,含金屬層合體亦被利用控制由等離子 體噴霧等各種裝置被放射之電磁波之漏洩之護罩材料。 含金屬層合體適用於玻璃窗時,被期待減少熱線放射 且高度可見光透射率者,同時被期待低可見光反射率與良 好反射色調者。 另外,以含金屬層合體做爲電磁波護罩材料使用時, 被期待爲高度導電性且儘可能爲高度可見光透射率與低可 見光反射率、更要求良好之反射色調者。 含金屬層合體中,爲取得低可見光反射率與良好之反 射色調,被要求可見光領域中出現低反射率之波長帶域廣 者。 又,爲取得具有低放射性與導電性及高度可見光透射 率,公知者以誘電體層與金屬層相互層合之膜組成層合體 者爲適當者。 低熱線放射率(亦即高導電性)可藉由增加金屬層之 厚度後可取得。惟,可見光透射率減少,將導致可見光反 射率增加。又,可見光領域中低反射率所取得波長帶域狹 窄,因此損及良好反射色調。 以鈦氧化物等之高折射率材料做爲誘電體層使用時, (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁}
X 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 y >? </ > u A7 _ _ _B7 _五、發明説明(2) 比起比鈦氧化物低折射率之材料使用時,可改善金屬層變 厚所產生之現象(損及該反射色調之不良現象)爲一般公 知者。 更且,同樣的增加層合數亦可藉由金屬層變厚而改善 所產生之現象亦爲一般公知者。 實際上以鈦氧化物層做爲誘電體層形成層合體後,比 起比鈦氧化物低之折射率材料使用時於可見光領域中取得 低反射率之波長寬度可擴增可取得更理想之反射色調。惟 ,可見光透射率減少,更且層合數增加之同時出現可見光 透射率之減少率變大之問題。 又,做爲誘電體層者,以鈦氧化物層所組成之層合體 有耐損性低之問題點。 本發明係以針對使用鈦氧化物之層合體做爲改善耐損 性爲目的者。 又,本發明係以針對使用鈦氧化物之層合體做爲改善 可視領域中之透射率爲目的者。 本發明基本上係提供鈦氧化物層與金屬層及鈦氧化物 層相互依序以2 n + 1 ( η爲正的整數)被層合之層合體 者,鈦氧化物層與金屬層之層間至少夾設於其中1個波長 5 5 0 nm下折射率爲2 · 4以下之中間層之層合體者。 又,本發明基本上係提供鈦氧化物層與金屬層及鈦氧 化物層相互依序以2 η + 1 ( η爲正整數)被層合之層合 體製造方法者,鈦氧化物層與金屬層之層間至少具有夾設 於其中1個波長550nm下折射率爲2.4以下之中間 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) —~一 '~ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -5- A7 B7 五、發明説明(3) 層之工程之層合體之製造方法。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〔圖面之簡單說明〕 圖1係代表於實施例1〜5、 18〜19、 63〜 6 8及8 1〜8 9所製造之層合體層組成之模式切面圖者 0 圖2係代表比較例1所製造之層合體之層組成之模式 切面圖者。 圖3係代表實施例6〜12、 20〜21、 69〜 72、90 〜100、122 〜126,以及 127 〜 1 3 1所製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖4係代表實施例1 3〜1 7及7 3〜8 0所製造之 層合體層組成之模式切面圖者。 圖5係代表比較例2〜3所製造之層合體層組成之模 式切面圖者。 圖6係代表比較例4〜5所製造之層合體層組成之模 式切面圖者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖7係代表實施例1〜1 7所製造之層合體之中間層 厚度與可見光透射率之關係圖者。 圖8係代表實施例1〜2及比較例1所製造之層合體 之可視分光特性圖者。 圖9係代表實施例6、8及比較例1所製造之層合體 可視分光特性圖者。 圖1 0係代表實施例1 3〜1 5、比較例1所製造之 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 j ^ il' l Ll- A7 ____ B7五、發明説明(4) 層合體可視分光特性圖者。 圖1 1係代表本發明實施例2 2〜2 3、1 0 1〜 1 0 2所製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 2係代表比較例6所製造之層合體層組成之模式 切面圖者。 圖13係代表實施例24〜25、103〜104所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 4係代表實施例2 6〜2 7及1 0 5〜1 0 6所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 5係代表實施例28〜2 9及1 07〜1 08所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 6係代表實施例3 ◦〜3 1及1 09〜1 10所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 7係代表實施例3 2〜3 3及1 1 1〜1 1 2所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 8係代表實施例3 4〜3 5及1 1 3〜1 1 4所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖1 9係代表實施例3 6〜3 7及1 1 5〜1 1 6所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖2 0係代表實施例3 8〜4 0及1 1 7〜1 2 1所 製造之層合體層組成之模式切面圖者。 圖2 1係代表實施例3 8〜4 0及比較例6所製造之 層合體可視分光特性圖者。 圖2 2係代表實施例4 1〜4 2所製造之層合體層組 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4^格.(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) y ^ il- l Lu 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7__五、發明説明(5) 成之模式切面圖者。 圖2 3係代表實施例4 3所製造之層合體層組成之模 式切面圖者。 圖2 4係代表比較例7所製造之層合體層組成之模式 切面圖者。 圖2 5係代表實施例4 4所製造之層合體層組成之模 式切面圖者。 圖2 6係代表實施例4 5所製造之層合體層組成之模 式切面圖者。 圖2 7係代表實施例4 6〜4 7所製造之層合體層組 成之模式切面圖者。 圖2 8係代表實施例4 8〜5 4所製造之層合體層組 成之模式切面圖者。 圖2 9係代表比較例9所製造之層合體層組成之模式 切面圖者。 圖3 0係代表實施例4 8〜5 0及比較例9〜1 1所 製造之層合體可見光透射率與薄片電阻値之關係圖者。 圖3 1係代表實施例4 8〜5 0及比較例9〜1 1所 製造之層合體可見光反射率與薄片電阻値之關係圖者。 圖3 2係代表實施例5 5〜5 7所製造之層合體層組 成之模式切面圖者。 圖3 3係代表實施例5 5〜5 7及比較例1 2〜1 4 所製造之層合體中可見光透射率與薄片電阻値之關係圖者 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格_( 210X297公釐) -8- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 y C/- l (/ A7 B7 五、發明説明(6) 圖3 4係代表實施例5 5〜5 7及比較例1 2〜1 4 所製造之層合體中可見光反射率與薄片電阻値之關係圖者 主要元件對照表 5 1 二氧化鈦層 4 1 2 中間層 3 1 銀一 lat%鈀層 2 1 二氧化鈦層 1 光學玻璃 4 1 1 中間層 6 頂部塗層 7 底部塗層 5 2 二氧化鈦層 3 2 銀一 lat%IG 層 4 2 1 中間層 4 2 2 中間層 8 樹脂薄膜 5 3 二氧化鈦層 3 3 銀—層 4 3 1 中間層 4 3 2 中間層 5 4 二氧化鈦層 4 4 2 中間層 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -瞻- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -9- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __ B7五、發明説明(7) 4 4 1 中間層 3 4 銀―1 a t %鈀層 〔發明之最佳實施形態〕 鈦氧化物層與金屬層相互層合組成中,當層合數增加 則可見光領域中取得低反射率其波長寬度擴大。惟,增加 層合數之同時被確定由光學干擾效果被期待以上明顯出現 透射率下降。本發明者精密硏究此現象之結果發現透射率 之減少出現於鈦氧化物層與金屬層之界面。此現象乃金屬 層之內部,特別是與鈦氧化物層之界面近旁中藉由光照射 勃起表面電漿子被推斷光吸收者,以比鈦氧化物低之折射 率之層做爲中間層之夾設於其中後,可控制表面電漿子產 生,減少透射率之低減。 本發明層合體中,於基體側之第1層鈦氧化物層上其 金屬層與鈦氧化物層呈交互一對之層合者。金屬層與鈦氧 化物層可爲1對被層合者,亦可爲複數對被層合者。例如 :本發明層合體於第1層上金屬層與鈦氧化物層分別具有 1層被層合之層組成者亦可,於第1層上金屬層與鈦氧化 物層依序具有交互複數層被層合之層組成者亦可。 本發明層合體中,其基體並無特別限定,如:1 )光 學玻璃、絡網玻璃、霧玻璃等所形成之窗用玻璃,2 )汽 車等雨用窗玻璃,3) PET等塑料薄膜,4)丙烯樹脂 等形成之塑料板,5 )噴霧所使用之玻璃,塑料薄膜及塑 料板等例。特別以透明基體者宜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -10- A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(8) 本發明中各鈦氧化物層其波長5 5 0 n m之折射率爲 2 . 4以上之層爲宜,單由鈦氧化物(二氧化鈦)組成者 亦可,少量含鈦以外之其他元素成份亦可。做爲其他元素 成份者如N b、C r、Z r等例。 基本側之第1層及離基體最遠位置之鈦氧化物層之厚 度(幾何學膜厚、以下亦同)以2 0〜6 0 nm者宜,特 別以2 5〜4 5 nm者宜。第1層及離基體最遠位置之鈦 氧化物層以外之鈦氧化物層之厚度以4 0〜1 2 0 n m者 宜,特別以5 0〜9 0 nm者佳。又,由降低可見光反射 率,且取得低反射率波長帶域擴大之觀點視之第1層及基 體最遠位置之鈦氧化物層以比其他鈦氧化物層更薄之膜厚 (特別以1 / 2之厚度)者爲理想者。 本發明層合體中,複數鈦氧化物層相互具有相同組成 者亦可,具有相異組成者亦可。 本發明層合體中,金屬層係含有至少1種選自銀、銅 、金之金屬者宜。以銀、銅、金或此等做爲主成份之合金 者亦可。 做爲以銀、銅或金爲主成份之合金具體例者如:1 ) 含5 . 0原子%以下之P d (較佳者爲0 . 1〜3原子% )之銀一 Pd合金、2)含5 . 0原子%以下之Au (較 佳爲0 . 1〜3原子%)之銀—金合金、或3)各含 〇 . 5〜3原子%2Pd及Cu之銀一 Pd — Cu合金等 例。另外,上述所含有比例針對與銀總量之,比例者’以下 意義相同。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CMS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 y >? a: l u. A7 _ _B7五、發明説明(9) 本發明層合體具有複數金屬層時,其各金屬層可由同 組成所形成之層,亦可由不同組成所形成之層者。 金屬層之厚度以8〜3 0 nm爲宜。由降低可見光反 射率,且擴大低反射率取得之波長域之觀點視之’於基體 上最近金屬層及離基體最遠之金屬層之厚度以爲其以外金 屬層之厚度之0 . 5〜1 · 0倍者宜。 又,本發明層合體具有複數層之金屬層時’其總厚度 (複數之金屬層厚度)爲12 0 nm以下者宜。 由降低可見光反射率,且擴大低反射率所取得之波長 帶域之觀點視之,金屬層之層數以取得層合體之電阻値標 靶做爲2.5Ω/□時,以雙層者宜,電阻値標靶爲 1 . 5Ω/□時以3層者爲佳,電阻値標靶爲0 . 5 Ω/□時爲4層者宜。 本發明層合體中,中間層被夾設於其中複數層者亦可 ,挾著金屬層配設於該金屬層上下者亦可。特別,是所有金 屬層挾於2個中間層之組成爲最具高度可見光透射率者爲 理想者。 更且,本發明層合體中,於金屬層上部夾設於其中中 間層之組成因具有耐損性之優點故極理想。於具有複數層 金屬層之層合體中,中間層夾設於其中於由基體最遠之金 屬層上部時,比起由基體離最近之金屬層上部層合中間層 時其提昇耐損性效果較大。又,由耐損性之觀點視之,以 至少1種選自硼、鋁、矽所組成群中之氮化物所組成之中 間層者宜。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12- d J>> u A7 B7 五、發明説明(^ 硼、鋁、矽之氮化物,特別是氮化矽(特別是S i N ,x==l . 30〜1 . 36)所組成之中間層者宜。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 中間層只要其波長5 5 0 n m之折射率小於2 . 4者 ,任何基材所組成者均可。特別是折射率由1 . 6〜 2 . 3 9之基材所組成者宜。做爲中間層之例者如:至少 1種選自氧化物、氮化物、氧氮化物、碳化物及硼化物所 組成之層者宜。做爲組成中間層基材之具體例者如:氮化 矽(折射率:2 . 0 )、氧北鈮(折射率:2 . 3 5 )、 氧化鋅(折射率:2 . 0 )、氧化錫(折射率:2 . 0 ) 等例。 本發明層合體中,中間層並非藉由光學干擾作用提昇 可見光透射率者,其厚度產生光學干擾作用即使比厚度小 亦有效果。中間層藉由控制金屬層與鈦氧化物層之界面產 生之表面電漿子,藉由表面電漿子之光吸收所產生層合體 內之可見光之損失被抑制者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,由降低可見光反射率、擴大低反射率所取得之波 長帶域之觀點視之,中間層厚度之上限(幾何學之膜厚) 以3 0 nm者宜,特別以1 0 nm,更以5 nm者更爲理 想。 由耐損性之觀點視之,中間層厚度之上限以2 〇 n m 、特別以1 5 n m爲較佳。 中間層厚度之下限爲0 . 1 m m者宜,特別以〇 . 5 n m _爲更佳。 具有複數層中間層時,其總厚度(複數中間層之厚度 本紙張尺ik用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) ~ λ ¢/ > W A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(d )爲4 0 n m者宜。 針對中間層層數提昇可見光透射率之效果幾平加法則 可成立之。 本發明層合體由於具有高導電性,而具有電磁波遮掩 性。且’近紅外領域上具有高反射率因此亦具有近紅外遮 掩性。如:波長9 0 0 n m之透射率爲1 5 %以下者宜。 本發明層合體其薄片電阻値爲〇.5〜3.δΩ/口 ,可見光透射率爲4 0 %以上,且可見光反射率爲 0 . 0 8以下者宜。 另外’本發明層合體之放射率爲〇.〇8以下者宜。 本發明層合體亦可做爲抑制由等離子體噴霧等之電磁 波產生源所放射之電磁波之洩漏爲目的而使用者。 本發明層合體於3 ΟΜΗ z中電磁波遮掩率爲1 〇 d b以上者宜’特別以1 5 d b以上,更理想者爲1 7 d b以上者。只要薄片電阻値相同則電磁遮掩率亦幾乎相 同。 又’本發明層合體用於重視低反射性能之用途時,以 於層合體上更層合具有低反射性能之樹脂薄膜者佳,可使 可見光反射率做成3 %以下者。 另外,本發明層合體用於重視近紅外遮掩性之用途時 ,更以層合具有近紅外遮掩性之樹脂薄膜者佳,波長 9 0 0 nm之透射率可爲5%以下者。 樹脂薄膜係1)於本發明層合體之多層膜上及/或 2 )與形成本發明層合體之基體面相互貼於相對側之基體 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) c_ 訂 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(2IOX297公釐) -14- A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ^ ^ 〇' l 五、發明説明(^ 面。 做爲具有低反射性能之樹脂薄膜之例如:於尿烷、 P E T所組成樹脂薄膜上形成反射防止層者。該樹脂薄膜 具有低反射性能之同時,亦具備飛散防止能。做爲反射防 止層者如:1 )非結晶性之含氟聚合物(如:旭硝子公司 製之Side top )所組成之低折射率,2 ) S i 0 2、 M g F 2等所組成之低折射率層、3 )低折射率層與高折射 率層相互重疊之多層膜、4)多孔二氧化矽膜等例。 做爲具有近紅外遮掩性能之樹脂薄膜例者如:於尿烷 、P E T等所組成之樹脂薄膜內混入近紅外吸收劑者。又 ,粘合時所使用之粘著層中混入近紅外吸收劑者亦可。 本發明層合體之製造中,鈦氧化物層之形成可使用鈦 氧化物還原性之標靶,藉由直流濺射法所形成之方法,可 依反應性濺射法、離子塗復金屬法、蒸鍍法、CVD法等 所形成者。其中又以利用鈦氧化物之還原性之標靶藉由直 流濺射法所形成之方法可使鈦氧化物層形成於金屬層時, 防止金屬層之氧化,可均勻形成高速且大面積之面上極爲 有利。防止金屬層氧化之結果,可提昇取得層合體之可見 光透射率,減低放射率。 鈦氧化物還原性之標靶係對於鈦氧化物之化學量論組 成其氧爲缺乏之標靶者。具體而言以使用具有如T i 〇x ( 1 < X < 2 )式所示之組成者宜。鈦氧化性還原性之標靶 例如:載於國際公開W 0 9 7 / 0 8 3 5 9號公報之以二 氧化鈦粉末或二氧化鈦粉末與鈦粉末之混合物做爲原材料 本紙張尺度適用中.國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-15- 么 7 > (/ A7 B7 五、發明説明(y ,藉由高壓壓縮法、燒結法或溶射法可製造之。 使用還原性之標IE時’以含〇 . 1〜1 〇體積%之氧 化性氣體之不活性氣體做爲測射氣體使用者宜。藉由以含 此範圍內濃度之氧化性氣體之不活性氣體做爲濺射氣體使 用後,可有效抑制形成鈦氧化物層時金屬層之氧化,可有 效製造具有低放射率與高導電性之層合體者。特別是以含 有◦. 1〜5體積%之氧化性氣體之不活性氣體使用者佳 0 做爲氧化性氣體之例者可使用氧氣,亦可使用一氧化 氮、二氧化氮、一氧化碳、二氧化碳、臭氧等。 金屬層之形成可依濺射法、C V D法、蒸鍍法等各種 方法進行之。特別是由可形成成膜速度快速、且大面積厚 度均勻質層之面觀之,以直流濺射法所形成者佳。 中間層之形成可因應所形成層之組成適當選取之方法 進行之。如:藉由濺射法、C V D法、蒸鍍法等方法。特 別是以直流濺射法者佳。 本發明層合體可用於遮熱性物品(如:遮熱性窗玻璃 )、光學濾光器(如:P D P前面所設置之近紅外遮掩濾 光器)、電磁波遮掩物品(如:P D P前面所設置之電磁 波遮掩板)、低反射性物品(如:低反射性窗玻璃、低反 射性噴霧器)、熱線反射板、透明電極。 實施例 以下例舉本發明之實施例及比較例,針對本發明進行 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(·!) 更具體之說明。又’以下實施例及比較例中’其可見光透 射率及放射率之測定以及耐損性之評定可依下記方法進行 之。 可見光透射率及可見光反射率之測定 於波長3 4 0〜7 8 0 nm中測定分光透射率及分光 反射率後,以J I S R 3 1 0 6爲基準,針對依J I S Z87 2 0所規定之C I E標準之光D65,藉由C I E亮 適應之比視感度求取可見光透射率可見光反射率。 放射率之測定 以JIS R3 106爲基準,針對預先求取之半球放 射率之標準採樣,利用Devices & Services公司製之 S Caling Degital Voltmeter (通稱 Emisomita )測定其 Emisomita値之後,預先求取半球放射率與Emisomita値 之間之修正係數。 針對實施例及比較例所取得之試料,測定其Emisomita 値後,藉由乘以此Emisomita値之前之修正係數後,求取 半球放射率。 耐損性之評定 以JIS K5400爲基準’載重lkg下測定鉛筆 之劃痕値後,做成耐損性之指標。 I--------_批衣II (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -17-
y ^ a ' U A7 ____B7 _ 五、發明説明(^ (實施例1 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 利用T i Ox (X=l . 94)所組成之標靶(面積: 432mmxl27mm),以投入電力做成4KW、以 含2體積%之氧之氬氣做爲濺射氣體,於光學玻璃之表面 上形成厚度3 3 nm之二氧化鈦層(折射率:2 · 4 5 ) 。另外’該含氧比例係針對總濺射氣體之比例者’以下意 義相同。 於此二氧化鈦層上’使用含1原子%鈀之銀所組成之 標靶(面積:432mmxi27mm),以氬氣做爲濺 射氣體’投入0.3KW之電力後,使pd形成含1原子 %之銀所成之金屬層(以下,單以「Ag— 1 a t%Pd 層」稱之)(厚度14nm)。又,標耙中之含钯比例係 針對與銀總量之比例者,以下意義相同。 更於Ag— lat%Pd層上,以Si (面積: 4 3 2mmx 1 2 7mm)做爲標靶,以含3 0容積%之 氮之氬氣做爲濺射氣體,投入電力爲1 KW、氮化矽( 5 i N X,X = 1 . 3 4 )所組成之中間層(以下’稱「 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 S i N x中間層j (折射率·· 1 . 9 5、厚度:0 . 5 n m )被形成。再於此中間層上,與上述相同,形成厚度3 3 n m之二氧化鈦層後,取得層合體A - 1。另外,以下實 施例X所取得之層合體稱爲「層合體A-X」。 所取得之層合體A - 1如圖1所示,於光學玻璃上依 序具有層合二氧化鈦層2i、Ag- 1 a t%Pd層3i、 S .i Ν χ中間層4 1 2及二氧化鈦層5 1之組成。 1本紙張尺度適用中國國家標準(〇^)/^4規格_(210乂297公釐) ' '
U A7 B7 五、發明説明(j 又,圖中1爲光學玻璃、2ι爲二氧化鈦層、31’ 32,33,34爲八运—13七%?〇1層、411'412、 421、422、431、432、441、442 爲中間層、5l 、52、 53、 54爲二氧化鈦層、6爲頂部塗層、7爲底 部塗層、8爲樹脂薄膜者。 層合體A - 1之可見光透射率、可見光反射率、薄片 電阻値及放射率如表1所示。 (比較例1 ) 除未形成S i N X中間層4 1 2以外’與實施例1同法 進行後如圖2所示,於光學玻璃1上取得具有厚度3 3 nm之二氧化鈦層2ι、厚度14nm之Ag— 1 a t% P d層3 i、及厚度3 3 nm之二氧化鈦層5 1組成之層合 體B - 1。又,以下,比較例Y所取得之層合體稱爲「層 合體B — Y」)。 所取得之層合體Β-1之可見光透射率、可見光反射 率、薄片電阻値及放射率如表1所示。 (實施例2〜17、比較例2〜5) 如表1及表2所示,中間層之厚度變更爲〇 . 5〜5 n m、改變中間層形成之位置,除外,與實施例1同法進 行後,製造層合體A - 2〜A - 1 7,及層合體B — 2〜 B — 5。 層合體A— 2〜A— 5 (實施例2〜5)如圖1所示 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 、?τ ,靖- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- A7 B7 五、發明説明(衿 ’於光學玻璃1上依序具有二氧化鈦層2 1、A g - 1 a t d層3i、S i Nx中間層4ι及二氧化鈦層5ι被層合 之組成。 層合體A— 6〜A — 12 (實施例6〜12)如圖3 ’所τκ,於光學玻璃1上依序具有二氧化欽層2 1、S i N X 中間層4ii、Ag — 1 a t%Pd層3ι、及二氧化鈦層 5 1被層合之組成。 層合體A - 1 3〜A— 17 (實施例1 3〜1 7)如 圖4所示,於光學玻璃1上,依序具有二氧化鈦層2 1、 3 11^中間層411、八运一131%?(1層31、 S i N x中間層4 1 2以及二氧化鈦層5 1被層合之組成。 層合體B - 2及B - 3 (比較例2及3)如圖5所示 ,於光學玻璃1上依序具有二氧化鈦層2 : ' A g - 1 a t %P d層3i、二氧化鈦層5:及3 i Ndif組成之頂部塗 層6被層合之組成。 層合體Β - 4及Β - 5 (比較例4及5)如圖6所不 ,於光學玻璃1上依序具有S i Νχ組成之底部塗層層7、 二氧化鈦層2i、Ag_l a t%Pd層3!、及二氧化鈦 層5 1被層合之組成。 另外’ S i Nx所成之頂部塗層、δ i Nx所成之底部 塗層均與S i N x中間層相同形成方法被形成者。 針對所取得之層合體A - 2〜i 7,及層合體B - 2〜B - 5分別進fr其可見光透射率、可見光反射率、 薄片電阻値及放射率之測定。結果如表丨及表2所示。 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 '20- A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7五、發明説明(j 又,層合體A — 1〜A— 17中S iNx中間層之厚度 與可見光透射率之關係如圖7所示。圖7中於A g — 1 a t%Pd層3!所具有S iNx中間層4i2之層合體 A— 1〜A— 5以·、Ag — lat%Pd層3ι之下所具 有之S i Nx中間層4^之層合體A — 6〜A — 1 2以· ,以及Ag— 1 a t%Pd層3ι上下所具有之S iNx中 間層及412之層合體A—13〜A—17以▲示之 〇 更且,層合體A - 1及A - 2之可見光特性與層合體 B - 1之可視分光特性均如圖8所示。 又,層合體A - 6及A - 8之可視分光特性與層合體 B - 1之可視分光特性均如圖9所不。 層合體A—13、 A—14及A—15之可視分光特 性與層合體B — 1之可見光特性均如圖1 0所示。 由表1及圖7所示結果證明,Ag — 1 a t%Pd層 上下之S i N x中間層所組成之層合體比於A g - 1 a t % P d層之上或下具中間層組成之層合體顯示更高之可見光 透射率,比比較例1之未具中間層組成之層合體B - 1顯 示高出3%之可見光透射率。S i Nx中間層之膜厚於 〇 . 5 nm具效果者,而其效果並未受膜厚影響。進行第 1層二氧化鈦層成膜前之SiNx之底部塗層及最上層之 S i Ν χ之頂部塗層幾無提昇透射率之效果。 (實施例1 8〜2 1 ) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐j -21 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -16 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(4 如表3所示,改變S i N x中間層厚度或位置以外’與 實施例1同法進行後製造層合體A—1 8〜A — 2 1 ° 針對所取得得層合體A - 1 8〜2 1進行評定耐損性 。又,同樣測定實施例1、2、4、5 ' 8、1 1及1 2 、以及比較例1所取得之層合體。結果如表3所示。 由表3所示結果證明’於A g - 1 a t % P d層上形 成〇 . 5 nm以上厚度之S i Nx中間層之層組成層合體可 提昇耐損性指標之鉛筆劃痕値。又,A g 一 1 a t % P d 層之下形成1 nm以上厚度之s i Nx中間層之層組成之層 合體亦可提昇耐損性指標之鉛筆劃痕値。更且’形成於 Ag—l a t%Pd層上之中間層之層組成之層合體其提 昇鉛筆劃痕値效果較大’藉由中間層厚度之增加更可提高 鉛筆劃痕値。 (實施例2 2 ) 與實施例1同法於光學玻璃1上依序層合厚度3 3 nm之二氧化鈦層2ι、厚度1 nm之S i Nx中間層4ιι 、厚度14_nm之Ag_l a t%Pd層3ι、以及厚度 6 6 nm之二氧化鈦層5 i之後,更層合厚度1 4 nm之 Ag_l a t%Pd層32、及厚度33nm之二氧化鈦層 5 2之後,製造如圖1 1所示組成之層合體A _ 2 2。 所取得層合體A-22之可見光透射率、可見光反射 率、薄片電阻値及放射率如表4 (其1 )所示。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X Μ?公釐)
U A7 B7 五、發明説明(2¾ (比較例6 ) 除未形成中間層4 1 1之外,與實施例2 2同法進行後 ,製造如圖12所示組成之層合體B - 6。 取得層合體B-6之可見光透射率、可見光反射率、 薄片電阻値及放射率如表4所示。 (實施例2 3〜4 0 ) 如表4 (其1及2 )所示,除改變S i N X中間層厚度 或位置之外’與實施例2 2同法進行後製造層合體A -2 3 〜A — 4 0 〇 層合體A - 23 (實施例23)具有如圖1 1、層合 體A - 24及A— 25 (實施例24及25)如圖13、 層合體A - 26及A - 27如圖14、層合體A — 28及 A— 29如圖15、層合體A— 30及A — 31如圖16 、層合體A— 32及A— 33如圖17,層合體A— 34 及A— 35如圖18、層合體A — 36及A— 37如圖 19、層合體A -3 8〜A_40如圖2 0分別所示之組 成。 針對層合體A - 2 3〜A - 4 0分別進行其可見光透 射率、可見光反射率、薄片電阻値及放射率之測定。與層 合體B — 6之結果同如表4 (其1及2)所示。 又,層合體A_38、 A-39及A—40之可見光 分光特性與層合體B - 6之可見光特性均姐圖2 1所示。 又,薄片電阻値係於粘合低反射性樹脂薄膜之前進行測定 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
U 經濟·部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(2;| 者。以下相同。 分別於2個Ag— 1 a t%Pd層之上下夾設於其中 S i Nx中間層之層合體顯示最高之可見光透射率’而比起 未夾設於其中S i Nx中間層之比較例6之層合體顯示高出 6%之可見光透射率。3丨1^\中間層之膜厚於1^111即有 效果,其效果並未受膜厚所影響。 爲取得具有2.5Ω/□之薄片電阻値,且具有74 %以上之可見光透射率之層合體以夾設於其中S i Ν χ中間 層於
Ag— 1 a t%Pd層之上下,且(2n + l)層爲5層 之層合體者宜。 又,針對層合體A — 3 8進行測定波長9 0 0 n m之 光透射率、及周波數3 Ο Μ Η z之電磁波遮掩率後’分別 爲14. 5%、15dB者。由此結果證明層合體Α - 3 8具有良好之近紅外遮掩性能及電磁波遮掩性能者。 (實施例 38a、39a、40a) 利用含1原子%鈀之銀組成之標靶(面積:4 3 2 mmx 1 2 7mm)所形成之Ag. _ 1 a t%P d層變更 爲利用含1原子%鈀與1原子%銅之銀組成之標靶(面積 4 3 2mmx 1 2 7mm)、以氬氣做爲濺射氣體投入 0.3KW之電力後分別各含Pd及Cu1原子%之銀所 組成之金屬層(以下單以「A g - 1 a t % P d層」稱之 )之外,與實施例38、 39、 40同法進行後,製造層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·
、1T -24- ,> u. Ά Α7 Β7 五、發明説明( 合體A - 3 8 a、A - 3 9 a、A - 4 0 a。針對所取得 之層合體與層合體A — 3 8同法進行評定。結果如表4 ( 其3 )所示。 .(比較例6 a ) 除未形成中間層之外,與實施例3 8 a之層合體 A - 3 8 a同法進行製造後^針對所取得之層合體與層合 體A - 3 8同法進行評定。結果如表4 (其3 )所示。 使用Ag— 1 a t%Pd— 1 a t%Cu層之層合體 與使用A g - 1 a t%Pd層之層合體取得相同良好之結 果。 又,藉由含2種金屬(P d與Cu)於銀後,具有相 乘效果比起含1種金屬可確定其較具耐濕性之提昇者。 (實施例 38b、39b、40b) 含1原子%鈀之銀組成之標靶(面積:4 3 2mmx 1 2 7mm)所形成之Ag — 1 a t%P d層變更爲含 1原子%金之銀組成之標靶(面積:4 3 2mmx 1 2 7 mm),以氬氣做爲濺射氣體投入0·3KW之電力後, 含1原子%Au之銀所組成之金屬層(以下單以「Ag — 1 a t % A u層」稱之)之外,分別與實施例3 8、39 、40同法進行後,製造層合體A— 38b、A — 39b 、八一4〇13。針對取得之層合體與層合體八—3 8同法 進行評定。結果如表4(其4)所示。 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(21〇Χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -25- d
>> U Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明( (比較例6 b ) 除未形成中間層之外,與實施例3 8 b之層合體A -3 8 b同法製造後,針對取得之層合體與層合體A - 3 8 同法進行評定。結果如表4 (其4 )所示。 使用Ag - 1 a t%Au層之層合體與使用Ag — 1 a t % p d層之層合體同樣取得良好結果。又,使用 Ag — la t%Au層之層.合體與使用Ag — 1 a t% Pd層之層合體相比較後,Ag- 1 a t%Au層之層合 體可取得高出2%之可見光透射率,且,相同金屬層之膜 厚時可取得降低1 〇 %之電阻値者。 (實施例4 1 ) 於聚胺酯系軟質樹脂薄膜(厚度:2 0 0 vm)之單 面上形成由非結晶性含氟聚合物(旭硝子公司製、SaUop )所組成之防止低折射率之折射層,另一面形成丙烯系粘 著層後,準備具有低反射性能之樹脂薄膜(以下稱「低反 射性樹脂薄膜」)備用。 接著,如圖2 2所示,於實施例3 8取得之層合體 A - 3 8之二氧化鈦層5 2之上與層合層合膜側相反面之 光學玻璃表面上分別粘貼低反射性樹脂薄膜8後,製造層 合體A — 4 1。 針對取得之層合體A - 4 1與實施例3 8同法測定可 見光透射率、可見光反射率、波長9 0 0 nm之可見光透 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS〉A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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U 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(d 射率及薄片電阻値。結果如表5所示。 (實施例4 2 ) 於實施例4 1所使用之低反射性樹脂薄膜丙烯系粘著 層內添加近紅外線吸收劑(三井化學公司製、S I R 1 5 9 )爲丙烯系粘著劑之5重量%後,準備附與低反射 性能與同時附與近紅外遮掩性能之樹脂薄膜(以下,稱「 低反射近紅外遮掩樹脂薄膜」)備用之。 再與實施例4 1同法,於實施例3 8取得之層合體A -3 8之二氧化鈦層5 2之上,與層合層合膜側相反面之 光學玻璃表面上分別粘貼低反射紅外遮掩樹脂薄膜後,製 造層合體A - 4 2。針對取得之層合體A - 4 2,與實施 例3 8同法進行測定。結果如表5所示。 由表5結果證明,藉由粘合低反射性樹脂後,可取得 7 4%以上之可見光透射率,同時可控制4可見光反射率 爲2 %以下,比層合體A - 3 8更可取得良好之低反射性 能者。藉由粘貼低反射近紅外遮掩樹脂薄膜後,可見光領 域中幾乎無損及良好之光學特性,可控制波長9 0 0 n m 之光透射率爲5%以下者,比層合體A - 3 8更可取得良 好之近紅外遮掩性能者。 又,針對層合體A— 24,25,28 ’ 29,32 及3 3與層合體B - 6進行評定其耐損性結果如表6所示 〇 由表6所示結果證明,具有複數層之Ag—lat% 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格{ 210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
27 j >> u A7 B7 五、發明説明(2¾ P d層之層合體中,夾設於其中中間層於最上層之A g -1 a t%Pd層之上部時,比起層合中間層於下層Ag — 1 a t%Pd層之上部其提昇耐損性之效果較大。又,夾 設於其中中間層於複數Ag - l a t%P d層之各層上部 者爲宜。 (實施例4 3 ) 製造具有圖2 3所示之.層組成,各層如表7所示組成 之層合體A - 4 3。 所取得層合體A-43之可見光透射率、可見光反射 率、薄片電阻値如表7所示。 (比較例7 ) 除未夾設於其中中間層之外,與實施例4 3同法進行 後,製造具有如圖2 4所示之層組成,各層如表7所示組 成之層合體B - 7。 所取得層合體B - 7之可見光透射率、可見光反射率 、薄片電阻値如表7所示。 (實施例4 4、4 5 ) 與實施例43同法進行後,製造具有如圖25 (實施 例4 4 )及圖2 6 (實施例4 5 )所示之層組成、各層如 表7所示組成之層合-A — 4 4及4 5。 取得層合體A - 4 4及4 5之可見光透射率、可見光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -28 - A7
y >? a: l U B7 五、發明説明( 反射率及薄片電阻値之測定結果與實施例4 3結果均示於 表7。 由表7結果證明爲取得具有1.5Ω/□之薄片電阻 値同時具有6 7%以上之可見光透射率之層合體’以夾設 於其中S i Nx中間層於Ag— 1 a t%P d層之上下,且 (2 n + 1 )層爲7層之層合體者佳。 又,針對層合體A _ 4 5,進行測定波長9 0 0 n m 之光透射率及周波數3 ΟΜΗ ζ中之電磁波遮掩率後,爲 2 . 4%及1 7 d Β者,具有良好之近紅外遮掩性能及電 磁波遮掩性能者。 (實施例4 6 ) 如圖2 7所示,於實施例4 5取得之層合體A — 4 5 之二氧化鈦層5 3之上與層合層合膜側相反面之光學玻璃 表面上分別粘合低反射性樹脂薄膜8後,製造層合體A -4 6° 所取得層合體A-46之可見光透射率、可見光反射 率、薄片電阻値、及波長900nm之光透射率如表8所 不 0 (實施例4 7 ) 與實施例4 6同法進行後,於實施例4 5取得之層合 體A — 4 5二氧化鈦層5 3之上與層合層合膜側相反面之光 學玻璃表面上分別粘貼低反射近紅外遮掩樹脂薄膜後’製 本紙張尺度適用中周ϋ家標準(CNS ) A4祕(2ι〇χ297公董) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 、?! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -29 - ^ y ^ C/· > Lu A7 __ B7_ 五、發明説明( 造層合體A - 47。與實施例46同法針對層合體A -4 7進行測定。結果如表8所示。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如表8所示證明,藉由粘貼低反射性樹脂薄膜後,取 得6 7%以上之可見光透射率同時可控制可見光反射率爲 2 %以下者,比層合體A - 4 5更可取得良好之低反射性 能。又,藉由粘合低反射近紅外遮掩樹脂薄膜後,於可見 光領域中幾乎未影響良好之光學特性,比層合體A - 4 5 更可取得良好之近紅外遮掩性能。 (實施例4 8 ) 製造如圖2 8所示之層組成,各層具有如表9所示之 組成之層合體A - 4 8。 所取得層合體A-48之可見光透射率、可見光反射 率、薄片電阻値如表9所示。 (比較例9 ) 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 除未夾設於其中中間層之外,與實施例4 8同法進行 後,製造具有如圖2 9所示之層組成,各層具有如表9所 示組成之層合體B-9。 所取得層合體B - 9之可見光透射率、可見光反射率 、薄片抵抗率如表9所示。 (實施例4 9〜5 4、比較例1 〇〜1 1 ) 如表9所示,變更二氧化鈦層、S i N X中間層或a g 本纸張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -30-
U 經濟·部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(y 一 1 a t%Pd層之厚度之外,與實施例48同法進行後 ,製造層合體A — 4 9〜A — 5 4。又’如表9所示’變 更二氧化鈦層或Ag - 1 a t%Pd層之厚度之外’與比 較例同法進行,製造層合體B - 1 〇〜B— 1 1。 取得層合體A-49〜A—54及層合體B—1〇〜 B - 1 1之可見光透射率、可見光反射率及薄片電阻値如 表9所示。 夾設於其中S i 間層於Ag — 1 a t%P d層之 上下組成之層合體顯示出高度可見光透射率,比未夾設於 其中中間層之比較例9〜11之層合體高出15%之透射 率。又, S i Nx中間層膜厚爲1 nm出現效果,其效果並未依 S 1 N x中間層之膜厚所影響。 針對實施例4 8〜5 0及比較例9〜1 1 ,其可見光 透射率與薄片電阻値之關係如圖3 0所示,可見光反射率 與薄片電阻値之關係如圖3 1所示。 由圖3 0及3 1之結果證明,爲取得具有0 . 5〜 0 . 9Ω/□之低薄片電阻値同時具有40%以上之可見 光透射率與1 0%以下之可見光反射率之層合體。如實施 例4 8〜5 0於Ag— 1 a t%Pd層之上下夾設於其中 中間層,且,(2 n + 1)層爲9層之層合體者佳。又, 電磁波遮掩率均超出1 7 d b値(約2 0 d b或更大)者 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 -31 - A7 B7 經濟,部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(d (實施例5 5 ) 如圖3 2所示,實施例4 8取得之層合體A - 4 8之 二氧化鈦層5 4上與層合層合膜側相反面之光學玻璃表面上 分別粘合低反射性樹脂薄膜8後,製造層合體A — 5 5。 所取得層合體A-55之可見光透射率、可見光反射 率如表1 0所示。 (實施例5 6、5 7 ) 與實施例5 5同法進行後,於實施例4 9或5 0取得 之層合體A — 49,5 0之二氧化鈦54上與層合層合膜側 相反面之光學玻璃表面上分別粘合低反射性樹脂薄膜8後 ,製造層合體A-56及57。 (比較例1 2〜1 4 ) 與實施例5 5同法進行後,於比較例9〜1 1之層合 體B — 9〜1 1之二氧化鈦層54上與層合層合膜側相反面 之光學玻璃表面上分別粘合低反射性樹脂薄膜後,製造層 合體B — 1 2〜1 4。 取得層合體A— 5 5〜A— 57及層合體B — 1 2〜 B - 14之可見光透射率、可見光反射率及薄片電阻値如 表1 0所示。又,薄片電阻値係粘合低反射性樹脂薄膜之 前所測定者。 針對實施例5 5〜5 7及比較例1 2〜1 4其可見光 透射率與薄片電阻値之關係如圖3 3示,可見光反射率胃 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X 297公釐) (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁)
-32- d. A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(d 薄片電阻値之關係如圖34所示。由圖33及34結果顯 示,爲取得具有0.5〜0.9Ω/□之低薄片電阻値且 同時具有4 0%以上之可見光透射率與3%以下之可見光 反射率之層合體如實施例5 5夾設於其中S i N X中間層, 且使 Ag—l a t%Pd層與駄氧化物層相互分別層合4層後 ,於二氧化鈦層5 4上與光學玻璃基體上粘合低反射性樹 脂薄膜之層組成者佳。 (實施例5 8〜6 2 ) 各二氧化鈦層之形成利用T i標靶(面積:4 3 2 m m X 1 2 7 m m ),投入電力爲4KW,以含50容積 %氧氣之氬氣做爲濺射氣體後進行之,除S i Nx中間層厚 度爲1 . 0〜3 · Onm以外與實施例1 3〜1 7同法製 造層合體A-58〜A-62。 (比較例1 5 ) 二氧化鈦之形成利用T i標靶(面積4 3 2 m m X 127mm),投入電力爲4KW,以含5〇容積%氧氣 之氬氣做爲濺射氣體進行之外,與比較例1同法製造® € 體 B — 1 5。 (比較例1 6 ) 形成Ag—lat%Pd層後,利用Ti標耙(面積 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本寳)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 33- A7 B7 五、發明説明(3;) :432mmxl27mm),投入電力爲1KW,以氬 氣做爲濺射氣體使用後,形成1 . 5 nm之T i層之外, 與比較例1 5同法製造層合體B — 1 6。 針對實施例5 8〜6 2及比較例1 5〜1 6所取得之 層合體A— 5 8〜6 2及層合體B— 1 5〜1 6,進行測 定可見光透射率、可見光反射率、薄片電阻値及放射率。 其結果實施例5 8〜6 2如表1 1所示、比較例1 5及 1 6如表1 2所示。 以T i標靶於一般反應性濺射下形成二氧化鈦層時, 務必使用含大量氧化性濺射氣體進行成膜。此時,氧化性 氣體與電力之衝突多數形成氧負離子,其生成確率與具有 數十e V之運動能之電子衝突時,將達2 0〜3 0%。如 此多數氧負離子之產生,負面的藉由外加標靶附近之電界 往基板方向加速。被加速之氧負離子於基板附近具有 1 0 0〜2 0 0 e V之運動能,於二氧化鈦層下層之Ag 一 1 a t%Pd層內平均打入1 . 5mm之深度,使金屬 氧化。藉由此氧化,使薄片電阻値與放射率增加,導致不 易取得導電性層合體(低放射性層合體)。 比較例1 5所取得之層合體B — 1 5於形成二氧化鈦 層之過程中,其Ag— 1 a t%P d層之金屬被氧化’而 增加電阻値與放射率,因此無法取得導電性與低放射性。 比較例1 6所取得之層合體B — 1 6係於A 2 一 1 a t %P d層之上介著T i層層合二氧化.鈦層之組成者 。於形成二氧化鈦層之過程中,置入產生氧負離子’藉由 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格< 210 X 297公釐) _ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 y >> </ ' ^ _B7 _ 五、發明説明( 設置Ti層而防止二氧化鈦層下之Ag - 1 a t%Pd層 之氧化。 T i層厚度爲1 . 5 nm時,二氧化鈦層形成後之 T i層幾乎完全變成被氧化之二氧化鈦層。因此,最後所 取得之層合體B - 1 6與比較例1所取得之無中間層之層 合體B-1幾乎同樣具有層組成。 由表1 1及1 2之結果顯示,利用T i標靶於一般反 應性濺射法所形成之具有二氧化鈦層之層合體中’於A g —1 a t%P d層與二氧化鈦層間夾設於其中適當厚度( 2 n m以上之S i N X中間層比比較例1 6取得之中間層幾 乎不存在之層合體B-16其較可取得較高度可見光透射 率。 (實施例6 3 ) 將中間層之形成如下述之改變之外,與實施例1同法 取得層合體A—63。 亦即,於Ag— 1 a t%Pd層上’利用將Ga2〇3 以Ga2〇3/ (Ga2〇3 + ZnO)由含5 . 7重量%之 ZnO組成之標靶(面積:432mmxl27mm) ’ 以氬氣做爲濺射氣體,投入電力爲1 κ W,形成G a 2 〇 3 爲含5 . 7重量%之冗η ◦組成之中間層(以下’單稱爲 「G Ζ 0中間層」)(折射率:2 . 0、厚度·· 0 . 5 n m ) 0 所取得層合體A — 6 3如圖1所示’於光學玻璃1上 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
-35- U- Μ Β7 五、發明説明( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 具有依序層合二氧化鈦層2i、Ag — 1 a t%Pd層3ι 、G Z 0中間層4 1 2及二氧化鈦層5 1之組成。其各層厚 度如表1 3所示。 (實施例6 4〜8 0 ) 如表1 3所示,除改變G Ζ 0中間層之厚度或位置之 外,與實施例63同法製造層合體Α - 64〜Α— 80。 針對此等層合體進行測定其可見光透射率、可見光反 射率、薄片電阻値及放射率。結果如表1 3所不。 具有GZO中間層之層合體中,於Ag — 1 a t% P d層之上下配置中間層者顯示最高可見光透射率,比未 插入中間層之比較例1出現高出3%之可見光透射率。 GZO中間層之膜厚爲0.5nm下出現效果,其效果並 未依存於膜厚者。 (實施例8 1〜1 0 0 ) 經濟·部智慧財產局員工消費合作社印製 如表1 4所示,改變G Z 0中間層之厚度與位且之外 ,與實施例6 3同法製造層合體A — 8 1〜A-1 00之 後,評定其耐損性。其結果與比較例1之結果均示於表 14。 由表14結果顯示,於Ag - 1 a t%Pd層之上或 下,形成1 n m以上厚度之G Z 0中間層之層組成層合體 中,可提昇耐損性指標之鉛筆劃痕値。又,於A g -1 a t % P d層上形成中間層之層組成層合體其提昇鉛筆 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -36 d y 6' > ^ A7 _B7____ 五、發明説明( 劃痕値之效果較大,藉由中間層厚度之增加’其鉛筆劃痕 値亦更提昇。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (實施例1 0 1 ) 除中間層變更爲G Z 0中間層之外,與實施例2 2同 法製造於光學玻璃上依序使33nm之二氧化鈦層、1 nm 之 GZO 中間層、14nm 之 Ag — 1 a t%Pd 層 、6 6 nm 之二氧化欽層、.1 4nm 之 Ag — 1 a t% P d層、3 3 nm之二氧化鈦層進行成膜後,具有2層 Ag—l a t%Pd層組成之層合體A—101。 (實施例1 0 2〜1 2 1 ) 如表1 5所示,改變G Z 0中間層之厚度或中間層形 成之位置之外,與實施例1 0 1同法製造層合體A — 1 0 2 〜A — 1 2 1。 針對所取得之層合體A - 1 0 1〜A - 1 2 1進行測 定其可見光透射率、可見光反射率、薄片電阻値及放射率 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 。其結果如表1 5所示。 具有GZO中間層、具有2層Ag — 1 a t%Pd層 之層合體中,於第1層及第2層兩面之Ag - 1 a t% P d層之上下配置G Z ◦中間層組成顯示最高度可見光透 射率,比未插入中間層之比較例6顯示高出7%之可見光 透射率。GZO中間層之膜厚於〇 . 5 n m出現效果,無 依存膜厚。 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X2S»7公釐) -37- A7 B7 五、發明説明(^ (實施例1 2 2 ) 將中間層變更爲下記之N b Ο x所組成之層外,與實施 例6同法取得層合體A - 1 2 2 ° 亦即,利用Nb〇x (x = 2 . 49)所成之標靶(面 積:432mmxl27mm),以含10容積%氧之氬 氣做爲濺射氣體、投入電力1 K w後’形成N b〇x ( X = 2 . 5 )組成之中間層(折射率:2 · 3 5、厚度: 0 . 5 n m ) 0 所取得層合體A - 1 2 2於光學玻璃1上具有依序層 合二氧化鈦層、N b〇x之中間層(以下稱「N b Ο X中間 層」)、Ag — 1 a t%Pd層、及二氧化鈦層之組成。 (實施例123〜126) 如表16所示,改變Nb〇x中間層厚度爲1〜4nm 之外,與實施例1 2 2同法製造層合體A — 1 2 3〜A -12 6° 所取得層合體A— 12 2〜A - 1 2 6之可見光透射 率、可見光反射率、薄片電阻値及放射率進行測定之。其 結果如表1 6所示。 於Ag — 1 a t%Pd層下具有Nb〇x中間層之層合 體比未具中間層之比較例1顯示高出1.5%之可見光透 射率·。又,Nb Ox中間層之膜厚於〇 . 5 nm出現效果, 其效果未依存其膜厚者。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2丨0X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 丁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ? > U- A7 B7 五、發明説明(3¾ (實施例.1 2 7 ) 中間層變更成下記之含銦之S η 0 2組成之層以外,與 實施例6同法取得層合體Α_ 1_2 7 ° 利用含1 0重量%銦之S η 0 2組成之標靶(面積: 4 3 2mmX 1 2 7mm)、以氨氣做爲灑射氣體’投入 電力爲1 KW,形成含1 〇重量%銦之s η 〇2組成之中間 層(以下,稱「I Τ 0中間層」)(折射率:2 . 0、厚 度:1 .n m )。 (實施例128〜131) 如表17所示,IT◦中間層厚度變更爲1.5〜 4 nm之外,與實施例1 2 7同法製造層合體A — 12 8 〜A — 1 3 1。 針對層合體A - 1 2 7〜A - 1 3 1進行測定可見光 透射率、可見光反射率、薄片電阻値及放射率。其結果如 表1 7所示。 於A g— 1 a t% Pd層之下具有I TO中間層之層 合體中,比未夾設於其中中間層之比較例1層合體顯示高 出 1 . 5%之可見光透射率。I TO中間層膜厚於lnm出 現效果,其效果非依存膜厚者。 產業上可利用性 各紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格_( 210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 經濟/部智慧財產局員工消費合作社印製 39 y ^ C/- l (/ A7 B7 五、發明説明( 本發明於可見光領域中改善透射率、使用鈦氧化物取 得層合體。 又,本發明可改善耐損性,使用鈦氧化物層得層合體。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210Χ297公釐) -40 - A7 B7 五、發明説明(38) gaf Μ ft _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 τ—Η 滔 Ο 1 cn cn 1 寸 CnI cn cn I 83.2 卜 寸 5.0 〇 〇 〇\ 1 cn cn 1 寸 ί〇 τ—Η CO cn 1 83.3 寸 〇 νη ο ο 〇〇 1 cn cn 1 寸 ι 1 cn cn 1 C<1 cn oo 4.8 5.0 ΐ·η ο ο t cn cn 1 寸 οο ο cn cn 1 83.3 4.8 〇 0.06 1 cn cn 1 寸 0.5 cn cn 1 83.3 r- 寸 〇 ίη ο ο 1 cn cn L〇 寸 I cn cn 1 83.3 寸 4.9 0.05 寸 1 cn cn CO 寸 I cn cn 1 83.4 4.9 4.9 ν〇 Ο Ο m 1 cn cn C<] 寸 1 cn CO 1 83.3 4.8 4.9 Ό Ο Ο CN 1 cn cn v ' ·Η 寸 1 CO cn 1 cn oo 寸 〇 wn Ο ο 1 < 1 CO cn U~) 〇 寸 1 cn cn 1 83.2 4.8 5.0 ο ο 比較例 1 1 cn cn 1 寸 1 cn cn 1 寸 1 < oo 〇 〇 IT) νο ο ο X--N •( 00 劍 插 6.二氧化鈦層 5.SiNx中間層 4_Ag_lat%Pd 層 3 . S i Ν χ中間層 2.二氧化鈦層 /<—N X z oo _ 剡 胡π 幽 二 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) 放射率 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) -41 A7 B7 五、發明説明(39) 酹碰: , 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Cv] 比較例 1 cn cn 1 寸 1 (ΤΊ cn CO oo 寸 5.0 0.06 寸 1 <m CO 1 寸 1 cn 1 < 00 1 1 OO 寸 〇 0.06 cn CO 1 寸 1 cn c〇 1 81.8 4.9 〇 tn ! 0.06 CO ;< CO cn 1 寸 1 cn cn 1 CN OO 4.8 〇 tn 0.06 習 1 cn cn 寸 CO CO 1 84.7 4.6 4.9 0.05 1 cn cn cn 寸 cn cn cn 1 寸 寸 OO 卜 寸 Ο wo 0.05 1 cn cn C<1 寸 CnI cn cn 1 84.6 4.6 4.9 1 0.05 寸 1 cn CO i I 寸 T—( cn m 1 84.5 寸 Ο cn 1 cn cn 0.5 寸 0.5 cn cn 1 84.5 4.6 Ο 0.06 CN 1 CO cn 1 寸 IjO cn cn 1 CO cn oo 4.6 ο ίη ο ο τ—1 1 cn cn 1 cn cn cn 1 83.4 4.6 ο ίη 0.05 7.頂部塗層(S i Ν χ) 6.二氧化鈦層 5.SiNx中間層 4. Ag-la.t%Pd層 3 . S i N x中間層 2.二氧化鈦層 1.底部塗層(SiNx) 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) 放射率 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 趣- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -42
>,a: lU A7 B7 五、發明説明(40) 經濟·部智慧財產局員工消費合作社印製 比較例 1 1 CO ( 寸 _ CO CO 1~1 CO PQ 1 < 1 PO cn 寸 〇 co CO »—Η T—H C^i X 1 < CO 1 < ^ , ^ ^ CO ~~1 CO m < ^ 1 ^ ^ co —< cn κ 1 < CNl < 1-^ ⑺ i 寸 cn ⑺ cn ~i m r—( < 〇〇 CO 寸 CO cn 一'~' co oo < 辑 σ\ <ΤΊ o 寸 ( cn CO 1—1 ,~H CO k r- t < ' On < οο ^ 〇〇 寸 i 00 cn ~~i co 卜 1 < OO < Ό U〇 寸 1 ^ co i cn m < IK 寸 ^ i ^ co ~i cn K vo 寸 < CNl cn ~~1 — ' co K 寸 Cn] < f—Η CO ^ 寸 ( CO co d m cn 1 1 < _ ft H5 e ^ e ]g - -- ]g ^ OX) ^ 11 ^ G 1 i l〇 CO csl 鉛筆劃痕値 層合體 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -43- d y a: I (J- A7 B7 五、發明説明(41) (su :妇SBf^ttN幽)
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寸I 99 寸i ίί 89 τ·9 寸 00 ONIS)幽劍镝傾·Ι ,^^^ΠΎ Μ 酲 ΐΝΙοο ilpdsrtI-bilv MEml ΐΝίοο s^^Jlin ilgu ΐΝίοο _pd%lM-2v βSEΦ》N τ S · 6 ii^^llffnoI (|)幽劁铌11.11 條it崧 (□ \ G) M} MllildrI嫩 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 44 d u A7 B7 五、發明説明(42) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (mu :归輒侧»N, ) αΗ)1 嗽 〇 74.5 wo C<1 cn o o 〇\ CO 74.3 6.4 VO CN 0.03 〇〇 cn .寸 1 co — i cn cn 寸 6.3 i〇 CO 0.03 • | 二'^ ' 72.5 cn U〇 CN 0.03 \〇 CO ,^ ^ , , CO '1 "1 CO ί〇 < 6.3 u〇 CSI 0.0 3 CO '^ '二's - ^ ^ ' cn 1 cn v〇 L〇 CO cn o ◦ ,00 , , ^ ^ ^ ^ CO ~~1 ~1 CO 71.0 1 wn csi cn 〇 o cn cn _ 工-3 s -二'^ _ 寸 t—H 6.2 in csi 0.03 C<1 cn 1 ^ ^ , ^ ^ ^ , ^ , CO ~1 K〇 ~~1 CO C<1 i 6.2 vn C<] CO o o ^~N z -一 2 瑞麻β丑"V丑~ 03 v M fln W f f ^ K 11 .¾ m m ^ GO <C 00 M 00 <C GO 1| ffi! i < c"*i ,.······· t~h — Ο'ΝοοΓ'-^Οίη 寸 coco — 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) 放射率 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -45-
j ^ σ I U Α7 Β7 五、發明説明(43) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (mu : 5:}gaf姻tt^ii) (COM)寸 嗽 比較例 c^i \〇 i S '二 S i 二 i S ‘ oo > vo 6.2 ί〇 C<1 0.03 孽 40a 74.0 cn \〇 m CS] CO Ο Ο 習 卹 39a 〇 寸 6.2 ί〇 CN cn ο ο 38a - 二-S -二 - S ' 74.1 6.2 VO CnI 0.03 幽卿 。 U u z 虔 疼 Q 〇〇 幽 ^ ^ 一 κ π 5 ^ .¾ ^ ^ -: • GO <! 〇〇 1 1 00 <C OO 1 1 lffi! <—H .......·. ,~~i ~~ic^oor^-^own^cncsj^~~t 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) /-~N □ \ a 贓 » 放射率 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -46 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 j >? a: I (/ A7 B7 五、發明説明(44) ευ赵gaf侧it^io (寸5 比較例 5 ( m _ 寸 t _ 寸 ( CO t 1 c〇 ' ~i 1 ~i ' co 1 w H o 6.2 2.2 蒙 40b '_ 76.3 6.3 C<1 Οί 辑 39b 二 二⑺工 _ 76.4 CN] \〇 CN CM 38b ,工-二- s - 二-s _ 76.3 6.2 2.5 />—s 您葉: βΠ x ι—η x iitrf 〆 '—ιχ 1!rrf ffi 11 5 ^ ^ .¾ _ co cn M oo <! oo M »—1 .....···· — H〇N〇or-Ou〇 寸 mc<i — 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -47 j >? a: l U. A7 B7 五、發明説明(45) ς.ζ9.寸 Ϊ · I i.lL CS1I寸 m I寸
「6 Γ I r<rL m S.CNI Γ寸I Γ9 Γ寸A8£ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (□/Gmlsdi:»(s條顆糊宋NSS006嗽Μ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX297公釐) -48- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 j >? a: l (/ A7 B7 五、發明説明(46) 比較例 6 m 習 IK CO cn X C<1 cn K σ\ CN X wn oo CN] K 寸 csi CO C<J 鉛筆劃痕値 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(21 OX297公釐) -49- y ^ C- >' t/ A7 B7 五、發明説明(47) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (mu:赵啩MttNln Z 嗽 比較例 7 0 ^ . · ,^0 ,…,^ ° ^T) r-H 'Ό ,~~1 *〇 τ—* CO L〇 \〇 ίη ίη r 1 辑 ν〇 30 1 16 1 55.5 1 16 1 55.5 1 16 1 30 68.5 . 6.7 U~) I 1 * 寸 un 〇 . ^ ^ ^ —三 CO — … ^~~ι ^ 1—1 ΓΠ u〇 ι〇 CnI 寸 VO 6.6 L〇 ι I cn ° ^ ^ , ^ ^ , ^ CO J—i 'Ό r—« Ό τ—Η CO 64.4 6.6 in 1 1 < $ϋ?ϋ5_,彆幽 __ 鹭 __ 廿 tr π π ^ ·Π 一 .ΓΤ 与 iiitj x— -= ^ tr <^s ^ ττ 〇j tr ^ 1 1 ^ , , ^ .t: . , ^ Μ . · · · l|〇o<i〇〇l|〇o<;c^ll CO CS ,—* . ........ ,I ^ ~1 一 C^〇〇t>* ^O^n 寸 COCN'~~' 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω /□) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 訂 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -50 y ^ C/- l (/ A7 B7 五、發明説明(48) 100 0.A9 A寸 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 闺 {|1( ? > 〇〇·〜;· ^ -H C^l v〇 68.5 6.7 2.4 1.5 承 、«_«·/ if 謀I—I ^ ^ \ w w朱n 银讲β 5 寂為S鹦 喊啤蝤dr; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣- 、-!! 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) d u A7 B7 五、發明説明(49) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 (mu :^1¾^¾^¾) 6撇 比較例 τ—Η r—Η ο , C- , Γ- ,ΟΝ ,寸,ΟΝ ,寸,Γ- , Ο CO τ—ι 1〇 1—1 1〇 τ—η ( CO 39.4 6.5 0.9 Ο O|〇〇ic-Im|^|^i^ir-I〇 co <~~ι cn ι/η cn iTi r—t cn 34 6.7 0.7 ΟΝ cocNvnc^^cs^ncNco 28.4 6.8 0.5 ^ ^ 寸 OO 〇 m m 44.0 8.0 0.5 Μ {_ Γ<1 ^ fy~) ^ CO ^ C^l ^ CO ^ CO ^ CO ^ CO ^ Γ^Ί ^ cn CN wn cn c 1 CNi cn 1 csi co 43.6 7 9 0.5 ^ CN 〇 CN ^CN^^Cn'^CN^'^CN^^ CN 〇 CN Θ cn c CM ίη CN] ίη CNi un csi cn 43.8 7.8 0.5 0 — > 寸 H0'' —寸— CO ι ID ~lUO — U〇i~~1 cn 55.6 7 0.9 ΟΝ 〇 — —寸H寸—寸―卜―0 co — w^cniocolo 一 co 49.5 7.2 0.7 οο 〇h〇h 卜 寸 卜— pH0 43.8 7.8 0.5 幽¢5酸1幽_噢[^幽_噢_幽 1ig£ ^ '_1 ^ 1ir£ K '—1 ^ ^廿(xs 廿 y 廿 d ΤΓ 5 wi 5 , 5 M 5 If 2 ^ 2 ^ ^ 1 1 00 <d GO 1 1 GO <C OO . 1 -^H ^ .^-, M ^ , 卜。…寸 c〇<N^~i〇......... r— Η ι I ι i t i < < ' H f—Η ι i O^ OO '•vj CO C*^ ' 1 />·—\ □ 承承\ N—✓ 條银s ^ ^ 1S1 糙赵囤 ^ ^ ΐω 不不pr 喊喊北 向1?職 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -52- j >? a: l (/ A7 B7 五、發明説明(5〇) 01 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 比較例 寸 寸 〇\ cn i i cn o 0.9 CO 5 0.0 0.7 CNI 28.4 oo »( 0.0 o 辑 VO m CO 0.28 0.9 Ον 寸 CNl CNl 0.0 o in 寸 1*0 CO 〇 o 0.5 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 波長900mm之光透射率(%) □ \ G JM 囤 猶 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、?τ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公嫠) -53- d u A7 B7 五、發明説明(51) 酹 Μ ft N ¢5 r-H tH 嗽
CN cn cn 〇^o cn — cn CO cn // 寸CX3 oo·寸 90.0
cn CO VO csl 寸 cn cn 6·寸oo //寸 Γιο 900 !l·---1---身-I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 辑 O 〇vl cn cn 8·寸8 8·寸 Γιο 900 訂 >〇 cn cn Γεοο oo·寸 6·寸 900 oo V〇 CO cn 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Γεοο 8·寸 °s 900 M(-〇U)I 搬·ι sffil ίΝίοοτ i5PCJ0tcdi-t)i)v.£ i5酲旮 ϋ&ο·寸 li TIAJI 祕 π·νο (□\α) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) d j >? a: l ll. 7 Β 五、發明説明(52) (SU :归酹侧ttNis)
Z coco
寸I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 準 標 家 國 國 中 用 適 ΐ 尺 張 紙 釐公 ero 寸一 「I ecn _(-CHl)I 濉·ι 0 ^ ^ ,ρ J^lBI-biv-e 1Π1·寸 ,^^«π·ς r—Η 〇〇 1 ( UO 4.9 0.06 79.8 \ΓΛ 5 20 CNI 〇〇 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω /□) 放射率 n^— —^n ^^^1 ^^1 1 nn —I— n (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T d u A7 B7 五、發明説明(53) (SU :赵酹鹋«:忉幽) (I K) C ΐ 嗽 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 C<1 00 1 寸 d 00 CO ~~i CO 83.2 4.9 Ο ί〇 0.06 1—Η cn 寸 10 co cn | — 二 c〇 1 < cn oo 4.9 5.0 Ό Ο Ο ο cn 寸 cn cn 1 1—1 m 1 < CO oo 4.8 5.0 0.06 On VO cn 寸 ^ co cn 1 ~' ^ m 83.2 4.8 Ο U-) 0.05 闺 oo cn i CO CO CM cn oo 4.9 4.9 0.05 CO … 寸 (ΤΊ CO “ Η ι CO 83.2 寸 Ο un 0.05 1¾ M3 工〜二沄 83.3 4.9 5.0 0.05 \〇 CO ” 寸 r-H m 」 '~1 1 co 83.2 4.9 Ο ΐ/~) Ο ο Z co — 寸 丨 — cn ~~i cn 83.0 4.8 Ο Ό 0.04 cn CO ^ 寸 CO cn ^ ~i 1 cn r H cn oo 4.8 Ο ΙΟ 0.06 _ ii = 尨酲 g 酲尨 ^ ^ -fr ^ 祕〇 τ 〇祕 N 加 N 11 ο < o 11 l〇 寸 CO CO H 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) Ν □ \ α 1Μ 酉 ϋ 職 放射率 ji. ^nn 1^1 ^^^1 m 1: ^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -56- B7 五、發明説明(54) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (mu :赵叫鹋»e_ ) aH)coI 嗽 比較例1 cn 1 ~1 1 m 寸 1 < οο 〇 〇 i〇 0.06 累 習 K 84.8 5.0 4.8 0.05 ON cn . Xi· . cn cn 寸'~i cn Ο U-i ΟΟ 5.0 4.9 〇 〇 〇〇 =-二-S 84.9 4.9 4.9 0.06 卜 33 2.5 14 2.5 33 ΟΟ 寸 ΟΟ 4.9 4.9 0.06 卜 寸 οο 5.0 〇 0.05 ^ 心 寸 心 η α 二 d 二 ^ 84.8 4.9 5.0 〇 〇 寸 00 — 寸 — 00 co ~ι cn 寸 οο 4.8 〇 1*0 〇 〇 CO cn 10 寸 co ^ ^ C? 00 r- 寸 οο 4.9 〇 0.06 襄 _ = 1¾ _ 尨酲 g 酲尨 -fr ^ ^ 祕〇 7 〇 祕 N 加 N 11 ϋ < 〇 1 ι〇 寸 CO CNI Η 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) 放射率 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -57 j ^ l (/ A7 B7 五、發明説明(55) (mu :赵gt^ft-Nis) 600 0000 L% 900
Lnoo ίί 寸I 0CN1ίί
600—V ίί 寸I ς·ΑΙ coco ecn ii K9
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寸I rncn soo-v --;-------衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 習 寸oo
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009-V 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 99 寸9 ίί 寸i ίί Η
99 — V cne 寸ι cne 寸9·ν _尨Λ3> 祕 π · I ilsl-fros.CN i513?^-3v; iiHEl 4d〇z9.寸 _尨与祕π·νη _}Ma槲貂 1!<ΠΜ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格< 210X297公釐) -58- d
A
7 B 五、發明説明(56 a
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W m 001 66 °°6 L6 96 $6 寸6 £6 16 16 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(<
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QL 一一 ^ ^ ^ ^ ^ 一一 a 一一 ii ee 一一 _翁安祕 u π π οι 6 s i 9 s 寸 ε z i ¢^^02:0- 寸I 寸I 寸I 寸T 寸I 寸I 寸I 寸i 寸I 寸I 寸I 寸I 寸I 寸I ίρϋ-ών.ε ®®ιιφ〇ζο- (210X297公釐) -59- m I_a oo'v
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L'N — l· — — — ——,t (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 96_v ς6_ν
寸'V e'v s_v I6_v 06_v N'v 0'v _<n_ 訂 d j >? a: I (/ A7 B7 五、發明説明(57) 扫酹侧ttes) (I h)lot-h嗽
III on 601 801 ίί
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AOI 901
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寸I 99 寸ι ίί ΟΟΑ csl-9 π τ 寸0·0
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寸I L-69 cni.9 ΓΓΝΙ so ε 寸i 99 寸Iecn 寸·69 ιηοο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 101
寸I 99 寸i Γ69 ζ·9 寸 00 M 尨:!·> Π.Ι ,酲 φοζοτ _p?ctiI-Mv; ,ssfr〇zo·寸 義尨AJ>llsn“ ilffil φ〇ζϋ·9 ilpd 承一rtTbiV.Alissl φοζοοο 幽尨翠祕Π6 (□ \ ϋ) w}囤_此»I (%)褂-tr-ll 吆罘 1ί 向 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -60 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 j >? a: I (/ A7 B7 五、發明説明(58) (mu :归輒侧ttNg) aH)LOT 嗽 比較例 6 CO _ 寸 ( ν〇 _ 寸 ( CO CO '—* 'Ό '—* ο οο νο 6.2 i〇 CO 寸 Ο ο 121 75.3 VO 寸 CN cn ο ο 120 ι 1 Ό r- cn \o 寸 CS1 寸 ο ο 〇\ \ i CO ί〇 6.3 CN 0.04 辑 〇〇 »_··Η m —寸—^ —寸—00 C〇 ~1 ~< CO 〇\ 寸 6.2 liO r<i 0.05 117 33 0.5 14 0.5 66 0.5 14 0.5 33 74.8 6.2 CSJ 0.04 116 _ 二 _ S α\ 1 < Γ- cn \〇 WO CN 寸 Ο Ο ίη i'~" Η ΓΟ —寸—VO ,寸 ,^ C〇 ^ C〇 CN -__ Η r- 6.2 C<1 0.04 1 14 S ,二 _ s -二-s 寸 r—Η r- 6.2 v〇 C<J 0.04 113 CO ,寸 ,^ d 寸 Η 00 co ~i vo ~~i m CnI 1 '< r- ι 1 v〇 C<1 0.04 112 S -二 S ^ ^ CO 6.3 C<1 0.03 M 〇 -r o ]|f o o itf •W S tm N N CO) N 11 g c 〇 11 ο < ϋ 1 1 CTNOOr^VDwn^t- COC^^-ι 可見光透射率(%) 可見光反射率(%) 薄片電阻値(Ω / □) 放射率 — l·! — ——βΐ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) d >> 6" > C/ /' B7 五、發明説明(5g) A7 (mu : 5>螂姻11:^15) ee
寸I 寸· I 8 o-un 900 9ΖΙ Γοε 寸 寸Iee 0.9 o.un S·
SCNI εεε 寸ι ίί 6.CN8 0-10 ο.ς 90· Γ——:----Β裝—I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 習 *
寸CNIT cn£ 寸ι ee rcooo 6_寸 ο.ς 900 、11
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L-S 6·寸 o.s 900 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
CNIcvlI ίί ιοο 寸I ίί
OO.CNOO 6·寸 0_ς 9° s^^Jlin-I,酲 6qN ·ζ _T3d^lB,3v.£ 15酲 φόηΝ·寸_尨翠祕Η·ς (□ \G)M} sliii:嫩 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X29*7公釐) -62 d A7 B7 五、發明説明(d
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0-S 900 Γεοο o.lo 6.寸 S.0 o 〇\ 〇s]
CN cn C^i ovo °ς so — l·------I — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) rcooo 6·寸
0.S 900 訂 6.CN8 6_寸 0.10 900 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
C<J co 寸 _, cn cn 1 m oo.s 6.寸 °ς 900 150〇Ϊ1)Ι 派·Ι ,酲frOHrcsl ilp?M-tJ)v£ ,酲旮〇11·寸 _尨學祕Ms (□ \α)Μ} mlfi:» 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2IOX297公釐)
Claims (1)
- ABC D8 Q^· ι°· 正玄 0 弄一範圍 ' 1 . 一種層合體,其特徵係於基體上依鈦氧化物層、 至少含1種選自銀、銅、金之金屬層、鈦氧化物層之順序 相互爲2η+1(η爲正整數)層合層之層合體者、鈦氧 化物層與金屬層之層間至少設有1個其在波長5 5 0 nm 之光線的折射率爲2 . 4以下至少1種選自氧化物、氮化 物、氧氮化物、碳化物及硼化物之中間層者。 2 .如申請專利範圍第1項之層合體,其中各鈦氧化 物層之在波長5 5 0 nm之光線的折射率爲2 . 4以上者 〇 3 .如申請專利範圍第1項或第2項之層合體,其中 該中間層之厚度爲0.1〜3〇nm者。 4 .如申請專利範圍第1項或第2項之層合體,其中 該層合體的薄片電阻値爲0.5〜3.5Ω/□、可見光 透射率爲40%〜85%,且,可見光反射率爲1.1〜 1 0 % 者。 5 .如申請專利範圍第1項或第2項之層合體,其中 於該層合體更層合具有低反射性能之樹脂薄膜後組成者。 6 .如申請專利範圍第1項或第2項之層合體,其中 於該層合體更層合具有近紅外遮掩性能之樹脂薄膜後組成 者。 7 ·如申請專利範圍第5項之層合體,其中該可見光 反射率爲1.1〜3%者。 8 · —種層合體之製造方法,其特徵係於基體上,依 使用鈦氧化物之還原性標靶或鈦金屬標靶,以含氧化性氣 — 4---„------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -64 - (/. ,:、·. ? d 8 8 8 8 ABCD 六、申請專利範圍 體之氬氣體做爲濺射氣體經濺射法形成之鈦氧化物層,與 使用含有至少一種選自銀'銅及金之金屬的金屬標靶,以 鐘氣體爲擺射氣體經測射法形成之金屬層,與使用欽氧化 物之還原性標耙或鈦金屬標靶,以含氧化性氣體之氬氣體 做爲濺射氣體經濺射法形成之鈦氧化物層之順序相互爲2 η + 1 (η爲正整數)層合層之製造層合體方法者,鈦氧 化物層與金屬層之層間至少1個在波長 5 5 0 n m之光線的折射率爲2 . 4以下之以濺射法形成 的中間層被夾設於其中之工程者。 — r.------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -65- _
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