TW470981B - Method for manufacturing ceramic electronic component - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 265
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 51
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 117
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 23
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 19
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 18
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 17
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 14
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 13
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims 3
- 238000010410 dusting Methods 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 238000009991 scouring Methods 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 16
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 16
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 4
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical group [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical group CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229960002380 dibutyl phthalate Drugs 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
- H01L21/4857—Multilayer substrates
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/20—Dielectrics using combinations of dielectrics from more than one of groups H01G4/02 - H01G4/06
- H01G4/206—Dielectrics using combinations of dielectrics from more than one of groups H01G4/02 - H01G4/06 inorganic and synthetic material
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4803—Insulating or insulated parts, e.g. mountings, containers, diamond heatsinks
- H01L21/481—Insulating layers on insulating parts, with or without metallisation
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1283—After-treatment of the printed patterns, e.g. sintering or curing methods
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- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
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- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
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Description
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陶 以 【技術分野】 本發明係有關於—種陶瓷電子零件之製造方法,係 以製造諸如陶究電容器等陶究電子零件者。丨係用 【技術背景】 陶奢H般積層Μ電容11之部份剖面斜視圖,諸 谷盗乃由陶竞介電體層1、導電體層2及-對外: 電極3所組成,且該導電 邠 • €體層2並於陶瓷介電層i之媲 交互地以其一端與該對外部電極3相接。 。 兹就習知積層陶兗電容器之製造方法加以詳細說明 首先,於用以形成陶竟介電體層i之以敛酸鎖為 分的介電體粉末中添加有機物,以製作—陶竟板,進而^ 印刷法於該陶瓷板上以用以形成導電體層2之金屬糊印: 出-預定之形狀。接著’將複數已製成了導電體層2之 瓷板加以積層,並使該導電體層2隔著該陶瓷板相向, 獲得-積層體。其後,將該積層體加以燒製’並於導電^ 層2露出之兩端面形成一對外部電極3。 但,若依前述方法製作,當陶瓷板之空隙率大時,於 將金屬糊直接印刷於陶瓷板上之印刷步騾_,將使金屬糊 中一部份之金屬成分滲入陶瓷板内部。 近年來,為使積層陶瓷電容器可臻高容量化,乃謀求 陶瓷板之薄層化,但卻有因滲入陶瓷板中之金屬成分而使 與其鄰接之導電體層2間發生短路之問題。 故,本發明之目的係在提供一種陶瓷電子零件,而該 零件係不易發生短路者。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐 裝·----^---^--------- (請先閱讀背面之注音P事項再填寫本頁) -4- 470981
五、 2 發明說明( 【發明之揭示】 ,為解決前述問題,本發明之陶瓷電子零件之製造方法 :將陶瓷板之空隙率減少後於該表面形成導電層體,故可 藉此抑制金屬成分麥入陶瓷板内部,防止導電層間之短路。 本毛月之第1樣悲係包含有一對一含有陶瓷粉末及有 機物之陶瓷板加壓以減少其空隙率之第i步驟;一接著使 用金屬糊於前述陶竞板上形成導電體層之第2步驟;一緊 接著將複數片之前述形成有導電體層之陶瓷板加以積層, 並使該等導電體層隔著該陶瓷板相向,以獲得一積層體之 第3步驟,及,一將前述積層體加以燒製之第4步驟;而 藉此即可製造出不易短路之陶兗電子零件。 本發明之第2樣態係如第丨樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其中於第1步驟中令減少空隙率前之陶瓷板的空隙 率鬲於50%,藉此可縮小板胚之空隙率,以製造出不易短 路之陶瓷電子零件。 本發明之第3樣態係如第丨樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其中第1步驟中之該陶瓷板為至少含有陶瓷成分及 承乙烯者,因該陶瓷板與其他含有有機物者相較下空隙率 較大,故對於減低短路問題極具效果。 本發明之第4樣態係如第〗·樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其中於第1步驟中,令減少空隙率後之陶瓷板的炙 隙率低於50%,藉此可抑制金屬成分滲入陶瓷板中。 本發明之弟5樣恶係如第1樣態之陶究電子零件製造 方法,其中令第〗步驟中之加壓力低於第3步驟中形 ------------I-----l----------^ 广 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) 470981 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(3 ) 層體時之加壓力’藉此即可於第3步驟中,對形成有導電 體層之部位及未形成有導電體層之部位(即積層體全體) 施加充分之壓力,故可得到於結構上缺陷(諸如因陶瓷板 間接觸不良等所導致者)較少之電子零件。 本發明之第6樣態係如第1樣態之陶瓷電子零件製造 方法’其中於第1步驟中,於加壓之同時並進行加熱,在 此即可藉加熱提升有機物之流動性,並迅速減少陶瓷板之 空隙率、 本發明之第7樣態係如第1樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其中令該加熱温度高於該陶瓷板中至少一種有機物 之玻璃轉移點,而低於其熔點,在此即可藉加熱提升有機 物之流動性,並迅速減少陶瓷板之空隙率。 而本务明之第8樣態則包含有對一含有陶瓷粉末及有 機物之陶瓷板加壓以減少其空隙率之第丨步驟;接著使用 金屬糊於一基體薄膜上預先製作導電體層,並將該導電體 積層於W述陶瓷板上之第2步驟;緊接著將複數片之前述 $合有導電體層之陶瓷板加以積層,並使該導電體層隔著 該陶瓷板相向,以得一積層體之第3步驟;及,將前述積 層體加以燒製之第4步驟。 本發明之第9樣態係如第8樣態之陶瓷電子零件製造 方法’其於第1步驟中’令減少空隙率前之陶瓷板的空隙 率南於50竓,藉此可製造出不易短路之陶兗電子零件。 本發明之第10樣態係如第8樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其中第1步驟中之該陶瓷板為至少含有陶瓷成分及 t峨尺度顧中關家標規格⑵〇 X 297公il------ --------------^ t-----y---^---------^ f Γ請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
'發明說明(4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 來乙烯者’因該樣癌於加壓前陶曼板之空隙率較大K 使以加壓形成之體積收縮比均句,並縮小板胚之空隙率, 因而對於減低短路問題極具效果。 本發明之第U樣態係如第8樣態之陶兗電子零件製造 方法,其於第1步驟中,令減少空隙率後之H板的空隙 率低於50%,藉此可抑制金屬成分滲入陶瓷板中。 本發明之第12樣態係如第8樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其係令第1步騍中之加壓力低於第3步驟中形成積 層體時之加壓力,藉此乃可於第3步驟中,對形成有導電 體層之部位及未形成有導電體層之部位(即積層體全體) 施加充分之壓力,故可獲得於結構上缺陷(諸如因陶瓷板 間接觸不良等所導致者)較少之電子零件。 本發明之第13樣態係如第8樣態之陶瓷電子零件製造 方法’其於第1步驟中,於加壓之同時並進行加熱,如此 即可藉加熱提升有機物之流動性,並迅速減少陶瓷板之空 隙率。 本發明之第1 4樣態係如第8樣態之陶竟電子零件製造 方法’其係令該加熱溫度高於該陶瓷板中至少一種有機物 之玻璃轉移點’而低於其溶點,如此即可藉加熱提升有機 物之流動性,並迅速減少陶瓷板之空隙率。 本發明之第1 5樣態係如第.8樣態之陶瓷電子零件製造 方法,其於第3步騾中,相對於金屬成分1 〇〇wt%,積層 前之導電體層中的有機成分為5 %〜1 5 wt%,藉此即可確保 導電體與陶瓷板間具充分之接著性,而可獲得於結構上缺 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -7- -------------裝-----_1---訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 m罕父,、之電千零件。 本發明之第1 6樣態係如第 方法,其於第2步驟後第3牛/恕之陶竞電子零件製造 乂哪俊弟3步騍前並 將導電體層向厚度方向加M ^一加&步驟,以 凹凸,而進一步地抑制短路問題曰。T減少導電體層表面之 本發明之第17樣態係m電子零件之製 包含有一將一含有有機物及陶瓷粉 法, ^ ’末之陶曼板與導電體芦 父互積層以‘造一積層體之第〗步騾; 一 曰 述積層體之第2步騾者_ + ,,一接者燒製前 德Μ * 板射、使用前述有 機物為網眼構造,且兮古換t 且料機物與前述陶-聽末乃以層狀存 在者’稭此可抑制金屬成分貫穿前述陶究板,故可獲得不 易短路之電子零件。 本發明之第18樣態係如第卩㈣之陶兗電子零件之 製造方法’其中使該陶-亮板之空隙率低於5〇%,藉此可抑 制金屬成分貫穿陶兗板。 ,本發明之第19樣悲係如第J 7樣態之陶兗電子零件之 製造方法’其中第1步驟係反覆進行一將形成於基體薄膜 上之V電體層積層於陶莞板上’隨後再將該基體薄膜剝離 之剝離步驟,及一將陶瓷板積層於該導電體層上之積層步 驟者,由於如此為之,與直接於陶瓷板上形成導電體層之 情形相較下,可減少導電體層中之溶劑成分,故可抑制金 屬成分貫穿陶瓷板。 本發明之第20樣態係如第1 9樣態之陶瓷電子零件之 製造方法’其於陶竟板上進行積層步驟前,並設有一加麗 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
470981 A? 五、發明說明(6 步驟,以將基體薄膜上之導 V電體層向厚度方向加壓,#& 可減少導電體層表面之凹凸,从 错此 板。 故可抑制金屬成分貫穿陶瓷 本發明之第2 1樣離伤‘结 心係如弟17樣態之陶瓷電子零件之 製造方法,其於第1步驟中,姑旰之 該¥電體層乃藉薄膜形成法 所製,*此可使金屬成分 成法 屬成分貫穿陶-吏板。 心成板狀,故可抑制金 本發明之第22〜24樣態係_ 檀不易短路之陶莞電子愛 件,其係由陶瓷層與導電體層 向 式 粉 父互積層而成,且該陶瓷居 上分布有有機物及陶£粉末,而該有機物乃師平曰 成網眼構造’並於厚度方向成不規則層狀疊合構造之方 分布,又’因該網眼吸附有陶聽末”,故結果 末11亦成網狀構造並以層狀分布者。、 圖面之簡單說明】 第1圖係空隙率減少 面圖 A 之陶瓷板的部分擴大剖面圖。 第2圖係本發明中空隙率減少後之陶瓷板 線 的部分擴大 圖 第3圖係本發明之陶瓷板製造工程圖。 第4圖係本發明之表面平滑處理前的導電體層 之剖面 第5圖係本發明之表面平滑處理後 圖 J子%體層之剖面 第6圖係用以說明為獲得第5圖 不之導電體層製造 -9. 470981 五、發明說明( 步驟的剖面圖。 第7圖係一般積層陶空+ ^ J无电谷益之部份剖面斜視圖 【元件標號對照表】 1 .........陶瓷介電體層 Ί ^ 2.........導電體層 3 .........外部電極 … 10……陶瓷板 1 〇a......減少空隙率前之陶兗板 10b……減少空隙率後之陶瓷板 11··.···..陶究粒子 12 .......聚乙烯 13........空隙 14b……輥子 16a……輥子 【發明之較佳實施例 !4a......輥子 15 .......基體薄 ......輥子 膜 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 组以積層陶瓷電谷器為例一面參考圖示一面就本發 之實施例加以說明。 (實施例1 ) 首先,使用重量平均分子量超過4〇〇,〇〇〇之聚乙烯及主 成分為鈦酸鋇之陶瓷粉末,製作厚度為i〇μιη之陶瓷板 10a。一般而言,該陶瓷板1〇a之空隙率約為65%左右。第 1圖為空隙率減少剛之陶瓷板1 〇a的部分擴大剖面圖,由 該圖可知其中聚乙烯12之纖維間乃散布有陶瓷粒子丨〗且 有許多空隙13。又,聚乙烯12乃以於平面方向成網眼構 造,並於厚度方向成不規則層狀疊合構造之方式分布,又, 因該網眼中吸附有陶瓷粉末11,故結果使陶瓷粉末u亦 明 1-------------裝-------I -------線· (請先閱讀背面之注咅P事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 470981 A7 五、發明說明( 為網狀構造並以層狀分布。 I — —II· -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著,如第3圖所示令陶瓷板1〇a通過表面平滑之輥 子14a與14b間。此時,當輥子與14b分別以相反方 向旋轉時,即同時將陶瓷板1〇a向厚度方向加壓並加熱。 而藉進行加壓並加熱,乃可輕易地減少陶瓷板1〇a之空隙 率。換言之,由於加壓時藉加熱可使聚乙烯12之流動性增 大,故當陶瓷板l〇a内部之空氣自陶瓷板1〇a内部向外部 釋出時,亦同時使陶竟粒子u之填充性增大。而,加熱溫 度則以高於聚乙# 之玻璃轉移點,但低於其溶點者為 佳。具體而言,以於6(TC〜15(rC2範圍内進行者最為適 宜。。在此亦可以壓板代替輥? 14a與14b,藉於厚度方向 之單軸擦壓,提高陶竟板10a之空隙率。而本實施例則因 為進行連續處理而使用輥子14a與14be本實施 各具佩、观、20%、10%四種空隙率之陶究板⑽。 -丨線· 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 一將加壓、加熱後之陶究板1〇b的部分擴大剖面圖顯示 於第2圖,則由該圖可知空隙13已顯著減少。又,即便減 少空隙率,聚乙烯12仍以於平面方向成網眼構造,並於厚 度方向成不規則層狀疊合構造之方式分布,而,因該網眼 吸附有陶究粉末η,故結果使陶究粉末u亦成網狀構造 並以層狀分布。 緊接著製作一含有金屬成分為錄, 素、丙烯基樹脂或丁縮醛樹脂’可塑劑為為节基鄰苯二酸 丁醋,溶劑為脂肪族或芳香族系溶劑之金屬糊,並將該金 屬糊以-預定之形狀印刷於已減少空隙率之陶亮板⑽上 L本紙張尺度適用中國國家標準((JNS)A4規格(21〇 x 297公爱) 470981 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明(9 且加以乾燥後,形成一厚度為2.5μπι之導電體層2。 接著’將複數層之未形成有導電體層2的陶瓷板i〇b 加以積層而形成一無效層後,將形成有導電體層2之陶莞 板10b以一預定之層數積層於該無效層上,再藉於其上形 成一無效層以獲得一臨時積層體。此時,可以未減少空隙 率之陶竟板1 Oa或已減少空隙率之陶瓷板〗〇b中之任一做 為未形成有導電體層2之陶瓷板,但當導電體層2已積層 100層以上或當陶瓷板之空隙率低於20%時,則以使用未 減少空隙率之陶瓷板1 〇a較能獲得一良好之積層體。其係 因’加壓時由臨時積層體中形成有導電體層2的部分與未 形成有導電體層2的部分間之段差所導致的加壓力不足, 可藉未減少空隙率的陶兗板1 〇a加以緩和之故。本實施例 中’形成有導電體層2之陶瓷板10b的積層體為150層, 而無效層則使用未減少空隙率之陶瓷板10a。 緊接著將臨時積層體全體加壓後,將積層體切割成一 預定形狀並脫脂後,接著進行燒製。而,脫脂之步驟乃以 首先於大氣中一面將積層體加溫一面去除積層體中之可塑 劑後,進而再度加溫將粘合劑去除者為佳。其係因,若一 口氣加熱將可塑劑與粘合劑一併去除,則可塑劑與粘合劑 將生成新化合物,並於脫脂後殘留於積層體中,導致於燒 衣日在該化合物燃燒而自積層體飛散之過程中積層體將會 發t諸如剝落等結構上之缺陷,而致使發生短路問題的機 率提高之故。接著設定脫脂及於脫脂後進行之燒製條件, 此時須避免使形成導電體層2之鎳過度氧化。藉燒製即可 本紙張尺Ϊ適財關家標準(CNS)A4規格(21Q x 297公爱)_ illlllllllllr· * ! I I L· I I I « — — — — — — II 〆 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470981 Α7 Β7 五、發明說明(10 ) 獲得一由主成分為鈦酸鋇之陶瓷積層體層1及主成分為鎳 之導電體層2所燒結而成之燒結體。緊接著於該燒結體之 ‘電體層2露出的兩端焊上由諸如銅所製之外部電極3, 或藉施以鍵敷作業(圖中未示)即可獲得一如第7圖所示 之陶瓷電容器。 【第1表】 空隙率 短路數 習知品1(50%) 83/1000 40% 2/1000 ΤΤΓοοδ 20% 10% 0/1000 0/1000 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1表係就其有效層數(夾於導電體層2間的陶究介 電體層1之層數)為150層的積層陶曼電容器之短路率, 比較並顯示藉本實施例製作的陶瓷電容器與習知品丨之差 異者。 習知品1乃以前述方法將導電體層2於未減少空隙率 之陶瓷板l〇a上製作所得者。而自第i表明顯可知,與習 知品1相較下,本實施例所製者之不良率已大幅下降。又, 針對短路發生品分析其内部剖面之結果即可確定,其短路 癥結係於導電體層2間之短路者。 由此可知,依本實施例可抑制導電體層2之金屬成分 滲入m i〇b,令導電體層2間之短路情形銳減,並又 幅改善積層陶瓷電容器之製造成品率。 尤其如本實施例,其作為點合劑之高分子聚乙締乃較 聚乙烯縮丁醛樹脂或丙烯基樹脂等易於形成體積大且心 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) ---—II--I ----裝---I l· I--訂---- I I I I 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -13- 五、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明(11 ) 率高之陶瓷板l〇a。故,尤其在此時,如本發明所示,於 形成導電體層2前便將空隙率減少,對減少短路問題將袼 外有效。 (實施例2) 貫施例1中,是將金屬糊直接印刷於已減少空隙率之 勹瓷板1 0a上形成導電體層2,而本實施例則是將預先形 成於諸如聚對苯二曱酸乙二酯薄膜等之基體薄膜15上的 導電鍾層2轉印於陶瓷板i〇a上。 首先’與貫施例1相同地減少陶瓷板丨〇a之空隙率, 並‘造各具40%、30%、20%及10%四種空隙率之陶瓷板 l〇b 〇 又,如弟4圖所示,將該金屬糊以一預定之形狀印刷 於基體薄膜1 5上並加以乾燥,形成導電體層2。於此係令 ‘電體層2中大部分之溶劑飛散而使其表面硬化,僅餘金 屬成分及可塑劑與粘合劑成分。具體而言,相對於金屬成 分lOOwt%’導電體層2中之有機成分為5%〜15wt%,且以 8〜12wt%為佳。其係因,若低於5 wt%則將使導電體層2與 陶瓷板1 Ob之接著性不良,而若超過丨5wt〇/。則將使導電體 層2之粘著性過強,無法將導電體層2製作成預定形狀之 故。 又’此時為於往後之步驟中易於將基體膜層15由導電 體層2脫膜’乃以預先於基體膜層15上形成一由丙烯基樹 脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂或矽樹脂中至少一種以上的 樹脂所構成之脫膜層(圖中未示)後,再印刷導電體声2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) -------------裝·! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線 14 470981
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2佳。尤其採用丙烯基樹脂與三聚氰胺樹脂混合系者可獲 侍袼外良好之脫膜性。又,矽樹脂則因除可獲得預定之脫 膜丨生外,並具優異之耐溶劑性及耐濕性,效果亦佳。 接著,將複數層之未形成有導電體層2的陶瓷板1〇a 積層於支撐體上形成無效層後,將導電體層2連同基體薄 :積層於其上,使導電體層2與陶瓷板1 〇b直接接觸, 再自上下方向加壓令導電體層2與陶瓷板1〇b接著。而該 加壓乃以於溫度範圍為自室溫至不致使導電體層2中的可 塑剤過度飛散之溫度(本實施例為i 5(rc )中進行者為佳。 其係因,若可塑劑過度飛散則導電體層2將變硬及變脆, 使陶瓷板10b與導電體層2間之接著力隨之降低,以致積 層時或燒製時將發生結構上的缺陷之故。因此,藉於上述 溫度進行加屋,乃可軟化導電體層2中之粘合劑成分及可 塑劑成分,而將導電體層2與陶瓷板1〇b間之接著性提高。 又,當導電體層2之可塑劑及粘合劑的含有率低時, 貝J可藉於加壓日守提南溫度而使可塑劑及粘合劑活性化,提 高導電體層2與陶瓷板10b間之接著性。另一方面,若含 有率高時,即便於室溫下導電體層2與陶莞板i〇b間亦可 獲知充刀之接著性,故不需特別加熱。換言之,宜配合導 電體層2之有機成份的種類及含有率調整加熱溫度。 緊接著,將基體膜層1 5脫膜,並將下一層陶瓷板! 〇b 積層於導電體層2上。之後,再度將導電體層2連同基體 膜層!5積層於陶变板上,並以前述條件加壓。又,以 一預定次數反覆進行該陶莞板1〇b與導電體層2之積層步 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
• n II -線·
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髪— 470981 五、發明說明(η ) 驟後,以陶瓷板i0a形成益 战無效層 猎此即可獲得一臨時積 層體。 、 之後’以與實施例1相同之步驟製作-有效層為150 層的積層陶瓷電容器。 第2表】
弟2表係就積層陶瓷電容器之短路率,比較並顯示肩 本實施例製作的陶瓷電容器與習知品2之差異者。 習知品2乃以前述方法使用未減少空隙率之陶瓷板ι〇 而製作所得者。自第2表明顯可知,與習知品2相較,^ 貫施例所製者之不良率已大幅下降。又,此乃因將空隙与 減少且將乾燥後之導電體層2轉印至陶瓷板1〇b上,而和 制金屬成分滲入陶瓷板10b之故。 由此可知,依本實施例可較實施例丨更有效地抑制雙 電體層2之金屬成分滲入陶瓷板1〇b,令導電體層2間之 短路情形銳減,並大幅改善積層陶瓷電容器之製造成品率 又,本實施例中可於將陶瓷板1〇1)與導電體層2交石 積層時,每積層一層即對陶瓷板1〇b加壓,亦可不對陶策 板10b加壓而僅作積層處理,將形成於基體膜層1 5上之導 電體層2積層於其上後再進行加壓處理,藉此同時確保释 瓷板1 Ob間及陶瓷板1 〇b與導電體層2間之接著性。但襄 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) -------------裝-----1---訂--------^線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -16- ^ /U981 A7 五、發明說明(Η ) 前者相較’後者之加壓次數則減半。該 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) =時間,而由於積層數越多則所需時間亦越長因此 =積Λ陶竟電容器成本提高。尤其,以卑金屬形成導 l -曰%,其於積層步驟的製品價格上所佔之比例甚 兩,因此可於製作臨時積層體時,對陶兗板iob乃僅作積 層處理’㈣將形成於基體膜層15上之導電體層2積層於 其上後方才進行加壓處理,俾同時確保陶究板iGb間及陶 究板10b與導㈣層2間之接著性,以降低成本。 (實施例3) 本實施例係將如第4圖所示於基體膜層15上形成之導 電體層2連同基體膜層15 —併疊合於陶竟板!⑽上,並使 該導電體層2與陶究板10b接觸,以製作一具導電體層2 之陶瓷板1 Ob後,將其加以積層以製作一積層體。 具體而言,將與實施例i、2同方式所製作的已減少空 隙率之陶瓷板i〇b及形成於基體膜層15上之導電體層2 連同基體膜層1 5 —併送入輥子間加壓,藉此使陶瓷板1 〇b 與V電體層2緊岔接著。而該加壓時之溫度乃同於實施例 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2,以室溫至不會使導電體層2中的可塑劑過度飛散之溫度 為範圍。 如此,於基體膜層15上形成導電體層2及陶瓷板l〇b, 將其以一預定形狀切割後,依次積層一預定層數並進行加 壓,以獲得一臨時積層體。 又’臨時積層體之形成可於與實施例1、2相同之無效 層上,反覆進行將基體膜層15朝上積層,並於加壓後將基 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 五、發明說明(15 ) 體膜層15剝離之處理,或亦可於去除基體膜層15後,反 覆進行具導電體層2的陶瓷板1〇b之積層與加壓處理。但, 去除基體膜層15後,在將導電體層2朝上積層時,需考慮 到應小心避免導電體層2附著於諸如壓板等加壓器具上, 例如設置一用以避免導電體層2附著於導電體層2與壓板 間之膜片等。故,將基體膜層丨5剝離後進行積層時,宜將 陶瓷板16面朝上。 之後,進行與實施例i相同之步驟,即可獲得一積層 陶瓷電容器。又,如前述使用輥子製作具導電體層2之陶 瓷板i〇b時,乃可以較快之速度進行。即,於實施例3中 進行之加壓,與實施例2中所示將陶瓷板1〇b及導電體層 2於積層時分別進行加壓者相較,可將積層時之加壓次數 減半,故可降低成本。 【第3表】 空隙率: 習知品3(50%) 40% ~30%~ 20% 10% 短路數 1 31/1000 Γ1/1000 ίΟΤΓοοο ] 卜0/1000- fe/1000 第3表係就其有效層數(夾於導電體層$間的陶瓷介 電體層1之層數)為150層的積層陶瓷電容器之短路率, 比較並顯示藉本實施例品與習知品3之差異者。 習知品3乃以前述方法使用減少空隙率前之陶瓷板1 而衣作所得者。而自第3表明顯可知,與習知品3相較下, 本實施例之不良率已大幅下降。又,針對短路發生品分析 本紙張尺度ιί用中國國家標^^NS)A4規格⑵Q x 297公爱) -γ------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 470981 A7 ---- B7 五、發明說明(16) 其内部剖面之結果即可確定,其短路癥結係於導電體層2 間之短路者。 由此可知,依本實施例可使導電體層2間之短路情形 銳減,而大幅改善積層陶瓷電容器之製造成品率並降低成 本。 (實施例4) 本只%例4亦非將導電體層2直接形成於陶瓷板1 〇b 上’而係形成於諸如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等基體膜層 15上者。 首先’與貫施例1相同地減少陶兗板1 〇 a之空隙率, 並準備各具40%、30%、20%及10%四種空隙率之陶兗板 10b ° 又’與實施例1相同地將金屬糊以一預定之形狀印刷 於基體薄膜1 5上並加以乾燥,形成導電體層2。於此係令 導電體層2中大部分之溶劑飛散而使其表面硬化,僅餘金 層成分及可塑劑與枯合劑成分。具體而言,相對於金屬成 分100wt%,導電體層2中之有機成分為5%〜15wt%,且以 8〜12wt%為佳。其係因,若低於5wt%則將使導電體層2與 陶瓷板1 〇b之接著性不良,而若超過丨5wt〇/〇則將使導電體 層2之枯著性過強’無法將導電體層2製作成預定形狀之 故。 又’此時為於往後之步騍中易於將基體膜層15由導電 體層2脫膜,乃以預先於基體膜層15上形成一由丙烯基樹 脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂或矽樹脂中至少一種以上的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) -19- 裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470981 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(17) 樹脂所構成之脫膜層(圖中未示)後,再印刷導電體層2 為佳。尤纟採用丙稀基樹脂與三聚氛胺樹脂混合系者;獲 得格外良好之脫膜性。又,矽樹脂則因除可獲得預定之^ 膜性外,並具優異之耐溶劑性及耐濕性,效果亦佳。此時, 導電體層2之表面係如第4圖所示乃於表面成凹凸狀態。 接著將導電體層2加以乾燥後,如第6圖所示將導電 體層2連同基體膜層15通過表面平滑之輥子i4a與i4b 間,並以輥子14a與14b將導電體層2向厚度方向加壓, 以減少導電體層2表面之凹凸。第5圖為表面經平滑處理 後之導電體層的剖面圖。 接著,將複數層之未形成有導電體層2的陶瓷板1〇& 積層於支撐體上形成無效層後,將導電體層2連同基體薄 膜15積層於其上,使導電體層2與陶瓷板1〇b直接接觸, 再自上下方向加壓令導電體層2與陶瓷板1〇b接著。而該 加壓乃以於溫度範圍為自室溫至不致使導電體層2中的可 塑劑過度飛散之溫度(本實施例為1 5〇。〇)中進行者為佳。 其係因,若可塑劑過度飛散則導電體層2將變硬及變脆, 使陶兗板1 Ob與導電體層2間之接著力隨之降低,以致積 層時或燒製時將發生結構上的缺陷之故。因此,藉於上述 溫度進行加壓’乃可軟化導電體層2中之粘合劑成分及可 塑劑成分,而將導電體層2與陶瓷板丨〇b間之接著性提高。 又’當導電體層2之可塑劑及粘合劑的含有率低時, 則可藉於加壓時提高溫度而使可塑劑及粘合劑活性化,提 高導電體層2與陶瓷板10b間之接著性。另一方面,若含 X 297公釐) 20- ----------- 裝-----,1---訂--- - ---I - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470981 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(ls ) 有率鬲時,即便於室溫下導電體層2與陶瓷板1〇b間亦可 獲知充分之接著性,故不需特別加熱。換言之,宜配合導 電體層2之有機成份的種類及含有率調整加熱溫度。 緊接著,將基體膜層15脫膜,並將陶瓷板1〇b積層於 導電體層2上。之後,再度將導電體層2連同基體膜層u 積層於陶瓷板l〇b上,並以前述條件加壓。又,以—預定 次數反覆進行該陶瓷板1〇b與導電體層2之積層步騍,即 可獲得一臨時積層體。之後,以與實施例i相同之步驟製 作有效層為150層的積層陶莞電容器。 第4表 空隙率 W 知品 4(50%) 9/1000
第4表係就積層陶瓷電容器之短路率,比較並顯示藉 本實施例品與習知品4之差異者。 習知品4乃以如實施例2之製作方法使用未減少空隙 率之陶变板IGa而製作所得者。自第4表明顯可知,與習 知扣4相軏,本貫施例品之短路率已大幅下降,且亦較實 施例2 者為H此乃因不僅將空隙率減少並乾燥後之 導電體層2轉印至1〇b上,且係於減少導電體層2 表面之凹凸後方才加以轉印,故可進一步抑制金屬成分因 導電體層2之凸起部刺入陶瓷板⑽而滲入陶瓷板1〇b之 故0 ---- -------^------------------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -21 - 470981 五、發明說明(19 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又積層體之形成方法係如本實施例2所示# 陶瓷板10b與導電體層 °猎崩 3製作一呈導電B, ㈣而進仃,亦可如實施作 衣作A電體層2之陶莞板⑽,並藉將其加 進行。而不論何者皆可分丨、告 積層 別相與貫施例2、3相同^ 且了更進一步降低短路問題。 茲就本發明之要點加以詳述。 (1)本發明對陶瓷板10a於減少空隙率前之空隙率 過50%者,袼外具顯著之效果。 /2)如前述各實施例,當陶瓷板l〇a、10b中含有聚 乙烯時,若在不經加熱下減少其空隙率後放置長時間,則 空氣將進人㈣板⑽而使其空隙率增加,故於不緩加孰 即減少空隙率時,宜迅速進行積層體之製造。X,若經: 熱則將使聚乙婦發生塑性變形,㈣便長時間放置,空隙 率亦不會產生太大變化。 (3) 藉將陶瓷板1〇a之空隙率減少,可提高彈性率, 而可於製作步驟中防止陶瓷板10b之伸展。 (4) 若為將陶瓷板1〇a之空隙率減少而將陶瓷板“a 向尽度方向加C則可減少形成於陶究板1 〇b的導電體層 2上之凹凸。故,可輕易地將導電體層2形成於陶瓷板 上。 C 5 )若為減少陶瓷板i 〇a之空隙率而進行加壓及以一 超過有機物的玻璃轉移點但低於熔點之溫度進行加熱時, 宜同時或先進行加壓處理。尤其是將使用了聚乙烯的陶瓷 板10a之空隙率減少時,必需同時進行加壓與加熱或先進 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格⑵0 X 297公愛)
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五、發明說明(20 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 行加壓。其係因,若於無加壓狀態下即以超過聚乙烯的破 璃轉移點但低於熔點之溫度進行加熱,將使聚乙烯於陶瓷 板1 〇a、1 Ob之寬度方向收縮而產生皺摺,因而無法獲得厚 度均勻之陶莞板1 〇b。 (6 )藉將陶瓷板1 〇b之空隙率減少至5〇%以下,則其 抑制導電體層2的金屬成分滲入陶瓷板1〇b内部之效果最 為顯著。但’若空隙率過低則於形成臨時積層體及積層體 犄’將因無法吸收形成有導電體層2與未形成導電體層2 之部分的段差而產生結構上之缺陷,故其空隙率乃以 10%〜40%為佳。 (7 )製作已減少空隙率的陶瓷板丨〇b時之加壓力,宜 低於往後步驟中對積層體全體進行加壓時之加壓力,且尤 以低於臨時積層體之加壓力者為佳。其係因,若陶瓷板i 〇b 於製作臨時積層率體前之空隙過低,則將因無法吸收形成 有導電體層的部分與未形成有導電體層的部分間之段差而 產生結構上之缺陷。 (8 )於使用含有有機物粘合劑之陶瓷板1 〇a、丨〇b以 獲# 6¾日守積層體為止之步驟中加熱時,係以高於有機物钻 合劑之玻璃轉移點但低於熔點之溫度範圍進行熱處理,藉 此可將聚乙烯之流動性提高,而使熱處理之效果顯著。 (9 )將陶瓷板1 0a構造為其有機物乃以於平面方向成 網眼構造’並於厚度方向成層狀疊合構造之方式分布,而 因該網眼中吸附有陶瓷粉末丨丨,結果使陶瓷粉末n亦成 網狀構造並以層狀分布者,藉此即可抑制金屬成分滲入陶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) I » ^ I ---r 11 I I---I I--^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470981
兗板1 Oa。 (10) 前述實施例中,粘合劑雖係使用重量平均分子 里超過400,000之聚乙烯,但亦可使用其他於形成陶瓷板 10a、10b時,於平面方向成網眼構造,並於厚度方向成不 規則層狀疊合構造之方式分布的㈣烴,代替聚乙稀。 (11) 前述實施例中,雖係就積層陶瓷電容器加以說 明,但於將陶瓷板與導電體層加以積層以形成諸如積層可 變電阻、積層熱變組器、積層線圈、陶瓷多層基板或積層 過濾器等陶瓷電子零件時亦可獲得同樣之效果。 【產業上利用之可能性】 以上依本發明可知,藉預先減少陶瓷板之空隙率可將 導電體層中的金屬成分滲入陶瓷板中之問題抑制到最小, 且藉形成一令金屬成分難以滲入陶瓷板中之導電體層,即 可有效地控制陶瓷電子零件發生短路之機率。尤其針對提 高格外要求陶瓷板薄且高積層的晶片電容器之成品率,具 有絕佳之效果。 ---I--------裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 297公釐) 24
Claims (1)
- 470981 Α8 Β8 C8 D8 申請專利範圍 ^ 1 1 申請專利範圍修正纟*正日期:9〇年则 1、 一種陶瓷電子零件之製造方法,包含有: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 一第1步騍,係對一含有陶瓷粉末及有機物之陶瓷板 加塵以減少其空隙率者; . 一第2步騍,係接著使用金屬糊於前述陶瓷板上形成 導電體層者; 一第3步驟,係緊接著將複數片之前述形成有導電體 層之陶瓷板加以積層,並使該等導電體層隔著該陶瓷板相 向,以獲得一積層體者;及 '一第4步驟,係將前述積層體加以燒製者。 2、 如申請範圍第丄項之陶瓷電子零件之製造方法,其 訂- 中於第1步驟中 ',係令減少!隙率前之陶竟板的空隙率高 於 50%。 . 3、 如申睛範圍第丨項之陶瓷電子零件之製造方法,其 中第1步财之該陶竞板係至少含有陶究成分及聚乙稀 者。· 4、 如申請範圍g i項之陶-亮電子零件之製造方法,盆 中於第i步驟中,係令減少空隙率後之陶竟板的空隙率低 於 50%。 5、 如申請範圍第丨項之陶瓷電子零件之製造方法,其 中第1步财之加壓力係低於第3步驟中形成積層體時^ 加壓力。 6、 如申請範圍第1項之陶瓷電子零件之製造方法,其 中於苐1步驟中,係於加壓之同時並進行加熱。 -25, A8 B8 C8 D8 470981 六、申請專利範園 =7、如申請範圍第6項之陶瓷電子零件之製造方法,其 中該加熱溫度係高於該陶莞板中至少_種有機物之玻璃轉 移點,而低於其熔點者。 8、一種陶瓷電子零件之製造方法,包含有: β,第1步驟,係對一含有陶瓷粉末及有機物之陶瓷板加 壓以減少其空隙率者; 、第2步騾,係接著使用金屬糊於一基體薄膜上預先製 作‘電體層,並將該導電體積層於前述陶瓷板上; 第3步騾,係緊接著將複數片之前述疊合有導電體層 之陶瓷板加以積層,並使該導電體層隔著該陶瓷板相向, 以得一積層體者;及 第4、步騾,係將前述積層體加以燒製者。 9、 如申請範圍第8項之陶堯電子零件之製造方法,其 中於第1步驟中’係令減少空隙率前之陶瓷板的空隙率^ 於 50% 〇 10、 如申請範圍第8項之陶竟電子零件之製造方法, 其中於第1步驟中之該陶莞板係至少含有陶究成分及聚 烯者。 11、 如申請範圍第8項之陶瓷電子零件之製造方法, 其中於第ί步驟中,係令減少空隙率後之陶竟板的空隙 低於50%。 12、 如申請範圍第8項之陶瓷電子零件之掣造方、去 其中於ri步驟中之加壓力係低於第3步驟中形成積層體 時之加壓力。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) ..................裝— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂~ :線, ' 26 - 470981 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 13、 如申請範圍 &圍弟δ項之陶瓷電子零法, 其中於第1步騾中,及 7 1千之衣a刀 係於加壓之同時並進行埶。 14、 如申請*铉。 … 圍第8項之陶瓷電子零件之製造方法, 其中該加熱溫度作古# ' 係阿於该陶曼板中至少一種有機物之玻璃 轉移點,而低於其熔點者。 15、 如申請範圍第8項之陶莞電子零件之製造方法, ::中於第3步驟中,相對於金屬成分一。,積層前之 ‘電體層中的有機成分係5%〜15wt%者。 1 6如申明祀圍帛8工員之陶.究電子零件之製造方法, 其中於第2步驟後第3步驟前並設有一加遷步驟,以將導 電體層向厚度方向加壓。 _ 17、、一種陶瓷電子零件之製造方法,係包含有〆將一 含有有機物及陶瓷粉末之陶瓷板與導 造一積層體之第!步驟,·及,一接著燒製前述積^體之第 2步驟者; S述陶究板則係使用前述有機物為網眼構造,且 該有機物與前述陶瓷粉末乃以層狀存在者。 1 8、如申請範圍第丨7項之陶瓷電子零件之製造方法, 其中該陶竟板之空障率係低於5〇0/〇者。 丨9、如申請範圍第17項之陶瓷電子零件之製造方法, 其中第1步驟係反覆進行一將形成於基體薄膜上之導電體 層積層於陶瓷板上,隨後再將該基體薄膜剝離之剝離步 驟’及一將陶瓷板積層於該導電體層上之積層步驟者。 20、如申請範圍第19項之陶瓷電子零件之製造方法, 本紙張尺度適用中國國家標準(哪)A4規格(210><297公愛) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .訂· -27- 470981 „ A8 Βδ C8 _____ D8 六、申請專利範圍 其中於陶瓷板上進行積層步驟前,並設有一加壓步驟,以 將導電體層向厚度方向加壓。 21、 如申晴範圍第1 7項之陶瓷電子零件之製造方法, 其中於第1步驟中,該導電體層係藉薄膜形成法所製作者。 22、 一種陶瓷電子零件,其係由陶瓷層與導體層交互 積層而成’且該陶瓷層則係使用網眼構造之有機物及陶瓷 粉末而以層狀存在之層板而形成者。 23、 如申請範圍第22項之陶瓷電子零件,其中該有機 物係聚烯烴者。 ’ 24、如申請範圍第23項之陶瓷電子零件,其中該聚烯 烴係聚乙稀者。 (請先閱讀背面之注意事項再填窝本頁) 訂· -線丨 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) -28-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26863699A JP3527668B2 (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | セラミック電子部品の製造方法 |
JP28652299A JP3538348B2 (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW470981B true TW470981B (en) | 2002-01-01 |
Family
ID=26548403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089119518A TW470981B (en) | 1999-09-22 | 2000-09-21 | Method for manufacturing ceramic electronic component |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6780267B1 (zh) |
EP (1) | EP1139355A4 (zh) |
KR (1) | KR100694922B1 (zh) |
CN (1) | CN1171257C (zh) |
TW (1) | TW470981B (zh) |
WO (1) | WO2001022449A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4827157B2 (ja) * | 2002-10-08 | 2011-11-30 | Tdk株式会社 | 電子部品 |
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KR101309479B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2013-09-23 | 삼성전기주식회사 | 적층 칩 전자부품, 그 실장 기판 및 포장체 |
JP6379357B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2018-08-29 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 断熱シートおよびこれを用いた冷却構造 |
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FR2031152A5 (zh) * | 1969-02-26 | 1970-11-13 | Ibm | |
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JPH1174146A (ja) | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Tokin Corp | 積層セラミックコンデンサの製造方法 |
JP3042464B2 (ja) * | 1997-10-06 | 2000-05-15 | 松下電器産業株式会社 | セラミック電子部品の製造方法 |
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-
2000
- 2000-09-21 KR KR1020017006377A patent/KR100694922B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-09-21 EP EP00961152A patent/EP1139355A4/en not_active Withdrawn
- 2000-09-21 WO PCT/JP2000/006460 patent/WO2001022449A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2000-09-21 TW TW089119518A patent/TW470981B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-09-21 CN CNB008020248A patent/CN1171257C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-09-21 US US09/830,493 patent/US6780267B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1139355A4 (en) | 2007-02-21 |
KR20010075728A (ko) | 2001-08-09 |
WO2001022449A1 (fr) | 2001-03-29 |
CN1322367A (zh) | 2001-11-14 |
US6780267B1 (en) | 2004-08-24 |
KR100694922B1 (ko) | 2007-03-14 |
EP1139355A1 (en) | 2001-10-04 |
CN1171257C (zh) | 2004-10-13 |
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