TW408058B - Ceramic substrate and its manufacturing method - Google Patents
Ceramic substrate and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- TW408058B TW408058B TW088110864A TW88110864A TW408058B TW 408058 B TW408058 B TW 408058B TW 088110864 A TW088110864 A TW 088110864A TW 88110864 A TW88110864 A TW 88110864A TW 408058 B TW408058 B TW 408058B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- ceramic
- substrate
- cut
- sintered body
- ceramic substrate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/71—Ceramic products containing macroscopic reinforcing agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B17/00—Details of, or accessories for, apparatus for shaping the material; Auxiliary measures taken in connection with such shaping
- B28B17/0018—Separating articles from each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T225/00—Severing by tearing or breaking
- Y10T225/10—Methods
- Y10T225/12—With preliminary weakening
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
Description
—_4ΜΔ58_____ 五、發明說明(I) 〈發明所屬的技術領域〉 本發明係有關一種陶瓷基板及其製造方法’具體地說, 该製造方法係為分割大型陶瓷燒結體基板而得到陶瓷基板 之方法。 〈習知技術〉 一般習知’有關分割陶瓷燒結體基板為複數陶瓷基板之 方法,一般所習知之方法為,使用含有鑽石等砂粒之切割 刀切割成方塊或以雷射切斷之。在這些方法中,除了使用 次將陶瓷燒結體基板完全切斷的方法外’還可在半切割1 後以加以外力來分割。 上述使用切割刀來切割成方塊的方法係一般最常見之方 法,例如,一邊使陶瓷燒結體基板沿X方向及/ 或γ方向對 切割刀相對移動,一邊進行切割。即使在切割成方塊時, 以既定深度半切割後再於陶瓷燒結體基板施加外力切割之 方法若和一次完全切斷的方法相比,由於具備較高的處理 月b力,對切割刀所造成之磨損較少,所以可以降低加工成 本。 此外’以雷射切割之方法, 陶瓷燒結體基板上形成連續微 過陶瓷燒結體基板,陶瓷燒結 若小洞未穿過陶瓷燒結體基板 加外力分割。即使在這種情況 和一次完全切斷之方法相比 所以可降低加工成本。 一般係以點狀雷射照射,在 小的洞。若所形成之小洞穿 體基板便一次被完全分割。 ,則僅被半切割,事後再施 下,半切割後再分割之方法 一般來說,處理時間較短,
第4頁 _408058 五 '發明說明(2) - 此外’亦有非一般性之方法’如先將陶瓷之成形趙半切. 割’燒結成陶瓷燒結體基板’之後沿著切痕部位分割陶瓷 燒結體基板。 〈發明所欲解決的課題〉 在上述過去之方法如圖3所示’以切割刀3刻膜以切斷陶 瓷燒結體基板時,只有切割刀3之刃寬d程度之陶瓷最後被 當成切屑捨棄。此外’切割刀3之耗損激烈,一般多使用 鑽石。由此觀之,使用切割刀3刻膜時,需增加成本,是 一個問題。 同時’使用切割刀半切割再沿切痕分割之一般性方法則 如圖4所示’在分割所得之各陶瓷基板2上切至既定深度 (half)會留下切割殘留部分2a ’所以相對於所需之基本尺 寸D而言,最後多產生了不必要的尺寸,此不必要之尺寸 相當於切割刀3之刀寬d的兩倍。此外,由於陶瓷基板2上 留下了切割殘留部分2a,產生了許多可能為破壞起點的部 分’於是陶瓷基板2之破壞強度跟著下降,此為一缺點' 此外’使用切割刀刻膜時,為了防止對切割時的切割刀 或陶瓷燒結體基板加熱,雖然會注入水等之冷卻媒體,但 當陶瓷燒結體基板為氮化鋁時,若使基板在水份附著其上 之狀態放置’亦會產生氨而形成問題。 另一方面’使用雷射切割時’為了在進行時使用雷射形 成小洞’無論採完全切斷或切至既定深度(dicing),所得 之陶瓷基板後來皆會產生雷射留下的痕跡。此雷射所產生 之痕跡將成為破壞起點,而分割之後的陶瓷基板強度也容
^4080^8 五、發明說明(3) f跟者下降。此外’當陶瓷基板之 射:雷射所產生的熱會在基板上摘c高時’所照 ,將雷射照射時間加長或提高雷射的耠需要-些處理 的問題亦於焉產生。 、輪出,加工成本升高 另外’照過雷射後’揮發之陶隻.八A A 小洞周邊部八1 + u ^ 无成π會在雷射所形成之 基板上附著於其上。這些附著物在陶究 金屬層時對g U 5例如在形成會留下燒過痕跡之 :::對貼上做網板印刷,在 層上會產生缺陷,這些附著物在烟被p韦上次燒成之金屬 最嚴重可導致網板破損的問題/卩刷時會造成損壞, 因為:结Γ 2在ΐ型體上半切割並在燒結後分割之方法, =5 ΪΪ;多餘部分會產生影響,特別是當基板較為 大型時’有尺寸精度降低之缺點 ,:生之問㉟,本發明之目的為提供-種方法 行’並降低成本,且在表面上不產生附著物。本;=; 供由該方法所製造之強度不會降低且尺寸精度良好之陶究 基板。 為達成上述之目的,本發明所提供之陶瓷基板製造方法 ,其特=為,使用切痕工具從陶瓷燒結體基板表面之一端 至另一端形成連續淺淺的切痕’之後再沿此切痕分割該陶 瓷燒結體基板。此外,本發明所使用之切痕工具,其刀刃 部最好由超硬合金或鑽石構成。再者,所形成之切痕深度 最好為陶瓷燒結體基板之1/1〇〇以上1/1〇以下。 __ 408058____ 五、發明說明(4) 此外,藉由上述方法得到本發明之陶瓷基板,此陶瓷基 板係由陶瓷燒結體基板所分割而成之陶瓷基板’其特徵 為’於表面及分割面形成之切痕深度相對於陶瓷燒結體基 板之厚度為1/100以上1/10以下。 〈解決課題之方法〉 在本發明方法中,如圖1所示,藉由切痕 _____ 5a ’在陶瓷燒結體基板1其中一表面上由一端至另一端形 成一連續淺淺之切痕1 a。再來,在此具有切痕之陶竟燒結 體基板上施加外力’便會如圖2所示,該切痕1 a成為破壞 起始點’往厚度方向傳遞。沿著切痕〗a分割陶竞燒結體基 板1 ’即得複數陶瓷基板4。此外,含有切痕丨a之表面雖可 為陶瓷燒結體基板兩表面之任一面,但通常只有一面合適 罢=於兩表面上皆產生切痕,需要注意裡外之切痕“二= 罝決定和方向性。 關於切痕工具5,其刀刃部5a最好由超硬合金 =質材料構成,特別是鑽石很少導致基板之強度所 =較好。一般來說,超硬合金或鑽石等之硬質^ 板1上形成連續且銳利的切;展。 U陶竞燒結想基 此外’在陶瓷燒結體基板1之表面所形成 起使用習知切割刀刻膜時之半切割,因為 1 a比 5之刀刃㈣所形成,所以非常非常淺為而係使用切痕工具 非常*。於是,不但所得之陶竟基板= ” 小’產生切痕之時間也變短’被當成切屑·捨棄之二以亦極
408058 五、發明說明(5) 少’所以可謀求降低加工成本。 在本發明中,有關在陶瓷燒結體基板表面所形成之傷痕 1 a深度’最好相對於陶瓷燒結體基板厚度為1/(丨〇〇以上 1/10以下。若切痕la之深度未達到陶瓷燒結體基板1厚度 之1 /1 0 0 ’即使施加外力也無法沿著切痕分割。此外,若 切痕la之深度超過厚度之丨/1〇,在具有此切痕1&之陶瓷燒 結體基板上進行網板印刷等時,陶瓷燒結體基板容易斷裂 陶究燒結體_基板1表面切痕13呈凹下狀 而且 ...... 尸坏以即 使在進行金屬層形成用貼上之網板印刷時,也不會對 網板造成損壞。因此,可直接在具有切痕la之陶瓷燒結體 基板1表面進行印刷等處理《此外,使用雷射加工時不會 產生表面附著物,所以亦不會因金屬層上之附著 缺陷。 座生 此外,有關切痕加工之詳細步驟,係將陶焊纤 放置固定,藉著將切痕工具和陶瓷燒結體基板上$ 方向相對移動’可在陶瓷燒結體基板表面以既 °一 — 切痕加工。此外,藉由調整此時切痕工且同 仃 整切痕深度。 /、之何重’亦可調 陶 粒子 已形 成為 易。 寬現箱瓶丞极Μ乳化姑為最佳。氮化鋁係 t各粒子互相以晶格連接而成之結構。因 成切痕之陶瓷燒結體基板上施加外力分割’在表 破壞起始點,在晶格之間漸次傳遞切痕,佶/曰刀痕 是,分割面之形狀非常光滑,可成 侍分割 』成為破壞起始黑 於
408058 五、發明說明¢6) 之部分亦很少,亦不會有以 本身強度下降,所以可得S|| L割時所引起的陶瓷 -般習知,蔣:二:維持原來強度之陶竞基板。 和切割刀之間摩捧生埶,合 马f防止基板 ! 會附著於未被以氣化薄膜覆蓋上 ^化;Γ水反應之後,又產生氨。然而,使用本S 方法時’在切痕加工及後爽夕八电丨,岛你山 莖夕a细诚科.汉傻來之/刀割過程中,不需要使用水 f之:部:體’所以即使陶竞燒結體基板係由氮化結 成,亦不會產生氨。 此外’使用本發明方法切痕並分割之陶竞燒結體基板之 硬度最好為維克氏硬度150 0Hv以下^超過維克氏硬度 1 50 0HV時,即使使用切痕工具在陶瓷燒結體基板上切痕加 工,切痕深度容易在相對上變淺,於是在施加外力分割時 ’不容易沿著切痕的形狀分割,有產生局部破損的危險。 根據本發明’如圖1所示’在具有切痕1 a之陶瓷燒結體 基板上加以分割之後,即得圖2中所示複數陶瓷基板β藉 由此分割所得之陶瓷基板4因為沿著切痕1向厚度方向分割 ,所以沿著陶瓷基板4表面4a和分割面4b之邊緣留下切痕 1 b °此切痕1 b之深度相對於陶瓷基板4之厚度最好在1 / 1 0 0 以上至1/10以下的範圍内。 〈發明的實施例〉 實施例1 準備好長寬50mm,厚度〇.635mm之氮化鋁、鋁、氮化矽 所構成之陶瓷燒結體基板。在這些陶瓷燒結體基板表面
第9頁 408058 五、發明說明(7) 使用具有超硬合金或鑽石之刀刃部之切痕工具形成切痕。 所形成之切痕係從基板表面之一端至另_端形成之直線淺 痕(深度30ym) ’在整個基板上形成5.〇mm之高度。之後, 在這些陶竞燒結體基板上施加外力,沿著切痕分割成複數 個陶瓷基板。 接下來,如上所述,藉由雷射和切割刀將之刻膜’將各 個陶瓷燒結體基板一次完全切斷或半切割後施加外力,再 如上所述分別成5. Omni的高度。再者,在基板上照射直徑 120 "阳以及高度120 ^ra之雷射’若為半切割的情況,雷射 所到達之深度則在基板厚度方向有2〇〇〜25〇 ,並據此調 整照射時間。此外,丨關刻膜,使用刃寬〇>2_之切割刀 並注水加工之,若在半切割之情況下’該深度為。 根據如此得到之各個陶瓷基板,評估它們分割後寬戶 向之尺寸(目標尺寸為5.〇111111)及其公差、三點彎曲強度' 貼上之網板印刷時的印刷效果、分割時基板有無破損^ 及氮化鋁燒結體基板有無產生氨。此外,有關強度的 ,則將切痕加工側之陶瓷基板表面當成下側, 相隔30 /Z «〇支撐之中險點上加上荷重,缺 =點1 # s 热後測量斷裂時之 何重。此外,有關尺寸的測量則測量陶瓷基板長 :=之後三點所在之寬度方向的尺寸。根據不同種類 陶瓷基板所得的結果顯示於下列各表。 【表1】 [氮化鋁(維克氏硬度為”⑼!^)]
五、發明說明(8) 408G58 平均尺寸 平均強度 基板有無 有無 分割方法 (mm) (kg/mra)印刷效果 破損 產生氨 刻膜:半切割 刻膜:完全切斷 雷射:切至既定 深度(half cut) 雷射:完全切斷 本發明:超硬合金 本發明:鑽石 5.0土0.21 27 5,0±0.03 31 5.0±0.03 26 5.0±0.04 25 5.0土0.02 34 5.0±0.02 35 好妤 良良 網板刮痕 網板刮痕 良好 良好 有有 無無無無 無無 無無無^ 【表2】 [氮化矽(維克氏硬度為1500Hv)] 平均尺寸 平均強度 基板有無 分割方法 (mm) (kg/酬)印刷效果 破損 刻膜:半切割 5.0土0.23 65 刻膜:完全切斷 5.0±0.02 68 雷射:切至既定 深度(half cut) 5.0 土 0.03 63 雷射:完全切斷 5.0±0.03 61 本發明:超硬合金 5·0±0.03 71 本發明:鑽石 5.0±0.G3 73 無無 好好 良良 網板刮痕 網板到痕 良好 良好 無無無無 【表3】 [鋁(維克氏硬度為200 0Hv)]
分割方法 平均尺寸 (mm) 平均強度 (kR/mm) 印刷效果 基板有無 破損 刻膜:半切割 5.0±0.21 - 28 良好. 無 刻膜:完全切斷 5.0±0.03 30 良好 無 雷射:切至既定 深度(half cut) 5.0±0.03 29 網板到痕 無 雷射:完全切斷 5.0±0.04 27 網板刮痕 & 4 ‘,* 本發明:超硬合金 5.0±0.03 34 良好 破損一個 本發明:鑽石 5.0±0.03 35 良好 無 第11頁 408058 五、發明說明(9) 由以上結果可知’在本發明之分割方法中,比起使用切, 割刀刻膜要得到較高的尺寸精度,比起以雷射切割的方法 ’陶宪本身之強度亦未下降,如此可輕易分割陶瓷燒結體 基板’製造複數陶瓷基板。此外,使用刀刃部為鑽石所構 成之切痕工具時,基板強度下降得很少,也未在分割時造 成破損,所以可知此法特別好。 實施例2 如下列表4所示’準備兩種不同厚度之氮化鋁燒結體基 板(長寬50mni)。在各燒結體基板表面,和在實施例i中一 樣’使用具有人工鑽石之刀刃部的切痕工具,形成和實施 例ί 一樣形狀、如表4所示之深度的切痕。然後,在形成切 痕之各個燒結體基板表面進行鍍銀網板印刷,燒出痕跡後 ’施加外力並以切痕為起始點分割之β根據所得之試料卜 10的各個基板500片,確認分割效果,結果同表4 一起顯示 出來。 【表4】 基板厚度 切痕深度 切痕深度/ 試料 (mm) .(mm) 基板厚度 1 0, 635 0.080 0.13 2 0.635 0.064 0.10 3 0.635 0.02 0.03 4 0.635 0.006 0.009 5 0.635 0,003 0.005 6 1.5 0.2 0.13 7 1. 5 0.15 0.10 8 1.5 0.06 0.04 9 1· 5 0.015 0.01 10 1.5 0.009 0.006 有一塊在印刷時破損 良好 良好 良好 有一塊無法沿著切痕分割 有一塊在印刷時破損 良好 良好 良好 有—塊無法沿著切痕分割
第12頁 408058 五、發明說明(ίο) 由此表4可知,雖然幾乎每一種試料都可以導致良好的 分割,但使用試料1和試料6時,50 0片中只有1片由於網板 列印時的壓力而斷裂(0. 2%),此外,使用試料5和試料1〇 時,5 0 0片中只有1片無法沿著切痕分割(0· 2%) ’所以可得 目的形狀之基板。此外,沿著切痕分割成目的形狀的整個 基板和在實施例1中一樣,在測量寬度方向之尺寸(目標尺 寸為5.0mm),範圍在5. 0±0. 〇3mm内。 〈發明效果〉 根據本發明,藉由使用切痕工具之簡易方法,亦即分割 陶瓷燒結體基板為複數陶瓷基扳,可以低廉之加工成本製 造出來,並且所得之陶瓷基板強度不會下降且具有良好的 尺寸精度。 此外’根據本發明,若陶瓷燒結體基板為氮化鋁,陶瓷 本身之晶格容易受到破壞,所以不但提高了尺寸精度,也 不會因為使用水為冷卻媒體而產生氨。再者,即使在對陶 瓷基板做貼上印刷之處理,表面也不會出現附著物,所以 不需擔心在網板上產生刮痕。 〈圖式簡單說明〉 圖1係一剖面圖’概略顯示本發明方法中使用切痕工具 對陶瓷燒結體基板加工之情況。 圖2係一剖面圖’概略顯示本發明方法中被分割後之陶 瓷基板。 圖3係一剖面圖’概略顯示一般習知使用切割刀將陶瓷 燒結體基板刻膜之情況。
第13頁 _408058_ 五、發明說明(11) 圖4係一剖面圖,概略顯示一般習知將陶瓷燒結體基板 切成至既定深度再行切斷後之陶瓷基板。 〈符號說明〉 1 陶瓷燒結體基板 la 刻痕 lb 切痕 2 陶瓷基板 2a 切割殘留部分 3 切割刀 4 陶瓷基板 4a 表面 4b 分割面 5 切痕工具 5 a 刀刃部
第14頁
Claims (1)
- π年:六、申請專利範圍 1. 一種陶瓷基板之製造方法,其特徵在於:使用切痕工 具從陶究繞結體基板表面之/端至另一端形成連續淺淺的 切痕’之後再沿此切痕分割該陶瓷燒結體基板。 2. 如申請專利範圍第1項之陶瓷基板之製造方法,其中 切痕工具之刀刃部係由超合金或鑽石所構成。 3·如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法,其 中於表面形成之切痕深度相對於陶瓷燒結體基板之厚度為 1/100以上1/10以下。 4.如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法’其 中陶瓷燒結體基板之維克氏硬度(Vickers Hardness, Hv) 為1500Ην以下。 5·如申請專利範圍第I或2項之陶瓷基板之製造方法’其 中陶瓷燒結體基板係氮化鋁。 6. 如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法,其 中在形成對陶竞燒結體基板之切痕及分割時,未使用冷卻 媒體。 7. —種陶瓷基板,其特徵在於:係由分割陶瓷燒結體基 板而得之陶瓷基板’其t於表面和分割面之邊緣所切割之 切痕深度相對於陶瓷基板之厚度為1八00以上1/10以下。O:\58\58419.ptc 第1頁 2000.07.13.015 π年:六、申請專利範圍 1. 一種陶瓷基板之製造方法,其特徵在於:使用切痕工 具從陶究繞結體基板表面之/端至另一端形成連續淺淺的 切痕’之後再沿此切痕分割該陶瓷燒結體基板。 2. 如申請專利範圍第1項之陶瓷基板之製造方法,其中 切痕工具之刀刃部係由超合金或鑽石所構成。 3·如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法,其 中於表面形成之切痕深度相對於陶瓷燒結體基板之厚度為 1/100以上1/10以下。 4.如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法’其 中陶瓷燒結體基板之維克氏硬度(Vickers Hardness, Hv) 為1500Ην以下。 5·如申請專利範圍第I或2項之陶瓷基板之製造方法’其 中陶瓷燒結體基板係氮化鋁。 6. 如申請專利範圍第1或2項之陶瓷基板之製造方法,其 中在形成對陶竞燒結體基板之切痕及分割時,未使用冷卻 媒體。 7. —種陶瓷基板,其特徵在於:係由分割陶瓷燒結體基 板而得之陶瓷基板’其t於表面和分割面之邊緣所切割之 切痕深度相對於陶瓷基板之厚度為1八00以上1/10以下。O:\58\58419.ptc 第1頁 2000.07.13.015
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10195725A JP2000025030A (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | セラミックス基板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW408058B true TW408058B (en) | 2000-10-11 |
Family
ID=16345933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088110864A TW408058B (en) | 1998-07-10 | 1999-06-28 | Ceramic substrate and its manufacturing method |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6881128B1 (zh) |
EP (1) | EP0970789B1 (zh) |
JP (1) | JP2000025030A (zh) |
KR (1) | KR100611290B1 (zh) |
CA (1) | CA2277403C (zh) |
DE (1) | DE69917141T2 (zh) |
TW (1) | TW408058B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH711708B1 (fr) * | 2004-02-18 | 2017-04-28 | Cornaz Et Fils S A | Dalles fractionnables. |
JP2007149155A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体、その作製方法、及び磁気ディスク装置 |
US20100065310A1 (en) | 2006-11-30 | 2010-03-18 | Yasuyuki Yamamoto | Method for manufacturing metallized ceramic substrate chip |
CN112140307B (zh) * | 2020-08-04 | 2022-06-03 | 甘丽 | 一种青瓦生产用泥方余料快速切割设备 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1652512B2 (de) | 1967-05-29 | 1976-08-26 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen |
US4356944A (en) * | 1981-03-06 | 1982-11-02 | Bourns, Inc. | Method and apparatus for breaking prescored ceramic substrate plates |
US4693232A (en) * | 1986-04-11 | 1987-09-15 | Masaki Yasuga | Tile-cutting machine |
ES295592Y (es) * | 1986-06-25 | 1989-06-01 | Hermanos Boada, S.A. | Maquina cortadora de piezas ceramicas planas |
JPH0667570B2 (ja) | 1987-10-07 | 1994-08-31 | 富士電機株式会社 | セラミックグリーンシートの切欠き導入装置 |
JPH0829546B2 (ja) * | 1989-10-25 | 1996-03-27 | スタンレー電気株式会社 | 軸一体型カッターホイル付きカッター |
JPH0216010A (ja) * | 1988-07-04 | 1990-01-19 | Stanley Electric Co Ltd | カッター |
JPH0696247B2 (ja) * | 1988-12-07 | 1994-11-30 | 松下電器産業株式会社 | 基板分割装置 |
JPH0610645Y2 (ja) | 1990-01-19 | 1994-03-16 | コーア株式会社 | シート状セラミック基板 |
JP2914638B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1999-07-05 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミック基板の面取り部形成方法 |
JPH0644650Y2 (ja) * | 1991-07-02 | 1994-11-16 | 株式会社石井超硬工具製作所 | タイルカッター |
JPH0537109A (ja) * | 1991-07-29 | 1993-02-12 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 回路基板 |
JPH0669629A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-03-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | セラミック基板その他の回路基板のスクライブ加工装置 |
JPH0687085A (ja) | 1992-09-10 | 1994-03-29 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミック基板の分割方法 |
JPH06157059A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-03 | Fuji Xerox Co Ltd | 脆性板用スクライブ装置 |
JPH06183762A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 脆性基板割断方法 |
DE69405993D1 (de) * | 1993-06-18 | 1997-11-06 | David Maurice Bevan | Verbesserungen an schneidvorrichtungen |
US5480081A (en) * | 1993-09-24 | 1996-01-02 | Diamant Boart, Inc. | Scoring and breaking device with a carrying case therefor |
JPH091530A (ja) | 1995-06-16 | 1997-01-07 | Sumitomo Kinzoku Electro Device:Kk | ブレークラインの形成方法 |
JPH0925134A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | スクライブ溝の形成方法および装置 |
JPH0938957A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-02-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板分割方法および基板分割装置 |
JP2705681B2 (ja) * | 1995-12-14 | 1998-01-28 | 日本電気株式会社 | セラミック基板の切断方法 |
US5662094A (en) * | 1996-07-03 | 1997-09-02 | Giacomelli; Angelo J. | Guillotine cutting apparatus for bricks, building blocks and the like |
-
1998
- 1998-07-10 JP JP10195725A patent/JP2000025030A/ja active Pending
-
1999
- 1999-06-28 TW TW088110864A patent/TW408058B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-06-29 US US09/342,537 patent/US6881128B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-08 CA CA002277403A patent/CA2277403C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-09 EP EP99305490A patent/EP0970789B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-09 DE DE69917141T patent/DE69917141T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-09 KR KR1019990027645A patent/KR100611290B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100611290B1 (ko) | 2006-08-10 |
DE69917141D1 (de) | 2004-06-17 |
CA2277403A1 (en) | 2000-01-10 |
KR20000011593A (ko) | 2000-02-25 |
JP2000025030A (ja) | 2000-01-25 |
DE69917141T2 (de) | 2009-10-01 |
EP0970789B1 (en) | 2004-05-12 |
EP0970789A3 (en) | 2002-02-27 |
CA2277403C (en) | 2007-06-05 |
EP0970789A2 (en) | 2000-01-12 |
US6881128B1 (en) | 2005-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6605798B1 (en) | Cutting of ultra-hard materials | |
KR950004663B1 (ko) | 다결정 다이아몬드를 사용한 절삭공구 및 그 제조 방법 | |
TWI278027B (en) | Substrate slicing method | |
JP5756888B2 (ja) | 半導体用複合基板のハンドル基板 | |
JP2001161701A (ja) | 原子的に鋭利な切刃及びその製作方法 | |
JP2007152936A (ja) | 脆性材料用のホイールカッター | |
TW408058B (en) | Ceramic substrate and its manufacturing method | |
JP2015048260A (ja) | スクライビングホイール、ホルダユニット及びスクライブ装置 | |
CN105191511B (zh) | 具有贯通孔的绝缘基板 | |
TW201115752A (en) | Grooving tool for thin film solar cell | |
JP5183717B2 (ja) | 電子部品 | |
JP2015074003A (ja) | 内部加工層形成単結晶部材およびその製造方法 | |
JPH06183762A (ja) | 脆性基板割断方法 | |
CN105190838A (zh) | 半导体用复合基板的操作基板以及半导体用复合基板 | |
JPH10235553A (ja) | ダイヤモンドラップ定盤及びその製造方法 | |
JPWO2020066467A1 (ja) | GaN基板の分断方法 | |
JP2003212659A (ja) | 窒化珪素質焼結体および窒化珪素質工具 | |
JPH08134667A (ja) | プラズマエッチング用陽極電極板 | |
JP2020107839A (ja) | SiC基板の分断方法及び分断装置 | |
JP2001191212A (ja) | 回転切削多刃工具 | |
JPH07196379A (ja) | 気相合成ダイヤモンドろう付け工具およびその製造方法 | |
JP2010125542A (ja) | 溝入加工用スローアウェイチップ | |
JPH11235478A (ja) | 刃 物 | |
JP3572777B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP2017056498A (ja) | 超硬工具及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |